JP2000194010A - 液晶表示装置、その製造方法及び成膜装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 一方の基板に屈曲性を有する膜を使用したア
クティブマトリクス型液晶表示装置を提供する。 【解決手段】 剛性基板の主表面上に、第１のバスライ
ンと第２のバスラインが形成されている。第１のバスラ
インと第２のバスラインとの交差個所に対応して画素電
極とスイッチング素子が設けられている。剛性基板の主
表面に対向し、剛性基板からある間隔を隔てて屈曲性膜
が配置されている。屈曲性膜の、剛性基板に対向する対
向面上に透明材料からなる共通電極が形成されている。
剛性基板と屈曲性膜との間に液晶材料が充填されてい
る。共通電極の表面に接するように、補助配線が配置さ
れている。補助配線は、共通電極の抵抗率よりも低い抵
抗率を有する導電材料で形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置、そ
の製造方法及び成膜装置に関し、特に一方の基板が剛性
基板であり、他方の基板が屈曲性を有する膜である液晶
表示装置、その製造方法及び成膜装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置は種々の分野で利用されて
いるが、特にノート型パーソナルコンピュータや携帯情
報端末といったモバイル用途への利用が拡大している。
モバイル用途向けの液晶表示装置には、薄型化、軽量化
が望まれる。デスクトップ型の液晶表示装置は、通常、
一対のガラス基板と、その間に充填された液晶材料を含
んで構成される。その全体の重量の大部分がガラス基板
で占められ、その厚さはガラス基板の厚さに依存する。

【０００３】薄型かつ軽量化を推し進めるために、ガラ
ス基板の代わりに屈曲性を有するフィルムを用いる技術
が知られている。しかし、フィルム上に薄膜トランジス
タ等の能動素子を形成することが困難であるため、この
技術をアクティブマトリクス型の液晶表示装置に適用す
ることは困難である。

【０００４】ガラス基板上に能動素子を形成し、その対
向基板として薄いフィルムを用いる技術が提案されてい
る（例えば、特開昭６１−４０７１号公報、特開平４−
２０４６３１号公報、特開平６−９５１５９号公報、特
開平６−３０１０１８号公報等）。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】一対の基板のうち一方
を薄いフィルムとすることにより、薄型軽量化を図るこ
とができる。通常の液晶表示装置の場合、フィルム上に
インジウム錫オキサイド（ＩＴＯ）等の透明導電膜を形
成する。しかし、ガラス基板上に形成する場合に比べて
低温で成膜しなければならない。

【０００６】低温で成膜したＩＴＯ膜は、面抵抗が大き
く、かつ可視光領域における光透過率が低いという特性
を有する。例えば、パッシブ型液晶表示装置用として市
販されている透明導電膜（厚さ７００〜８００ｎｍ）付
きフィルムの面抵抗は約２００Ω／□であり、波長４０
０ｎｍの光に対する透過率は約７０％である。これに対
し、一般のアクティブマトリクス型カラー液晶表示装置
の共通電極の面抵抗は５０Ω／□以下であり、可視光領
域の光に対する透過率は７５％以上である。このため、
市販の透明導電膜付きフィルムをアクティブマトリクス
型液晶表示装置に適用することは困難である。

【０００７】また、一方の基板に屈曲性を有する膜を使
用すると、その膜の縁が剥がれやすく、十分な信頼性、
耐久性を得ることが困難である。

【０００８】本発明の目的は、一方の基板に屈曲性を有
する膜を使用したアクティブマトリクス型液晶表示装置
を提供することである。

【０００９】本発明の他の目的は、一方の基板に屈曲性
を有する膜を使用し、信頼性及び耐久性を高めた液晶表
示装置を提供することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の一観点による
と、主表面を有する剛性基板と、前記剛性基板の主表面
上に形成され、第１の方向に延在する複数の第１のバス
ラインと、前記剛性基板の主表面上に形成され、前記第
１の方向と交差する第２の方向に延在する複数の第２の
バスラインと、前記剛性基板の主表面上に、前記第１の
バスラインと第２のバスラインとの交差個所に対応して
設けられた画素電極と、前記剛性基板の主表面上に設け
られ、前記画素電極と、それに対応する前記第１のバス
ラインとを接続し、当該画素電極に対応する前記第２の
バスラインに印可される信号によって導通状態を制御さ
れるスイッチング素子と、前記剛性基板の主表面に対向
し、該剛性基板からある間隔を隔てて配置された屈曲性
を有する屈曲性膜と、前記屈曲性膜の、前記剛性基板に
対向する対向面上に形成された透明材料からなる共通電
極と、前記剛性基板と前記屈曲性膜との間に充填され、
前記画素電極と前記共通電極との間に発生する基板法線
方向の電界成分によって液晶分子の向きを変化させる液
晶材料と、前記共通電極の表面に接するように配置さ
れ、該共通電極の抵抗率よりも低い抵抗率を有する導電
材料で形成された補助配線とを有する液晶表示装置が提
供される。

【００１１】共通電極に接するように補助配線が配置さ
れているため、共通電極自体のシート抵抗を比較的高く
設定しても、その実効的なシート抵抗を低くすることが
できる。このため、共通電極を薄くし、光透過率を高め
ることが可能になる。

【００１２】本発明の他の観点によると、主表面を有す
る剛性基板と、前記剛性基板の主表面上に形成され、第
１の方向に延在する複数の第１のバスラインと、前記剛
性基板の主表面上に形成され、前記第１の方向と交差す
る第２の方向に延在する複数の第２のバスラインと、前
記剛性基板の主表面上に、前記第１のバスラインと第２
のバスラインとの交差個所に対応して設けられた画素電
極と、前記剛性基板の主表面上に設けられ、前記画素電
極と、それに対応する前記第１のバスラインとを接続
し、当該画素電極に対応する前記第２のバスラインに印
可される信号によって導通状態を制御されるスイッチン
グ素子と、前記剛性基板の主表面上に設けられ、前記主
表面の面内方向に関して前記画素電極からある間隔を隔
てて配置された対向電極と、前記対向電極に対向電圧を
印可する第３のバスラインと、前記剛性基板の主表面に
対向し、該剛性基板からある間隔を隔てて配置された屈
曲性を有する屈曲性膜と、前記屈曲性膜の表面上に形成
された透明導電膜と、前記剛性基板と前記屈曲性膜との
間に充填され、前記画素電極と前記対向電極との間に発
生する面内方向の電界成分によって液晶分子の向きを変
化させる液晶材料とを有する液晶表示装置が提供され
る。

【００１３】屈曲性膜上に透明導電膜が形成されている
ため、帯電を防止することができる。これにより、帯電
に起因する液晶分子の配向の乱れ等が防止される。

【００１４】本発明のさらに他の観点によると、主表面
を有する剛性基板と、前記剛性基板の主表面に対向し、
該主表面からある間隔を隔てて配置され、屈曲性を有す
る屈曲性膜と、面内方向に分布する複数の画素を画定
し、前記屈曲性膜と前記剛性基板との間の空間に、画素
単位で電界を発生させる電極と、前記屈曲性膜を、その
外周部において前記剛性基板に接着し、前記屈曲性膜と
剛性基板との間に閉じた間隙を形成するシール部材と、
前記間隙内に充填された液晶材料と、前記シール部材よ
りも外側に配置され、前記屈曲性膜の端面を覆い、前記
剛性基板の表面まで達する補強部材とを有する液晶表示
装置が提供される。

【００１５】補強部材が、屈曲性膜の外周部近傍を保護
する。このため、物理的な力による屈曲性膜の剥がれを
防止することができる。

【００１６】本発明のさらに他の観点によると、主表面
を有する剛性基板と、前記剛性基板の主表面に対向し、
該主表面からある間隔を隔てて配置され、屈曲性を有す
る屈曲性膜であって、基板法線方向から見たとき、該屈
曲性膜の外周が前記剛性基板の外周よりも内側に位置す
る前記屈曲性膜と、面内に分布する複数の画素を画定
し、前記屈曲性膜と前記剛性基板との間の空間に、画素
単位で電界を発生させる電極と、前記屈曲性膜を、その
外周部において前記剛性基板に接着し、前記屈曲性膜と
剛性基板との間に閉じた間隙を形成するシール部材と、
前記間隙内に充填された液晶材料と、前記シール部材及
び前記屈曲性膜の外周よりもさらに外側に配置され、前
記剛性基板に固定された補強部材であって、前記剛性基
板の主表面から該補強部材の上面までの高さが、前記剛
性基板の主表面から前記屈曲性基板の上面までの高さよ
りも高い前記補強部材とを有する液晶表示装置が提供さ
れる。

【００１７】補強部材が、屈曲性膜の外周部近傍を保護
する。このため、物理的な力による屈曲性膜の剥がれを
防止することができる。

【００１８】本発明のさらに他の観点によると、ロール
から繰り出された屈曲性膜を搬送する搬送路と、前記搬
送路を搬送される屈曲性膜の表面上に透明導電膜を成膜
する第１の成膜手段と、前記搬送路を搬送される屈曲性
膜上に形成された透明導電膜上に、配向膜を成膜する第
２の成膜手段とを有する成膜装置が提供される。

【００１９】本発明のさらに他の観点によると、ロール
に巻かれた帯状屈曲性膜を繰り出す工程と、前記ロール
から繰り出された帯状屈曲性膜の表面上に透明導電膜を
形成する工程と、前記透明導電膜の形成された帯状屈曲
性膜に、前記透明導電膜に対向するように、アクティブ
マトリクス基板を、該屈曲性膜と該アクティブマトリク
ス基板との間に間隙を画定するように接着する工程と、
前記アクティブマトリクス基板の接着された帯状屈曲性
膜を、該アクティブマトリクス基板との接着部よりも外
側で切断する工程とを有する液晶表示装置の製造方法が
提供される。

【００２０】帯状の屈曲性膜をロールから繰り出し、搬
送しながら成膜を行うことにより、製造工程の簡略化を
図ることが可能になる。

【００２１】

【発明の実施の形態】図１（Ａ）は、本発明の第１の実
施例による薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を用いたアクテ
ィブマトリクス型液晶表示装置のＴＦＴ基板の平面図を
示す。

【００２２】ガラス基板の表面上に、行方向に延在する
複数のゲートバスライン１が配置され、列方向に延在す
る複数のドレインバスライン２が配置されている。ゲー
トバスライン１とドレインバスライン２とは、その交差
箇所において絶縁膜によって相互に絶縁されている。ゲ
ートバスライン１とドレインバスライン２との交差箇所
に対応して、相互に隣り合う２本のゲートバスラインと
２本のドレインバスラインとに囲まれた領域内に画素電
極３が配置されている。

【００２３】各画素電極３は、ＴＦＴ４を介して対応す
るドレインバスライン２に接続されている。画素電極３
は、例えばインジウム錫オキサイド（ＩＴＯ）により形
成される。ＴＦＴ４は、ドレイン電極４Ｄ、ソース電極
４Ｓ、及びチャネル領域４Ｃを含んで構成される。ドレ
イン領域４Ｄは、対応するドレインバスライン２に接続
され、ソース領域４Ｓは、コンタクトホール２２を介し
て画素電極３に接続されている。ドレイン電極４Ｄ及び
ソース電極４Ｓは、共にドレインバスライン２と同一層
内に、同一材料で形成される。活性領域４Ｃは例えばア
モルファスシリコンで形成される。ゲートバスライン１
が、対応するＴＦＴ４のゲート電極を兼ねる。

【００２４】図１（Ｂ）は、第１の実施例による液晶表
示装置の対向基板の平面図を示す。対向基板は、屈曲性
を有する屈曲性膜を含んで構成される。屈曲性膜の対向
面上に、格子状に補助配線７が形成されている。補助配
線７は、基板法線方向から見たとき、ＴＦＴ基板側のゲ
ートバスライン１及びドレインバスライン２に重なるよ
うに配置されている。補助配線７は、例えばクロム（Ｃ
ｒ）で形成される。

【００２５】図２（Ａ）は、図１（Ａ）の一点鎖線Ａ２
−Ａ２における断面図を示す。ガラス基板１９の表面上
に、ゲートバスライン１が形成されている。ゲートバス
ライン１は、例えばスパッタリングによりＡｌもしくは
Ｃｒ膜を成膜した後、ＡｌもしくはＣｒ膜をパターニン
グすることにより形成される。

【００２６】ガラス基板１９の上に、ゲートバスライン
１を覆うようにＳｉＮからなる厚さ約４００ｎｍのゲー
ト絶縁膜２０が形成されている。ゲート絶縁膜２０は、
例えばプラズマ励起型化学気相成長（ＰＥ−ＣＶＤ）に
より形成される。

【００２７】ゲート絶縁膜２０の表面上に、ゲートバス
ライン１を跨ぐように、厚さ２０ｎｍのノンドープのア
モルファスＳｉ膜６が形成されている。アモルファスＳ
ｉ膜６の表面の、ゲートバスライン１の上方の領域に、
ＳｉＮもしくはＳｉＯ₂からなる厚さ１５０ｎｍのチャ
ネル保護膜５が形成されている。チャネル保護膜５の両
側の、アモルファスＳｉ膜６の表面上に、それぞれドレ
イン電極４Ｄ及びソース電極４Ｓが形成されている。ド
レイン電極４Ｄ及びソース電極４Ｓは、厚さ６０ｎｍの
ｎ⁺型アモルファスＳｉ層とＡｌもしくはＣｒからなる
厚さ２００ｎｍの金属層との積層構造を有する。

【００２８】以下、アモルファスＳｉ膜６からドレイン
電極４Ｄ及びソース電極４Ｓまでの形成方法を説明す
る。

【００２９】まず、ゲート絶縁膜２０の上に、ＰＥ−Ｃ
ＶＤにより厚さ２０ｎｍのノンドープのアモルファスＳ
ｉ膜を形成する。このアモルファスＳｉ膜の上に、ＰＥ
−ＣＶＤにより厚さ１５０ｎｍのＳｉＮ膜もしくはＳｉ
Ｏ₂膜を形成する。このＳｉＮ膜もしくはＳｉＯ₂膜をパ
ターニングしてチャネル保護膜５を残す。

【００３０】チャネル保護膜５を覆うように、基板の全
面上にＰＥ−ＣＶＤにより厚さ６０ｎｍのｎ⁺型アモル
ファスＳｉ層を形成する。このｎ⁺型アモルファスＳｉ
層の上に、スパッタリングによりＡｌもしくはＣｒから
なる厚さ２００ｎｍの金属層を形成する。ｎ⁺型アモル
ファスＳｉ層、金属層、及びノンドープのアモルファス
Ｓｉ層をパターニングし、アモルファスＳｉ膜６、ドレ
イン電極４Ｄ、及びソース電極４Ｓを残す。このとき、
チャネル保護膜５でエッチングが停止し、その下にチャ
ネル領域４Ｃが残る。

【００３１】ドレイン電極４Ｄ、ソース電極４Ｓ、チャ
ネル保護膜５を覆うように、ゲート絶縁膜２０の上に、
ＳｉＮもしくはＳｉＯ₂からなる厚さ４００ｎｍの保護
絶縁膜２１が形成されている。保護絶縁膜２１は、ＣＶ
Ｄまたはスパッタリングにより形成される。

【００３２】保護絶縁膜２１の上に、ＩＴＯからなる厚
さ１００ｎｍの画素電極３が形成されている。画素電極
３は、保護絶縁膜２１に形成されたコンタクトホール２
２を介してソース電極４Ｓに接続されている。画素電極
３は、スパッタリングによりＩＴＯ膜を堆積した後、こ
のＩＴＯ膜をパターニングすることにより形成される。
画素電極３及び保護絶縁膜２１を覆うように配向膜８が
形成されている。

【００３３】図２（Ｂ）は、図１（Ａ）及び（Ｂ）の一
点鎖線Ｂ２−Ｂ２における断面図を示す。ガラス基板１
９の表面上にゲート絶縁膜２０が形成されている。ゲー
ト絶縁膜２０の表面上に、ドレインバスライン２が形成
されている。ドレインバスライン２は、図２（Ａ）のド
レイン電極４Ｄの形成と同時に形成される。ドレイン電
極４Ｄの下にアモルファスシリコン膜６が残っているの
と同様に、ドレインバスライン２の下にも、アモルファ
スシリコン膜６が残っている。

【００３４】ドレインバスライン２を覆うように、ゲー
ト絶縁膜２０の上に保護絶縁膜２１が形成されている。
保護絶縁膜２１の上に、画素電極３が形成されている。
保護絶縁膜２１及び画素電極３を配向膜８が覆う。

【００３５】ガラス基板１９に、ある間隔を隔てて対向
するように、屈曲性膜３０が配置されている。屈曲性膜
３０の厚さは例えば３００μｍ以下であり、容易に屈曲
する。屈曲性膜３０として、例えばポリカーボネートや
ポリエーテルスルフォン等を基材とし、ガスバリア層、
電極密着層等を積層したものを用いることができる。透
明電極付きの屈曲性膜として、例えば藤森工業製のＡＭ
ＯＲＥＸ７０１５Ｃ、住友ベークライト製のＦＳＴ−５
３５１等を用いることができる。屈曲性膜３０の対向面
上に、補助配線７が形成されている。補助配線７は、屈
曲性膜３０の表面上にＣｒ膜を蒸着したのち、このＣｒ
膜をパターニングすることにより形成される。

【００３６】補助配線７を覆うように、屈曲性膜３０の
対向面上に、ＩＴＯからなる透明電極３１が形成されて
いる。透明電極３１は、可視光領域における光透過率が
７５％以上になるような膜厚とされている。透明電極３
１の対向面上に、配向膜３２が形成されている。配向膜
３２は、屈曲性膜３０の耐熱性等による制約のため、可
溶性ポリイミドからなる配向膜材料を用いることが好ま
しい。例えば、日本合成ゴム製のＬＡＬＳ−３０４６を
用いることができる。配向膜８と３２との間に、液晶材
料３５が充填されている。

【００３７】第１の実施例による液晶表示装置では、Ｔ
ＦＴ基板がガラス基板（剛性基板）を含んで構成され、
他方の基板が屈曲性膜を基材としている。このため、両
方の基板をガラス基板で構成する場合に比べて、薄型化
及び軽量化を図ることができる。

【００３８】図２（Ｂ）に示す透明電極３１の、可視光
領域における光透過率は７５％以上である。このため、
両方の基板をガラス基板で構成する場合と同様の透過率
が実現され、高い表示品質を確保することができる。屈
曲性膜上に形成する透明電極を薄くしてその光透過率を
高めると、シート抵抗が増加する。第１の実施例では、
透明電極３１に接して補助配線７を配置することによ
り、シート抵抗の低減を図っている。

【００３９】透明電極３１と補助配線７とを合わせたシ
ート抵抗が５０Ω／□以下となるように、透明電極３１
の膜厚、補助配線７の幅及び厚さを設定することが好ま
しい。また、補助配線７は、基板法線方向から見たと
き、ゲートバスライン１及びドレインバスライン２に重
なるように配置されている。このため、補助配線７によ
る開口率の低下が防止される。

【００４０】図３（Ａ）は、第１の実施例による液晶表
示装置の補助配線７の他の構成例を示す。図３（Ａ）に
示す補助配線７ａは、格子状のパターンを有する。図１
（Ｂ）に示す補助配線７は、ＴＦＴ基板側のバスライン
と重なる格子状のパターンであったが、図３（Ａ）に示
す補助配線７ａのパターンは、ＴＦＴ基板側のバスライ
ンとは特別な関係を持たない。例えば、配線幅１０μ
ｍ、ピッチ５ｍｍの格子状パターンである。

【００４１】所望のシート抵抗を得られるのであれば、
図３（Ａ）に示すように、パターンのピッチを画素ピッ
チより長くしてもよい。また、補助配線７ａが十分細
く、液晶画面を目視したときに、その存在を認識できな
い程度である場合には、補助配線７ａをＴＦＴ基板側の
バスラインに重ねる必要はない。

【００４２】図３（Ｂ）は、第１の実施例による液晶表
示装置の補助配線７のさらに他の構成例を示す。図３
（Ｂ）に示す補助配線７ｂは、縞状のパターンを有す
る。所望のシート抵抗を得られるのであれば、補助配線
を格子状にする必要はなく、図３（Ｂ）に示すような縞
状のパターンとしてもよい。

【００４３】図３（Ｂ）に示すような縞状パターンの補
助配線７ｂを含む透明電極のシート抵抗を４探針法で測
定する場合、各探針を行方向に配列させて測定したシー
ト抵抗と列方向に配列させて測定したシート抵抗とは異
なる。このような場合、いずれか小さい方のシート抵抗
が５０Ω／□以下となるようにすればよい。

【００４４】図４（Ａ）は、第２の実施例による面内ス
イッチングモードの液晶表示装置の平面図を示す。ガラ
ス基板の表面上に、行方向（図４（Ａ）においては横方
向）に延在する複数のゲートバスライン４０とコモンバ
スライン４１が配置されている。ゲートバスライン４０
とコモンバスライン４１とは、列方向に交互に配置され
ている。さらに、列方向に延在する複数のドレインバス
ライン４２が配置されている。

【００４５】ゲートバスライン４０とドレインバスライ
ン４２との交差箇所の各々に対応して画素電極４５が配
置されている。画素電極４５は櫛歯型パターンを有し、
コモンバスライン４１から分岐する櫛歯型のコモン電極
４６と噛合っている。画素電極４５は、ＴＦＴ４７を介
して、対応するドレインバスライン４２に接続されてい
る。ＴＦＴ４７のゲート電極は、対応するゲートバスラ
イン４０に接続されている。

【００４６】図４（Ｂ）は、図４（Ａ）の一点鎖線Ｂ４
−Ｂ４における断面図を示す。ガラス基板５０の表面上
に、画素電極４５及びコモン電極４６が形成されてい
る。画素電極４５及びコモン電極４６は、例えばＣｒ層
とｎ⁺型シリコン層との２層で構成される。画素電極４
５及びコモン電極４６を覆うように、ガラス基板５０の
上に保護絶縁膜５１が形成されている。保護絶縁膜５１
は、ＳｉＯ₂またはＳｉＮ等で形成される。保護絶縁膜
５１の表面を配向膜５２が覆う。

【００４７】ガラス基板５０から配向膜５２までの形成
方法は、例えば特開平１０−１７０９３９号公報に詳し
く説明されている。

【００４８】ガラス基板５０に、ある間隔を隔てて対向
するように、屈曲性膜６０が配置されている。屈曲性膜
６０の対向面上に配向膜６１が形成されている。屈曲性
膜６０の非対向面上には、ＩＴＯからなる透明導電膜６
２が形成されている。配向膜５２と６１との間の空間
に、液晶材料６３が充填されている。

【００４９】第２の実施例による液晶表示装置は面内ス
イッチングモードであるため、原理的には、屈曲性膜６
０側に電極を設ける必要はない。しかし、屈曲性膜６０
側に透明導電膜６２を設けない場合には、屈曲性膜６０
が帯電し、良好な配向及びスイッチング特性を得ること
ができなかった。第２の実施例のように、屈曲性膜６０
の非対向面上に透明電極６２を設けることにより、帯電
を防止することができる。

【００５０】第２の実施例による液晶表示装置も、第１
の実施例の場合と同様に、一方の基板に屈曲性膜を用い
ている。このため、薄型化、軽量化を図ることが可能に
なる。

【００５１】第２の実施例で用いた透明導電膜６２は、
可視光領域における光透過率が７５％以上のものであ
る。このように光透過率の比較的大きな透明導電膜を屈
曲性膜上に形成すると、そのシート抵抗が大きくなる。
第１の実施例では、シート抵抗の増加を防止するため
に、補助配線を形成した。第２の実施例では、透明導電
膜６２を配置する目的が帯電防止であり、その内部を動
作電流が流れない。このため、シート抵抗の比較的大き
な膜を用いることが可能である。例えば、シート抵抗が
２００Ω／□以上のものを用いてもよい。

【００５２】図４（Ｂ）では、透明導電膜６２を屈曲性
膜６０の非対向面上に配置したが、屈曲性膜６０と配向
膜６１との間に配置してもよい。

【００５３】図５は、第３の実施例による液晶表示装置
の断面図を示す。ＴＦＴ基板７０と対向基板７１とが、
ある間隔を隔てて平行に配置されている。ＴＦＴ基板７
０は、例えば図２（Ａ）に示すＴＦＴが形成された基板
であり、ガラス基板（剛性基板）を含んで構成される。
対向基板７１は、例えば図２（Ｂ）に示す屈曲性膜３０
から配向膜３２までの積層基板である。

【００５４】対向基板７１は、その外周近傍の領域にお
いてシール部材７３によりＴＦＴ基板７０に固着されて
いる。ＴＦＴ基板７０と対向基板７１との間の空間内に
液晶材料７２が充填されている。シール部材７３は、液
晶材料７２が充填された空間を密閉する。

【００５５】液晶材料７２が充填された空間内に、多数
の接着性スペーサ７４が導入されている。接着性スペー
サ７４は、ＴＦＴ基板７０と対向基板７１の双方の対向
面に接着されている。接着性スペーサ７４として、例え
ば早川ゴム株式会社製のハヤビーズＬ−２２Ｒ等を用い
ることができる。対向基板７１を屈曲性膜で構成する
と、ＴＦＴ基板７０と対向基板７１との間の間隔の厚さ
が不安定になりやすい。接着性スペーサ７４を導入する
ことにより、ＴＦＴ基板７０と対向基板７１との間隔を
一定に保つことができる。

【００５６】図６（Ａ）は、第４の実施例による液晶表
示装置の断面図を示す。ＴＦＴ基板７０と対向基板７１
とが対向配置されている。基板法線方向から見たとき、
対向基板７１の外周の一部（図６（Ａ）の左端）が、Ｔ
ＦＴ基板７０の外周にほぼ重なる。また、対向基板７１
の外周の他の部分（図６（Ａ）の右端）においては、Ｔ
ＦＴ基板７０の周辺部が対向基板７１の外周の外側に張
り出している。この張り出した部分には、ＴＦＴ基板７
０の表面上に形成されたバスラインを外部の駆動回路に
接続するための端子等が配置される。

【００５７】ＴＦＴ基板７０は、図５に示す第３の実施
例の場合と同様にガラス基板（剛性基板）を含んで構成
される。対向基板７１は、例えば図２（Ｂ）に示す屈曲
性膜３０から配向膜３２までの積層膜、または図４
（Ｂ）に示す透明導電膜６２から配向膜６１までの積層
膜である。図６（Ａ）では、屈曲性膜７１Ａ、透明導電
膜７１Ｂ、配向膜７１Ｃがこの順番に積層された場合を
示している。

【００５８】対向基板７１が、その外周近傍領域におい
てシール部材７３によりＴＦＴ基板７０に固着されてい
る。シール部材７３として、例えばスリーボンド社製の
封止材３０Ｙ−１９５Ｂを用いることができる。ＴＦＴ
基板７０と対向基板７１との間に、液晶材料７２が充填
されている。

【００５９】ＴＦＴ基板７０の非対向面上に偏光膜８０
が配置され、対向基板７１の非対向面上に偏光膜８１が
配置されている。偏光膜８０と８１とは、相互に偏光軸
が直交するクロスニコル配置とされている。

【００６０】透明導電膜７１Ｂは、屈曲性膜７１Ａの対
向面の全領域上に形成されている。配向膜７１Ｃは、透
明導電膜７１Ｂの対向面のうち、その周辺領域を除いた
領域上に形成されている。シール部材７３は、配向膜７
１Ｃの外周よりも外側の領域において透明導電膜７１Ｂ
に直接固着している。すなわち、配向膜７１Ｃは、透明
電極７１Ｃの表面のうちシール部材７３に接する領域に
は形成されていない。これにより、シール部材７３の密
着性を高めることができる。

【００６１】補強部材８２が、屈曲性膜７１Ａの端面か
ら、シール部材７３の側面を経由してＴＦＴ基板７０の
表面の一部までを覆う。補強部材８２として、例えばポ
リイミド樹脂を用いることができる。補強部材８２は、
有機溶媒に溶解させた流動性を有する樹脂を所定の領域
に塗布した後、固化させることにより形成することがで
きる。

【００６２】屈曲性膜７１Ａは、通常、基材層、ガスバ
リア層、保護層、電極密着層等を含む積層構造を有す
る。屈曲性膜７１Ａの端面が露出していると、端面から
各層の層間に水分等が侵入し、剥がれや亀裂が生じやす
くなる。図６（Ａ）に示すように、屈曲性膜７１Ａの端
面を補強部材８２で被覆しておくことにより、屈曲性膜
７１Ａ内への水分等の侵入を防止することができる。

【００６３】第４の実施例による液晶表示層を、温度７
０℃の環境下に１００時間放置したところ、剥がれや亀
裂等の発生は生じなかった。これに対し、補強部材８２
を設けない液晶表示装置を作製し、同様の放置試験を行
ったところ、亀裂や曇りが発生し、表示ムラが観測され
た。

【００６４】また、対向基板７１の外周部がシール部材
７３よりも外側まで突出していると、この突出部が他の
部材に引っ掛かり、物理的な力による剥がれ生ずるおそ
れがある。第６の実施例では、補強部材８２が対向基板
７１の端面からＴＦＴ基板７０の表面の一部までを覆っ
ている。このため、物理的な力による剥がれを防止する
ことができる。

【００６５】図６（Ｂ）に示すように、補強部材８２
が、偏光膜８１の非対向面の表面のうち外周近傍の領域
までを覆うようにしてもよい。補強部材８２が偏光膜８
１の表面の一部までを覆うことにより、機械的強度を増
すことができる。また、図６（Ｂ）に示すように、偏光
膜８１の全面を、補強部材８２で覆ってもよい。この場
合、偏光膜８２の表面上の補強部材８２は、反射防止膜
として働く。

【００６６】図６（Ｄ）は、第４の実施例の他の変形例
を示す。基板法線方向から見たとき、偏光膜８１の外周
がＴＦＴ基板７０の外周よりも内側に位置し、対向基板
７１の外周が偏光膜８１の外周よりも内側に位置する。
補強部材８２が、対向基板７１の外周及びシール部材７
３よりも外側の領域において、偏光膜８１の対向面から
対向基板７１の端面及びシール部材７３の側面を経由し
てＴＦＴ基板７０の対向面までを覆う。

【００６７】この場合、偏光膜８１の庇状に張り出した
部分の下方の空間を補強部材８２が埋め込む構成とな
る。このため、一時的に流動性を呈する樹脂を庇状張り
出し部の下方に注入し、固化させる方法を用い、再現性
よく補強部材８２を形成することができる。

【００６８】図７は、第５の実施例による液晶表示装置
の断面図を示す。基本的な構成は図６（Ａ）に示す第４
の実施例の液晶表示装置と同様であるため、ここでは図
６（Ａ）の液晶表示装置との相違点に着目して説明す
る。

【００６９】図６（Ａ）の液晶表示装置においては、対
向基板７１の外周が、シール部材７３よりも外側まで突
出していた。図７に示す第５の実施例の場合には、シー
ル部材７３の最外周の側面が対向基板７１の外周よりも
外側に位置している。すなわち、基板法線方向から見た
とき、対向基板７１の外周がシール部材７３に重なる。
第５の実施例による液晶表示装置は、対向基板７１をＴ
ＦＴ基板７０に貼り合わせた後、外周部近傍部分を切り
落とすことにより作製することができる。

【００７０】第５の実施例では、対向基板７１の外周部
がシール部材７３よりも外側に張り出していない。この
ため、物理的な力による剥がれを防止することができ
る。

【００７１】図８は、第６の実施例による液晶表示装置
の断面図を示す。ガラス基板上に形成した多結晶シリコ
ン膜を用いてＴＦＴを形成すると、アモルファスシリコ
ン膜を用いる場合に比べて電界効果移動度の高いＴＦＴ
を得ることができる。このため、液晶表示装置の駆動回
路を、ガラス基板上に形成することが可能になる。

【００７２】図８に示すように、ＴＦＴ基板７０の対向
面内に、画像表示領域８５と周辺回路領域８６が画定さ
れている。周辺回路領域８６は画像表示領域８５の外側
に配置されている。周辺回路領域８６上には、駆動回路
が形成されている。その他の構成は、図６（Ｄ）に示す
第４の実施例の変形例による液晶表示装置の構成と同様
である。

【００７３】周辺回路領域８６の上に、シール部材７３
及び補強部材８２が配置されている。シール部材７３及
び補強部材８２は、遮光性の材料で形成されている。対
向基板７１側からバックライトが照射される場合、シー
ル部材７３及び補強部材８２によりバックライトが遮ら
れ、周辺回路領域８６に入射しない。これにより、周辺
回路領域８６内に形成されたＴＦＴの、光照射に起因す
るオフ電流の増加を抑制することができる。

【００７４】図９（Ａ）は、第７の実施例による液晶表
示装置の断面図を示す。ＴＦＴ基板７０、対向基板７
１、シール部材７３、及び液晶材料７２が、図６（Ａ）
に示す第４の実施例の場合と同様に配置されている。

【００７５】ＴＦＴ基板７０の外周と対向基板７１の外
周とが揃っている部分（図９（Ａ）の左端）の、ＴＦＴ
基板７０の端面に、補強部材８８Ａが取り付けられてい
る。補強部材８８Ａは、ＴＦＴ基板７０の対向面よりも
上方に突出している。その上面の高さは、対向基板７１
の上面の高さに等しいか、またはこれよりも高い。

【００７６】ＴＦＴ基板７０の外周部が対向基板７１の
外周から張り出している部分（図９（Ａ）の右端）にお
いては、補強部材８８ＢがＴＦＴ基板７０の対向面上に
取り付けられている。対向面から補強部材８８Ｂの上面
までの高さは、対向基板７１の上面までの高さよりも高
いか、または等しい。補強部材８８Ａ及び８８Ｂの内側
の側面は、対向基板７１の端面に接するか、または近接
する。

【００７７】補強部材８８Ａ及び８８Ｂは、対向基板７
１の外周部を物理的な力から保護することができる程度
の剛性を有する材料、例えばゴム等で形成されている。
なお、補強部材８８Ａ及び８８Ｂは、対向基板７１の基
材層となる屈曲性膜の剛性よりも高い剛性を有する材料
で形成することが好ましい。補強部材８８Ａ及び８８Ｂ
が対向基板７１の外周近傍を保護するため、物理的な力
による対向基板７１の剥がれを防止することができる。

【００７８】図９（Ｂ）に示すように、補強部材８９Ａ
及び８９Ｂが対向基板７１の非対向面の外周近傍領域上
までを覆うようにしてもよい。さらに、ＴＦＴ基板７０
の非対向面の外周近傍領域上までを覆うようにしてもよ
い。このような構成とすることにより、保護効果をより
高めることができる。

【００７９】図１０（Ａ）は、第８の実施例による液晶
表示装置の平面図を示し、図１０（Ｂ）は、図１０
（Ａ）の一点鎖線Ｂ１０−Ｂ１０における断面図を示
す。

【００８０】図１０（Ａ）に示すように、対向基板７１
の外周がＴＦＴ基板７０の外周よりも内側に位置する。
対向基板７１の外周を取り囲むように、補強部材９０が
配置されている。補強部材９０は、図９（Ａ）に示す補
強部材８８Ａ及び８８Ｂと同様の材料で形成される。

【００８１】図１０（Ｂ）に示すように、対向基板７１
がシール部材７３によってＴＦＴ基板７０に接着されて
いる。補強部材９０は、ＴＦＴ基板７０の対向面上に接
着されている。ＴＦＴ基板７０の対向面から補強部材９
０の上面までの高さは、対向基板７１の上面までの高さ
と等しいか、これよりも高い。このため、物理的な力に
よる対向基板７１の剥がれを防止することができる。ま
た、補強部材９０が対向基板７１の外周を取り囲んでい
るため、対向基板７１の総ての縁が保護される。

【００８２】図１１は、第９の実施例による液晶表示装
置の断面図を示す。ＴＦＴ基板７０、対向基板７１、液
晶材料７２、シール部材７３、補強部材８２、偏光膜８
０及び８１の構成は、図６（Ａ）に示す第４の実施例の
場合と同様である。対向基板７１の非対向面に対向する
ようにバックライト９３が配置されている。これらの各
構成部分が、筐体９２内に収納されている。

【００８３】筐体９２に、ＴＦＴ基板７０にほぼ平行に
配置された窓９３が形成されている。窓９３を通して、
ＴＦＴ基板７０側から映像を見ることができる。剛性の
高いＴＦＴ基板７０を外側に配置することにより、外部
からの衝撃に対する耐性を高めることができる。

【００８４】図１２は、第１０の実施例による液晶表示
装置の断面図を示す。剛性の高いガラス基板１９と屈曲
性を有する屈曲性膜３０とが、相互にある間隔を隔てて
対向配置されている。ガラス基板１９の対向面上に複数
のＴＦＴ９４が形成されている。各ＴＦＴ９４に対応し
て、ガラス基板１９の対向面上にカラーフィルタ９５が
形成されている。カラーフィルタ９５の各々の上に、画
素電極３が形成されている。各画素電極３は、対応する
ＴＦＴ９４に接続されている。画素電極３を配向膜８が
覆う。屈曲性膜３０の対向面上に配向膜３２が形成され
ている。配向膜８と３２との間に、液晶材料７２が充填
されている。屈曲性膜の表面上にカラーフィルタを形成
することは困難であるため、このように、カラーフィル
タ９５を、剛性の高いガラス基板１９側に配置すること
が好ましい。

【００８５】図１３は、上記第１〜第１０の実施例で用
いた屈曲性膜上に透明導電膜及び配向膜を成膜するため
の成膜装置の概略図を示す。帯状の屈曲成膜１２０がロ
ール１００に巻きつけられている。ロール１００から繰
り出された屈曲成膜１２０が搬送路１０１上を搬送され
る。搬送路１０１に沿って、洗浄装置１０２、透明導電
膜成膜装置１０３、配向膜成膜装置１０８、加熱装置１
１１、及びラビング装置１１２が順番に配置されてい
る。

【００８６】洗浄装置１０２は、帯状屈曲成膜１２０を
洗浄する。透明導電膜成膜装置１０３は、原料供給ノズ
ル１０４及び複数のロール１０５を含んで構成される。
原料供給ノズル１０４から供給された原料が複数のロー
ル１０５により所望の膜状に成形され、帯状屈曲性膜１
２０の表面上に印刷される。

【００８７】配向膜成膜装置１０８も、透明導電膜成膜
装置１０３と同様に、原料供給ノズル１０９及び複数の
ロール１１０を含んで構成される。配向膜成膜装置１０
８により、透明導電膜の所定の領域上に配向膜が印刷さ
れる。成膜された配向膜は、加熱装置１１１によりキュ
アされる。ラビング装置１１２が配向膜をラビングす
る。ラビングされた後、帯状屈曲成膜１２０にＴＦＴ基
板１２１が接着される。ＴＦＴ基板１２１が接着された
後、帯状屈曲成膜１２０を、ＴＦＴ基板１２１との接着
部よりも外側で切断する。

【００８８】このように、帯状の屈曲性膜１２０を搬送
しながら、順次成膜を行うことにより、製造工程を簡略
化することができる。

【００８９】以上実施例に沿って本発明を説明したが、
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。

【００９０】

【発明の効果】上述のように、本発明によれば、屈曲性
膜の上に形成された透明導電膜の表面に接するように補
助配線が配置される。このため、透明導電膜の実効的な
シート抵抗を低減することができる。透明導電膜自体の
シート抵抗を比較的高く設定できるため、透明導電膜を
薄くすることが可能になる。透明導電膜を薄くすること
により、光透過率を向上させることができる。

【００９１】また、本発明によれば、面内スイッチング
モードの液晶表示装置の対向基板を屈曲性膜で構成す
る。この屈曲性膜上に透明導電膜を形成することによ
り、帯電を防止し、表示品質の向上を図ることができ
る。

【００９２】また、本発明によれば、液晶表示装置の一
方の基板を剛性の高い基板で構成し、他方を、屈曲性を
有する膜で構成する。この屈曲性を有する膜の外周部を
補強部材で補強することにより、物理的な力による剥が
れを防止することができる。また、屈曲性を有する膜が
積層構造を有する場合、その端面を補強部材で被覆する
ことにより、端面から各層の間に水分等が侵入すること
を防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１の実施例による液晶表示装置の平面図であ
る。

【図２】第１の実施例による液晶表示装置の断面図であ
る。

【図３】第１の実施例による液晶表示装置の補助配線の
他の構成例を示す平面図である。

【図４】第２の実施例による液晶表示装置の平面図及び
断面図である。

【図５】第３の実施例による液晶表示装置の断面図であ
る。

【図６】第４の実施例及びその変形例による液晶表示装
置の断面図である。

【図７】第５の実施例による液晶表示装置の断面図であ
る。

【図８】第６の実施例による液晶表示装置の断面図であ
る。

【図９】第７の実施例及びその変形例による液晶表示装
置の断面図である。

【図１０】第８の実施例による液晶表示装置の平面図及
び断面図である。

【図１１】第９の実施例による液晶表示装置の断面図で
ある。

【図１２】第１０の実施例による液晶表示装置の断面図
である。

【図１３】実施例による成膜装置の概略図である。

【符号の説明】

１ ゲートバスライン ２ ドレインバスライン ３ 画素電極 ４ ＴＦＴ ５ チャネル保護膜 ７ 補助配線 ８、３２ 配向膜 １９ ガラス基板 ２０ ゲート絶縁膜 ２１ 保護絶縁膜 ２２ コンタクトホール ３０ 屈曲性膜 ３１ 透明電極 ３５ 液晶材料 ４０ ゲートバスライン ４１ コモンバスライン ４２ ドレインバスライン ４５ 画素電極 ４６ コモン電極 ４７ ＴＦＴ ５０ ガラス基板 ５１ 保護絶縁膜 ５２、６１ 配向膜 ６０ 屈曲性膜 ６２ 透明導電膜 ７０ ＴＦＴ基板 ７１ 対向基板 ７２ 液晶材料 ７３ シール部材 ７４ 接着性スペーサ ８０、８１ 偏光膜 ８２ 補強部材 ８５ 画像表示領域 ８６ 周辺回路領域 ８８Ａ、８８Ｂ、８９Ａ、８９Ｂ、９０ 補強部材 ９２ 筐体 ９３ バックライト ９４ ＴＦＴ ９５ カラーフィルタ １００、１０５、１１０ ロール １０１ 搬送路 １０２ 洗浄装置 １０３ 透明導電膜成膜装置 １０４、１０９ 原料供給ノズル １０８ 配向膜成膜装置 １１１ 加熱装置 １１２ ラビング装置 １２０ 帯状屈曲性膜 １２１ ＴＦＴ基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小池 善郎 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番 １号 富士通株式会社内 Ｆターム(参考） 2H088 EA03 FA10 FA16 FA18 FA29 GA02 HA02 HA08 JA04 JA28 MA20 2H090 JB03 JC07 JC12 JC18 JD14 KA04 KA18 LA04 2H092 HA04 JA26 JA29 JA35 JA38 JA39 JA42 JA43 JA44 JB13 JB23 JB27 JB32 JB33 JB36 JB38 JB52 JB56 JB63 JB68 KA05 KA07 KA12 KA16 KA18 KB14 MA05 MA08 MA14 MA15 MA16 MA18 MA19 MA20 MA27 MA37 MA41 NA01 NA17 NA25 NA28 PA06 PA08 PA09 QA06

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 主表面を有する剛性基板と、 前記剛性基板の主表面上に形成され、第１の方向に延在
   する複数の第１のバスラインと、 前記剛性基板の主表面上に形成され、前記第１の方向と
   交差する第２の方向に延在する複数の第２のバスライン
   と、 前記剛性基板の主表面上に、前記第１のバスラインと第
   ２のバスラインとの交差個所に対応して設けられた画素
   電極と、 前記剛性基板の主表面上に設けられ、前記画素電極と、
   それに対応する前記第１のバスラインとを接続し、当該
   画素電極に対応する前記第２のバスラインに印可される
   信号によって導通状態を制御されるスイッチング素子
   と、 前記剛性基板の主表面に対向し、該剛性基板からある間
   隔を隔てて配置された屈曲性を有する屈曲性膜と、 前記屈曲性膜の、前記剛性基板に対向する対向面上に形
   成された透明材料からなる共通電極と、 前記剛性基板と前記屈曲性膜との間に充填され、前記画
   素電極と前記共通電極との間に発生する基板法線方向の
   電界成分によって液晶分子の向きを変化させる液晶材料
   と、 前記共通電極の表面に接するように配置され、該共通電
   極の抵抗率よりも低い抵抗率を有する導電材料で形成さ
   れた補助配線とを有する液晶表示装置。
2. 【請求項２】 前記補助配線が、前記共通電極の全面に
   網目状もしくは縞状に配置されている請求項１に記載の
   液晶表示装置。
3. 【請求項３】 前記剛性基板の法線方向から見たとき、
   前記補助配線が前記第１及び第２のバスラインに重なる
   ように配置されている請求項２に記載の液晶表示装置。
4. 【請求項４】 主表面を有する剛性基板と、 前記剛性基板の主表面上に形成され、第１の方向に延在
   する複数の第１のバスラインと、 前記剛性基板の主表面上に形成され、前記第１の方向と
   交差する第２の方向に延在する複数の第２のバスライン
   と、 前記剛性基板の主表面上に、前記第１のバスラインと第
   ２のバスラインとの交差個所に対応して設けられた画素
   電極と、 前記剛性基板の主表面上に設けられ、前記画素電極と、
   それに対応する前記第１のバスラインとを接続し、当該
   画素電極に対応する前記第２のバスラインに印可される
   信号によって導通状態を制御されるスイッチング素子
   と、 前記剛性基板の主表面上に設けられ、前記主表面の面内
   方向に関して前記画素電極からある間隔を隔てて配置さ
   れた対向電極と、 前記対向電極に対向電圧を印可する第３のバスライン
   と、 前記剛性基板の主表面に対向し、該剛性基板からある間
   隔を隔てて配置された屈曲性を有する屈曲性膜と、 前記屈曲性膜の表面上に形成された透明導電膜と、 前記剛性基板と前記屈曲性膜との間に充填され、前記画
   素電極と前記対向電極との間に発生する面内方向の電界
   成分によって液晶分子の向きを変化させる液晶材料とを
   有する液晶表示装置。
5. 【請求項５】 さらに、前記屈曲性膜の外側の面上に設
   けられた偏光膜を有し、 前記透明導電膜が、前記偏光膜を前記屈曲性膜に接着さ
   せる接着剤層を兼ねる請求項４に記載の液晶表示装置。
6. 【請求項６】 主表面を有する剛性基板と、 前記剛性基板の主表面に対向し、該主表面からある間隔
   を隔てて配置され、屈曲性を有する屈曲性膜と、 面内方向に分布する複数の画素を画定し、前記屈曲性膜
   と前記剛性基板との間の空間に、画素単位で電界を発生
   させる電極と、 前記屈曲性膜を、その外周部において前記剛性基板に接
   着し、前記屈曲性膜と剛性基板との間に閉じた間隙を形
   成するシール部材と、 前記間隙内に充填された液晶材料と、 前記シール部材よりも外側に配置され、前記屈曲性膜の
   端面を覆い、前記剛性基板の表面まで達する補強部材と
   を有する液晶表示装置。
7. 【請求項７】 前記補強部材が、前記屈曲性膜の非対向
   面の外周近傍領域をも覆う請求項６に記載の液晶表示装
   置。
8. 【請求項８】 さらに、前記屈曲性膜の非対向面上に配
   置された偏光膜を有し、 前記補強部材が、前記偏光膜の表面のうち外周近傍領域
   を覆う請求項６に記載の液晶表示装置。
9. 【請求項９】 さらに、前記屈曲性膜の対向面上に形成
   された透明電極膜であって、前記シール部材と前記屈曲
   性膜とが該透明電極膜を介して接着されている前記透明
   電極膜を有する請求項６〜８のいずれかに記載の液晶表
   示装置。
10. 【請求項１０】 さらに、前記屈曲性膜の非対向面上に
    配置された偏光膜を有し、 基板法線方向から見たとき、前記偏光膜の外周が前記剛
    性基板の外周よりも内側に位置し、前記屈曲性膜の外周
    が前記偏光膜の外周よりも内側に位置し、前記補強部材
    が、前記屈曲性膜の外周及び前記シール部材よりも外側
    の領域において、前記偏光膜の表面から前記屈曲性膜の
    端面及び前記シール部材の側面を経由して前記剛性基板
    の表面までを覆う請求項６に記載の液晶表示装置。
11. 【請求項１１】 さらに、前記剛性基板の主表面の、前
    記シール部材の配置された領域よりも外側の領域上に形
    成された駆動回路を有し、 前記補強部材が、遮光性材料で形成され、前記駆動回路
    の形成された領域を覆う請求項６に記載の液晶表示装
    置。
12. 【請求項１２】 主表面を有する剛性基板と、 前記剛性基板の主表面に対向し、該主表面からある間隔
    を隔てて配置され、屈曲性を有する屈曲性膜であって、
    基板法線方向から見たとき、該屈曲性膜の外周が前記剛
    性基板の外周よりも内側に位置する前記屈曲性膜と、 面内に分布する複数の画素を画定し、前記屈曲性膜と前
    記剛性基板との間の空間に、画素単位で電界を発生させ
    る電極と、 前記屈曲性膜を、その外周部において前記剛性基板に接
    着し、前記屈曲性膜と剛性基板との間に閉じた間隙を形
    成するシール部材と、 前記間隙内に充填された液晶材料と、 前記シール部材及び前記屈曲性膜の外周よりもさらに外
    側に配置され、前記剛性基板に固定された補強部材であ
    って、前記剛性基板の主表面から該補強部材の上面まで
    の高さが、前記剛性基板の主表面から前記屈曲性基板の
    上面までの高さよりも高い前記補強部材とを有する液晶
    表示装置。
13. 【請求項１３】 前記補強部材の剛性が、前記屈曲性膜
    の剛性よりも高い請求項１２に記載の液晶表示装置。
14. 【請求項１４】 ロールから繰り出された屈曲性膜を搬
    送する搬送路と、 前記搬送路を搬送される屈曲性膜の表面上に透明導電膜
    を成膜する第１の成膜手段と、 前記搬送路を搬送される屈曲性膜上に形成された透明導
    電膜上に、配向膜を成膜する第２の成膜手段とを有する
    成膜装置。
15. 【請求項１５】 ロールに巻かれた帯状屈曲性膜を繰り
    出す工程と、 前記ロールから繰り出された帯状屈曲性膜の表面上に透
    明導電膜を形成する工程と、 前記透明導電膜の形成された帯状屈曲性膜に、前記透明
    導電膜に対向するように、アクティブマトリクス基板
    を、該屈曲性膜と該アクティブマトリクス基板との間に
    間隙を画定するように接着する工程と、 前記アクティブマトリクス基板の接着された帯状屈曲性
    膜を、該アクティブマトリクス基板との接着部よりも外
    側で切断する工程とを有する液晶表示装置の製造方法。