JP2000176243A - Treatment of waste gas containing oxidizing gas - Google Patents

Treatment of waste gas containing oxidizing gas

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JP2000176243A
JP2000176243A JP10354790A JP35479098A JP2000176243A JP 2000176243 A JP2000176243 A JP 2000176243A JP 10354790 A JP10354790 A JP 10354790A JP 35479098 A JP35479098 A JP 35479098A JP 2000176243 A JP2000176243 A JP 2000176243A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method capable of efficiently removing a waste gas containing an oxidizing gas such as high concn. gaseous chlorine without using a compd. containing an alkali metal ion such as sodium ion with a compact device excellent in cost effectiveness. SOLUTION: A waste gas 1 containing an oxidizing gas is subjected to wet treatment in a packed column 5 in which sulfite 50 hardly soluble in water is packed. The oxidizing gas is preferably gaseous chlorine, gaseous bromine, gaseous fluorine or gaseous chlorine trifuloride, and the sulfite is selected from the group consisting of an alkaline earth metal sulfite (e.g. calcium sulfite, magnesium sulfite, barium sulfite, etc.), nickel sulfite and iron sulfite.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は塩素ガス等の酸化性
ガスを含有する排ガスの処理方法に関する。特に、半導
体製造時のエッチング工程等において発生する排ガスの
処理に好適に採用しうる排ガスの処理方法に関する。
The present invention relates to a method for treating an exhaust gas containing an oxidizing gas such as a chlorine gas. In particular, the present invention relates to a method for treating an exhaust gas which can be suitably used for treating an exhaust gas generated in an etching step or the like during semiconductor manufacturing.

【0002】[0002]

【従来の技術】塩素は半導体製造時のエッチング用とし
て広く用いられている有用物質であるが、毒性が強く取
り扱いが難しい物質である。上記エッチング工程におい
て発生する排ガス中には原料ガスである塩素の他、塩化
水素、臭化水素並びにフッ素等が残存しており、そのま
ま大気中に放出すると大気汚染防止や労働安全衛生上の
観点等から問題となる。したがって、塩素等を充分に除
去してから大気に放出する必要がある。
2. Description of the Related Art Chlorine is a useful substance widely used for etching in the production of semiconductors, but is a substance which is highly toxic and difficult to handle. Exhaust gas generated in the above etching process contains, in addition to chlorine as a raw material gas, hydrogen chloride, hydrogen bromide, fluorine, etc., and when released into the atmosphere as it is, prevents air pollution and occupational safety and health. Is a problem. Therefore, it is necessary to sufficiently remove chlorine and the like before releasing it to the atmosphere.

【0003】エッチング用塩素等を含有する排ガスの処
理方法としては、活性炭等に吸着処理する乾式法とアル
カリ性溶液等を吸収液とする湿式法がある。乾式法は吸
着剤の交換作業が煩わしい点や、使用済み吸着剤の処理
に問題がある。一方、湿式法は一般的に除去効率が悪
く、除去効率を改善するためにはアルカリ性溶液の濃度
を高めなければならないといった問題がある。
As a method of treating exhaust gas containing chlorine or the like for etching, there are a dry method in which adsorption treatment is performed on activated carbon or the like and a wet method in which an alkaline solution or the like is used as an absorbing solution. The dry method has a problem in that the operation of replacing the adsorbent is troublesome, and there is a problem in treating the used adsorbent. On the other hand, the wet method generally has poor removal efficiency, and has a problem that the concentration of the alkaline solution must be increased in order to improve the removal efficiency.

【0004】また、湿式法として、特公昭52−195
56号公報には、水酸化ナトリウム等のアルカリ性薬剤
と亜硫酸ナトリウムを組み合わせた混合溶液で塩素含有
ガス吸収させる方法が記載されている。しかしながら、
ナトリウムイオン等のアルカリ金属イオンが半導体デバ
イスの製品品質を低下させる恐れがあるため、高濃度の
アルカリ金属を含む薬剤は使用が制限されるという問題
がある。
As a wet method, Japanese Patent Publication No. 52-195 has been proposed.
No. 56 describes a method of absorbing a chlorine-containing gas with a mixed solution obtained by combining an alkaline drug such as sodium hydroxide and sodium sulfite. However,
Since alkali metal ions such as sodium ions may degrade the product quality of a semiconductor device, there is a problem that the use of a drug containing a high concentration of alkali metal is restricted.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者ら
は、湿式のガス処理槽に回転式微細気泡発生装置を用い
て塩素ガス等の吸収効率を上げると共に、水に難溶性の
固形アルカリ化合物を含有する溶液を吸収液として用い
た塩素含有ガスの処理方法、及びその処理ガスを第2処
理槽に導き、難溶性の固形アルカリ化合物で湿式処理す
ることよりなる塩素含有ガス処理方法を開発したが(特
開平7−213862号公報)、より効率的な処理方法
が望まれている。
Accordingly, the present inventors have increased the absorption efficiency of chlorine gas and the like by using a rotary fine bubble generator in a wet gas processing tank, and at the same time, provided a solid alkali compound which is hardly soluble in water. A method for treating a chlorine-containing gas using a solution containing as an absorbing solution, and a method for treating a chlorine-containing gas, which comprises introducing the treatment gas into a second treatment tank and wet-treating it with a hardly soluble solid alkali compound. However, a more efficient processing method is desired.

【0006】本発明は上記の状況に鑑み、ナトリウムイ
オン等のアルカリ金属イオンを含む化合物を用いること
なく、経済性に優れたコンパクトな装置により、高濃度
の塩素ガス等の酸化性ガスを含有する排ガスを効率よく
除去する方法を提供することを課題とする。
[0006] In view of the above situation, the present invention contains a high-concentration oxidizing gas such as chlorine gas by using a compact apparatus which is excellent in economy without using a compound containing an alkali metal ion such as sodium ion. It is an object to provide a method for efficiently removing exhaust gas.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは従来の単な
るアルカリ性薬剤ではなく、還元性を有する亜硫酸塩に
着目し、酸化性ガスを含有する排ガスを、水に難溶性の
亜硫酸塩を充填した充填塔において、湿式処理すること
により、非常に簡単な構造の装置にも関わらず大きな処
理能力が得られることを見いだし本発明に到達した。
Means for Solving the Problems The present inventors focused on reducing sulfites instead of conventional alkaline agents, and filled exhaust gas containing oxidizing gas with water-sulfite which is hardly soluble in water. The present inventors have found that a wet treatment in a packed packed tower can provide a large treatment capacity in spite of an apparatus having a very simple structure, and arrived at the present invention.

【0008】すなわち、本発明は酸化性ガスを含有する
排ガスを、水に難溶性の亜硫酸塩を充填した充填塔にお
いて、湿式処理することを特徴とする酸化性ガス含有排
ガスの処理方法に関する。
That is, the present invention relates to a method for treating an oxidizing gas-containing exhaust gas, which comprises subjecting the exhaust gas containing the oxidizing gas to wet treatment in a packed tower filled with a water-insoluble sulfite.

【0009】湿式処理は、たとえば上記排ガスを上記充
填塔の下部から導入し、水を上記充填塔の上部からシャ
ワー状に導入することによって実現される。
The wet treatment is realized by, for example, introducing the exhaust gas from the lower part of the packed tower and introducing water in a shower form from the upper part of the packed tower.

【0010】本発明の方法においては、塩素ガス、臭素
ガス等の酸化性ガスは充填塔内に充填された水に難溶性
の亜硫酸塩と反応し、ハロゲン化水素に変換される。生
成したハロゲン化水素は水に容易に吸収されアルカリで
中和処理できる。
In the method of the present invention, an oxidizing gas such as a chlorine gas or a bromine gas reacts with a sulfite which is hardly soluble in water filled in a packed tower, and is converted into a hydrogen halide. The generated hydrogen halide is easily absorbed by water and can be neutralized with alkali.

【0011】本発明で用いられる水に難溶性の亜硫酸塩
としてはカルシウム、マグネシウム、バリウム、ニッケ
ル、鉄等の亜硫酸塩が挙げられ、なかでも亜硫酸カルシ
ウム、亜硫酸マグネシウムなどのアルカリ土類金属の亜
硫酸塩が好ましく用いられる。水に難溶性の亜硫酸塩
は、充填塔に充填して使用されるため、粒径が1〜50
mm、好ましくは1〜10mmの粒状品が用いられる。充填
塔には磁製ラシヒリング等を混合充填して用いることも
できる。
Examples of the sulfite which is hardly soluble in water used in the present invention include sulfites such as calcium, magnesium, barium, nickel and iron. Among them, sulfites of alkaline earth metals such as calcium sulfite and magnesium sulfite. Is preferably used. Since the sulfite that is hardly soluble in water is used by filling it in a packed tower, the particle size is 1 to 50.
mm, preferably 1 to 10 mm granules are used. The packed tower may be mixed and filled with a porcelain Raschig ring or the like.

【0012】本発明の方法によって効果的に処理が可能
な酸化性ガスとしては、塩素ガス、臭素ガス、フッ素ガ
スまたは三フッ化塩素ガス等が挙げられる。本発明にお
いて処理可能な酸化性ガスの濃度は特に限定されない
が、通常1ppm〜5体積%の範囲で処理することがで
きる。
The oxidizing gas which can be effectively treated by the method of the present invention includes chlorine gas, bromine gas, fluorine gas and chlorine trifluoride gas. Although the concentration of the oxidizing gas that can be treated in the present invention is not particularly limited, it can be usually treated in the range of 1 ppm to 5% by volume.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明の酸化性ガス含有排
ガスの処理方法の一実施形態を、図1に示した処理装置
の模式図を参照しつつ説明する。なお、本実施形態で
は、酸化性ガスとしての塩素ガスを含む排ガスを、難溶
性亜硫酸塩としての亜硫酸カルシウムによって処理する
場合について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the method for treating an oxidizing gas-containing exhaust gas of the present invention will be described below with reference to the schematic diagram of the treatment apparatus shown in FIG. In this embodiment, a case will be described in which an exhaust gas containing chlorine gas as an oxidizing gas is treated with calcium sulfite as a sparingly soluble sulfite.

【0014】塩素ガスを含む排ガス1は、亜硫酸カルシ
ウム50を充填した充填塔5の下部から上方に向けて導
入され、水は充填塔5の上部からポンプ3によりシャワ
ー水6として導入される。この結果、排ガス中の塩素
が、シャワー水6により表面が濡れて活性化した亜硫酸
カルシウムと次式(1)に従って反応し、塩素は塩化水
素に還元され、亜硫酸カルシウムは硫酸カルシウムに酸
化される。一方、塩素が除去された排ガスは、矢印2に
示した如く系外に排出される。
Exhaust gas 1 containing chlorine gas is introduced upward from the lower part of the packed tower 5 filled with calcium sulfite 50, and water is introduced as shower water 6 from the upper part of the packed tower 5 by the pump 3. As a result, chlorine in the exhaust gas reacts with calcium sulfite whose surface is wetted and activated by the shower water 6 according to the following formula (1), whereby chlorine is reduced to hydrogen chloride and calcium sulfite is oxidized to calcium sulfate. On the other hand, the exhaust gas from which chlorine has been removed is discharged out of the system as shown by arrow 2.

【0015】[0015]

【化1】 亜硫酸カルシウムの表面に生成した硫酸カルシウムは、
連続的に供給されるシャワー水6により洗浄・除去さ
れ、亜硫酸カルシウムにおいては新たな濡れ表面が逐次
露出する。このため、充填塔5内においては、連続的に
シャワー水6を供給することにより、継続して塩素ガス
の処理が行える。
Embedded image The calcium sulfate formed on the surface of calcium sulfite is
It is washed and removed by the continuously supplied shower water 6, and a new wet surface is successively exposed for calcium sulfite. Therefore, by continuously supplying the shower water 6 in the packed tower 5, the chlorine gas can be continuously processed.

【0016】また、生成した塩化水素や硫酸カルシウム
は、充填塔5の下方からシャワー水により洗浄・除去さ
れるが、これらの生成物を含んだ排水4は処理ガス(排
ガス)の同伴を防ぐための液シール7をくぐって排出さ
れる。塩化水素は引き続きアルカリにより中和される。
The generated hydrogen chloride and calcium sulfate are washed and removed by shower water from below the packed tower 5, and the wastewater 4 containing these products is used to prevent entrainment of the processing gas (exhaust gas). Is discharged through the liquid seal 7. Hydrogen chloride is subsequently neutralized with alkali.

【0017】なお、上記した例では、酸化性ガスとして
の塩素ガスを処理する場合について説明したが、酸化性
ガスとしての臭素ガス、フッ素ガス、または三フッ化塩
素ガスを、亜硫酸カルシウムで処理する場合の反応式
は、下記式 (2) 〜 (4) に示す通りである。
In the above example, the case where chlorine gas as an oxidizing gas is treated has been described. However, bromine gas, fluorine gas or chlorine trifluoride gas as an oxidizing gas is treated with calcium sulfite. The reaction formula in this case is as shown in the following formulas (2) to (4).

【0018】[0018]

【化2】 このように、亜硫酸カルシウムと他の酸化性ガスにおい
ても、硫酸カルシウムとハロゲン化水素が生成し、また
酸化性ガスを他の亜硫酸塩によって処理する場合におい
ても、硫酸塩とハロゲン化水素が生成する。したがっ
て、臭素ガス、フッ素ガスあるいは三フッ化塩素ガスな
どの酸化性ガスも良好に処理することができ、また亜硫
酸カルシウム以外の亜硫酸塩を用いても塩素ガスなどの
酸化性ガスを良好に処理することができる。
Embedded image As described above, calcium sulfate and hydrogen halide are generated also in calcium sulfite and other oxidizing gases, and sulfate and hydrogen halide are generated even when the oxidizing gas is treated with another sulfite. . Therefore, oxidizing gases such as bromine gas, fluorine gas or chlorine trifluoride gas can be satisfactorily treated, and oxidizing gases such as chlorine gas can be satisfactorily treated even by using a sulfite other than calcium sulfite. be able to.

【0019】ところで、半導体製造時のエッチング工程
等において発生する排ガスは、塩素、三塩化ホウ素、四
塩化ケイ素や四フッ化ケイ素、フッ化カルボニル等の有
害ガスの他、塩化アルミニウムや塩化タングステン等の
固形物が一般的に含まれている。
Exhaust gas generated in an etching process or the like during semiconductor manufacturing includes harmful gases such as chlorine, boron trichloride, silicon tetrachloride, silicon tetrafluoride, and carbonyl fluoride, as well as aluminum chloride and tungsten chloride. Solids are generally included.

【0020】これら水溶性のガスや固形物を除去するた
め、図2に示すような特公平5−80243号公報や特
開平7−213862号公報に提案した回転式微細気泡
発生装置(ロータリーアトマイザー)を用いたガス処理
槽で排ガスの前処理をすることにより、より応用範囲の
広い排ガス処理が可能となる。
In order to remove these water-soluble gases and solids, a rotary fine bubble generator (rotary atomizer) proposed in Japanese Patent Publication No. 5-80243 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-213862 as shown in FIG. By performing the pretreatment of the exhaust gas in the gas treatment tank using, the exhaust gas treatment with a wider application range becomes possible.

【0021】図2に示したように、上記したガス処理槽
8内には、水に難溶性のアルカリ化合物を含む吸収液8
0が保持されており、さらに回転式微細気泡発生装置9
が備えられている。この回転式微細気泡発生装置9は、
モータMなどからの駆動力によって回転するカップ状の
回転子90と、この回転子90内に通じるガス導入管1
0とを有しており、ガス導入管10を介して導入された
排ガス1が回転子90に供給され、この排ガス1が回転
子90の回転によって微細気泡となって吸収液80内に
分散されるようになされている。回転子90の外面には
複数の突起(インペラ)91が取り付けられており、こ
れらの突起91によって回転子90の回転による吸収液
80の攪拌状態が均一化され、気泡(排ガス)やアルカ
リ化合物などの分散状態も均一化されている。そして、
吸収液80内に分散された排ガスは、吸収液80と気液
接触し、固体アルカリ化合物と気固接触して前処理され
る。
As shown in FIG. 2, an absorption solution 8 containing an alkali compound which is hardly soluble in water is contained in the gas treatment tank 8 described above.
0 and the rotary fine bubble generator 9
Is provided. This rotary fine bubble generator 9
A cup-shaped rotor 90 rotated by a driving force from a motor M, etc .;
0, and the exhaust gas 1 introduced through the gas introduction pipe 10 is supplied to the rotor 90, and the exhaust gas 1 is dispersed in the absorbing liquid 80 as fine bubbles by the rotation of the rotor 90. It has been made. A plurality of projections (impellers) 91 are attached to the outer surface of the rotor 90, and the agitation state of the absorbing liquid 80 by the rotation of the rotor 90 is uniformized by these projections 91, such as bubbles (exhaust gas) and alkali compounds. Are also uniformed. And
The exhaust gas dispersed in the absorbing solution 80 is pretreated by gas-liquid contact with the absorbing solution 80 and gas-solid contact with the solid alkali compound.

【0022】ガス処理槽8には、ポンプ30を介して吸
収液80が供給されるため、前処理によって生成した硫
酸塩およびハロゲン化水素は、これらを含んだ排液とし
て、ガス処理槽8からオーバーフローして排出される。
そして、未処理の酸化性ガスを含む排ガスは、先に説明
した充填塔5に供給されて還元される。
Since the absorbing solution 80 is supplied to the gas treatment tank 8 through the pump 30, the sulfate and hydrogen halide generated by the pretreatment are discharged from the gas treatment tank 8 as wastewater containing these. It is discharged after overflow.
Then, the exhaust gas containing the untreated oxidizing gas is supplied to the above-described packed tower 5 and reduced.

【0023】なお、回転式微細気泡発生装置9として
は、図2を参照して説明した構成に限定されず、たとえ
ば回転子90に多数の孔を穿ったもの、回転子90が有
底柱とう体のものなどのように種々の構成のものを採用
することができる。
The rotary microbubble generator 9 is not limited to the configuration described with reference to FIG. 2. For example, the rotary microbubble generator 9 may have a number of holes formed in the rotor 90, and the rotor 90 may have a bottomed column. Various structures such as a body can be employed.

【0024】[0024]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説
明する。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples.

【0025】(実施例1)容積が5dm3 のガス処理槽
に、粒径が2〜3mmの粒状亜硫酸カルシウム3000g
(3.6dm3 )を充填して充填塔を作成した。この充
填塔に1体積%の塩素ガスを含有する窒素ガスを50d
3 /minの流量で導入し、シャワー水を2dm3
minで流して塩素処理を行った。ガス処理槽より排出
される処理ガスを、2つのガス検知管(ガステック
(株)社製:型式「8La」および「14L」)にそれ
ぞれ導入し、それらの変色具合を光学的手法によって分
析した。ところで、ガス検知管は、導入したガス中に、
対象ガス(型式「8La」では塩素ガス、型式「14
L」では塩化水素ガス)があると薬剤が変色するように
なされており、その変色具合を光学的手法などによって
分析することにより対象ガスの濃度を測定できる。本実
施例では塩素ガス濃度は0.1ppm以下、塩化水素ガ
ス濃度は1ppm以下であった。
Example 1 3000 g of granular calcium sulfite having a particle size of 2 to 3 mm was placed in a gas treatment tank having a volume of 5 dm 3.
(3.6 dm 3 ) to prepare a packed tower. The packed tower is charged with 50 g of nitrogen gas containing 1% by volume of chlorine gas.
at a flow rate of m 3 / min and shower water of 2 dm 3 / min.
min and chlorinated. The processing gas discharged from the gas processing tank was introduced into each of two gas detection tubes (Models “8La” and “14L” manufactured by Gastech Co., Ltd.), and their discoloration was analyzed by an optical method. . By the way, the gas detector tube, in the introduced gas,
The target gas (model "8La" is chlorine gas, model "14
In the case of "L", the presence of hydrogen chloride gas) changes the color of the drug, and the concentration of the target gas can be measured by analyzing the degree of the color change by an optical method or the like. In this embodiment, the chlorine gas concentration was 0.1 ppm or less, and the hydrogen chloride gas concentration was 1 ppm or less.

【0026】(実施例2〜5)実施例1において、処理
ガス(酸化性ガス)の組成を表1に示したようにそれぞ
れ変更して各種の排ガスの処理を行った。それ以外の窒
素ガスの流量やシャワー水量等の条件は実施例1と同様
にした。三フッ化塩素ガスはテープ式ガス検知器(理研
計器(株)社製:商品名「FP−250A」)を用い、
それ以外のガスはガス検知管(ガステック(株)社製:
型式「8La」、「14L」、「15L」および「1
7」)を用い分析した。その結果を表1に示した。な
お、テープ式ガス検知器は、対象ガス(三フッ化塩素ガ
ス)に触れると発色する薬剤が塗布されたテープであ
り、その発色具合を光学的手法によって分析することに
よって三フッ化塩素ガス濃度が測定できる。
(Examples 2 to 5) In Example 1, various exhaust gas treatments were performed by changing the composition of the processing gas (oxidizing gas) as shown in Table 1. Other conditions such as the flow rate of nitrogen gas and the amount of shower water were the same as in Example 1. For chlorine trifluoride gas, use a tape type gas detector (manufactured by Riken Keiki Co., Ltd .: trade name "FP-250A").
Other gases are gas detector tubes (Gastec Co., Ltd .:
Type “8La”, “14L”, “15L” and “1”
7 "). The results are shown in Table 1. The tape-type gas detector is a tape coated with a chemical that develops a color when it comes into contact with a target gas (chlorine trifluoride gas). Can be measured.

【0027】(実施例6および7)実施例1において、
充填剤の亜硫酸カルシウムに代えて、粒状に成型した亜
硫酸マグネシウム(粒径1〜4mm)または亜硫酸バリウ
ム(粒径1〜4mm)を用い、それ以外は実施例1と同様
にして0.5体積%の塩素含有ガスを処理した。その結
果を表2に示した。
(Embodiments 6 and 7)
In place of calcium sulfite as a filler, granulated magnesium sulfite (particle size: 1 to 4 mm) or barium sulfite (particle size: 1 to 4 mm) was used. Was processed. The results are shown in Table 2.

【0028】(比較例1)実施例1において、充填剤の
亜硫酸カルシウムに代えて、粒状の炭酸カルシウム(粒
径2〜3mm)を用いた以外は実施例1と同様にして1.
0体積%の塩素含有ガスを処理した。その結果を表2に
示した。
Comparative Example 1 The procedure of Example 1 was repeated, except that granular calcium carbonate (particle size: 2 to 3 mm) was used instead of calcium sulfite as a filler.
A gas containing 0% by volume of chlorine was treated. The results are shown in Table 2.

【0029】(比較例2)実施例6において、充填剤の
亜硫酸マグネシウムに代えて、粒状の炭酸マグネシウム
(粒径2〜3mm)を用いた以外は実施例6と同様にして
0.5体積%の塩素含有ガスを処理した。その結果を表
2に示した。
(Comparative Example 2) 0.5% by volume in the same manner as in Example 6 except that granular magnesium carbonate (particle diameter: 2 to 3 mm) was used instead of magnesium sulfite as a filler. Was processed. The results are shown in Table 2.

【0030】[0030]

【表1】 [Table 1]

【0031】[0031]

【表2】 [Table 2]

【0032】表1から明らかなように、充填剤(亜硫酸
塩)として亜硫酸カルシウムを用いた場合には、処理ガ
ス(酸化性ガス)が塩素ガス、臭素ガス、三フッ化塩素
ガス、あるいは塩化水素ガスであっても、また塩素ガス
と塩化水素ガスや臭化水素ガスとの混合ガスであって
も、効率良く処理されていることが分かる。
As is clear from Table 1, when calcium sulfite is used as the filler (sulfite), the processing gas (oxidizing gas) is chlorine gas, bromine gas, chlorine trifluoride gas, or hydrogen chloride. It can be seen that even gas, or a mixed gas of chlorine gas, hydrogen chloride gas, and hydrogen bromide gas, is efficiently treated.

【0033】また、表2から明らかなように、充填剤と
して亜硫酸カルシウム、亜硫酸マグネシウム、あるいは
亜硫酸バリウムといった水に難溶性の亜硫酸塩を用いた
場合には、塩素ガスが良好に処理されており、一方、水
に難溶性の炭酸塩を用いた場合には、塩素ガスの処理効
率が悪いのが分かる。
As is clear from Table 2, when a water-sulfite, such as calcium sulfite, magnesium sulfite, or barium sulfite, which is hardly soluble in water, is used as a filler, chlorine gas is satisfactorily treated. On the other hand, it can be seen that when a carbonate which is hardly soluble in water is used, the processing efficiency of chlorine gas is poor.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上に説明したように、本発明の酸化性
ガス含有排ガスの処理方法では、ナトリウムイオン等の
アルカリ金属イオンを含む化合物を用いることなく、排
ガス中の塩素ガスあるいは臭素ガスなどといった酸化性
ガスを効率良く除去できる。また、多量の水などに亜硫
酸塩を溶かすなどする必要がないことから、経済性に優
れたコンパクトな装置を構築することができる。
As described above, in the method for treating an oxidizing gas-containing exhaust gas of the present invention, chlorine gas or bromine gas or the like in the exhaust gas is used without using a compound containing an alkali metal ion such as sodium ion. The oxidizing gas can be efficiently removed. Further, since it is not necessary to dissolve the sulfite in a large amount of water or the like, a compact apparatus excellent in economic efficiency can be constructed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の排ガス処理方法を実現するための装置
の一例を表す模式図である。
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating an example of an apparatus for realizing an exhaust gas treatment method of the present invention.

【図2】本発明の排ガス処理方法の他の使用態様の一例
を表す模式図である。
FIG. 2 is a schematic view illustrating an example of another use mode of the exhaust gas treatment method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

X 処理装置 1 排ガス 5 充填塔 8 処理槽 9 微細気泡発生装置 50 亜硫酸塩 X processing apparatus 1 exhaust gas 5 packed tower 8 processing tank 9 microbubble generator 50 sulfite

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Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 酸化性ガスを含有する排ガスを、水に難
溶性の亜硫酸塩を充填した充填塔において、湿式処理す
ることを特徴とする、酸化性ガス含有排ガスの処理方
法。
1. A method for treating an oxidizing gas-containing exhaust gas, which comprises wet-treating the oxidizing gas-containing exhaust gas in a packed tower filled with a water-insoluble sulfite.
【請求項2】 上記排ガスを上記充填塔の下部から導入
し、水を上記充填塔の上部からシャワー状に導入する、
請求項1に記載の酸化性ガス含有排ガスの処理方法。
2. The exhaust gas is introduced from a lower part of the packed tower, and water is introduced in a shower form from an upper part of the packed tower.
The method for treating an oxidizing gas-containing exhaust gas according to claim 1.
【請求項3】 上記酸化性ガスが塩素ガス、臭素ガス、
フッ素ガスまたは三フッ化塩素ガスである、請求項1ま
たは2に記載の酸化性ガス含有排ガスの処理方法。
3. The method according to claim 1, wherein the oxidizing gas is chlorine gas, bromine gas,
3. The method for treating an oxidizing gas-containing exhaust gas according to claim 1, wherein the exhaust gas is a fluorine gas or a chlorine trifluoride gas.
【請求項4】 上記亜硫酸塩は、アルカリ土類金属の亜
硫酸塩、亜硫酸ニッケル、および亜硫酸鉄からなる群よ
り選ばれる少なくとも1種である、請求項1ないし3の
いずれか1つに記載の酸化性ガス含有排ガスの処理方
法。
4. The oxidation according to claim 1, wherein the sulfite is at least one selected from the group consisting of a sulfite of an alkaline earth metal, nickel sulfite, and iron sulfite. Of waste gas containing exhaust gas.
【請求項5】 上記アルカリ土類金属の亜硫酸塩は、亜
硫酸カルシウム、亜硫酸マグネシウム、および亜硫酸バ
リウムである、請求項4に記載の酸化性ガス含有排ガス
の処理方法。
5. The method for treating an oxidizing gas-containing exhaust gas according to claim 4, wherein the sulfite of the alkaline earth metal is calcium sulfite, magnesium sulfite, or barium sulfite.
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JP2002301332A (en) * 2001-04-05 2002-10-15 Nomura Micro Sci Co Ltd Method for treating gas containing inorganic acid, device for treatment, treating system and device for cleaning treatment
WO2004014525A1 (en) * 2002-08-09 2004-02-19 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. Method and system for treating exhaust gas

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