JP2000169752A - Photosensitive resin composition for coating electronic circuit - Google Patents

Photosensitive resin composition for coating electronic circuit

Info

Publication number
JP2000169752A
JP2000169752A JP11069785A JP6978599A JP2000169752A JP 2000169752 A JP2000169752 A JP 2000169752A JP 11069785 A JP11069785 A JP 11069785A JP 6978599 A JP6978599 A JP 6978599A JP 2000169752 A JP2000169752 A JP 2000169752A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive resin
resin composition
ethylenically unsaturated
molecular weight
electronic circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11069785A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shohei Nakamura
庄平 中村
Koji Anai
浩司 穴井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP11069785A priority Critical patent/JP2000169752A/en
Publication of JP2000169752A publication Critical patent/JP2000169752A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Paints Or Removers (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive resin composition for protectively coating electronic circuit that is curable by light irradiation within a short time and has flexibility and the resistance to electrolytic solution, water, ionic drinking water or the like. SOLUTION: The photosensitive resin composition comprises as essential components an unsaturated polyurethane having an ethylenically unsaturated bond with the molecule and having a number average molecular weight, when converted into polystyrene, as measured by GPC of 800-13,000, an ethylenically unsaturated compound having an ethylenically unsaturated bond and having a molecular weight of smaller than 800, and a photopolymerization initiator. These essential components can impart to the photosensitive resin composition the resistance to electrolytic solution that has leaked out on an electronic circuit, water or ionic drinking water which a user has inadvertently spilled thereon, or the like.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はハイブリッドIC、
実装回路等の電子回路が、漏液した電解液や、使用者が
こぼした水、イオン性飲料水などにふれても機能に異常
を起こさないようにするために被覆するのに用いる感光
性樹脂組成物に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a hybrid IC,
A photosensitive resin used to cover electronic circuits such as mounting circuits so that they do not malfunction when exposed to leaked electrolyte, spilled water, ionic drinking water, etc. Composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子回路は過酷な条件下では、湿気、ほ
こり、酸性ガスなどによりコンデンサーやトランジスタ
などの搭載部品のピン足やコネクターが腐食したり、結
露することがあり、このような状態になるとハイブリッ
ドIC、実装回路板が正常に作動しないというトラブル
につながる危険があった。また、リチウムイオン二次電
池が使用されている携帯電話などの場合、入浴時やイオ
ン性飲料水などを飲みながら使用されることがあり、誤
って水中に落とされたり、イオン性飲料水などがこぼれ
てかかったりしたときに接続されている保護回路がショ
ートして作動しなくなり電池の暴走を引き起こすことに
なるなどという危険を内在していた。
2. Description of the Related Art Under severe conditions of electronic circuits, pin feet and connectors of mounted components such as capacitors and transistors may be corroded or dewed by moisture, dust, acid gas, etc. In such a case, there is a danger that the hybrid IC and the mounted circuit board may not operate properly. In the case of a mobile phone or the like that uses a lithium ion secondary battery, it may be used when taking a bath or while drinking ionic drinking water, etc. When the battery is spilled, there is a danger that the connected protection circuit is short-circuited and does not operate, causing a battery runaway.

【0003】更に、電池から電解液が漏液した場合は保
護回路と接触しその機能を阻害したり、発熱したりなど
の危険を内在していた。
In addition, when the electrolyte leaks from the battery, the electrolyte comes into contact with the protection circuit, impairing its function and generating heat.

【0004】このような問題を解決するために、電子回
路表面に樹脂をコーティングし保護することが行われて
いるが、このような樹脂をコーティングして強固な皮膜
を形成させようとすると高温での硬化が必要となり、電
子回路の機能が損なわれるという問題があった。特開昭
61−278845号公報には、ハイブリッドIC、実
装回路板の一部または全体にジエンゴム系からなる光硬
化性の防湿絶縁塗料を塗布し、保護膜を形成することが
提案されている。この方法によれば低温で硬化させるこ
とが可能になるが、通常行われる空気中の露光では硬化
が遅く、また硬化物は粘着性を有しておりその後の取り
扱いがしにくいという問題を有していた。
In order to solve such a problem, the surface of an electronic circuit is coated with a resin to protect the surface. However, when such a resin is coated to form a strong film, a high temperature is required. Has to be cured and the function of the electronic circuit is impaired. Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-278845 proposes forming a protective film by applying a photocurable moisture-proof insulating paint made of a diene rubber to a part or the whole of a hybrid IC and a mounting circuit board. According to this method, it is possible to cure at a low temperature, but there is a problem that curing is slow in ordinary exposure in the air, and the cured product has tackiness and is difficult to handle thereafter. I was

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】低温硬化可能で、柔軟
性を有し、電解液、水、イオン性飲料水などに対する耐
性を有する電子回路保護コート用感光性樹脂組成物を提
供すること、更には空気中での短時間の光照射で硬化が
可能な電子回路保護コート用感光性樹脂組成物を提供す
ることを課題とするものである。
The object of the present invention is to provide a photosensitive resin composition for an electronic circuit protective coat which is curable at a low temperature, has flexibility, and has resistance to electrolytes, water, ionic drinking water and the like. It is an object of the present invention to provide a photosensitive resin composition for an electronic circuit protective coat that can be cured by short-time light irradiation in air.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題
は、 分子内にエチレン性不飽和結合を有する、GPC測定
に基づくポリスチレン換算数平均分子量800〜130
00の不飽和ポリウレタン、 エチレン性不飽和結合を有する分子量800未満のエ
チレン性不飽和化合物、及び 光重合開始剤を必須成分としてなる感光性樹脂組成物
を用いることで解決できることを見いだし本発明を完成
した。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have set forth the above-mentioned object as having a polystyrene-equivalent number average molecular weight of 800 to 130, having an ethylenically unsaturated bond in the molecule, based on GPC measurement.
The present invention has been completed by solving the problem by using an unsaturated polyurethane having a molecular weight of less than 800, an ethylenically unsaturated compound having an ethylenically unsaturated bond and having a molecular weight of less than 800, and a photosensitive resin composition comprising a photopolymerization initiator as essential components. did.

【0007】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
電子回路被覆用感光性樹脂組成物は、 分子内にエチレン性不飽和結合を有する、GPC測
定に基づくポリスチレン換算数平均分子量800〜13
000の不飽和ポリウレタン、 エチレン性不飽和結合を有する分子量800未満の
エチレン性不飽和化合物、及び 光重合開始剤を必須成分とするものである。 分子内にエチレン性不飽和結合を有するGPC測定に基
づくポリスチレン換算数平均分子量が800〜1300
0の不飽和ポリウレタンは、ジオール化合物とジイソシ
アネート化合物を反応させ、次いで水酸基またはアミノ
基とエチレン性不飽和結合を同時に有する化合物または
イソシアネート基とエチレン性不飽和結合を同時に有す
る化合物を反応させることで得られる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. The photosensitive resin composition for coating an electronic circuit of the present invention has a polystyrene-equivalent number average molecular weight of 800 to 13 based on GPC measurement and having an ethylenically unsaturated bond in the molecule.
000 unsaturated polyurethane, an ethylenically unsaturated compound having an ethylenically unsaturated bond and having a molecular weight of less than 800, and a photopolymerization initiator. The number average molecular weight in terms of polystyrene based on GPC measurement having an ethylenically unsaturated bond in the molecule is 800 to 1300.
The unsaturated polyurethane of 0 is obtained by reacting a diol compound with a diisocyanate compound and then reacting a compound having an ethylenically unsaturated bond with a hydroxyl group or an amino group or a compound having an ethylenically unsaturated bond with an isocyanate group at the same time. Can be

【0008】両末端イソシアネート基のポリウレタンポ
リマーをまず合成し、これに水酸基とエチレン性不飽和
結合を同時に有する化合物を反応させる方法において
は、水酸基とエチレン性不飽和結合を同時に有する化合
物は、両末端にイソシアネート基を有するポリウレタン
ポリマーとの反応を容易にし、副反応を抑えて短時間で
反応を終了させるために、イソシアネート基の数に対し
て水酸基の数が過剰になるように添加して反応させるの
が好ましい。通常必要量の2〜5倍程度過剰に添加する
ことが行われる。従って得られるものはエチレン性不飽
和結合を有するポリウレタンポリマーと過剰の水酸基含
有エチレン性不飽和化合物との混合物となる。
In a method of first synthesizing a polyurethane polymer having isocyanate groups at both terminals and reacting it with a compound having both a hydroxyl group and an ethylenically unsaturated bond, the compound having both a hydroxyl group and an ethylenically unsaturated bond is not reacted at both terminals. In order to facilitate the reaction with the polyurethane polymer having an isocyanate group and to terminate the reaction in a short time by suppressing side reactions, the reaction is performed by adding the number of hydroxyl groups to the number of isocyanate groups in excess. Is preferred. Usually, an excess of about 2 to 5 times the required amount is added. The result is a mixture of a polyurethane polymer having ethylenically unsaturated bonds and an excess of hydroxyl-containing ethylenically unsaturated compounds.

【0009】両末端水酸基のポリウレタンポリマーをま
ず合成し、これにイソシアネート基とエチレン性不飽和
結合を同時に有する化合物を反応させる方法において
は、イソシアネート基とエチレン性不飽和結合を同時に
有する化合物は、ポリウレタンポリマーの水酸基の数と
同じかあるいは少ない範囲で添加されるのが一般的であ
るが、この場合攪拌しやすくし副反応を抑えるために、
ウレタン化反応に関与しない成分を希釈剤として用いて
反応系の粘度を下げるのが好ましい。イソシアネート基
とエチレン性不飽和結合を同時に有する化合物を過剰に
添加する場合は、反応終了後水酸基等の活性水素を有す
る化合物を加えてイソシアネート基をなくすことが必要
である。
In a method of first synthesizing a polyurethane polymer having hydroxyl groups at both ends and reacting it with a compound having both an isocyanate group and an ethylenically unsaturated bond, the compound having both an isocyanate group and an ethylenically unsaturated bond is a polyurethane polymer. It is generally added in the same or less range as the number of hydroxyl groups of the polymer, but in this case, in order to facilitate stirring and suppress side reactions,
It is preferable to reduce the viscosity of the reaction system by using a component not involved in the urethanization reaction as a diluent. When a compound having both an isocyanate group and an ethylenically unsaturated bond is added in excess, it is necessary to eliminate the isocyanate group by adding a compound having an active hydrogen such as a hydroxyl group after completion of the reaction.

【0010】ジオール化合物としては一分子中に水酸基
を2個有する化合物、例えばポリプロピレングリコール
アジペートジオール、ポリネオペンチルグリコールアジ
ペートジオール、ポリブチレングリコールアジペートジ
オール、ポリカプロラクトンジオール、ポリバレロラク
トンジオールなどのポリエステルジオールや、ポリエチ
レングリコールジオール、ポリプロピレングリコール、
ポリテトラメチレングリコールなどのポリエステルジオ
ールや末端水酸基含有ポリブタジエンやその水添品、末
端水酸基含有ポリイソプレンやその水添品などを例とし
て挙げることができる。
As the diol compound, compounds having two hydroxyl groups in one molecule, for example, polyester diols such as polypropylene glycol adipate diol, polyneopentyl glycol adipate diol, polybutylene glycol adipate diol, polycaprolactone diol, and polyvalerolactone diol; , Polyethylene glycol diol, polypropylene glycol,
Examples thereof include polyester diols such as polytetramethylene glycol, polybutadiene having a terminal hydroxyl group and hydrogenated products thereof, and polyisoprene having a terminal hydroxyl group and hydrogenated products thereof.

【0011】ジオール化合物の水酸基価より求まる分子
量は400〜4000程度のものが使用されるが、より
柔軟で強い物を得るという観点からは500〜2500
程度の分子量のものを用いるのが好ましい。ジイソシア
ネート化合物としてはイソシアネート基を2個有する化
合物、例えばトリレンジイソシアネート、ヘキサメチレ
ンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イ
ソホロンジイソシアネートなどを挙げることができる。
これらの中では粘度をさほど高めず、柔軟で強いものが
得られ易いという点でトリレンジイソシアネートが好ま
しい。
The molecular weight determined from the hydroxyl value of the diol compound is about 400 to 4000, but from the viewpoint of obtaining a more flexible and strong product, it is 500 to 2500.
It is preferable to use one having a molecular weight of the order. Examples of the diisocyanate compound include compounds having two isocyanate groups, such as tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate.
Among these, tolylene diisocyanate is preferred because the viscosity is not so increased and a flexible and strong product is easily obtained.

【0012】水酸基とエチレン性不飽和基を同時に有す
る化合物としては、ヒドロキシエチルメタクリレート、
ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルメ
タクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、N−
メチロールアクリルアミド、ポリオキシエチレングリコ
ールモノメタクリレート、ポリオキシプロピレングリコ
ールモノメタクリレートなどを例として挙げることがで
きる。これらの中では柔軟で強いという観点からヒドロ
キシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタク
リレートが好ましく、耐水性に優れるヒドロキシプロピ
ルメタクリレートが最も好ましい。
Examples of the compound having both a hydroxyl group and an ethylenically unsaturated group include hydroxyethyl methacrylate,
Hydroxyethyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate, hydroxypropyl acrylate, N-
Examples include methylol acrylamide, polyoxyethylene glycol monomethacrylate, polyoxypropylene glycol monomethacrylate, and the like. Of these, hydroxyethyl methacrylate and hydroxypropyl methacrylate are preferred from the viewpoint of flexibility and strength, and hydroxypropyl methacrylate having excellent water resistance is most preferred.

【0013】イソシアネート基とエチレン性不飽和基を
同時に有する化合物としては例えば水酸基とエチレン性
不飽和基を同時に有する化合物にジイソシアネート化合
物を1対1で付加させることにより得られるものなどを
挙げることができる。以上のようにして得られる不飽和
ポリウレタンのポリスチレンを標準とするGPC測定に
よって求められる数平均分子量は800〜13000で
あることが望ましい。分子量が小さいほど得られる感光
性樹脂組成物の粘度は低くできるという利点を有するも
のの、分子量がこれより小さくなると硬化物の柔軟性が
失われ、基盤などとの密着性が損なわれることになるの
で好ましくない。
Examples of the compound having an isocyanate group and an ethylenically unsaturated group at the same time include those obtained by adding a diisocyanate compound to a compound having a hydroxyl group and an ethylenically unsaturated group at a ratio of 1: 1. . The unsaturated polyurethane obtained as described above preferably has a number average molecular weight of 800 to 13,000 determined by GPC measurement using polystyrene as a standard. Although the viscosity of the obtained photosensitive resin composition can be lowered as the molecular weight is smaller, the cured resin loses flexibility when the molecular weight is smaller than this, and the adhesion to a substrate or the like is impaired. Not preferred.

【0014】分子量が大きいと硬化物の柔軟性は確保し
やすいものの、これ以上大きいと得られる感光性樹脂組
成物の粘度が高くなり、凹凸部で気泡を巻き込み易くな
るなど電子回路へのコーティングがしにくくなる。基盤
などとの密着性を高めるために不飽和ポリウレタンにカ
ルボキシル基などの極性基を導入することは有効であ
る。不飽和ポリウレタンへのカルボキシル基の導入は、
両末端イソシアネート基のウレタンポリマーにした後、
水酸基2個とエチレン性不飽和結合を同時に有する化合
物を加えて、その内の一個の水酸基とイソシアネート基
を反応させて分子中に水酸基2個とエチレン性不飽和結
合2個を有する不飽和ポリウレタンとし、更に酸無水物
を加えて開環付加させることで、両末端にカルボキシル
基とエチレン性不飽和結合とを同時に持った不飽和ポリ
ウレタンとすることができる。
When the molecular weight is large, the flexibility of the cured product is easily secured, but when the molecular weight is larger than this, the viscosity of the obtained photosensitive resin composition becomes high, and the coating on the electronic circuit becomes easy, for example, air bubbles are easily entrained in the uneven portions. It becomes difficult to do. It is effective to introduce a polar group such as a carboxyl group into the unsaturated polyurethane in order to enhance the adhesion to a substrate or the like. Introduction of carboxyl groups into unsaturated polyurethane
After the urethane polymer of both terminal isocyanate groups,
A compound having two hydroxyl groups and an ethylenically unsaturated bond at the same time is added, and one of the hydroxyl groups is reacted with an isocyanate group to obtain an unsaturated polyurethane having two hydroxyl groups and two ethylenically unsaturated bonds in the molecule. Further, by addition of an acid anhydride and ring-opening addition, an unsaturated polyurethane having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated bond at both terminals simultaneously can be obtained.

【0015】ここで用いられる水酸基2個とエチレン性
不飽和結合を同時に有する化合物としては、グリシジル
メタクリレートやアクリレートに水を加えてエポキシ基
を開環させて得られる化合物など、一級と二級の水酸基
を持つものが使用される。一級水酸基と二級水酸基の反
応性の違いを利用して分子中の一つの水酸基のみがイソ
シアネート基と反応した両末端水酸基の不飽和ポリウレ
タンとすることができる。
Examples of the compound having two hydroxyl groups and an ethylenically unsaturated bond used herein include primary and secondary hydroxyl groups such as a compound obtained by adding water to glycidyl methacrylate or acrylate to open an epoxy group. Is used. By utilizing the difference in reactivity between the primary hydroxyl group and the secondary hydroxyl group, it is possible to obtain an unsaturated polyurethane having hydroxyl groups at both ends in which only one hydroxyl group in the molecule has reacted with an isocyanate group.

【0016】エチレン性不飽和結合を有する分子量80
0未満のエチレン性不飽和化合物としては、ヒドロキシ
エチルメタクリレート及びアクリレート、ヒドロキシプ
ロピルアクリレート及びメタクリレートなどのヒドロキ
シアルキルメタクリレートやアクリレート類、イソボル
ニルアクリレート及びメタクリレート、シクロヘキシル
メタクリレート及びアクリレート、ベンジルアクリレー
ト及びメタクリレート、フェニルアクリレート及びメタ
クリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート及
びジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタク
リレート及びジアクリレートなどのポリオキシエチレン
グリコールのジメタクリレートやジアクリレート、プロ
ピレングリコールジメタクリレート及びジアクリレー
ト、ジプロピレングリコールジメタクリレート及びジア
クリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレー
ト及びジアクリレート、ブタンジオールジメタクリレー
ト及びジアクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート及びジアクリレート、ノナンジオールジアクリレー
ト及びジメタクリレート、トリメチロールプロパントリ
メタクリレートやトリアクリレート、ビスフェノール骨
格を有するジメタクリレートやジアクリレート、N−メ
チロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、
N,N−ジメチルアクリルアミド、N−(2−メトキシ
エチル)アクリルアミド、N−メチロールメタクリルア
ミド、N,N−ジメチルメタクリルアミドなどのN置換
アクリルアミドやメタクリルアミド類などを例として挙
げることができる。
Molecular weight having an ethylenically unsaturated bond 80
Examples of the ethylenically unsaturated compound less than 0 include hydroxyethyl methacrylate and acrylate, hydroxyalkyl methacrylate and acrylates such as hydroxypropyl acrylate and methacrylate, isobornyl acrylate and methacrylate, cyclohexyl methacrylate and acrylate, benzyl acrylate and methacrylate, and phenyl acrylate. And dimethacrylates and diacrylates of polyoxyethylene glycol such as methacrylate, diethylene glycol dimethacrylate and diacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate and diacrylate, propylene glycol dimethacrylate and diacrylate, dipropylene glycol dimethacrylate and diacrylate, trip Pyrene glycol dimethacrylate and diacrylate, butanediol dimethacrylate and diacrylate, hexanediol dimethacrylate and diacrylate, nonanediol diacrylate and dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate and triacrylate, dimethacrylate and diacrylate having a bisphenol skeleton , N-methylol acrylamide, diacetone acrylamide,
Examples thereof include N-substituted acrylamides such as N, N-dimethylacrylamide, N- (2-methoxyethyl) acrylamide, N-methylol methacrylamide, and N, N-dimethylmethacrylamide, and methacrylamides.

【0017】これらの中で、電子回路機材との密着性を
高めるという観点ではヒドロキシアルキルメタクリレー
ト及びアクリレート類、イソボルニルアクリレート、シ
クロヘキシルアクリレート、ベンジルアクリレートなど
が適している。特にヒドロキシエチルメタクリレートや
アクリレート、イソボルニルアクリレートは効果が大き
い。ヒドロキシアルキルメタクリレートやアクリレート
類は吸湿性が高くなるので感光性樹脂組成物中に占める
割合が50%を越えないことが望ましい。ヒドロキシプ
ロピルメタクリレートやアクリレートはヒドロキシエチ
ルメタクリレートやアクリレートと比べて密着性を高め
る効果はやや小さいが吸湿性が低いという利点を有す
る。イソボルニルアクリレートは吸湿しにくく最も好適
である。
Of these, hydroxyalkyl methacrylates and acrylates, isobornyl acrylate, cyclohexyl acrylate, benzyl acrylate, and the like are suitable from the viewpoint of enhancing the adhesion to electronic circuit equipment. Particularly, hydroxyethyl methacrylate, acrylate, and isobornyl acrylate are effective. Hydroxyalkyl methacrylates and acrylates have high hygroscopicity, so that their proportion in the photosensitive resin composition preferably does not exceed 50%. Hydroxypropyl methacrylate and acrylate have an advantage that they have a slightly smaller effect of enhancing adhesion than hydroxyethyl methacrylate and acrylate, but have low hygroscopicity. Isobornyl acrylate is most suitable because it hardly absorbs moisture.

【0018】空気中露光での硬化性を高めるのにはアク
リレート類の使用が効果的である。特にジアクリレート
やトリアクリレートなどの多官能アクリレート類は効果
が大きい。通常、エチレン性不飽和結合を有する分子量
800未満のエチレン性不飽和化合物としてはこれらの
ものが組み合わせて用いられる。通常、分子内にエチレ
ン性不飽和結合を有するGPC測定に基づくポリスチレ
ン換算数平均分子量800〜13000の不飽和ポリウ
レタン100重量部に対して、エチレン性不飽和結合を
有する分子量800未満のエチレン性不飽和化合物は、
50〜500重量部、好ましくは50〜300重量部、
特に好ましくは50〜200重量部の範囲で用いられ
る。
The use of acrylates is effective for enhancing the curability upon exposure in air. In particular, polyfunctional acrylates such as diacrylate and triacrylate are highly effective. Usually, these compounds are used in combination as the ethylenically unsaturated compound having an ethylenically unsaturated bond and having a molecular weight of less than 800. Usually, based on GPC measurement having an ethylenically unsaturated bond in the molecule, 100 parts by weight of an unsaturated polyurethane having a number average molecular weight of 800 to 13,000 in terms of polystyrene, and ethylenically unsaturated having a molecular weight of less than 800 having an ethylenically unsaturated bond. The compound is
50 to 500 parts by weight, preferably 50 to 300 parts by weight,
Particularly preferably, it is used in the range of 50 to 200 parts by weight.

【0019】感光性樹脂組成物に使用される光重合開始
剤としては、300〜400nmの波長の紫外線を吸収
して重合を開始させる能力を持つもので、公知のものが
使用される。例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベン
ゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン−n−
ブチルエーテル、αーメチロールベンゾインメチルエー
テル、αーメトキシベンゾインメチルエーテル、αーエ
トキシベンゾインエチルエーテルなどのベンゾイン誘導
体や、ベンゾフェノン、1−ヒドロキシシクロへキシル
フェニルアセトフェノン、1−ベンジル−1−ジメチル
アミノプロピル−p−モルフォリノケトンなどを挙げる
ことができる。これらの中ではα−メトキシベンゾイン
メチルエーテルが硬化速度が大きく厚みの大きな塗膜ま
で硬化できるという点で好ましい。
As the photopolymerization initiator used in the photosensitive resin composition, those having a capability of absorbing ultraviolet rays having a wavelength of 300 to 400 nm and initiating polymerization, and known ones are used. For example, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin-n-
Benzoin derivatives such as butyl ether, α-methylol benzoin methyl ether, α-methoxybenzoin methyl ether, α-ethoxybenzoin ethyl ether, benzophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylacetophenone, 1-benzyl-1-dimethylaminopropyl-p -Morpholinoketone and the like. Among them, α-methoxybenzoin methyl ether is preferable because it can cure a coating film having a large curing rate and a large thickness.

【0020】光重合開始剤は単独でまたは組み合わせて
用いられるが、その配合量は重合開始有効量であれば良
いが、通常感光性樹脂組成物の全重量に対して0.1〜
10重量%の範囲で使用される。これより少ないと光重
合開始効率が悪くなり、逆に多すぎると硬化物の機械的
物性が低下するので好ましくない。また、空気中露光で
の硬化性に関しては添加量の多い方が有利である。好ま
しい範囲は1〜6重量%、特に好ましいのは3〜5重量
%である。
The photopolymerization initiator may be used alone or in combination. The amount of the photopolymerization initiator may be any amount as long as it is an effective amount for initiating polymerization, and is usually 0.1 to 0.1% based on the total weight of the photosensitive resin composition.
Used in the range of 10% by weight. If the amount is less than this, the photopolymerization initiation efficiency is deteriorated, and if it is too large, the mechanical properties of the cured product are deteriorated. Further, with respect to the curability in the exposure in the air, it is advantageous that the amount of addition is large. A preferred range is 1 to 6% by weight, particularly preferred is 3 to 5% by weight.

【0021】空気中露光での硬化性を高めるためにはこ
れらの光重合開始剤とアミノ基を有する化合物とを併用
することは効果的である。アミノ基を有する化合物とし
てはジメチルアミノベンゾフェノン、ジメチルアミノ安
息香酸イソアミルエステルなどを例として挙げることが
できるが、それ自身の紫外線吸収がさほど大きくなく、
厚みの大きな塗膜の硬化を妨げないジメチルアミノ安息
香酸イソアミルエステルが特に好適である。アミノ基を
有する化合物は、感光性樹脂組成物全重量に対し1〜1
0重量%、好ましくは3〜10重量%、特に好ましくは
5〜10重量%の範囲で使用される。アミノ基を有する
化合物としてアミノ基とエチレン性不飽和結合を同時に
有するジエチルアミノエチルメタクリレートなどを使用
することもできる。この場合の添加量は分子量800未
満のエチレン性不飽和化合物の添加量範囲内であれば差
し支えない。また、光重合開始剤としてベンゾフェノン
を併用することも効果的である。
It is effective to use these photopolymerization initiators in combination with a compound having an amino group in order to enhance the curability upon exposure in air. Examples of the compound having an amino group include dimethylaminobenzophenone, dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, and the like, but its own ultraviolet absorption is not so large,
Particularly preferred is dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, which does not hinder the curing of thick coatings. The compound having an amino group is present in an amount of 1 to 1 with respect to the total weight of the photosensitive resin composition.
It is used in the range of 0% by weight, preferably 3 to 10% by weight, particularly preferably 5 to 10% by weight. As the compound having an amino group, diethylaminoethyl methacrylate having an amino group and an ethylenically unsaturated bond at the same time can be used. In this case, the addition amount may be within the addition amount range of the ethylenically unsaturated compound having a molecular weight of less than 800. It is also effective to use benzophenone as a photopolymerization initiator.

【0022】この他に、感光性樹脂の製造時あるいは貯
蔵時の安定性を確保するために公知の熱重合禁止剤など
の安定剤を加えることができる。このような安定剤の例
としてはp−メトキシフェノール、2,6−ジ−t−ブ
チル−p−クレゾールなどを挙げることができる。ま
た、リチウムイオン二次電池に使用される電解液に対す
る耐性を更に高める上で、水酸基を有するフィラーを添
加することが効果的である。
In addition, a stabilizer such as a known thermal polymerization inhibitor can be added to secure the stability of the photosensitive resin during production or storage. Examples of such stabilizers include p-methoxyphenol, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, and the like. Further, in order to further increase the resistance to the electrolytic solution used in the lithium ion secondary battery, it is effective to add a filler having a hydroxyl group.

【0023】このようなフィラーとしてはシリカ類を例
としてあげることができる。フィラーの形状としては特
に限定はないが、表面に細孔を有する球状のものが入手
しやすく好ましい。平均粒径にも限定はないが、20μ
以下のもの特に12μ以下のものが感光性樹脂中で分離
沈降しにくいという点で好ましい。表面の細孔の大きさ
に特にも限定はないが、0.001〜0.03μ程度大
きさのものが使用される。また処理により表面の水酸基
を無くしたものは電解液耐性を高める効果はない。
Examples of such fillers include silicas. The shape of the filler is not particularly limited, but a spherical shape having pores on the surface is preferable because it is easily available. The average particle size is not limited, but is 20 μm.
The following ones, particularly those having a size of 12 μm or less, are preferred in that they are difficult to separate and settle in the photosensitive resin. The size of the pores on the surface is not particularly limited, but those having a size of about 0.001 to 0.03 μm are used. In addition, those in which the hydroxyl groups on the surface have been eliminated by the treatment have no effect of increasing the resistance to the electrolytic solution.

【0024】水酸基を有するフィラーは、感光性樹脂組
成物の全重量に対して2〜30重量%。好ましくは5〜
15重量%、特に好ましくは8〜12重量%の範囲で添
加される。多すぎると粘度が高くなりすぎコートしにく
くなるし、少ないと効果が得られない。水酸基を有する
フィラーは電解液に対する耐性を高める効果を有する
が、イオン性飲料水に対する耐性を損なわうこともない
ので、電池からの漏液及び使用中に時としておこる外部
からのイオン性飲料被液に対して、一つの樹脂をコート
するだけで対応できるという利点を有する。
The amount of the filler having a hydroxyl group is 2 to 30% by weight based on the total weight of the photosensitive resin composition. Preferably 5
It is added in an amount of 15% by weight, particularly preferably in the range of 8 to 12% by weight. If the amount is too large, the viscosity becomes too high, and it is difficult to coat, and if the amount is too small, the effect cannot be obtained. Although the filler having a hydroxyl group has an effect of increasing the resistance to the electrolytic solution, it does not impair the resistance to the ionic drinking water. Has the advantage that it can be dealt with only by coating one resin.

【0025】作業途中で生じた気泡が抜け易くするため
には、感光性樹脂組成物の粘度は20℃で300ポイズ
以下、好ましくは200ポイズ以下、特に好ましくは1
50ポイズ以下であることが望ましい。感光性樹脂組成
物の粘度は分子量800未満のエチレン性不飽和化合
物、特に液状エチレン性不飽和化合物の配合比率を高め
ることで下げることができる。液状エチレン性不飽和化
合物の中でも分子量の小さいものは特に粘度を下げる効
果が大きい。また液状の可塑剤類を密着性など他の特性
にさほど影響を及ぼさない範囲で添加することも粘度を
下げるのに有効である。
In order to make it easy for bubbles generated during the operation to escape, the viscosity of the photosensitive resin composition at 20 ° C. is 300 poise or less, preferably 200 poise or less, particularly preferably 1 poise or less.
Desirably, it is 50 poise or less. The viscosity of the photosensitive resin composition can be reduced by increasing the blending ratio of the ethylenically unsaturated compound having a molecular weight of less than 800, particularly the liquid ethylenically unsaturated compound. Among the liquid ethylenically unsaturated compounds, those having a small molecular weight are particularly effective in lowering the viscosity. It is also effective to reduce the viscosity by adding liquid plasticizers in a range that does not significantly affect other properties such as adhesion.

【0026】また、使用時に感光性樹脂組成物の温度を
高めることで粘度を下げることもできるが、温度によっ
ては変質することもあるのでこのようなことが起こらな
い温度範囲で使用する必要がある。組成物を硬化させる
のに用いる光源は300〜400nmの波長の紫外線を
発するものであれば良く、紫外線蛍光灯、高圧水銀灯、
メタルハライドランプ、キセノンランプなど、感光性樹
脂を硬化させるのに通常用いられているものを使用する
ことができる。
The viscosity can be lowered by raising the temperature of the photosensitive resin composition at the time of use, but the temperature may be deteriorated depending on the temperature. . The light source used to cure the composition may emit ultraviolet light having a wavelength of 300 to 400 nm, and may be an ultraviolet fluorescent lamp, a high-pressure mercury lamp,
A metal halide lamp, a xenon lamp, or the like commonly used for curing a photosensitive resin can be used.

【0027】また、感光性樹脂組成物を空気中で硬化さ
せる場合は、表面層の硬化が空気中の酸素により阻害さ
れるのを防ぐために300nm未満の波長の紫外線を合
わせて照射することが効果的である。高圧水銀灯やメタ
ルハライドランプのように300nm未満の波長の紫外
線を同時に発する光源を用いる場合はフィルター類を通
さないことで目的とする効果が得られる。紫外線蛍光灯
のように300nm以上の波長の紫外線のみを発する光
源を用いる場合は、殺菌灯のように254nmに中心波
長を有する光源を併用することで空気中硬化性を高める
ことができる。この場合、均一な硬化表面を得るために
は300nm以上の波長の紫外線を300nm未満の波
長の紫外線照射よりも前または同時に照射することが望
ましい。電子回路への感光性樹脂の被覆は、電子回路を
感光性樹脂組成物に浸積処理することや、はけなどを用
いての塗布やディスペンサーを用いての機械的塗布、あ
るいは電子回路を型枠の中におき感光性樹脂を流し込ん
で埋設する方法など公知の方法で行うことができる。
When the photosensitive resin composition is cured in air, it is effective to irradiate ultraviolet rays having a wavelength of less than 300 nm together to prevent the curing of the surface layer from being inhibited by oxygen in the air. It is a target. When a light source that simultaneously emits ultraviolet light having a wavelength of less than 300 nm, such as a high-pressure mercury lamp or a metal halide lamp, is used, the desired effect can be obtained by not passing through a filter. When a light source that emits only ultraviolet light having a wavelength of 300 nm or more, such as an ultraviolet fluorescent lamp, is used together with a light source having a center wavelength of 254 nm, such as a germicidal lamp, the curability in the air can be enhanced. In this case, in order to obtain a uniform cured surface, it is desirable to irradiate ultraviolet rays having a wavelength of 300 nm or more before or simultaneously with irradiation of ultraviolet rays having a wavelength of less than 300 nm. The coating of the electronic circuit with the photosensitive resin can be performed by immersing the electronic circuit in the photosensitive resin composition, coating with a brush or the like, mechanically coating with a dispenser, or molding the electronic circuit. It can be performed by a known method such as a method in which the photosensitive resin is poured into the frame and embedded.

【0028】本発明で言う電子回路とはLSI、トラン
ジスター、コンデンサー、FET、電圧検出素子、ヒュ
ーズ、サーミスター、抵抗素子などの素子が少なくとも
一つが組み込まれた電子回路であり、ガラスエポキシ樹
脂基板、紙フェノール樹脂基板、アルミナ基板などの基
板上に実装されたものも含む。特に本発明の感光性樹脂
組成物の硬化皮膜を形成させた場合には電圧検出素子、
FETなどの環境に敏感な素子を含む電子回路に対して
顕著な効果が見いだされる。
The electronic circuit referred to in the present invention is an electronic circuit in which at least one element such as an LSI, a transistor, a capacitor, an FET, a voltage detecting element, a fuse, a thermistor, and a resistance element is incorporated. Also includes those mounted on substrates such as paper phenolic resin substrates and alumina substrates. Particularly when a cured film of the photosensitive resin composition of the present invention is formed, a voltage detecting element,
Significant effects are found for electronic circuits including environmentally sensitive elements such as FETs.

【0029】更に本発明によれば、本発明の感光性樹脂
組成物の硬化皮膜が形成された電子回路が接続された電
池において優れた効果が発揮される。すなわち、本発明
の感光性樹脂組成物の硬化皮膜が形成された電子回路と
ニッカド電池、ニッケル水素電池などのアルカリ二次電
池やリチウムイオン二次電池などとが接続された場合に
は、たとえ電解液が漏れ電子回路に接触した場合でも強
い耐性を示し電圧検出異常、スイッチング機能異常など
のトラブルが避けられる。特にかかる電池と接続された
電子回路は充電制御、過充電防止制御、過放電防止制御
などの重要な機能を果たしているケースが多く、本発明
の感光性樹脂組成物硬化皮膜で覆うことで安全性の観点
からも大きな効果が得られる。
Further, according to the present invention, excellent effects are exhibited in a battery connected to an electronic circuit on which a cured film of the photosensitive resin composition of the present invention is formed. That is, when an electronic circuit on which a cured film of the photosensitive resin composition of the present invention is formed is connected to a nickel-cadmium battery, an alkaline secondary battery such as a nickel metal hydride battery, a lithium ion secondary battery, Even if the liquid comes into contact with the leaking electronic circuit, it has a strong resistance, and troubles such as abnormal voltage detection and abnormal switching function can be avoided. In particular, electronic circuits connected to such batteries often perform important functions such as charge control, overcharge prevention control, overdischarge prevention control, and the like. A great effect can be obtained from the viewpoint of.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下実施例により本発明を更に詳
しく説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.

【実施例】(実施例1)水酸基価より求めた平均分子量
2500のポリプロピレングリコールアジペートジオー
ル300g、同じく平均分子量2500のポリエチレン
グリコール・ポリプロピレングリコール・ポリエチレン
グリコールブロック共重合体ジオール(ポリプロピレン
グリコール含量60重量%)300g、トリレンジイソ
シアネート84gを反応させて両末端にイソシアネート
を導入した。次いでグリセリンモノメタクリート38g
を反応させて両末端に水酸基とメタクリレート基を有す
るポリマーとし、更に無水コハク酸24gを加えて開環
付加反応をさせることで両末端にメタクリレート基とカ
ルボキシル基を有する不飽和ポリウレタン(A)を得
た。
(Example 1) 300 g of polypropylene glycol adipate diol having an average molecular weight of 2500 determined from the hydroxyl value and polyethylene glycol / polypropylene glycol / polyethylene glycol block copolymer diol having an average molecular weight of 2,500 (polypropylene glycol content: 60% by weight) 300 g and 84 g of tolylene diisocyanate were reacted to introduce isocyanates at both ends. Then 38 g of glycerin monomethacrylate
To give a polymer having hydroxyl groups and methacrylate groups at both ends, and further add 24 g of succinic anhydride to carry out a ring-opening addition reaction to obtain an unsaturated polyurethane (A) having methacrylate groups and carboxyl groups at both ends. Was.

【0031】上記不飽和ポリウレタン(A)100g、
ヒドロキシエチルメタクリレート30g、テトラエチレ
ングリコールジアクリレート22g、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート11g、α−メトキシベンゾイン
メチルエーテル6g、ベンゾフェノン1.5g、p−ジ
メチルアミノ安息香酸イソアミルエステル15g、2,
6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.2gを混合し
て20℃での粘度が60ポイズの感光性樹脂組成物を得
た。感光性樹脂組成物(A)の中にリード線のついたリ
チウムイオン二次電池用保護回路基盤を浸積したのち引
き上げることで塗布を行い、3KW高圧水銀灯からの紫
外線を片面900mJ/cm2 ずつ両面に照射しところ
粘着性の無い硬化皮膜が得られた。
100 g of the above unsaturated polyurethane (A),
Hydroxyethyl methacrylate 30 g, tetraethylene glycol diacrylate 22 g, pentaerythritol triacrylate 11 g, α-methoxybenzoin methyl ether 6 g, benzophenone 1.5 g, p-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester 15 g, 2,
0.2 g of 6-di-t-butyl-p-cresol was mixed to obtain a photosensitive resin composition having a viscosity of 60 poise at 20 ° C. A protective circuit board for a lithium ion secondary battery with a lead wire is immersed in the photosensitive resin composition (A), and then applied by pulling up and applying ultraviolet rays from a 3 KW high-pressure mercury lamp at 900 mJ / cm 2 on each side. Irradiation on both sides resulted in a cured film without tackiness.

【0032】リード線を電圧計及びリチウムイオン電池
と接続して回路を形成した後、保護回路基盤をイオン性
飲料水であるポカリスエット(商品名、大塚製薬株式会
社製)に一時間浸積し、浸積前後の電圧変化を測定した
が、いずれも4.2Vで変化は見られなかった。 (比較例1)感光性樹脂組成物による処理を行わない他
は同じリード線つきリチウムイオン二次電池用保護回路
基盤を用いて実施例1と同じポカリスエット浸積試験を
行ったところ、浸積前4.2Vであった電圧が浸積10
秒後には1.7Vに低下した。 (実施例2〜4)不飽和ポリウレタン(A)を用い、エ
チレン性不飽和化合物などの配合を種々変えた感光性樹
脂組成物を用いて紫外線照射量を変える他は実施例1と
同様にしてリード線のついたリチウムイオン二次電池用
保護回路基盤への処理とポカリスエット浸積試験を行っ
た。組成を表1に、試験結果を表2に示す。
After connecting the lead wire to a voltmeter and a lithium ion battery to form a circuit, the protection circuit board was immersed in ionic drinking water, Pocari Sweat (trade name, manufactured by Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd.) for one hour. The voltage change before and after the immersion was measured, but no change was observed at 4.2 V in any case. (Comparative Example 1) The same Pocari Sweat immersion test as in Example 1 was performed using the same protective circuit board for a lithium ion secondary battery with lead wires except that the treatment with the photosensitive resin composition was not performed. The voltage which was 4.2 V is immersion 10
After 2 seconds, the voltage dropped to 1.7V. (Examples 2 to 4) In the same manner as in Example 1 except that the amount of ultraviolet irradiation was changed using a photosensitive resin composition obtained by using an unsaturated polyurethane (A) and variously changing the composition of an ethylenically unsaturated compound and the like. The treatment to the protection circuit board for the lithium ion secondary battery with the lead wire and the Pocari Sweat immersion test were performed. The composition is shown in Table 1 and the test results are shown in Table 2.

【0033】[0033]

【表1】 [Table 1]

【0034】[0034]

【表2】 [Table 2]

【0035】(実施例5)水酸基価より求めた平均分子
量500のポリカプロラクトンジオール680g、同じ
く平均分子量950のポリプロピレングリコール450
g、トリレンジイソシアネート371g、を反応させて
両末端にイソシアネート基を有するポリウレタンを得
た。更に2−ヒドロキシプロピルメタクリレート345
gを加えて反応させ、ウレタン結合で鎖延長されたGP
C測定によるポリスチレン換算数平均分子量5800の
不飽和ポリウレタン(B)を得た。上記不飽和ポリウレ
タン(B)(希釈モノマーとしての過剰の2−ヒドロキ
シプロピルメタクリレート16gを含む)116g、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート100g、イソボ
ルニルアクリレート100g、テトラエチレングリコー
ルジアクリレート150g、ジエチルアミノエチルメタ
クリレート50g、α−メトキシベンゾインメチルエー
テル20g、ベンゾフェノン5g、2,6−ジ−t−ブ
チル−p−クレゾール0.5gを混合して20℃におけ
る粘度が2ポイズの感光性樹脂組成物を得た。
Example 5 680 g of polycaprolactone diol having an average molecular weight of 500 determined from the hydroxyl value, and polypropylene glycol 450 having an average molecular weight of 950
g and tolylene diisocyanate (371 g) were reacted to obtain a polyurethane having isocyanate groups at both ends. Further, 2-hydroxypropyl methacrylate 345
g, and the reaction is carried out.
As a result, an unsaturated polyurethane (B) having a number average molecular weight of 5,800 in terms of polystyrene measured by C was obtained. 116 g of the above unsaturated polyurethane (B) (containing 16 g of excess 2-hydroxypropyl methacrylate as a diluent monomer), 100 g of pentaerythritol triacrylate, 100 g of isobornyl acrylate, 150 g of tetraethylene glycol diacrylate, 50 g of diethylaminoethyl methacrylate, α 20 g of -methoxybenzoin methyl ether, 5 g of benzophenone and 0.5 g of 2,6-di-t-butyl-p-cresol were mixed to obtain a photosensitive resin composition having a viscosity of 2 poise at 20 ° C.

【0036】この感光性樹脂組成物にリード線つきリチ
ウムイオン二次電池用保護回路基盤を浸積したのち引き
上げ、370nmに中心波長を有する40W紫外線蛍光
灯からの4mW/cm2 の強さの紫外線と254nmに
中心波長を有する20W殺菌灯からの2mW/cm2
強さの紫外線をこれらのランプを交互に並べることで同
時に照射することを可能とした露光機を用いて保護回路
基盤の片面から1分、次いで反対の側から1分の照射を
行うことで保護回路基盤の上に粘着性のない硬化皮膜が
得られた。皮膜はしっかりと基盤に密着していた。
A protective circuit board for a lithium ion secondary battery with a lead wire is immersed in the photosensitive resin composition and then pulled up, and ultraviolet rays having a intensity of 4 mW / cm 2 from a 40 W ultraviolet fluorescent lamp having a central wavelength of 370 nm. And 2 mW / cm 2 of ultraviolet light from a 20 W germicidal lamp having a center wavelength of 254 nm, by arranging these lamps alternately and simultaneously irradiating them from one side of the protection circuit board. Irradiation for 1 minute and then for 1 minute from the opposite side resulted in a tack-free cured film on the protection circuit board. The film adhered firmly to the substrate.

【0037】この保護回路基盤をリチウムイオン電池、
電圧計と回路を形成した後、リチウムイオン電池用電解
液の中に1時間浸積し、浸積前後の電圧変化を調べた。
浸積前4.2Vであった電圧は浸積後でも4.2Vを維
持しており、電池から電解液の漏液があっても保護回路
基盤を保護しその機能を維持するのに十分な保護コート
材であることが確認できた。 (実施例6及び比較例2)水酸基価より求めた平均分子
量510のポリ1,4−ブチレングリコールアジペート
ジオール300g、同じく平均分子量960のポリプロ
ピレングリコール52.5g、トリレンジイソシアネー
ト173gを反応させて両末端にイソシアネート基を有
するポリマーを得た。次いで2−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート303gを加えてポリマーのイソシアネー
ト基と反応させ、両末端にメタクリレート基を有するG
PC特定で求めたポリスチレン換算数平均分子量230
0の不飽和ポリウレタン(C)を得た。
The protection circuit base is a lithium ion battery,
After forming a voltmeter and a circuit, the circuit was immersed in an electrolyte for a lithium ion battery for 1 hour, and a voltage change before and after the immersion was examined.
The voltage, which was 4.2 V before immersion, is maintained at 4.2 V even after immersion, and is sufficient to protect the protection circuit board and maintain its function even if the electrolyte leaks from the battery. It was confirmed that the material was a protective coating material. (Example 6 and Comparative Example 2) 300 g of poly-1,4-butylene glycol adipate diol having an average molecular weight of 510 determined from the hydroxyl value, 52.5 g of polypropylene glycol having an average molecular weight of 960, and 173 g of tolylene diisocyanate were reacted at both ends. A polymer having an isocyanate group was obtained. Next, 303 g of 2-hydroxypropyl methacrylate was added to react with the isocyanate group of the polymer, and G having methacrylate groups at both ends was added.
Polystyrene-equivalent number average molecular weight 230 determined by PC specification
0 unsaturated polyurethane (C) was obtained.

【0038】この不飽和ポリウレタン(C)(希釈モノ
マーとしての過剰の2−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ート24gを含む)124g、2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート62.5g、ペンタエリスリトールトリア
クリレート12.5g、水酸基価より求まる平均分子量
400のポリエチレングリコールのジアクリレート50
g、α−メトキシベンゾインメチルエーテル10g、ベ
ンゾフェノン2g、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレ
ゾール0.3gを混合して感光性樹脂組成物を得た。
124 g of this unsaturated polyurethane (C) (including 24 g of excess 2-hydroxypropyl methacrylate as a diluent monomer), 62.5 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 12.5 g of pentaerythritol triacrylate, and the average determined from the hydroxyl value Diacrylate 50 of polyethylene glycol having a molecular weight of 400
g, 10 g of α-methoxybenzoin methyl ether, 2 g of benzophenone, and 0.3 g of 2,6-di-t-butyl-p-cresol were mixed to obtain a photosensitive resin composition.

【0039】実施例5と同様にしてリード線つきリチウ
ムイオン電池用保護回路基盤に塗布硬化させ、電解液へ
の浸積試験を行ったところ、浸積6時間後でも浸積前と
同じ4.2Vの電圧であり電解液に対する耐性を有する
ことが確認できた。比較のために感光性樹脂による被覆
を行わない保護回路基盤を用いて電解液への浸積テスト
を行ったところ浸積直後から1.2V程度への電圧低下
が起こった。
A protective circuit board for a lithium ion battery with a lead wire was applied and cured in the same manner as in Example 5, and an immersion test in an electrolytic solution was performed. It was confirmed that the voltage was 2 V and the electrolyte had resistance. For comparison, an immersion test in an electrolytic solution was performed using a protection circuit board not covered with a photosensitive resin, and a voltage drop to about 1.2 V occurred immediately after the immersion.

【0040】(実施例7)実施例6の感光性樹脂100
gに水酸基を有するコールターカウンター法による平均
粒子径12μ、平均細孔径0.017μのシリカ(富士
シリシア化学株式会社製、商品名サイシリア470)1
0gを添加混合し感光性樹脂組成物を得た。実施例5と
同様にしてリード線つきリチウムイオン電池用保護回路
基盤に塗布硬化させたところ粘着性の無い硬化被膜が得
られた。次いでエチレンカーボネート/六フッ化リン酸
リチウムよりなる電解液への浸積試験を行った。6日後
でも浸積前と同じ4.2Vの電圧を示し、電解液への高
耐性が確認された。実施例6の感光性樹脂を用いた場合
は6時間浸積では電圧低下はなかったが、24時間浸積
で電圧低下を起こした。 (実施例8〜10及び比較例3)実施例7の感光性樹脂
組成物に使用されているシリカを種々の特性のものに代
えた感光性樹脂組成物を作成し実施例7と同様にして耐
電解液性を調べた。
(Embodiment 7) The photosensitive resin 100 of Embodiment 6
Silica (trade name Cycilia 470, manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd.) 1 having an average particle diameter of 12 μm and an average pore diameter of 0.017 μm by a Coulter counter method having a hydroxyl group in g
0 g was added and mixed to obtain a photosensitive resin composition. When the composition was applied and cured on a protective circuit board for a lithium ion battery with lead wires in the same manner as in Example 5, a cured film having no tackiness was obtained. Next, an immersion test in an electrolytic solution composed of ethylene carbonate / lithium hexafluorophosphate was performed. Even after 6 days, the same voltage of 4.2 V as before the immersion was exhibited, and high resistance to the electrolytic solution was confirmed. When the photosensitive resin of Example 6 was used, the voltage did not decrease after immersion for 6 hours, but the voltage decreased after immersion for 24 hours. (Examples 8 to 10 and Comparative Example 3) A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 7 except that the silica used in the photosensitive resin composition of Example 7 was replaced with one having various characteristics. The electrolyte resistance was examined.

【0041】[0041]

【表3】 注1:サイシリア350,770,1510,6020
はいずれも富士シリシア化学株式会社製シリカの商品名 実施例8,9,10の感光性樹脂組成物をコートした保
護回路はいずれも6日間の浸積で電圧低下を起こさなか
ったが、実施例11の感光性樹脂をコートしたものはブ
ランクとなる実施例6の感光性樹脂をコーとしたものと
同じで6時間浸積では電圧低下を示さないものの、24
時間浸積では電圧低下した。このことか処理により水酸
基を無くしたシリカは悪影響は及ぼさないものの耐電解
液性を高める効果は有さないことが分かった。
[Table 3] Note 1: Psychia 350, 770, 1510, 6020
Are the trade names of silica manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd. The protective circuits coated with the photosensitive resin compositions of Examples 8, 9, and 10 did not cause a voltage drop due to immersion for 6 days. The coating of the photosensitive resin of No. 11 is the same as that of the coating of the photosensitive resin of Example 6 which is used as a blank.
The voltage dropped during time immersion. For this reason, it was found that silica having no hydroxyl group by treatment had no adverse effect, but had no effect of improving the resistance to electrolytic solution.

【0042】[0042]

【発明の効果】電子回路を本発明の感光性樹脂組成物で
被覆硬化させることで、漏液した電解液や、使用者がこ
ぼした水、イオン性飲料水などに触れても、電子回路の
機能に異常を起こさないようにできる。
The electronic circuit is coated with the photosensitive resin composition of the present invention and cured, so that even if the electronic circuit comes into contact with a leaked electrolytic solution, spilled water, ionic drinking water, or the like, the electronic circuit can be used. Function can be prevented from being abnormal.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 分子内にエチレン性不飽和結合を有す
る、GPC測定に基づくポリスチレン換算数平均分子量
800〜13000の不飽和ポリウレタン、エチレン
性不飽和結合を有する分子量800未満のエチレン性不
飽和化合物、及び光重合開始剤とを必須成分としてな
ることを特徴とする、電子回路被覆用感光性樹脂組成
物。
1. An unsaturated polyurethane having an ethylenically unsaturated bond in the molecule and having a number average molecular weight in terms of polystyrene of from 800 to 13,000 based on GPC measurement, an ethylenically unsaturated compound having a molecular weight of less than 800 and having an ethylenically unsaturated bond, And a photopolymerization initiator as an essential component. A photosensitive resin composition for coating an electronic circuit.
【請求項2】 前記〜の成分に加えて、更に水酸基
を有するフィラーを含有することを特徴とする請求項1
記載の電子回路被覆用感光性樹脂組成物。
2. The composition according to claim 1, further comprising a filler having a hydroxyl group in addition to the above components.
The photosensitive resin composition for coating an electronic circuit according to the above.
JP11069785A 1998-09-29 1999-03-16 Photosensitive resin composition for coating electronic circuit Pending JP2000169752A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11069785A JP2000169752A (en) 1998-09-29 1999-03-16 Photosensitive resin composition for coating electronic circuit

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10-290081 1998-09-29
JP29008198 1998-09-29
JP11069785A JP2000169752A (en) 1998-09-29 1999-03-16 Photosensitive resin composition for coating electronic circuit

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000169752A true JP2000169752A (en) 2000-06-20

Family

ID=26410950

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11069785A Pending JP2000169752A (en) 1998-09-29 1999-03-16 Photosensitive resin composition for coating electronic circuit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000169752A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008101106A (en) * 2006-10-19 2008-05-01 Denki Kagaku Kogyo Kk Curable composition
JP2013159738A (en) * 2012-02-07 2013-08-19 Negami Kogyo Kk Active energy ray-curable resin composition
WO2016121290A1 (en) * 2014-08-05 2016-08-04 古河電気工業株式会社 Electronic-device-sealing curable hygroscopic resin composition, sealing resin, and electronic device

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008101106A (en) * 2006-10-19 2008-05-01 Denki Kagaku Kogyo Kk Curable composition
JP2013159738A (en) * 2012-02-07 2013-08-19 Negami Kogyo Kk Active energy ray-curable resin composition
WO2016121290A1 (en) * 2014-08-05 2016-08-04 古河電気工業株式会社 Electronic-device-sealing curable hygroscopic resin composition, sealing resin, and electronic device
KR20170041830A (en) * 2014-08-05 2017-04-17 후루카와 덴키 고교 가부시키가이샤 Electronic-device-sealing curable hygroscopic resin composition, sealing resin, and electronic device
CN106687488A (en) * 2014-08-05 2017-05-17 古河电气工业株式会社 Electronic-device-sealing curable hygroscopic resin composition, sealing resin, and electronic device
TWI593737B (en) * 2014-08-05 2017-08-01 Furukawa Electric Co Ltd Curable hygroscopic resin composition for sealing electronic device, sealing resin and electronic device
US20170327608A1 (en) * 2014-08-05 2017-11-16 Furukawa Electric Co., Ltd. Curable and hygroscopic resin composition for sealing electronic devices, sealing resin, and electronic device
KR101886588B1 (en) 2014-08-05 2018-08-07 후루카와 덴키 고교 가부시키가이샤 Electronic-device-sealing curable hygroscopic resin composition, sealing resin, and electronic device
US10556974B2 (en) 2014-08-05 2020-02-11 Furukawa Electric Co., Ltd. Curable and hygroscopic resin composition for sealing electronic devices, sealing resin, and electronic device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011013622A (en) Alkali developable photosensitive resin composition and photosensitive film using the same
JP4509561B2 (en) Thermosetting resin composition
JPS6142954B2 (en)
JP2016149388A (en) Circuit board with electromagnetic wave shield film, and production method of the same
KR102260532B1 (en) Cured body, electronic component, display element, and light-/moisture-curable resin composition
JP5641293B2 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive film, permanent resist
JP2017161859A (en) Alkali-developable solder resist ink and printed wiring board processing method thereof and wiring board thereof
JP6204518B2 (en) Photosensitive resin composition, dry film, and printed wiring board
JP2016074891A (en) Photo-and moisture-curable resin composition, electronic component adhesive, and display element adhesive
KR20190035597A (en) Adhesive compositions, cured products, electronic parts and assemblies
JP2000169752A (en) Photosensitive resin composition for coating electronic circuit
JP6478351B2 (en) Photosensitive resin composition, dry film, printed wiring board, and method for producing printed wiring board
US20230110416A1 (en) Negative photosensitive resin composition and method for manufacturing cured relief pattern
WO2019073978A1 (en) Bonding method, and photocurable adhesive composition
WO2016163353A1 (en) Photo/moisture curable resin composition, adhesive for electronic components, and adhesive for display elements
JP2017021113A (en) Photosensitive resin composition, production method of cured relief pattern, and semiconductor device
JPH04225009A (en) Photosensitive substance in gel form and molding made therefrom
JP5804336B2 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive film, permanent resist
JPH08134376A (en) Photosetting moistureproof insulation coating and production of moistureproof insulated electronic part
TW201905016A (en) Polymerizable resin composition and cured product thereof capable of materializing a cured product that has an excellent adhesion to a metal and exhibits an excellent heat and humidity resistance
TWI755698B (en) Composition for adhesive agent, exterior material for electrical storage device, and method for producing the same
JPH07286117A (en) Photo-setting moistureproof insulating coating and production of moistureproof insulated electronic part
JPWO2017094831A1 (en) Light moisture curable resin composition, adhesive for electronic parts, and adhesive for display elements
KR20130056475A (en) Photosensitive resin composition having improved elasticity and impact resistance, composition for solder resist and photosensitive dry film
WO2020145328A1 (en) Curable composition

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20031203

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040218