JP2000199731A - Optical characteristics measuring device and film formation apparatus provided with the optical- characteristic measuring device - Google Patents

Optical characteristics measuring device and film formation apparatus provided with the optical- characteristic measuring device

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JP2000199731A
JP2000199731A JP11001191A JP119199A JP2000199731A JP 2000199731 A JP2000199731 A JP 2000199731A JP 11001191 A JP11001191 A JP 11001191A JP 119199 A JP119199 A JP 119199A JP 2000199731 A JP2000199731 A JP 2000199731A
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JP
Japan
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optical
thin film
light
film
optical thin
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Japanese (ja)
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Hirokazu Ishikawa
博一 石川
Teiji Honjo
禎治 本庄
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an optical-characteristic measuring device by which the optical characteristics of an optical thin film can be measured with good accuracy and easily irrespective of the state on the surface of the optical thin film and to obtain a film formation apparatus, which is provided with the optical-characteristic measuring device. SOLUTION: This optical-characteristic measuring device 1 is used to measure the optical characteristics of an optical thin film having the optical characteristic. The measuring device 1 is provided with a light irradiating means 3, with which the optical thin film is irradiated with light. In addition, the measuring device 1 is provided with a condensing means 5, whose inner circumferential face is a spherical diffusion reflecting face and which condenses the light from the optical thin film. In addition, the measuring device 1 is provided with a light-detecting means 7 which detects a quantity of light condensed by the condensing means 5. In addition, the measuring device 1 is provided with a measuring means 9, which measures the optical characteristic of the optical thin film on the basis of the quantity of light by the light-detecting means 7. Then, the optical characteristic of the optical thin film as an object, to be measured, which is conveyed continuously is measured.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光学薄膜の光学特
性を測定するための光学特性測定装置及びその光学特性
測定装置を備える成膜装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical characteristic measuring device for measuring the optical characteristics of an optical thin film and a film forming apparatus provided with the optical characteristic measuring device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、例えばプラスチック等のフィルム
表面上に所定の反射率や透過率等の光学特性を有する光
学薄膜(以下、薄膜と略す)を形成する成膜装置が存在
する。このような従来の成膜装置は、例えばスパッタリ
ング法、蒸着又は化学気相成長法によってフィルム表面
上に薄膜を成膜する。従来の成膜装置によって成膜され
た薄膜は、所定の光をその薄膜に対して照射し、その反
射光等を所定の光学特性測定装置によってその光学特性
(例えば反射率等)が計測される。従来の光学特性測定
装置は、例えば黒色のロールに対して薄膜が成膜された
フィルムを密着させてそこでの反射を鏡面とみなして測
定するものがあった。
2. Description of the Related Art Conventionally, there is a film forming apparatus for forming an optical thin film (hereinafter, abbreviated as a thin film) having predetermined optical characteristics such as reflectance and transmittance on the surface of a film such as plastic. Such a conventional film forming apparatus forms a thin film on a film surface by, for example, a sputtering method, a vapor deposition method, or a chemical vapor deposition method. A thin film formed by a conventional film forming apparatus irradiates a predetermined light to the thin film, and the optical characteristics (for example, the reflectance) of the reflected light or the like are measured by a predetermined optical characteristic measuring device. . In a conventional optical characteristic measuring device, for example, there is a device in which a film on which a thin film is formed is brought into close contact with a black roll, and the reflection there is measured as a mirror surface.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
薄膜の光学特性の計測においては、薄膜が成膜されたフ
ィルムが変形等を生ずるため、薄膜の光学特性を正確に
行うことができない。これは、上述のようなフィルムの
変形の他に、計測時のフィルム表面が完全に平面状にな
らないことによって光学特性の計測に誤差が生じるから
であった。
However, in the measurement of the optical characteristics of such a thin film, the optical characteristics of the thin film cannot be accurately measured because the film on which the thin film is formed is deformed. This is because, in addition to the above-described deformation of the film, an error occurs in the measurement of optical characteristics due to the fact that the film surface during measurement does not become completely flat.

【0004】そこで本発明は上記課題を解消し、光学薄
膜の表面の状態に拘わらず、光学薄膜の光学特性を精度
良く容易に測定することができる光学特性測定装置及び
その光学特性測定装置を備える成膜装置を提供すること
を目的としている。
Accordingly, the present invention has solved the above-mentioned problems, and has an optical characteristic measuring apparatus and an optical characteristic measuring apparatus capable of easily and accurately measuring the optical characteristics of an optical thin film regardless of the state of the surface of the optical thin film. It is intended to provide a film forming apparatus.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明にあ
っては、光学特性を有する光学薄膜の前記光学特性を測
定するための光学特性測定装置であって、前記光学薄膜
に対して光を照射する光照射手段と、内周面が球状の拡
散反射面であり、前記光学薄膜からの前記光を集光する
ための集光手段と、前記集光手段によって集光された光
量を検出するための光検出手段と、前記光検出手段の光
量に基づいて前記光学薄膜の光学特性を測定するための
測定手段とを備え、連続して送られてくる被測定物とし
ての前記光学薄膜の光学特性を測定することを特徴とす
る光学特性測定装置により、達成される。
According to the present invention, an object of the present invention is to provide an optical characteristic measuring apparatus for measuring the optical characteristics of an optical thin film having optical characteristics. A light irradiating means for irradiating the light, a condensing means for condensing the light from the optical thin film with an inner peripheral surface being a spherical diffuse reflection surface, and detecting a light amount condensed by the condensing means Light detecting means, and measuring means for measuring the optical characteristics of the optical thin film based on the amount of light of the light detecting means, the optical thin film as an object to be continuously transmitted is measured. This is achieved by an optical property measuring device characterized by measuring optical properties.

【0006】上記構成によれば、この光学特性測定装置
は、光照射手段によって光学薄膜に対して光を照射さ
せ、内周面が球状の拡散反射面の集光手段によって反射
光を集光させ、集光手段によって集光された光量を光検
出手段によって検出させる。測定手段は、光検出手段の
検出結果としての光量に基づいて、連続して送られてく
る被測定物としての光学薄膜の光学特性を測定する。
According to the above configuration, the optical characteristic measuring apparatus irradiates the optical thin film with light by the light irradiating means, and condenses the reflected light by the condensing means of the diffuse reflection surface having a spherical inner peripheral surface. The light amount condensed by the light condensing means is detected by the light detecting means. The measuring means measures the optical characteristics of the optical thin film continuously transmitted as an object to be measured, based on the light amount as a detection result of the light detecting means.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施の形態は、本発明の好適な具体例であるから、
技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明
の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨
の記載がない限り、これらの形態に限られるものではな
い。
Preferred embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. Note that the embodiments described below are preferred specific examples of the present invention,
Although various technically preferable limits are given, the scope of the present invention is not limited to these modes unless otherwise specified in the following description.

【0008】第1実施形態 図1は、本発明の第1実施形態としての光学特性測定装
置1が成膜装置10に設けられている様子を示すブロッ
ク図である。成膜装置10では、例えばローラ状であっ
て所定の駆動手段を有する走行手段19、19がプラス
チックフィルム等を材質とするフィルム13を挟み込ん
だ状態で互いに異なる所定の方向に回転することで、フ
ィルム13がF方向に走行されている。成膜装置10
は、フィルム13の表面に薄膜を成膜するための成膜工
程21にて成膜された被測定物としての薄膜(光学薄
膜)の光学特性を測定するための光学特性測定装置とし
ての光学モニタ1(分光光度計システム)を備える。こ
こで、この薄膜は、例えば光の反射を防止するための反
射防止膜、ダイクロミラー、干渉フィルタ、狭帯域フィ
ルタである。
First Embodiment FIG. 1 is a block diagram showing a state in which an optical characteristic measuring apparatus 1 according to a first embodiment of the present invention is provided in a film forming apparatus 10. In the film forming apparatus 10, for example, the running means 19, 19 having a roller shape and having a predetermined driving means are rotated in predetermined directions different from each other with the film 13 made of a material such as a plastic film sandwiched therebetween. 13 is traveling in the F direction. Film forming apparatus 10
Is an optical monitor as an optical property measuring device for measuring optical properties of a thin film (optical thin film) as an object to be measured formed in a film forming step 21 for forming a thin film on the surface of the film 13. 1 (spectrophotometer system). Here, the thin film is, for example, an antireflection film for preventing light reflection, a dichroic mirror, an interference filter, or a narrow band filter.

【0009】成膜工程21は、真空槽25内で例えばス
パッタリング法、蒸着又は化学気相成長法(CVD:C
hemical Vapor Deposition)
によってフィルム13の表面上に薄膜を成膜する。成膜
装置10は、例えば後述する分光光度計コントローラ9
(測定手段)が真空槽25の外部に配置されており、そ
の分光光度計コントローラ9を除く光学モニタ1や成膜
工程21が真空槽25の内部に配置されている。
The film forming step 21 is performed in a vacuum chamber 25 by, for example, sputtering, vapor deposition or chemical vapor deposition (CVD: C
chemical Vapor Deposition)
Thus, a thin film is formed on the surface of the film 13. The film forming apparatus 10 includes, for example, a spectrophotometer controller 9 described later.
(Measurement means) is arranged outside the vacuum chamber 25, and the optical monitor 1 and the film forming process 21 except for the spectrophotometer controller 9 are arranged inside the vacuum chamber 25.

【0010】光学モニタ1は、例えば図1のように分光
光度計コントローラ9(測定手段、光照射手段)及び分
光光度計23を有し、好ましくはライトトラップ11
(面形成手段)を有する。分光光度計コントローラ9
は、後述する分光光度計23を制御するためのものであ
る。分光光度計23は、光源ヘッド3(光照射手段)、
積分球5(集光手段)及びディテクタヘッド7(光検出
手段)で構成されている。分光光度計23は、積分球5
に設けられており、光の入射口がフィルム13の近傍に
なるように配置されている。分光光度計23は、例えば
フィルム13を挟んでライトトラップ11とは反対側と
なるように配置されている。
The optical monitor 1 has a spectrophotometer controller 9 (measuring means, light irradiating means) and a spectrophotometer 23 as shown in FIG.
(Surface forming means). Spectrophotometer controller 9
Is for controlling a spectrophotometer 23 described later. The spectrophotometer 23 includes a light source head 3 (light irradiation unit),
It is composed of an integrating sphere 5 (light collecting means) and a detector head 7 (light detecting means). The spectrophotometer 23 has an integrating sphere 5
, And is arranged such that the light entrance is near the film 13. The spectrophotometer 23 is arranged, for example, on the opposite side of the light trap 11 with the film 13 interposed therebetween.

【0011】光源ヘッド3は、例えば積分球5に設けら
れており、分光光度計コントローラ9と光ファイバー1
5(光ファイバーケーブル)によって接続されており、
その制御によって所定の光(照射光3a)をフィルム1
3に対して照射する。積分球5は、例えば球状の拡散反
射面でなる内周面を有し、その内遊面に光源ヘッド3や
ディテクタヘッド7が設けられている。
The light source head 3 is provided, for example, on the integrating sphere 5 and includes a spectrophotometer controller 9 and an optical fiber 1.
5 (optical fiber cable),
Under the control, a predetermined light (irradiation light 3a) is applied to the film 1
Irradiate 3 The integrating sphere 5 has an inner peripheral surface formed of, for example, a spherical diffuse reflection surface, and the light source head 3 and the detector head 7 are provided on the inner play surface.

【0012】積分球5は、光源ヘッド3によって照射さ
れた照射光3aがフィルム13の表面に成膜された薄膜
で反射された反射光3b及び、フィルム13の表面に成
膜された薄膜で反射された散乱反射光3cを集光し、後
述するディテクタヘッド7に受光させるためのものであ
る。
The integrating sphere 5 is composed of a reflected light 3b in which the irradiation light 3a irradiated by the light source head 3 is reflected by the thin film formed on the surface of the film 13, and a reflected light 3b by the thin film formed on the surface of the film 13. The scattered reflected light 3c is collected and received by a detector head 7 described later.

【0013】ディテクタヘッド7は、例えば積分球5に
設けられており、分光光度計コントローラ9と光ファイ
バー15によって接続されており、その制御によって反
射光3b及び散乱反射光3cを受光する。ディテクタヘ
ッド7は、例えばフォトディテクタを有する。
The detector head 7 is provided, for example, on the integrating sphere 5 and is connected to the spectrophotometer controller 9 by an optical fiber 15, and receives the reflected light 3b and the scattered reflected light 3c by its control. The detector head 7 has, for example, a photodetector.

【0014】ライトトラップ11は、フィルム13を透
過した光が再度後述する積分球5に入射することを防止
するためのものである。ライトトラップ11は、様々な
構成、形状のものを採用することができ、例えば内側が
黒色の穴が形成されており入射した光を反射しない構成
としたもの、例えば2枚の吸収性の鏡をV字型に配し、
そこに入射した光が何回かの反射でほぼ100%吸収さ
れる構成としたもの、黒色のゴム状のもの等を採用する
ことができる。つまり、ライトトラップ11は、その表
面での光の反射光量を低減させるものであればどのよう
なものであっても良い。
The light trap 11 is for preventing the light transmitted through the film 13 from entering the integrating sphere 5 described later again. The light trap 11 may have various configurations and shapes. For example, the light trap 11 may have a configuration in which a black hole is formed on the inside and the incident light is not reflected, for example, two absorptive mirrors may be used. Arranged in a V-shape,
A configuration in which the light incident thereon is absorbed almost 100% by several reflections, a black rubber-like configuration, or the like can be employed. That is, the light trap 11 may be of any type as long as it reduces the amount of reflected light on the surface.

【0015】また、光学モニタ1においてフィルム13
の表面を所定の状態とし、フィルム13を安定して走行
させるための別の方法としては、例えば図2のように回
転する黒色のロール状の部材としてのブラックロール1
7(連続搬送機構)にフィルム13を密着させるように
してフィルム13を走行させるようにしても良い。ブラ
ックロール17も、例えばゴムを材質とする。
In the optical monitor 1, the film 13
Another method for keeping the surface of the film 13 in a predetermined state and running the film 13 stably is, for example, a black roll 1 as a black roll-shaped member rotating as shown in FIG.
The film 13 may be caused to run with the film 13 in close contact with 7 (continuous transport mechanism). The black roll 17 is also made of rubber, for example.

【0016】図1の光学モニタ1及びその光学モニタ1
を備える成膜装置10は以上のような構成であり、次に
その動作について図1及び図2を参照しながら説明す
る。成膜装置10は、成膜工程21によってフィルム1
3の表面上に薄膜を形成している。フィルム13は、所
定の走行手段19によってF方向に走行されている。成
膜装置10は、この成膜工程21によってフィルム13
の表面上に成膜された薄膜の光学特性を測定するための
光学モニタ1を有する。光学モニタ1は、分光光度計2
3及び、分光光度計23を制御するための分光光度計コ
ントローラ9によって以下のようにフィルム13の光学
特性を計測する。
Optical monitor 1 of FIG. 1 and its optical monitor 1
Is formed as described above, and the operation thereof will be described below with reference to FIGS. The film forming apparatus 10 controls the film 1
3, a thin film is formed on the surface. The film 13 is running in the F direction by predetermined running means 19. The film forming apparatus 10 allows the film 13
Has an optical monitor 1 for measuring the optical characteristics of a thin film formed on the surface of the device. The optical monitor 1 includes a spectrophotometer 2
3, and the optical characteristics of the film 13 are measured by the spectrophotometer controller 9 for controlling the spectrophotometer 23 as follows.

【0017】分光光度計コントローラ9は、例えば光フ
ァイバー15を介して光源ヘッド3から、ライトトラッ
プ11によって例えば平面化され走行しているフィルム
13に対して照射光3aを照射する。フィルム13に照
射された照射光3aは、フィルム13の表面の薄膜で反
射し、反射光3b及び散乱した散乱反射光3cとなる。
積分球5は、その内周面が球面となっており、その内周
面で反射を繰り返す反射光3bや散乱反射光3cを集光
し、ディテクタヘッド7に受光させる。
The spectrophotometer controller 9 irradiates, for example, the light 13 from the light source head 3 via the optical fiber 15 to the film 13 which is flattened and traveled by the light trap 11, for example. The irradiation light 3a applied to the film 13 is reflected by the thin film on the surface of the film 13, and becomes reflected light 3b and scattered reflected light 3c.
The integrating sphere 5 has a spherical inner peripheral surface. The integrating sphere 5 collects the reflected light 3b and the scattered reflected light 3c which are repeatedly reflected on the inner peripheral surface, and causes the detector head 7 to receive the light.

【0018】ディテクタヘッド7は、反射光3b及び散
乱反射光3cを受光する。受光された光は、光ファイバ
ー15(光ファイバーケーブル)を経由して分光光度計
コントローラ9に送られる。分光光度計コントローラ9
は、その受光量を波長毎に電気信号に変換し、この電気
信号に基づいて光の反射率を算出する。
The detector head 7 receives the reflected light 3b and the scattered reflected light 3c. The received light is sent to the spectrophotometer controller 9 via the optical fiber 15 (optical fiber cable). Spectrophotometer controller 9
Converts the amount of received light into an electric signal for each wavelength, and calculates light reflectance based on the electric signal.

【0019】本発明の実施形態によれば、この光学モニ
タ1は、連続して送られてくる被測定物としての薄膜に
対して光源ヘッド3によって光を照射させ、内周面が球
状の拡散反射面の積分球5によって反射光を集光させ、
積分球5によって集光された光量をディテクタヘッド7
によって検出させる。分光光度計コントローラ9は、デ
ィテクタヘッド7の検出結果としての光量に基づいて薄
膜の光学特性の一例としての反射率を測定する。このよ
うに、本発明の第1実施形態としての光学モニタ1及び
これを備える成膜装置10によれば、フィルム13表面
に成膜された薄膜の表面の状態に拘わらず、薄膜の光学
特性を精度良く容易に測定することができる。具体的に
は以下のような効果を挙げることができる。 (1)例えばガラスのように平坦な基板ではないプラス
チック等のフィルム13の表面に成膜された薄膜の評価
を精度良く行うことができる。 (2)ディテクタヘッド7は、照射光3aが鏡面反射し
た反射光3bのみならず、散乱反射光3cをも受光する
ことができるので、光の反射率を効率よく測定すること
ができる。 (3)光学特性の測定中は、フィルム13が走行してい
るため測定面が振動して不安定な状態であっても、積分
球5が反射光3b及び散乱反射光3cを効率よく集光し
てディテクタヘッド7に受光させるので、光学モニタ1
は、精度良く容易に反射率の光学測定を行うことができ
る。
According to the embodiment of the present invention, the optical monitor 1 causes the light source head 3 to irradiate a thin film as an object to be measured which is continuously transmitted, with a light source head 3 so that the inner peripheral surface is diffused. The reflected light is collected by the integrating sphere 5 on the reflecting surface,
The light amount collected by the integrating sphere 5 is detected by a detector head 7.
To detect. The spectrophotometer controller 9 measures the reflectance as an example of the optical characteristics of the thin film based on the light amount as a detection result of the detector head 7. As described above, according to the optical monitor 1 and the film forming apparatus 10 including the same according to the first embodiment of the present invention, regardless of the state of the surface of the thin film formed on the surface of the film 13, the optical characteristics of the thin film can be improved. It can be easily and accurately measured. Specifically, the following effects can be obtained. (1) For example, it is possible to accurately evaluate a thin film formed on the surface of a film 13 made of plastic or the like which is not a flat substrate such as glass. (2) Since the detector head 7 can receive not only the reflected light 3b in which the irradiation light 3a is specularly reflected but also the scattered reflected light 3c, the light reflectance can be measured efficiently. (3) During the measurement of the optical characteristics, the integrating sphere 5 efficiently collects the reflected light 3b and the scattered reflected light 3c even when the film 13 is running and the measurement surface vibrates and is unstable. To make the detector head 7 receive light, so that the optical monitor 1
Can easily and accurately perform optical measurement of reflectance.

【0020】第2実施形態 第2実施形態では、図1において第1実施形態と同一の
符号を付した箇所はほぼ同じ構成であるから、異なる点
についてのみ説明する。
Second Embodiment In the second embodiment, the portions denoted by the same reference numerals in FIG. 1 as those in the first embodiment have substantially the same configuration, and therefore only different points will be described.

【0021】図3は、本発明の第2実施形態としての光
学特性測定装置1aが成膜装置10aに設けられている
様子を示すブロック図である。第2実施形態の光学モニ
タ1a(光学特性測定装置)では、第1実施形態におい
て光源ヘッド3が積分球5に配置されていたのに対し、
光源ヘッド3(光照射手段)がフィルム13を挟んで反
対側となるようにライトトラップ11の代わりに配置さ
れている。尚、ライトトラップ11は、その位置をずら
して配置させておいても良い。
FIG. 3 is a block diagram showing a state in which an optical characteristic measuring apparatus 1a according to a second embodiment of the present invention is provided in a film forming apparatus 10a. In the optical monitor 1a (optical characteristic measuring device) of the second embodiment, the light source head 3 is arranged on the integrating sphere 5 in the first embodiment,
The light source head 3 (light irradiation means) is arranged instead of the light trap 11 so as to be on the opposite side with the film 13 interposed therebetween. Note that the light trap 11 may be arranged so that its position is shifted.

【0022】従って、分光光度計コントローラ9(図3
は、図1を簡素化して表現しているので省略している)
の制御によって動作する光源ヘッド3から発光された照
射光3aは、フィルム13を直線的に透過した直線的透
過光3e及び、フィルム13を透過して散乱した散乱透
過光3dとなる。第1実施形態としての光学モニタ1と
ほぼ同様に、これら直線的透過光3e及び散乱透過光3
dは、積分球5によって集光されディテクタヘッド3に
受光される。受光された光は、光ファイバー15を経由
して分光光度計コントローラ9に送られる。分光光度計
コントローラ9は、その受光量を波長毎に電気信号に変
換し、この電気信号に基づいて光の透過率や吸収率を算
出する。
Accordingly, the spectrophotometer controller 9 (FIG. 3)
Is omitted because it is a simplified representation of FIG. 1)
Irradiation light 3a emitted from the light source head 3 operated by the above control becomes a linearly transmitted light 3e transmitted linearly through the film 13, and a scattered transmitted light 3d transmitted through the film 13 and scattered. In substantially the same manner as the optical monitor 1 according to the first embodiment, these linear transmitted light 3e and scattered transmitted light 3e
d is condensed by the integrating sphere 5 and received by the detector head 3. The received light is sent to the spectrophotometer controller 9 via the optical fiber 15. The spectrophotometer controller 9 converts the amount of received light into an electric signal for each wavelength, and calculates light transmittance and absorptivity based on the electric signal.

【0023】このように、本発明の第2実施形態として
の光学モニタ1a及びこれを備える成膜装置10aによ
れば、フィルム13表面に成膜された薄膜の表面の状態
に拘わらず、薄膜の光学特性を精度良く容易に測定する
ことができる。具体的には以下のような効果を挙げるこ
とができる。 (1)例えばガラスのように平坦な基板ではないプラス
チック等のフィルム13の表面に成膜された薄膜の評価
を精度良く行うことができる。 (2)ディテクタヘッド7は、照射光3aの直接透過光
3eのみならず、散乱透過光3dをも受光することがで
きるので、光の透過率や吸収率を効率よく測定すること
ができる。 (3)光学特性の測定中は、フィルム13が走行してい
るため測定面が振動して不安定な状態であっても積分球
5が直接透過光3e及び散乱透過光3dを効率よく集光
してディテクタヘッド7に受光させるので、光学モニタ
1aは、精度良く容易に透過率や吸収率の光学測定を行
うことができる。
As described above, according to the optical monitor 1a and the film forming apparatus 10a including the same according to the second embodiment of the present invention, regardless of the state of the thin film formed on the surface of the film 13, Optical characteristics can be easily and accurately measured. Specifically, the following effects can be obtained. (1) For example, it is possible to accurately evaluate a thin film formed on the surface of a film 13 made of plastic or the like that is not a flat substrate such as glass. (2) Since the detector head 7 can receive not only the directly transmitted light 3e of the irradiation light 3a but also the scattered transmitted light 3d, the light transmittance and the absorptance can be measured efficiently. (3) During the measurement of the optical characteristics, the integrating sphere 5 efficiently condenses the direct transmitted light 3e and the scattered transmitted light 3d efficiently even when the film 13 is running and the measurement surface vibrates and is unstable. Then, the light is received by the detector head 7, so that the optical monitor 1a can easily and accurately perform the optical measurement of the transmittance and the absorptance.

【0024】ところで本発明は上述した実施形態に限定
されるものではない。光学モニタ1及び1aは、それぞ
れ成膜装置10のみならず、光学特性を有する薄膜を取
り扱う装置に適用することができる。
The present invention is not limited to the above embodiment. The optical monitors 1 and 1a can be applied not only to the film forming apparatus 10 but also to an apparatus that handles a thin film having optical characteristics.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光学薄膜の表面の状態に拘わらず、光学薄膜の光学特性
を精度良く容易に測定することができる光学特性測定装
置及びその光学特性測定装置を備える成膜装置を提供す
ることができる。
As described above, according to the present invention,
It is possible to provide an optical property measuring apparatus capable of easily and accurately measuring the optical properties of an optical thin film regardless of the state of the surface of the optical thin film, and a film forming apparatus including the optical property measuring apparatus.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態としての光学特性測定装
置が成膜装置に設けられている様子を示すブロック図。
FIG. 1 is a block diagram showing a state in which an optical characteristic measuring apparatus according to a first embodiment of the present invention is provided in a film forming apparatus.

【図2】図1の光学特性測定装置の変形例を示すブロッ
ク図。
FIG. 2 is a block diagram showing a modification of the optical characteristic measuring device of FIG.

【図3】本発明の第2実施形態としての光学特性測定装
置が成膜装置に設けられている様子を示すブロック図。
FIG. 3 is a block diagram showing a state in which an optical characteristic measuring device according to a second embodiment of the present invention is provided in a film forming device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・光学モニタ(第1実施形態としての光学特性測
定装置)、1a・・・光学モニタ(第2実施形態として
の光学特性測定装置)、3・・・光源ヘッド(光照射手
段)、5・・・積分球(集光手段)、7・・・ディテク
タヘッド(光検出手段)、9・・・分光光度計コントロ
ーラ(光照射手段、測定手段)、10・・・成膜装置、
11・・・ライトトラップ(面形成手段)、13・・・
フィルム(被測定物)、17・・・ブラックロール(面
形成手段)、21・・・成膜工程、23・・・分光光度
計(測定手段)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Optical monitor (optical characteristic measuring device as 1st embodiment), 1a ... Optical monitor (optical characteristic measuring device as 2nd embodiment), 3 ... Light source head (light irradiation means), 5: integrating sphere (light collecting means), 7: detector head (light detecting means), 9: spectrophotometer controller (light irradiating means, measuring means), 10: film forming apparatus,
11 ... light trap (surface forming means), 13 ...
Film (measurement object), 17: black roll (surface forming means), 21: film forming process, 23: spectrophotometer (measuring means)

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光学特性を有する光学薄膜の前記光学特
性を測定するための光学特性測定装置であって、 前記光学薄膜に対して光を照射する光照射手段と、 内周面が球状の拡散反射面であり、前記光学薄膜からの
前記光を集光するための集光手段と、 前記集光手段によって集光された光量を検出するための
光検出手段と、 前記光検出手段の光量に基づいて前記光学薄膜の光学特
性を測定するための測定手段とを備え、 連続して送られてくる被測定物としての前記光学薄膜の
光学特性を測定することを特徴とする光学特性測定装
置。
1. An optical property measuring device for measuring the optical properties of an optical thin film having optical properties, comprising: a light irradiating means for irradiating the optical thin film with light; A reflecting surface, a light collecting unit for collecting the light from the optical thin film, a light detecting unit for detecting a light amount collected by the light collecting unit, and a light amount of the light detecting unit. Measuring means for measuring the optical characteristics of the optical thin film based on the measured optical characteristics of the optical thin film as an object to be measured which is continuously transmitted.
【請求項2】 前記光学薄膜に密着してその表面を予め
決められた形状とするための面形成手段を有する請求項
1に記載の光学特性測定装置。
2. An optical characteristic measuring apparatus according to claim 1, further comprising a surface forming means for closely adhering to said optical thin film and for forming a surface thereof into a predetermined shape.
【請求項3】 前記集光手段は、積分球である請求項1
に記載の光学特性測定装置。
3. The light-collecting means is an integrating sphere.
The optical property measuring device according to 1.
【請求項4】 前記光学薄膜と対面する前記面形成手段
の表面は、前記光照射手段が照射した光の内の前記光学
薄膜を透過した光が反射しない部材で構成されており、
前記測定手段は、前記光学薄膜の反射率を測定する請求
項2に記載の光学特性測定装置。
4. A surface of the surface forming means facing the optical thin film is formed of a member which does not reflect light transmitted through the optical thin film out of light irradiated by the light irradiating means,
The optical characteristic measuring device according to claim 2, wherein the measuring unit measures a reflectance of the optical thin film.
【請求項5】 前記光学薄膜と対面する前記面形成手段
の表面は、黒色である請求項4に記載の光学特性測定装
置。
5. The optical characteristic measuring apparatus according to claim 4, wherein the surface of said surface forming means facing said optical thin film is black.
【請求項6】 前記面形成手段は、ロール形状の部材で
ある請求項5に記載の光学特性測定装置。
6. The optical characteristic measuring apparatus according to claim 5, wherein said surface forming means is a roll-shaped member.
【請求項7】 前記ロール形状の部材は、ゴムを材質と
する請求項6に記載の光学特性測定装置。
7. The optical characteristic measuring device according to claim 6, wherein the roll-shaped member is made of rubber.
【請求項8】 前記光学薄膜は、光の反射を防止する反
射防止膜である請求項4に記載の光学特性測定装置。
8. The optical characteristic measuring device according to claim 4, wherein said optical thin film is an anti-reflection film for preventing light reflection.
【請求項9】 前記光学薄膜は、ダイクロミラーである
請求項4に記載の光学特性測定装置。
9. The optical characteristic measuring device according to claim 4, wherein the optical thin film is a dichroic mirror.
【請求項10】 前記光学薄膜は、干渉フィルタである
請求項4に記載の光学特性測定装置。
10. The optical characteristic measuring device according to claim 4, wherein the optical thin film is an interference filter.
【請求項11】 前記光学薄膜は、狭帯域フィルタであ
る請求項4に記載の光学特性測定装置。
11. The optical characteristic measuring apparatus according to claim 4, wherein the optical thin film is a narrow band filter.
【請求項12】 前記光照射手段は、照射した光が前記
光学薄膜を透過するように前記光学薄膜を挟んで前記光
検出手段とは反対側に配置されており、前記測定手段
は、前記光学薄膜の光の透過率や吸収率を測定する請求
項1に記載の光学特性測定装置。
12. The light irradiating means is arranged on the opposite side of the optical thin film from the light detecting means so that irradiated light passes through the optical thin film, and the measuring means comprises The optical characteristic measuring device according to claim 1, wherein the optical transmittance and the absorptance of the thin film are measured.
【請求項13】 光学特性を有する光学薄膜を成膜する
ための成膜工程を有し、前記光学薄膜の前記光学特性を
測定するための光学特性測定装置を備える成膜装置であ
って、 前記光学薄膜に対して光を照射する光照射手段と、 内周面が球状の拡散反射面であり、前記光学薄膜からの
前記光を集光するための集光手段と、 前記集光手段によって集光された光量を検出するための
光検出手段と、 前記光検出手段の光量に基づいて前記光学薄膜の光学特
性を測定するための測定手段とを備えることを特徴とす
る成膜装置。
13. A film forming apparatus, comprising: a film forming step for forming an optical thin film having optical characteristics; and an optical characteristic measuring device for measuring the optical characteristics of the optical thin film, A light irradiating means for irradiating light to the optical thin film; a light collecting means for condensing the light from the optical thin film with an inner peripheral surface being a spherical diffuse reflection surface; A film forming apparatus comprising: a light detecting unit for detecting a light amount emitted; and a measuring unit for measuring an optical characteristic of the optical thin film based on a light amount of the light detecting unit.
【請求項14】 前記成膜工程では、プラスチックを材
質とするフィルム表面上に光学薄膜が成膜される請求項
13に記載の成膜装置。
14. The film forming apparatus according to claim 13, wherein in the film forming step, an optical thin film is formed on a film surface made of plastic.
【請求項15】 前記測定手段による前記光学薄膜の光
学特性の測定結果を、前記成膜工程にフィードバックし
て成膜する請求項13に記載の成膜装置。
15. The film forming apparatus according to claim 13, wherein a measurement result of the optical characteristics of the optical thin film by the measuring unit is fed back to the film forming step to form a film.
【請求項16】 前記成膜工程は、スパッタリング法に
よって光学薄膜を成膜する請求項13に記載の成膜装
置。
16. The film forming apparatus according to claim 13, wherein said film forming step forms an optical thin film by a sputtering method.
【請求項17】 前記成膜工程は、蒸着によって光学薄
膜を前記フィルム表面上に成膜する請求項13に記載の
成膜装置。
17. The film forming apparatus according to claim 13, wherein said film forming step forms an optical thin film on said film surface by vapor deposition.
【請求項18】 前記成膜工程は、化学気相成長法によ
って光学薄膜を前記フィルム表面上に成膜する請求項1
3に記載の成膜装置。
18. The method according to claim 1, wherein in the film forming step, an optical thin film is formed on the film surface by a chemical vapor deposition method.
4. The film forming apparatus according to 3.
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