JP2000169441A - 新規2,3―ジフェニル―6,6―ジシアノペンタフルベン誘導体、その製造方法、およびその化合物の2量体からなるフォトクロミック材料 - Google Patents
新規2,3―ジフェニル―6,6―ジシアノペンタフルベン誘導体、その製造方法、およびその化合物の2量体からなるフォトクロミック材料Info
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- JP2000169441A JP2000169441A JP10377786A JP37778698A JP2000169441A JP 2000169441 A JP2000169441 A JP 2000169441A JP 10377786 A JP10377786 A JP 10377786A JP 37778698 A JP37778698 A JP 37778698A JP 2000169441 A JP2000169441 A JP 2000169441A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 新しい骨格のフォトクロミック材料を開発
する。 【解決手段】 6−位に電子吸引基を有するペンタフ
ルベンが2量体となることを利用し、その2量体への光
照射によって、分子内光付加環化反応の生成物に変換
し、さらに別の種類の光によって元の2量体に戻すこと
で、新しいフォトクロミック材料とする。
する。 【解決手段】 6−位に電子吸引基を有するペンタフ
ルベンが2量体となることを利用し、その2量体への光
照射によって、分子内光付加環化反応の生成物に変換
し、さらに別の種類の光によって元の2量体に戻すこと
で、新しいフォトクロミック材料とする。
Description
【0001】本発明は、2,3−ジフェニル−6,6−
ジシアノペンタフルベン2量体を基本骨格とするフォト
クロミック化合物に関するものである。
ジシアノペンタフルベン2量体を基本骨格とするフォト
クロミック化合物に関するものである。
【0002】これまでのペンタフルベン誘導体は、その
6−位に電子供与性の置換基を有するものが、数多く合
成されてきた。しかし、6−位に電子吸引基を有する誘
導体の合成は困難であるとされ、数例しか報告されてい
ない。また、その6−位に電子吸引基を有する誘導体の
光反応に関しては、全く知られていない。本発明の目的
は、この6−位に電子吸引基であるシアノ基を導入した
新規なペンタフルベン誘導体の合成と、その化合物の光
反応による新しいフォトクロミック材料の開発である。
6−位に電子供与性の置換基を有するものが、数多く合
成されてきた。しかし、6−位に電子吸引基を有する誘
導体の合成は困難であるとされ、数例しか報告されてい
ない。また、その6−位に電子吸引基を有する誘導体の
光反応に関しては、全く知られていない。本発明の目的
は、この6−位に電子吸引基であるシアノ基を導入した
新規なペンタフルベン誘導体の合成と、その化合物の光
反応による新しいフォトクロミック材料の開発である。
【0003】ベンジルとアセトンの脱水縮合反応によっ
て生成する脱水アセトンベンジル(化2)を、マロンニ
トリルと縮合反応せしめ化合物(化3)とし、さらに硫
酸を触媒とした脱水反応により、6−位に電子吸引基で
あるシアノ基を有するペンタフルベン誘導体を合成す
る。得られた2,3−ジフェニル−6,6−ジシアノペ
ンタフルベン誘導体(化1)は、常温では2量体(化
4)を形成している。
て生成する脱水アセトンベンジル(化2)を、マロンニ
トリルと縮合反応せしめ化合物(化3)とし、さらに硫
酸を触媒とした脱水反応により、6−位に電子吸引基で
あるシアノ基を有するペンタフルベン誘導体を合成す
る。得られた2,3−ジフェニル−6,6−ジシアノペ
ンタフルベン誘導体(化1)は、常温では2量体(化
4)を形成している。
【0004】
【化2】
【0005】
【化3】
【0006】
【化1】
【0007】
【化4】
【0008】この2量体(化4)は、太陽光や紫外線を
照射することにより、分子内光付加環化反応の生成物
(化5)に変化する。さらに、この分子内光付加環化反
応の生成物は、紫外線の照射により、環開裂反応をして
元の2量体(化4)に戻るというフォトクロミック現象
を示す。
照射することにより、分子内光付加環化反応の生成物
(化5)に変化する。さらに、この分子内光付加環化反
応の生成物は、紫外線の照射により、環開裂反応をして
元の2量体(化4)に戻るというフォトクロミック現象
を示す。
【0009】
【化5】
【0010】
【実施例1】脱水アセトンベンジル4.80gを500
mlのフラスコに入れ、無水ベンゼン300mlを仕込
み、これにマロンニトリル3.0gを添加し、酢酸10
mlと酢酸アンモニウム1.0gとピペリジン2mlを
加え、撹拌しながら100℃に加熱し、24時間縮合反
応を行なう。このベンゼン溶液を水洗し、硫酸ナトリウ
ムで乾燥した後、溶媒のベンゼンを留去し、その残留物
は酢酸100mlに溶解し、攪拌しながら100℃に加
熱し、これに硫酸11mlを添加する。10分間脱水反
応を行ない、2,3−ジフェニル−6,6−ジシアノペ
ンタフルベンの2量体(化6)3.72gを得る。
mlのフラスコに入れ、無水ベンゼン300mlを仕込
み、これにマロンニトリル3.0gを添加し、酢酸10
mlと酢酸アンモニウム1.0gとピペリジン2mlを
加え、撹拌しながら100℃に加熱し、24時間縮合反
応を行なう。このベンゼン溶液を水洗し、硫酸ナトリウ
ムで乾燥した後、溶媒のベンゼンを留去し、その残留物
は酢酸100mlに溶解し、攪拌しながら100℃に加
熱し、これに硫酸11mlを添加する。10分間脱水反
応を行ない、2,3−ジフェニル−6,6−ジシアノペ
ンタフルベンの2量体(化6)3.72gを得る。
【0011】
【化6】
【0012】2,3−ジフェニル−6,6−ジシアノペ
ンタフルベンの2量体(化6)の化合物データ 融点214−216℃(dec) 赤外吸収スペクトル(KBr)3050,2220,1
650,1567,1543,1498,1490,1
445,1342,1275,1190,1027,7
70,751,735,693cm−1 1 H−NMRスペクトル(200MHz,CDCl3)
3.97(1H,d,J=4.7Hz),4.61(1
H,dd,J=4.7,1.6Hz),4.94(1
H,d,J=1.6Hz),6.8−7.6(21H,
m)ppm13 C−NMRスペクトル(50MHz,CDCl3)
53.53,56.59,60.22,67.06,7
2.39,110.48,111.71,112.3
3,113.25,125.81,128.45,12
8.58,128.70,129.08,129.1
8,129.42,129.54,129.60,12
9.94,130.59,130.89,131.8
3,132.47,132.63,133.02,13
9.39,140.13,140.46,168.9
8,177.30,184.94ppm
ンタフルベンの2量体(化6)の化合物データ 融点214−216℃(dec) 赤外吸収スペクトル(KBr)3050,2220,1
650,1567,1543,1498,1490,1
445,1342,1275,1190,1027,7
70,751,735,693cm−1 1 H−NMRスペクトル(200MHz,CDCl3)
3.97(1H,d,J=4.7Hz),4.61(1
H,dd,J=4.7,1.6Hz),4.94(1
H,d,J=1.6Hz),6.8−7.6(21H,
m)ppm13 C−NMRスペクトル(50MHz,CDCl3)
53.53,56.59,60.22,67.06,7
2.39,110.48,111.71,112.3
3,113.25,125.81,128.45,12
8.58,128.70,129.08,129.1
8,129.42,129.54,129.60,12
9.94,130.59,130.89,131.8
3,132.47,132.63,133.02,13
9.39,140.13,140.46,168.9
8,177.30,184.94ppm
【0013】
【実施例2】脱水アセトンメチルベンジル2.0gを5
00mlのフラスコに入れ、無水ベンゼン200mlを
仕込み、これにマロンニトリル2.0gを添加し、酢酸
4mlと酢酸アンモニウム1.0gとピペリジン4ml
を加え、攪拌しながら100℃に加熱し、2時間縮合反
応を行なう。このベンゼン溶液を水洗し、硫酸ナトリウ
ムで乾燥した後、溶媒のベンゼンを留去し、その残留物
はベンゼンから再結晶化して黄色固体1.8gを得る。
この固体1.0gを、酢酸30mlに溶解し、攪拌しな
がら100℃に加熱し、これに硫酸0.2mlを添加す
る。10分間脱水反応を行ない、2,3−ビス(4’−
メチルフェニル)−6,6−ジシアノペンタフルベンの
2量体(化7)0.64gを得る。
00mlのフラスコに入れ、無水ベンゼン200mlを
仕込み、これにマロンニトリル2.0gを添加し、酢酸
4mlと酢酸アンモニウム1.0gとピペリジン4ml
を加え、攪拌しながら100℃に加熱し、2時間縮合反
応を行なう。このベンゼン溶液を水洗し、硫酸ナトリウ
ムで乾燥した後、溶媒のベンゼンを留去し、その残留物
はベンゼンから再結晶化して黄色固体1.8gを得る。
この固体1.0gを、酢酸30mlに溶解し、攪拌しな
がら100℃に加熱し、これに硫酸0.2mlを添加す
る。10分間脱水反応を行ない、2,3−ビス(4’−
メチルフェニル)−6,6−ジシアノペンタフルベンの
2量体(化7)0.64gを得る。
【0014】
【化7】
【0015】2,3−ビス(4’−メチルフェニル)−
6,6−ジシアノペンタフルベンの2量体(化7)の化
合物データ 融点173−174℃(dec) 赤外吸収スペクトル(KBr)3025,2915,2
220,1646,1609,1560,1544,1
509,1450,1410,1340,1283,1
190,1036,1019,815,678cm−1 1 H−NMRスペクトル(200MHz,CDCl3)
2.15(3H,s),2.26(3H,s),2.3
5(6H,s),3.88(1H,d,J=4.6H
z),4.55(1H,dd,J=4.6,1.6H
z),4.84(1H,d,J=1.6Hz),6.7
0(4H,m),6.92(2H,d,J=8.1H
z),7.15(4H,s),7.17(2H,d,J
=8.1Hz),7.24(4H,s),7.27(1
H,s)ppm13 C−NMRスペクトル(50MHz,CDCl3)
21.03,21.14,21.43,21.58,5
3.41,56.78,60.41,66.73,7
1.83,75.62,110.62,111.87,
112.65,113.53,125.70,128.
32,128.59,128.72,129.23,1
29.30,129.78,130.00,130.1
1,130.28,131.11,137.33,13
8.50,138.89,139.06,139.5
2,139.99,143.66,169.32,17
7.71,185.30ppm
6,6−ジシアノペンタフルベンの2量体(化7)の化
合物データ 融点173−174℃(dec) 赤外吸収スペクトル(KBr)3025,2915,2
220,1646,1609,1560,1544,1
509,1450,1410,1340,1283,1
190,1036,1019,815,678cm−1 1 H−NMRスペクトル(200MHz,CDCl3)
2.15(3H,s),2.26(3H,s),2.3
5(6H,s),3.88(1H,d,J=4.6H
z),4.55(1H,dd,J=4.6,1.6H
z),4.84(1H,d,J=1.6Hz),6.7
0(4H,m),6.92(2H,d,J=8.1H
z),7.15(4H,s),7.17(2H,d,J
=8.1Hz),7.24(4H,s),7.27(1
H,s)ppm13 C−NMRスペクトル(50MHz,CDCl3)
21.03,21.14,21.43,21.58,5
3.41,56.78,60.41,66.73,7
1.83,75.62,110.62,111.87,
112.65,113.53,125.70,128.
32,128.59,128.72,129.23,1
29.30,129.78,130.00,130.1
1,130.28,131.11,137.33,13
8.50,138.89,139.06,139.5
2,139.99,143.66,169.32,17
7.71,185.30ppm
【0016】
【実施例3(光反応1)】2,3−ジフェニル−6,6
−ジシアノペンタフルベンの2量体(化6)0.50g
のアセトニトリル溶液700mlに、ライオネット社製
のRPR−3500Aランプ(12W)で2.5時間、
光照射する。溶媒を留去し、生成物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(溶出溶媒はベンゼン:ヘキサン=
1:1)により分離すると、分子内光付加環化反応の生
成物(4,5,6,7−テトラフェニル−2,9−ビス
(ジシアノメチリデン)ペンタシクロ[5.3.0.0
3,6.04,10.05,8]デカン)(化8)0.
41gを得る。
−ジシアノペンタフルベンの2量体(化6)0.50g
のアセトニトリル溶液700mlに、ライオネット社製
のRPR−3500Aランプ(12W)で2.5時間、
光照射する。溶媒を留去し、生成物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(溶出溶媒はベンゼン:ヘキサン=
1:1)により分離すると、分子内光付加環化反応の生
成物(4,5,6,7−テトラフェニル−2,9−ビス
(ジシアノメチリデン)ペンタシクロ[5.3.0.0
3,6.04,10.05,8]デカン)(化8)0.
41gを得る。
【0017】
【化8】
【0018】2,3−ジフェニル−6,6−ジシアノペ
ンタフルベンの2量体の分子内光付加環化反応の生成物
(4,5,6,7−テトラフェニル−2,9−ビス(ジ
シアノメチリデン)ペンタシクロ[5.3.0.0
3,6.04,10.05,8]デカン)(化8)の化
合物データ 融点276−280℃(dec) 赤外吸収スペクトル(KBr)3055,3025,2
230,1650,1600,1499,1480,1
448,1325,1307,1270,1178,1
159,1056,1030,966,815,80
0,755,745,725,700,686cm−1 1 H−NMRスペクトル(200MHz,CDCl3)
3.86(2H,s),4.74(2H,s),6.7
3(4H,m),6.81(4H,m),7.08(6
H,m),7.17(6H,m)ppm13 C−NMRスペクトル(50MHz,CDCl3)
49.52,59.19,61.37,63.75,8
0.29,110.74,111.19,125.7
4,127.08,128.17,128.46,12
8.84,129.41,133.03,136.1
7,186.85ppm
ンタフルベンの2量体の分子内光付加環化反応の生成物
(4,5,6,7−テトラフェニル−2,9−ビス(ジ
シアノメチリデン)ペンタシクロ[5.3.0.0
3,6.04,10.05,8]デカン)(化8)の化
合物データ 融点276−280℃(dec) 赤外吸収スペクトル(KBr)3055,3025,2
230,1650,1600,1499,1480,1
448,1325,1307,1270,1178,1
159,1056,1030,966,815,80
0,755,745,725,700,686cm−1 1 H−NMRスペクトル(200MHz,CDCl3)
3.86(2H,s),4.74(2H,s),6.7
3(4H,m),6.81(4H,m),7.08(6
H,m),7.17(6H,m)ppm13 C−NMRスペクトル(50MHz,CDCl3)
49.52,59.19,61.37,63.75,8
0.29,110.74,111.19,125.7
4,127.08,128.17,128.46,12
8.84,129.41,133.03,136.1
7,186.85ppm
【0019】
【実施例4(光反応2)】2,3−ビス(4’−メチル
フェニル)−6,6−ジシアノペンタフルベンの2量体
(化7)0.672gのベンゼン溶液700mlに、ラ
イオネット社製のRPR−3500A(12W)で22
時間、光照射する。溶媒を留去し、生成物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒はベンゼン:ヘキ
サン=1:1)により分離すると、分子内光付加環化反
応の生成物(4,5,6,7−テトラ(4’−メチルフ
ェニル)−2,9−ビス(ジシアノメチリデン)ペンタ
シクロ[5.3.0.03,6.04,10.
05,8]デカン)(化9)0.33gを得る。
フェニル)−6,6−ジシアノペンタフルベンの2量体
(化7)0.672gのベンゼン溶液700mlに、ラ
イオネット社製のRPR−3500A(12W)で22
時間、光照射する。溶媒を留去し、生成物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出溶媒はベンゼン:ヘキ
サン=1:1)により分離すると、分子内光付加環化反
応の生成物(4,5,6,7−テトラ(4’−メチルフ
ェニル)−2,9−ビス(ジシアノメチリデン)ペンタ
シクロ[5.3.0.03,6.04,10.
05,8]デカン)(化9)0.33gを得る。
【0020】
【化9】
【0021】2,3−ビス(4’−メチルフェニル)−
6,6−ジシアノペンタフルベンの2量体の分子内光付
加環化反応の生成物(4,5,6,7−テトラ(4’−
メチルフェニル)−2,9−ビス(ジシアノメチリデ
ン)ペンタシクロ[5.3.0.03,6.
04,10.05,8]デカン)(化9)の化合物デー
タ 融点244−245℃(dec) 赤外吸収スペクトル(KBr)3025,2920,2
230,1648,1516,1478,1450,1
410,1314,1270,1189,1060,1
019,840,810,800,720,677cm
−1 1 H−NMRスペクトル(200MHz,CDCl3)
2.17(6H,s),2.22(6H,s),3.7
4(2H,s),4.63(2H,s),6.60(4
H,d,J=8.0Hz),6.67(4H,d,J=
8.0Hz),6.88(4H,d,J=8.0H
z),6.98(4H,d,J=8.0Hz)ppm13 C−NMRスペクトル(50MHz,CDCl3)
21.07,21.17,49.73,59.47,6
1.11,63.54,79.85,110.86,1
11.30,125.58,127.01,129.4
8,130.05,130.19,133.55,13
7.76,138.18,187.48ppm
6,6−ジシアノペンタフルベンの2量体の分子内光付
加環化反応の生成物(4,5,6,7−テトラ(4’−
メチルフェニル)−2,9−ビス(ジシアノメチリデ
ン)ペンタシクロ[5.3.0.03,6.
04,10.05,8]デカン)(化9)の化合物デー
タ 融点244−245℃(dec) 赤外吸収スペクトル(KBr)3025,2920,2
230,1648,1516,1478,1450,1
410,1314,1270,1189,1060,1
019,840,810,800,720,677cm
−1 1 H−NMRスペクトル(200MHz,CDCl3)
2.17(6H,s),2.22(6H,s),3.7
4(2H,s),4.63(2H,s),6.60(4
H,d,J=8.0Hz),6.67(4H,d,J=
8.0Hz),6.88(4H,d,J=8.0H
z),6.98(4H,d,J=8.0Hz)ppm13 C−NMRスペクトル(50MHz,CDCl3)
21.07,21.17,49.73,59.47,6
1.11,63.54,79.85,110.86,1
11.30,125.58,127.01,129.4
8,130.05,130.19,133.55,13
7.76,138.18,187.48ppm
【0022】
【実施例5(光反応3)】4,5,6,7−テトラフェ
ニル−2,9−ビス(ジシアノメチリデン)ペンタシク
ロ[5.3.0.03,6.04,10.05,8]デ
カン(化8)0.109gのアセトニトリル溶液700
mlに、ライオネット社製のRPR−2537A(9
W)で1時間、光照射する。溶媒を留去し、生成物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒はベンゼ
ン:ヘキサン=1:1)により分離すると、もとの2量
体の生成物(化6)と原料(化8)の混合物0.098
g(存在比、生成物(化6):原料(化8)=85:1
5)を得る。
ニル−2,9−ビス(ジシアノメチリデン)ペンタシク
ロ[5.3.0.03,6.04,10.05,8]デ
カン(化8)0.109gのアセトニトリル溶液700
mlに、ライオネット社製のRPR−2537A(9
W)で1時間、光照射する。溶媒を留去し、生成物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒はベンゼ
ン:ヘキサン=1:1)により分離すると、もとの2量
体の生成物(化6)と原料(化8)の混合物0.098
g(存在比、生成物(化6):原料(化8)=85:1
5)を得る。
【0023】
【実施例6(光反応4)】4,5,6,7−テトラ
(4’−メチルフェニル)−2,9−ビス(ジシアノメ
チリデン)ペンタシクロ[5.3.0.03,6.0
4,10.05,8]デカン(化9)0.500gのア
セトニトリル溶液700mlに、ライオネット社製のR
PR−2537A(9W)で1時間、光照射する。溶媒
を留去し、生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶出溶媒はベンゼン:ヘキサン=1:1)により分
離すると、もとの2量体の生成物(化7)と原料(化
9)の混合物0.455g(存在比、生成物(化7):
原料(化9)=95:5)を得る。
(4’−メチルフェニル)−2,9−ビス(ジシアノメ
チリデン)ペンタシクロ[5.3.0.03,6.0
4,10.05,8]デカン(化9)0.500gのア
セトニトリル溶液700mlに、ライオネット社製のR
PR−2537A(9W)で1時間、光照射する。溶媒
を留去し、生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶出溶媒はベンゼン:ヘキサン=1:1)により分
離すると、もとの2量体の生成物(化7)と原料(化
9)の混合物0.455g(存在比、生成物(化7):
原料(化9)=95:5)を得る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300
Claims (13)
- 【請求項1】一般式、化1 (式中、Rは水素原子、または、炭素原子1個以上を有
するアルキル基である)で示される化合物。 - 【請求項2】一般式、化1で示される化合物において、
Rが水素である特許請求の範囲第一項記載の化合物。 - 【請求項3】一般式、化1で示される化合物において、
Rがメチル基である特許請求の範囲第一項記載の化合
物。 - 【請求項4】脱水アセトンベンジル誘導体、化2(式
中、Rは前記と同じ)にマロンニトリルを縮合反応さ
せ、一般式、化3の化合物を作り、これを脱水反応させ
ることを特徴とする一般式、化1 (式中、Rは前記と同じ)で示される化合物の製造方
法。 - 【請求項5】縮合反応を酢酸、酢酸ナトリウム、および
ピペリジンを触媒としてベンゼン溶媒中で行なう特許請
求の範囲第4項記載の製造方法。 - 【請求項6】脱水反応を硫酸を触媒とし、酢酸溶媒中で
行なう特許請求の範囲第4項記載の製造方法。 - 【請求項7】一般式、化4 (式中、Rは水素原子、または、炭素原子1個以上を有
するアルキル基である)で示される化1の2量体よりな
るフォトクロミック材料。 - 【請求項8】一般式、化4で示される化合物において、
Rが水素である特許請求の範囲第7項記載の化合物より
なるフォトクロミック材料。 - 【請求項9】一般式、化4で示される化合物において、
Rがメチル基である特許請求の範囲第7項記載の化合物
よりなるフォトクロミック材料。 - 【請求項10】一般式、化5 (式中、Rは水素原子、または、炭素原子1個以上を有
するアルキル基である)で示される化合物よりなるフォ
トクロミック材料。 - 【請求項11】一般式、化5で示される化合物におい
て、Rが水素である特許請求の範囲第10項記載の化合
物よりなるフォトクロミック材料。 - 【請求項12】一般式、化5で示される化合物におい
て、Rがメチル基である特許請求の範囲第10項記載の
化合物よりなるフォトクロミック材料。 - 【請求項13】一般式、化4で示される化合物と 一般
式、化5で示される化合物の間の光による相互変換方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10377786A JP2000169441A (ja) | 1998-12-09 | 1998-12-09 | 新規2,3―ジフェニル―6,6―ジシアノペンタフルベン誘導体、その製造方法、およびその化合物の2量体からなるフォトクロミック材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10377786A JP2000169441A (ja) | 1998-12-09 | 1998-12-09 | 新規2,3―ジフェニル―6,6―ジシアノペンタフルベン誘導体、その製造方法、およびその化合物の2量体からなるフォトクロミック材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000169441A true JP2000169441A (ja) | 2000-06-20 |
Family
ID=18509158
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10377786A Pending JP2000169441A (ja) | 1998-12-09 | 1998-12-09 | 新規2,3―ジフェニル―6,6―ジシアノペンタフルベン誘導体、その製造方法、およびその化合物の2量体からなるフォトクロミック材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000169441A (ja) |
-
1998
- 1998-12-09 JP JP10377786A patent/JP2000169441A/ja active Pending
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