JP2000185963A - セラミックキャピラリリブを形成するためのセラミックペースト - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】少ない工程で材料の無駄なく、簡便にかつ精度
良くセラミックキャピラリリブを形成し、キャピラリリ
ブの形状を保ってセラミックリブを形成する。 【解決手段】塑性変形によってセラミックキャピラリリ
ブを形成可能なセラミックペーストである。このペース
トはガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末が３０
〜９５重量％と、樹脂が０．３〜１５重量％と、溶媒が
３〜７０重量％とを含む。溶媒が複数種類の溶剤と可塑
剤と分散剤の混合物であり、これらの溶剤の各沸点が３
０℃以上異なる。ペーストの塗布してペースト膜１１に
した後、この状態でペースト膜１１にブレード１２をつ
き刺し、このブレードをペースト膜１１に対して相対的
に一定方向に移動することにより、ペースト膜１１を塑
性変形してセラミックキャピラリリブ１３が形成され
る。キャピラリリブの乾燥時に複数種類の溶剤が順次揮
発し、キャピラリリブの形状を保つ。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ＰＤＰ（plasma d
isplay panel: プラズマディスプレイパネル）、ＰＡＬ
Ｃ（plasma addressed liquid crystal display）等の
ＦＰＤ（flat panel display）の製造工程におけるセラ
ミックキャピラリリブ（ceramic capillaryrib）を形成
するためのセラミックペースト及びこのキャピラリリブ
から作られたセラミックリブ並びにこのセラミックリブ
を有するＦＰＤに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、セラミックリブは、図７に示すよ
うにガラス基板１の上にガラス粉末を含むリブ形成用ペ
ースト２を厚膜印刷法により所定のパターンで位置合わ
せをして多数回重ね塗りし、乾燥した後に焼成し、基板
１上に所定の間隔をあけて作られている。このリブ８の
高さＨは通常１００〜３００μｍ、リブの幅Ｗは通常５
０〜１００μｍ程度であって、リブとリブで挟まれるセ
ル９の広さＳは通常１００〜３００μｍ程度である。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の厚
膜印刷法によるセラミックリブの形成方法では、リブの
幅Ｗが５０〜１００μｍ程度と比較的狭くかつ印刷後に
ペーストがだれ易いため、厚膜の一回塗りの厚さは焼成
上がりで１０〜２０μｍ程度に小さく抑えなければなら
ない。この結果、この方法では高さＨが１００〜３００
μｍのリブを作るために、厚膜を１０〜２０回もの多く
の回数重ね塗りする必要があり、その上重ね塗りした後
のリブの高さＨをリブの幅Ｗで除したＨ／Ｗが１．５〜
４程度と大きいために、厚膜印刷時に十分に位置合わせ
をしても精度良くリブを形成しにくい欠点があった。本
発明の目的は、少ない工程で材料の無駄なく、簡便にか
つ精度良くセラミックキャピラリリブを形成でき、キャ
ピラリリブの形状を保ってセラミックリブを形成し得る
セラミックペーストを提供することにある。本発明の別
の目的は、このキャピラリリブから作られたセラミック
リブ並びにこのセラミックリブを有するＦＰＤを提供す
ることにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
塑性変形によってセラミックキャピラリリブを形成可能
なセラミックペーストであって、ガラス粉末又はガラス
・セラミック混合粉末が３０〜９５重量％と、樹脂が
０．３〜１５重量％と、溶媒が３〜７０重量％とを含
み、溶媒が複数種類の溶剤と可塑剤と分散剤の混合物で
あり、これらの溶剤の各沸点が３０℃以上異なることを
特徴とするセラミックペーストである。この請求項１に
記載されたセラミックペーストでは、上記のようにペー
ストを配合することにより粘度が１０００〜５００，０
００ｃｐｓのペーストを得ることができ、基板上に形成
されたセラミックキャピラリリブのだれを抑制してセラ
ミックキャピラリリブを精度良く形成する。なお、ペー
ストの粘度は５，０００〜５００，０００ｃｐｓが好ま
しく、１０，０００〜３００，０００ｃｐｓが更に好ま
しい。この所定の粘度を有するペーストに所定の外力を
加えると、ペーストが所望の形状のセラミックキャピラ
リリブに変形し、上記外力を取り去ってもセラミックペ
ーストは元に戻らずに、上記セラミックキャピラリリブ
は変形した後の形状に保たれる。各沸点が３０℃以上異
なる複数種類の溶剤を含ませることにより、キャピラリ
リブの乾燥時に複数種類の溶剤が順次揮発するため、キ
ャピラリリブの形状が歪むことなくその形状を保ったま
まセラミックリブを作製することができる。

【０００５】請求項２に係る発明は、図１に示すよう
に、請求項１に係る発明であって、塑性変形がセラミッ
クペースト膜１１に所定のくし歯１２ｂを有するブレー
ド１２をつき刺し、ブレード１２をペースト膜１１に対
して相対的に一定方向に移動することにより行われるペ
ーストである。この請求項２に記載されたセラミックペ
ーストでは、塑性変形がくし歯１２ｂをペースト膜１１
につき刺した状態でブレード１２をペースト膜１１に対
して相対的に一定方向に移動することにより行われる。
即ち、ペースト膜１１のうちブレード１２のくし歯１２
ｂに対応する箇所のペーストがくし歯１２ｂの隙間に移
動するか若しくは掃き取られるので、ペースト膜１１が
くし歯１２ｂの隙間の形状に変形し、かつくし歯１２ｂ
の隙間の形状に保たれる。この結果、基板１０表面にセ
ラミックキャピラリリブ１３が形成される。

【０００６】なお、本明細書で「セラミックキャピラ
リ」とは、本発明のガラス粉末又はガラス・セラミック
混合粉末と有機バインダと溶剤と可塑剤と分散剤を含む
セラミックペーストを塗布した後の大部分の有機バイン
ダと溶剤と可塑剤と分散剤が残存している状態をいう。
また「セラミックグリーン」とは、ガラス粉末又はガラ
ス・セラミック混合粉末と樹脂と可塑剤と分散剤が残存
している状態で、溶剤の大部分が残存していない状態を
いう。

【０００７】

【発明の実施の形態】次に本発明の第１の実施の形態を
図面に基づいて説明する。図１に示すように、セラミッ
クキャピラリリブ１３は基板１０の表面にセラミックペ
ーストを塗布して形成されたセラミックペースト膜１１
に、ブレード１２に形成されたくし歯１２ｂをつき刺
し、ブレード１２のエッジ１２ａを基板１０表面に接触
させた状態でブレード１２又は基板１０を一定方向に移
動することにより基板１０表面に形成される。セラミッ
クペーストは、ガラス粉末又はガラス・セラミック混合
粉末と樹脂と溶媒（複数種類の溶剤と可塑剤と分散剤）
とを含むペーストであり、ガラス粉末はＳｉＯ₂、Ｚｎ
Ｏ、ＰｂＯ等を主成分として、その軟化点が３００℃〜
６００℃であることが必要である。

【０００８】ガラス・セラミック混合粉末とはＳｉ
Ｏ₂、ＺｎＯ、ＰｂＯ等を主成分とするガラス粉末と、
フィラーの役割を果すアルミナ、コージェライト、ムラ
イト、フォルステライト等のセラミック粉末とを含むも
のであり、このセラミック粉末は形成されるリブ１３の
熱膨張係数をガラス基板１０の熱膨張係数と均等にする
ため、及び焼成後のセラミックリブの強度を向上させる
ために混合される。セラミック粉末は６０容積％以下が
好ましい。セラミック粉末が６０容積％以上になるとリ
ブが多孔質になり好ましくない。なお、ガラス粉末及び
セラミック粉末の粒径はそれぞれ０．１〜３０μｍであ
ることが好ましい。ガラス粉末及びセラミック粉末の粒
径が０．１μｍ未満であると凝集し易くその取扱いが煩
わしくなる。また、３０μｍを越えると後述するブレー
ド１２の移動時に所望のリブ１３が形成できなくなる不
具合がある。

【０００９】セラミックペーストは、ガラス粉末又はガ
ラス・セラミック混合粉末を３０〜９５重量％、樹脂を
０．３〜１５重量％、溶媒（複数種類の溶剤と可塑剤と
分散剤）を３〜７０重量％それぞれ配合する。また、ガ
ラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末を７０〜９０
重量％、樹脂を０．５〜３．５重量％、溶媒（複数種類
の溶剤と可塑剤と分散剤）を７〜２０重量％それぞれ配
合することが好ましい。ガラス粉末又はガラス・セラミ
ック混合粉末を３０〜９５重量％の範囲に限定したの
は、３０重量％未満ではブレードを用いて所定の形状の
セラミックキャピラリリブを得るのが困難になり、９５
重量％を越えると基板表面にペーストを均一に塗布する
ことが困難になるからである。また樹脂を０．３〜１５
重量％の範囲に限定したのは、０．３重量％未満ではブ
レードを用いて所定の形状のセラミックキャピラリリブ
を得るのが困難になり、１５重量％を越えると基板表面
にペーストを均一に塗布することが困難になり、かつ焼
成後のセラミックリブ内に有機物が残存するという不具
合があるからである。更に溶媒を３〜７０重量％の範囲
に限定したのは、３重量％未満では基板表面にペースト
を均一に塗布することが困難になるからであり、７０重
量％を越えるとブレードを用いて所定の形状のセラミッ
クキャピラリリブを得るのが困難になるからである。セ
ラミックペーストを上記のように配合することにより粘
度が１０００〜５００，０００ｃｐｓのペーストを得る
ことができ、基板上に形成されたセラミックキャピラリ
リブ１３のだれを抑制してセラミックキャピラリリブ１
３を精度良く形成することができる。

【００１０】樹脂はバインダとしての機能を有し、熱分
解しやすく、溶剤に溶けて高粘度を有するポリマーであ
って、エチルセルロース、アクリル又はポリビニルブチ
ラールなどが挙げられる。溶剤としてはアルコール系、
エーテル系、芳香族系等の有機溶剤もしくは水が挙げら
れる。有機溶剤はアルコール系及びエーテル系が好まし
い。好ましいアルコールにはトリエチレングリコール、
αテレピネオール等が挙げられる。また好ましいエーテ
ルにはジエチルエーテル等が挙げられる。複数種類の溶
剤は沸点がそれぞれ３０℃以上異なる。最も配合量の多
い溶剤の配合割合は８０重量％以下が好ましく、６０重
量％以下が更に好ましい。また最も配合量の少ない溶剤
の配合割合は１０重量％以上が好ましく、３０重量％以
上が更に好ましい。キャピラリリブ形成後の乾燥時にこ
れらの溶剤が順次揮発し易くなるためである。これらの
溶剤を例示すれば、１５０℃前後の沸点の溶剤としてメ
トキシエチルアセテート、２−エトキシエタノール等が
あり、２００℃前後の沸点の溶剤としてαテレピネオー
ルがあり、３００℃以上の沸点の溶剤としてテトラエチ
レングリコール、１，５−ペンタンジオール等があるの
で、これらを適宜組合せることにより、本発明の溶剤が
得られる。可塑剤としてはグリセリン、ジブチルフタレ
ート等が挙げられ、分散剤としてはベンゼンやスルフォ
ン酸等が挙げられる。

【００１１】セラミックペーストの基板１０表面への塗
布は、ローラコーティング法、スクリーン印刷法、ディ
ップ法又はドクタブレード法等の既存の手段により行わ
れる。基板１０表面にペーストが塗布されペースト膜１
１が形成された後、３〜６時間程度放置される。次いで
ペースト膜１１をブレード１２により塑性変形させてセ
ラミックキャピラリリブ１３を形成する。このペースト
膜１１の形成された基板１０表面に接触させるブレード
１２には複数のくし歯１２ｂが等間隔にかつ同一方向に
形成される。このブレード１２はセラミックペーストと
の反応やペーストに溶解されることのない金属、セラミ
ック又はプラスチック等により作られ、特に、寸法精
度、耐久性の観点からセラミック若しくはＦｅ，Ｎｉ，
Ｃｏ基の合金が好ましい。それぞれのくし歯１２ｂの隙
間はこのブレード１２により形成されるセラミックキャ
ピラリリブ１３の断面形状に相応して形成される。図３
及び図４に示すように、本実施の形態におけるブレード
１２は厚さｔが０．７ｍｍのステンレススチールにより
形成され、くし歯１２ｂのピッチＰが３００μｍであっ
て、くし歯１２ｂの隙間の深さｈが３００μｍに形成さ
れる。

【００１２】ここで、ブレード１２は、厚さｔが０．０
１ｍｍ以上３．０ｍｍ以下であって、くし歯１２ｂのピ
ッチをＰとし、くし歯１２ｂの隙間をｗ、その隙間の深
さをｈとするとき、０．０３ｍｍ≦ｈ≦１．０ｍｍであ
りかつｗ／Ｐ≦０．９の関係にあって、くし歯１２ｂの
ピッチＰは５０μｍ以上であることが好ましい。これら
の条件を満たすブレード１２により形成されたセラミッ
クキャピラリリブ１３は、その後の乾燥及び焼成により
引き締り、所望のリブの隙間を有する緻密なセラミック
リブを得ることができる。また、くし歯１２ｂの隙間の
形状は図３に示すように方形状に形成する場合のみなら
ず、最終的に作られるＦＰＤの用途によりくし歯１２ｂ
の隙間の形状を台形状又は逆台形に形成してもよい。く
し歯１２ｂの隙間の形状を台形にすれば、開口部を広く
した用途に適したセラミックキャピラリリブ１３を形成
することができ、くし歯１２ｂの隙間の形状を逆台形に
すれば、リブの頂部が広い面積で平坦化したセラミック
キャピラリリブ１３を形成することができる。

【００１３】図１に戻って、このように構成されたブレ
ード１２によるセラミックキャピラリリブ１３の形成
は、ブレード１２のくし歯１２ｂをペースト膜１１につ
き刺し、エッジ１２ａを基板１０表面に接触させた状態
で、基板１０を固定して図１の実線矢印で示すようにブ
レード１２を一定方向に移動するか、又はブレード１２
を固定して図１の破線矢印で示すように基板１０を一定
方向に移動させてペースト膜１１を塑性変形させること
により行われる。即ち、上記移動により基板１０表面に
塗布されたペーストのブレード１２のくし歯１２ｂに対
応する箇所は、くし歯１２ｂの隙間に移動するか若しく
は掃き取られ、くし歯１２ｂの隙間に位置するペースト
のみが基板１０上に残存して基板１０表面にセラミック
キャピラリリブ１３が形成される。くし歯の溝の深さが
ペースト膜１１の厚さより大きい場合にはブレード１２
又はガラス基板１０を移動するときに掃き取られたペー
ストが溝に入り込みペースト膜１１の厚さ以上の高さを
有するセラミックキャピラリリブ１３を形成できる。こ
のセラミックキャピラリリブ１３を形成した後、大気中
１００〜２００℃で１０〜３０分間乾燥してセラミック
グリーンリブを形成する。本発明ではセラミックペース
トに各沸点が３０℃以上異なる複数種類の溶剤を含ませ
ているため、乾燥時に溶剤が一度に揮発せず、単一種類
の溶剤を含んでいた場合と比較して、キャピラリリブ１
３の形状が良好に保たれてセラミックグリーンリブにな
る。続いて脱バインダのため大気中３００〜４００℃で
３０分間〜３時間加熱し、更に大気中５２０〜５８０℃
で１０〜３０分間焼成することにより、図２に示す型崩
れのないセラミックリブ１４になる。このセラミックリ
ブを用いて図示しないＰＤＰ、ＰＡＬＣ等のＦＰＤを作
製することができる。

【００１４】上述のようにして基板１０上に形成された
セラミックリブ１４は、図２の拡大した円内に示すよう
に、リブ１４の高さをＨとし、高さ（１／２）Ｈのとこ
ろのリブ１４の幅をＷ_C、高さ（３／４）Ｈのところの
リブ１４の幅をＷ_M及び高さ（９／１０）Ｈのところの
リブ１４の幅をＷ_Tとするとき、Ｈ、Ｗ_C、Ｗ_M及びＷ_Tの
それぞれの（最大値−平均値）／平均値で表されるばら
つきが５％以下であって、Ｈ／Ｗ_Cで表されるアスペク
ト比が１．５〜１０であることが好ましい。アスペクト
比が１．５〜１０であることにより、極めて高精細なセ
ラミックリブ１４が得られる。

【００１５】図５及び図６は本発明の第２の実施の形態
を示す。図５及び図６において図１及び図２と同一符号
は同一部品を示す。この実施の形態では、上記第１の実
施の形態と同様に基板１０の表面に形成されたセラミッ
クペースト膜１１にブレード１２のくし歯１２ｂをつき
刺し、ブレード１２のエッジ１２ａを基板１０表面から
所定の高さ浮上した状態でブレード１２又は基板１０を
一定方向に移動してペースト膜１１を塑性変形させるこ
とにより、基板１０表面にセラミックキャピラリ層２２
とこのセラミックキャピラリ層２２上にセラミックキャ
ピラリリブ２３が形成される。ペーストの成分及びペー
ストの塗布方法は上記第１の実施の形態と同一に構成さ
れる。

【００１６】ブレード１２によるセラミックキャピラリ
リブ２３の形成は、図５に示すように、ブレード１２の
エッジ１２ａをペースト膜１１を形成した基板１０表面
から所定の高さ浮上した状態で基板１０を固定して実線
矢印で示すようにブレード１２を一定方向に移動する
か、又はブレード１２を固定して破線矢印で示すように
基板１０を一定方向に移動させることにより行われる。
この移動により基板１０表面から所定の高さまでのペー
ストは基板表面上に残存してセラミックキャピラリ層２
２を形成し、このセラミックキャピラリ層２２より上方
のペーストにおけるブレード１２のくし歯１２ｂに対応
する箇所はくし歯１２ｂの隙間に移動するか若しくは掃
き取られ、くし歯１２ｂの隙間に位置するペーストのみ
がセラミックキャピラリ層２２上に残存してセラミック
キャピラリ層２２上にセラミックキャピラリリブ２３が
形成される。

【００１７】次に上記セラミックキャピラリ層２２及び
セラミックキャピラリリブ２３から上記第１の実施の形
態の方法と同様にして、図５に示す基板１０上に絶縁層
２４が形成され、この絶縁層２４上にセラミックリブ２
５が形成される。絶縁層２４上に形成されたセラミック
リブ２５は、図６の拡大した円内に示すように、リブ２
５の高さをＨとし、高さ（１／２）Ｈのところのリブ２
５の幅をＷ_C、高さ（３／４）Ｈのところのリブ２５の
幅をＷ_M及び高さ（９／１０）Ｈのところのリブ２５の
幅をＷ_Tとするとき、Ｈ、Ｗ_C、Ｗ_M及びＷ_Tのそれぞれの
（最大値−平均値）／平均値で表されるばらつきが５％
以下であって、Ｈ／Ｗ_Cで表されるアスペクト比が１．
５〜１０であることが好ましい。アスペクト比が１．５
〜１０であることにより、極めて高精細なセラミックリ
ブ２５が得られる。

【００１８】

【実施例】次に本発明の実施例を比較例とともに詳しく
説明する。 ＜実施例１＞平均粒径０．８μｍのＰｂＯ−ＳｉＯ₂−
Ｂ₂Ｏ₃系ガラス粉末を８０重量％と、セラミックフィラ
ーとして平均粒径０．３μｍのアルミナ粉末を２０重量
％とを用意し、両者を十分に混合した。この混合粉末と
樹脂としてのエチルセルロースと溶媒とを重量比で８０
／０．５／１９．５の割合で配合し、十分に混練してセ
ラミックペーストを得た。溶媒はメトキシエチルアセテ
ート、αテレピネオール及びテトラエチレングリコール
の３種類の溶剤を重量比で１／１／１の割合で混合して
調製した。対角寸法が４０インチであって、厚さが３ｍ
ｍのソーダライム系の長方形のガラス基板１０を固定し
た状態で、このガラス基板１０上に上記ペーストを図１
に示すようにローラコーティング法により厚さ２５０μ
ｍで塗布してペースト膜１１を形成した。

【００１９】一方、くし歯１２ｂのピッチＰが３００μ
ｍであって、くし歯１２ｂの隙間ｗが１５０μｍ、その
深さｈが３００μｍ、厚さｔが０．７ｍｍのステンレス
鋼により形成されたブレード１２を用意した（図３及び
図４）。ペーストを塗布してから大気中室温下で３時間
放置した後、ガラス基板を固定したまま、このブレード
１２のくし歯１２ｂをペースト膜につき刺し、そのエッ
ジ１２ａをガラス基板１０に接触させた状態で、図１の
実線矢印で示す方向にブレード１２を一定方向に移動し
てペースト膜１１を塑性変形させることにより、基板１
０表面にセラミックキャピラリリブ１３を形成した。

【００２０】＜実施例２＞平均粒径２μｍのＰｂＯ−Ｓ
ｉＯ₂−Ｂ₂Ｏ₃系ガラス粉末を５０重量％と、セラミッ
クフィラーとして平均粒径１μｍのアルミナ粉末を５０
重量％とを用意し、両者を十分に混合して混合粉末を作
製した。この混合粉末と樹脂としてのエチルセルロース
と溶媒とを重量比で７５／１／２４の割合で配合し、十
分に混練してセラミックペーストを得た。溶媒は２−エ
トキシエタノール、αテレピネオール及び１，５−ペン
タンジオールの３種類の溶剤を重量比で２／２／１の割
合で混合して調製した。このペーストを実施例１と同様
にして実施例１と同じガラス基板上に塗布しペースト膜
を形成した。大気中室温下で３時間放置した後、このペ
ースト膜にブレードをつき刺して移動し、ペースト膜を
塑性変形させることにより、基板表面にセラミックキャ
ピラリリブを形成した。

【００２１】＜比較例１＞図７に示すように、ソーダラ
イム系ガラス基板１上にガラス粉末と有機バインダと溶
媒とを含む粘度が５０，０００ｃｐｓのリブ形成用ペー
スト２をスクリーン印刷法により所定のパターンで位置
合わせをして印刷し、１５０℃で１０分間乾燥する工程
を１２回繰返して重ね塗りした。この重ね塗りはセラミ
ックグリーンリブ２の高さＨが２００μｍとなるように
設定した。上記リブ形成用ペーストとしてはＳｉＯ₂、
ＺｎＯ及びＰｂＯを主成分とするガラス粉末とＡｌ₂Ｏ₃
粉末とを含む。また有機バインダとしてはエチルセルロ
ースを用い、更に溶媒としてはα−テレピネオールを用
いた。これにより所定の間隔（セル９の広さＳ）をあけ
てセラミックグリーンリブ２を形成した。次に基板１上
にセラミックグリーンリブ２が形成された構造体を大気
中で５５０℃で１時間熱処理することにより、基板１上
に高さＨが約１７０μｍのセラミックリブ８を形成し
た。

【００２２】＜比較試験及び評価＞実施例１及び実施例
２の基板１０に形成されたセラミックキャピラリリブ１
３を大気中１５０℃で２０分間乾燥して溶媒を脱離させ
ることによりセラミックグリーンリブ（図示せず）に
し、更に脱バインダのために３５０℃で６０分間加熱し
た後に、大気中５３０℃で１０分間焼成してセラミック
リブ１４とした。このように焼成して得られた実施例１
及び実施例２のセラミックリブ１４のそれぞれ任意の１
００本と、比較例１で得られたセラミックリブ８の任意
の１００本について、その高さＨ及び幅を以下のように
それぞれ測定した。図２に示すように、実施例１，２及
び比較例１の基板上の任意の１００本のセラミックリブ
の幅の測定は、セラミックリブの高さをＨとしたときの
高さ（１／２）Ｈのところのリブの幅Ｗ_Cと、高さ（３
／４）Ｈのところのリブの幅Ｗ_Mと、高さ（９／１０）
Ｈのところのリブの幅Ｗ_Tとをそれぞれ測定することに
より行った。またこれらの測定値の平均値を算出した
後、Ｈ、Ｗ_C、Ｗ_M及びＷ_Tのそれぞれの（最大値又は最
小値−平均値）／平均値で表されるばらつきを算出し
た。表１に実施例１，２の結果を比較例１の結果と対比
させて示す。

【００２３】

【表１】

【００２４】表１から明らかなように、比較例１と比べ
て、実施例１及び実施例２では、セラミックキャピラリ
リブを形成した後、これを乾燥するときに３種類の溶剤
が順次揮発するため、キャピラリリブの形崩れがなく、
そのままの形状でセラミックグリーンリブができ、この
グリーンリブから高さと幅のばらつきの小さいセラミッ
クリブを基板上に形成できることが判った。

【００２５】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、セ
ラミックペーストを塑性変形させてセラミックキャピラ
リリブを形成したので、所定の粘度を有するペーストに
所定の外力を加えると、ペーストが所望の形状のセラミ
ックキャピラリリブに変形し、上記外力を取り去っても
ペーストは元に戻らずに、上記セラミックキャピラリリ
ブは変形した後の形状に保たれる。またセラミックペー
ストがガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末が３
０〜９５重量％と、樹脂が０．３〜１５重量％と、溶媒
が３〜７０重量％とを含むように構成すれば、所定の粘
度のペーストを得ることができ、セラミックキャピラリ
リブのだれを抑制できる。この結果、少ない工程で材料
の無駄なく、簡便にかつ精度良くセラミックキャピラリ
リブを形成することができる。またこの塑性変形をセラ
ミックペースト膜にくし歯をつき刺した状態でブレード
をペースト膜に対して相対的に一定方向に移動すること
により行うと、ペースト膜のうちブレードのくし歯に対
応する箇所のペーストがくし歯の隙間に移動するか若し
くは掃き取られるので、ペースト膜がくし歯の隙間の形
状に変形し、かつくし歯の隙間の形状に保たれる。この
結果、上記と同様に少ない工程で材料の無駄なく、簡便
にかつ精度良くセラミックキャピラリリブを形成するこ
とができる。

【００２６】上記溶媒に各沸点が３０℃以上異なる複数
種類の溶剤を含ませることにより、キャピラリリブの乾
燥時に複数種類の溶剤が順次揮発するため、キャピラリ
リブの形状が歪むことなくその形状を保ったままセラミ
ックリブを作製することができる。本発明のセラミック
キャピラリリブを乾燥焼成すれば、高精細なセラミック
リブを形成でき、かつこのセラミックリブをＦＰＤに利
用すれば、高品質のＦＰＤが得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明第１実施形態のセラミックキャピラリリ
ブの形成状態を示す斜視図。

【図２】図１のＡ−Ａ線断面におけるセラミックキャピ
ラリリブを乾燥、加熱及び焼成することにより得たセラ
ミックリブを示す断面図。

【図３】そのブレードの正面図。

【図４】図３のＢ−Ｂ線断面図。

【図５】本発明第２実施形態のセラミックキャピラリ層
付リブの形成状態を示す図１に対応する斜視図。

【図６】図５のＢ−Ｂ線断面におけるセラミックキャピ
ラリ層付リブを乾燥、加熱及び焼成することにより得た
絶縁層付セラミックリブを示す図２に対応する断面図。

【図７】従来のセラミックリブの形成を工程順に示す断
面図。

【符号の説明】

１０ ガラス基板 １１ セラミックペースト膜 １２ ブレード １２ａ エッジ １２ｂ くし歯 １３，２３ セラミックキャピラリリブ １４，２５ セラミックリブ ２２ セラミックキャピラリ層 ２４ 絶縁層

フロントページの続き (72)発明者 神田 義雄 埼玉県大宮市北袋町１丁目297番地 三菱 マテリアル株式会社総合研究所内 (72)発明者 黒光 祥郎 埼玉県大宮市北袋町１丁目297番地 三菱 マテリアル株式会社総合研究所内 Ｆターム(参考） 4G030 AA32 AA37 AA40 AA67 BA12 CA07 GA17 GA20 HA04 HA09 HA18 HA25 5C027 AA09 5C040 GF18 GF19 JA02 JA11 JA20 JA22 JA28 KA11 KA17 LA17 MA24 MA26

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 塑性変形によってセラミックキャピラリ
   リブを形成可能なセラミックペーストであって、 ガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末が３０〜９
   ５重量％と、樹脂が０．３〜１５重量％と、溶媒が３〜
   ７０重量％とを含み、 前記溶媒が複数種類の溶剤と可塑剤と分散剤の混合物で
   あり、前記複数種類の溶剤の各沸点が３０℃以上異なる
   ことを特徴とするセラミックキャピラリリブを形成する
   ためのセラミックペースト。
2. 【請求項２】 塑性変形がセラミックペースト膜(11)に
   所定のくし歯(12b)を有するブレード(12)をつき刺し、
   前記ブレード(12)を前記ペースト膜(11)に対して相対的
   に一定方向に移動することにより行われる請求項１記載
   のセラミックペースト。
3. 【請求項３】 請求項１又は２記載のセラミックペース
   トを用いて形成したセラミックキャピラリリブを乾燥焼
   成してなるセラミックリブ。
4. 【請求項４】 請求項３記載のセラミックリブを有する
   ＰＤＰ。