JP2000164933A - 光源装置 - Google Patents

光源装置

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JP2000164933A
JP2000164933A JP10335897A JP33589798A JP2000164933A JP 2000164933 A JP2000164933 A JP 2000164933A JP 10335897 A JP10335897 A JP 10335897A JP 33589798 A JP33589798 A JP 33589798A JP 2000164933 A JP2000164933 A JP 2000164933A
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semiconductor light
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emitting element
source device
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Motoyoshi Sanki
基至 参木
Takehisa Hiraiwa
武久 平岩
Masaaki Sakae
正明 寒河江
Tadaaki Nakane
忠明 中根
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Original Assignee
Nippon Denyo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 静電気等の電気的ショックを回避し、白色表
示時にRGBの各色の半導体発光素子を用いずに表現で
き、取扱の容易性、消費電力の低減等を図る。 【解決手段】 InGaAlP系、InGaAlN系、
InGaN系のいずれかの半導体発光素子3からなる光
源装置1において、リードフレームで成形した半導体発
光素子3のパターン2aには、半導体発光素子3のカソ
ード側が載置されてダイボンドされるとともに、整流素
子4のアノード側からのボンディングワイヤ5bがワイ
ヤーボンディングされる。パターン2bには、整流素子
4のカソード側が載置されてダイボンドされるととも
に、半導体発光素子3のアノード側からのボンディング
ワイヤ5aがワイヤーボンディングされる。これによ
り、整流素子4は半導体発光素子3に対して逆極性に並
列接続される。半導体発光素子3を覆うように波長変換
材料混入樹脂7が被着される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、InGaAlP
系、InGaAlN系、InGaN系の半導体発光素子
等の取扱い等に対し、静電気等の電気的ショックを回避
し、取扱の容易な半導体発光素子の実現を可能にする光
源装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の半導体発光素子は、発光色に対応
した例えばGaP、GaAsP、GaAlAsのような
2元素や3元素からなる物が多かったが、近年では、例
えばInGaAlPやInGaAlNのような4元素か
らなる半導体発光素子が普及しており、各InやGaお
よびAl等の元素比率をコントロールすることによって
各種の発光色を出力させている。
【0003】特に、これらInGaAlP系やInGa
AlN系の半導体発光素子は有機金属気相成長法(MO
CVD)により製作されており、n型層上に活性層を中
心にダブルヘテロ構造からなることが知られている。
【0004】そして、この種の従来のInGaAlP
系、InGaAlN系、InGaN系の化合物からなる
半導体発光素子は、リード端子を導電性ウレタンボード
に差し込んだり、帯電防止シートや帯電防止袋等で包装
することにより静電気等に対する対策が採られている。
【0005】また、従来のInGaAlP系、InGa
AlN系、InGaN系の化合物からなる半導体発光素
子を実装等で取り扱う時には、作業台に導電性マットを
敷設したり、作業員の腕に帯電防止用グランド腕輪等を
取付ける等の対応がなされている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の有機
金属気相成長法で製作したInGaAlP系、InGa
AlN系、InGaN系の化合物からなる半導体発光素
子等は、n型層上に活性層を中心にダブルヘテロ構造に
伴い静電気などの注意が必要であり、中でも特に発光色
が青色や青緑色等の半導体発光素子は活性層等が非常に
薄いため静電気により発光層を破壊してしまう課題があ
る。
【0007】また、従来のInGaAlP系、InGa
AlN系、InGaN系の化合物からなる半導体発光素
子は、静電気等の対策としてリード端子を導電性ウレタ
ンボードに差し込んだり、帯電防止シートや帯電防止袋
等で包装しなければ成らない課題がある。
【0008】さらに、従来のInGaAlP系、InG
aAlN系、InGaN系の化合物からなる半導体発光
素子の取扱い時には、作業台に導電性マットを敷設した
り、作業員の腕に帯電防止用グランド腕輪等を取付けて
対処しなければならない課題がある。
【0009】本発明はこのような課題を解決するためな
されたもので、InGaAlP系、InGaAlN系、
InGaN系のいずれかの化合物からなる半導体発光素
子の取扱を容易にし、静電気等の電気的ショックによる
不良を低減し、安定した光源装置を提供することにあ
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】請求項1に係るInGa
AlP系、InGaAlN系、InGaN系のいずれか
の半導体発光素子からなる光源装置は、半導体発光素子
を載置するパターン上または/および電気配線パターン
上に半導体発光素子に対して整流素子を逆極性に並列接
続することを特徴とする。
【0011】請求項1に係る光源装置は、半導体発光素
子を載置するパターン上または/および電気配線パター
ン上に半導体発光素子に対して整流素子を逆極性に並列
接続するので、n層からなるカソード側に静電気等の高
電荷が加わっても逆極性に並列接続した整流素子に流れ
ることによって半導体発光素子に電流が流れない。
【0012】また、請求項2に係る光源装置は、パター
ンをセラミック基板、液晶ポリマー樹脂基板、ガラス布
エポキシ樹脂基板のいずれかの基板上に形成するか、金
属薄板からなるリードフレームで形成することを特徴と
する。
【0013】請求項2に係る光源装置は、パターンをセ
ラミック基板、液晶ポリマー樹脂基板、ガラス布エポキ
シ樹脂基板のいずれかの基板上に形成するか、金属薄板
からなるリードフレームで形成するので、どんな形状に
でも対応できる。
【0014】さらに、請求項3に係る光源装置は、半導
体発光素子および整流素子をパターン上に透明樹脂また
は波長変換材料混入樹脂で被着することを特徴とする。
【0015】請求項3に係る光源装置は、半導体発光素
子および整流素子をパターン上に透明樹脂または波長変
換材料混入樹脂で被着するので、半導体発光素子と整流
素子とをより接着強度を増すことができるとともに波長
変換材料により半導体発光素子の発光色を換えることが
できる。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図に基づき説明する。なお、本発明は、セラミック基
板、液晶ポリマー樹脂基板、ガラス布エポキシ樹脂基板
のいずれかの基板上に形成されるか、金属薄板からなる
リードフレームで形成される半導体発光素子の載置パタ
ーン上または/および電気配線パターン上に半導体発光
素子に対して整流素子を逆極性に並列接続し、これらを
透明樹脂または波長変換材料混入樹脂で被着して静電気
等の電気的ショックを回避でき、少ない半導体発光素子
で白色光等を得られる光源装置を提供するものである。
【0017】図1は、本発明に係る光源装置の第1実施
の形態を示す全体図である。図1に示すように、第1実
施の形態の光源装置1は、インジェクションないしトラ
ンスファーモルドタイプのものであり、パターン2a,
2b、半導体発光素子3、整流素子4、ボンディングワ
イヤ5a,5b、リード端子6a,6b、波長変換材料
混入樹脂7およびモールドケース8から構成されてい
る。
【0018】パターン2aおよび2bは、インサート成
形によって樹脂にパターン形状を形成した燐青銅材等か
らなるリードフレームを挿入してリードフレーム上に成
形されている。パターン2aには、半導体発光素子3の
カソード側が載置され、ペースト半田や導通粒子(フィ
ラ)混入の樹脂等により半導体発光素子3がダイボンド
されているとともに、整流素子4のアノード側からのボ
ンディングワイヤ5bがワイヤーボンディングされてい
る。
【0019】パターン2bには、整流素子4のカソード
側が載置され、ペースト半田や導粒子(フィラ)混入の
樹脂等により整流素子4がダイボンドされているととも
に、半導体発光素子3のアノード側からのボンディング
ワイヤ5aがワイヤーボンディングされている。
【0020】半導体発光素子3は、n型層上に活性層を
中心にダブルヘテロ構造からなるInGaAlP系、I
nGaAlN系、InGaN系のいずれかの化合物の半
導体発光素子であり、有機金属気相成長法等で製作され
ている。半導体発光素子3は、n型層の下に設けたカソ
ード電極側がパターン2a上に載置されてダイボンドさ
れており、さらに図示しない発光した光を透過する層上
に設けたアノード電極側からボンディングワイヤ5bで
パターン2bにワイヤーボンディングされている。
【0021】整流素子4は、半導体発光素子3に対して
逆極性に並列接続するために、カソード電極側がパター
ン2b上に載置されダイボンドされており、アノード電
極側からボンディングワイヤ5bでパターン2aにワイ
ヤーボンディングされている。これにより、静電気等の
電気的ショックによって半導体発光素子3の絶縁層や発
光を行う活性層を中心とした部分の絶縁破壊を回避して
いる。
【0022】また、特に本発明に係る光源装置の対象半
導体発光素子であるInGaAlP系、InGaAlN
系、InGaN系の化合物の半導体発光素子等は静電気
等に弱いが、これら対象半導体発光素子以外でも近年半
導体発光素子の微少化が進むにつれ、これら整流素子の
逆極性に並列接続することにより静電気による絶縁破壊
を回避する事が可能である。
【0023】ボンディングワイヤ5aは金線等からな
り、半導体発光素子3のアノード電極とパターン2bと
をボンダによって電気的に接続している。また、同様に
ボンディングワイヤ5bも金線等からなり、整流素子4
のアノード電極とパターン2aとをボンダによって電気
的に接続している。
【0024】リード端子6a,6bは、導電性および弾
性力のある燐青銅等の銅合金材等からなるリードフレー
ムをモールドケース8から直接取り出して形成されてい
る。リード端子6aは、パターン2bと電気的に接続さ
れて半導体発光素子3のアノード電極側と等しく、本発
明の光源装置としての陽極(+)として使用されるよう
に構成される。
【0025】リード端子6bは、パターン2aと電気的
に接続されて半導体発光素子3のカソード電極側と等し
く、本発明の光源装置としての陰極(−)として使用さ
れるように構成される。
【0026】波長変換材料混入樹脂7は、無色透明なエ
ポキシ樹脂等に無機系の蛍光顔料や有機系の蛍光染料等
からなる波長変換材料を混入させたものであり、半導体
発光素子3を覆うように被着される。波長変換材料混入
樹脂7は、例えば緑色発光の半導体発光素子3からの光
を赤色蛍光顔料や赤色蛍光染料を混入した樹脂に投射す
ると黄色系の光が得られ、青色発光の半導体発光素子3
からの光を緑色蛍光顔料や緑色蛍光染料を混入した樹脂
に投射すると青緑色系の光が得られる。
【0027】また、青色発光の半導体発光素子3からの
光を(Y,Gd)3 (Al,Ga) 5 12等のYAG
(イットリウム・アルミニウム・ガーネット)系等から
なる橙色蛍光顔料や橙色蛍光染料を混入した樹脂に投射
すると白色の光が得られる。
【0028】モールドケース8は、変成ポリアミド、ポ
リブチレンテレフタレートや芳香族系ポリエステル等か
らなる液晶ポリマなどの絶縁性の有る材料に、チタン酸
バリウム等の白色粉体を混入させて凹状に成形されてい
る。
【0029】また、モールドケース8は、光の反射性と
遮光性の良いチタン酸バリウム等の白色粉体によって半
導体発光素子3の側面側から出光する光を効率良く反射
し、図示しないテーパ状の凹面により上方に出射すると
ともに、本発明の光源装置1の発光した光を外部に漏れ
ない様に遮光する。
【0030】さらに、図示しないが、モールドケース8
内には、ボンディングワイヤ5a,5b、半導体発光素
子3、整流素子4およびパターン2a,2b等の保護の
ために無色透明なエポキシ樹脂等が充填されている。
【0031】なお、モールドケース8内には、半導体発
光素子3の発光色を判別できるように発光色と同色に着
色した透明なエポキシ樹脂等を充填することもできる。
【0032】次に、図2は本発明に係る光源装置の第2
実施の形態を示す全体図である。なお、図1に示す第1
実施の形態の光源装置と略同等の構成要素に同一番号を
付して説明する。
【0033】図2に示すように、第2実施の形態の光源
装置1は、チップタイプのものであり、パターン2a,
2b、半導体発光素子3、整流素子4、ボンディングワ
イヤ5a,5b、端子電極6a,6b、波長変換材料混
入樹脂7、基板8および出光モールド部9から構成され
ている。
【0034】パターン2aおよび2bは、セラミック基
板、液晶ポリマー樹脂、ガラス布エポキシ樹脂基板のい
ずれかの基板上に真空蒸着、スパッタリング、イオンプ
レーティング、CVD(化学蒸着)、エッチング(ウエ
ット、ドライ)等により電気的接続をするパターン形状
に形成されており、金属メッキを施した後、さらに金や
銀等の貴金属メッキを施し、端子電極6a,6bに電気
的に接続される。
【0035】パターン2aには、半導体発光素子3のカ
ソード側が載置され、ペースト半田や導通粒子(フィ
ラ)混入の樹脂等により半導体発光素子3がダイボンド
されるとともに、整流素子4のアノード側からのボンデ
ィングワイヤ5bがワイヤーボンディングされている。
【0036】パターン2bには、整流素子4のカソード
側が載置され、ペースト半田や導通粒子(フィラ)混入
の樹脂等によりダイボンドされるとともに、半導体発光
素子3のアノード側からのボンディングワイヤ5aがワ
イヤーボンディングされている。
【0037】半導体発光素子3は、n型層上に活性層を
中心にダブルヘテロ構造からなるInaGaAlP系、
InGaAlN系、InGaN系の化合物の半導体発光
素子であり、有機金属気相成長法等で製作されている。
半導体発光素子3は、n型層の下に設けたカソード電極
側がパターン2a上に載置されダイボンドされており、
さらに図示しない発光した光を透過する層上に設けたア
ノード電極側からボンディングワイヤ5bでパターン2
bにワイヤーボンディングされている。
【0038】整流素子4は、半導体発光素子3に対して
逆極性に並列接続するために、カソード電極側がパター
ン2b上に載置されダイボンドされており、アノード電
極側からボンディングワイヤ5bでパターン2aにワイ
ヤーボンディングされている。これにより、静電気等の
電気的ショックによって半導体発光素子3の絶縁層や発
光を行う活性層を中心とした部分の絶縁破壊を回避して
いる。
【0039】また、特に本発明に係る光源装置の対象半
導体発光素子であるInGaAlP系、InGaAlN
系、InGaN系の化合物の半導体発光素子等は静電気
等に弱いが、これら対象以外の半導体発光素子でも近年
半導体発光素子の微少化が進むにつれ、これら整流素子
の逆極性に並列接続することにより静電気による絶縁破
壊を回避する事が可能である。
【0040】ボンディングワイヤ5aは金線等からな
り、半導体発光素子3のアノード電極とパターン2bと
をボンダによって電気的に接続している。また、同様に
ボンディングワイヤ5bも金線等からなり、整流素子4
のアノード電極とパターン2aとをボンダによって電気
的に接続している。
【0041】端子電極6a,6bは、基板8の端部に電
気伝導性の良い金属等で厚く金属メッキをしたり導電性
および弾性力のある燐青銅材等を機械的に取付けること
により形成される。
【0042】端子電極6aは、パターン2bと電気的に
接続されて半導体発光素子3のアノード電極側と等し
く、本発明の光源装置としての陽極(+)として使用さ
れるように構成される。
【0043】端子電極6bは、パターン2aと電気的に
接続されて半導体発光素子3のカソード電極側と等し
く、本発明の光源装置としての陰極(−)として使用さ
れるように構成される。
【0044】波長変換材料混入樹脂7は、無色透明なエ
ポキシ樹脂やシリコーン樹脂等に無機系の蛍光顔料や有
機系の蛍光染料等からなり波長変換材料を混入させたも
のであり、半導体発光素子3を覆うように被着される。
波長変換材料混入樹脂7は、例えば緑色発光の半導体発
光素子3からの光を赤色蛍光顔料や赤色蛍光染料を混入
した樹脂に投射すると黄色系の光が得られ、青色発光の
半導体発光素子3からの光を緑色蛍光顔料や緑色蛍光染
料を混入した樹脂に投射すると青緑色系の光が得られ
る。
【0045】また、青色発光の半導体発光素子3からの
光を(Y,Gd)3 (Al,Ga) 5 12等のYAG
(イットリウム・アルミニウム・ガーネット)系等から
なる橙色蛍光顔料や橙色蛍光染料を混入した樹脂に投射
すると白色の光が得られる。
【0046】基板8は、電気絶縁性に優れたセラミック
基板、液晶ポリマー樹脂基板、ガラス布エポキシ樹脂基
板等からなり、表面にパターン2a,2bが形成され
る。セラミック基板からなる基板8は、Al2 3 やS
iO2 を主成分とし、さらにZrO2 、TiO2 、Ti
C、SiCおよびSi3 4 等との化合物からなり、耐
熱性や硬度、強度に優れ、白色系の表面を持ち、半導体
発光素子3からの発光された光を効率良く反射する。
【0047】また、液晶ポリマー樹脂やガラス布エポキ
シ樹脂からなる基板8は、液晶ポリマーやガラス布エポ
キシ樹脂などの絶縁性の有る材料に、チタン酸バリウム
等の白色粉体を混入または塗布させて成形し、半導体発
光素子3からの発光された光を効率良く反射する。
【0048】なお、基板8としては、珪素樹脂、紙エポ
キシ樹脂、合成繊維布エポキシ樹脂および紙フェノール
樹脂等の積層板や変成ポリアミド、ポリブチレンテレフ
タレート、ポリカーボネートや芳香族系ポリエステル等
からなる板にパターン印刷を施したものでも使用可能で
ある。
【0049】出光モールド部9は、無色透明なエポキシ
樹脂からなり、矩形状に成型され、半導体発光素子3の
発光層からの光(上部のアノード側や側面の4方)を効
率良く出射する。また、出光モールド部9は、ボンディ
ングワイヤ5a,5b、半導体発光素子3、整流素子4
およびパターン2a,2b等を保護している。
【0050】なお、出光モールド部9は、半導体発光素
子3の発光色を判別できるように発光色と同色に着色し
た透明なエポキシ樹脂等を用いても良い。
【0051】また、出光モールド部9は、ここでは図示
しないが、光線が一方向性になるドーム型等、目的や仕
様に合った自由な形状に形成することができる。
【0052】次に、図3〜図5は上記実施の形態の光源
装置における整流素子の接続図である。図3(a)は半
導体発光素子と整流素子とを各々のパターンに載置した
平面図、図3(b)は図3(a)の側面図、図4(a)
は整流素子を2つのパターン間に載置した平面図、図4
(b)は図4(a)の側面図、図5(a)は2つのパタ
ーンのうち片方のパターンに半導体発光素子と整流素子
を載置した平面図、図5(b)は図5(a)の側面図で
ある。
【0053】図3(a),(b)は一般的に行われる接
続方法であり、基板8またはインサート成形樹脂上に形
成したパターン2a上に半導体発光素子3がペースト半
田10等でダイボンドされるとともに、整流素子4のア
ノード側からのボンディングワイヤ5bがワイヤーボン
ディングされる。また、パターン2b上に整流素子4が
ダイボンドされるとともに、半導体発光素子3のアノー
ド側からのボンディングワイヤ5aがワイヤーボンディ
ングされる。
【0054】図4(a),(b)では、基板8またはイ
ンサート成形樹脂上に形成したパターン2a上に半導体
発光素子3がペースト半田10等でダイボンドされ、パ
ターン2b上に半導体発光素子3のアノード側からのボ
ンディングワイヤ5aがワイヤーボンディングされる。
また、ベアーチップからなる整流素子4は、パターン2
a,2b間に載置され、ペースト半田10b等を用いて
フェイスダウンボンディングによりアノード側がパター
ン2aに、カソード側がパターン2bに接続される。
【0055】なお、図4(a),(b)に示す接続方法
は、図面では広げて描いたが、ボンディングワイヤ5a
の下方に整流素子4を載置し、パターン幅を小さくでき
る方法である。
【0056】図5(a),(b)では、基板8またはイ
ンサート成形樹脂上に形成したパターン2a上に半導体
発光素子3のカソード側と整流素子4のアノード側とが
ペースト半田10等でダイボンドされ、パターン2b上
に半導体発光素子3のアノード側と整流素子4のカソー
ド側とがボンディングワイヤ5a,5bによりワイヤー
ボンディングされている。この接続方法によれば、片側
(例えばパターン2b側)のパターンを小さくすること
ができる。
【0057】
【実施例】次に、本発明に係る光源装置を実施例につい
て説明する。図6(a)は青色発光の半導体発光素子に
順電圧を印加する接続図であり、整流素子を逆極性で並
列に挿入した場合と半導体発光素子のみの場合との絶縁
破壊の耐圧試験の結果を表1に示す。
【0058】また、図6(b)は青色発光の半導体発光
素子に逆電圧に印加する接続図であり、整流素子を逆極
性で並列に挿入した場合と半導体発光素子のみの場合と
の絶縁破壊の耐圧試験の結果を表2に示す。
【0059】なお、この実施例の青色発光の半導体発光
素子としては、豊田合成(株)のE1C00−1BA0
1を用いた。
【0060】この実施にあたって、カットオフ電流を1
mAとし、各順電圧および逆電圧を100V〜5000
V掛け半導体発光素子の逆電流IRが最大定格10μA
を越えた時(〜∞)とする。
【0061】また、試験試料数は、半導体発光素子に整
流素子を逆極性で並列に挿入した場合と半導体発光素子
のみの場合を各5つとした。
【0062】試験結果は、下記表1及び表2に示すよう
に、順電圧を掛けた場合には問題なく、逆電圧を掛けた
場合に整流素子が無い時には数百V程度で半導体発光素
子の逆電流の最大定格10μAを越えてしまう。
【0063】
【表1】
【0064】
【表2】
【0065】このように、半導体発光素子に逆並列に整
流素子を接続することにより、静電気による絶縁破壊を
回避する事ができる。
【0066】
【発明の効果】以上のように、請求項1に係る光源装置
は、半導体発光素子を載置するパターン上または/およ
び電気配線パターン上に半導体発光素子に対して整流素
子を逆極性に並列接続するので、n層からなるカソード
側に静電気等の高電荷が加わっても逆極性に並列接続し
た整流素子に流れる。これにより、半導体発光素子に電
流が流れないので、半導体発光素子の絶縁破壊を回避で
き、これらの素子の取扱いが容易になるとともに導電性
ウレタンボード、帯電防止シートや帯電防止袋等を必要
とせず経済性に優れ、さらに歩留りの向上が図られる。
【0067】請求項2に係る光源装置は、パターンをセ
ラミック基板、液晶ポリマー樹脂基板、ガラス布エポキ
シ樹脂基板のいずれかの基板上に形成するか、金属薄板
からなるリードフレームで形成するので、どんな形状に
でも対応でき、用途に適した色々な分野への利用が可能
となり、産業の発展に貢献できる。
【0068】請求項3に係る光源装置は、半導体発光素
子および整流素子をパターン上に透明樹脂または波長変
換材料混入樹脂で被着するので、半導体発光素子と整流
素子とをより接着強度を増すことができるとともに波長
変換材料により半導体発光素子の発光色を換えることが
でき、フルカラー表示や白色表示時にRGBの各色の半
導体発光素子を用いずに表現出来るので、消費電力の低
減等コストパフォーマンスにすぐれる。
【0069】このように、セラミック、液晶ポリマー樹
脂等の基板やリードフレームのパターン上に載置するI
nGaAlP系、InGaAlN系、InGaN系のい
ずれかからなる半導体発光素子に対して整流素子を逆極
性に並列接続し、これらを透明樹脂や波長変換材料混入
樹脂で被着するので、静電気等の電気的ショックを回避
でき、取扱を容易にし、静電気対策を必要とせず、さら
に消費電力の低減など経済性、作業性に優れた光源装置
を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る光源装置の第1実施の形態を示す
全体図
【図2】本発明に係る光源装置の第2実施の形態を示す
全体図
【図3】(a)半導体発光素子と整流素子とを各々のパ
ターンに載置したときの接続構成を示す平面図 (b)(a)の側面図
【図4】(a)整流素子を2つのパターン間に載置した
ときの接続構成を示す平面図 (b)(a)の側面図
【図5】(a)2つのパターンのうち片方のパターンに
半導体発光素子と整流素子を載置したときの接続構成を
示す平面図 (b)(a)の側面図
【図6】(a)青色発光の半導体発光素子に順電圧を印
加する接続図 (b)青色発光の半導体発光素子に逆電圧を印加する接
続図
【符号の説明】
1…光源装置、2a,2b…パターン、3…半導体発光
素子、4…整流素子、5a,5b…ボンディングワイ
ヤ、6a,6b…リード端子,端子電極、7…波長変換
材料混入樹脂、8…モールドケース,基板、9…出光モ
ールド部。
フロントページの続き (72)発明者 寒河江 正明 東京都多摩市永山6−22−6 日本デンヨ ー株式会社内 (72)発明者 中根 忠明 東京都多摩市永山6−22−6 日本デンヨ ー株式会社内 Fターム(参考) 5F041 AA14 AA21 DA43 EE25

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 InGaAlP系、InGaAlN系、
    InGaN系のいずれかの半導体発光素子からなる光源
    装置において、 前記半導体発光素子を載置するパターン上または/およ
    び電気配線パターン上に前記半導体発光素子に対して整
    流素子を逆極性に並列接続することを特徴とする光源装
    置。
  2. 【請求項2】 前記パターンは、セラミック基板、液晶
    ポリマー樹脂基板、ガラス布エポキシ樹脂基板のいずれ
    かの基板上に形成するか、金属薄板からなるリードフレ
    ームで形成することを特徴とする請求項1記載の光源装
    置。
  3. 【請求項3】 前記半導体発光素子および前記整流素子
    は、前記パターン上に透明樹脂または波長変換材料混入
    樹脂で被着することを特徴とする請求項1又は2記載の
    光源装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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