JP2000183679A - Grating type surface acoustic wave filter - Google Patents
Grating type surface acoustic wave filterInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、圧電体或いは強誘
電体の基板に電極が形成された1端子対弾性表面波(以
下、SAWという)共振子を多段の梯型に接続したSA
Wフィルタに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an SA in which a one-terminal-pair surface acoustic wave (hereinafter referred to as "SAW") resonator having electrodes formed on a piezoelectric or ferroelectric substrate is connected in a multistage ladder shape.
It relates to a W filter.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、SAW共振子を用いたSAWフィ
ルタに関する技術としては、例えば次のような文献に記
載されたものがある。 文献1;電子情報通信学会論文誌A、J76-A [2](1993
−2)、佐藤 他著“SAW共振器を用いた低損失帯域フ
ィルタ”P.245-252 文献2;電子情報通信学会論文誌A、J76-A [2](1993
−2)、疋田 他著“移動無線通信機用SAWフィルタの
実験”P.233-244 文献3;日本応用物理学会論文誌、36[5B](1997
-5)、NoritoshiKimura 他著、“The Power Durabilit
y of 900MHz BandDouble-Mode-Type Surface Acoustic
Wave Filters andImprovement in Power Durability of
Al-Cu Thin FilmElectrodes by Cu Atom Segregation
”P.3101-3106 前記文献1〜3には、SAWフィルタの構成及びSAW
フィルタの寿命等について記載されている。2. Description of the Related Art Conventionally, as a technique relating to a SAW filter using a SAW resonator, there is a technique described in the following document, for example. Reference 1: IEICE Transactions A, J76-A [2] (1993)
−2), Sato et al., “Low-Loss Bandpass Filter Using SAW Resonator” P.245-252 Reference 2; IEICE Transactions A, J76-A [2] (1993)
−2), Hikita et al., “Experiment on SAW Filters for Mobile Radio Communication Equipment”, P.233-244 Reference 3; Transactions of the Japan Society of Applied Physics, 36 [5B] (1997
-5), Noritoshi Kimura et al., “The Power Durabilit
y of 900MHz BandDouble-Mode-Type Surface Acoustic
Wave Filters and Improvement in Power Durability of
Al-Cu Thin FilmElectrodes by Cu Atom Segregation
Pp. 3101-3106 The documents 1 to 3 disclose the configuration of the SAW filter and the SAW filter.
It describes the life of the filter.
【0003】図2は、前記文献1〜3に示された従来の
SAWフィルタの基本構成を示す回路図であり、図3
は、図2の周波数特性を示す特性図である。1端子対S
AW共振子を梯子型に接続したSAWフィルタは、SA
W共振子10を、図2のように直列腕と並列腕とに用
い、これを梯子型に接続し、直列腕の周波数特性11に
より、フィルタの高域の減衰極13を形成し、並列腕の
周波数特性12により、フィルタの低域の減衰極14を
形成して帯域フィルタにしたものである。FIG. 2 is a circuit diagram showing a basic configuration of the conventional SAW filter shown in the above-mentioned documents 1-3.
3 is a characteristic diagram showing the frequency characteristics of FIG. One terminal pair S
A SAW filter in which AW resonators are connected in a ladder form has a SA
As shown in FIG. 2, the W resonator 10 is used for a series arm and a parallel arm, which are connected in a ladder form, and a high-frequency attenuation pole 13 of the filter is formed by the frequency characteristic 11 of the series arm. Is formed as a bandpass filter by forming a low-pass attenuation pole 14 of the filter by the frequency characteristic 12 of FIG.
【0004】図4は、図2のSAW共振子10の要部を
示す構成図であり、斜視図とA部分拡大図が示されてい
る。SAW共振子10は、基板15に形成されてSAW
を送受するためのすだれ状電極(以下、IDTという)
16を持ち、その両側には、金属ストリップによるグレ
ーティング反射器17が配置されている。定K型フィル
タの理論から、直列腕における共振周波数と並列腕の反
共振周波数とを一致させることにより、帯域フィルタが
実現できる。通常、1段だけでは減衰量が不十分なた
め、例えば4段構成にする。FIG. 4 is a structural view showing a main part of the SAW resonator 10 shown in FIG. 2, which shows a perspective view and an enlarged view of a part A. The SAW resonator 10 is formed on the substrate 15
Electrode (hereinafter referred to as IDT) for transmitting and receiving
On both sides, a grating reflector 17 of a metal strip is arranged. From the theory of the constant K filter, a bandpass filter can be realized by matching the resonance frequency of the series arm with the antiresonance frequency of the parallel arm. Normally, the attenuation is insufficient with only one stage, and therefore, for example, a four-stage configuration is used.
【0005】図5は、4段構成の梯子型SAWフィルタ
の回路図であり、図6は、図5のSAWフィルタの構成
図であり、図7は、図5のSAWフィルタの周波数特性
を示す特性図である。4段構成の梯子型SAWフィルタ
の場合、1段目の直列腕のSAW共振子10 s1と、2段
目の直列腕のSAW共振子10s2と、3段目の直列腕の
SAW共振子10s3と、4段目の直列腕のSAW共振子
10s4とが、全体の直列腕になっている。この直列腕に
対して、1段目の並列腕のSAW共振子10p1と、2段
目の並列腕のSAW共振子10p2と、3段目の並列腕の
SAW共振子10p3と、4段目の並列腕のSAW共振子
10p4とが、梯子型に接続されている。図8は、従来の
SAWフィルタの製造工程を示す断面図である。FIG. 5 shows a ladder type SAW filter having a four-stage configuration.
FIG. 6 is a circuit diagram of the SAW filter of FIG.
FIG. 7 is a diagram showing a frequency characteristic of the SAW filter shown in FIG.
FIG. Ladder type SAW filter with four stages
, The SAW resonator 10 of the first-stage series arm s1And two steps
SAW resonator 10 in series arm of eyes2And the third arm
SAW resonator 10s3And SAW resonator with fourth-stage series arm
10s4And, it is the whole series arm. To this series arm
On the other hand, the SAW resonator 10 of the first-stage parallel armp1And two steps
SAW resonator 10 of the parallel arm of the eyep2And the third stage of the parallel arm
SAW resonator 10p3And SAW resonator of the fourth parallel arm
10p4And are connected in a ladder form. FIG. 8 shows a conventional
It is sectional drawing which shows the manufacturing process of a SAW filter.
【0006】図5のSAWフィルタは、例えば図8
(a)〜(e)の工程を経て形成される。まず、図8
(a)の工程では、例えば、結晶方位が36°Y−Xの
LiTaO 3 単結晶基板15を用意し、該基板15のパ
ターン形成予定面にレジスト18をスピンコートで塗布
する。図8(b)の工程において、レジスト18が塗布
された基板15に対して光学マスク19を設定し、光2
0で露光することにより、レジスト18にSAWフィル
タのパターンを転写する。図8(c)の工程において、
現像で不要なレジスト18を選択的に除去する。図8
(d)の工程において、不要なレジスト18が除去され
た基板15の上全面に、SAW共振子のIDT16とな
る電極金属のAl(アルミニウム)薄膜21を蒸着す
る。図8(e)の工程において、有機溶剤を用いて、A
l薄膜21の不要な部分をレジスト18と共に除去す
る。[0006] The SAW filter shown in FIG.
It is formed through the steps (a) to (e). First, FIG.
In the step (a), for example, the crystal orientation is 36 ° YX
LiTaO ThreeA single crystal substrate 15 is prepared, and the substrate 15
Apply resist 18 by spin coating on the surface where turn is to be formed
I do. 8B, a resist 18 is applied.
The optical mask 19 is set for the substrate 15 thus
By exposing the resist 18 to the SAW film,
Transfer the pattern. In the step of FIG.
Unnecessary resist 18 is selectively removed by development. FIG.
In the step (d), the unnecessary resist 18 is removed.
The IDT 16 of the SAW resonator is formed on the entire surface of the
Al (aluminum) thin film 21 of electrode metal is deposited
You. In the step of FIG. 8E, A
l Remove unnecessary portions of the thin film 21 together with the resist 18.
You.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、梯子型
SAWフィルタでは、次のような課題があった。直列腕
のSAW共振子及び並列腕のSAW共振子がいずれも定
在波を利用するために、エネルギー密度が高く、トラン
スバーサル型フィルタと比較すると、耐電力的に厳しく
なる。また、SAWを利用するので、波のエネルギーが
基板15の表面から1波長以内の領域にそのエネルギー
が集中する。つまり、エネルギー密度が高くなる。この
ことは、近年の携帯電話用アンテナ共用器(デュープレ
クサ)等のように、ワットオーダーの入力電力がある場
合に、特に厳しくなる。However, the ladder type SAW filter has the following problems. Since both the SAW resonators in the series arm and the SAW resonators in the parallel arm use standing waves, the energy density is high and the power durability becomes stricter than that of a transversal filter. In addition, since the SAW is used, the energy of the wave is concentrated in a region within one wavelength from the surface of the substrate 15. That is, the energy density increases. This becomes particularly severe when there is input power on the order of watts, such as in recent years of antenna duplexers (duplexers) for mobile phones.
【0008】SAWデバイスに大きな電力が入力される
と、SAWの送受を行うIDT16に強い繰り返し応力
が加わるので、電極金属Alにマイグレレーシュンが発
生したり、発熱したりする。この対策として、現在で
は、電極金属であるAlに,Cu(銅)やTi(チタ
ン)を添加し、IDT16における耐ストレスマイグレ
ーション性や耐エレクトロマイグレーション性を向上さ
せて耐電力を向上させている。ところが、このように耐
電力を向上させようとすると、添加する金属を増加させ
なければならず、添加する金属がAl中で偏在したり、
エッチングのときに該添加金属が残ってしまったり、抵
抗値が上昇するという課題があった。When a large power is input to the SAW device, a strong repetitive stress is applied to the IDT 16 for transmitting and receiving the SAW, so that the electrode metal Al generates migreleshun or generates heat. As a countermeasure against this, at present, Cu (copper) and Ti (titanium) are added to Al which is an electrode metal to improve the resistance to stress migration and the resistance to electromigration in the IDT 16, thereby improving the power resistance. However, in order to improve the power durability in this way, the added metal must be increased, and the added metal is unevenly distributed in Al,
There has been a problem that the additional metal remains during the etching and the resistance value increases.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明のうちの第1の発明は、圧電または強誘電体
単結晶基板上に電極となるAl或いはAl合金が蒸着さ
れてそれぞれ形成された複数の1端子対SAW共振子と
外部接続用の複数のボンディングパッドとを備え、前記
複数の1端子対SAW共振子が接続パターンにより前記
複数のボンディングパッド間で梯子型に接続された梯子
型SAWフィルタにおいて、次のように構成している。
即ち、前記1端子対SAW共振子間を接続する前記接続
パターン、該1端子対SAW共振子と前記ボンディング
パッド間を接続する前記接続パターン及び該ボンディン
グパッドは、前記圧電または強誘電体単結晶基板上に蒸
着されて形成された前記Al或いはAl合金の膜上に、
該Al或いはAl合金よりも熱伝導率が高い金属で形成
された放熱膜を1層以上重ねて構成している。In order to solve the above problems, a first aspect of the present invention is to provide a piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate in which Al or an Al alloy serving as an electrode is vapor-deposited, respectively. A plurality of formed one-port SAW resonators and a plurality of bonding pads for external connection are provided, and the plurality of one-terminal SAW resonators are connected in a ladder-like manner between the plurality of bonding pads by a connection pattern. The ladder type SAW filter is configured as follows.
That is, the connection pattern for connecting the one-terminal SAW resonator, the connection pattern for connecting the one-terminal SAW resonator and the bonding pad, and the bonding pad are formed of the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate. On the Al or Al alloy film deposited and formed on,
One or more heat dissipation films made of a metal having a higher thermal conductivity than the Al or Al alloy are stacked.
【0010】第2の発明は、梯子型SAWフィルタにお
いて、次のような構成にしている。即ち、前記1端子対
SAW共振子間を接続する前記接続パターン、該1端子
対SAW共振子と前記ボンディングパッド間を接続する
前記接続パターン及び該ボンディングパッドは、前記圧
電または強誘電体単結晶基板上に1層以上に蒸着されて
形成され、前記Al或いはAl合金よりも熱伝導率が高
い金属の膜の上に、前記Al或いはAl合金の膜を重ね
て構成している。第1及び第2の発明によれば、以上の
ように梯子型SAWフィルタを構成したので、SAW共
振子の振動により基板に発生した熱は、放熱膜を伝わっ
て移動する。According to a second aspect of the present invention, a ladder type SAW filter has the following configuration. That is, the connection pattern for connecting the one-terminal SAW resonator, the connection pattern for connecting the one-terminal SAW resonator and the bonding pad, and the bonding pad are formed of the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate. The film is formed by depositing one or more layers thereon, and the Al or Al alloy film is stacked on a metal film having a higher thermal conductivity than the Al or Al alloy. According to the first and second aspects of the present invention, since the ladder-type SAW filter is configured as described above, the heat generated on the substrate by the vibration of the SAW resonator travels through the heat dissipation film.
【0011】第3の発明は、梯子型SAWフィルタにお
いて、次のような構成にしている。即ち、前記1端子対
SAW共振子間を接続する前記接続パターン、該1端子
対SAW共振子と前記ボンディングパッド間を接続する
前記接続パターン及び該ボンディングパッドは、前記圧
電または強誘電体単結晶基板上に1層以上に蒸着されて
形成され、前記Al或いはAl合金よりも熱伝導率が高
い金属の膜で構成している。第3の発明によれば、以上
のように梯子型SAWフィルタを構成したので、SAW
共振子の振動により基板に発生した熱は、Al或いはA
l合金よりも熱伝導率が高い金属の膜を伝わって移動す
るAccording to a third aspect of the present invention, a ladder type SAW filter has the following configuration. That is, the connection pattern for connecting the one-terminal SAW resonator, the connection pattern for connecting the one-terminal SAW resonator and the bonding pad, and the bonding pad are formed of the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate. One or more layers are formed thereon by vapor deposition, and are formed of a metal film having a higher thermal conductivity than the Al or Al alloy. According to the third aspect, the ladder-type SAW filter is configured as described above.
The heat generated on the substrate by the vibration of the resonator is Al or A
Moves through a film of metal with higher thermal conductivity than alloy 1
【0012】第4の発明は、梯子型SAWフィルタにお
いて、次のような構成にしている。即ち、前記1端子対
SAW共振子間を接続する前記接続パターン、該1端子
対SAW共振子と前記ボンディングパッド間を接続する
前記接続パターン及び該ボンディングパッドは、前記圧
電または強誘電体単結晶基板上に蒸着されて形成され、
前記電極の厚さよりも50%以上厚い前記Al或いはA
l合金の膜で構成している。第4の発明によれば、以上
のように梯子型SAWフィルタを構成したので、SAW
共振子の振動により基板に発生した熱は、Al或いはA
l合金の厚い膜を伝わって移動する。According to a fourth aspect of the present invention, a ladder type SAW filter has the following configuration. That is, the connection pattern for connecting the one-terminal SAW resonator, the connection pattern for connecting the one-terminal SAW resonator and the bonding pad, and the bonding pad are formed of the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate. Deposited and formed on
The Al or A which is 50% or more thicker than the thickness of the electrode
It is composed of a 1 alloy film. According to the fourth aspect, the ladder-type SAW filter is configured as described above.
The heat generated on the substrate by the vibration of the resonator is Al or A
It travels along a thick film of the alloy.
【0013】第5の発明は、梯子型SAWフィルタにお
いて、次のような構成にしている。即ち、前記1端子対
SAW共振子間を接続する前記接続パターン、該1端子
対SAW共振子と前記ボンディングパッド間を接続する
前記接続パターン及び該ボンディングパッドは、前記圧
電または強誘電体単結晶基板上に蒸着されて形成された
前記Al或いはAl合金の膜上に、該圧電または強誘電
体単結晶基板よりも熱伝導率が高い誘電体を1層以上重
ねた構成にしている。第5の発明によれば、以上のよう
に梯子型SAWフィルタを構成したので、SAW共振子
の振動により基板に発生した熱は、圧電または強誘電体
単結晶基板よりも熱伝導率が高い誘電体を伝わって移動
する。According to a fifth aspect of the present invention, a ladder type SAW filter has the following configuration. That is, the connection pattern for connecting the one-terminal SAW resonator, the connection pattern for connecting the one-terminal SAW resonator and the bonding pad, and the bonding pad are formed of the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate. One or more layers of a dielectric having a higher thermal conductivity than the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate are laminated on the Al or Al alloy film formed by vapor deposition on the above. According to the fifth aspect, since the ladder-type SAW filter is configured as described above, the heat generated on the substrate by the vibration of the SAW resonator has a higher dielectric constant than the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate. Move along the body.
【0014】第6の発明は、梯子型SAWフィルタにお
いて、次のような構成にしている。即ち、前記1端子対
SAW共振子間を接続する前記接続パターン、該1端子
対SAW共振子と前記ボンディングパッド間を接続する
前記接続パターン及び該ボンディングパッドは、前記圧
電または強誘電体単結晶基板上に1層以上に蒸着されて
形成され、前記Al或いはAl合金以上に熱伝導率が高
い金属の膜に、該圧電または強誘電体単結晶基板よりも
熱伝導率が高い誘電体を1層以上重ねた構成にしてい
る。第6の発明によれば、以上のように梯子型SAWフ
ィルタを構成したので、SAW共振子の振動により基板
に発生した熱は、Al或いはAl合金以上に熱伝導率が
高い金属の膜及び圧電または強誘電体単結晶基板よりも
熱伝導率が高い誘電体を伝わって移動する。According to a sixth aspect of the present invention, a ladder type SAW filter has the following configuration. That is, the connection pattern for connecting the one-terminal SAW resonator, the connection pattern for connecting the one-terminal SAW resonator and the bonding pad, and the bonding pad are formed of the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate. A metal layer having a higher thermal conductivity than the Al or Al alloy and one layer of a dielectric material having a higher thermal conductivity than the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate. The above configuration is adopted. According to the sixth aspect of the present invention, since the ladder-type SAW filter is configured as described above, the heat generated on the substrate by the vibration of the SAW resonator is a metal film having a higher thermal conductivity than Al or an Al alloy and a piezoelectric film. Alternatively, it moves along a dielectric having a higher thermal conductivity than a ferroelectric single crystal substrate.
【0015】第7の発明は、第5または第6の発明にお
ける前記圧電または強誘電体単結晶基板よりも熱伝導率
が高い誘電体を、Al2 O3 、AINまたはSi3 N4
で構成している。第7の発明によれば、以上のようにS
AWフィルタを構成したので、Al2 O 3 、AINまた
はSi3 N4 の熱伝導率が高い。よって、発熱した熱が
これらを伝わって逃げる。A seventh invention is directed to the fifth or sixth invention.
Thermal conductivity than the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate
High dielectric material, AlTwoOThree, AIN or SiThreeNFour
It consists of. According to the seventh aspect, as described above, S
Since the AW filter is configured, AlTwoO Three, AIN again
Is SiThreeNFourHas high thermal conductivity. Therefore, the heat generated
Escape through these.
【0016】第8の発明は、第1〜第6または第7の発
明における前記Al合金を、AlにCu、TiまたはT
aを加えたものとしている。第8の発明によれば、以上
のようにSAWフィルタを構成しているので、Al合金
の耐マイグレーション特性が向上する。第9の発明は、
第1〜第3の発明または第6〜第8の発明における前記
Al或いはAl合金よりも熱伝導率が高い金属は、A
u、AgまたはCuで構成している。第9の発明によれ
ば、以上のようにSAWフィルタを構成したので、A
u、AgまたはCuの熱電率が高い。よって、これらを
伝わって発熱した熱が逃げる。In an eighth aspect, the Al alloy according to the first to sixth or seventh aspects is obtained by adding Cu, Ti or T to Al.
a is added. According to the eighth aspect, since the SAW filter is configured as described above, the migration resistance of the Al alloy is improved. The ninth invention is
In the first to third inventions or the sixth to eighth inventions, the metal having a higher thermal conductivity than Al or Al alloy is A
u, Ag or Cu. According to the ninth aspect, the SAW filter is configured as described above.
u, Ag or Cu has a high thermoelectric coefficient. Therefore, the heat generated by the heat escapes.
【0017】[0017]
【発明の実施の形態】第1の実施形態 図9は、本発明の第1の実施形態を示す梯子型SAWフ
ィルタの概略の構成図であり、図10は、図9中のSA
W共振子30s1の構成を示す斜視図である。第1の実施
形態の梯子型SAWフィルタは、耐電力の特に発熱に着
目し、梯子型SAWフィルタにおける各SAW共振子間
を接続するパターン、SAW共振子とボンディングパッ
ドとの間を接続する接続パターン及び該ボンディングパ
ッドに、例えば熱伝導率のよいAu(金)等を蒸着する
ことにより、発熱の大きい共振子で発生した熱を後段の
発熱の小さい共振子及び外部回路に逃がし、耐熱性を向
上させ、耐電力を向上させたものである。特に、発熱に
よって電極のマイグレーションが加速されるとい報告も
あるので、発生した熱を分散させて耐熱性を向上するこ
とは、重要である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First Embodiment FIG. 9 is a schematic configuration diagram of a ladder-type SAW filter showing a first embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 4 is a perspective view showing a configuration of a W resonator 30 s1 . The ladder-type SAW filter according to the first embodiment pays particular attention to heat resistance of electric power, and a pattern for connecting between each SAW resonator in the ladder-type SAW filter and a connection pattern for connecting between the SAW resonator and the bonding pad. Further, by evaporating, for example, Au (gold) having good thermal conductivity on the bonding pad, heat generated by the resonator that generates a large amount of heat is released to the resonator that generates less heat and an external circuit at the subsequent stage, thereby improving heat resistance. Thus, the withstand power is improved. In particular, there is a report that migration of electrodes is accelerated by heat generation, so it is important to disperse generated heat to improve heat resistance.
【0018】図9の梯子型SAWフィルタは、従来の図
5のSAWフィルタと同様に、4段構成のSAWフィル
タであり、8個のSAW共振子30s1,30s2,3
0s3,30s4,30p1,30p2,30p3,30p4と、入
力ボンデイングパッド31と、出力ボンディングパッド
32と、複数のアースボンディングパッド33とを備え
ている。SAW共振子30s1が1段目の直列腕の共振子
であり、SAW共振子30s2が2段目の直列腕の共振子
であり、SAW共振子30s3が3段目の直列腕の共振子
であり、SAW共振子30s4が4段目の直列腕の共振子
である。SAW共振子30p1が1段目の並列腕の共振子
であり、SAW共振子30p2が2段目の並列腕の共振子
であり、SAW共振子30p3が3段目の並列腕の共振子
であり、SAW共振子30p4が4段目の並列腕の共振子
である。The ladder-type SAW filter of FIG. 9 is a four-stage SAW filter like the conventional SAW filter of FIG. 5, and has eight SAW resonators 30 s1 , 30 s2 , and 3.
0 s3 , 30 s4 , 30 p1 , 30 p2 , 30 p3 , 30 p4 , an input bonding pad 31, an output bonding pad 32, and a plurality of earth bonding pads 33. The SAW resonator 30 s1 is a first-stage series arm resonator, the SAW resonator 30 s2 is a second-stage series arm resonator, and the SAW resonator 30 s3 is a third-stage series arm resonator. The SAW resonator 30 s4 is a fourth-stage series arm resonator. The SAW resonator 30 p1 is a first-stage parallel arm resonator, the SAW resonator 30 p2 is a second-stage parallel arm resonator, and the SAW resonator 30 p3 is a third-stage parallel arm resonator. The SAW resonator 30 p4 is the fourth-stage parallel arm resonator.
【0019】SAW共振子30s1は、図10にように、
基板35上にAl或いはAl合金で形成されたIDT3
0a及び該IDT30aの両側に形成された反射器30
b,30cを有している。SAW共振子30s2〜3
0s4,30p1〜30p4も、同様のIDT30a及び反射
器30b,30cを有している。各SAW共振子30s1
〜30s4,30p1〜30p4の間、SAW共振子30s1と
入力ボンディングパッド31との間、SAW共振子30
s4と出力ボンディングパッド32との間、及び各SAW
共振子30p1〜30p4とアースボンディングパッド33
との間が、接続パターン34で接続されて4段の梯子型
回路が構成されている。The SAW resonator 30 s1 has, as shown in FIG.
IDT3 formed of Al or Al alloy on substrate 35
0a and reflectors 30 formed on both sides of the IDT 30a
b, 30c. SAW resonator 30 s2 to 3
0 s4 and 30 p1 to 30 p4 also have the same IDT 30a and reflectors 30b and 30c. Each SAW resonator 30 s1
To 30 s4 , 30 p1 to 30 p4 , between the SAW resonator 30 s1 and the input bonding pad 31, and between the SAW resonator 30
s4 and the output bonding pad 32, and each SAW
Resonators 30 p1 to 30 p4 and earth bonding pad 33
Are connected by a connection pattern 34 to form a four-stage ladder-type circuit.
【0020】図1は、図9及び図10における第1の実
施形態を示す梯子形SAWフィルタのパターンの斜視図
であり、図10のB部分拡大斜視図が示されている。各
ボンディングパッド31〜33及び接続パターン34
は、基板35上に形成されたAl或いはAl合金の膜3
6と、前記耐熱性の向上のために、その上に蒸着された
例えばAuの放熱用の膜37とで構成されている。FIG. 1 is a perspective view of a pattern of a ladder-type SAW filter showing a first embodiment in FIGS. 9 and 10, and is an enlarged perspective view of a portion B in FIG. Bonding pads 31 to 33 and connection pattern 34
Is a film 3 of Al or Al alloy formed on the substrate 35
6 and a heat-dissipating film 37 of, for example, Au deposited thereon to improve the heat resistance.
【0021】図11(a)〜(i)は、図1のSAWフ
ィルタの製造工程を示す断面図である。図9のSAWフ
ィルタは、図11(a)〜(i)に示される工程を順に
行うことにより、製造される。以下に各工程の概要を説
明する。まず、図11(a)の工程において、例えば結
晶方位が36°Y−XのLiTaO3 単結晶基板35を
用意し、該基板35のSAW共振子形成予定面にレジス
ト38をスピンコートで塗布する。図11(b)の工程
において、レジスト38が塗布された基板31に対して
光学マスク39を設定し、光40で露光することによ
り、レジスト38に、SAW共振子30s1〜30s4,3
0p1〜30p4、ボンディングパッド31〜33及び接続
パターン34のパターンが転写される。図11(c)の
工程において、現像で不要なレジスト38を選択的に除
去し、図11(d)の工程において、不要なレジスト3
8が除去された基板35の上側全面にAl薄膜41を蒸
着する。図11(e)の工程において、有機溶剤を用い
たリフトオフにより、不要なレジスト38及びAL薄膜
41を除去する。ここまで工程で、SAW共振子30s1
〜30s4,30p1〜30p4、ボンディングパッド31〜
33及び接続パターン34の膜36が、基板35上に形
成される。FIGS. 11A to 11I are cross-sectional views showing the steps of manufacturing the SAW filter shown in FIG. The SAW filter of FIG. 9 is manufactured by sequentially performing the steps shown in FIGS. The outline of each step will be described below. First, in the step of FIG. 11A, for example, a LiTaO 3 single crystal substrate 35 having a crystal orientation of 36 ° YX is prepared, and a resist 38 is applied to the surface of the substrate 35 on which a SAW resonator is to be formed by spin coating. . In the step of FIG. 11B, an optical mask 39 is set on the substrate 31 on which the resist 38 has been applied, and the resist 38 is exposed to light 40, whereby the SAW resonators 30 s1 to 30 s4 , 3
The patterns of 0 p1 to 30 p4 , the bonding pads 31 to 33 and the connection pattern 34 are transferred. In the step of FIG. 11C, the unnecessary resist 38 is selectively removed by development, and in the step of FIG.
An Al thin film 41 is deposited on the entire upper surface of the substrate 35 from which 8 has been removed. In the step of FIG. 11E, unnecessary resist 38 and AL thin film 41 are removed by lift-off using an organic solvent. Up to this point, the SAW resonator 30 s1
30 s4 , 30 p1 -30 p4 , bonding pad 31-
33 and a film 36 of the connection pattern 34 are formed on the substrate 35.
【0022】図11(f)の工程において、基板35の
SAWフィルタ30s1〜30s4,30p1〜30p4等が形
成された面上に、再びレジスト42を塗布する。図11
(g)の工程において、同図(b),(c)の工程と同
様に、光学マスクを用いた光の露光により、膜37のパ
ターン転写を行い、その後の現像で、不要なレジスト4
2を除去してAl薄膜41の表面を露出させる。図11
(h)の工程において、Al薄膜41の表面が露出した
基板35の上側全面に、膜37となるAu薄膜43を蒸
着する。図11(i)の工程において、有機溶剤を用い
て不要な薄膜43をレジスト42と共に除去する。以上
により、膜37が、ボンディングパッド31〜33及び
膜36の上に形成される。In the step of FIG. 11F, a resist 42 is applied again on the surface of the substrate 35 on which the SAW filters 30 s1 to 30 s4 , 30 p1 to 30 p4 and the like are formed. FIG.
In the step (g), the pattern of the film 37 is transferred by light exposure using an optical mask in the same manner as in the steps (b) and (c) of FIG.
2 is removed to expose the surface of the Al thin film 41. FIG.
In the step (h), an Au thin film 43 serving as the film 37 is deposited on the entire upper surface of the substrate 35 where the surface of the Al thin film 41 is exposed. In the step of FIG. 11I, the unnecessary thin film 43 is removed together with the resist 42 using an organic solvent. As described above, the film 37 is formed on the bonding pads 31 to 33 and the film 36.
【0023】次に、図9のSAWフィルタの動作を説明
する。入力ボンディングパッド31に図示しないボンデ
ィングワイヤを介して信号が印加されると、直列腕SA
W共振子30s1〜30s4には電力が通過し、かつ、最初
の段になるほど大きな電力がかかる。これは、後段にな
るほど、途中のSAW共振子で電力が減衰するためであ
る。つまり、直列腕SAW共振子30s1に一番大きな電
力がかかり、該直列腕SAW共振子30s1の発熱量が一
番おおきくなって、耐電力的に一番厳しくなる。そこ
で、直列腕SAW共振子30s1の耐電力を説明する。入
力ボンディングパッド31に入力された電力は、1段目
の直列腕SAW共振子30s1に入り、直列腕SAW共振
子30s1を通った電力は、2段目の直列腕SAW共振子
30s2と1段目及び2段目の並列腕SAW共振子3
0p1,30p2とに入力される。Next, the operation of the SAW filter shown in FIG. 9 will be described. When a signal is applied to the input bonding pad 31 via a bonding wire (not shown), the serial arm SA
Power passes through the W resonators 30 s1 to 30 s4 , and a larger power is applied to the first stage. This is because the power is attenuated in the middle of the SAW resonator at a later stage. That is, it takes the largest power in series-arm SAW resonators 30 s1, straight Retsuude increased heating value of the SAW resonator 30 s1 is the best, most become stricter in power durability manner. Therefore, the withstand power of the series arm SAW resonator 30s1 will be described. Power input to the input bonding pad 31 enters the series arm SAW resonator 30 s1 of the first stage, the power that passes through the series-arm SAW resonator 30 s1 includes a series arm of the second-stage SAW resonator 30 s2 First and second parallel arm SAW resonators 3
0 p1 and 30 p2 are input.
【0024】1段目の直列腕SAW共振子30s1に入力
された電力により、該直列腕SAW共振子30s1が振動
し、基板35における共振子30s1の下の1波長以内の
領域にはSAWの定在波が発生し、それによって発熱す
る。直列腕SAW共振子30s1で発生した熱は、図9に
示した放熱ルートR1〜R5を伝わって逃げる。[0024] The power input to the series arm of the first stage SAW resonator 30 s1, vibrates straight Retsuude SAW resonator 30 s1, the area within one wavelength below the resonator 30 s1 in the substrate 35 is A standing wave of the SAW is generated, thereby generating heat. The heat generated in the series arm SAW resonator 30 s1 escapes along the heat dissipation routes R1 to R5 shown in FIG.
【0025】放熱ルートR1は、直列腕SAW共振子3
0s1の入力側電極指からパターン34を伝わり、ボンデ
ィングパッド31及びボンディングワイヤを通って外部
回路へ伝わるルートである。放熱ルートR2は、直列腕
SAW共振子30s1の出力側電極指からパターン34を
伝わり、直列腕SAW共振子30s2と並列腕SAW共振
子30p1,30p2とに伝わるルートである。放熱ルート
R3は、直列腕SAW共振子30s1の入力側電極指から
ボンディングパッド31に至るパターン34から、基板
35の結晶中に伝わるルートである。放熱ルートR4
は、直列腕SAW共振子30s1の出力側電極指から直列
腕SAW共振子30s2及び並列腕SAW共振子30p1,
30p2にいたるパターン34から、基板35の結晶中に
伝わるルートである。放熱ルートR5は、基板35にお
ける直列腕SAW共振子30s1の下側の、深さが1波長
以下の領域で発生した熱が、該基板35の横方向及び深
さ方向へ伝わるルートである。The heat radiating route R1 corresponds to the series arm SAW resonator 3
This is a route that is transmitted from the input electrode finger of 0 s1 through the pattern 34 and transmitted to the external circuit through the bonding pad 31 and the bonding wire. The heat dissipation route R2 is a route transmitted from the output electrode finger of the series arm SAW resonator 30 s1 to the pattern 34 and transmitted to the series arm SAW resonator 30 s2 and the parallel arm SAW resonators 30 p1 and 30 p2 . The heat radiating route R3 is a route transmitted from the pattern 34 from the input electrode finger of the series arm SAW resonator 30 s1 to the bonding pad 31 into the crystal of the substrate 35. Heat dissipation route R4
Are output from the output-side electrode fingers of the series arm SAW resonator 30 s1 to the series arm SAW resonator 30 s2 and the parallel arm SAW resonator 30 p1 ,
This is a route transmitted from the pattern 34 reaching 30 p2 to the crystal of the substrate 35. The heat radiating route R5 is a route in which heat generated in a region below the series arm SAW resonator 30 s1 in the substrate 35 and having a depth of one wavelength or less is transmitted in the lateral direction and the depth direction of the substrate 35.
【0026】この第1の実施形態のSAWフィルタで
は、ボンディングパッド31〜33と接続パターン34
を膜36の上に、Auの放熱用の膜37を形成してい
る。Al、Au、LiTaO3 の熱伝導率は、それぞれ
237,315,4.2[W/(m・K)]なので、放
熱ルートR1〜R4での放熱効果が著しく向上し、結果
的に耐熱性が向上して耐電力が向上する。In the SAW filter according to the first embodiment, the bonding pads 31 to 33 and the connection patterns 34
On the film 36, a film 37 for heat radiation of Au is formed. Since the thermal conductivities of Al, Au and LiTaO 3 are 237, 315 and 4.2 [W / (m · K)], respectively, the heat radiation effect in the heat radiation routes R1 to R4 is remarkably improved, and as a result heat resistance And the power durability is improved.
【0027】例えば、900MHz携帯電話の周波数帯
域で、Al薄膜41の膜厚比(=膜厚H/周波数λ)を
11%、Au薄膜43の膜厚比を5%とし、直列腕SA
W共振子30s1とボンディングパッド31との間のパタ
ーン34と、直列腕SAW共振子30s1と直列腕SAW
共振子30s2及び並列腕SAW共振子30p1との間のパ
ターン34との上のみに放熱用膜37を形成した簡単な
もので評価をしても、6%の温度低下が見られた。よっ
て、基板35の表面近傍で発生した熱を、熱伝導率がよ
くない結晶内部からではなく、表面の膜37を通じて早
く放熱する。For example, in the frequency band of a 900 MHz mobile phone, the thickness ratio of the Al thin film 41 (= thickness H / frequency λ) is 11%, the thickness ratio of the Au thin film 43 is 5%, and the serial arm SA
The pattern 34 between the W resonator 30 s1 and the bonding pad 31, the series arm SAW resonator 30 s1 and the series arm SAW
A 6% temperature drop was observed even when evaluation was performed using a simple device in which the heat radiation film 37 was formed only on the pattern 34 between the resonator 30 s2 and the parallel arm SAW resonator 30 p1 . Therefore, heat generated in the vicinity of the surface of the substrate 35 is quickly radiated not through the inside of the crystal having poor thermal conductivity but through the film 37 on the surface.
【0028】以上のように、この第1の実施形態では、
接続パターン34の上及びボンディングパッド31〜3
3の上に放熱用膜37を形成して放熱性を改善したの
で、次のような利点を持つSAWフィルタが得られる。 (1) Alに多量の金属を添加する必要がなく、該添
加する金属がAl中でに偏在することがない。 (2) Alに多量の金属を添加する必要がなく、該添
加する金属がエッチング時に残ることがない。 (3) Alに多量の金属を添加する必要がなく、該抵
抗値が上昇することがない。 (4) 膜36の上にAuが蒸着されるので、該膜36
の膜はがれが防止できる。 (5) 膜36の上にAuが蒸着されるので、該接続パ
ターン34の電気抵抗が下がる。As described above, in the first embodiment,
On the connection pattern 34 and the bonding pads 31 to 3
Since the heat radiation property is improved by forming the heat radiation film 37 on 3, a SAW filter having the following advantages can be obtained. (1) It is not necessary to add a large amount of metal to Al, and the metal to be added is not unevenly distributed in Al. (2) It is not necessary to add a large amount of metal to Al, and the added metal does not remain during etching. (3) It is not necessary to add a large amount of metal to Al, and the resistance does not increase. (4) Since Au is deposited on the film 36,
Can be prevented from peeling off. (5) Since Au is deposited on the film 36, the electrical resistance of the connection pattern 34 is reduced.
【0029】(6) 各SAW共振子30s2〜30s4,
30p1〜30p4での温度上昇が抑えられるので、温度上
昇による周波数変化が抑制できる。 (7) 電極金属のAlに、Cu,Ti,Ta等を添加
して耐マイグレーション性を向上させる従来の方法とも
併用が可能であり、これによる相乗効果も期待できる。 (8) 放熱効果を上げるために、接続パターン、ボン
ディングパッドを広げる必要がなく、チップサイズを大
きくしないですむ。 (9) 放熱効果を上げるために、接続パターン、ボン
ディングパッドを広げる必要がなく、寄生容量が増加し
ない。(6) Each of the SAW resonators 30 s2 to 30 s4 ,
Since the temperature rise at 30 p1 to 30 p4 is suppressed, the frequency change due to the temperature rise can be suppressed. (7) A conventional method of improving migration resistance by adding Cu, Ti, Ta or the like to Al of the electrode metal can be used in combination, and a synergistic effect can be expected. (8) In order to enhance the heat radiation effect, it is not necessary to expand the connection pattern and the bonding pad, so that the chip size does not need to be increased. (9) In order to enhance the heat radiation effect, it is not necessary to extend the connection pattern and the bonding pad, and the parasitic capacitance does not increase.
【0030】第2の実施形態 図12は、本発明の第2の実施形態を示す梯子型SAW
フィルタの概略の構成図であり、図13は、図12中の
SAW共振子50s1の構成を示す斜視図である。この梯
子型SAWフィルタは、第1の実施形態を示す図9と同
様に、4段構成のSAWフィルタであり、8個のSAW
共振子50s1〜50s4,50p1〜50p4と、入力ボンデ
イングパッド51と、出力ボンディングパッド52と、
複数のアースボンディングパッド53とを備えている。
SAW共振子50s1が1段目の直列腕の共振子であり、
SAW共振子50s2が2段目の直列腕の共振子であり、
SAW共振子50s3が3段目の直列腕の共振子であり、
SAW共振子50s4が4段目の直列腕の共振子である。
SAW共振子50p1が1段目の並列腕の共振子であり、
SAW共振子50p2が2段目の並列腕の共振子であり、
SAW共振子50p3が3段目の並列腕の共振子であり、
SAW共振子50p4が4段目の並列腕の共振子である。 Second Embodiment FIG. 12 shows a ladder type SAW showing a second embodiment of the present invention.
FIG. 13 is a schematic configuration diagram of a filter, and FIG. 13 is a perspective view showing a configuration of the SAW resonator 50 s1 in FIG. This ladder-type SAW filter is a four-stage SAW filter similarly to FIG. 9 showing the first embodiment, and has eight SAW filters.
Resonators 50 s1 to 50 s4 , 50 p1 to 50 p4 , an input bonding pad 51, an output bonding pad 52,
And a plurality of earth bonding pads 53.
The SAW resonator 50 s1 is a first-stage series arm resonator,
The SAW resonator 50 s2 is a resonator having a second-stage series arm,
The SAW resonator 50 s3 is a third-stage series arm resonator,
The SAW resonator 50s4 is a fourth-stage series arm resonator.
The SAW resonator 50 p1 is a resonator of the first-stage parallel arm,
The SAW resonator 50 p2 is the resonator of the second-stage parallel arm,
The SAW resonator 50 p3 is a third-stage parallel arm resonator,
The SAW resonator 50 p4 is a fourth-stage parallel-arm resonator.
【0031】SAW共振子50s1は、図12に示すよう
に、第1の実施形態と同様のIDT50a及び反射器5
0b,50cを有している。SAW共振子50s2〜50
s4,50p1〜50p4も、同様のIDT50a及び反射器
50b,50cを有している。各SAW共振子50s1〜
50s4,50p1〜50p4の間、SAW共振子50s1と入
力ボンディングパッド51との間、SAW共振子50s4
と出力ボンディングパッド52との間、及び各SAW共
振子50p1〜50p4とアースボンディングパッド53と
の間が、接続パターン54で接続されて4段の梯子型回
路が構成されている。[0031] SAW resonator 50 s1, as shown in FIG. 12, similar IDT50a and reflector in the first embodiment 5
0b and 50c. SAW resonator 50 s2 to 50
s4, 50 p1 to 50 p4, the same IDT50a and reflectors 50b, and has a 50c. Each SAW resonator 50 s1 ~
50 s4 , 50 p1 to 50 p4 , between the SAW resonator 50 s1 and the input bonding pad 51, SAW resonator 50 s4
And the output bonding pad 52, and between each of the SAW resonators 50 p1 to 50 p4 and the earth bonding pad 53 are connected by a connection pattern 54 to form a four-stage ladder circuit.
【0032】図14は、図12及び図13における第2
の実施形態を示す梯子形SAWフィルタのパターンの斜
視図であり、図13のC部分拡大斜視図が示されてい
る。第1の実施形態では、接続パターン及びボンディン
グパッドの上に放熱用の膜を形成していたが、本実施形
態では、接続パターン54及びボンディングパッド51
〜53の下側と基板55との間に放熱用の膜56を形成
している。即ち、放熱用の膜パターン56の上に、Al
またはAl合金の膜57が積層された構成になってい
る。FIG. 14 is a sectional view of the second embodiment shown in FIGS.
FIG. 14 is a perspective view of a pattern of a ladder-type SAW filter showing the embodiment, and is an enlarged perspective view of a portion C in FIG. 13. In the first embodiment, the heat radiation film is formed on the connection pattern and the bonding pad. However, in the present embodiment, the connection pattern 54 and the bonding pad 51 are formed.
A film 56 for heat dissipation is formed between the lower side of the substrate 53 and the substrate 55. That is, on the film pattern 56 for heat radiation, Al
Alternatively, the structure is such that an Al alloy film 57 is laminated.
【0033】図15(a)〜(i)は、図1のSAWフ
ィルタの製造工程を示す断面図である。図12のSAW
フィルタは、図15(a)〜(i)に示される工程を順
に行うことにより、製造される。以下に各工程の概要を
説明する。まず、図15(a)の工程において、例えば
結晶方位が36°Y−XのLiTaO3 単結晶基板55
を用意し、該基板55のSAW共振子形成予定面にレジ
スト58をスピンコートで塗布する。図15(b)の工
程において、レジスト58が塗布された基板55に対し
て光学マスク59を設定し、光60で露光することによ
り、レジスト58に、接続パターン54の放熱用膜56
のパターンが転写される。図15(c)の工程におい
て、現像で不要なレジスト58を選択的に除去し、図1
5(d)の工程において、不要なレジスト58が除去さ
れた基板55の上側全面にAu薄膜61を蒸着する。図
15(e)の工程において、有機溶剤を用いたリフトオ
フにより、不要なレジスト58及びAu薄膜61を除去
する。ここまでの工程で、膜56が基板55上に形成さ
れる。FIGS. 15A to 15I are cross-sectional views showing the steps of manufacturing the SAW filter shown in FIG. SAW of FIG.
The filter is manufactured by sequentially performing the steps shown in FIGS. The outline of each step will be described below. First, in the step of FIG. 15A, for example, a LiTaO 3 single crystal substrate 55 having a crystal orientation of 36 ° YX
Is prepared, and a resist 58 is applied to the surface of the substrate 55 on which the SAW resonator is to be formed by spin coating. In the step of FIG. 15B, an optical mask 59 is set on the substrate 55 to which the resist 58 has been applied, and the substrate 58 is exposed to light 60 so that the heat radiation film 56 of the connection pattern 54 is formed on the resist 58.
Is transferred. In the step of FIG. 15C, unnecessary resist 58 is selectively removed by development, and FIG.
In step 5 (d), an Au thin film 61 is deposited on the entire upper surface of the substrate 55 from which the unnecessary resist 58 has been removed. In the step of FIG. 15E, unnecessary resist 58 and Au thin film 61 are removed by lift-off using an organic solvent. Through the steps so far, the film 56 is formed on the substrate 55.
【0034】図15(f)の工程において、基板55の
放熱用の膜56が形成された面面上に、再びレジスト6
2を塗布する。図15(g)の工程において、同図
(b),(c)の工程と同様に、光学マスクを用いた光
の露光により、SAW共振子50 s1〜50s4,50p1〜
50p4、ボンディングパッド51〜53及び膜57のパ
ターンを転写し、その後の現像で、不要なレジスト62
を除去する。Au薄膜61の表面を露出させる。図15
(h)の工程において、Au薄膜61の表面が露出した
基板55の上側全面に、SAW共振子50s1〜50s4,
50p1〜50p4、及び57となるAl薄膜63を蒸着す
る。図15(i)の工程において、有機溶剤を用いて不
要な薄膜63をレジスト62と共に除去する。以上によ
り、SAW共振子50s1〜50s4,50p1〜50p4、ボ
ンディングパッド51〜53及び接続パターン54が、
形成される。In the step of FIG.
The resist 6 is again formed on the surface on which the heat radiation film 56 is formed.
2 is applied. In the step of FIG.
In the same manner as in the steps (b) and (c), light using an optical mask
Of the SAW resonator 50 s1~ 50s4, 50p1~
50p4, Bonding pads 51 to 53 and film 57
The turn is transferred, and the unnecessary resist 62 is
Is removed. The surface of the Au thin film 61 is exposed. FIG.
In the step (h), the surface of the Au thin film 61 was exposed.
The SAW resonator 50 is provided on the entire upper surface of the substrate 55.s1~ 50s4,
50p1~ 50p4, And 57 are deposited.
You. In the step of FIG.
The necessary thin film 63 is removed together with the resist 62. Above
The SAW resonator 50s1~ 50s4, 50p1~ 50p4, Bo
Binding pads 51-53 and connection pattern 54,
It is formed.
【0035】次に、このSAWフィルタの動作を、図1
2中に示した放熱ルートR1〜R5を参照して説明す
る。この梯子型SAWフィルタにおいても、ボンディン
グパッド51に入力された電力は、1段目の直列腕SA
W共振子50s1に入り、該直列腕SAW共振子50 s1が
振動することにより、熱が発生する。1段目の直列腕S
AW共振子50s1を通った電力は、2段目の直列腕SA
W共振子50s2と1段目の並列腕SAW共振子50p1と
2段目の並列腕SAW共振子50p2とに入力される。1
段目の直列腕SAW共振子50s1で発生した熱は、第1
の実施形態と同様の放熱ルートR1〜R5を伝わって逃
げる。Next, the operation of this SAW filter will be described with reference to FIG.
2 will be described with reference to the heat dissipation routes R1 to R5 shown in FIG.
You. Also in this ladder type SAW filter, bondin
The electric power inputted to the pad 51 is the first-stage serial arm SA.
W resonator 50s1And the series arm SAW resonator 50 s1But
Vibration generates heat. First-stage serial arm S
AW resonator 50s1The electric power passed through is the second-stage series arm SA
W resonator 50s2And first-stage parallel arm SAW resonator 50p1When
Second-stage parallel arm SAW resonator 50p2Entered as 1
The series serial arm SAW resonator 50s1The heat generated in the first
Through the same heat radiation routes R1 to R5 as in the first embodiment.
I can.
【0036】ここで、この第2の実施形態の梯子型SA
Wフィルタでは、接続パターン54及びボンディングパ
ッド51〜53において、放熱用の膜56が形成されて
いるので、第1の実施形態と同様に、放熱ルートR1〜
R4による放熱が、従来に比べて圧倒的によくなる。さ
らに、その放熱膜56が直接基板55に蒸着されている
ので、特に高周波で、接続パターン54が細くかつ基板
55の結晶が厚い場合や、基板結晶が放熱性の悪いパッ
ケージに固定されている場合、バンプ等で基板結晶がフ
ェースダウンで接続され、基板結晶裏面からの放熱が期
待できない時等には、非常に有効である。Here, the ladder type SA of the second embodiment
In the W filter, since the heat radiation film 56 is formed in the connection pattern 54 and the bonding pads 51 to 53, the heat radiation routes R1 to R1 are formed in the same manner as in the first embodiment.
The heat radiation by R4 is overwhelmingly better than in the past. Furthermore, since the heat radiation film 56 is directly deposited on the substrate 55, especially at high frequency, when the connection pattern 54 is thin and the crystal of the substrate 55 is thick, or when the substrate crystal is fixed to a package having poor heat radiation. This is very effective when the substrate crystal is connected face down by bumps or the like, and heat radiation from the back surface of the substrate crystal cannot be expected.
【0037】以上のように、この第2の実施形態では、
接続パターン54及びボンディングパッド51〜53の
下側に放熱用の膜56を形成して各SAW共振子50s1
〜50s4,50p1〜50p4における放熱を改善したの
で、次の(11)から(17)の利点を有する梯子型S
AWフィルタが得られる。 (11) Alに多量の金属を添加する必要がなく、該
添加する金属がAl中でに偏在することがない。 (12) Alに多量の金属を添加する必要がなく、該
添加する金属がエッチング時に残ることがない。 (13) Alに多量の金属を添加する必要がなく、該
抵抗値が上昇することがない。As described above, in the second embodiment,
A heat-dissipating film 56 is formed below the connection pattern 54 and the bonding pads 51 to 53 to form each SAW resonator 50 s1.
Ladder type S having the following advantages (11) to (17) because the heat radiation at 5050 s4 , 50 p1 5050 p4 has been improved.
An AW filter is obtained. (11) It is not necessary to add a large amount of metal to Al, and the metal to be added is not unevenly distributed in Al. (12) It is not necessary to add a large amount of metal to Al, and the added metal does not remain during etching. (13) It is not necessary to add a large amount of metal to Al, and the resistance does not increase.
【0038】(14) AlまたはAL合金の膜57の
下にAuの放熱用の膜56が蒸着されるので、該膜56
の膜はがれを防止できる。 (15) 接続パターン54の下にAu薄膜61が蒸着
されるので、該接続パターン54のオーミック抵抗が下
がる。 (16) 各SAW共振子50s1〜50s4,50p1〜5
0p4での温度上昇が抑えられるので、温度上昇による周
波数変化が抑制できる。 (17) 電極金属のAlに、Cu,Ti,Ta等を添
加して耐マイグレーション性を向上させる従来の方法と
も併用が可能であり、これによる相乗効果も期待でき
る。(14) A film 56 for radiating Au is deposited under the film 57 of Al or AL alloy.
Film can be prevented from peeling off. (15) Since the Au thin film 61 is deposited under the connection pattern 54, the ohmic resistance of the connection pattern 54 decreases. (16) Each SAW resonator 50 s1 to 50 s4 , 50 p1 to 5
Since the temperature rise at 0 p4 is suppressed, a frequency change due to the temperature rise can be suppressed. (17) A conventional method of improving migration resistance by adding Cu, Ti, Ta or the like to Al as an electrode metal can be used in combination, and a synergistic effect can be expected.
【0039】第3の実施形態 図16は、本発明の第3の実施形態を示す梯子型SAW
フィルタの概略の構成図であり、図17は、図16中の
SAW共振子70s1の構成を示す斜視図である。この梯
子型SAWフィルタは、第1の実施形態を示す図9と同
様に、4段構成のSAWフィルタであり、8個のSAW
共振子70s1〜70s4,70p1〜70p4と、入力ボンデ
イングパッド71と、出力ボンディングパッド72と、
複数のアースボンディングパッド73とを備えている。
SAW共振子70s1が1段目の直列腕の共振子であり、
SAW共振子70s2が2段目の直列腕の共振子であり、
SAW共振子70s3が3段目の直列腕の共振子であり、
SAW共振子70s4が4段目の直列腕の共振子である。
SAW共振子70p1が1段目の並列腕の共振子であり、
SAW共振子70p2が2段目の並列腕の共振子であり、
SAW共振子70p3が3段目の並列腕の共振子であり、
SAW共振子70p4が4段目の並列腕の共振子である。 Third Embodiment FIG. 16 shows a ladder type SAW according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 17 is a schematic configuration diagram of a filter, and FIG. 17 is a perspective view illustrating a configuration of a SAW resonator 70 s1 in FIG. 16. This ladder-type SAW filter is a four-stage SAW filter similarly to FIG. 9 showing the first embodiment, and has eight SAW filters.
Resonators 70 s1 to 70 s4 , 70 p1 to 70 p4 , an input bonding pad 71, an output bonding pad 72,
And a plurality of ground bonding pads 73.
The SAW resonator 70 s1 is a first-stage series arm resonator,
The SAW resonator 70 s2 is a resonator having a second-stage series arm,
The SAW resonator 70 s3 is a third-stage series arm resonator,
The SAW resonator 70 s4 is a resonator having a fourth series arm.
The SAW resonator 70 p1 is the resonator of the first-stage parallel arm,
The SAW resonator 70 p2 is a resonator of the second-stage parallel arm,
The SAW resonator 70 p3 is a resonator having a third-stage parallel arm,
The SAW resonator 70 p4 is the resonator of the fourth parallel arm.
【0040】SAW共振子70s1は、図17に示すよう
に、第1の実施形態と同様のIDT70a及び反射器7
0b,70cを有している。SAW共振子70s2〜70
s4,70p1〜70p4も、同様のIDT70a及び反射器
70b,70cを有している。各SAW共振子70s1〜
70s4,70p1〜70p4の間、SAW共振子70s1と入
力ボンディングパッド71との間、SAW共振子70s4
と出力ボンディングパッド72との間、及び各SAW共
振子70p1〜70p4とアースボンディングパッド73と
の間が、接続パターン74で接続されて4段の梯子型回
路が構成されている。As shown in FIG. 17, the SAW resonator 70 s1 has the same IDT 70a and reflector 7 as in the first embodiment.
0b and 70c. SAW resonator 70 s2 to 70
s4, 70 p1 to 70 p4, the same IDT70a and reflectors 70b, and has a 70c. Each SAW resonator 70 s1 ~
70 s4 , 70 p1 to 70 p4 , between SAW resonator 70 s1 and input bonding pad 71, SAW resonator 70 s4
And the output bonding pad 72, and between each of the SAW resonators 70 p1 to 70 p4 and the earth bonding pad 73 are connected by a connection pattern 74 to form a four-stage ladder circuit.
【0041】図18は、図16及び図17における第3
の実施形態を示す梯子形SAWフィルタのパターンの斜
視図であり、図17のD部分拡大図が示されている。第
1の実施形態では、接続用パターン及びボンディングパ
ッドの上側に放熱用の膜を形成していたが、本実施形態
では、これらの接続パターン74及びボンディングパッ
ド71〜73を、放熱用の膜76だけで形成しているい
る。図19(a)〜(i)は、図16のSAWフィルタ
の製造工程を示す断面図である。FIG. 18 is a view showing a third example in FIGS. 16 and 17.
FIG. 18 is a perspective view of a pattern of a ladder-type SAW filter showing the embodiment, and is an enlarged view of a portion D in FIG. 17. In the first embodiment, a heat dissipation film is formed above the connection pattern and the bonding pad. In the present embodiment, however, these connection patterns 74 and the bonding pads 71 to 73 are replaced with the heat dissipation film 76. Just have formed. FIGS. 19A to 19I are cross-sectional views illustrating the steps of manufacturing the SAW filter of FIG.
【0042】図16のSAWフィルタは、図19(a)
〜(i)に示される工程を順に行うことにより、製造さ
れる。以下に各工程の概要を説明する。まず、図19
(a)の工程において、例えば結晶方位が36°Y−X
のLiTaO3 単結晶基板75を用意し、該基板75の
SAW共振子形成予定面にレジスト77をスピンコート
で塗布する。図19(b)の工程において、レジスト7
7が塗布された基板75に対して光学マスク78を設定
し、光79で露光することにより、レジスト77に、共
振子のパターンが転写される。図19(c)の工程にお
いて、現像で不要なレジスト77を選択的に除去し、図
19(d)の工程において、不要なレジスト78が除去
された基板75の上側全面にAl薄膜80を蒸着する。
図19(e)の工程において、有機溶剤を用いたリフト
オフにより、不要なレジスト77及びAl薄膜80を除
去する。ここまでの工程で、SAW共振子70s1〜70
s4,70p1〜70p4が基板75上に形成される。The SAW filter shown in FIG.
It is manufactured by sequentially performing the steps shown in (i) to (i). The outline of each step will be described below. First, FIG.
In the step (a), for example, the crystal orientation is 36 ° YX
A LiTaO 3 single crystal substrate 75 is prepared, and a resist 77 is spin-coated on the surface of the substrate 75 on which a SAW resonator is to be formed. In the step of FIG.
By setting an optical mask 78 on the substrate 75 coated with 7 and exposing the substrate to light 79, the pattern of the resonator is transferred to the resist 77. In the step of FIG. 19C, the unnecessary resist 77 is selectively removed by development, and in the step of FIG. 19D, an Al thin film 80 is deposited on the entire upper surface of the substrate 75 from which the unnecessary resist 78 has been removed. I do.
In the step of FIG. 19E, unnecessary resist 77 and unnecessary Al thin film 80 are removed by lift-off using an organic solvent. In the steps so far, the SAW resonators 70 s1 to 70 s1
s4 , 70p1 to 70p4 are formed on the substrate 75.
【0043】図19(f)の工程において、基板75の
SAW共振子70s1〜70s4,70 p1〜70p4が形成さ
れた面上に、再びレジスト81を塗布する。図19
(g)の工程において、同図(b),(c)の工程と同
様に、光学マスクを用いた光の露光により、接続パター
ン74及びボンディングパッド71〜73のパターンを
転写し、その後の現像で、不要なレジスト81を除去
し、基板75の表面とSAW共振子70s1〜70s4,7
0p1〜70p4の端部を露出させる。図19(h)の工程
において、基板75の上側全面に、接続パターン74と
なるAu薄膜82を蒸着する。図19(i)の工程にお
いて、有機溶剤を用いて不要な薄膜82をレジスト81
と共に除去する。以上により、接続パターン74及びボ
ンディングパッド71〜73が、基板75上に形成され
る。In the step of FIG.
SAW resonator 70s1~ 70s4, 70 p1~ 70p4Formed
The resist 81 is applied again on the surface that has been removed. FIG.
Step (g) is the same as the steps (b) and (c) in FIG.
In the same way, light exposure using an optical mask
Pattern of the bonding 74 and the bonding pads 71 to 73
Transfer and remove unnecessary resist 81 by subsequent development
The surface of the substrate 75 and the SAW resonator 70s1~ 70s4, 7
0p1~ 70p4Expose the end of Step of FIG. 19 (h)
In the above, the connection pattern 74 is
An Au thin film 82 is deposited. In the step of FIG.
Using an organic solvent to remove an unnecessary thin film 82 from the resist 81
Together with it. As described above, the connection pattern 74 and the button
Binding pads 71 to 73 are formed on substrate 75
You.
【0044】次に、このSAWフィルタの動作を、図1
6中に示した放熱ルートR1〜R5を参照して説明す
る。この梯子型SAWフィルタにおいても、ボンディン
グパッド71に入力された電力は、1段目の直列腕SA
W共振子70s1に入り、該直列腕SAW共振子70 s1が
振動することにより、熱が発生する。1段目の直列腕S
AW共振子70s1を通った電力は、2段目の直列腕SA
W共振子70s2と1段目の並列腕SAW共振子70p1と
2段目の並列腕SAW共振子70p2とに入力される。1
段目の直列腕SAW共振子70s1で発生した熱は、第1
の実施形態と同様の放熱ルートR1〜R5を伝わって逃
げる。Next, the operation of this SAW filter will be described with reference to FIG.
6 will be described with reference to the heat dissipation routes R1 to R5 shown in FIG.
You. Also in this ladder type SAW filter, bondin
The power input to the touch pad 71 is
W resonator 70s1And the series arm SAW resonator 70 s1But
Vibration generates heat. First-stage serial arm S
AW resonator 70s1The electric power passed through is the second-stage series arm SA
W resonator 70s2And first-stage parallel arm SAW resonator 70p1When
Second-stage parallel arm SAW resonator 70p2Entered as 1
The series serial arm SAW resonator 70s1The heat generated in the first
Through the same heat radiation routes R1 to R5 as in the first embodiment.
I can.
【0045】ここで、この第3の実施形態の梯子型SA
Wフィルタでは、信号伝送用パターン74及びボンディ
ングパッド71〜73が、Au膜82で形成されている
ので、第1の実施形態と同様に、放熱ルートR1〜R4
による放熱が、従来に比べて圧倒的によくなる。さら
に、放熱ルートとなるAu薄膜82が、直接基板75に
蒸着されているので、特に高周波で、接続パターン74
が細くかつ基板75の結晶が厚い場合や、基板結晶が放
熱性の悪いパッケージに固定されている場合、バンプ等
で結晶基板がフェースダウンで接続され、結晶基板の裏
面からの放熱が期待できない時等には、非常に有効であ
る。Here, the ladder type SA of the third embodiment
In the W filter, since the signal transmission pattern 74 and the bonding pads 71 to 73 are formed of the Au film 82, the heat radiation routes R1 to R4 are similar to the first embodiment.
Radiated heat is much better than before. Further, since the Au thin film 82 serving as a heat dissipation route is directly deposited on the substrate 75, the connection pattern 74 is particularly high frequency.
When the crystal of the substrate 75 is thin and the crystal of the substrate 75 is thick, or when the substrate crystal is fixed to a package with poor heat dissipation, the crystal substrate is connected face down by bumps, etc., and heat dissipation from the back surface of the crystal substrate cannot be expected. For example, it is very effective.
【0046】以上のように、この第3の実施形態では、
接続パターン74及びボンディングパッド71〜73を
Au膜で形成して各SAW共振子70s1〜70s4,70
p1〜70p4における放熱を改善したので、次の(21)
から(28)の利点を有する梯子型SAWフィルタが得
られる。 (21) Alに多量の金属を添加する必要がなく、該
添加する金属がAl中でに偏在することがない。 (22) Alに多量の金属を添加する必要がなく、該
添加する金属がエッチング時に残ることがない。 (23) Alに多量の金属を添加する必要がなく、該
抵抗値が上昇することがない。 (24) 接続パターン74がAuで構成されるのでデ
バイスのオーミック損失が低減できる。As described above, in the third embodiment,
The connection pattern 74 and the bonding pads 71 to 73 are formed of an Au film, and the SAW resonators 70 s1 to 70 s4 , 70 are formed.
Since the heat radiation at p1 to p4 was improved, the following (21)
Thus, a ladder-type SAW filter having the advantage of (28) can be obtained. (21) It is not necessary to add a large amount of metal to Al, and the metal to be added is not unevenly distributed in Al. (22) It is not necessary to add a large amount of metal to Al, and the added metal does not remain during etching. (23) It is not necessary to add a large amount of metal to Al, and the resistance does not increase. (24) Since the connection pattern 74 is made of Au, the ohmic loss of the device can be reduced.
【0047】(25) 接続パターン74は、Auでの
みが蒸着された形成されるので、他の金属との接着不良
により膜はがれがなくなると共に、Al中拡散による信
頼性低下も防止できる。 (26) 各SAW共振子70s1〜70s4,70p1〜7
0p4での温度上昇が抑えられるので、温度上昇による周
波数変化が抑制できる。 (27) 電極金属のAlに、Cu,Ti,Ta等を添
加して耐マイグレーション性を向上させる従来の方法と
も併用が可能であり、これによる相乗効果も期待でき
る。 (28) 細い電極指と太い接続パターン74とを同時
にエッチングまたはリフトオフすると、過剰に細い電極
指をエッチングまたはリフトオフする危険が会ったが、
本実施形態では電極指と接続パターン74とが別の工程
で形成されるので、制御が容易である。(25) Since the connection pattern 74 is formed by evaporating only Au, the film is prevented from peeling off due to poor adhesion to other metals, and a decrease in reliability due to diffusion in Al can be prevented. (26) Each SAW resonator 70 s1 to 70 s4 , 70 p1 to 7
Since the temperature rise at 0 p4 is suppressed, a frequency change due to the temperature rise can be suppressed. (27) A conventional method of improving migration resistance by adding Cu, Ti, Ta or the like to Al as an electrode metal can be used in combination, and a synergistic effect can be expected. (28) When the thin electrode finger and the thick connection pattern 74 are simultaneously etched or lifted off, there is a danger of etching or lifting off the excessively thin electrode finger.
In this embodiment, since the electrode fingers and the connection patterns 74 are formed in different steps, control is easy.
【0048】第4の実施形態 図20は、本発明の第4の実施形態を示す梯子型SAW
フィルタの概略の構成図であり、図21は、図20中の
SAW共振子90s1の構成を示す斜視図である。この梯
子型SAWフィルタは、第1の実施形態を示す図9と同
様に、4段構成のSAWフィルタであり、8個のSAW
共振子90s1〜90s4,90p1〜90p4と、入力ボンデ
イングパッド91と、出力ボンディングパッド92と、
複数のアースボンディングパッド93とを備えている。 Fourth Embodiment FIG. 20 shows a ladder type SAW according to a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 21 is a schematic configuration diagram of a filter, and FIG. 21 is a perspective view illustrating a configuration of a SAW resonator 90 s1 in FIG. 20. This ladder-type SAW filter is a four-stage SAW filter similarly to FIG. 9 showing the first embodiment, and has eight SAW filters.
Resonators 90 s1 to 90 s4 , 90 p1 to 90 p4 , an input bonding pad 91, an output bonding pad 92,
And a plurality of ground bonding pads 93.
【0049】SAW共振子70s1が1段目の直列腕の共
振子であり、SAW共振子70s2が2段目の直列腕の共
振子であり、SAW共振子90s3が3段目の直列腕の共
振子であり、SAW共振子90s4が4段目の直列腕の共
振子である。SAW共振子90p1が1段目の並列腕の共
振子であり、SAW共振子90p2が2段目の並列腕の共
振子であり、SAW共振子90p3が3段目の並列腕の共
振子であり、SAW共振子90p4が4段目の並列腕の共
振子である。SAW共振子90s1は、図21に示すよう
に、第1の実施形態と同様のIDT90a及び反射器9
0b,90cを有している。SAW共振子90s2〜90
s4,90p1〜90p4も、同様のIDT90a及び反射器
90b,90cを有している。The SAW resonator 70 s1 is a first-stage series arm resonator, the SAW resonator 70 s2 is a second-stage series arm resonator, and the SAW resonator 90 s3 is a third-stage series arm. The SAW resonator 90 s4 is a fourth-stage series arm resonator. The SAW resonator 90 p1 is a resonator of the first-stage parallel arm, the SAW resonator 90 p2 is a resonator of the second-stage parallel arm, and the SAW resonator 90 p3 is a resonance of the third-stage parallel arm. The SAW resonator 90 p4 is a fourth-stage parallel arm resonator. As shown in FIG. 21, the SAW resonator 90 s1 has the same IDT 90 a and reflector 9 as in the first embodiment.
0b and 90c. SAW resonator 90 s2 to 90
s4, 90 p1 to 90 p4, the same IDT90a and reflectors 90b, and has a 90c.
【0050】各SAW共振子90s1〜90s4,90p1〜
90p4の間、SAW共振子90s1と入力ボンディングパ
ッド91との間、SAW共振子90s4と出力ボンディン
グパッド72との間、及び各SAW共振子90p1〜90
p4とアースボンディングパッド93との間が、接続パタ
ーン94で接続されて4段の梯子型回路が構成されてい
る。図22は、図20及び図21における第4の実施形
態を示す梯子形SAWフィルタのパターンの斜視図であ
り、図21のE部分拡大図が示されている。第1の実施
形態では、接続用パターン及びボンディングパッドの上
側に放熱用の膜を形成していたが、本実施形態では、こ
れらの接続パターン94及びボンディングパッド91〜
93を、共振子90s1〜90s4,90p1〜90p4よりも
50%以上厚いAlまたはAl合金の膜96だけで形成
しているいる。Each of the SAW resonators 90 s1 -90 s4 , 90 p1-
90 p4 , between the SAW resonator 90 s1 and the input bonding pad 91, between the SAW resonator 90 s4 and the output bonding pad 72, and each of the SAW resonators 90 p1 to 90 p90.
The connection between the p4 and the earth bonding pad 93 by a connection pattern 94 constitutes a four-stage ladder circuit. FIG. 22 is a perspective view of a pattern of a ladder-type SAW filter showing the fourth embodiment in FIGS. 20 and 21, and shows an enlarged view of a portion E in FIG. In the first embodiment, a heat-dissipating film is formed above the connection patterns and the bonding pads. However, in the present embodiment, these connection patterns 94 and the bonding pads 91 to 91 are formed.
93 is formed only of the Al or Al alloy film 96 that is 50% or more thicker than the resonators 90 s1 to 90 s4 and 90 p1 to 90 p4 .
【0051】図23(a)〜(i)は、図20のSAW
フィルタの製造工程を示す断面図である。図20のSA
Wフィルタは、図23(a)〜(i)に示される工程を
順に行うことにより、製造される。以下に各工程の概要
を説明する。まず、図23(a)の工程において、例え
ば結晶方位が36°Y−XのLiTaO3 単結晶基板9
5を用意し、該基板95のSAW共振子形成予定面にレ
ジスト97をスピンコートで塗布する。図23(b)の
工程において、レジスト97が塗布された基板95に対
して光学マスク98を設定し、光99で露光することに
より、レジスト97に、共振子のパターンが転写され
る。図23(c)の工程において、現像で不要なレジス
ト97を選択的に除去し、図23(d)の工程におい
て、不要なレジスト98が除去された基板95の上側全
面にAl薄膜100を蒸着する。図23(e)の工程に
おいて、有機溶剤を用いたリフトオフにより、不要なレ
ジスト97及びAl薄膜100を除去する。ここまでの
工程で、SAW共振子90s1〜90s4,90p1〜90p4
が基板95上に形成される。FIGS. 23 (a) to 23 (i) show the SAW of FIG.
It is sectional drawing which shows the manufacturing process of a filter. SA in FIG.
The W filter is manufactured by sequentially performing the steps shown in FIGS. The outline of each step will be described below. First, in the step of FIG. 23A, for example, a LiTaO 3 single crystal substrate 9 having a crystal orientation of 36 ° YX
5 is prepared, and a resist 97 is applied to the surface of the substrate 95 on which a SAW resonator is to be formed by spin coating. In the step of FIG. 23B, an optical mask 98 is set on the substrate 95 on which the resist 97 has been applied, and the substrate is exposed to light 99, so that the resonator pattern is transferred to the resist 97. In the step of FIG. 23C, the unnecessary resist 97 is selectively removed by development, and in the step of FIG. 23D, an Al thin film 100 is deposited on the entire upper surface of the substrate 95 from which the unnecessary resist 98 has been removed. I do. In the step of FIG. 23E, unnecessary resist 97 and Al thin film 100 are removed by lift-off using an organic solvent. In the steps so far, the SAW resonators 90 s1 to 90 s4 and 90 p1 to 90 p4
Is formed on the substrate 95.
【0052】図23(f)の工程において、基板95の
SAW共振子90s1〜90s4,90 p1〜90p4が形成さ
れた面上に、再びレジスト101を塗布する。図23
(g)の工程において、同図(b),(c)の工程と同
様に、光学マスクを用いた光の露光により、接続パター
ン94及びボンディングパッド91〜93のパターンを
転写し、その後の現像で、不要なレジスト101を除去
し、基板95の表面とSAW共振子よ90s1〜90s4,
90p1〜90p4の端部を露出させる。図23(h)の工
程において、基板95の上側全面に、接続パターン94
となるAu薄膜102を蒸着する。図23(i)の工程
において、有機溶剤を用いて不要な薄膜102をレジス
ト101と共に除去する。以上により、接続パターン9
4及びボンディングパッド91〜93が、基板95上に
形成される。In the step of FIG.
SAW resonator 90s1~ 90s4, 90 p1~ 90p4Formed
The resist 101 is applied again on the surface that has been removed. FIG.
Step (g) is the same as the steps (b) and (c) in FIG.
In the same way, light exposure using an optical mask
Pattern of the bonding 94 and the bonding pads 91 to 93
Transfer, and remove unnecessary resist 101 by subsequent development
The surface of the substrate 95 and the SAW resonator 90s1~ 90s4,
90p1~ 90p4Expose the end of 23 (h)
In the process, the connection pattern 94 is formed on the entire upper surface of the substrate 95.
An Au thin film 102 is deposited. Step of FIG. 23 (i)
The unnecessary thin film 102 using an organic solvent
And is removed together with the object 101. As described above, connection pattern 9
4 and bonding pads 91 to 93
It is formed.
【0053】次に、このSAWフィルタの動作を、図2
0中に示した放熱ルートR1〜R5を参照して説明す
る。この梯子型SAWフィルタにおいても、ボンディン
グパッド91に入力された電力は、1段目の直列腕SA
W共振子90s1に入り、該直列腕SAW共振子90 s1が
振動することにより、熱が発生する。1段目の直列腕S
AW共振子90s1を通った電力は、2段目の直列腕SA
W共振子90s2と1段目の並列腕SAW共振子90p1と
2段目の並列腕SAW共振子90p2とに入力される。1
段目の直列腕SAW共振子90s1で発生した熱は、第1
の実施形態と同様の放熱ルートR1〜R5を伝わって逃
げる。Next, the operation of this SAW filter will be described with reference to FIG.
0 will be described with reference to the heat dissipation routes R1 to R5 shown in FIG.
You. Also in this ladder type SAW filter, bondin
The power input to the touch pad 91 is the first-stage serial arm SA
W resonator 90s1And the series arm SAW resonator 90 s1But
Vibration generates heat. First-stage serial arm S
AW resonator 90s1The electric power passed through is the second-stage series arm SA
W resonator 90s2And first-stage parallel arm SAW resonator 90p1When
Second-stage parallel arm SAW resonator 90p2Entered as 1
First-stage series arm SAW resonator 90s1The heat generated in the first
Through the same heat radiation routes R1 to R5 as in the first embodiment.
I can.
【0054】ここで、この第4の実施形態の梯子型SA
Wフィルタでは、接続パターン94及びボンディングパ
ッド91〜93が、AlまたはAl合金の厚い膜で形成
されているので、第1の実施形態と同様に、放熱ルート
R1〜R4による放熱が、従来に比べて圧倒的によくな
る。さらに、放熱ルートとなるAlまたはAl合金が、
直接基板95に蒸着されているので、特に高周波で、接
続パターン94が細くかつ基板95の結晶が厚い場合
や、基板結晶が放熱性の悪いパッケージに固定されてい
る場合、バンプ等で基板結晶がフェースダウンで接続さ
れ、基板結晶の裏面からの放熱が期待できない場合等に
は、非常に有効である。Here, the ladder type SA of the fourth embodiment is used.
In the W filter, since the connection pattern 94 and the bonding pads 91 to 93 are formed of a thick film of Al or an Al alloy, the heat radiated by the heat radiating routes R1 to R4 is smaller than that of the related art as in the first embodiment. And overwhelmingly improved. Furthermore, Al or an Al alloy serving as a heat radiation route is
Since the substrate crystal is vapor-deposited directly on the substrate 95, particularly at high frequencies, when the connection pattern 94 is thin and the crystal of the substrate 95 is thick, or when the substrate crystal is fixed to a package having poor heat dissipation, the substrate crystal may be bumped or the like. It is very effective when connected face down and heat radiation from the back surface of the substrate crystal cannot be expected.
【0055】以上のように、この第4の実施形態では、
接続パターン94及びボンディングパッド91〜93を
厚いAlまたはAl合金で形成して各SAW共振子90
s1〜90s4,90p1〜90p4における放熱を改善したの
で、次の(31)から(37)の利点を有する梯子型S
AWフィルタが得られる。 (31) Alに多量の金属を添加する必要がなく、該
添加する金属がAl中でに偏在することがない。 (32) Alに多量の金属を添加する必要がなく、該
添加する金属がエッチング時に残ることがない。 (33) Alに多量の金属を添加する必要がなく、該
抵抗値が上昇することがない。 (34) 接続パターン94がAlで構成されるので、
特別な工程を追加せずにすむ。As described above, in the fourth embodiment,
The connection pattern 94 and the bonding pads 91 to 93 are formed of thick Al or Al alloy, and each SAW resonator 90 is formed.
Since the heat radiation at s1 to 90 s4 and 90 p1 to 90 p4 has been improved, the ladder type S has the following advantages (31) to (37).
An AW filter is obtained. (31) It is not necessary to add a large amount of metal to Al, and the metal to be added is not unevenly distributed in Al. (32) It is not necessary to add a large amount of metal to Al, and the added metal does not remain during etching. (33) There is no need to add a large amount of metal to Al, and the resistance does not increase. (34) Since the connection pattern 94 is made of Al,
No extra steps are required.
【0056】(35) 接続パターン94は、Alのみ
が蒸着され形成されるので、他の金属との接着不良によ
り膜はがれがなくなると共に、他の金属のAl中拡散に
よる信頼性低下も防止できる。 (36) 各SAW共振子90s2〜90s4,90p1〜9
0p4での温度上昇が抑えられるので、温度上昇による周
波数変化が抑制できる。 (37) 電極金属のAlに、Cu,Ti,Ta等を添
加して耐マイグレーション性を向上させる従来の方法と
も併用が可能であり、これによる相乗効果も期待でき
る。(35) Since the connection pattern 94 is formed by depositing only Al, it is possible to prevent the film from being peeled off due to poor adhesion to another metal and to prevent a decrease in reliability due to diffusion of the other metal into Al. (36) Each SAW resonator 90 s2 to 90 s4 , 90 p1 to 9
Since the temperature rise at 0 p4 is suppressed, a frequency change due to the temperature rise can be suppressed. (37) A conventional method of improving migration resistance by adding Cu, Ti, Ta or the like to Al as an electrode metal can be used in combination, and a synergistic effect can be expected.
【0057】第5の実施形態 図24は、本発明の第5の実施形態を示す梯子型SAW
フィルタの概略の構成図であり、図25は、図24中の
SAW共振子110s1の構成を示す斜視図である。この
梯子型SAWフィルタは、第1の実施形態を示す図9と
同様に、4段構成のSAWフィルタであり、8個のSA
W共振子110s1〜110s4,110p1〜110p4と、
入力ボンデイングパッド111と、出力ボンディングパ
ッド112と、複数のアースボンディングパッド113
とを備えている。SAW共振子110s1が1段目の直列
腕の共振子であり、SAW共振子110 s2が2段目の直
列腕の共振子であり、SAW共振子110s3が3段目の
直列腕の共振子であり、SAW共振子110s4が4段目
の直列腕の共振子である。SAW共振子110p1が1段
目の並列腕の共振子であり、SAW共振子110p2が2
段目の並列腕の共振子であり、SAW共振子110p3が
3段目の並列腕の共振子であり、SAW共振子110p4
が4段目の並列腕の共振子である。[0057]Fifth embodiment FIG. 24 shows a ladder type SAW showing a fifth embodiment of the present invention.
FIG. 25 is a schematic configuration diagram of a filter, and FIG.
SAW resonator 110s1It is a perspective view which shows a structure of. this
The ladder type SAW filter is different from FIG. 9 showing the first embodiment.
Similarly, the SAW filter has a four-stage configuration, and includes eight SAs.
W resonator 110s1~ 110s4, 110p1~ 110p4When,
The input bonding pad 111 and the output bonding pad
Pad 112 and a plurality of ground bonding pads 113
And SAW resonator 110s1Is the first series
Arm resonator, SAW resonator 110 s2Is the second stage
A row arm resonator, and a SAW resonator 110s3Is the third stage
The SAW resonator 110 is a series arm resonator.s4Is the fourth stage
Is a series arm resonator. SAW resonator 110p1Is one step
The SAW resonator 110 is a resonator of the parallel arm of the eye.p2Is 2
The SAW resonator 110 is a resonator of the parallel arm of the stage.p3But
The SAW resonator 110 is a resonator of the third parallel arm.p4
Is the resonator of the fourth parallel arm.
【0058】SAW共振子110s1は、図25に示すよ
うに、第1の実施形態と同様のIDT110a及び反射
器110b,110cを有している。SAW共振子11
0s2〜110s4,110p1〜110p4も、同様のIDT
110a及び反射器110b,110cを有している。
各SAW共振子110s1〜110s4,110p1〜110
p4の間、SAW共振子110s1と入力ボンディングパッ
ド111との間、SAW共振子110s4と出力ボンディ
ングパッド112との間、及び各SAW共振子110p1
〜110p4とアースボンディングパッド113との間
が、接続パターン114で接続されて4段の梯子型回路
が構成されている。[0058] SAW resonator 110 s1, as shown in FIG. 25, as in the first embodiment of IDT110a and reflectors 110b, and a 110c. SAW resonator 11
0 s2 to 110 s4 and 110 p1 to 110 p4 also have the same IDT.
110a and reflectors 110b and 110c.
Each SAW resonator 110 s1 to 110 s4 , 110 p1 to 110
p4 , between the SAW resonator 110 s1 and the input bonding pad 111, between the SAW resonator 110 s4 and the output bonding pad 112, and between each SAW resonator 110 p1
.About.110 p4 and the earth bonding pad 113 are connected by a connection pattern 114 to form a four-stage ladder circuit.
【0059】図26は、図24及び図25における第5
の実施形態を示す梯子型SAWフィルタのパターンの斜
視図であり、図25のF部分拡大斜視図が示されてい
る。第1の実施形態では、接続パターン及びボンディン
グパッドの上側に放熱用の膜を形成していたが、本実施
形態では、接続パターン114びボンディングパッド1
11〜113の上側に基板115よりも、熱伝導率の大
きい誘電体膜116を蒸着して耐熱性を向上させてい
る。図27(a)〜(i)は、図24のSAWフィルタ
の製造工程を示す断面図である。FIG. 26 is a view showing a fifth example of FIG. 24 and FIG.
26 is a perspective view of a pattern of a ladder-type SAW filter showing the embodiment, and is an enlarged perspective view of a part F in FIG. 25. FIG. In the first embodiment, the heat dissipation film is formed above the connection pattern and the bonding pad. However, in the present embodiment, the connection pattern 114 and the bonding pad 1 are formed.
A dielectric film 116 having a higher thermal conductivity than the substrate 115 is deposited on the upper side of 11 to 113 to improve heat resistance. FIGS. 27A to 27I are cross-sectional views illustrating the steps of manufacturing the SAW filter of FIG.
【0060】図24のSAWフィルタは、図27(a)
〜(i)に示される工程を順に行うことにより、製造さ
れる。以下に各工程の概要を説明する。まず、図27
(a)の工程において、例えば結晶方位が36°Y−X
のLiTaO3 単結晶基板115を用意し、該基板11
5のSAW共振子形成予定面にレジスト117をスピン
コートで塗布する。図27(b)の工程において、レジ
スト117が塗布された基板115に対して光学マスク
118を設定し、光119で露光することにより、レジ
スト117に、SAW共振子110s1〜110s4,11
0p1〜110p4とボンディングパッド111〜113、
及び接続パターン114のパターンが転写される。図2
7(c)の工程において、現像で不要なレジスト117
を選択的に除去し、図27(d)の工程において、不要
なレジスト118が除去された基板115の上側全面に
Al薄膜120を蒸着する。図27(e)の工程におい
て、有機溶剤を用いたリフトオフにより、不要なレジス
ト117及びAl薄膜120を除去する。ここまでの工
程で、SAW共振子110s1〜110s4,110p1〜1
10p4と、ボンディングパッド111〜113及び接続
パターン114の下地が基板115上に形成される。The SAW filter shown in FIG.
It is manufactured by sequentially performing the steps shown in (i) to (i). The outline of each step will be described below. First, FIG.
In the step (a), for example, the crystal orientation is 36 ° YX
LiTaO 3 single crystal substrate 115 is prepared, and
The resist 117 is spin-coated on the SAW resonator forming surface No. 5 by spin coating. In the step of FIG. 27B, an optical mask 118 is set on the substrate 115 on which the resist 117 has been applied, and the resist 117 is exposed to light 119, so that the SAW resonators 110 s1 to 110 s4 , 11 are formed on the resist 117.
0 p1 to 110 p4 and bonding pads 111 to 113,
Then, the pattern of the connection pattern 114 is transferred. FIG.
In step 7 (c), resist 117 unnecessary for development is used.
Is selectively removed, and in the step of FIG. 27D, an Al thin film 120 is deposited on the entire upper surface of the substrate 115 from which the unnecessary resist 118 has been removed. In the step of FIG. 27E, unnecessary resist 117 and Al thin film 120 are removed by lift-off using an organic solvent. In the steps so far, the SAW resonators 110 s1 to 110 s4 and 110 p1 to 1
10 p4 , the bases of the bonding pads 111 to 113 and the connection pattern 114 are formed on the substrate 115.
【0061】図27(f)の工程において、基板115
のSAW共振子110s1〜110s4,110p1〜110
p4が形成された面上に、再びレジスト121を塗布す
る。図27(g)の工程において、同図(b),(c)
の工程と同様に、光学マスクを用いた光の露光により、
接続パターン114及びボンディングパッド111〜1
13のパターンを転写し、その後の現像で、不要なレジ
スト121を除去し、接続パターン114及びボンディ
ングパッド111〜113の下地のパターンを露出させ
る。In the step of FIG.
SAW resonators 110 s1 to 110 s4 , 110 p1 to 110
The resist 121 is applied again on the surface on which p4 is formed. In the step of FIG. 27 (g), FIGS.
In the same manner as in the step, by light exposure using an optical mask,
Connection pattern 114 and bonding pads 111-1
The pattern of No. 13 is transferred, and unnecessary resist 121 is removed by the subsequent development, and the underlying patterns of the connection pattern 114 and the bonding pads 111 to 113 are exposed.
【0062】図27(h)の工程において、基板115
の上側から全面に、膜116となる伝導率の高い誘電体
の例えばAl2 O3 の膜122を蒸着する。Al2 O3
の熱伝導率は、21[W/(m・K)]である。図27
(i)の工程において、有機溶剤を用いて不要な膜12
2をレジスト121と共に除去する。以上により、上側
に膜116が乗った接続パターン114及びボンディン
グパッド111〜113が、基板115上に形成され
る。In the step of FIG.
On the entire surface from above, a film 122 of, for example, Al 2 O 3 having a high conductivity and serving as the film 116 is deposited. Al 2 O 3
Has a thermal conductivity of 21 [W / (m · K)]. FIG.
In the step (i), an unnecessary film 12 is formed using an organic solvent.
2 is removed together with the resist 121. As described above, the connection pattern 114 having the film 116 on the upper side and the bonding pads 111 to 113 are formed on the substrate 115.
【0063】次に、このSAWフィルタの動作を、図2
4中に示した放熱ルートR1〜R5を参照して説明す
る。この梯子型SAWフィルタにおいても、ボンディン
グパッド91に入力された電力は、1段目の直列腕SA
W共振子110s1に入り、該直列腕SAW共振子110
s1が振動することにより、熱が発生する。1段目の直列
腕SAW共振子110s1を通った電力は、2段目の直列
腕SAW共振子110s2と1段目の並列腕SAW共振子
110p1と2段目の並列腕SAW共振子110p2とに入
力される。1段目の直列腕SAW共振子110s1で発生
した熱は、第1の実施形態と同様の放熱ルートR1〜R
5を伝わって逃げる。Next, the operation of this SAW filter will be described with reference to FIG.
4 will be described with reference to the heat dissipation routes R1 to R5 shown in FIG. Also in this ladder-type SAW filter, the power input to the bonding pad 91 is the same as that of the first-stage serial arm SA.
The W arm 110 s1 enters the series arm SAW resonator 110
When s1 vibrates, heat is generated. The power passing through the first-stage series arm SAW resonator 110 s1 is equal to the second-stage series arm SAW resonator 110 s2 , the first-stage parallel arm SAW resonator 110 p1, and the second-stage parallel arm SAW resonator. 110 p2 . The heat generated in the first-stage series arm SAW resonator 110 s1 is dissipated in the same manner as in the first embodiment.
Run 5 and escape.
【0064】ここで、この第5の実施形態の梯子型SA
Wフィルタでは、接続パターン114及びボンディング
パッド111〜113の上側に、熱伝導率の高い膜11
6が形成されているので、第1の実施形態と同様に、放
熱ルートR1〜R4による放熱が、従来に比べて圧倒的
によくなる。さらに、特に高周波で、接続パターン11
4が細くかつ基板115の結晶が厚い場合や、基板結晶
が放熱性の悪いパッケージに固定されている場合、バン
プ等で基板結晶がフェースダウンで接続され、基板結晶
の裏面からの放熱が期待できない場合等には、非常に有
効である。Here, the ladder type SA of the fifth embodiment
In the W filter, the film 11 having high thermal conductivity is formed on the connection pattern 114 and the bonding pads 111 to 113.
6, the heat radiation by the heat radiation routes R1 to R4 is overwhelmingly improved as compared with the related art, as in the first embodiment. Furthermore, especially at high frequencies, the connection pattern 11
When the substrate 4 is thin and the crystal of the substrate 115 is thick, or when the substrate crystal is fixed to a package having poor heat dissipation, the substrate crystal is connected face down by bumps or the like, and heat dissipation from the back surface of the substrate crystal cannot be expected. In some cases, it is very effective.
【0065】以上のように、この第5の実施形態では、
接続パターン114及びボンディングパッド111〜1
13をAlまたはAl合金の膜と、熱伝導率が高い誘電
体の膜116とで形成して各SAW共振子110s1〜1
10s4,110p1〜110p4における放熱を改善したの
で、次の(41)から(47)の利点を有する梯子型S
AWフィルタが得られる。 (41) Alに多量の金属を添加する必要がなく、該
添加する金属がAl中でに偏在することがない。 (42) Alに多量の金属を添加する必要がなく、該
添加する金属がエッチング時に残ることがない。 (43) Alに多量の金属を添加する必要がなく、該
抵抗値が上昇することがない。As described above, in the fifth embodiment,
Connection pattern 114 and bonding pads 111-1
13 is formed of an Al or Al alloy film and a dielectric film 116 having high thermal conductivity to form each of the SAW resonators 110 s1 to 110 s1.
Since the heat radiation at 10 s4 , 110 p1 to 110 p4 has been improved, the ladder type S having the following advantages (41) to (47)
An AW filter is obtained. (41) It is not necessary to add a large amount of metal to Al, and the metal to be added is not unevenly distributed in Al. (42) It is not necessary to add a large amount of metal to Al, and the added metal does not remain during etching. (43) It is not necessary to add a large amount of metal to Al, and the resistance does not increase.
【0066】(44) 接続パターン114の上側が誘
電体の膜116になるので、パターンに保護ができる。 0(45) 誘電体の膜116は、接続パターン114
やボンディングパッド111〜113以外の電気的特性
に影響のでない部分にも蒸着可能であり、該誘電体で放
熱構造を構築すれば、さらに、外部への放熱が改善でき
る。 (46) 各SAW共振子110s1〜110s4,110
p1〜110p4での温度上昇が抑えられるので、温度上昇
による周波数変化が抑制できる。 (47) 電極金属のAlに、Cu,Ti,Ta等を添
加して耐マイグレーション性を向上させる従来の方法と
も併用が可能であり、これによる相乗効果も期待でき
る。(44) Since the upper side of the connection pattern 114 becomes the dielectric film 116, the pattern can be protected. 0 (45) The dielectric film 116 is
It is also possible to vapor-deposit on portions other than the electrical characteristics other than the bonding pads 111 to 113, and by constructing a heat dissipation structure using the dielectric, heat dissipation to the outside can be further improved. (46) Each SAW resonator 110 s1 to 110 s4 , 110
Since the temperature rise in p1 to 110 p4 is suppressed, the frequency change due to the temperature rise can be suppressed. (47) It can be used in combination with a conventional method of improving migration resistance by adding Cu, Ti, Ta or the like to Al of the electrode metal, and a synergistic effect can be expected.
【0067】第6の実施形態 図28は、本発明の第6の実施形態を示す梯子型SAW
フィルタの概略の構成図であり、図29は、図28中の
SAW共振子130s1の構成を示す斜視図である。この
梯子型SAWフィルタは、第1の実施形態を示す図9と
同様に、4段構成のSAWフィルタであり、8個のSA
W共振子130s1〜130s4,130p1〜130p4と、
入力ボンデイングパッド131と、出力ボンディングパ
ッド132と、複数のアースボンディングパッド133
とを備えている。SAW共振子130s1が1段目の直列
腕の共振子であり、SAW共振子130 s2が2段目の直
列腕の共振子であり、SAW共振子130s3が3段目の
直列腕の共振子であり、SAW共振子130s4が4段目
の直列腕の共振子である。SAW共振子130p1が1段
目の並列腕の共振子であり、SAW共振子130p2が2
段目の並列腕の共振子であり、SAW共振子130p3が
3段目の並列腕の共振子であり、SAW共振子130p4
が4段目の並列腕の共振子である。[0067]Sixth embodiment FIG. 28 is a ladder type SAW showing a sixth embodiment of the present invention.
FIG. 29 is a schematic configuration diagram of a filter, and FIG.
SAW resonator 130s1It is a perspective view which shows a structure of. this
The ladder type SAW filter is different from FIG. 9 showing the first embodiment.
Similarly, the SAW filter has a four-stage configuration, and includes eight SAs.
W resonator 130s1~ 130s4, 130p1~ 130p4When,
The input bonding pad 131 and the output bonding pad
Pad 132 and a plurality of ground bonding pads 133
And SAW resonator 130s1Is the first series
Arm resonator, SAW resonator 130 s2Is the second stage
A row arm resonator, and a SAW resonator 130s3Is the third stage
The SAW resonator 130 is a series arm resonator.s4Is the fourth stage
Is a series arm resonator. SAW resonator 130p1Is one step
The SAW resonator 130 is a resonator of the parallel arm of the eye.p2Is 2
The SAW resonator 130 is a resonator of the parallel arm of the stage.p3But
The SAW resonator 130 is a third-stage parallel arm resonator.p4
Is the resonator of the fourth parallel arm.
【0068】SAW共振子130s1は、図29に示すよ
うに、第1の実施形態と同様のIDT130a及び反射
器130b,130cを有している。SAW共振子13
0s2〜130s4,130p1〜130p4も、同様のIDT
130a及び反射器130b,130cを有している。
各SAW共振子130s1〜130s4,130p1〜130
p4の間、SAW共振子130s1と入力ボンディングパッ
ド131との間、SAW共振子130s4と出力ボンディ
ングパッド132との間、及び各SAW共振子130p1
〜130p4とアースボンディングパッド133との間
が、接続パターン134で接続されて4段の梯子型回路
が構成されている。図30は、図28及び図29におけ
る第6の実施形態を示す梯子型SAWフィルタのパター
ンの斜視図であり、図29のG部分拡大斜視図が示され
ている。第1の実施形態では、接続パターン及びボンデ
ィングパッドの上側に放熱用の膜を形成していたが、本
実施形態では、接続パターン134びボンディングパッ
ド131〜133を、AlまたはAl合金の膜136を
基板135に形成し、その上に、放熱用の膜137を積
層し、さらに、熱伝導率の高い誘電体の膜138を積層
して構成し、耐熱性を向上させている。[0068] SAW resonator 130 s1, as shown in FIG. 29, as in the first embodiment of IDT130a and reflectors 130b, and a 130c. SAW resonator 13
0 s2 to 130 s4 and 130 p1 to 130 p4 are the same IDTs.
130a and reflectors 130b and 130c.
Each of the SAW resonators 130 s1 to 130 s4 , 130 p1 to 130
p4 , between the SAW resonator 130 s1 and the input bonding pad 131, between the SAW resonator 130 s4 and the output bonding pad 132, and between the SAW resonators 130 p1
130 p4 and the ground bonding pad 133 are connected by a connection pattern 134 to form a four-stage ladder circuit. FIG. 30 is a perspective view of a pattern of a ladder-type SAW filter showing the sixth embodiment in FIGS. 28 and 29, and shows an enlarged perspective view of a portion G in FIG. 29. In the first embodiment, a heat-dissipating film is formed above the connection pattern and the bonding pad. In the present embodiment, however, the connection pattern 134 and the bonding pads 131 to 133 are replaced with the Al or Al alloy film 136. It is formed on a substrate 135, a heat dissipation film 137 is stacked thereon, and a dielectric film 138 having high thermal conductivity is further stacked thereon to improve heat resistance.
【0069】図31(a)〜(m)は、図28のSAW
フィルタの製造工程を示す断面図である。図28のSA
Wフィルタは、図31(a)〜(m)に示される工程を
順に行うことにより、製造される。以下に各工程の概要
を説明する。まず、図31(a)の工程において、例え
ば結晶方位が36°Y−XのLiTaO3 単結晶基板1
35を用意し、該基板135のSAW共振子形成予定面
にレジスト139をスピンコートで塗布する。図31
(b)の工程において、レジスト139が塗布された基
板135に対して光学マスク140を設定し、光141
で露光することにより、レジスト139に、SAW共振
子130s1〜130s4,130p1〜130p4とボンディ
ングパッド131〜133、及び接続パターン134の
膜136のパターンが転写される。図31(c)の工程
において、現像で不要なレジスト139を選択的に除去
し、図31(d)の工程において、不要なレジスト13
9が除去された基板135の上側全面にAl薄膜142
を蒸着する。図31(e)の工程において、有機溶剤を
用いたリフトオフにより、不要なレジスト139及びA
l薄膜142を除去する。ここまでの工程で、SAW共
振子130s1〜130s4,130p1〜130p4と、ボン
ディングパッド131〜133及び接続パターン134
の下地の膜136が基板135上に形成される。FIGS. 31 (a) to 31 (m) show the SAW of FIG.
It is sectional drawing which shows the manufacturing process of a filter. SA in FIG. 28
The W filter is manufactured by sequentially performing the steps shown in FIGS. The outline of each step will be described below. First, in the step of FIG. 31A, for example, a LiTaO 3 single crystal substrate 1 having a crystal orientation of 36 ° YX
35 is prepared, and a resist 139 is applied to the surface of the substrate 135 on which a SAW resonator is to be formed by spin coating. FIG.
In the step (b), an optical mask 140 is set on the substrate 135 coated with the resist 139, and light 141
The pattern of the SAW resonators 130 s1 to 130 s4 , 130 p1 to 130 p4 , the bonding pads 131 to 133, and the film 136 of the connection pattern 134 is transferred to the resist 139. In the step of FIG. 31C, the unnecessary resist 139 is selectively removed by development, and in the step of FIG.
9 is removed, an Al thin film 142 is formed on the entire upper surface of the substrate 135.
Is deposited. In the step of FIG. 31E, unnecessary resists 139 and A are lifted off using an organic solvent.
The thin film 142 is removed. In the steps so far, the SAW resonators 130 s1 to 130 s4 and 130 p1 to 130 p4 , the bonding pads 131 to 133, and the connection pattern 134
Is formed on the substrate 135.
【0070】図31(f)の工程において、基板135
のSAW共振子130s1〜130s4,130p1〜130
p4等が形成された面上に、再びレジスト143を塗布す
る。図31(g)の工程において、同図(b),(c)
の工程と同様に、光学マスクを用いた光の露光により、
接続パターン134及びボンディングパッド131〜1
33のの膜136のパターンを転写し、その後の現像
で、不要なレジスト143を除去し、接続パターン13
4及びボンディングパッド131〜133の膜136の
パターンを露出させる。図31(h)の工程において、
基板135の上側から全面に、膜137となるAuの薄
膜144を蒸着する。図31(i)の工程において、有
機溶剤を用いて不要な膜144をレジスト143と共に
除去する。In the step of FIG.
SAW resonators 130 s1 to 130 s4 and 130 p1 to 130
A resist 143 is applied again on the surface on which p4 and the like are formed. In the step of FIG. 31 (g), FIGS.
In the same manner as in the step, by light exposure using an optical mask,
Connection pattern 134 and bonding pads 131-1
The pattern of the film 136 is transferred, and the unnecessary resist 143 is removed by the subsequent development.
4 and the pattern of the film 136 of the bonding pads 131 to 133 are exposed. In the step of FIG.
An Au thin film 144 to be a film 137 is deposited on the entire surface of the substrate 135 from above. In the step of FIG. 31I, the unnecessary film 144 is removed together with the resist 143 using an organic solvent.
【0071】図31(j)の工程において、基板135
の上側から全面に、再びレジスト145を塗布する。図
31(k)の工程において、同図(b),(c)の工程
と同様に、光学マスクを用いた光の露光により、接続パ
ターン134及びボンディングパッド131〜133の
膜138のパターンを転写し、その後の現像で、不要な
レジスト145を除去し、接続パターン134及びボン
ディングパッド131〜133の膜137のパターンを
露出させる。図31(l)の工程において、基板135
の上側から全面に、膜138となる伝導率の高い誘電体
のAl2 O3 の膜146を蒸着する。図31(m)の工
程において、有機溶剤を用いて不要な膜146をレジス
ト145と共に除去する。以上により、3層の接続パタ
ーン134及びボンディングパッド131〜133が、
基板135上に形成される。In the step of FIG. 31 (j), the substrate 135
A resist 145 is again applied to the entire surface from above. In the step of FIG. 31K, similarly to the steps of FIGS. 31B and 31C, the connection pattern 134 and the pattern of the film 138 of the bonding pads 131 to 133 are transferred by light exposure using an optical mask. Then, in the subsequent development, the unnecessary resist 145 is removed, and the connection pattern 134 and the pattern of the film 137 of the bonding pads 131 to 133 are exposed. In the step of FIG.
On the entire surface from above, a film 146 of dielectric Al 2 O 3 having a high conductivity to be a film 138 is deposited. In the step of FIG. 31M, the unnecessary film 146 is removed together with the resist 145 using an organic solvent. As described above, the three-layer connection pattern 134 and the bonding pads 131 to 133 are
It is formed on a substrate 135.
【0072】次に、このSAWフィルタの動作を、図3
1中に示した放熱ルートR1〜R5を参照して説明す
る。この梯子型SAWフィルタにおいても、ボンディン
グパッド131に入力された電力は、1段目の直列腕S
AW共振子130s1に入り、該直列腕SAW共振子13
0s1が振動することにより、熱が発生する。1段目の直
列腕SAW共振子130s1を通った電力は、2段目の直
列腕SAW共振子130s2と1段目の並列腕SAW共振
子130p1と2段目の並列腕SAW共振子130p2とに
入力される。1段目の直列腕SAW共振子130s1で発
生した熱は、第1の実施形態と同様の放熱ルートR1〜
R5を伝わって逃げる。Next, the operation of this SAW filter will be described with reference to FIG.
1 will be described with reference to the heat dissipation routes R1 to R5 shown in FIG. Also in this ladder type SAW filter, the power input to the bonding pad 131 is the same as that of the first-stage serial arm S.
The AW resonator 130 s1 enters the series arm SAW resonator 13
When 0 s1 vibrates, heat is generated. The power passing through the first-stage series arm SAW resonator 130 s1 is equal to the second-stage series arm SAW resonator 130 s2 , the first-stage parallel arm SAW resonator 130 p1, and the second-stage parallel arm SAW resonator. 130 p2 . The heat generated in the first-stage series arm SAW resonator 130 s1 is dissipated in the same manner as in the first embodiment.
Escape along R5.
【0073】ここで、この第6の実施形態の梯子型SA
Wフィルタでは、接続パターン134及びボンディング
パッド131〜133を、AlまたはAl合金の膜13
6と、Auの放熱用の膜137と、熱伝導率の高い誘電
体の膜138とで構成したので、第1の実施形態と同様
に、放熱ルートR1〜R4による放熱が、従来に比べて
圧倒的によくなる。さらに、特に高周波で、接続パター
ン134が細くかつ基板135の結晶が厚い場合や、基
板結晶が放熱性の悪いパッケージに固定されている場
合、バンプ等で基板結晶がフェースダウンで接続され、
基板結晶の裏面からの放熱が期待できないとき等には、
非常に有効である。Here, the ladder type SA of the sixth embodiment
In the W filter, the connection pattern 134 and the bonding pads 131 to 133 are formed by using an Al or Al alloy film 13.
6, the heat dissipation film 137 of Au, and the dielectric film 138 having a high thermal conductivity, as in the first embodiment, the heat dissipation by the heat dissipation routes R1 to R4 is smaller than that of the related art. It will be overwhelmingly better. Further, particularly at high frequencies, when the connection pattern 134 is thin and the crystal of the substrate 135 is thick, or when the substrate crystal is fixed to a package having poor heat dissipation, the substrate crystal is connected face down by bumps or the like,
When heat radiation from the back of the substrate crystal cannot be expected,
Very effective.
【0074】以上のように、この第6の実施形態では、
接続パターン134及びボンディングパッド131〜1
33を、AlまたはAl合金の膜136と、Auの放熱
用の膜137と、熱伝導率の高い誘電体の膜138とで
構成して放熱性を改善したので、次の(51)から(6
0)の利点を有する梯子型SAWフィルタが得られる。 (51) Alに多量の金属を添加する必要がなく、該
添加する金属がAl中でに偏在することがない。 (52) Alに多量の金属を添加する必要がなく、該
添加する金属がエッチング時に残ることがない。 (53) Alに多量の金属を添加する必要がなく、該
抵抗値が上昇することがない。 (54) Alの膜136にAuの膜137が蒸着され
るので、膜136の膜はがれが防止できる。 (55) Alの膜136にAuの膜137が蒸着され
るので、接続パターン134の断面積が増え、抵抗が減
じることができる。As described above, in the sixth embodiment,
Connection pattern 134 and bonding pads 131-1
33 is composed of a film 136 of Al or Al alloy, a film 137 for radiating Au, and a film 138 of a dielectric material having high thermal conductivity to improve heat radiation. 6
A ladder type SAW filter having the advantage of 0) is obtained. (51) It is not necessary to add a large amount of metal to Al, and the metal to be added is not unevenly distributed in Al. (52) It is not necessary to add a large amount of metal to Al, and the added metal does not remain during etching. (53) It is not necessary to add a large amount of metal to Al, and the resistance does not increase. (54) Since the Au film 137 is deposited on the Al film 136, peeling of the film 136 can be prevented. (55) Since the Au film 137 is deposited on the Al film 136, the cross-sectional area of the connection pattern 134 increases, and the resistance can be reduced.
【0075】(56) 各SAW共振子130s1〜13
0s4,130p1〜10p4での温度上昇が抑えられるの
で、温度上昇による周波数変化が抑制できる。 (57) 電極金属のAlに、Cu,Ti,Ta等を添
加して耐マイグレーション性を向上させる従来の方法と
も併用が可能であり、これによる相乗効果も期待できる (58) 接続パターン134の上側が誘電体の膜13
8になるので、パターンに保護ができる。なおがAlで
構成されるの特別な工程を追加せずにすむ。 (59) 接続パターン134の最上部が誘電体の膜1
38になるので、Auの膜137のはがれも防止でき
る。 (60) 誘電体の膜138は、接続パターン134や
ボンディングパッド131〜133以外の電気的特性に
影響のでない部分にも蒸着可能であり、該誘電体で放熱
構造を構築すれば、さらに、外部への放熱が改善でき
る。(56) Each SAW resonator 130 s1 to 13
Since the temperature rise at 0 s4 , 130 p1 to 10 p4 is suppressed, the frequency change due to the temperature rise can be suppressed. (57) A conventional method of improving migration resistance by adding Cu, Ti, Ta, or the like to Al of the electrode metal can be used in combination, and a synergistic effect due to this can be expected. (58) On the connection pattern 134 Film 13 with dielectric side
8, the pattern can be protected. It is not necessary to add a special process made of Al. (59) Dielectric film 1 on top of connection pattern 134
Since it is 38, peeling of the Au film 137 can be prevented. (60) The dielectric film 138 can be deposited on portions other than the connection pattern 134 and the bonding pads 131 to 133 that do not affect the electrical characteristics. The heat radiation to the can be improved.
【0076】なお、本発明は、上記実施形態に限定され
ず種々の変形が可能である。その変形例としては、例え
ば次のようなものがある。 (i) 第1〜第3の実施形態及び第5の実施形態で
は、AlまたはAL合金よりも、熱伝導率の高い金属と
してAuを使用したが、AgやCuも熱伝導率が高く、
それぞれ426[W/(m・K)],398[W/(m
・K)]なので、これらを利用しても同様の効果が得ら
れる。 (ii) 第1及び第2の実施形態及び第5の実施形態で
は、AlまたはAL合金よりも、熱伝導率の高い金属の
膜37,56を一層に形成したが、金属を変えて多層に
してもよい。 (iii) 第5及び第6の実施形態では、基板よりも熱伝
導率の高い誘電体をAl2 O3 としたが、AINやSi
3 N4 も利用可能である。AINやSi3 N4の熱伝導
率は、200[W/(m・K)],5/5[W/(m・
K)]である。使用したが、AgやCuも熱伝導率が高
く、それぞれ426[W/(m・K)],398[W/
(m・K)]なので、これらを利用しても同様の効果が
得られる。Note that the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications are possible. For example, there are the following modifications. (I) In the first to third embodiments and the fifth embodiment, Au is used as a metal having higher thermal conductivity than Al or AL alloy. However, Ag and Cu also have high thermal conductivity.
426 [W / (mK)] and 398 [W / (m
· K)], so that the same effect can be obtained by using these. (Ii) In the first, second and fifth embodiments, the metal films 37 and 56 having higher thermal conductivity than Al or the AL alloy are formed in one layer. You may. (Iii) In the fifth and sixth embodiments, the dielectric having a higher thermal conductivity than the substrate is Al 2 O 3.
3 N 4 is also available. The thermal conductivity of AIN or Si 3 N 4 is 200 [W / (m · K)], 5/5 [W / (m · K
K)]. Ag and Cu also had high thermal conductivity, and were 426 [W / (m · K)] and 398 [W /
(M · K)], the same effect can be obtained by using these.
【0077】(iv) 第5及び第6の実施形態では、基
板よりも熱伝導率の高い誘電体の膜116,138を1
層にしたが、多層にしてもよい。 (v) 第3の実施形態の膜76の上、或いは第4の実
施形態の膜96の上に、基板よりも熱伝導率の高い誘電
体をAl2 O3 を積層してもよい。 (vi) 第1から第6の実施形態で説明した製造工程で
は、AlやAl2 O3にリフトオフを適用したがエッチ
ングを行うようにしてもよい。(Iv) In the fifth and sixth embodiments, the dielectric films 116 and 138 having higher thermal conductivity than the substrate
Although a layer is used, a multilayer may be used. (V) On the film 76 of the third embodiment or on the film 96 of the fourth embodiment, a dielectric having a higher thermal conductivity than the substrate may be laminated with Al 2 O 3 . (Vi) In the manufacturing steps described in the first to sixth embodiments, lift-off is applied to Al or Al 2 O 3 , but etching may be performed.
【0078】[0078]
【発明の効果】以上詳細に説明したように、第1及び第
2の発明によれば、接続パターンとボンディングパッド
とを、Al或いはAl合金の膜と、これよりも熱伝導率
が高い金属で形成された放熱膜とで構成したので、SA
W共振子の振動で発生した熱が放熱膜を伝わって逃げ、
耐熱性を向上させる。よって耐電力が向上する。第3の
発明によれば、接続パターンとボンディングパッドと
を、Al或いはAl合金よりも熱伝導率が高い金属の膜
パターンで構成したので、SAW共振子の振動で発生し
た熱が該膜を伝わって逃げ、耐熱性を向上させる。よっ
て耐電力が向上する。第4の発明によれば、接続パター
ンとボンディングパッドとを、SAW共振子の電極の厚
さよりも50%以上厚いAl或いはAl合金の膜で構成
したので、SAW共振子の振動で発生した熱が該膜を伝
わって逃げ、耐熱性を向上させる。よって耐電力が向上
する。As described above in detail, according to the first and second aspects of the present invention, the connection pattern and the bonding pad are made of an Al or Al alloy film and a metal having a higher thermal conductivity. Since it is composed of the formed heat dissipation film, SA
The heat generated by the vibration of the W resonator travels through the heat dissipation film and escapes,
Improves heat resistance. Therefore, the power durability is improved. According to the third aspect, since the connection pattern and the bonding pad are formed of a metal film pattern having a higher thermal conductivity than Al or an Al alloy, heat generated by the vibration of the SAW resonator is transmitted through the film. Escape to improve heat resistance. Therefore, the power durability is improved. According to the fourth aspect, since the connection pattern and the bonding pad are made of an Al or Al alloy film that is at least 50% thicker than the thickness of the electrode of the SAW resonator, heat generated by the vibration of the SAW resonator is generated. It escapes through the film and improves heat resistance. Therefore, the power durability is improved.
【0079】第5の発明によれば、接続パターンとボン
ディングパッドとを、圧電または強誘電体単結晶基板上
に蒸着されて形成されたAl或いはAl合金の膜と、該
圧電または強誘電体単結晶基板よりも熱伝導率が高い誘
電体を1層以上重ねた構成にしたので、SAW共振子の
振動で発生した熱が誘電体を伝わって逃げ、耐熱性を向
上させる。よって耐電力が向上する。第6の発明によれ
ば、接続パターンとボンディングパッドとを、Al或い
はAl合金以上に熱伝導率が高い金属の膜に、該圧電ま
たは強誘電体単結晶基板よりも熱伝導率が高い誘電体を
1層以上重ねて構成したので、SAW共振子の振動で発
生した熱が金属膜及び誘電体を伝わって逃げ、耐熱性を
向上させる。よって耐電力が向上する。According to the fifth aspect of the present invention, the connection pattern and the bonding pad are formed by depositing an Al or Al alloy film deposited on a piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate and forming the piezoelectric or ferroelectric single crystal. Since one or more dielectrics having higher thermal conductivity than the crystal substrate are stacked, the heat generated by the vibration of the SAW resonator is transmitted through the dielectric and escapes to improve heat resistance. Therefore, the power durability is improved. According to the sixth aspect, the connection pattern and the bonding pad are formed on a metal film having a higher thermal conductivity than Al or an Al alloy by using a dielectric film having a higher thermal conductivity than the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate. , The heat generated by the vibration of the SAW resonator is transmitted through the metal film and the dielectric to escape, thereby improving heat resistance. Therefore, the power durability is improved.
【0080】第7の発明によれば、第5または第6の発
明における誘電体を、Al2 O3 、AINまたはSi3
N4 で構成したので、圧電または強誘電体単結晶基板が
通常のSAW共振子等で使用されるものでも、放熱効果
が確保できる。第8の発明によれば、第1〜第6または
第7の発明におけるAl合金を、AlにCu、Tiまた
はTaを加えたものとしたので、耐マイグレーション性
をさらに、向上できる。第9の発明によれば、第1〜第
3または第6〜8の発明におけるAl或いはAl合金よ
りも熱伝導率が高い金属は、Au、AgまたはCuで構
成したので、十分な放熱性が得られる。According to the seventh invention, the dielectric according to the fifth or sixth invention is made of Al 2 O 3 , AIN or Si 3
Since it is composed of N 4 , the heat radiation effect can be ensured even if the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate is used for a normal SAW resonator or the like. According to the eighth invention, since the Al alloy in the first to sixth or seventh invention is obtained by adding Cu, Ti or Ta to Al, migration resistance can be further improved. According to the ninth aspect, the metal having a higher thermal conductivity than Al or the Al alloy in the first to third aspects or the sixth to eighth aspects is made of Au, Ag, or Cu. can get.
【図1】第1の実施形態を示す梯子型SAWフィルタの
パターンの斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a pattern of a ladder type SAW filter according to a first embodiment.
【図2】従来のSAWフィルタの基本構成を示す回路図
である。FIG. 2 is a circuit diagram showing a basic configuration of a conventional SAW filter.
【図3】図2の周波数特性を示す特性図である。FIG. 3 is a characteristic diagram showing a frequency characteristic of FIG. 2;
【図4】図2のSAW共振子10の要部を示す構成図で
ある。FIG. 4 is a configuration diagram illustrating a main part of the SAW resonator 10 of FIG. 2;
【図5】4段構成の梯子型SAWフィルタの回路図であ
る。FIG. 5 is a circuit diagram of a ladder-type SAW filter having a four-stage configuration.
【図6】図5のSAWフィルタの構成図である。FIG. 6 is a configuration diagram of the SAW filter of FIG. 5;
【図7】図5のSAWフィルタの周波数特性を示す特性
図である。FIG. 7 is a characteristic diagram showing frequency characteristics of the SAW filter of FIG. 5;
【図8】従来のSAWフィルタの製造工程を示す断面図
である。FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of a conventional SAW filter.
【図9】本発明の第1の実施形態を示す梯子型SAWフ
ィルタの概略の構成図である。FIG. 9 is a schematic configuration diagram of a ladder-type SAW filter according to the first embodiment of the present invention.
【図10】図9中のSAW共振子30s1の構成を示す斜
視図である。FIG. 10 is a perspective view showing a configuration of a SAW resonator 30 s1 in FIG. 9;
【図11】図1のSAWフィルタの製造工程を示す断面
図である。FIG. 11 is a sectional view showing a manufacturing process of the SAW filter of FIG. 1;
【図12】本発明の第2の実施形態を示す梯子型SAW
フィルタの概略の構成図である。FIG. 12 shows a ladder-type SAW showing a second embodiment of the present invention.
It is a schematic block diagram of a filter.
【図13】図12中のSAW共振子50s1の構成を示す
斜視図である。13 is a perspective view showing a configuration of a SAW resonator 50 s1 in FIG.
【図14】第2の実施形態を示す梯子型SAWフィルタ
のパターンの斜視図である。FIG. 14 is a perspective view of a pattern of a ladder type SAW filter showing a second embodiment.
【図15】図1のSAWフィルタの製造工程を示す断面
図である。FIG. 15 is a sectional view illustrating a manufacturing process of the SAW filter of FIG. 1;
【図16】本発明の第3の実施形態を示す梯子型SAW
フィルタの概略の構成図である。FIG. 16 shows a ladder type SAW showing a third embodiment of the present invention.
It is a schematic block diagram of a filter.
【図17】図16中のSAW共振子70s1の構成を示す
斜視図である。17 is a perspective view illustrating a configuration of a SAW resonator 70 s1 in FIG.
【図18】第3の実施形態を示す梯子型SAWフィルタ
のパターンの斜視図である。FIG. 18 is a perspective view of a pattern of a ladder-type SAW filter showing a third embodiment.
【図19】図16のSAWフィルタの製造工程を示す断
面図である。FIG. 19 is a sectional view showing a manufacturing process of the SAW filter of FIG. 16;
【図20】本発明の第4の実施形態を示す梯子型SAW
フィルタの概略の構成図である。FIG. 20 shows a ladder-type SAW showing a fourth embodiment of the present invention.
It is a schematic block diagram of a filter.
【図21】図20中のSAW共振子90s1の構成を示す
斜視図である。21 is a perspective view showing a configuration of a SAW resonator 90 s1 in FIG.
【図22】第4の実施形態を示す梯子型SAWフィルタ
のパターンの斜視図である。FIG. 22 is a perspective view of a pattern of a ladder-type SAW filter showing a fourth embodiment.
【図23】図20のSAWフィルタの製造工程を示す断
面図である。FIG. 23 is a sectional view showing a manufacturing process of the SAW filter of FIG. 20;
【図24】本発明の第5の実施形態を示す梯子型SAW
フィルタの概略の構成図である。FIG. 24 shows a ladder-type SAW showing a fifth embodiment of the present invention.
It is a schematic block diagram of a filter.
【図25】図24中のSAW共振子110s1の構成を示
す斜視図である。25 is a perspective view showing a configuration of a SAW resonator 110 s1 in FIG. 24.
【図26】第5の実施形態を示す梯子型SAWフィルタ
のパターンの斜視図である。FIG. 26 is a perspective view of a pattern of a ladder-type SAW filter showing a fifth embodiment.
【図27】図24のSAWフィルタの製造工程を示す断
面図である。FIG. 27 is a sectional view showing a manufacturing process of the SAW filter of FIG. 24;
【図28】本発明の第6の実施形態を示す梯子型SAW
フィルタの概略の構成図である。FIG. 28 shows a ladder-type SAW showing a sixth embodiment of the present invention.
It is a schematic block diagram of a filter.
【図29】図28中のSAW共振子130s1の構成を示
す斜視図である。FIG. 29 is a perspective view showing a configuration of a SAW resonator 130 s1 in FIG. 28.
【図30】第6の実施形態を示す梯子型SAWフィルタ
のパターンの斜視図である。FIG. 30 is a perspective view of a pattern of a ladder type SAW filter showing a sixth embodiment.
【図31】図28のSAWフィルタの製造工程を示す断
面図である。FIG. 31 is a sectional view showing a manufacturing process of the SAW filter of FIG. 28;
10s1〜10s4,10p1〜10p4,30s1〜30s4,3
0p1〜30p4,50s1〜50s4,50p1〜50p4,70
s1〜70s4,70p1〜70p4,90s1〜90s4,90p1
〜90p4,110s1〜110s4,110p1〜110p4,
130s1〜130s4,130p1〜130p4 SAW共
振子 11〜13,31〜33,51〜53,71〜73,9
1〜93,111〜113,131〜133 ボンデ
ィングパッド 14,34,54,74,94,114,134 接
続パターン 15,35,55,75,95,115,135 基
板 10a,30a,50a,70a,90a,110a,
130a IDT 36,57,94,134 AlまたはAl合金膜 37,56,74,137 Au膜 116,138 誘電体膜10 s1 to 10 s4 , 10 p1 to 10 p4 , 30 s1 to 30 s4 , 3
0 p1 to 30 p4 , 50 s1 to 50 s4 , 50 p1 to 50 p4 , 70
s1 to 70 s4 , 70 p1 to 70 p4 , 90 s1 to 90 s4 , 90 p1
9090 p4 , 110 s1 110110 s4 , 110 p1 110110 p4 ,
130 s1 to 130 s4 , 130 p1 to 130 p4 SAW resonator 11 to 13, 31 to 33, 51 to 53, 71 to 73, 9
1-93, 111-113, 131-133 Bonding pads 14, 34, 54, 74, 94, 114, 134 Connection patterns 15, 35, 55, 75, 95, 115, 135 Substrates 10a, 30a, 50a, 70a, 90a, 110a,
130a IDT 36,57,94,134 Al or Al alloy film 37,56,74,137 Au film 116,138 Dielectric film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5J097 AA24 AA25 AA26 AA29 BB02 BB11 CC02 DD25 DD29 FF03 GG03 HA02 HA04 JJ08 KK03 KK09 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 5J097 AA24 AA25 AA26 AA29 BB02 BB11 CC02 DD25 DD29 FF03 GG03 HA02 HA04 JJ08 KK03 KK09
Claims (9)
となるAl或いはAl合金が蒸着されてそれぞれ形成さ
れた複数の1端子対弾性表面波共振子と外部接続用の複
数のボンディングパッドとを備え、前記複数の1端子対
弾性表面波共振子が接続パターンにより前記複数のボン
ディングパッド間で梯子型に接続された梯子型弾性表面
波フィルタにおいて、 前記1端子対弾性表面波共振子間を接続する前記接続パ
ターン、該1端子対弾性表面波共振子と前記ボンディン
グパッド間を接続する前記接続パターン及び該ボンディ
ングパッドは、 前記圧電または強誘電体単結晶基板上に蒸着されて形成
された前記Al或いはAl合金の膜上に、該Al或いは
Al合金よりも熱伝導率が高い金属で形成された放熱膜
を1層以上重ねて構成したことを特徴とする梯子型弾性
表面波フィルタ。1. A plurality of one-terminal pair surface acoustic wave resonators formed by depositing Al or an Al alloy serving as electrodes on a piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate, and a plurality of bonding pads for external connection. A ladder-type surface acoustic wave filter in which the plurality of one-terminal-pair surface acoustic wave resonators are connected in a ladder-like manner between the plurality of bonding pads by a connection pattern. The connection pattern to be connected, the connection pattern to connect between the one-terminal pair surface acoustic wave resonator and the bonding pad, and the bonding pad are formed by being deposited on the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate. It is characterized in that at least one heat dissipation film made of a metal having higher thermal conductivity than the Al or Al alloy is laminated on the Al or Al alloy film. Ladder type surface acoustic wave filter to.
となるAl或いはAl合金が蒸着されてそれぞれ形成さ
れた複数の1端子対弾性表面波共振子と外部接続用の複
数のボンディングパッドとを備え、前記複数の1端子対
弾性表面波共振子が接続パターンにより前記複数のボン
ディングパッド間で梯子型に接続された梯子型弾性表面
波フィルタにおいて、 前記1端子対弾性表面波共振子間を接続する前記接続パ
ターン、該1端子対弾性表面波共振子と前記ボンディン
グパッド間を接続する前記接続パターン及び該ボンディ
ングパッドは、 前記圧電または強誘電体単結晶基板上に1層以上に蒸着
されて形成され、前記Al或いはAl合金よりも熱伝導
率が高い金属の膜の上に、前記Al或いはAl合金の膜
を重ねて構成したことを特徴とする梯子型弾性表面波フ
ィルタ。2. A plurality of one-terminal pair surface acoustic wave resonators each formed by depositing Al or an Al alloy serving as an electrode on a piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate and a plurality of bonding pads for external connection. A ladder-type surface acoustic wave filter in which the plurality of one-terminal-pair surface acoustic wave resonators are connected in a ladder-like manner between the plurality of bonding pads by a connection pattern. The connection pattern to be connected, the connection pattern to connect between the one terminal pair surface acoustic wave resonator and the bonding pad, and the bonding pad are deposited in one or more layers on the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate. The film is formed by laminating the Al or Al alloy film on a metal film formed and having a higher thermal conductivity than the Al or Al alloy. Child-type surface acoustic wave filter.
となるAl或いはAl合金が蒸着されてそれぞれ形成さ
れた複数の1端子対弾性表面波共振子と外部接続用の複
数のボンディングパッドとを備え、前記複数の1端子対
弾性表面波共振子が接続パターンにより前記複数のボン
ディングパッド間で梯子型に接続された梯子型弾性表面
波フィルタにおいて、 前記1端子対弾性表面波共振子間を接続する前記接続パ
ターン、該1端子対弾性表面波共振子と前記ボンディン
グパッド間を接続する前記接続パターン及び該ボンディ
ングパッドは、 前記圧電または強誘電体単結晶基板上に1層以上に蒸着
されて形成され、前記Al或いはAl合金よりも熱伝導
率が高い金属の膜で構成したことを特徴とする梯子型弾
性表面波フィルタ。3. A plurality of one-terminal pair surface acoustic wave resonators, each formed by depositing Al or an Al alloy serving as an electrode on a piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate, and a plurality of bonding pads for external connection. A ladder-type surface acoustic wave filter in which the plurality of one-terminal-pair surface acoustic wave resonators are connected in a ladder-like manner between the plurality of bonding pads by a connection pattern. The connection pattern to be connected, the connection pattern to connect between the one terminal pair surface acoustic wave resonator and the bonding pad, and the bonding pad are deposited in one or more layers on the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate. A ladder type surface acoustic wave filter formed of a metal film having a higher thermal conductivity than the Al or Al alloy.
となるAl或いはAl合金が蒸着されてそれぞれ形成さ
れた複数の1端子対弾性表面波共振子と外部接続用の複
数のボンディングパッドとを備え、前記複数の1端子対
弾性表面波共振子が接続パターンにより前記複数のボン
ディングパッド間で梯子型に接続された梯子型弾性表面
波フィルタにおいて、 前記1端子対弾性表面波共振子間を接続する前記接続パ
ターン、該1端子対弾性表面波共振子と前記ボンディン
グパッド間を接続する前記接続パターン及び該ボンディ
ングパッドは、 前記圧電または強誘電体単結晶基板上に蒸着されて形成
され、前記電極の厚さよりも50%以上厚い前記Al或
いはAl合金の膜で構成したことを特徴とする梯子型弾
性表面波フィルタ。4. A plurality of one-terminal pair surface acoustic wave resonators, each formed by depositing Al or an Al alloy serving as an electrode on a piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate, and a plurality of bonding pads for external connection. A ladder-type surface acoustic wave filter in which the plurality of one-terminal-pair surface acoustic wave resonators are connected in a ladder-like manner between the plurality of bonding pads by a connection pattern. The connection pattern for connection, the connection pattern for connecting the one-terminal pair surface acoustic wave resonator and the bonding pad, and the bonding pad are formed by being deposited on the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate, A ladder-type surface acoustic wave filter comprising a film of Al or an Al alloy that is 50% or more thicker than an electrode.
となるAl或いはAl合金が蒸着されてそれぞれ形成さ
れた複数の1端子対弾性表面波共振子と外部接続用の複
数のボンディングパッドとを備え、前記複数の1端子対
弾性表面波共振子が接続パターンにより前記複数のボン
ディングパッド間で梯子型に接続された梯子型弾性表面
波フィルタにおいて、 前記1端子対弾性表面波共振子間を接続する前記接続パ
ターン、該1端子対弾性表面波共振子と前記ボンディン
グパッド間を接続する前記接続パターン及び該ボンディ
ングパッドは、 前記圧電または強誘電体単結晶基板上に蒸着されて形成
された前記Al或いはAl合金の膜上に、該圧電または
強誘電体単結晶基板よりも熱伝導率が高い誘電体を1層
以上重ねた構成にしたことを特徴とする梯子型弾性表面
波フィルタ。5. A plurality of one-terminal pair surface acoustic wave resonators formed by depositing Al or an Al alloy serving as electrodes on a piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate, and a plurality of bonding pads for external connection. A ladder-type surface acoustic wave filter in which the plurality of one-terminal-pair surface acoustic wave resonators are connected in a ladder-like manner between the plurality of bonding pads by a connection pattern. The connection pattern to be connected, the connection pattern to connect between the one-terminal pair surface acoustic wave resonator and the bonding pad, and the bonding pad are formed by being deposited on the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate. It is characterized in that one or more dielectrics having higher thermal conductivity than the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate are laminated on an Al or Al alloy film. That ladder-type surface acoustic wave filter.
となるAl或いはAl合金が蒸着されてそれぞれ形成さ
れた複数の1端子対弾性表面波共振子と外部接続用の複
数のボンディングパッドとを備え、前記複数の1端子対
弾性表面波共振子が接続パターンにより前記複数のボン
ディングパッド間で梯子型に接続された梯子型弾性表面
波フィルタにおいて、 前記1端子対弾性表面波共振子間を接続する前記接続パ
ターン、該1端子対弾性表面波共振子と前記ボンディン
グパッド間を接続する前記接続パターン及び該ボンディ
ングパッドは、 前記圧電または強誘電体単結晶基板上に1層以上に蒸着
されて形成され、前記Al或いはAl合金以上に熱伝導
率が高い金属の膜に、該圧電または強誘電体単結晶基板
よりも熱伝導率が高い誘電体を1層以上重ねた構成にし
たことを特徴する梯子型弾性表面波フィルタ。6. A plurality of one-terminal pair surface acoustic wave resonators formed by depositing Al or an Al alloy serving as electrodes on a piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate and a plurality of bonding pads for external connection. A ladder-type surface acoustic wave filter in which the plurality of one-terminal-pair surface acoustic wave resonators are connected in a ladder-like manner between the plurality of bonding pads by a connection pattern. The connection pattern to be connected, the connection pattern to connect between the one terminal pair surface acoustic wave resonator and the bonding pad, and the bonding pad are deposited in one or more layers on the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate. One layer of a dielectric film having a higher thermal conductivity than the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate is formed on a metal film having a higher thermal conductivity than the Al or Al alloy. Ladder type surface acoustic wave filter characterized in that the arrangement overlaid above.
も熱伝導率が高い誘電体は、Al2 O3 、AINまたは
Si3 N4 で構成したことを特徴とする請求項5または
6記載の梯子型弾性表面波フィルタ。7. The dielectric having a higher thermal conductivity than the piezoelectric or ferroelectric single crystal substrate is made of Al 2 O 3 , AIN or Si 3 N 4. Ladder type surface acoustic wave filter.
はTaを加えたものとしたことを特徴とする請求項1、
2、3、4、5、6または7記載の梯子型弾性表面波フ
ィルタ。8. The method according to claim 1, wherein the Al alloy is obtained by adding Cu, Ti or Ta to Al.
The ladder-type surface acoustic wave filter according to 2, 3, 4, 5, 6, or 7.
が高い金属は、Au、AgまたはCuで構成したことを
特徴とする請求項1、2、3、6、7、または8記載の
梯子型弾性表面波フィルタ。9. The ladder according to claim 1, wherein the metal having a higher thermal conductivity than Al or an Al alloy is made of Au, Ag, or Cu. Type surface acoustic wave filter.
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