JP2000189912A - 長尺被洗浄物の洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】被洗浄物にダメージを与えることなしに且つ高
度の洗浄効果のもとに被洗浄物の連続走行洗浄が可能
な、特にリードフレームの洗浄に適用して有用な洗浄装
置を提供することを目的とする。 【解決手段】長尺被洗浄物を連続走行移動の間に洗浄す
るための洗浄筒と、洗浄筒内で洗浄液を強制流通させる
ための洗浄液強制流通手段を備え、長尺被洗浄物は洗浄
筒内の強制流通洗浄液中を走行移動する間に洗浄を受け
る構成になっていることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は長尺被洗浄物の洗浄
装置、特に半導体装置の製造に適用されるリボン状乃至
テープ状の長尺リードフレーム等の連続走行洗浄に適用
して有用な洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来技術】従来、長尺リードフレーム等のような長尺
被洗浄物の連続走行洗浄は、リールから引き出されなが
ら移送される上記被洗浄物に対し、槽を設けて気中にて
洗浄液を吹き付ける方法、液中にてノズル等により洗浄
液の噴流を吹き付ける方法、液中にて超音波をかける方
法などにより行われていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の洗浄方法では、被洗浄物に対し液の吹き付けの強弱或
いは超音波の当たり方の強弱が生じてしまい、洗浄むら
を発生しやすく、被洗浄物をむらなく洗浄することは難
しかった。特に、リードフレーム上にチップ部品（たと
えばフリップチップなど）を搭載した後に行う洗浄に於
いては、チップとリードフレーム間に生ずる１００μm
以下の狭い隙間内の洗浄が必要になるが、従来の洗浄方
法ではこのような狭い隙間の洗浄は非常に困難であっ
た。この場合、洗浄効果を上げるために液の吹き付け圧
を高くしたり、超音波の出力を上げることなどが考えら
れるが、このようにすると被洗浄物にねじれや曲がりを
与え品質を低下させ、ひどい場合には、破損する等の恐
れがあり、好ましくなかった。

【０００４】本発明は、長尺被洗浄物の連続走行洗浄
を、被洗浄物にダメージを与えることなしに且つ高度の
洗浄効果のもとに行うことが可能な、特に長尺リードフ
レームのチップ搭載前又は搭載後の洗浄に適用して有用
な洗浄装置を提供することを目的としてなされたもので
ある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、長尺被洗浄物
を走行移動の間に洗浄するための洗浄筒と、洗浄筒内で
洗浄液を強制流通させるための洗浄液強制流通手段を備
え、長尺被洗浄物は洗浄筒内の強制流通洗浄液中を走行
移動する間に洗浄を受ける構成になっていることを特徴
とする長尺被洗浄物の洗浄装置に係る。

【０００６】本発明に於いて、洗浄筒は洗浄槽の洗浄液
中に浸漬設置し、この浸漬設置状態のもとに、洗浄筒内
に洗浄液を強制流通させ、該洗浄筒内を被洗浄物、例え
ば長尺リードフレームを連続走行移動させながら強制流
通洗浄液との接触により洗浄を行うことができる。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下に本発明の一実施形態を添付
図面に基づき説明する。図１は、長尺被洗浄物、例えば
リードフレームａの洗浄に適用される本発明洗浄装置の
一実施形態を示し、リードフレームａは駆動ロール１の
作動をして始端リール（図示せず）から引き出されなが
ら第１〜３の洗浄槽２及び熱風乾燥槽２′内を、各槽２
内の底部に設置のガイドロール３の案内のもとにジグザ
グ線状に走行移動され、この走行移動の間に洗浄と乾燥
が行われ、最終的に、積極駆動の終端リール（図示せず
に）に巻き取られて行く。

【０００８】洗浄槽２内には、洗浄液２ａが溢流壁４に
相当する液面高さを常時保持するように収容され、該洗
浄液２ａ中には、リードフレームａの往路と復路に充当
する位置に、洗浄筒５がそれぞれ設置されている。洗浄
筒５はリードフレームａが遊挿状態のもとに走行移動で
きる通路５ａ（図２参照）を備え、該通路５ａ内には、
ポンプ６（図２参照）の作動をして噴口７（図３参照）
を通じ噴入される洗浄液により液流が強制的に形成され
る構成になっている。

【０００９】リードフレームａはジグザク線状に走行移
動する間に、洗浄槽２内に於いて、洗浄筒５内の通路５
ａ内を通過し、この通過の間に、該通路５ａ内の強制流
通洗浄液２ａとそれぞれ接触し、この接触の間に洗浄を
受け、洗浄後は、乾燥槽２′を経て終端リールに巻き取
られて行く。

【００１０】リードフレームａは、洗浄筒５内の通路５
ａ内に於いて、強制流通の洗浄液と接触し、この接触の
間にリードフレームａ上に付着している汚染物質は洗浄
液の流勢によって強制的に洗い流され、被洗浄面全面を
むらなく洗浄することができる。またこの洗浄は、流通
状態の洗浄液との接触洗浄であるので、リードフーレム
ａにダメージを与えるることがなく、品質を低下させる
ことなしに高度の洗浄効果が得られる。また強制流通状
態の洗浄液中をリードフレームａが通過するので、この
通過の間に、洗浄液が狭い隙間であっても強制的に浸入
し、例えばリードフレームａとこれに搭載されたチップ
部品との間の狭い隙間内であってもうまく洗浄すること
ができる。

【００１１】本発明に於いて、洗浄筒５は、洗浄液の回
収を行うために、通常は図示の実施形態に示すように、
洗浄槽２内の洗浄液２ａ中に浸漬設置される。洗浄筒５
は周囲が密閉された閉鎖型の通路５ａを備え、周壁に
は、通路５ａ内に於いて、洗浄液を強制流通させるため
の手段が備えられている。

【００１２】強制流通手段は、図２に示すように、例え
ば洗浄筒５の周壁部に備えられた噴口７と該噴口７から
通路５ａ内に洗浄液を噴入するための手段、例えばポン
プ６を備え、該ポンプ６は洗浄液タンク８内から導管９
及び噴口７を通じ、通路５ａ内に洗浄液を噴入し、該通
路５ａ内に於いて、洗浄液を強制流通させる。

【００１３】通路５ａ内に於ける洗浄液の強制流通を良
好に行わせるために、噴口７は洗浄筒５の周壁部の複数
箇所、例えば図示の例では４ヶ所に、軸方向に等間隔を
隔てて設置されている。

【００１４】リードフレームａなどのように片面洗浄で
充分の場合には、噴口７は図１〜３に示すように、被洗
浄面側の片側に設けるだけで充分であるが、両面洗浄を
必要とする場合には、図４，５に示すように両側に設け
ればよい。噴口７の設置位置は、図４に示すように、両
側で一致していてもよいし、図５に示すように、両側で
不一致、例えば半ピッチずれていてもよい。

【００１５】洗浄筒５の通路５ａの開口面積は、被洗浄
物をフリーに走行移動させることができる程度の大きさ
があればよく、また断面形状は、被洗浄物と略々相似
形、例えば被洗浄物がリードフレームａの場合には、横
長の長方形状（図３参照）が適当である。

【００１６】洗浄筒５の通路５ａの有効開口面積〔開口
面積−被洗浄物の有効断面積（最大断面積）〕は、これ
があまり小さすぎると、洗浄液量が不足し、更には筒内
での流水抵抗ひいては水圧損失のために、洗浄液の所定
の流速を確保することが難しくなり、一方あまり大きす
ぎても、強制流通手段への負担が増大するだけで洗浄効
果の向上は余り期待できないので、被洗浄物の有効断面
積の２〜２０倍程度の範囲内から適宜選択決定すればよ
い。

【００１７】洗浄筒５内に於ける洗浄液の流速は、あま
り遅すぎると所定の洗浄効果を得ることが難しくなり、
一方早すぎると被洗浄物の品質に悪影響を与える恐れが
あるので、通常は０．５〜５０m/sec、好ましくは３〜
３０m/sec、より好ましくは１０〜３０m/sec程度の範囲
内から適宜選択される。

【００１８】洗浄液の流通方向は特に制限はなく、被洗
浄物の走行方向と同方向及び逆方向のいずれでもよい。

【００１９】被洗浄物の走行移動速度は、特に制限はな
いが、通常は低速、例えば０．２〜１．２m/min程度の
範囲内から適宜選択される。

【００２０】被洗浄物としては、代表的なものとして、
半導体装置の製造に適用されるリードフレーム（チップ
の搭載前又は搭載後）やテープキャリアを上げることが
できるが、その他可撓性のテープ乃至線状の長尺被洗浄
物の洗浄に適用できる。

【００２１】

【発明の効果】本発明洗浄装置によれば、被洗浄物の洗
浄を品質を低下させることなしにしかも高度の洗浄効果
のもとに行うことができ、特にリードフレーム等の洗浄
に適用して有用である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態を概略的に示す全体図であ
る。

【図２】洗浄筒並びに洗浄液強制流通手段の一例を示す
説明図である。

【図３】図２の３−３線に沿う断面図である。

【図４】洗浄液強制流通手段の変更例を示す縦断面図で
ある。

【図５】洗浄液強制流通手段の更に他の変更例を示す縦
断面図である。

【符号の説明】

１ 駆動ロールロール ２ 洗浄槽 ２ａ 洗浄液 ３ ガイドロール ４ 溢流壁 ５ 洗浄筒 ５ａ 通路 ６ ポンプ ７ 噴口 ８ 洗浄液タンク ９ 導管

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】長尺被洗浄物を走行移動の間に洗浄するた
   めの洗浄筒と、洗浄筒内で洗浄液を強制流通させるため
   の洗浄液強制流通手段を備え、長尺被洗浄物は洗浄筒内
   の強制流通洗浄液中を走行移動する間に洗浄を受ける構
   成になっていることを特徴とする長尺被洗浄物の洗浄装
   置。
2. 【請求項２】洗浄筒が洗浄槽の洗浄液中に浸漬状態に設
   置され、この浸漬設置状態に於いて、洗浄筒内に洗浄液
   が強制流通されることを特徴とする請求項１記載の洗浄
   装置。
3. 【請求項３】洗浄筒内を、洗浄液が０．５〜５０m/sec
   の流速で強制流通されることを特徴とする請求項１又は
   ２記載の洗浄装置。
4. 【請求項４】長尺被洗浄物が縦型洗浄槽内の洗浄液中を
   縦方向に少なくとも１往復するように走行移動され、往
   路と復路の走行移動中に、洗浄筒内をそれぞれ通過し、
   この通過の間に、洗浄筒内の強制流通洗浄液と接触する
   構成とされていることを特徴とする請求項１〜３のいず
   れかに記載の洗浄装置。
5. 【請求項５】半導体装置の製造に適用されるリードフレ
   ーム等のようなテープ状又はリボン状の長尺被洗浄物の
   洗浄に適用されることを特徴とする請求項１〜４のいず
   れかに記載の洗浄装置。
6. 【請求項６】チップ部材搭載後の長尺被洗浄物の洗浄に
   適用されることを特徴とする請求項５記載の洗浄装置。