JP2000191787A - 官能化されたシロキサンの製造方法、そのようなシロキサンを含有する組成物、およびそれから得られる物品 - Google Patents
官能化されたシロキサンの製造方法、そのようなシロキサンを含有する組成物、およびそれから得られる物品Info
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- C08G77/12—Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 分枝した水素化シリル官能性オルガノポリシ
ロキサンの製造方法。 【解決手段】 この方法はスルホン酸含有化合物および
ホスホニトリル化合物の中から選択された触媒の存在下
で、分子あたり少なくとも１個の四官能性ケイ素原子を
含む第一のケイ素含有化合物と、分子あたり少なくとも
１個の単官能性ケイ素原子を含む第二のケイ素含有化合
物と、分子あたり少なくとも１個の三官能性ケイ素原子
を含む第三のケイ素含有化合物とを接触させる行程を含
んでいる。ここで、前記第二のケイ素含有化合物と第三
のケイ素含有化合物の少なくとも１つは、さらに、その
化合物の単官能性ケイ素原子または三官能性ケイ素原子
にそれぞれ共有結合している水素原子を含んでいる。
ロキサンの製造方法。 【解決手段】 この方法はスルホン酸含有化合物および
ホスホニトリル化合物の中から選択された触媒の存在下
で、分子あたり少なくとも１個の四官能性ケイ素原子を
含む第一のケイ素含有化合物と、分子あたり少なくとも
１個の単官能性ケイ素原子を含む第二のケイ素含有化合
物と、分子あたり少なくとも１個の三官能性ケイ素原子
を含む第三のケイ素含有化合物とを接触させる行程を含
んでいる。ここで、前記第二のケイ素含有化合物と第三
のケイ素含有化合物の少なくとも１つは、さらに、その
化合物の単官能性ケイ素原子または三官能性ケイ素原子
にそれぞれ共有結合している水素原子を含んでいる。
Description
本発明は、ポリオルガノシロキサンポリマーの調製に係
り、特に分枝した水素化シリル官能性ポリオルガノシロ
キサンポリマーの調製に係る。
り、特に分枝した水素化シリル官能性ポリオルガノシロ
キサンポリマーの調製に係る。
【０００１】
【関連技術の簡単な説明】米国特許第４，８５５，３８
１号には、水素原子または一価の炭化水素基で置換され
た少なくとも１個の単官能性シロキサン単位を有するオ
リゴマー性オルガノポリシロキサンを、スルホン酸含有
化合物またはホスホニトリル化合物の存在下でアルキル
オルトシリケートと反応させることによって、オルガノ
ポリシロキサンを調製する方法が開示されている。
１号には、水素原子または一価の炭化水素基で置換され
た少なくとも１個の単官能性シロキサン単位を有するオ
リゴマー性オルガノポリシロキサンを、スルホン酸含有
化合物またはホスホニトリル化合物の存在下でアルキル
オルトシリケートと反応させることによって、オルガノ
ポリシロキサンを調製する方法が開示されている。
【０００２】
【発明の要約】第一の局面において、本発明は、水と、
スルホン酸含有化合物およびホスホニトリル化合物の中
から選択される触媒との存在下で、（ｉ）分子あたり少
なくとも１個の四官能性ケイ素原子を含む第一のケイ素
含有化合物と、（ii）分子あたり少なくとも１個の単官
能性ケイ素原子を含む第二のケイ素含有化合物と、（ii
i）分子あたり少なくとも１個の三官能性ケイ素原子を
含む第三のケイ素含有化合物とを接触させることを含ん
でおり、第二のケイ素含有化合物および第三のケイ素含
有化合物の少なくとも１つは、さらに、その化合物の単
官能性ケイ素原子または三官能性ケイ素原子にそれぞれ
共有結合している水素原子を含んでいることを特徴とす
る、分枝した水素化シリル官能性オルガノポリシロキサ
ンポリマーの製造方法に関する。
スルホン酸含有化合物およびホスホニトリル化合物の中
から選択される触媒との存在下で、（ｉ）分子あたり少
なくとも１個の四官能性ケイ素原子を含む第一のケイ素
含有化合物と、（ii）分子あたり少なくとも１個の単官
能性ケイ素原子を含む第二のケイ素含有化合物と、（ii
i）分子あたり少なくとも１個の三官能性ケイ素原子を
含む第三のケイ素含有化合物とを接触させることを含ん
でおり、第二のケイ素含有化合物および第三のケイ素含
有化合物の少なくとも１つは、さらに、その化合物の単
官能性ケイ素原子または三官能性ケイ素原子にそれぞれ
共有結合している水素原子を含んでいることを特徴とす
る、分枝した水素化シリル官能性オルガノポリシロキサ
ンポリマーの製造方法に関する。
【０００３】第二の局面において、本発明は、分枝した
エポキシ官能性オルガノポリシロキサンポリマーの製造
方法であって、（１）上記記載の方法により分枝した水
素化シリル官能性オルガノポリシロキサンポリマーを形
成し、（２）この分枝した水素化シリル官能性オルガノ
ポリシロキサンポリマーを、分子あたり少なくとも１個
の不飽和部位を含有するエポキシ官能性化合物と反応さ
せて、分枝したエポキシ官能性オルガノポリシロキサン
ポリマーを形成することを含んでなる方法に関する。
エポキシ官能性オルガノポリシロキサンポリマーの製造
方法であって、（１）上記記載の方法により分枝した水
素化シリル官能性オルガノポリシロキサンポリマーを形
成し、（２）この分枝した水素化シリル官能性オルガノ
ポリシロキサンポリマーを、分子あたり少なくとも１個
の不飽和部位を含有するエポキシ官能性化合物と反応さ
せて、分枝したエポキシ官能性オルガノポリシロキサン
ポリマーを形成することを含んでなる方法に関する。
【０００４】第三の局面において、本発明は、上記記載
の方法により製造した分枝したエポキシ官能性オルガノ
ポリシロキサンポリマーと、有効量の光触媒とを含有す
る放射線硬化性エポキシシリコーン組成物に関する。
の方法により製造した分枝したエポキシ官能性オルガノ
ポリシロキサンポリマーと、有効量の光触媒とを含有す
る放射線硬化性エポキシシリコーン組成物に関する。
【０００５】さらに別の局面において、本発明は、基体
と、この基体上に支持された上記放射線硬化性エポキシ
シリコーン組成物の硬化した層とを含む積層体に関す
る。
と、この基体上に支持された上記放射線硬化性エポキシ
シリコーン組成物の硬化した層とを含む積層体に関す
る。
【０００６】
【発明の詳細な記述】本明細書中で、ケイ素原子の官能
性はケイ素原子に共有結合した酸素原子の数に対応して
いる。すなわち、「単官能性」ケイ素原子は単一のＳｉ
−Ｏ結合を介してケイ素原子に共有結合した酸素原子を
１個有するものであり、「二官能性」ケイ素原子は単一
のＳｉ−Ｏ結合を介してそれぞれケイ素原子に共有結合
した酸素原子を２個有するものであり、「三官能性」ケ
イ素原子は単一のＳｉ−Ｏ結合を介してそれぞれケイ素
原子に共有結合した酸素原子を３個有するものであり、
「四官能性」ケイ素原子は単一のＳｉ−Ｏ結合を介して
それぞれケイ素原子に共有結合した酸素原子を４個有す
るものである。
性はケイ素原子に共有結合した酸素原子の数に対応して
いる。すなわち、「単官能性」ケイ素原子は単一のＳｉ
−Ｏ結合を介してケイ素原子に共有結合した酸素原子を
１個有するものであり、「二官能性」ケイ素原子は単一
のＳｉ−Ｏ結合を介してそれぞれケイ素原子に共有結合
した酸素原子を２個有するものであり、「三官能性」ケ
イ素原子は単一のＳｉ−Ｏ結合を介してそれぞれケイ素
原子に共有結合した酸素原子を３個有するものであり、
「四官能性」ケイ素原子は単一のＳｉ−Ｏ結合を介して
それぞれケイ素原子に共有結合した酸素原子を４個有す
るものである。
【０００７】好ましくは、単官能性ケイ素原子はまた単
一のＳｉ−Ｃ結合またはＳｉ−Ｈ結合を介してそれぞれ
ケイ素原子に共有結合した一価の置換基を３個有してお
り、二官能性ケイ素原子はまた単一のＳｉ−Ｃ結合また
はＳｉ−Ｈ結合を介してそれぞれケイ素原子に共有結合
した一価の置換基を２個有しており、三官能性ケイ素含
有分子部分はまた単一のＳｉ−Ｃ結合またはＳｉ−Ｈ結
合を介してケイ素原子に共有結合した一価の置換基を１
個有している。適切な一価の置換基としては、Ｈおよび
たとえば一価の炭化水素基のような一価の有機置換基が
ある。
一のＳｉ−Ｃ結合またはＳｉ−Ｈ結合を介してそれぞれ
ケイ素原子に共有結合した一価の置換基を３個有してお
り、二官能性ケイ素原子はまた単一のＳｉ−Ｃ結合また
はＳｉ−Ｈ結合を介してそれぞれケイ素原子に共有結合
した一価の置換基を２個有しており、三官能性ケイ素含
有分子部分はまた単一のＳｉ−Ｃ結合またはＳｉ−Ｈ結
合を介してケイ素原子に共有結合した一価の置換基を１
個有している。適切な一価の置換基としては、Ｈおよび
たとえば一価の炭化水素基のような一価の有機置換基が
ある。
【０００８】本発明の第一のケイ素含有化合物として適
している化合物としては、たとえば、「Ｑ」構造単位、
すなわち式（Ｉ） ＳｉＯ4/2 （Ｉ） の構造単位を有するオルガノシリケート、ポリオルガノ
シロキサンオリゴマーおよびポリオルガノシロキサンポ
リマーのような化合物がある。
している化合物としては、たとえば、「Ｑ」構造単位、
すなわち式（Ｉ） ＳｉＯ4/2 （Ｉ） の構造単位を有するオルガノシリケート、ポリオルガノ
シロキサンオリゴマーおよびポリオルガノシロキサンポ
リマーのような化合物がある。
【０００９】好ましい態様においては、この第一のケイ
素含有化合物は、次の構造式（II） Ｒ1 4Ｓｉ （II） （式中、各Ｒ1はそれぞれ独立してアルコキシ、好まし
くは（Ｃ1−Ｃ8）アルコキシ、さらに好ましくは（Ｃ2
−Ｃ6）アルコキシ、最も好ましくはエトキシである）
のオルガノシリケートおよびこのようなオルガノシリケ
ートの部分水解物の１種以上からなる。
素含有化合物は、次の構造式（II） Ｒ1 4Ｓｉ （II） （式中、各Ｒ1はそれぞれ独立してアルコキシ、好まし
くは（Ｃ1−Ｃ8）アルコキシ、さらに好ましくは（Ｃ2
−Ｃ6）アルコキシ、最も好ましくはエトキシである）
のオルガノシリケートおよびこのようなオルガノシリケ
ートの部分水解物の１種以上からなる。
【００１０】適切なオルトシリケート化合物としては、
たとえばテトラメチルオルトシリケート、テトラエチル
オルトシリケート、ポリ（エチルオルトシリケート）、
テトラプロピルオルトシリケート、およびポリ（プロピ
ルオルトシリケート）、ならびにこれらの部分加水分解
生成物の１種以上がある。
たとえばテトラメチルオルトシリケート、テトラエチル
オルトシリケート、ポリ（エチルオルトシリケート）、
テトラプロピルオルトシリケート、およびポリ（プロピ
ルオルトシリケート）、ならびにこれらの部分加水分解
生成物の１種以上がある。
【００１１】極めて好ましい態様においては、第一のケ
イ素含有化合物は部分水解したエチルオルトシリケート
からなる。
イ素含有化合物は部分水解したエチルオルトシリケート
からなる。
【００１２】本発明の第二のケイ素含有化合物として適
している化合物としては、たとえば、「Ｍ」構造単位、
すなわち式（III） Ｒ2 3ＳｉＯ1/2 （III） （式中、各Ｒ2はそれぞれ独立してＨまたは一価の炭化
水素基である）の構造単位を有するポリオルガノシロキ
サンオリゴマーおよびポリオルガノシロキサンポリマー
のような化合物がある。
している化合物としては、たとえば、「Ｍ」構造単位、
すなわち式（III） Ｒ2 3ＳｉＯ1/2 （III） （式中、各Ｒ2はそれぞれ独立してＨまたは一価の炭化
水素基である）の構造単位を有するポリオルガノシロキ
サンオリゴマーおよびポリオルガノシロキサンポリマー
のような化合物がある。
【００１３】好ましい態様においては、この第二のケイ
素含有化合物は、分子あたり２個以上、好ましくは２〜
８個、さらに好ましくは２〜４個、最も好ましくは２個
の構造式（III）（式中、Ｒ2はＨまたは一価の炭化水素
基である）の単官能性オルガノシロキサン単位を含む１
種以上のオルガノシロキサンオリゴマーからなる。
素含有化合物は、分子あたり２個以上、好ましくは２〜
８個、さらに好ましくは２〜４個、最も好ましくは２個
の構造式（III）（式中、Ｒ2はＨまたは一価の炭化水素
基である）の単官能性オルガノシロキサン単位を含む１
種以上のオルガノシロキサンオリゴマーからなる。
【００１４】本明細書で使用する「一価の炭化水素基」
という用語には、一価の非環式炭化水素基、一価の脂環
式炭化水素基および一価の芳香族炭化水素基が包含され
る。
という用語には、一価の非環式炭化水素基、一価の脂環
式炭化水素基および一価の芳香族炭化水素基が包含され
る。
【００１５】本明細書で使用する「非環式炭化水素」と
いう用語は、直鎖または分枝の炭化水素基を意味し、好
ましくは基あたり２〜２０個の炭素原子を含有してお
り、飽和でも不飽和でもよく、場合によってはカルボキ
シル、シアノ、ヒドロキシ、ハロ、メルカプト、オキシ
のような１個以上のヘテロ原子または官能基で置換また
は中断されていてもよい。適した一価の非環式炭化水素
基としては、たとえば、アルキル、アルケニル、アルキ
ニル、アルコキシアルキル、ヒドロキシアルキル、シア
ノアルキル、カルボキシアルキル、ハロアルキル、たと
えば、メチル、エチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブ
チル、オクチル、デシル、ドデシル、セチル、ステアリ
ル、エテニル、プロペニル、ブチニル、ヒドロキシプロ
ピル、シアノエチル、カルボキシメチル、クロロメチル
および３，３，３−フルオロプロピルがある。
いう用語は、直鎖または分枝の炭化水素基を意味し、好
ましくは基あたり２〜２０個の炭素原子を含有してお
り、飽和でも不飽和でもよく、場合によってはカルボキ
シル、シアノ、ヒドロキシ、ハロ、メルカプト、オキシ
のような１個以上のヘテロ原子または官能基で置換また
は中断されていてもよい。適した一価の非環式炭化水素
基としては、たとえば、アルキル、アルケニル、アルキ
ニル、アルコキシアルキル、ヒドロキシアルキル、シア
ノアルキル、カルボキシアルキル、ハロアルキル、たと
えば、メチル、エチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブ
チル、オクチル、デシル、ドデシル、セチル、ステアリ
ル、エテニル、プロペニル、ブチニル、ヒドロキシプロ
ピル、シアノエチル、カルボキシメチル、クロロメチル
および３，３，３−フルオロプロピルがある。
【００１６】本明細書で使用する「脂環式炭化水素基」
という用語は、基あたり１個以上の飽和炭化水素環を含
有し、好ましくは環あたり４〜１０個の炭素原子を含有
する基を意味しており、場合によっては１個以上の環が
１個以上の、好ましくは基あたり２〜６個の炭素原子を
含有するアルキルまたはアルキレン基またはその他の官
能基で置換されていてもよく、２個以上の環がある場合
には縮合環であってもよい。適切な一価の脂環式炭化水
素基としては、たとえばシクロヘキシルおよびシクロオ
クチルがある。
という用語は、基あたり１個以上の飽和炭化水素環を含
有し、好ましくは環あたり４〜１０個の炭素原子を含有
する基を意味しており、場合によっては１個以上の環が
１個以上の、好ましくは基あたり２〜６個の炭素原子を
含有するアルキルまたはアルキレン基またはその他の官
能基で置換されていてもよく、２個以上の環がある場合
には縮合環であってもよい。適切な一価の脂環式炭化水
素基としては、たとえばシクロヘキシルおよびシクロオ
クチルがある。
【００１７】本明細書で使用する「芳香族炭化水素基」
という用語は、基あたり１個以上の芳香族環を含有する
炭化水素基を意味し、その１個以上の芳香族環が１個以
上の、好ましくは基あたり２〜６個の炭素原子を含有す
るアルキルまたはアルキレン基またはその他の官能基で
置換されていてもよく、２個以上の環がある場合には縮
合環であってもよい。適した一価の芳香族炭化水素基と
しては、たとえば、フェニル、トリル、２，４，６−ト
リメチルフェニル、１，２−イソプロピルメチルフェニ
ル、１−ペンタレニル、ナフチル、アントリル、フェニ
ルエチルおよび２−（１−ナフチル）エチルがある。
という用語は、基あたり１個以上の芳香族環を含有する
炭化水素基を意味し、その１個以上の芳香族環が１個以
上の、好ましくは基あたり２〜６個の炭素原子を含有す
るアルキルまたはアルキレン基またはその他の官能基で
置換されていてもよく、２個以上の環がある場合には縮
合環であってもよい。適した一価の芳香族炭化水素基と
しては、たとえば、フェニル、トリル、２，４，６−ト
リメチルフェニル、１，２−イソプロピルメチルフェニ
ル、１−ペンタレニル、ナフチル、アントリル、フェニ
ルエチルおよび２−（１−ナフチル）エチルがある。
【００１８】好ましい態様においては各Ｒ2はそれぞれ
独立してアルキル、好ましくは（Ｃ1−Ｃ6）アルキル、
またはＨである。
独立してアルキル、好ましくは（Ｃ1−Ｃ6）アルキル、
またはＨである。
【００１９】極めて好ましい態様においては、第二のケ
イ素含有化合物は、たとえば、「Ｍ H」構造単位、すな
わち式（IV） ＨＲ2' 2ＳｉＯ1/2 （IV） （式中、各Ｒ2'はそれぞれ独立して一価の炭化水素基で
ある）の構造単位を有するポリオルガノシロキサンオリ
ゴマーおよびポリオルガノシロキサンポリマーのような
１種以上の化合物からなる。
イ素含有化合物は、たとえば、「Ｍ H」構造単位、すな
わち式（IV） ＨＲ2' 2ＳｉＯ1/2 （IV） （式中、各Ｒ2'はそれぞれ独立して一価の炭化水素基で
ある）の構造単位を有するポリオルガノシロキサンオリ
ゴマーおよびポリオルガノシロキサンポリマーのような
１種以上の化合物からなる。
【００２０】適したオルガノシロキサンオリゴマーとし
ては、たとえば、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエ
チルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オク
タメチルシクロテトラシロキサン、テトラメチルジシロ
キサン、ペンタメチルジシロキサン、ヘプタメチルトリ
シロキサン、ジビニルテトラメチルジシロキサンがあ
る。
ては、たとえば、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエ
チルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オク
タメチルシクロテトラシロキサン、テトラメチルジシロ
キサン、ペンタメチルジシロキサン、ヘプタメチルトリ
シロキサン、ジビニルテトラメチルジシロキサンがあ
る。
【００２１】好ましい態様においては、第二のケイ素含
有化合物は、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサ
ン、さらに好ましくは１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサンとヘキサメチルジシロキサンの混合物からな
る。
有化合物は、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサ
ン、さらに好ましくは１，１，３，３−テトラメチルジ
シロキサンとヘキサメチルジシロキサンの混合物からな
る。
【００２２】第三のケイ素含有化合物として適した化合
物としては、たとえば、「Ｔ」構造単位、すなわち式
（Ｖ） Ｒ3ＳｉＯ3/2 （Ｖ） （式中、Ｒ3はＨまたは一価の炭化水素基である）の構
造単位を含むシラン、ポリオルガノシロキサンオリゴマ
ーおよびポリオルガノシロキサンポリマーのような化合
物がある。
物としては、たとえば、「Ｔ」構造単位、すなわち式
（Ｖ） Ｒ3ＳｉＯ3/2 （Ｖ） （式中、Ｒ3はＨまたは一価の炭化水素基である）の構
造単位を含むシラン、ポリオルガノシロキサンオリゴマ
ーおよびポリオルガノシロキサンポリマーのような化合
物がある。
【００２３】好ましい態様においては、第三のケイ素含
有化合物が、構造式（VI） Ｒ4ＳｉＲ5 3 （VI） （式中、Ｒ4はＨまたは一価の炭化水素基であり、各Ｒ5
はそれぞれ独立してヒドロキシまたはアルコキシであ
る）の１種以上のシランからなる。
有化合物が、構造式（VI） Ｒ4ＳｉＲ5 3 （VI） （式中、Ｒ4はＨまたは一価の炭化水素基であり、各Ｒ5
はそれぞれ独立してヒドロキシまたはアルコキシであ
る）の１種以上のシランからなる。
【００２４】好ましい態様においては、Ｒ4はアルキ
ル、好ましくは（Ｃ1−Ｃ6）アルキル、またはＨであ
る。さらに極めて好ましい態様においては、Ｒ4は（Ｃ1
−Ｃ6）アルキルである。
ル、好ましくは（Ｃ1−Ｃ6）アルキル、またはＨであ
る。さらに極めて好ましい態様においては、Ｒ4は（Ｃ1
−Ｃ6）アルキルである。
【００２５】好ましい態様においては、Ｒ5はアルコキ
シ、好ましくは（Ｃ1−Ｃ8）アルコキシ、さらに好まし
くは（Ｃ2−Ｃ6）アルコキシ、最も好ましくはエトキシ
である。
シ、好ましくは（Ｃ1−Ｃ8）アルコキシ、さらに好まし
くは（Ｃ2−Ｃ6）アルコキシ、最も好ましくはエトキシ
である。
【００２６】適切なシランとしては、たとえば、メチル
トリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチ
ルトリメトキシシランおよびエチルトリエトキシシラン
がある。
トリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチ
ルトリメトキシシランおよびエチルトリエトキシシラン
がある。
【００２７】第一、第二および第三のケイ素含有化合物
は各々が異なる化合物であってもよいし、あるいは、１
個以上の単官能性、三官能性および四官能性のケイ素原
子が単一の分子中に含まれていてもよい。さらに場合に
よっては、二官能性のケイ素分子部分、すなわち構造式
（VII） Ｒ6 2ＳｉＯ2/2 （VII） （式中、各Ｒ6はそれぞれ独立してＨまたは一価の炭化
水素基である）の「Ｄ」単位が、第一、第二および第三
のケイ素含有化合物のいずれかに含まれていてもよい。
たとえば、第一と第二のケイ素含有化合物がたとえばＭ
Ｑポリオルガノシロキサンオリゴマーのような同一の化
合物であってもよいし、あるいは、第二と第三のケイ素
含有化合物がたとえばＭＴまたはＭＤＴポリオルガノシ
ロキサンオリゴマーのような同一の化合物であってもよ
い。
は各々が異なる化合物であってもよいし、あるいは、１
個以上の単官能性、三官能性および四官能性のケイ素原
子が単一の分子中に含まれていてもよい。さらに場合に
よっては、二官能性のケイ素分子部分、すなわち構造式
（VII） Ｒ6 2ＳｉＯ2/2 （VII） （式中、各Ｒ6はそれぞれ独立してＨまたは一価の炭化
水素基である）の「Ｄ」単位が、第一、第二および第三
のケイ素含有化合物のいずれかに含まれていてもよい。
たとえば、第一と第二のケイ素含有化合物がたとえばＭ
Ｑポリオルガノシロキサンオリゴマーのような同一の化
合物であってもよいし、あるいは、第二と第三のケイ素
含有化合物がたとえばＭＴまたはＭＤＴポリオルガノシ
ロキサンオリゴマーのような同一の化合物であってもよ
い。
【００２８】極めて好ましい態様においては、第三のケ
イ素含有化合物はメチルトリメトキシシランまたはメチ
ルトリエトキシシランからなる。
イ素含有化合物はメチルトリメトキシシランまたはメチ
ルトリエトキシシランからなる。
【００２９】適切なスルホン酸含有化合物としては、た
とえば、硫酸、亜硫酸、発煙硫酸、ｐ−トルエンスルホ
ン酸、酸性粘土、トリフルオロメタンスルホン酸、硫化
水素ナトリウム、たとえばイー・アイ・デュポン・ドゥ
・ヌムール社(E.I.du Pont de Nemours & Co.)から入手
できるナフィオン(NAFIONTM)樹脂およびローム・アンド
・ハース社(Rohm and Haas Company)から入手できるア
ンバーリスト(AMBERLYSTTM)樹脂のようなスルホン酸基
含有固体酸触媒がある。適したホスホニトリル化合物と
しては、たとえば鎖状塩化ホスホニトリル（窒化塩化
燐）がある。
とえば、硫酸、亜硫酸、発煙硫酸、ｐ−トルエンスルホ
ン酸、酸性粘土、トリフルオロメタンスルホン酸、硫化
水素ナトリウム、たとえばイー・アイ・デュポン・ドゥ
・ヌムール社(E.I.du Pont de Nemours & Co.)から入手
できるナフィオン(NAFIONTM)樹脂およびローム・アンド
・ハース社(Rohm and Haas Company)から入手できるア
ンバーリスト(AMBERLYSTTM)樹脂のようなスルホン酸基
含有固体酸触媒がある。適したホスホニトリル化合物と
しては、たとえば鎖状塩化ホスホニトリル（窒化塩化
燐）がある。
【００３０】好ましい態様においては、触媒はｐ−トル
エンスルホン酸およびトリフルオロメタンスルホン酸の
中から選択されたスルホン酸含有化合物からなる。
エンスルホン酸およびトリフルオロメタンスルホン酸の
中から選択されたスルホン酸含有化合物からなる。
【００３１】好ましい態様においては、反応体と触媒を
水と１種以上の有機液体との混合物中で接触させる。適
切な有機液体としては、たとえば、たとえばヘキサン、
イソデカン、ドデカンのようなアルカン、たとえばトル
エンのような芳香族溶媒、たとえばメタノール、エタノ
ール、イソプロパノールのようなアルコール、たとえば
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ンのようなケトン、および、たとえばメチレンクロライ
ドのようなハロゲン化溶媒がある。好ましい態様におい
ては、反応を水と１種以上のアルカンとの混合物中で行
う。
水と１種以上の有機液体との混合物中で接触させる。適
切な有機液体としては、たとえば、たとえばヘキサン、
イソデカン、ドデカンのようなアルカン、たとえばトル
エンのような芳香族溶媒、たとえばメタノール、エタノ
ール、イソプロパノールのようなアルコール、たとえば
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ンのようなケトン、および、たとえばメチレンクロライ
ドのようなハロゲン化溶媒がある。好ましい態様におい
ては、反応を水と１種以上のアルカンとの混合物中で行
う。
【００３２】好ましい態様においては、反応混合物は、
少なくともこの反応混合物中のさまざまなケイ素含有反
応体化合物のＳｉＯＨ結合とＳｉＯＣ結合を加水分解す
るのに必要とされる化学量論量の水を含有し、そのよう
な結合を加水分解するのに必要とされる化学量論量を超
える量の水を含有するとさらに好ましい。
少なくともこの反応混合物中のさまざまなケイ素含有反
応体化合物のＳｉＯＨ結合とＳｉＯＣ結合を加水分解す
るのに必要とされる化学量論量の水を含有し、そのよう
な結合を加水分解するのに必要とされる化学量論量を超
える量の水を含有するとさらに好ましい。
【００３３】好ましい態様においては、反応は、０〜１
００℃、さらに好ましくは１０〜７０℃の範囲の温度で
実施する。
００℃、さらに好ましくは１０〜７０℃の範囲の温度で
実施する。
【００３４】好ましい態様においては、ケイ素含有化合
物の合計量１００重量部（ｐｂｗ）あたり０．１〜２．
０ｐｂｗの触媒の存在下で反応を実施する。
物の合計量１００重量部（ｐｂｗ）あたり０．１〜２．
０ｐｂｗの触媒の存在下で反応を実施する。
【００３５】分枝したポリオルガノシロキサン中のＭ単
位、Ｄ単位、Ｔ単位およびＱ単位のモル比は反応混合物
中のモル比に対応し、分枝したポリオルガノシロキサン
生成物中に望ましいモル比のＭ単位、Ｄ単位、Ｔ単位お
よびＱ単位が得られるように、オルガノシリケート、オ
ルガノポリシロキサンオリゴマーおよび有機ケイ素化合
物の相対量を選択する。好ましい態様においては、Ｍ単
位とＭH単位の合計量の、Ｑ単位とＴ単位の合計量に対
するモル比（すなわち、「（Ｍ＋ＭH）：（Ｑ＋
Ｔ）」）が０．５：１．０〜２．０：１．０、さらに好
ましくは０．８：１．０〜１．５：１．０であり、Ｔ単
位のＱ単位に対するモル比（すなわち、「Ｑ：Ｔ」）が
０．１：１．０〜２．０：１．０、さらに好ましくは
０．８：１．０〜１．２：１．０であり、ＭH単位のＭ
単位に対するモル比（すなわち、「ＭH：Ｍ」）が０．
０５：１．０〜１．０：０、さらに好ましくは０．１：
１．０〜０．５：１．０である。
位、Ｄ単位、Ｔ単位およびＱ単位のモル比は反応混合物
中のモル比に対応し、分枝したポリオルガノシロキサン
生成物中に望ましいモル比のＭ単位、Ｄ単位、Ｔ単位お
よびＱ単位が得られるように、オルガノシリケート、オ
ルガノポリシロキサンオリゴマーおよび有機ケイ素化合
物の相対量を選択する。好ましい態様においては、Ｍ単
位とＭH単位の合計量の、Ｑ単位とＴ単位の合計量に対
するモル比（すなわち、「（Ｍ＋ＭH）：（Ｑ＋
Ｔ）」）が０．５：１．０〜２．０：１．０、さらに好
ましくは０．８：１．０〜１．５：１．０であり、Ｔ単
位のＱ単位に対するモル比（すなわち、「Ｑ：Ｔ」）が
０．１：１．０〜２．０：１．０、さらに好ましくは
０．８：１．０〜１．２：１．０であり、ＭH単位のＭ
単位に対するモル比（すなわち、「ＭH：Ｍ」）が０．
０５：１．０〜１．０：０、さらに好ましくは０．１：
１．０〜０．５：１．０である。
【００３６】好ましい態様において、本発明の分枝した
エポキシ官能性オルガノポリシロキサンポリマーは、本
出願の譲受人に譲渡されている米国特許第５，３６０，
８３３号（その開示内容は、引用により本明細書に含ま
れているものとする）に記載のプロセスと類似のプロセ
スに従って製造する。すなわち、ヒドロシリル化触媒、
好ましくはたとえばＲｈＣｌ3（Ｂｕ2Ｓ）3のようなロ
ジウム系ヒドロシリル化触媒の存在下で、本発明の水素
化シリル官能性オルガノポリシロキサンと不飽和エポキ
シ官能性化合物とのヒドロシリル化を実施する。極めて
好ましい態様においては、この分枝した水素化シリル官
能性シロキサンポリマーを、たとえば線状の水素化シリ
ル官能性シロキサンポリマーのような反応性希釈剤で希
釈する。
エポキシ官能性オルガノポリシロキサンポリマーは、本
出願の譲受人に譲渡されている米国特許第５，３６０，
８３３号（その開示内容は、引用により本明細書に含ま
れているものとする）に記載のプロセスと類似のプロセ
スに従って製造する。すなわち、ヒドロシリル化触媒、
好ましくはたとえばＲｈＣｌ3（Ｂｕ2Ｓ）3のようなロ
ジウム系ヒドロシリル化触媒の存在下で、本発明の水素
化シリル官能性オルガノポリシロキサンと不飽和エポキ
シ官能性化合物とのヒドロシリル化を実施する。極めて
好ましい態様においては、この分枝した水素化シリル官
能性シロキサンポリマーを、たとえば線状の水素化シリ
ル官能性シロキサンポリマーのような反応性希釈剤で希
釈する。
【００３７】好ましい態様においては、エポキシ官能性
化合物を、アリルグリシジルエーテル、リモネンモノオ
キシド、ジシクロペンタジエンモノオキシドおよび４−
ビニルシクロヘキセンオキシドの中から選択する。最も
好ましくは、エポキシ官能性化合物は４−ビニルシクロ
ヘキセンオキシドである。
化合物を、アリルグリシジルエーテル、リモネンモノオ
キシド、ジシクロペンタジエンモノオキシドおよび４−
ビニルシクロヘキセンオキシドの中から選択する。最も
好ましくは、エポキシ官能性化合物は４−ビニルシクロ
ヘキセンオキシドである。
【００３８】好ましい態様において、本発明の放射線硬
化性エポキシシリコーン組成物は、本発明の方法で製造
された分枝したエポキシ官能性オルガノポリシロキサン
ポリマーと、放射線に露出することによって組成物を硬
化させるのに有効な量の光触媒とを含む。
化性エポキシシリコーン組成物は、本発明の方法で製造
された分枝したエポキシ官能性オルガノポリシロキサン
ポリマーと、放射線に露出することによって組成物を硬
化させるのに有効な量の光触媒とを含む。
【００３９】本発明の放射線硬化性エポキシシリコーン
組成物の光触媒として使用するのに適した光触媒は広く
知られている。この光触媒は、たとえば、米国特許第
４，２７９，７１７号（その開示内容は引用により本明
細書に含まれているものとする）に開示されているジア
リールヨードニウム塩のような、放射線硬化性エポキシ
シリコーン組成物の他の成分と適合しうる１種以上のヨ
ードニウム塩からなるのが好ましい。極めて好ましい態
様においては、本発明の放射線硬化性エポキシシリコー
ン組成物の光触媒成分は、ＢＰＦ6 -、ＳｂＦ6 -またはＢ
（Ｃ6Ｆ5）4 -のビス（４−ドデシルフェニル）ヨードニ
ウム塩の１種以上からなる。極めて好ましい態様におい
て、放射線硬化性エポキシシリコーン組成物は、好まし
いビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム塩の１種以上
を、放射線硬化性エポキシシリコーン組成物の全重量を
基準にして約２００ｐｐｍ〜約２重量％含む。
組成物の光触媒として使用するのに適した光触媒は広く
知られている。この光触媒は、たとえば、米国特許第
４，２７９，７１７号（その開示内容は引用により本明
細書に含まれているものとする）に開示されているジア
リールヨードニウム塩のような、放射線硬化性エポキシ
シリコーン組成物の他の成分と適合しうる１種以上のヨ
ードニウム塩からなるのが好ましい。極めて好ましい態
様においては、本発明の放射線硬化性エポキシシリコー
ン組成物の光触媒成分は、ＢＰＦ6 -、ＳｂＦ6 -またはＢ
（Ｃ6Ｆ5）4 -のビス（４−ドデシルフェニル）ヨードニ
ウム塩の１種以上からなる。極めて好ましい態様におい
て、放射線硬化性エポキシシリコーン組成物は、好まし
いビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム塩の１種以上
を、放射線硬化性エポキシシリコーン組成物の全重量を
基準にして約２００ｐｐｍ〜約２重量％含む。
【００４０】本発明の放射線硬化性エポキシシリコーン
コーティング組成物は、たとえば、紙加工用コーティン
グとして、特にたとえば粘着ラベルのような粘着剤製品
向けの剥離調整ライナ用の剥離コーティングとして有用
である。
コーティング組成物は、たとえば、紙加工用コーティン
グとして、特にたとえば粘着ラベルのような粘着剤製品
向けの剥離調整ライナ用の剥離コーティングとして有用
である。
【００４１】本発明の積層体を製造するには、本発明の
放射線硬化性エポキシシリコーン組成物の層を基体上に
塗布し、その層を放射線に露出することによって硬化さ
せて基体上に支持された硬化したコーティング層を形成
するとよい。この積層体は粘着剤製品用の剥離調整ライ
ナとして有用である。好ましい態様において積層体はさ
らに、第二の基体とその第二の基体上に支持された接着
剤組成物の層とを含んでおり、この接着剤の層は放射線
硬化性エポキシシリコーン組成物の硬化した層と接触し
ており、積層体の第一の基体と硬化したコーティング層
とは、積層体の第二の基体と接着剤の層に対して剥離ラ
イナとして機能する。たとえば紙基材のような適切な基
体、たとえばアクリル系ポリマーを主材とする接着剤組
成物のような適切な接着剤組成物、およびこのような積
層体を製造し使用する適切な方法は業界でよく知られて
いる。
放射線硬化性エポキシシリコーン組成物の層を基体上に
塗布し、その層を放射線に露出することによって硬化さ
せて基体上に支持された硬化したコーティング層を形成
するとよい。この積層体は粘着剤製品用の剥離調整ライ
ナとして有用である。好ましい態様において積層体はさ
らに、第二の基体とその第二の基体上に支持された接着
剤組成物の層とを含んでおり、この接着剤の層は放射線
硬化性エポキシシリコーン組成物の硬化した層と接触し
ており、積層体の第一の基体と硬化したコーティング層
とは、積層体の第二の基体と接着剤の層に対して剥離ラ
イナとして機能する。たとえば紙基材のような適切な基
体、たとえばアクリル系ポリマーを主材とする接着剤組
成物のような適切な接着剤組成物、およびこのような積
層体を製造し使用する適切な方法は業界でよく知られて
いる。
【００４２】
【実施例】実施例１ テトラメチルジシロキサン（８０グラム（ｇ））、ヘキ
サメチルジシロキサン（３９０ｇ）、メチルトリメトキ
シシラン（５４５ｇ）、部分水解したエチルオルトシリ
ケート（６００ｇ、ＥＳ４０、アシュランド・ケミカル
社(Ashland Chemical Co.)、混合アルカン（１５９ｇ、
沸点範囲１２０〜１４０℃、イソパー(Isopar)Ｇ、エク
ソン(Exxon)）およびｐ−トルエンスルホン酸（２０
ｇ）の混合物に、５０分かけて水（４３１ｇ）を加え
た。この混合物を２時間還流加熱（７６℃）し、冷却
し、放置して２つの相に分離させた。次いで、有機相を
ポット温度９５℃に加熱した後９５℃、２２０トルで真
空ストリッピングして、粘度が４７ｃＳｔｋで水素基が
１２０１ｐｐｍの流体生成物を単離した。
サメチルジシロキサン（３９０ｇ）、メチルトリメトキ
シシラン（５４５ｇ）、部分水解したエチルオルトシリ
ケート（６００ｇ、ＥＳ４０、アシュランド・ケミカル
社(Ashland Chemical Co.)、混合アルカン（１５９ｇ、
沸点範囲１２０〜１４０℃、イソパー(Isopar)Ｇ、エク
ソン(Exxon)）およびｐ−トルエンスルホン酸（２０
ｇ）の混合物に、５０分かけて水（４３１ｇ）を加え
た。この混合物を２時間還流加熱（７６℃）し、冷却
し、放置して２つの相に分離させた。次いで、有機相を
ポット温度９５℃に加熱した後９５℃、２２０トルで真
空ストリッピングして、粘度が４７ｃＳｔｋで水素基が
１２０１ｐｐｍの流体生成物を単離した。
【００４３】実施例２〜４および比較例Ｃ１ 実施例２の組成物は以下のようにして調製した。すなわ
ち、テトラメチルジシロキサン（３３．５ｇ、０．２５
モル）、ヘキサメチルジシロキサン（１６２ｇ、１．０
モル）、メチルトリメトキシシラン（３４０ｇ、２．５
モル）、部分水解したエチルオルトシリケート（３６０
ｇ、２．５モル）を２リットルの樹脂フラスコに入れ
た。このシラン混合物をかき混ぜながら、ｐ−トルエン
スルホン酸（１０ｇ）を混合アルカン（８０ｇ、沸点範
囲１２０〜１４０℃、イソパー(Isopar)Ｇ、エクソン(E
xxon)）と共に加えた。次に、このシラン混合物に４０
分かけて水（２２８ｇ、１２．７モル）をゆっくり加え
た。その間、発熱加水分解により反応混合物の温度は２
４℃から５７℃に上昇した。次いで、反応混合物を２時
間７０〜８０℃で還流した後分液漏斗に移し、数時間静
置した。混合物は２つの相に分離した。下側の有機相を
保持し、ディーン−シュタルクフラスコ(Dean-Stark Fl
ask)を備えた１リットルのフラスコに再導入した後、１
０５℃まで還流しつつ水、エタノールおよびその他の軽
留分をトラップを介して共沸混合物から除去した。生成
物はアルカン中にＭHＭＴＱポリマーを含む可動性の溶
液であり、これはポリマー固形分を７４．２％含有し、
粘度は３０．９ｃＳｔｋであった。この溶液を分析した
ところ水素が（ＳｉＨとして）７９６ｐｐｍ存在してい
ることが示され、これを固形分含量に対して換算すると
ポリマー自体が約１０７０ｐｐｍのＨを（ＭHとして）
含んでいることが示された。反応体のシランとシロキサ
ンの相対量に基づいて、標的ポリマーの式はＭHＭ4Ｔ5
Ｑ5であり、理論Ｈ含量は９７５ｐｐｍＨであった。こ
のポリマー溶液の29Ｓｉ分析をしたところ、このポリマ
ーの組成は化学量論ＭHＭ4.6Ｔ5.5Ｑ5.5に相当している
ことが示された。
ち、テトラメチルジシロキサン（３３．５ｇ、０．２５
モル）、ヘキサメチルジシロキサン（１６２ｇ、１．０
モル）、メチルトリメトキシシラン（３４０ｇ、２．５
モル）、部分水解したエチルオルトシリケート（３６０
ｇ、２．５モル）を２リットルの樹脂フラスコに入れ
た。このシラン混合物をかき混ぜながら、ｐ−トルエン
スルホン酸（１０ｇ）を混合アルカン（８０ｇ、沸点範
囲１２０〜１４０℃、イソパー(Isopar)Ｇ、エクソン(E
xxon)）と共に加えた。次に、このシラン混合物に４０
分かけて水（２２８ｇ、１２．７モル）をゆっくり加え
た。その間、発熱加水分解により反応混合物の温度は２
４℃から５７℃に上昇した。次いで、反応混合物を２時
間７０〜８０℃で還流した後分液漏斗に移し、数時間静
置した。混合物は２つの相に分離した。下側の有機相を
保持し、ディーン−シュタルクフラスコ(Dean-Stark Fl
ask)を備えた１リットルのフラスコに再導入した後、１
０５℃まで還流しつつ水、エタノールおよびその他の軽
留分をトラップを介して共沸混合物から除去した。生成
物はアルカン中にＭHＭＴＱポリマーを含む可動性の溶
液であり、これはポリマー固形分を７４．２％含有し、
粘度は３０．９ｃＳｔｋであった。この溶液を分析した
ところ水素が（ＳｉＨとして）７９６ｐｐｍ存在してい
ることが示され、これを固形分含量に対して換算すると
ポリマー自体が約１０７０ｐｐｍのＨを（ＭHとして）
含んでいることが示された。反応体のシランとシロキサ
ンの相対量に基づいて、標的ポリマーの式はＭHＭ4Ｔ5
Ｑ5であり、理論Ｈ含量は９７５ｐｐｍＨであった。こ
のポリマー溶液の29Ｓｉ分析をしたところ、このポリマ
ーの組成は化学量論ＭHＭ4.6Ｔ5.5Ｑ5.5に相当している
ことが示された。
【００４４】上記実施例２と同様にして、実施例３の組
成物を調製した。すなわち、２リットルの樹脂フラスコ
に、テトラメチルジシロキサン（３３．５ｇ、０．２５
モル）、ヘキサメチルジシロキサン（１４１．８ｇ、
０．８７５モル）、メチルトリメトキシシラン（３４０
ｇ、２．５モル）、部分水解したエチルオルトシリケー
ト（３６０ｇ、２．５モル）、ｐ−トルエンスルホン酸
（１０ｇ）および混合アルカン（８０ｇ、沸点範囲１２
０〜１４０℃、イソパー(Isopar)Ｇ溶媒、エクソン(Exx
on)）を入れた。水２２８ｇを加え、加水分解し、上記
と同様に処理したところ、溶媒中にポリマーを７９．４
％含む溶液が得られた。生成物の粘度は６２６ｃＳｔｋ
であり、Ｈ含量とＳｉ−ＮＭＲ分析により、標的の化学
量論ＭHＭ3 .5Ｔ5Ｑ5が達成されたことが確認された。
成物を調製した。すなわち、２リットルの樹脂フラスコ
に、テトラメチルジシロキサン（３３．５ｇ、０．２５
モル）、ヘキサメチルジシロキサン（１４１．８ｇ、
０．８７５モル）、メチルトリメトキシシラン（３４０
ｇ、２．５モル）、部分水解したエチルオルトシリケー
ト（３６０ｇ、２．５モル）、ｐ−トルエンスルホン酸
（１０ｇ）および混合アルカン（８０ｇ、沸点範囲１２
０〜１４０℃、イソパー(Isopar)Ｇ溶媒、エクソン(Exx
on)）を入れた。水２２８ｇを加え、加水分解し、上記
と同様に処理したところ、溶媒中にポリマーを７９．４
％含む溶液が得られた。生成物の粘度は６２６ｃＳｔｋ
であり、Ｈ含量とＳｉ−ＮＭＲ分析により、標的の化学
量論ＭHＭ3 .5Ｔ5Ｑ5が達成されたことが確認された。
【００４５】上記と同様にして、式ＭHＭ3Ｔ5Ｑ5に相当
する実施例４の組成物を製造した。最終生成物はポリマ
ー固形分７１．５％の溶液であり、粘度は１５７ｃＳｔ
ｋであった。
する実施例４の組成物を製造した。最終生成物はポリマ
ー固形分７１．５％の溶液であり、粘度は１５７ｃＳｔ
ｋであった。
【００４６】比較例Ｃ１の組成物は以下のようにして調
製した。すなわち、２リットルの樹脂フラスコに、ジメ
チルクロロシラン（４６．７ｇ、０．５モル）、トリメ
チルエトキシシラン（２３６ｇ、２．０モル）、メチル
トリメトキシシラン（３４０ｇ、２．５モル）、テトラ
エトキシシラン（３６０ｇ、２．５モル）、混合アルカ
ン（８０ｇ、沸点範囲１２０〜１４０℃、イソパー(Iso
par)Ｇ溶媒、エクソン(Exxon)）を入れた。次に、この
シラン混合物をかき混ぜながら、８０分かけて水（２２
８ｇ、１２．７モル）を加えたところ、発熱により反応
温度は２０℃から６０℃になった。次いで、反応混合物
を２時間８０℃で還流した後数時間分液漏斗に移し、２
つの層に分離させた。下側の有機相を保持し、上記と同
様に処理して固形分７３％で粘度６５ｃＳｔｋのポリマ
ー溶液が得られた。これは存在するＨがたった３９０ｐ
ｐｍであり、29ＳｉＮＭＲ分析により化学量論ＭH 0.5Ｍ
4. 4Ｄ0.2Ｔ5.3Ｑ5.5をもっていることが示された。Ｍ単
位のＳｉＨ基が開裂するとＤ単位が形成されるが、この
場合これが起こったことは明らかである。
製した。すなわち、２リットルの樹脂フラスコに、ジメ
チルクロロシラン（４６．７ｇ、０．５モル）、トリメ
チルエトキシシラン（２３６ｇ、２．０モル）、メチル
トリメトキシシラン（３４０ｇ、２．５モル）、テトラ
エトキシシラン（３６０ｇ、２．５モル）、混合アルカ
ン（８０ｇ、沸点範囲１２０〜１４０℃、イソパー(Iso
par)Ｇ溶媒、エクソン(Exxon)）を入れた。次に、この
シラン混合物をかき混ぜながら、８０分かけて水（２２
８ｇ、１２．７モル）を加えたところ、発熱により反応
温度は２０℃から６０℃になった。次いで、反応混合物
を２時間８０℃で還流した後数時間分液漏斗に移し、２
つの層に分離させた。下側の有機相を保持し、上記と同
様に処理して固形分７３％で粘度６５ｃＳｔｋのポリマ
ー溶液が得られた。これは存在するＨがたった３９０ｐ
ｐｍであり、29ＳｉＮＭＲ分析により化学量論ＭH 0.5Ｍ
4. 4Ｄ0.2Ｔ5.3Ｑ5.5をもっていることが示された。Ｍ単
位のＳｉＨ基が開裂するとＤ単位が形成されるが、この
場合これが起こったことは明らかである。
【００４７】実施例５〜７および比較例２ 実施例５の組成物は以下のようにして調製した。すなわ
ち、実施例２の組成物７５ｇ（ポリマー固形分として５
５．７ｇ）を、１０４０ｐｐｍのＨをＳｉＨとして含む
ＭHＤ25ＭHシリコーン流体（５０ｇ）とブレンドした。
この混合物は、分枝したポリマー固形分を約５３％、線
状ポリマー固形分を４７％含有していた。このブレンド
に、ＲｈＣｌ3（Ｂｕ2Ｓ）3触媒として２ｐｐｍのＲｈ
を存在させて４−ビニルシクロヘキセンオキシド（ＶＣ
ＨＯ）１４．５ｇを９０℃で滴下して加えた。この反応
の進行は赤外（「ＩＲ」）分光で追跡し、全てのＳｉＨ
がＶＣＨＯと反応したことをＩＲが示したときに、反応
混合物から溶媒、過剰のＶＣＨＯおよびその他の軽留分
を減圧下１６５℃でストリッピングして除去し、粘度２
３４ｃＳｔｋの流体を得た。エポキシ当量＝１０３０。
ち、実施例２の組成物７５ｇ（ポリマー固形分として５
５．７ｇ）を、１０４０ｐｐｍのＨをＳｉＨとして含む
ＭHＤ25ＭHシリコーン流体（５０ｇ）とブレンドした。
この混合物は、分枝したポリマー固形分を約５３％、線
状ポリマー固形分を４７％含有していた。このブレンド
に、ＲｈＣｌ3（Ｂｕ2Ｓ）3触媒として２ｐｐｍのＲｈ
を存在させて４−ビニルシクロヘキセンオキシド（ＶＣ
ＨＯ）１４．５ｇを９０℃で滴下して加えた。この反応
の進行は赤外（「ＩＲ」）分光で追跡し、全てのＳｉＨ
がＶＣＨＯと反応したことをＩＲが示したときに、反応
混合物から溶媒、過剰のＶＣＨＯおよびその他の軽留分
を減圧下１６５℃でストリッピングして除去し、粘度２
３４ｃＳｔｋの流体を得た。エポキシ当量＝１０３０。
【００４８】実施例６の組成物は以下のようにして調製
した。すなわち、実施例３の組成物５９ｇを、１０４０
ｐｐｍのＨをＳｉＨとして含むＭHＤ25ＭHシリコーン流
体（５０ｇ）と混合した。この混合物は、分枝したポリ
マー固形分を４８％、線状シロキサン固形分を５２％含
有していた。上記と同様にしてＶＣＨＯ１６．２ｇと共
にヒドロシリル化したところ、生成物として粘度が１１
５３ｃＳｔｋのエポキシ官能性シリコーンポリマー／流
体混合物が得られた。エポキシ当量＝１２９２。
した。すなわち、実施例３の組成物５９ｇを、１０４０
ｐｐｍのＨをＳｉＨとして含むＭHＤ25ＭHシリコーン流
体（５０ｇ）と混合した。この混合物は、分枝したポリ
マー固形分を４８％、線状シロキサン固形分を５２％含
有していた。上記と同様にしてＶＣＨＯ１６．２ｇと共
にヒドロシリル化したところ、生成物として粘度が１１
５３ｃＳｔｋのエポキシ官能性シリコーンポリマー／流
体混合物が得られた。エポキシ当量＝１２９２。
【００４９】実施例７の組成物は以下のようにして調製
した。すなわち、実施例４の組成物６９．９ｇを、１０
４０ｐｐｍのＨをＳｉＨとして含むＭHＤ25ＭHシリコー
ン流体（５０ｇ）と混合した。この混合物は、分枝した
シロキサンポリマー固形分を５０％、線状シロキサンポ
リマー固形分を５０％含有していた。実施例６の組成物
と同様にしてＶＣＨＯとこの混合物とを反応させたとこ
ろ、非常に粘稠な流体生成物（＞５００００ｃＳｔｋ）
が得られた。エポキシ当量＝１４４０。この粘稠なポリ
マー生成物（８０ｐｂｗ）を１，４−シクロヘキサンジ
メタノールのジビニルエーテル（２０ｐｂｗ）と合わせ
て粘度２０００ｃＳｔｋの組成物を得た。
した。すなわち、実施例４の組成物６９．９ｇを、１０
４０ｐｐｍのＨをＳｉＨとして含むＭHＤ25ＭHシリコー
ン流体（５０ｇ）と混合した。この混合物は、分枝した
シロキサンポリマー固形分を５０％、線状シロキサンポ
リマー固形分を５０％含有していた。実施例６の組成物
と同様にしてＶＣＨＯとこの混合物とを反応させたとこ
ろ、非常に粘稠な流体生成物（＞５００００ｃＳｔｋ）
が得られた。エポキシ当量＝１４４０。この粘稠なポリ
マー生成物（８０ｐｂｗ）を１，４−シクロヘキサンジ
メタノールのジビニルエーテル（２０ｐｂｗ）と合わせ
て粘度２０００ｃＳｔｋの組成物を得た。
【００５０】比較例２の組成物は以下のようにして調製
した。すなわち、比較例Ｃ１の組成物６８．５ｇを、１
０４０ｐｐｍのＨをＳｉＨとして含むＭHＤ25ＭHシリコ
ーン流体（５０ｇ）と一緒にした後、分枝したシロキサ
ンポリマー固形分と線状シロキサンポリマー固形分の５
０／５０混合物をすべてのＳｉＨ基をＳｉ−エポキシに
変換するのに十分なＶＣＨＯと反応させた。この生成物
を処理してエポキシシリコーンポリマーとエポキシシリ
コーン流体の混合物（１１０ｃＳｔｋ、エポキシ当量２
１２０）を得た。比較例Ｃ１の組成物でＳｉＨが失われ
たため、最終ＣＲＡ生成物のエポキシ当量が、ｐ−トル
エンスルホン酸で触媒されたポリマー原料から調製した
他の生成物の場合よりずっと高くなったことに注意され
たい。
した。すなわち、比較例Ｃ１の組成物６８．５ｇを、１
０４０ｐｐｍのＨをＳｉＨとして含むＭHＤ25ＭHシリコ
ーン流体（５０ｇ）と一緒にした後、分枝したシロキサ
ンポリマー固形分と線状シロキサンポリマー固形分の５
０／５０混合物をすべてのＳｉＨ基をＳｉ−エポキシに
変換するのに十分なＶＣＨＯと反応させた。この生成物
を処理してエポキシシリコーンポリマーとエポキシシリ
コーン流体の混合物（１１０ｃＳｔｋ、エポキシ当量２
１２０）を得た。比較例Ｃ１の組成物でＳｉＨが失われ
たため、最終ＣＲＡ生成物のエポキシ当量が、ｐ−トル
エンスルホン酸で触媒されたポリマー原料から調製した
他の生成物の場合よりずっと高くなったことに注意され
たい。
【００５１】実施例８〜１０および比較例Ｃ３ 実施例５〜７および比較例２の各エポキシ官能化生成物
１００部を、光触媒溶液（ヘキサフルオロアンチモン酸
ビス（４−ドデシルフェニル）ヨードニウム５０ｐｂｗ
とイソプロピルチオキサントン２ｐｂｗとをアルキルグ
リシジルエーテル４８ｐｂｗに溶かした溶液））２部と
混合した後、手作業で薄い膜としてポリクラフト基材に
塗布量約１．２ｇで塗布し、ＲＰＣラボＵＶプロセッサ
ー(RPC Lab UV Processor)に通し、２列のハノビア(Han
ovia)中圧水銀蒸気源からのＵＶ光に露光してコーテイ
ングを汚れがなく移行のない表面に硬化させた。コーテ
ィングはすべて架橋した表面に硬化し、スコッチ(Scotc
hTM)６１０セロファンテープ（３Ｍ）に強固に接着した
（これは、調整された剥離効果を示す良い証拠である）
ことが分かった。次に、良好な定性的硬化を得るのに必
要とされる最小の合計ランプ出力と最大のプロセッサー
コンベヤ速度の組合せを評価した。結果は、下記表Ｉ
に、ランプ出力（ワット／インチで表す）および線速度
（フィート／分で表す）で示す。
１００部を、光触媒溶液（ヘキサフルオロアンチモン酸
ビス（４−ドデシルフェニル）ヨードニウム５０ｐｂｗ
とイソプロピルチオキサントン２ｐｂｗとをアルキルグ
リシジルエーテル４８ｐｂｗに溶かした溶液））２部と
混合した後、手作業で薄い膜としてポリクラフト基材に
塗布量約１．２ｇで塗布し、ＲＰＣラボＵＶプロセッサ
ー(RPC Lab UV Processor)に通し、２列のハノビア(Han
ovia)中圧水銀蒸気源からのＵＶ光に露光してコーテイ
ングを汚れがなく移行のない表面に硬化させた。コーテ
ィングはすべて架橋した表面に硬化し、スコッチ(Scotc
hTM)６１０セロファンテープ（３Ｍ）に強固に接着した
（これは、調整された剥離効果を示す良い証拠である）
ことが分かった。次に、良好な定性的硬化を得るのに必
要とされる最小の合計ランプ出力と最大のプロセッサー
コンベヤ速度の組合せを評価した。結果は、下記表Ｉ
に、ランプ出力（ワット／インチで表す）および線速度
（フィート／分で表す）で示す。
【００５２】
【表１】
【００５３】明らかに、比較例Ｃ１の組成物におけるＳ
ｉＨの開裂のために比較例Ｃ２の組成物中の反応性エポ
キシの量が減少しているので、比較例Ｃ３の組成物にお
けるＵＶ硬化は実施例８、９、１０の組成物よりずっと
遅くなる。
ｉＨの開裂のために比較例Ｃ２の組成物中の反応性エポ
キシの量が減少しているので、比較例Ｃ３の組成物にお
けるＵＶ硬化は実施例８、９、１０の組成物よりずっと
遅くなる。
【００５４】実施例１１〜１３ならびに比較例Ｃ４およ
びＣ５ 実施例１１〜１３ならびに比較例Ｃ４およびＣ５の組成
物を調製するために、実施例５〜７および比較例Ｃ２の
分枝したエポキシ官能性シリコーンポリマーのいずれ
か、線状のエポキシ−シリコーンポリマー（ＵＶ９３１
５、ジー・イー・シリコーン(GE Silicones)）、ならび
にヨードニウム系光触媒（ジー・イー・シリコーン(GE
Silicones)からグレードＵＶ９３８０Ｃとして市販）の
２種以上の成分を、以下の表IIに示した相対量で一緒に
してコーティング浴を調製した。
びＣ５ 実施例１１〜１３ならびに比較例Ｃ４およびＣ５の組成
物を調製するために、実施例５〜７および比較例Ｃ２の
分枝したエポキシ官能性シリコーンポリマーのいずれ
か、線状のエポキシ−シリコーンポリマー（ＵＶ９３１
５、ジー・イー・シリコーン(GE Silicones)）、ならび
にヨードニウム系光触媒（ジー・イー・シリコーン(GE
Silicones)からグレードＵＶ９３８０Ｃとして市販）の
２種以上の成分を、以下の表IIに示した相対量で一緒に
してコーティング浴を調製した。
【００５５】
【表２】
【００５６】実施例１１〜１３ならびに比較例Ｃ４およ
び５の組成物を、ドクターブレードを用いて手作業でオ
ーティス(Otis)ＵＶ３５０TMＳＣＫ剥離ライナ基材に１
平方メートルあたり１．２グラムの平均塗布量で塗布し
た後、ＲＰＣ ｌａｂ ＵＶプロセッサー（上記）に設
置した２つの水銀蒸気灯に合計ＵＶ出力６００ワット／
インチ、コンベヤ速度２００ｆｐｍ（フィート／分）で
露光して硬化し剥離ライナを形成した。次に、こうして
塗布し硬化させた剥離ライナサンプルをＴＥＳＡTM７４
７５アクリル接着剤テープの８インチのストリップと積
層した。これらの積層体の半分を周囲（２５℃）温度で
２４時間エージングし、他の半分は高温（７０℃）のオ
ーブンで２４時間エージングした。オーブンでエージン
グした積層体を１時間かけて室温まで冷却した後、０．
０５ｍ／秒の引張速度で１８０°の角度で接着剤テープ
から剥離ライナを引き剥がすのに必要な力を、ＺＰＥ１
０００剥離テスター（インストルメンター社(Instrumen
tors, Inc.)を用いて記録した。結果は、２５℃または
７５℃でエージングした後の剥離値（グラム／インチ(g
/in)）、および、１００×（７５℃でエージングした後
の剥離／２５℃でエージングした後の剥離）として計算
した高温エージングの結果としての剥離値の差（％）と
して、下記表IIIに示す。
び５の組成物を、ドクターブレードを用いて手作業でオ
ーティス(Otis)ＵＶ３５０TMＳＣＫ剥離ライナ基材に１
平方メートルあたり１．２グラムの平均塗布量で塗布し
た後、ＲＰＣ ｌａｂ ＵＶプロセッサー（上記）に設
置した２つの水銀蒸気灯に合計ＵＶ出力６００ワット／
インチ、コンベヤ速度２００ｆｐｍ（フィート／分）で
露光して硬化し剥離ライナを形成した。次に、こうして
塗布し硬化させた剥離ライナサンプルをＴＥＳＡTM７４
７５アクリル接着剤テープの８インチのストリップと積
層した。これらの積層体の半分を周囲（２５℃）温度で
２４時間エージングし、他の半分は高温（７０℃）のオ
ーブンで２４時間エージングした。オーブンでエージン
グした積層体を１時間かけて室温まで冷却した後、０．
０５ｍ／秒の引張速度で１８０°の角度で接着剤テープ
から剥離ライナを引き剥がすのに必要な力を、ＺＰＥ１
０００剥離テスター（インストルメンター社(Instrumen
tors, Inc.)を用いて記録した。結果は、２５℃または
７５℃でエージングした後の剥離値（グラム／インチ(g
/in)）、および、１００×（７５℃でエージングした後
の剥離／２５℃でエージングした後の剥離）として計算
した高温エージングの結果としての剥離値の差（％）と
して、下記表IIIに示す。
【００５７】
【表３】
【００５８】実施例１１〜１３と比較例Ｃ５の組成物を
用いて調製した剥離ライナに基づく積層体はすべて、有
用な調整された剥離差を示している。すなわち、比較例
Ｃ４の組成物を用いて調製した剥離ライナに基づく積層
体が示した剥離力と比べて少なくとも２倍である。
用いて調製した剥離ライナに基づく積層体はすべて、有
用な調整された剥離差を示している。すなわち、比較例
Ｃ４の組成物を用いて調製した剥離ライナに基づく積層
体が示した剥離力と比べて少なくとも２倍である。
【００５９】実施例１１〜１３の組成物を用いて調製し
た剥離ライナに基づく積層体の剥離安定性（積層体のオ
ーブンエージングの関数としての剥離力の増大として示
される）は、比較例Ｃ４の組成物を用いて調製した剥離
ライナに基づく積層体が示す剥離安定性並びに比較例Ｃ
５の組成物を用いて調製した剥離ライナに基づく積層体
が示す剥離安定性と比べて優れている。この改善された
安定性は、実施例１１〜１３のコーティングの反応性が
比較例Ｃ５のコーティング組成物と比べて高い結果であ
るように思われる。これは、実施例５〜７のエポキシシ
リコーンポリマー組成物のエポキシ含量が比較例Ｃ２の
エポキシポリマーのものより増大している結果であると
思われ、この増大は、実施例２〜４のシリコーンポリマ
ー組成物の合成中の水素化シリル官能基の保持性が比較
例Ｃ１より良好である結果であると思われる。エポキシ
含量が増大すると、硬化がより速くなると共により完全
になり、またヨードニウム系触媒の混和性が改善され
る。
た剥離ライナに基づく積層体の剥離安定性（積層体のオ
ーブンエージングの関数としての剥離力の増大として示
される）は、比較例Ｃ４の組成物を用いて調製した剥離
ライナに基づく積層体が示す剥離安定性並びに比較例Ｃ
５の組成物を用いて調製した剥離ライナに基づく積層体
が示す剥離安定性と比べて優れている。この改善された
安定性は、実施例１１〜１３のコーティングの反応性が
比較例Ｃ５のコーティング組成物と比べて高い結果であ
るように思われる。これは、実施例５〜７のエポキシシ
リコーンポリマー組成物のエポキシ含量が比較例Ｃ２の
エポキシポリマーのものより増大している結果であると
思われ、この増大は、実施例２〜４のシリコーンポリマ
ー組成物の合成中の水素化シリル官能基の保持性が比較
例Ｃ１より良好である結果であると思われる。エポキシ
含量が増大すると、硬化がより速くなると共により完全
になり、またヨードニウム系触媒の混和性が改善され
る。
【００６０】本方法は、分枝した水素化シリル官能性シ
ロキサンポリマー上のＳｉＨ基の量の改良された制御を
提供し、したがって、本発明の分枝したエポキシ官能性
オルガノポリシロキサンポリマーのエポキシ官能性の量
の改良された制御手段を提供する。分枝したエポキシ官
能性オルガノポリシロキサンポリマーのエポキシ官能性
に関する改良された制御によって、本発明の放射線硬化
性エポキシシリコーン組成物が示す、たとえば改良され
た硬化速度のような改良された性能特性が得られる。
ロキサンポリマー上のＳｉＨ基の量の改良された制御を
提供し、したがって、本発明の分枝したエポキシ官能性
オルガノポリシロキサンポリマーのエポキシ官能性の量
の改良された制御手段を提供する。分枝したエポキシ官
能性オルガノポリシロキサンポリマーのエポキシ官能性
に関する改良された制御によって、本発明の放射線硬化
性エポキシシリコーン組成物が示す、たとえば改良され
た硬化速度のような改良された性能特性が得られる。
【００６１】これとは対照的に、類似の水素化シリル官
能性ポリマーをもたらすハロシラン反応体を使用する慣
用の逆加水分解法では、ハロシラン反応体の加水分解中
に酸が生じ、これがＳｉＨ結合の開裂を触媒する。酸で
触媒されるＳｉ−Ｈ開裂の量は予測または制御するのが
困難であり、したがってそのようなポリマーの水素化シ
リル含量に変動が生じ、またそれから製造される分枝し
たエポキシ官能性オルガノポリシロキサンポリマーのエ
ポキシ含量に変動が生じる。
能性ポリマーをもたらすハロシラン反応体を使用する慣
用の逆加水分解法では、ハロシラン反応体の加水分解中
に酸が生じ、これがＳｉＨ結合の開裂を触媒する。酸で
触媒されるＳｉ−Ｈ開裂の量は予測または制御するのが
困難であり、したがってそのようなポリマーの水素化シ
リル含量に変動が生じ、またそれから製造される分枝し
たエポキシ官能性オルガノポリシロキサンポリマーのエ
ポキシ含量に変動が生じる。
【００６２】本発明の方法によると、ハロシランの代わ
りにシロキサン反応体を使用することが可能になり、そ
のため逆加水分解法で経験される望ましくない酸に触媒
されるＳｉＨ開裂という副反応を避けることができる。
りにシロキサン反応体を使用することが可能になり、そ
のため逆加水分解法で経験される望ましくない酸に触媒
されるＳｉＨ開裂という副反応を避けることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｇ 77/20 Ｃ０８Ｇ 77/20 77/38 77/38 (72)発明者 リチャード・ポール・エックバーグ アメリカ合衆国、ニューヨーク州、サラト ウガ・スプリングス、フィフス・アヴェニ ュー、10番 (72)発明者 ブライアン・デイル・シェパード アメリカ合衆国、ミネソタ州、リノ・レイ クス、ロイス・レーン、1018番
Claims (18)
- 【請求項１】 水ならびにスルホン酸含有化合物および
ホスホニトリル化合物の中から選択される触媒の存在下
で、（ｉ）分子あたり少なくとも１個の四官能性ケイ素
原子を含む第一のケイ素含有化合物と、（ii）分子あた
り少なくとも１個の単官能性ケイ素原子を含む第二のケ
イ素含有化合物と、（iii）分子あたり少なくとも１個
の三官能性ケイ素原子を含む第三のケイ素含有化合物と
を接触させることを含んでおり、前記第二のケイ素含有
化合物および第三のケイ素含有化合物の少なくとも１つ
は、さらに、その化合物の単官能性ケイ素原子または三
官能性ケイ素原子にそれぞれ共有結合している水素原子
を含んでいることを特徴とする、分枝した水素化シリル
官能性オルガノポリシロキサンの製造方法。 - 【請求項２】 触媒が、ｐ−トルエンスルホン酸および
トリフルオロメタンスルホン酸の中から選択されるスル
ホン酸含有化合物からなる、請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 第一のケイ素含有化合物が、式Ｒ1 4Ｓｉ
（式中、各Ｒ1はそれぞれ独立してアルコキシである）
のオルガノシリケートおよびその部分水解物の１種以上
からなる、請求項１記載の方法。 - 【請求項４】 第二のケイ素含有化合物が、式Ｒ2 3Ｓｉ
Ｏ1/2（式中、各Ｒ2はそれぞれ独立してＨまたは一価の
炭化水素基である）の構造単位を１個以上含む、請求項
１記載の方法。 - 【請求項５】 第三のケイ素含有化合物が、式Ｒ3Ｓｉ
Ｏ3/2（式中、Ｒ3はＨまたは一価の炭化水素基である）
の構造単位を１個以上含む、請求項１記載の方法。 - 【請求項６】 接触を、０℃〜１００℃の温度で行う、
請求項１記載の方法。 - 【請求項７】 接触を、ケイ素含有化合物１００重量部
あたり０．１〜２．０重量部の触媒の存在下で行う、請
求項１記載の方法。 - 【請求項８】 接触を、水と有機液体の混合物中で行
う、請求項１記載の方法。 - 【請求項９】 部分水解したエチルオルトシリケート、
テトラメチルジシロキサンおよびメチルトリメトキシシ
ランを、ｐ−トルエンスルホン酸の存在下水性媒質中で
接触させて、分枝した水素化シリル官能性オルガノポリ
シロキサンを形成する、請求項１記載の方法。 - 【請求項１０】 請求項１記載の方法で製造された分枝
した水素化シリル官能性オルガノポリシロキサン。 - 【請求項１１】 分枝した水素化シリル官能性オルガノ
ポリシロキサンが、式ＳｉＯ4/2のＱ構造単位を１個以
上、式ＨＲ2' 2ＳｉＯ1/2（式中、各Ｒ2'はそれぞれ独立
して一価の炭化水素基である）のＭH構造単位を１個以
上、式Ｒ3ＳｉＯ3/2（式中、Ｒ3は一価の炭化水素基で
ある）のＴ構造単位を１個以上、そして場合により式Ｒ
2 3ＳｉＯ1/2（式中、各Ｒ2はそれぞれ独立して一価の炭
化水素基である）のＭ構造単位を１個以上含み、Ｍ単位
とＭH単位の合計量の、Ｑ単位とＴ単位の合計量に対す
るモル比が０．５：１．０〜２．０：１．０であり、Ｔ
単位のＱ単位に対するモル比が０．１：１．０〜５．
０：１．０であり、ＭH単位のＭ単位に対するモル比が
０．０５：１．０〜１．０：０である、請求項１０記載
の分枝した水素化シリル官能性オルガノポリシロキサ
ン。 - 【請求項１２】 分枝したエポキシ官能性オルガノポリ
シロキサンポリマーの製造方法であって、 請求項１０記載の分枝した水素化シリル官能性オルガノ
ポリシロキサンポリマーを、分子あたり少なくとも１個
の不飽和部位を含有するエポキシ官能性化合物と反応さ
せて分枝したエポキシ官能性オルガノポリシロキサンポ
リマーを形成することを含んでなる方法。 - 【請求項１３】 エポキシ官能性化合物を、アリルグリ
シジルエーテル、リモネンモノオキシド、ジシクロペン
タジエンモノオキシドおよび４−ビニルシクロヘキセン
オキシドより成る群の中から選択する、請求項１２記載
の方法。 - 【請求項１４】 請求項１２記載の方法で製造された分
枝したエポキシ官能性オルガノポリシロキサンポリマ
ー。 - 【請求項１５】 請求項１４記載の分枝したエポキシ官
能性オルガノポリシロキサンポリマーと有効量の光触媒
とを含む放射線硬化性エポキシシリコーン組成物。 - 【請求項１６】 光触媒がヨードニウム塩である、請求
項１５記載の放射線硬化性エポキシシリコーン組成物。 - 【請求項１７】 基体と、この基体上に支持された請求
項１５記載の放射線硬化性エポキシシリコーン組成物の
硬化した層とを含む積層体。 - 【請求項１８】 さらに、第二の基体と、この第二の基
体上に支持された接着剤組成物の層とを含んでおり、こ
の接着剤の層が放射線硬化性エポキシシリコーン組成物
の硬化した層と接触している、請求項１７記載の積層
体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US21174498A | 1998-12-15 | 1998-12-15 | |
| US09/211744 | 1998-12-15 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000191787A true JP2000191787A (ja) | 2000-07-11 |
| JP2000191787A5 JP2000191787A5 (ja) | 2007-01-18 |
Family
ID=22788183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11338912A Pending JP2000191787A (ja) | 1998-12-15 | 1999-11-30 | 官能化されたシロキサンの製造方法、そのようなシロキサンを含有する組成物、およびそれから得られる物品 |
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| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1010714B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000191787A (ja) |
| DE (1) | DE69930825T2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003105089A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Dow Corning Toray Silicone Co Ltd | オルガノハイドロジェンポリシロキサン混合物および剥離性硬化皮膜形成性シリコーン組成物 |
| JP2007238645A (ja) * | 2006-03-03 | 2007-09-20 | Shin Etsu Chem Co Ltd | オルガノポリシロキサン粉体処理剤及び該処理剤により処理された粉体並びに該粉体を含有する化粧料 |
| WO2009104424A1 (ja) * | 2008-02-22 | 2009-08-27 | 日本曹達株式会社 | 有機薄膜形成用溶液及びその製造方法 |
| JP2010065221A (ja) * | 2008-08-27 | 2010-03-25 | Evonik Goldschmidt Gmbh | 分枝ＳｉＨ−官能性ポリシロキサンの製造方法及びＳｉＣ−又はＳｉＯＣ−が結合した液体状の分枝有機変性ポリシロキサンを製造するためのその使用 |
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|---|---|---|---|---|
| DE102014218918A1 (de) | 2014-09-19 | 2016-03-24 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von organofunktionellen Siliconharzen |
| DE102015200704A1 (de) | 2015-01-19 | 2016-07-21 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Siliconharzen |
| JP6875063B2 (ja) * | 2015-10-16 | 2021-05-19 | 信越化学工業株式会社 | ヒドロシリル基含有有機ケイ素樹脂の製造方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4279717A (en) * | 1979-08-03 | 1981-07-21 | General Electric Company | Ultraviolet curable epoxy silicone coating compositions |
| JPH078913B2 (ja) * | 1987-06-03 | 1995-02-01 | 信越化学工業株式会社 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
| GB8906626D0 (en) * | 1989-03-22 | 1989-05-04 | Dow Corning | Method of making organosiloxane resins |
-
1999
- 1999-11-16 DE DE69930825T patent/DE69930825T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1999-11-16 EP EP19990309115 patent/EP1010714B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-11-30 JP JP11338912A patent/JP2000191787A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2007238645A (ja) * | 2006-03-03 | 2007-09-20 | Shin Etsu Chem Co Ltd | オルガノポリシロキサン粉体処理剤及び該処理剤により処理された粉体並びに該粉体を含有する化粧料 |
| US8734771B2 (en) | 2006-03-03 | 2014-05-27 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Powder treated with a power treating agent comprising an organopolysiloxane and cosmetic comprising the powder |
| WO2009104424A1 (ja) * | 2008-02-22 | 2009-08-27 | 日本曹達株式会社 | 有機薄膜形成用溶液及びその製造方法 |
| JP5276024B2 (ja) * | 2008-02-22 | 2013-08-28 | 日本曹達株式会社 | 有機薄膜形成用溶液及びその製造方法 |
| US9303124B2 (en) | 2008-02-22 | 2016-04-05 | Nippon Soda Co., Ltd. | Solution for formation of organic thin film, and method for production thereof |
| JP2010065221A (ja) * | 2008-08-27 | 2010-03-25 | Evonik Goldschmidt Gmbh | 分枝ＳｉＨ−官能性ポリシロキサンの製造方法及びＳｉＣ−又はＳｉＯＣ−が結合した液体状の分枝有機変性ポリシロキサンを製造するためのその使用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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