JP2000164806A - Intermediate potential generating circuit - Google Patents

Intermediate potential generating circuit

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JP2000164806A
JP2000164806A JP10334084A JP33408498A JP2000164806A JP 2000164806 A JP2000164806 A JP 2000164806A JP 10334084 A JP10334084 A JP 10334084A JP 33408498 A JP33408498 A JP 33408498A JP 2000164806 A JP2000164806 A JP 2000164806A
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intermediate potential
channel mos
mos transistor
potential generating
generating circuit
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Mikio Aoki
幹夫 青木
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the scale of a circuit, when an intermediate potential generating circuit capable of obtaining a stable output potential is constituted on the same semiconductor substrate by using MOS transistors of one conductivity type. SOLUTION: An intermediate potential generating circuit is constituted of an intermediate potential generating part 1, which consists of N-channel MOS transistors 3, 4, and an output part 2 which consists of N-channel MOS transistors 6, 7. An output voltage outputted from an output terminal 8 is applied to the gate of the transistor 4, so that the change of an output voltage which is caused by noise superposed on the output terminal 8 can be restrained. Since this intermediate potential generating circuit is constituted of only the same conductivity-type N-channel MOS transistors, there is no need for an element isolation region to be formed, when the transistors are formed on the same semiconductor substrate, and the circuit scale can be reduced.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電源電圧から基準
電圧を生成して出力するための中間電位発生回路に関す
る。
The present invention relates to an intermediate potential generating circuit for generating and outputting a reference voltage from a power supply voltage.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体回路装置では、外部からの入力信
号を一旦受け取り半導体回路内部で供給するために入力
バッファが設けられている。そして、入力信号の電位と
基準電圧を比較し、その比較結果を半導体回路装置内へ
入力するGTL(GunningTransceive
r Logic)、HSTL(High SpeedT
ransceiver Logic)、SSTL(St
ub SeriesTerminated Logi
c)等の高速インターフェースバッファがこの入力バッ
ファとして用いられている。このような入力バッファに
より使用される基準電圧としては、中間電位発生回路に
より生成された中間電位が用いられている。
2. Description of the Related Art In a semiconductor circuit device, an input buffer is provided for temporarily receiving an external input signal and supplying the signal inside the semiconductor circuit. Then, the potential of the input signal is compared with the reference voltage, and the result of the comparison is input to the semiconductor circuit device by a GTL (Gunning Transceive).
r Logic), HSTL (High SpeedT)
transceiver Logic), SSTL (St
ub SeriesTerminated Logi
A high-speed interface buffer such as c) is used as this input buffer. As a reference voltage used by such an input buffer, an intermediate potential generated by an intermediate potential generating circuit is used.

【0003】特開平9−246472号公報に記載され
ているような従来の中間電位発生回路を図7を参照して
説明する。
A conventional intermediate potential generating circuit as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-246472 will be described with reference to FIG.

【0004】この従来の中間電位発生回路は、図7に示
されるように、中間電位発生部71と、出力部72とか
ら構成されている。
This conventional intermediate potential generating circuit is composed of an intermediate potential generating section 71 and an output section 72, as shown in FIG.

【0005】中間電位発生部71は、抵抗素子として動
作するPチャネルMOSトランジスタ61、63と、ダ
イオードとして動作するNチャネルMOSトランジスタ
62、64とから構成されている。そして、中間電子発
生部71は、中間端子69に中間電位VDD/2+V
thnを出力する。ここで、VDDは電源電圧であり、Vt
hnはNチャネルMOSトランジスタ62のしきい値電圧
である。
The intermediate potential generating section 71 is composed of P-channel MOS transistors 61 and 63 operating as resistance elements, and N-channel MOS transistors 62 and 64 operating as diodes. Then, the intermediate electron generation unit 71 supplies the intermediate terminal 69 with the intermediate potential VDD / 2 + V
Output thn . Here, VDD is a power supply voltage, and V t
hn is the threshold voltage of the N-channel MOS transistor 62.

【0006】また、出力部72は、PチャネルMOSト
ランジスタ66と、NチャネルMOSトランジスタ6
5、68とから構成されている。
The output unit 72 includes a P-channel MOS transistor 66 and an N-channel MOS transistor 6.
5, 68.

【0007】NチャネルMOSトランジスタ68は、中
間端子69を介して入力された中間電位に基づいて、出
力端子67をVDD/2に充電する。PチャネルMOS
トランジスタ66と、NチャネルMOSトランジスタ6
5とから構成される放電回路は、出力端子67から所定
の電流を流出させる。一般的にPチャネルMOSトラン
ジスタのしきい値電圧Vthnpの低減化は困難であるが、
この従来の中間電位発生回路ではPチャネルMOSトラ
ンジスタで構成されたダイオードを含まないので、電源
電圧VDDの低減化が容易となる。
The N-channel MOS transistor 68 charges the output terminal 67 to VDD / 2 based on the intermediate potential inputted via the intermediate terminal 69. P channel MOS
Transistor 66 and N-channel MOS transistor 6
5 discharges a predetermined current from the output terminal 67. Generally, it is difficult to reduce the threshold voltage V thnp of a P-channel MOS transistor.
Since the conventional intermediate potential generating circuit does not include a diode formed of a P-channel MOS transistor, it is easy to reduce the power supply voltage VDD.

【0008】しかし、1つの基準電圧を複数の入力バッ
ファに供給していたため、基準電圧はチップ内で引き回
され、隣接配線の影響により他の信号のノイズを拾って
いた。
However, since one reference voltage is supplied to a plurality of input buffers, the reference voltage is routed in the chip, and noise of other signals is picked up by the influence of adjacent wiring.

【0009】それに付け加え、近年の微細化・大規模化
に伴い、上記問題はますます深刻化し、最悪の場合、動
作不良を起こし問題となっていた。
In addition, with the recent miniaturization and large scale, the above problem has become more serious, and in the worst case, a malfunction has occurred, which has been a problem.

【0010】従来、この種のノイズに対する考慮は明記
されておらず、たとえば図7に示されているでは、出力
端子67に乗ったノイズは、そのまま出力電位の変動分
となる。
Conventionally, no consideration has been given to this type of noise. For example, as shown in FIG. 7, the noise on the output terminal 67 becomes a fluctuation of the output potential as it is.

【0011】この従来の中間電位発生回路では、隣接配
線等の影響により出力端子にノイズが重畳した場合には
出力電位が変動してしまうという問題点があった。
In this conventional intermediate potential generating circuit, there is a problem that the output potential fluctuates when noise is superimposed on the output terminal due to the influence of an adjacent wiring or the like.

【0012】このような問題を解決し、出力端子に重畳
するノイズの影響を低減し安定した出力電位を得られる
中間電位発生回路が特開平8−171432号公報に示
されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-171432 discloses an intermediate potential generating circuit which solves such a problem and reduces the influence of noise superimposed on the output terminal to obtain a stable output potential.

【0013】この特開平8−171432号公報に示さ
れている従来の中間電位発生回路を図8に示す。
FIG. 8 shows a conventional intermediate potential generating circuit disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-171432.

【0014】この従来の中間電位発生回路は、中間電位
発生部81と出力部89とから構成されている。
This conventional intermediate potential generating circuit includes an intermediate potential generating section 81 and an output section 89.

【0015】また、中間電位発生部81は、Pチャネル
MOSトランジスタ82、84と、NチャネルMOSト
ランジスタ83、85より構成されている。
The intermediate potential generator 81 includes P-channel MOS transistors 82 and 84 and N-channel MOS transistors 83 and 85.

【0016】この従来の中間電位発生回路では、出力端
子88から出力される出力電圧は、PチャネルMOSト
ランジスタ82のゲートおよびNチャネルMOSトラン
ジスタ85のゲートに印加されているので、出力端子8
8にノイズが重畳した場合でも出力電位の変動を防ぐこ
とができる。しかし、中間電位発生回路を構成する際に
は、PチャネルMOSトランジスタと、NチャネルMO
Sトランジスタの両導電型のMOSトランジスタが必要
となる。そして、異なる導電型のMOSトランジスタを
同じ半導体基板上に構成する場合には素子分離領域を設
けなけらばならないため回路規模が大きくなってしま
う。
In this conventional intermediate potential generating circuit, the output voltage output from output terminal 88 is applied to the gate of P-channel MOS transistor 82 and the gate of N-channel MOS transistor 85.
Even when noise is superimposed on 8, it is possible to prevent a change in output potential. However, when configuring the intermediate potential generating circuit, a P channel MOS transistor and an N channel
A MOS transistor of both conductivity types of the S transistor is required. When MOS transistors of different conductivity types are formed on the same semiconductor substrate, an element isolation region must be provided, which increases the circuit scale.

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の中間電
位発生回路では、PチャネルMOSトランジスタと、N
チャネルMOSトランジスタの両導電型のMOSトラン
ジスタが必要となるため、回路規模が大きくなってしま
うという問題点があった。
In the above-mentioned conventional intermediate potential generating circuit, a P-channel MOS transistor and an N-channel MOS transistor are used.
Since a MOS transistor of both conductivity types of the channel MOS transistor is required, there is a problem that the circuit scale is increased.

【0018】本発明の目的は、安定した出力電位を得ら
れる中間電位発生回路を1つの導電型のMOSトランジ
スタにより構成することにより同一半導体基板上に構成
した場合の回路規模を削減することである。
An object of the present invention is to reduce the circuit scale when the intermediate potential generating circuit for obtaining a stable output potential is formed on one and the same semiconductor substrate by using one conductive type MOS transistor. .

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の中間電位発生回路は、ドレインとゲートが
電源電圧に接続され、ソースが中間端子に接続された第
1のMOSトランジスタと、ドレインが前記第1のMO
Sトランジスタのソースに接続され、ソースがグランド
に接続され、ゲートが出力端子に接続されている第2の
MOSトランジスタとから構成されている中間電位発生
部と、ドレインが前記電源電圧に接続され、ゲートが前
記中間端子に接続され、ソースが前記出力端子に接続さ
れた第3のNチャネルMOSトランジスタと、ドレイン
が前記出力端子に接続され、ゲートが前記中間端子に接
続され、ソースがグランドに接続された第4のMOSト
ランジスタとから構成されている出力部とを有する中間
電位発生回路において、前記第1から第4のMOSトラ
ンジスタが全て同一の導電型であることを特徴とする。
To achieve the above object, an intermediate potential generating circuit according to the present invention comprises a first MOS transistor having a drain and a gate connected to a power supply voltage and a source connected to an intermediate terminal. And the drain is the first MO.
A second MOS transistor having a source connected to the source, a source connected to the ground, and a gate connected to the output terminal; and a drain connected to the power supply voltage, A third N-channel MOS transistor having a gate connected to the intermediate terminal, a source connected to the output terminal, a drain connected to the output terminal, a gate connected to the intermediate terminal, and a source connected to ground An intermediate potential generating circuit having an output section composed of a fourth MOS transistor and a fourth MOS transistor, wherein the first to fourth MOS transistors are all of the same conductivity type.

【0020】本発明は、出力端子から出力される出力電
位を中間電位発生部に帰還することにより、出力端子が
隣接配線等から受ける電位変動の影響を抑えて安定した
出力電位を得ることができる中間電位発生回路を同じ導
電型のMOSトランジスタのみにより構成するようにし
ているので、同一の半導体基板上に構成した場合の回路
規模を削減することができる。
According to the present invention, the output potential output from the output terminal is fed back to the intermediate potential generating section, so that the output terminal can obtain a stable output potential while suppressing the influence of the potential fluctuation received from the adjacent wiring or the like. Since the intermediate potential generating circuit is configured only by MOS transistors of the same conductivity type, the circuit scale when configured on the same semiconductor substrate can be reduced.

【0021】また、本発明の他の中間電位発生回路は、
ドレインとゲートが電源電圧に接続され、ソースが中間
端子に接続された第1のMOSトランジスタと、ドレイ
ンとソースがお互いに接続されることにより直列に接続
され、直列接続された場合の端部のドレインが前記第1
のMOSトランジスタのソースに接続され、直列接続さ
れた場合のたん部のソースがグランドに接続され、ゲー
トがそれぞれ出力端子に接続されている複数の第2のM
OSトランジスタとから構成されている中間電位発生部
と、ドレインが前記電源電圧に接続され、ゲートが前記
中間端子に接続され、ソースが前記出力端子に接続され
た第3のNチャネルMOSトランジスタと、ドレインが
前記出力端子に接続され、ゲートが前記中間端子に接続
され、ソースがグランドに接続された第4のMOSトラ
ンジスタとから構成されている出力部とを有する中間電
位発生回路において、前記第1から第4のMOSトラン
ジスタが全て同一の導電型であることを特徴とする。
Further, another intermediate potential generating circuit of the present invention comprises:
A first MOS transistor having a drain and a gate connected to a power supply voltage and a source connected to an intermediate terminal; and a first MOS transistor having a drain and a source connected to each other in series to be connected in series. The drain is the first
Of a plurality of second transistors connected in series to each other and connected in series to each other, the source of the tongue is connected to ground, and the gate is connected to the output terminal.
A third N-channel MOS transistor whose drain is connected to the power supply voltage, whose gate is connected to the intermediate terminal, and whose source is connected to the output terminal; A fourth MOS transistor having a drain connected to the output terminal, a gate connected to the intermediate terminal, and a source connected to ground; To the fourth MOS transistors are all of the same conductivity type.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態について
図面を参照して詳細に説明する。
Next, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0023】(第1の実施形態)図1は本発明の第1の
実施形態の中間電位発生回路の構成を示す回路図であ
る。
(First Embodiment) FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of an intermediate potential generating circuit according to a first embodiment of the present invention.

【0024】本実施形態の中間電位発生回路は、中間電
位発生部1と出力部2とから構成されている。また、中
間電位発生部1は、NチャネルMOSトランジスタ3、
4より構成されている。
The intermediate potential generating circuit of the present embodiment comprises an intermediate potential generating section 1 and an output section 2. The intermediate potential generating section 1 includes an N-channel MOS transistor 3,
4.

【0025】NチャネルMOSトランジスタ3は、ドレ
インとゲートが電源電圧VDDに接続され、ソースが中
間端子5に接続されている。
The N-channel MOS transistor 3 has a drain and a gate connected to the power supply voltage VDD, and a source connected to the intermediate terminal 5.

【0026】NチャネルMOSトランジスタ4は、ドレ
インが中間端子5に接続され、ソースがグランドに接続
され、ゲートが出力端子8に接続されている。
The N-channel MOS transistor 4 has a drain connected to the intermediate terminal 5, a source connected to the ground, and a gate connected to the output terminal 8.

【0027】出力部2は、NチャネルMOSトランジス
タ6、7より構成されている。
The output section 2 includes N-channel MOS transistors 6 and 7.

【0028】NチャネルMOSトランジスタ6は、ドレ
インが電源電圧に接続され、ゲートが中間端子5に接続
され、ソースが出力端子8に接続されている。
The N-channel MOS transistor 6 has a drain connected to the power supply voltage, a gate connected to the intermediate terminal 5, and a source connected to the output terminal 8.

【0029】NチャネルMOSトランジスタ7は、ドレ
インが出力端子8に接続され、ゲートが中間端子5に接
続され、ソースがグランドに接続されている。
The N-channel MOS transistor 7 has a drain connected to the output terminal 8, a gate connected to the intermediate terminal 5, and a source connected to the ground.

【0030】さらに、NチャネルMOSトランジスタ
3、4、6、7のバックゲートは、全てグランドへ接続
されている。
Further, the back gates of the N-channel MOS transistors 3, 4, 6, 7 are all connected to the ground.

【0031】次に、本実施形態の中間電位発生回路の動
作について図面を参照して詳細に説明する。
Next, the operation of the intermediate potential generating circuit of the present embodiment will be described in detail with reference to the drawings.

【0032】VDDが投入されると、NチャネルMOS
トランジスタ6により、出力端子8は、VDD−しきい
値電圧Vtnの電位にプリチャージされ、その電位が、N
チャネルMOSトランジスタ4のゲートに伝達される。
そのため、NチャネルMOSトランジスタ4はオン状態
となり、VDDがNチャネル4とNチャネルMOSトラ
ンジスタ3により分割されることにより、中間端子5に
電圧が発生する。中間端子5に発生した電圧により、N
チャネルMOSトランジスタ6、7はオンとなり、出力
端子8の電圧が決定される。
When VDD is turned on, an N-channel MOS
The output terminal 8 is precharged by the transistor 6 to the potential of VDD−threshold voltage V tn , and the potential becomes N
The signal is transmitted to the gate of the channel MOS transistor 4.
Therefore, N-channel MOS transistor 4 is turned on, and VDD is divided by N-channel MOS transistor 3 and N-channel MOS transistor 3 to generate a voltage at intermediate terminal 5. By the voltage generated at the intermediate terminal 5, N
The channel MOS transistors 6 and 7 are turned on, and the voltage of the output terminal 8 is determined.

【0033】次に、隣接配線等の影響により本実施形態
の中間電位発生回路の出力端子8に外部から電位変動が
与えられた場合の動作を図2に示す試験回路を用いて観
測する。図2中の中間電位発生回路10は、図1に示し
た本実施形態の中間電位発生回路である。また図3は、
図2の試験回路による観測結果を示した図、図4は図3
の拡大図を発振器50の出力とともに示す図である。
Next, the operation of the intermediate potential generating circuit according to the present embodiment in the case where a potential variation is applied from the outside to the output terminal 8 under the influence of adjacent wirings will be observed using the test circuit shown in FIG. The intermediate potential generation circuit 10 in FIG. 2 is the intermediate potential generation circuit of the present embodiment shown in FIG. Also, FIG.
FIG. 4 shows the results of observation by the test circuit of FIG. 2, and FIG.
FIG. 3 is a diagram showing an enlarged view of FIG.

【0034】図2に示すように、発振器50からの出力
は、コンデンサ51を介して中間電位発生回路10の出
力端子8に印加される。また、出力端子8とグランドと
の間にはコンデンサ52が設けられている。ここで、発
振器50から出力端子8に印加される電圧波形は1V
P-Pの信号である。
As shown in FIG. 2, the output from the oscillator 50 is applied to the output terminal 8 of the intermediate potential generating circuit 10 via the capacitor 51. A capacitor 52 is provided between the output terminal 8 and the ground. Here, the voltage waveform applied from the oscillator 50 to the output terminal 8 is 1 V
This is a PP signal.

【0035】発振器50の出力電位が上昇する間、出力
端子8の電位があがり、中間端子5の電位を下げる。中
間端子5の電位の下がり量は、図4によれば0.05V
程度である。このため、NチャネルMOSトランジスタ
6、7のゲート電圧Vgsを下げ、駆動能力を落とす。こ
の時出力電位8も上昇しているため、NチャネルMOS
トランジスタ7よりもNチャネルMOSトランジスタ6
の方がゲート電圧Vgsの変動幅が大きく、出力端子8の
電位変動を押さえる。この時の変動幅は、最大でも30
mV程度である。
While the output potential of the oscillator 50 rises, the potential of the output terminal 8 rises, and the potential of the intermediate terminal 5 drops. According to FIG. 4, the amount of decrease in the potential of the intermediate terminal 5 is 0.05 V
It is about. For this reason, the gate voltage V gs of the N-channel MOS transistors 6 and 7 is reduced, and the driving capability is reduced. At this time, since the output potential 8 has also risen, the N-channel MOS
N-channel MOS transistor 6 rather than transistor 7
The variation width of the gate voltage V gs is larger in the case of (1), and the variation in the potential of the output terminal 8 is suppressed. The fluctuation range at this time is 30 at the maximum.
It is about mV.

【0036】図2の発振器50の出力電位が下降する時
は上記と逆の動作をする。
When the output potential of the oscillator 50 shown in FIG. 2 falls, the operation is reversed.

【0037】この動作により、従来の中間電位発生回路
よりも、出力端子にカップリングされた信号に対し、出
力信号の変動が小さくなっている。
By this operation, the variation of the output signal with respect to the signal coupled to the output terminal is smaller than that of the conventional intermediate potential generating circuit.

【0038】そして、本実施形態の中間電位発生回路
は、同じ導電型であるNチャネルMOSトランジスタ
3、4、6、7によって構成されている。そのため、本
実施形態の中間電位発生回路を1つの半導体基板上に構
成する場合には、素子分離領域を形成する必要がないた
め、従来の中間電位発生回路と比較して回路規模を削減
することができる。
The intermediate potential generating circuit of this embodiment is constituted by N-channel MOS transistors 3, 4, 6, and 7 of the same conductivity type. Therefore, when the intermediate potential generation circuit of the present embodiment is formed on one semiconductor substrate, it is not necessary to form an element isolation region, and therefore, the circuit scale can be reduced as compared with the conventional intermediate potential generation circuit. Can be.

【0039】(第2の実施形態)次に、本発明の第2の
実施形態の中間電位発生回路について説明する。
(Second Embodiment) Next, an intermediate potential generation circuit according to a second embodiment of the present invention will be described.

【0040】図5は、本発明の第2の実施形態の中間電
位発生回路の構成を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of an intermediate potential generating circuit according to a second embodiment of the present invention.

【0041】本実施形態の中間電位発生回路は、図1に
示した第1の実施形態の中間電位発生回路に対して、中
間電位発生部1を中間電位発生部11に置き換えたもの
である。
The intermediate potential generating circuit of the present embodiment is obtained by replacing the intermediate potential generating section 1 with an intermediate potential generating section 11 in the intermediate potential generating circuit of the first embodiment shown in FIG.

【0042】中間電位発生部11は、中間電位発生部1
に対して、NチャネルMOSトランジスタ4を、Nチャ
ネルMOSトランジスタ14、19に置き換えたもので
ある。
The intermediate potential generating section 11 is
However, N channel MOS transistor 4 is replaced with N channel MOS transistors 14 and 19.

【0043】中間端子5に所望の電位を得られるような
回路であれば、NチャネルMOSトランジスタが接続さ
れる段数はどのような値でもよいことを示す。
This shows that the number of stages to which the N-channel MOS transistor is connected may be any value as long as the circuit can obtain a desired potential at the intermediate terminal 5.

【0044】(第3の実施形態)次に、本発明の第3の
実施形態の中間電位発生回路について説明する。
(Third Embodiment) Next, an intermediate potential generating circuit according to a third embodiment of the present invention will be described.

【0045】図6は、本発明の第3の実施形態の中間電
位発生回路の構成を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration of an intermediate potential generating circuit according to a third embodiment of the present invention.

【0046】本実施形態の中間電位発生回路は、図1に
示した第1の実施形態の中間電位発生回路に対して、回
路を構成するMOSトランジスタがNチャネルMOSト
ランジスタから、PチャネルMOSトランジスタへ置き
換わったものである。
The intermediate potential generating circuit of this embodiment is different from the intermediate potential generating circuit of the first embodiment shown in FIG. 1 in that the MOS transistors constituting the circuit are changed from N-channel MOS transistors to P-channel MOS transistors. It has been replaced.

【0047】本実施形態の中間電位発生回路は、中間電
位発生部21と、出力部22とから構成されている。
The intermediate potential generating circuit according to the present embodiment includes an intermediate potential generating section 21 and an output section 22.

【0048】また、中間電位発生部21は、Pチャネル
MOSトランジスタ23、24より構成されている。
The intermediate potential generator 21 is composed of P-channel MOS transistors 23 and 24.

【0049】NチャネルMOSトランジスタ23は、ド
レインとゲートが中間端子5に接続され、ソースが電源
電圧VDDに接続されている。NチャネルMOSトラン
ジスタ24は、ソースが中間端子5に接続され、ドレイ
ンがグランドに接続され、ゲートが出力端子8に接続さ
れている。
The N-channel MOS transistor 23 has a drain and a gate connected to the intermediate terminal 5, and a source connected to the power supply voltage VDD. The N-channel MOS transistor 24 has a source connected to the intermediate terminal 5, a drain connected to the ground, and a gate connected to the output terminal 8.

【0050】出力部22は、NチャネルMOSトランジ
スタ26、27より構成されている。
The output section 22 includes N-channel MOS transistors 26 and 27.

【0051】NチャネルMOSトランジスタ26は、ソ
ースが電源電圧に接続され、ゲートが中間端子5に接続
され、ドレインが出力端子8に接続されている。Nチャ
ネルMOSトランジスタ27は、ソースが出力端子8に
接続され、ゲートが中間端子5に接続され、ドレインが
グランドに接続されている。
The N-channel MOS transistor 26 has a source connected to the power supply voltage, a gate connected to the intermediate terminal 5, and a drain connected to the output terminal 8. The N-channel MOS transistor 27 has a source connected to the output terminal 8, a gate connected to the intermediate terminal 5, and a drain connected to the ground.

【0052】さらに、PチャネルMOSトランジスタ2
3、24、26、27のバックゲートは、全てグランド
へ接続されている。
Further, P-channel MOS transistor 2
The back gates 3, 24, 26 and 27 are all connected to ground.

【0053】本実施形態の中間電位発生回路の動作は図
1に示した第1の実施形態の中間電位発生回路と同様な
動作であるためその説明は省略する。
The operation of the intermediate potential generation circuit of the present embodiment is the same as the operation of the intermediate potential generation circuit of the first embodiment shown in FIG. 1, and a description thereof will be omitted.

【0054】そして、本実施形態の中間電位発生回路
は、同じ導電型であるPチャネルMOSトランジスタ2
3、24、26、27によって構成されている。そのた
め、本実施形態の中間電位発生回路を1つの半導体基板
上に構成する場合には、素子分離領域を形成する必要が
ないため、従来の中間電位発生回路と比較して回路規模
を削減することができる。
The intermediate potential generating circuit according to the present embodiment is a P-channel MOS transistor 2 of the same conductivity type.
3, 24, 26, and 27. Therefore, when the intermediate potential generation circuit of the present embodiment is formed on one semiconductor substrate, it is not necessary to form an element isolation region, and therefore, the circuit scale can be reduced as compared with the conventional intermediate potential generation circuit. Can be.

【0055】このことは、本発明の中間電位発生回路
が、トランジスタの導電型によらず構成可能であること
を示す。
This indicates that the intermediate potential generating circuit of the present invention can be configured regardless of the conductivity type of the transistor.

【0056】また、第1の実施形態と第2の実施形態の
関係と同様に、第3の実施形態に対してもPチャネルM
OSトランジスタ24の段数を変更することが可能であ
る。
As in the relationship between the first embodiment and the second embodiment, the P-channel M
The number of stages of the OS transistor 24 can be changed.

【0057】また、上記第1から第3の実施形態の中間
電位発生回路において、未使用時には定常電流を切るた
めの各種回路が付加可能である。具体的には、図1の第
1の実施形態では、VDDとNチャネルMOSトランジ
スタ3のドレインおよびゲートとの間にスイッチング回
路を設け、VDDとNチャネルMOSトランジスタ6の
ドレインの間にスイッチング回路を設け、未使用時には
これらのスイッチング回路を遮断することにより定常電
流が流れないようにすることができる。
Further, in the intermediate potential generating circuits of the first to third embodiments, various circuits for cutting off the steady current when not used can be added. Specifically, in the first embodiment shown in FIG. 1, a switching circuit is provided between VDD and the drain and gate of the N-channel MOS transistor 3, and a switching circuit is provided between VDD and the drain of the N-channel MOS transistor 6. When not in use, these switching circuits are cut off to prevent a steady current from flowing.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、出力電
位を中間電位発生部に帰還することにより、出力端子が
隣接配線等から受ける電位変動の影響を抑えて安定した
出力電位を得ることができる中間電位発生回路を同じ導
電型のMOSトランジスタのみにより構成することがで
き、同一半導体基板上に構成した場合に回路規模を削減
することができるという効果を有する。
As described above, according to the present invention, the output potential is fed back to the intermediate potential generating section, thereby suppressing the influence of the potential fluctuation which the output terminal receives from the adjacent wiring or the like and obtaining a stable output potential. The intermediate potential generating circuit can be configured only by MOS transistors of the same conductivity type, and has an effect that the circuit scale can be reduced when configured on the same semiconductor substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態の中間電位発生回路の
構成を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of an intermediate potential generating circuit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の中間電位発生回路10の出力端子8に外
部から電位変動を与えた場合の動作を観測するための試
験回路を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a test circuit for observing an operation when a potential change is externally applied to an output terminal 8 of an intermediate potential generating circuit 10 of FIG. 1;

【図3】図2の試験回路による観測結果を示した図であ
る。
FIG. 3 is a diagram showing an observation result by the test circuit of FIG. 2;

【図4】図3の拡大図を発振器50の出力とともに示す
図である。
4 is a diagram showing an enlarged view of FIG. 3 together with an output of an oscillator 50.

【図5】本発明の第2の実施形態の中間電位発生回路の
構成を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of an intermediate potential generation circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第3の実施形態の中間電位発生回路の
構成を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration of an intermediate potential generating circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図7】従来の中間電位発生回路の構成を示す回路図で
ある。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of a conventional intermediate potential generation circuit.

【図8】従来の他の中間電位発生回路の構成を示す回路
図である。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a configuration of another conventional intermediate potential generating circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 中間電位発生部 2 出力部 3、4 NチャネルMOSトランジスタ 5 中間端子 6、7 NチャネルMOSトランジスタ 8 出力端子 10 中間電位発生回路 11 中間電位発生部 14 NチャネルMOSトランジスタ 19 NチャネルMOSトランジスタ 21 中間電位発生部 22 出力部 23、24 PチャネルMOSトランジスタ 26、27 PチャネルMOSトランジスタ 50 発振器 51、52 コンデンサ 61 PチャネルMOSトランジスタ 62 NチャネルMOSトランジスタ 63 PチャネルMOSトランジスタ 64、65 NチャネルMOSトランジスタ 66 PチャネルMOSトランジスタ 67 出力端子 68 NチャネルMOSトランジスタ 69 中間端子 71 中間電位発生部 72 出力部 81 中間電位発生部 82 PチャネルMOSトランジスタ 83 NチャネルMOSトランジスタ 84 PチャネルMOSトランジスタ 85、86 NチャネルMOSトランジスタ 87 PチャネルMOSトランジスタ 88 出力端子 89 出力部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Intermediate potential generation part 2 Output part 3, 4 N channel MOS transistor 5 Intermediate terminal 6, 7 N channel MOS transistor 8 Output terminal 10 Intermediate potential generation circuit 11 Intermediate potential generation part 14 N channel MOS transistor 19 N channel MOS transistor 21 Intermediate Potential generator 22 Output unit 23, 24 P-channel MOS transistor 26, 27 P-channel MOS transistor 50 Oscillator 51, 52 Capacitor 61 P-channel MOS transistor 62 N-channel MOS transistor 63 P-channel MOS transistor 64, 65 N-channel MOS transistor 66 P Channel MOS transistor 67 Output terminal 68 N-channel MOS transistor 69 Intermediate terminal 71 Intermediate potential generating section 72 Output section 81 Intermediate potential generating section 82 P-channel MOS transistor 83 N-channel MOS transistor 84 P-channel MOS transistor 85, 86 N-channel MOS transistor 87 P-channel MOS transistor 88 Output terminal 89 Output section

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ドレインとゲートが電源電圧に接続さ
れ、ソースが中間端子に接続された第1のMOSトラン
ジスタと、ドレインが前記第1のMOSトランジスタの
ソースに接続され、ソースがグランドに接続され、ゲー
トが出力端子に接続されている第2のMOSトランジス
タとから構成されている中間電位発生部と、 ドレインが前記電源電圧に接続され、ゲートが前記中間
端子に接続され、ソースが前記出力端子に接続された第
3のNチャネルMOSトランジスタと、ドレインが前記
出力端子に接続され、ゲートが前記中間端子に接続さ
れ、ソースがグランドに接続された第4のMOSトラン
ジスタとから構成されている出力部とを有する中間電位
発生回路において、 前記第1から第4のMOSトランジスタが全て同一の導
電型であることを特徴とする中間電位発生回路。
1. A first MOS transistor having a drain and a gate connected to a power supply voltage, a source connected to an intermediate terminal, a drain connected to a source of the first MOS transistor, and a source connected to ground. An intermediate potential generating section comprising a second MOS transistor having a gate connected to the output terminal; a drain connected to the power supply voltage; a gate connected to the intermediate terminal; and a source connected to the output terminal. And a fourth N-channel MOS transistor having a drain connected to the output terminal, a gate connected to the intermediate terminal, and a source connected to ground. , The first to fourth MOS transistors are all of the same conductivity type. Intermediate potential generating circuit according to claim.
【請求項2】 前記第1から第4のMOSトランジスタ
が、全てNチャネルMOSトランジスタである請求項1
記載の中間電位発生回路。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the first to fourth MOS transistors are all N-channel MOS transistors.
An intermediate potential generating circuit as described in the above.
【請求項3】 前記第1から第4のMOSトランジスタ
が、全てPチャネルMOSトランジスタである請求項1
記載の中間電位発生回路。
3. The first to fourth MOS transistors are all P-channel MOS transistors.
An intermediate potential generating circuit as described in the above.
【請求項4】 ドレインとゲートが電源電圧に接続さ
れ、ソースが中間端子に接続された第1のMOSトラン
ジスタと、ドレインとソースがお互いに接続されること
により直列に接続され、直列接続された場合の端部のド
レインが前記第1のMOSトランジスタのソースに接続
され、直列接続された場合のたん部のソースがグランド
に接続され、ゲートがそれぞれ出力端子に接続されてい
る複数の第2のMOSトランジスタとから構成されてい
る中間電位発生部と、 ドレインが前記電源電圧に接続され、ゲートが前記中間
端子に接続され、ソースが前記出力端子に接続された第
3のNチャネルMOSトランジスタと、ドレインが前記
出力端子に接続され、ゲートが前記中間端子に接続さ
れ、ソースがグランドに接続された第4のMOSトラン
ジスタとから構成されている出力部とを有する中間電位
発生回路において、 前記第1から第4のMOSトランジスタが全て同一の導
電型であることを特徴とする中間電位発生回路。
4. A first MOS transistor having a drain and a gate connected to a power supply voltage and a source connected to an intermediate terminal, and a drain and a source connected to each other in series and connected in series. The drain of the end in the case is connected to the source of the first MOS transistor, the source of the head in the case of series connection is connected to the ground, and the gates are connected to the output terminals, respectively. A third N-channel MOS transistor having a drain connected to the power supply voltage, a gate connected to the intermediate terminal, and a source connected to the output terminal; A fourth MOS transistor having a drain connected to the output terminal, a gate connected to the intermediate terminal, and a source connected to ground. In the intermediate potential generation circuit having an output section is composed of a static, intermediate potential generating circuit, characterized in that from the first is a 4 MOS transistor are all the same conductivity type of.
【請求項5】 前記第1から第4のMOSトランジスタ
が、全てNチャネルMOSトランジスタである請求項4
記載の中間電位発生回路。
5. The semiconductor device according to claim 4, wherein the first to fourth MOS transistors are all N-channel MOS transistors.
An intermediate potential generating circuit as described in the above.
【請求項6】 前記第1から第4のMOSトランジスタ
が、全てPチャネルMOSトランジスタである請求項4
記載の中間電位発生回路。
6. The first to fourth MOS transistors are all P-channel MOS transistors.
An intermediate potential generating circuit as described in the above.
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