JP2000172304A - 装置毎の用力監視システム - Google Patents

装置毎の用力監視システム

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JP2000172304A
JP2000172304A JP10366118A JP36611898A JP2000172304A JP 2000172304 A JP2000172304 A JP 2000172304A JP 10366118 A JP10366118 A JP 10366118A JP 36611898 A JP36611898 A JP 36611898A JP 2000172304 A JP2000172304 A JP 2000172304A
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cooling
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energy
production
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Osamu Suenaga
修 末永
Takeshi Wakabayashi
剛 若林
Taiji Fukazawa
泰司 深沢
Haruhiko Komatsu
晴彦 小松
Yutaka Kishino
豊 岸野
Nobuhiro Hokari
伸博 穂苅
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Taisei Corp
Tokyo Electron Ltd
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Taisei Corp
Tokyo Electron Ltd
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    • Y02P80/00Climate change mitigation technologies for sector-wide applications
    • Y02P80/10Efficient use of energy, e.g. using compressed air or pressurized fluid as energy carrier

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来、冷却設備の冷却能力は、クリーンルー
ム内に設置される生産装置及びそれに関連する補機類の
定格電力の総和の30%を、それらの使用電力量とし、
更にそれらの使用電力量を単純に発熱量として冷却設備
を設計するため、冷却設備の仕様が過剰になっていた。 【解決手段】 本発明の装置毎の用力監視システムS
は、外調機80、半導体製造装置等の生産装置100及
びこれに関連する補機類101、102で使用される電
力や灯油等の燃料のエネルギー使用量を監視する使用エ
ネルギー監視手段1と、メンテナンスエリア11内の生
産装置100からの発熱量を監視する発熱量監視手段2
と、外調機80、ドライコイル103、生産冷却設備1
04それぞれに対して冷媒を供給する冷凍機105から
の冷却熱量及び外調機80に対してボイラー106から
供給される蒸気使用量を監視する熱エネルギー監視手段
3とを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、装置毎の用力監視
システムに関し、更に詳しくは工場内に配置された複数
の生産装置の個々のエネルギー量を把握することができ
る装置毎の用力監視システムに関する。
【0002】
【従来の技術】例えば半導体製造工場は、各種の半導体
製造装置が略工程順に配置されたクリーンルームと、ク
リーンルーム内の各半導体製造装置それぞれに関連する
補機類が配置されたスペースとを備えている。通常、ク
リーンルームは補機室の上階に配置され、両者は例えば
多数のグレーティングパネルを敷設したフリーアクセス
フロアによって区画されている。そして、クリーンルー
ム内は極めて高い清浄度が要求されるため、外部から外
気調和機(外調機)を介して吸引した外気をクリーンル
ームの天井等に配置されたULPAフィルタ等の各種の
フィルタを通し、外気中の微粒子を除去し、清浄な空気
をクリーンルーム内へ供給するようにしている。
【0003】また、クリーンルーム内では大部分の清浄
空気は例えば下降流で二階のクリーンルームからフリー
アクセスフロアを経由して一階の補機室に向かい、リタ
ーンダクトを介して元のフィルタに戻り、常にフィルタ
による除塵を繰り返して清浄空気が循環するようにして
ある。クリーンルーム内の生産装置が発熱する場合等に
は発熱部内に生産冷却水を循環させて装置自体を直接冷
却するようにしている。また、生産装置からの放熱によ
りクリーンルーム内が昇温するため、例えばリターンダ
クト内に配設されたドライコイルの循環冷却水でクリー
ンルーム内の循環空気を冷却したり、クリーンルーム外
へ排熱したりして所定の室温を維持するようにしてい
る。排気分の清浄空気は外調機からクリーンルーム内へ
補充するようにしている。そして、昇温後の生産冷却水
及び循環冷却水は冷凍機等の冷却設備で冷却し循環使用
するようにしている。従って、生産装置の発熱量に見合
った冷却能力が冷却設備において必要とされることにな
る。
【0004】そして、従来では、その冷却設備の冷却能
力は、クリーンルーム内に設置される生産装置及びそれ
に関連する補機類の定格電力の総和の30%と設計して
いた。つまり、クリーンルーム内における使用電力量
(稼働率)は、定格電力の総和をA(kW)としたと
き、概ねその30%の0.3A(kW)と表すことがで
き、この数値を熱量(kcal/h)に換算した値を、
生産工場における発熱量を処理するために必要とされる
冷却能力としていた。即ち、ここでは電気エネルギーの
全てが熱エネルギーに変換されると仮定している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、クリー
ンルーム内において使用された電力は、全て熱に変換さ
れるわけではなく、当然、生産装置の本来の動作、即ち
仕事にも変換されるので、従来のように、クリーンルー
ム内における使用電力量を単純に発熱量に換算し、それ
を冷却能力として冷却設備を設計した場合、冷却設備の
仕様が過剰になるという課題があった。つまり、従来で
は、個々の生産装置が消費するエネルギー量とそれが廃
棄するエネルギー量を把握できておらず、生産装置に見
合ったクリーンルームの適正化を図ることは非常に難し
かった。
【0006】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、使用エネルギー量に対する発熱量の占める
割合を正確に把握することができ、装置毎の発熱量等の
エネルギー使用量の見直しや、エネルギー使用量を低減
した生産装置及びクリーンルームの設計を可能として、
環境に優しい工場建設を可能にする装置毎の用力監視シ
ステムを提供することを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
の装置毎の用力監視システムは、空気清浄装置と、この
空気清浄装置によって所定の空気清浄度を保持した空間
内に配置された複数の生産装置と、これらの生産装置に
関連する補機類と、温度調整用の冷凍手段及び蒸気発生
手段とを備え、上記空間内を複数に区画して個別に空気
清浄度を保持する独立空間を設けると共に各独立空間に
上記各生産装置をそれぞれ個別に配置して各独立空間の
温度を個別に調整する生産工場であって、上記各生産装
置毎に、上記空気清浄装置、上記生産装置及びこれに関
連する補機類で使用されるエネルギー使用量を監視する
使用エネルギー監視手段と、上記生産装置からの発熱量
を監視する発熱量監視手段と、上記冷凍機から供給され
る冷却水の冷却熱量及び上記蒸気生成装置から供給され
る蒸気使用量を監視する熱エネルギー監視手段とを備え
たことを特徴とするものである。
【0008】また、本発明の請求項2に記載の装置毎の
用力監視システムは、請求項1に記載の発明において、
上記使用エネルギー監視手段は、上記生産装置及びこれ
に関連する補機類で使用される使用電力量を監視する第
1動力エネルギー監視手段と、上記冷凍手段及びこれに
関連する補機類で使用される電力使用量及び燃料使用量
を監視する第2動力エネルギー監視手段と、上記空気清
浄装置、上記蒸気発生手段及びこれらに関連する補機類
で使用される電力使用量及び燃料使用量を監視する第3
動力エネルギー監視手段とを有することを特徴とするも
のである。
【0009】また、本発明の請求項3に記載の装置毎の
用力監視システムは、請求項1に記載の発明において、
上記発熱量監視手段は、上記生産装置用冷却水の冷却熱
量を監視する第1冷却熱量監視手段と、上記独立空間内
の空気用冷却水の冷却熱量を監視する第2冷却熱量監視
手段と、上記独立空間内から外部への排気流による排熱
量を監視する排熱量監視手段と、上記空気清浄装置から
上記独立空間内へ供給される空気の熱量を監視する給気
熱量監視手段とを有するたことを特徴とするものであ
る。
【0010】また、本発明の請求項4に記載の装置毎の
用力監視システムは、請求項1に記載の発明において、
上記熱エネルギー監視手段は、上記独立空間及び生産装
置へ供給される冷却水の冷却熱量を監視する第3冷却熱
量監視手段と、上記空気清浄装置へ供給される冷却水の
冷却熱量を監視する第4冷却熱量監視手段と、上記空気
清浄装置へ供給される蒸気量を監視する蒸気使用量監視
手段とを有することを特徴とするものである。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、図1〜図4に示す実施形態
に基づいて本発明を説明する。まず例えば、本実施形態
の装置毎の用力監視システム(以下、単に「用力監視シ
ステム」と称す。)が設置された半導体製造工場につい
て図1、図2を参照しながら説明する。この半導体製造
工場Fは、図1、図2に示すように、クリーンルーム棟
Aと、このクリーンルーム棟Aをコ字状に囲む、空調機
械室、動力室、中央監視室や事務室等を有する管理棟B
とを備え、クリーンルーム棟Aと管理棟Bは基礎構造を
含めて互いに独立した棟として構成され、これら両者
A、Bは例えばエキスパンションジョイントEを介して
互いに連結されている。そして、クリーンルーム棟A
は、図2に示すように、二階にクリーンルーム10を有
し、一階に補機室20を有している。クリーンルーム1
0内には半導体製造装置等の種々の生産装置100が配
置され、補機室20内には各種の生産装置100に関連
する冷凍機等の各種補機類101、102が配置されて
いる。
【0012】また、上記クリーンルーム10と補機室2
0は、図2に示すように、コンクリートのような剛性の
高いパネル30によって遮断されている。パネル30の
上方には所定の隙間40を介してフリーアクセスフロア
50が形成され、このフリーアクセスフロア50は例え
ばグレーティングパネルを敷き詰めて形成されている。
クリーンルーム10の天井上側にはプレナムスペース6
0が形成され、天井に配設された高性能フィルタ70で
清浄度を上げた清浄空気を下降流でクリーンルーム10
内へ供給するようにしてある。この清浄空気は後述する
リターンダクトを介してクリーンルーム10、フリーア
クセスフロア50及びその下方の隙間40を循環するよ
うにしてある。尚、高性能フィルタ70には図示しない
ファンが付帯し、ファンを介してプレナムスペース60
内の空気がクリーンルーム10内へ供給される。
【0013】而して、上記クリーンルーム10内は図1
に示すように半導体製造工程のプロセス種毎に区画され
てプロセス種毎のミニエンバイロメント空間が形成さ
れ、それぞれのミニエンバイロメント空間の清浄度をプ
ロセス種毎に最適管理できるようにしてある。即ち、上
記クリーンルーム10、隙間40及びプレナムスペース
60は、図1、図2に示すように、それぞれ半導体製造
工程のプロセス種毎に仕切によって遮断されている。そ
して、クリーンルーム10内の幅方向両側には複数のメ
ンテナンスエリア11とそれぞれのオペレーションエリ
ア12が形成され、これらの各メンテナンスエリア11
はそれぞれプロセス種毎に互いに独立したミニエンバイ
ロメント空間として形成されている。これら両側のメン
テナンスエリア11、11の間には図1に示すように主
通路13が長手方向に形成され、この主通路13から各
オペレーションエリア12が分岐している。従って、床
下の隙間40にもメンテナンスエリア11、オペレーシ
ョンエリア12及び主通路13に対応した分割隙間4
1、42、43がそれぞれ形成され、プレナムスペース
60にもメンテナンスエリア11、オペレーションエリ
ア12及び主通路13に対応した分割スペース61、6
2、63がそれぞれ形成されている。
【0014】そして、上記各メンテナンスエリア11内
には出入口(図示せず)がそれぞれ形成され、それぞれ
のドアを介して出入りしてそれぞれの内部に個別に配置
された半導体製造装置等の生産装置100のメンテナン
ス等を個別に行えるようにしてある。
【0015】また、図1に示すように管理棟Bの空調機
械室内には除塵機構及び温湿度調節機構を内蔵した外調
機80が空気清浄装置として複数配設され、これらの外
調機80からそれぞれのダクト81(図1の矢印)を介
して接続された各メンテナンスエリア11やオペレーシ
ョンエリア12、主通路13に対して清浄空気を個別に
供給するようにしてある。即ち、各メンテナンスエリア
11とオペレーションエリア12及び主通路13との間
の清浄度、更には、生産装置100の種類に応じて各メ
ンテナンスエリア11間の清浄度がそれぞれ異なるよう
にしてある。つまり、オペレーションエリア12及び主
通路13の天井にメンテナンスエリア11の天井よりも
多くの高性能フィルタ70が配置され、外調機80によ
り温湿度、ケミカルコンタミネーション(塩素、アンモ
ニア、フッ素等のイオン類、及びホウ素、鉄、アルミニ
ウム、銅等の金属成分)量等が調整された空気を各高性
能フィルタ70で清浄し、オペレーションエリア12及
び主通路13をメンテナンスエリア11より高い清浄度
に設定している。
【0016】そして、例えば各メンテナンスエリア11
内の清浄度がクラス1000に設定され、オペレーショ
ンエリア12及び主通路13内の清浄度が例えばクラス
10に設定されている。また、清浄空気の流路であるダ
クト81には各メンテナンスエリア11、オペレーショ
ンエリア12及び主通路13に対応したダンパー(図示
せず)が配設され、それぞれのエリア毎に清浄空気を供
給し、遮断することができ、もって各エリア毎の流量を
個別に管理できるようにしてある。更に、空調機械室内
にはクリーンルーム10以外の独立空間(例えば、補機
室20、設備機械室等)の空調を行う外調機80Aが配
設され、この外調機80Aによって一般的な空調を行う
ようにしてある。
【0017】更に、上記クリーンルーム10内の幅方向
両側の壁面には、図1、図2に示すように、リターンダ
クト14Aが配設され、このリターンダクト14Aを介
して各メンテナンスエリア11の床下の分割隙間41と
それぞれの天井上側の分割プレナムスペース61は互い
に連結され、各分割プレナムスペース61内の清浄空気
がファンを介して送風され、高性能フィルタ70による
除塵後それぞれのメンテナンスエリア11内に流入し、
下降流でフリーアクセスフロア50、分割隙間41を流
れてリターンダクト14Aから各分割プレナムスペース
61へ還流するようにしてある。各オペレーションエリ
ア12、主通路13についても同様にリターンダクト1
4A、14Bを介してそれぞれの分割プレナムスペース
の清浄空気が各オペレーションエリア12、主通路13
及び分割隙間を循環するようにしてある。
【0018】次に、本実施形態の用力監視システムにつ
いて図3、図4を参照しながら説明する。本実施形態の
用力監視システムSは、例えば図3に示すように、外調
機80、半導体製造装置等の生産装置100及びこれに
関連する補機類101、102で使用される電力や灯油
等の燃料のエネルギー使用量を監視する使用エネルギー
監視手段1と、メンテナンスエリア11内の生産装置1
00からの発熱量を監視する発熱量監視手段2と、外調
機80、ドライコイル103、生産冷却設備104それ
ぞれに対して冷媒を供給する冷凍機105からの冷却熱
量及び外調機80に対してボイラー106から供給され
る蒸気使用量を監視する熱エネルギー監視手段3とを備
えている。そして、各メンテナンスエリア11内にそれ
ぞれ個別に設置された各生産装置100及びそれぞれに
関連する補機類101による使用エネルギー量を装置毎
に監視すると共に、個々の生産装置100からのエネル
ギー廃棄量を発熱量として装置毎に監視して装置毎のエ
ネルギー収支を管理し、更に、このエネルギー収支をコ
スト換算して設備負荷の小さい生産装置100及び過剰
仕様の少ないクリーンルーム10を構築できるようにし
てある。そして、この用力監視システム1によって使用
エネルギー量に対する発熱量の占める割合を正確に把握
することができる。
【0019】上記使用エネルギー監視手段1は、図3、
図4に示すように、生産装置100及びこれに関連する
補機類101で使用される電力使用量を監視する第1動
力エネルギー監視手段1Aと、冷凍機105及びこれに
関連する補機類102(図2参照)で使用される電力使
用量及び灯油等の燃料使用量を監視する第2動力エネル
ギー監視手段1Bと、外調機80、ボイラー106及び
それらに関連する補機類102で使用される電力使用量
及び灯油等の燃料使用量を監視する第3動力エネルギー
監視手段1Cとを有し、個々の外調機80、生産装置1
00、冷凍機105及びこれらに関連する補機類10
1、102についての電力使用量及び燃料使用量を監視
し、把握するようにしてある。
【0020】第1動力エネルギー監視手段1Aは、図
3、図4に示すように、生産装置100及びこれに関連
する補機類101で使用される電力量を検出する使用電
力検出器(例えば、積算電力計等)W1と、この使用電
力検出器W1の検出値w11、w12をアナログ信号からデ
ジタル信号に変換するA/D変換器とを有している。
【0021】第2動力エネルギー監視手段1Bは、図
3、図4に示すように、冷凍機105及びこれに関連す
る補機類(例えば、冷却水循環ポンプ、電磁弁)102
で使用される電力量及び灯油等の燃料使用量を検出する
使用電力検出器(例えば、積算電力計等)W2及び液面
計L1と、この使用電力検出器W2及び液面計L1の検出
値w21、w22及びl11、l12をアナログ信号からデジタ
ル信号に変換するA/D変換器とを有している。
【0022】第3動力エネルギー監視手段1Cは、図
3、図4に示すように、外調機80、ボイラー106及
びこれらに関連する補機類(例えば、循環ポンプ)10
2で使用される電力量及び灯油等の燃料使用量を検出す
る、例えば電力積算計W3、W4及び液面計L2からなる
使用エネルギー検出器と、この使用エネルギー検出器の
検出値w31、w32、w41、w42及びl21、l22をアナロ
グ信号からデジタル信号に変換するA/D変換器とを有
している。
【0023】また、発熱量監視手段2は、図3、図4に
示すように、生産冷却水による生産装置100からの冷
却熱量を監視する第1冷却熱量監視手段2Aと、冷却水
によるメンテナンスエリア11内の清浄空気からの冷却
熱量を監視する第2冷却熱量監視手段2Bと、メンテナ
ンスエリア11内からクリーンルーム10外部への排気
流による排熱量を監視する排熱量監視手段2Cと、外調
機80からメンテナンスエリア11内へ供給される清浄
空気の熱量を監視する給気熱量監視手段2Dとを有し、
生産装置100の発熱によるエネルギー消費量を監視
し、把握するようにしてある。
【0024】第1冷却熱量監視手段2Aは、図3、図4
に示すように、生産装置100の発熱部を冷却するため
に使用する生産冷却水の温度及び流量を検出する生産冷
却水温度検出器T1、T2及び生産冷却水流量検出器F1
と、これら両者からの検出値t1、t2及びf1をアナロ
グ信号からデジタル信号にそれぞれ変換するA/D変換
器とを有している。
【0025】第2冷却熱量監視手段2Bは、図3、図4
に示すように、メンテナンスエリア11内の清浄空気を
冷却するために使用するドライコイル103の冷却水の
温度及び流量を検出する冷却水温度検出器T3、T4及び
冷却水流量検出器F2と、これら両者の検出値t3、t4
及びf2をアナログ信号からデジタル信号にそれぞれ変
換するA/D変換器とを有している。
【0026】排気熱量監視手段2Cは、図3、図4に示
すように、メンテナンスエリア11からクリーンルーム
10の外へ排気される排気流の温度及び流量を検出する
排気流温度検出器T5及び排気流量検出器F3と、これら
両者の検出値t5及びf3をアナログ信号からデジタル信
号にそれぞれ変換するA/D変換器とを有している。そ
して、給気熱量監視手段2Dは、外調機80からダクト
81を介してメンテナンスエリア11内に供給される清
浄空気の温度及び流量を検出する給気流温度検出器T6
及び給気流量検出器F9と、これら両者の検出値t6及び
9をアナログ信号からデジタル信号にそれぞれ変換す
るA/D変換器とを有している。
【0027】また、熱エネルギー監視手段3は、図3、
図4に示すように、冷凍機105において生成された冷
却水を媒体とし、ドライコイル103及び生産冷却設備
104へ供給される冷却熱量を監視する第3冷却熱量監
視手段3Aと、同様に外調機80へ供給される冷却熱量
を監視する第4冷却熱量監視手段3Bと、外調機80へ
供給される蒸気量を監視する蒸気使用量監視手段3Cと
を有し、個々の外調機80及び各冷却設備(ドライコイ
ル103及び生産冷却設備104)に供給される冷却熱
量と、個々の外調機80に供給される蒸気量とを監視
し、把握するようにしてある。
【0028】第3冷却熱量監視手段3Aは、図3、図4
に示すように、冷凍機105からドライコイル103及
び生産冷却設備104へ供給される全冷却水の温度及び
流量を検出する冷却水温度検出器T7、T8及び冷却水流
量検出器F4と、これら両者の検出値t7、t8及びf4
アナログ信号からデジタル信号にそれぞれ変換するA/
D変換器とを有している。そして、冷凍機105からの
冷却水はヘッダ107、108を介してドライコイル1
03及び生産冷却設備104へ個別に供給され、それぞ
れの配管には冷却水の温度及び流量を検出する冷却水温
度検出器T9、T10、T11、T12及び冷却水流量検出器
5、F6が配設されている。また、第4冷却熱量監視手
段3Bは、冷凍機105から外調機80へ供給される冷
却水の温度及び流量を検出する冷却水温度検出器T13
14及び冷却水流量検出器F7と、これら両者の検出値
13、t14及びf7をアナログ信号からデジタル信号に
それぞれ変換するA/D変換器とを有している。そし
て、蒸気使用量監視手段3Cは、ボイラー106から外
調機80供給される蒸気流量を検出する蒸気流量検出器
8と、この蒸気流量検出器F8の検出値f8をアナログ
信号からデジタル信号にそれぞれ変換するA/D変換器
とを有している。
【0029】そして、図3に示すように各A/D変換器
からの出力に基づいて各生産装置毎のエネルギー収支が
演算部において算出される。即ち、同図に示すように、
上記各検出器によって検出されたデータはデータ格納部
4に格納され、また、演算部5における演算を実行する
に当たって必要とされる電力単価、燃料単価等の外部入
力データは端末キー等によって入力されて外部入力デー
タ格納部6に格納される。そして、プログラム格納部7
からの指令に基づいてデータ格納部4及び外部入力デー
タ格納部6から所望のデータを演算部5に与え、演算部
5において所定の演算を行い、その演算結果を必要に応
じて表示部8に表示する。
【0030】ところで、用力監視システムSで用いられ
る各種の計測機器は図4に示すように配置されている。
即ち、生産装置100と生産冷却設備104は冷却水配
管109Aを介して接続され、生産冷却設備104と冷
凍機105は冷却水配管109B及びヘッダ107を介
して接続されている。生産装置100の発熱部の出入口
には冷却水配管109Aが接続されている。この冷却水
配管109Aには発熱部の出入口側に配置された2個の
生産冷却水温度検出器T1、T2がそれぞれ配設され、こ
の冷却水配管109Aの出口側には生産冷却水流量検出
器F2が配設されている。冷却水配管109Bには2個
の冷却水温度検出器T9、T10がそれぞれ配設され、こ
の冷却水配管109B入口側には冷却水流量検出器F5
が配設されている。
【0031】また、メンテナンスエリア11のリターン
ダクト14A内にはドライコイル103が配設され、こ
のドライコイル103と冷凍機105は冷却水配管10
9C及びヘッダ107を介して接続されている。この冷
却水配管109Cにはドライコイル103の出入口側に
配置された2個の冷却水温度検出器T3、T4がそれぞれ
配設され、更に、この冷却水配管109Bには冷却水流
量検出器F2が配設されている。また、冷凍機105と
ヘッダ107の間には冷却水温度検出器T7が配設さ
れ、冷凍機105とヘッダ108の間には冷却水温度検
出器T8及び冷却水流量検出器F4が配設されている。
【0032】メンテナンスエリア11には外部へ熱排気
する排気ダクト11Aが接続され、この排気ダクト11
Aには排気流温度検出器T5及び排気流量検出器F3がそ
れぞれ配設されている。外調機80(図1参照)からプ
レナムスペース61内へ清浄空気を供給するダクト81
には給気流温度検出器T6及び給気流量検出器F9がそれ
ぞれ配設されている。図4に示すように外調機80とヘ
ッダ107、108は冷却水配管109Dを介して接続
され、この冷却水配管109Dの出入口側にはそれぞれ
冷却水温度検出器T13、T14及び冷却水流量検出器F7
が配設されている。また、外調機80とボイラー106
は冷却水配管109Eを介して接続され、この蒸気配管
109Eには蒸気流量検出器F8が配設されている。
【0033】図示してないが、生産装置100、冷凍機
105及びボイラー106等は給電設備を有し、これら
三者100、105、106及びこれらの補機類10
1、102へ給電し、それぞれが作動するようになって
いる。
【0034】次に、本実施形態の用力監視システムSを
用いたエネルギー収支の演算方法について説明する。半
導体製造工場Fで半導体製造装置等の各種の生産装置1
00及びこれらに関連する補機類101が動作している
状態において、演算部5において第1冷却熱量監視手段
2Aの生産冷却水温度検出器T1、T2及び生産冷却水流
量検出器F1の検出値t1、t2、f1に基づいて所定時間
当たりの生産冷却水による冷却熱量(A)を数式1によ
り算出する。
【数1】 A=∫[(t1−t2)×f1]dt(kcal)
【0035】また、演算部5において第2冷却熱量監視
手段2Bの冷却水温度検出器T3、T4及び冷却水流量検
出器F2の検出値t3、t4、f2に基づいてドライコイル
103による冷却熱量(B)を数式2により算出する。
【数2】 B=∫[(t3−t4)×f2]dt(kcal)
【0036】また、演算部5において排気熱量監視手段
2Cの排気温度検出器T5、給気熱量監視手段2Dの給
気流量検出器T6及び冷却水流量検出器F3の検出値
5、t6、f3に基づいてドライコイル103による生
産排気(換気)による冷却熱量(C)を数式3により算
出する。
【数3】C=0.29(kcal/℃kg)×∫[1.
2×(t5−t6)×f3]dt(kcal)
【0037】続いて、演算部5において第1動力エネル
ギー監視手段1Aの使用電力検出器(積算電力計)W1
の所定時間経過後の検出値w11、w12に基づいて生産装
置100による発熱量(D)を数式4により算出する。
【数4】D=(w12−w11)×860(kcal/kW
h)(kcal)
【0038】従って、上記A〜Dに基づいて使用電力量
に対する生産冷却設備104、ドライコイル103及び
生産排気それぞれの処理熱量を把握することができる。
即ち、生産冷却設備104の冷却処理熱量は数式5によ
り算出することができ、ドライコイル103の冷却処理
熱量の割合は数式6により算出することができ、生産排
気の冷却処理熱量の割合は数式7により算出することが
できる。尚、これらのデータは必要に応じて表示部8に
表示することができる。これにより冷凍機105、生産
冷却設備104、ドライコイル103がそれぞれ過剰設
備になっているか否かを判断することができる。
【数5】A/D×100(%)
【数6】B/D×100(%)
【数7】C/D×100(%)
【0039】更に、演算部5において第3冷却熱量監視
手段3Aの冷却水温度検出器T7、T8及び冷却水流量検
出器F4の検出値t7、t8、f4に基づいて冷凍機105
による冷却熱量(E)を数式8により算出し、生産冷却
設備104による冷却熱量(F)を数式9により算出
し、ドライコイル103による冷却熱量(G)を数式1
0により算出する。
【数8】 E=∫[(t7−t8)×f4]dt(kcal)
【数9】 F=∫[(t9−t10)×f5]dt(kcal)
【数10】 G=∫[(t11−t12)×f6]dt(kcal)
【0040】演算部5において第4冷却熱量監視手段3
Bの冷却水温度検出器T13、T14及び冷却水流量検出器
7の検出値t13、t14、f7に基づいて所定時間当たり
の外調機80による冷却熱量(H)を数式11により算
出する。
【数11】 H=∫[(t13−t14)×f7]dt(kcal)
【0041】演算部5において蒸気使用量監視手段3C
の蒸気流量検出器(積算型)F8の所定時間経過後の検
出値f81、f82に基づいて外調機80への蒸気供給量
(I)を数式12により算出する。
【数12】I=(f82−f81)(kg)
【0042】そして、演算部5において第2動力エネル
ギー監視手段1Bの使用電力検出器W2の検出値w21
22及び液面計L11、L12の検出値l11、l12に基づい
て冷凍機105における使用電力のコスト(J)及び使
用燃料のコスト(K)を数式13、数式14により算出
し、生産冷却設備104に関連する補機類102(図4
ではP1、P2で示す冷却水循環ポンプ等)の検出値
11、p12及びp21、p22に基づいて使用電力のコスト
(L)を数式15により算出する。
【数13】J=(w22−w21)×電力単価 (円)
【数14】K=(l12−l11)×燃料単価 (円)
【数15】L=〔(p12−p11)+(p22−p21)〕×
電力単価 (円)
【0043】上記各コスト(J)、(K)、(L)が求
められると、演算部5において生産冷却設備104にお
ける単位熱量当たりの冷却処理コスト(M)、ドライコ
イル103における冷却処理コスト(O)を数式16、
数式17により算出する。
【数16】M=〔(J+K)×F/E+L〕÷F (円
/kcal)
【数17】O=〔(J+K)×G/E+(p31
32)〕×電力単価÷G (円/kcal)
【0044】続いて、演算部5において第3動力エネル
ギー監視手段1Cの使用エネルギー検出器W4、L2の検
出値w41、w42及びl22、l21に基づいてまず、ボイラ
ー106における使用電力(P)及び使用燃料のコスト
(Q)を数式18、数式19により算出し、電力積算計
3の検出値w31、w32及び外調機80に関連する補機
類102(図4においてP4で示す循環ポンプ等)の検
出値P41、P42に基づいて外調機80に関する使用電力
のコスト(R)、(S)を数式20、数式21により算
出する。
【数18】P=(w42−w41)×電力単価 (円)
【数19】Q=(l22−l21)×燃料単価 (円)
【数20】R=(w31−w32)×電力単価 (円)
【数21】S=(p42−p41)×電力単価 (円)
【0045】そして、演算部5において外調機80にお
ける冷却コスト(T)を数式22により算出し、外調機
80の蒸気コスト(U)を数式23により算出する。
【数22】T=(J+K)×H/E+S (円)
【数23】U=P+Q (円)
【0046】従って、外気処理コスト(V)を数式2
0、数式22、数式23の結果に基づいて数式24によ
り算出する。
【数24】V= R+T+U (円) そして、熱排気するためのファンの使用電力コスト
(W)を、図4においてEfで示すファン電力計の検出
値Ef1、Ef2に基づいて数式25により算出する。
【数25】W=(Ef2−Ef1)×電力単価 (円) 熱排気における単位熱量当たりの冷却処理コスト(X)
を数式26により算出する。
【数26】X=(V+W)÷C (円/kcal) 以上のようにして演算部5において生産冷却設備10
4、ドライコイル103及び熱排気における単位熱量当
たりの冷却処理コスト(M)、(O)、(X)をそれぞ
れ算出し、それらの値を必要に応じて表示部8に表示す
る。
【0047】以上説明したように本実施形態によれば、
装置毎の用力監視システムSは、外調機80、半導体製
造装置等の生産装置100及びこれに関連する補機類1
01で使用される電力や灯油等の燃料のエネルギー使用
量を監視する使用エネルギー監視手段1と、メンテナン
スエリア11内の生産装置100からの発熱量を監視す
る発熱量監視手段2と、外調機80、ドライコイル10
3、生産冷却設備104それぞれに対して冷媒を供給す
る冷凍機105からの冷却熱量を監視する熱エネルギー
監視手段とを備えているため、各メンテナンスエリア1
1内にそれぞれ設置された各生産装置100及びそれぞ
れに関連する補機類101による使用エネルギー量を装
置毎に監視すると共に個々の生産装置100からのエネ
ルギー廃棄量を発熱量として装置毎に監視して装置毎の
エネルギー収支を管理して設備負荷の小さい生産装置及
び過剰仕様の少ないクリーンルーム10を構築できる。
従って、用力監視システム1によって使用エネルギー量
に対する発熱量の占める割合を正確に把握することがで
き、次に工場を建設する場合には装置毎の発熱量等のエ
ネルギー消費量を見直し、よりエネルギー消費量を低減
した生産装置100及びクリーンルーム10の設計が可
能になり、環境に優しい工場建設が可能になる。工場の
定格電力を基準にして発熱量を設定する従来の手法で
は、定格電力によって発熱量が決まるため、クリーンル
ーム等の補機類の能力が過剰になり、得てして設備投資
が過剰になりがちであったが、本実施形態ではこのよう
に過剰投資を防止することができる。
【0048】尚、本発明は上記実施形態に何等制限され
るものではなく、必要に応じて適宜設計変更を加えるこ
とができる。
【0049】
【発明の効果】本発明の請求項1〜請求項4に記載の発
明によれば、使用エネルギー量に対する発熱量の占める
割合を正確に把握することができ、装置毎の発熱量等の
エネルギー使用量の見直しや、エネルギー使用量の低減
した生産装置及びクリーンルームの設計を可能として、
環境に優しい工場建設を可能にする装置毎の用力監視シ
ステムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の用力監視システムが適用されたクリー
ンルームを有する建屋構造を示す平面図である。
【図2】図1に示す建屋構造の要部を示す断面図であ
る。
【図3】本発明の用力監視システムの一実施形態の構成
を示すブロック図である。
【図4】図3に示す用力監視システムの各種の検出器の
取り付け箇所を示す半導体工場の配置図である。
【符号の説明】
S 用力監視システム 1 使用エネルギー監視手段 1A 第1動力エネルギー監視手段 1B 第21動力エネルギー監視手段 1C 第3動力エネルギー監視手段 2 発熱量監視手段 2A 第1冷却熱量監視手段 2B 第2冷却熱量監視手段 2C 排気熱量監視手段 2D 給気熱量監視手段 3 熱エネルギー監視手段 3A 第3冷却熱量監視手段 3B 第4冷却熱量監視手段 3C 蒸気使用量監視手段 10 クリーンルーム(空間) 11 メンテナンスエリア(独立空間) 80 外調機(空気清浄装置) 100 生産装置 101 補機類 102 補機類 103 ドライコイル(冷却手段) 104 冷却生産設備 105 冷凍機 106 ボイラー(蒸気生成装置)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 若林 剛 東京都港区赤坂五丁目3番6号 東京エレ クトロン株式会社内 (72)発明者 深沢 泰司 東京都府中市住吉町2丁目30番7号 東京 エレクトロンロジスティクス株式会社内 (72)発明者 小松 晴彦 東京都府中市住吉町2丁目30番7号 東京 エレクトロンロジスティクス株式会社内 (72)発明者 岸野 豊 東京都新宿区西新宿一丁目25番1号 大成 建設株式会社内 (72)発明者 穂苅 伸博 東京都新宿区西新宿一丁目25番1号 大成 建設株式会社内 Fターム(参考) 3L060 AA08 CC10 CC12 EE01 EE44 5H004 GA28 GA36 GB20 HA01 HA02 HB01 HB02 HB05 HB20 KC03 MA42

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 空気清浄装置と、この空気清浄装置によ
    って所定の空気清浄度を保持した空間内に配置された複
    数の生産装置と、これらの生産装置に関連する補機類
    と、温度調整用の冷凍手段及び蒸気発生手段とを備え、
    上記空間内を複数に区画して個別に空気清浄度を保持す
    る独立空間を設けると共に各独立空間に上記各生産装置
    をそれぞれ個別に配置して各独立空間の温度を個別に調
    整する生産工場であって、上記各生産装置毎に、上記空
    気清浄装置、上記生産装置及びこれに関連する補機類で
    使用されるエネルギー使用量を監視する使用エネルギー
    監視手段と、上記生産装置からの発熱量を監視する発熱
    量監視手段と、上記冷凍機から供給される冷却水の冷却
    熱量及び上記蒸気生成装置から供給される蒸気使用量を
    監視する熱エネルギー監視手段とを備えたことを特徴と
    する装置毎の用力監視システム。
  2. 【請求項2】 上記使用エネルギー監視手段は、上記生
    産装置及びこれに関連する補機類で使用される使用電力
    量を監視する第1動力エネルギー監視手段と、上記冷凍
    手段及びこれに関連する補機類で使用される電力使用量
    及び燃料使用量を監視する第2動力エネルギー監視手段
    と、上記空気清浄装置、上記蒸気発生手段及びこれらに
    関連する補機類で使用される電力使用量及び燃料使用量
    を監視する第3動力エネルギー監視手段とを有すること
    を特徴とする請求項1に記載の装置毎の用力監視システ
    ム。
  3. 【請求項3】 上記発熱量監視手段は、上記生産装置用
    冷却水の冷却熱量を監視する第1冷却熱量監視手段と、
    上記独立空間内の空気用冷却水の冷却熱量を監視する第
    2冷却熱量監視手段と、上記独立空間内から外部への排
    気流による排熱量を監視する排熱量監視手段と、上記空
    気清浄装置から上記独立空間内へ供給される空気の熱量
    を監視する給気熱量監視手段とを有するたことを特徴と
    する請求項1に記載の装置毎の用力監視システム。
  4. 【請求項4】 上記熱エネルギー監視手段は、上記独立
    空間及び生産装置へ供給される冷却水の冷却熱量を監視
    する第3冷却熱量監視手段と、上記空気清浄装置へ供給
    される冷却水の冷却熱量を監視する第4冷却熱量監視手
    段と、上記空気清浄装置へ供給される蒸気量を監視する
    蒸気使用量監視手段とを有することを特徴とする請求項
    1に記載の装置毎の用力監視システム。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103207601A (zh) * 2013-03-15 2013-07-17 翁昉倞 工厂生产车间能源管理监测方法
JP2013160435A (ja) * 2012-02-03 2013-08-19 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 熱源選択支援装置及びその方法並びに熱源システム
WO2016014835A1 (en) * 2014-07-25 2016-01-28 Tokyo Electron Limited Identification system

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