JP2000161236A - Vacuum pressure control system - Google Patents

Vacuum pressure control system

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JP2000161236A
JP2000161236A JP10341865A JP34186598A JP2000161236A JP 2000161236 A JP2000161236 A JP 2000161236A JP 10341865 A JP10341865 A JP 10341865A JP 34186598 A JP34186598 A JP 34186598A JP 2000161236 A JP2000161236 A JP 2000161236A
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vacuum
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Masayuki Koketsu
雅之 纐纈
Tetsujiro Kono
哲兒郎 河野
Hiroshi Kagohashi
宏 籠橋
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vacuum pressure control system which prevents the excessive variation to an object vacuum pressure value, when the vacuum pressure in a vacuum container is changed by controlling the opening of a vacuum proportional switching valve by making the valve opening instruction value immediately after the starting of movement of the valve plug of the vacuum proportional switching valve as the lowest point of the valve opening instruction value, and to provide a vacuum pressure control system which corrects the slippage of the correspondent relation of the opening of the vacuum proportional switching valve, and the valve opening instruction value. SOLUTION: A valve opening instruction value corresponding to the output value of a potentiometer when a poppet valve plug is contacted closely with a valve seat is found as a tentative valve opening instruction, at S3, and the zero point of the opening of the new vacuum proportional switching valve decided at S11 is made as a valve opening instruction value varied a little from the tentative valve opening instruction value. Since the zero point of the opening of the new vacuum proportional switching value decided at S11 is a value a little lower than the decided value, it is made as the valve opening instruction value immediately after the starting of movement of the poppet valve plug.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置で
使用される真空圧力制御システムに関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a vacuum pressure control system used in a semiconductor manufacturing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、例えば、半導体製造装置のCVD
装置においては、反応室内を減圧状態、すなわち、真空
状態に保ちながら、薄膜材料を構成する元素からなる材
料ガスを、ウエハー上に供給している。例えば、図16
に示すCVD装置においては、真空容器である反応室1
0内のウエハーに対して、反応室10の入口11から材
料ガスを供給するとともに、反応室10の出口12から
真空ポンプ13で排気することによって、反応室10内
を真空状態に保っている。
2. Description of the Related Art Conventionally, for example, CVD of a semiconductor manufacturing apparatus
In the apparatus, a material gas composed of an element constituting a thin film material is supplied onto a wafer while keeping a reaction chamber in a reduced pressure state, that is, a vacuum state. For example, FIG.
In the CVD apparatus shown in FIG.
The material gas is supplied from the inlet 11 of the reaction chamber 10 to the wafer in the chamber 0 and exhausted by the vacuum pump 13 from the outlet 12 of the reaction chamber 10 to maintain the inside of the reaction chamber 10 in a vacuum state.

【0003】このとき、反応室10内の真空圧力を一定
に保持する必要があるが、その一定値は、種々の条件に
よって変わり、大気圧又は大気圧に近い低真空から高真
空までの広いレンジに渡る。そこで、本出願人は、特許
公報第2677536号において、大気圧に近い低真空
から高真空までの広いレンジに渡って、真空圧力を精度
良く一定に保持できる真空圧力制御システムを開示して
いる。
At this time, it is necessary to keep the vacuum pressure in the reaction chamber 10 constant. The constant value varies depending on various conditions, and ranges from the atmospheric pressure or a low vacuum close to the atmospheric pressure to a high vacuum. Cross over. In view of this, the present applicant has disclosed in Japanese Patent Publication No. 2677536 a vacuum pressure control system capable of accurately maintaining a constant vacuum pressure over a wide range from low vacuum close to atmospheric pressure to high vacuum.

【0004】そこで、特許公報第2677536号に記
載された真空圧力制御システム(以下、「従来技術の真
空圧力制御システム」という)の概要について簡単に説
明する。図15に、図16に対する、従来技術の真空圧
力制御システムのブロック図を示す。従来技術の真空圧
力制御システムは、コントローラ20、空気圧制御部3
0、操作部40である真空比例開閉弁16、検出部60
である真空圧力センサー14、15から構成される。
[0004] An outline of a vacuum pressure control system (hereinafter, referred to as "prior art vacuum pressure control system") described in Japanese Patent Publication No. 2677536 will be briefly described. FIG. 15 shows a block diagram of a conventional vacuum pressure control system with respect to FIG. The prior art vacuum pressure control system comprises a controller 20, an air pressure controller 3
0, the vacuum proportional on-off valve 16 as the operation unit 40, and the detection unit 60
, And vacuum pressure sensors 14 and 15.

【0005】コントローラ20は、インターフェイス回
路21、真空圧力制御回路22、シーケンス制御回路2
3からなる。インターフェイス回路21は、コントロー
ラ20のフロントパネルのボタンを介した現場入力によ
る信号、及び、コントローラ20のバックパネルのコネ
クタを介した遠隔入力による信号を、真空圧力制御回路
22やシーケンス制御回路23などに適した信号に変換
するものである。
The controller 20 includes an interface circuit 21, a vacuum pressure control circuit 22, and a sequence control circuit 2.
Consists of three. The interface circuit 21 sends a signal from a field input via a button on the front panel of the controller 20 and a signal from a remote input via a connector on the back panel of the controller 20 to the vacuum pressure control circuit 22, the sequence control circuit 23, and the like. It converts it into a suitable signal.

【0006】真空圧力制御回路22は、図16の反応室
10内の真空圧力に対するフィードバック制御をPID
制御で行わせる回路である。シーケンス制御回路23
は、インターフェイス回路21から与えられた動作モー
ドに従って、空気圧制御部30内の第1電磁弁34の駆
動コイルSV1と第2電磁弁35の駆動コイルSV2と
に対し、予め定められた動作をさせる回路である。
The vacuum pressure control circuit 22 performs PID feedback control on the vacuum pressure in the reaction chamber 10 shown in FIG.
This is a circuit to be controlled. Sequence control circuit 23
Is a circuit that causes the drive coil SV1 of the first solenoid valve 34 and the drive coil SV2 of the second solenoid valve 35 in the air pressure control unit 30 to perform a predetermined operation in accordance with the operation mode given from the interface circuit 21. It is.

【0007】空気圧制御部30は、位置制御回路31、
パルスドライブ回路32、時間開閉動作弁33、第1電
磁弁34、第2電磁弁35からなる。位置制御回路31
は、真空圧力制御回路22から与えられた弁開度指令値
と、真空比例開閉弁16に設けられたポテンショメータ
18(「弁開度センサー」に相当するもの)からアンプ
19を介して与えられた真空比例開閉弁16の開度とを
比較して、真空比例開閉弁16の弁の位置を制御するも
のである。パルスドライブ回路32は、位置制御回路3
1からの制御信号に基づいて、時間開閉動作弁33へパ
ルス信号を送信するものである。
The air pressure control unit 30 includes a position control circuit 31,
It comprises a pulse drive circuit 32, a time opening / closing operation valve 33, a first solenoid valve 34, and a second solenoid valve 35. Position control circuit 31
Is supplied via an amplifier 19 from a valve opening command value given from the vacuum pressure control circuit 22 and a potentiometer 18 (corresponding to a “valve opening sensor”) provided on the vacuum proportional on-off valve 16. The position of the vacuum proportional on-off valve 16 is controlled by comparing the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16. The pulse drive circuit 32 includes the position control circuit 3
A pulse signal is transmitted to the time opening / closing operation valve 33 based on the control signal from the control unit 1.

【0008】時間開閉動作弁33は、図示しない給気側
比例弁及び排気側比例弁を内蔵するものであって、パル
スドライブ回路32からのパルス信号に応じて、給気側
比例弁及び排気側比例弁を時間開閉動作させるものであ
り、第1電磁弁34を介して、真空比例開閉弁16の空
気圧シリンダ41(後述する図13、図14参照)内の
空気圧力を調整するものである。
The time opening / closing operation valve 33 incorporates a supply side proportional valve and an exhaust side proportional valve (not shown), and according to a pulse signal from a pulse drive circuit 32, the supply side proportional valve and the exhaust side proportional valve. The proportional valve is operated to open and close over time, and the air pressure in the pneumatic cylinder 41 of the vacuum proportional on-off valve 16 (see FIGS. 13 and 14 described later) is adjusted via the first solenoid valve 34.

【0009】操作部40である真空比例開閉弁16は、
図16について言えば、反応室10から真空ポンプ13
までの排気系のコンダクタンスを変化させるものであ
る。図13、図14に真空比例開閉弁16の断面を示
す。図に示すように、その中央には、ピストンロッド4
3が設けられている。そして、ピストンロッド43に対
し、真空比例開閉弁16の上部である空気圧シリンダ4
1内において、ピストン44が固設され、真空比例開閉
弁16の下部であるベローズ式ポペット弁42内におい
て、ポペット弁体45が固設されている。従って、空気
圧シリンダ41によりポペット弁体45を移動させるこ
とができる。
[0009] The vacuum proportional on-off valve 16, which is the operation unit 40,
Referring to FIG. 16, the vacuum pump 13
To change the conductance of the exhaust system. 13 and 14 show cross sections of the vacuum proportional on-off valve 16. As shown in the figure, the center of the piston rod 4
3 are provided. Then, the pneumatic cylinder 4 above the vacuum proportional on-off valve 16 is
1, a piston 44 is fixed, and a poppet valve body 45 is fixed in a bellows type poppet valve 42, which is a lower portion of the vacuum proportional on-off valve 16. Therefore, the poppet valve body 45 can be moved by the pneumatic cylinder 41.

【0010】この真空比例開閉弁16では、空気圧シリ
ンダ41内に供給ポート18Aを介して圧縮空気が供給
されず、空気圧シリンダ41内が排気ポート18Bを介
して排気ラインと連通するときは、空気圧シリンダ41
内の復帰バネ46による下向きの付勢力がピストン44
に作用するので、図13に示すように、ポペット弁体4
5に設けられたOリング50(「弾性シール部材」に相
当する)が弁座47に密接し、真空比例開閉弁16は遮
断した状態となる。
In this vacuum proportional on-off valve 16, compressed air is not supplied into the pneumatic cylinder 41 through the supply port 18A, and when the inside of the pneumatic cylinder 41 communicates with the exhaust line through the exhaust port 18B, the pneumatic cylinder 41
The downward biasing force of the return spring 46 inside the piston 44
Therefore, as shown in FIG.
The O-ring 50 (corresponding to an “elastic sealing member”) provided on the valve 5 is in close contact with the valve seat 47, and the vacuum proportional on-off valve 16 is shut off.

【0011】一方、空気圧シリンダ41内に給気ポート
18Aを介して圧縮空気が供給されるときは、空気圧シ
リンダ41内の復帰バネ46による下向きの付勢力と、
空気圧シリンダ41内の圧縮空気による上向きの圧力と
がピストン44に同時に作用するので、そのバランスに
応じて、図14に示すように、ポペット弁体45は弁座
47から離間し、真空比例開閉弁16は開いた状態とな
る。
On the other hand, when compressed air is supplied into the pneumatic cylinder 41 via the air supply port 18A, a downward biasing force of the return spring 46 in the pneumatic cylinder 41
Since the upward pressure of the compressed air in the pneumatic cylinder 41 simultaneously acts on the piston 44, the poppet valve body 45 is separated from the valve seat 47 as shown in FIG. 16 is open.

【0012】よって、ポペット弁体45が弁座47から
離間する距離は、弁のリフト量として、空気圧シリンダ
41に対する圧縮空気の供給と排気で操作することがで
きる。尚、ポペット弁体45が弁座47から離間する距
離は、弁のリフト量として、ピストン44に連結された
スライドレバー48を介して、ポテンショメータ18で
計測されるものであり、真空比例開閉弁16の開度に相
当するものである。
Accordingly, the distance at which the poppet valve element 45 is separated from the valve seat 47 can be controlled by supplying and exhausting compressed air to the pneumatic cylinder 41 as a valve lift. The distance that the poppet valve element 45 separates from the valve seat 47 is measured by the potentiometer 18 via a slide lever 48 connected to the piston 44 as a lift amount of the valve. Is equivalent to the opening degree.

【0013】検出部である真空圧力センサー14、15
は、図16の反応室10内の真空圧力を計測するキャパ
シタンスマノメータである。ここでは、計測される真空
圧力のレンジに応じて、2個のキャパシタンスマノメー
タを使い分けている。
The vacuum pressure sensors 14 and 15 serving as detection units
Is a capacitance manometer for measuring the vacuum pressure in the reaction chamber 10 of FIG. Here, two capacitance manometers are selectively used according to the range of the vacuum pressure to be measured.

【0014】このような構成を持つ従来技術の真空圧力
制御システムでは、動作モードとして、強制クローズモ
ード(CLOSE)を、コントローラ20で選択する
と、シーケンス制御回路23は、第1電磁弁34及び第
2電磁弁35を図15に示すように動作させる。これに
より、空気圧シリンダ41内には圧縮空気が供給され
ず、空気圧シリンダ41内は排気ラインと連通するの
で、空気圧シリンダ41内の空気圧が大気圧となり、真
空比例開閉弁16は遮断した状態となる。
In the conventional vacuum pressure control system having such a configuration, when the controller 20 selects the forced close mode (CLOSE) as the operation mode, the sequence control circuit 23 causes the first solenoid valve 34 and the second The solenoid valve 35 is operated as shown in FIG. As a result, no compressed air is supplied into the pneumatic cylinder 41, and the inside of the pneumatic cylinder 41 communicates with the exhaust line, so that the air pressure in the pneumatic cylinder 41 becomes the atmospheric pressure and the vacuum proportional on-off valve 16 is shut off. .

【0015】また、動作モードとして、真空圧力コント
ロールモード(PRESS)を、コントローラ20で選
択すると、シーケンス制御回路23は、第1電磁弁34
を動作させることによって、時間開閉動作弁33と空気
圧シリンダ41とを連通させる。これにより、真空比例
開閉弁16の空気圧シリンダ41内の空気圧力が調整さ
れ、弁のリフト量が、空気圧シリンダ41で操作できる
状態となる。
When the controller 20 selects the vacuum pressure control mode (PRESS) as the operation mode, the sequence control circuit 23
Is operated, the time opening / closing operation valve 33 and the pneumatic cylinder 41 communicate with each other. As a result, the air pressure in the pneumatic cylinder 41 of the vacuum proportional on-off valve 16 is adjusted, and the valve lift can be operated by the pneumatic cylinder 41.

【0016】また、このとき、真空圧力制御回路22
は、現場入力又は遠隔入力で指示された目標真空圧力値
を目標値とするフィードバック制御を開始する。すなわ
ち、図16において、真空圧力センサー14、15で反
応室10内の真空圧力値を計測し、それと目標真空圧力
値との差に応じて、弁開度指令値を位置制御回路31へ
出力し、これにより真空比例開閉弁16の弁のリフト量
を操作し、排気系のコンダクタンスを変化させることに
よって、反応室10内の真空圧力を目標真空圧力値に一
定に保持する。
At this time, the vacuum pressure control circuit 22
Starts feedback control using a target vacuum pressure value specified by a local input or a remote input as a target value. That is, in FIG. 16, a vacuum pressure value in the reaction chamber 10 is measured by the vacuum pressure sensors 14 and 15, and a valve opening command value is output to the position control circuit 31 in accordance with a difference between the vacuum pressure value and the target vacuum pressure value. Thus, by operating the lift amount of the vacuum proportional on-off valve 16 to change the conductance of the exhaust system, the vacuum pressure in the reaction chamber 10 is kept constant at the target vacuum pressure value.

【0017】従って、従来技術の真空圧力システムで
は、真空圧力制御回路22が弁開度指令値を位置制御回
路31へ出力して真空比例開閉弁16の開度を操作する
ことによって、排気系のコンダクタンスを幅広く確実に
変化させることができるので、大気圧又は大気圧に近い
低真空から高真空までの広いレンジに渡って、反応室1
0内の真空圧力を精度良く目標真空圧力値に一定に保持
することができる。
Therefore, in the prior art vacuum pressure system, the vacuum pressure control circuit 22 outputs the valve opening command value to the position control circuit 31 and operates the opening of the vacuum proportional on-off valve 16 to thereby control the exhaust system. Since the conductance can be varied widely and reliably, the reaction chamber 1 can be used over a wide range from atmospheric pressure or low vacuum close to atmospheric pressure to high vacuum.
The vacuum pressure within 0 can be accurately and constantly maintained at the target vacuum pressure value.

【0018】また、コントローラ20においては、反応
室10内の真空圧力に対するフィードバック制御の制御
偏差が大きいときは、フィードバック制御の操作量を最
大にさせており、フィードバック制御の速応性が十分に
確保している。一方、フィードバック制御の制御偏差が
小さいときは、予め調整された時定数に段階的に移行さ
せており、反応室10内の真空圧力を安定した状態で維
持することができる。
Further, in the controller 20, when the control deviation of the feedback control with respect to the vacuum pressure in the reaction chamber 10 is large, the operation amount of the feedback control is maximized, and the responsiveness of the feedback control is sufficiently ensured. ing. On the other hand, when the control deviation of the feedback control is small, the time constant is shifted stepwise to the preset time constant, and the vacuum pressure in the reaction chamber 10 can be maintained in a stable state.

【0019】具体的には、図17に示すように、真空圧
力センサー14、15で計測された反応室10内の真空
圧力値を比例微分回路105、106により調整した値
は、現場入力又は遠隔入力で指示された目標真空圧力値
と比較した後、比例微分積分回路102、103に入力
される。その後、直列に接続された積分回路104は、
位置制御回路31に出力するため、0〜5Vの範囲の電
圧を出力する。積分回路104の時定数は、積分時間調
整回路101により決定される。真空圧力センサー1
4、15の計測値が、目標真空圧力値に対し離れている
ときは、内部演算回路により積分回路の積分時間が極小
となるように動作する。これにより、積分回路104
は、ほぼ無限大のゲインをもつ増幅回路として機能す
る。すなわち、真空圧力センサー14、15の計測値>
目標真空圧力値の場合は、積分回路104の最大値であ
る5Vが、位置制御回路31に対して出力される。その
結果、真空比例開閉弁16は急速に開く方向に動作す
る。
More specifically, as shown in FIG. 17, the values obtained by adjusting the vacuum pressure values in the reaction chamber 10 measured by the vacuum pressure sensors 14 and 15 by the proportional differentiating circuits 105 and 106 are input on site or remote. After being compared with the target vacuum pressure value specified by the input, it is input to the proportional differential integration circuits 102 and 103. After that, the integrating circuit 104 connected in series becomes
To output to the position control circuit 31, a voltage in the range of 0 to 5V is output. The time constant of the integration circuit 104 is determined by the integration time adjustment circuit 101. Vacuum pressure sensor 1
When the measured values of 4 and 15 are far from the target vacuum pressure value, the internal operation circuit operates so that the integration time of the integration circuit is minimized. Thereby, the integration circuit 104
Functions as an amplifier circuit having an almost infinite gain. That is, the measurement values of the vacuum pressure sensors 14 and 15>
In the case of the target vacuum pressure value, 5 V which is the maximum value of the integration circuit 104 is output to the position control circuit 31. As a result, the vacuum proportional on-off valve 16 operates in a direction to open rapidly.

【0020】真空圧力センサー14、15の計測値<目
標真空圧力値の場合は、積分回路104の最小値である
0Vが位置制御回路31に対して出力される。その結
果、真空比例開閉弁16は、急速に閉じる方向に動作す
る。これらの動作により、真空比例開閉弁16の弁開度
(弁のリフト量)は、目標真空圧力値にするための位置
の近くまで、最短時間で到達できる。その後、目標真空
圧力値にするための位置の近くまで到達したと判断した
積分時間調整回路101は、その位置にて真空圧力を安
定した状態で保持するため、予め調整された積分回路1
04の時定数に段階的に移行する動作を行う。
When the measured values of the vacuum pressure sensors 14 and 15 <the target vacuum pressure value, 0 V which is the minimum value of the integration circuit 104 is output to the position control circuit 31. As a result, the vacuum proportional on-off valve 16 operates in a direction to rapidly close. By these operations, the valve opening (valve lift amount) of the vacuum proportional on-off valve 16 can reach the position near the target vacuum pressure value in the shortest time. After that, the integration time adjusting circuit 101, which has determined that it has reached near the position for achieving the target vacuum pressure value, maintains the vacuum pressure at that position in a stable state.
An operation of shifting to the time constant of 04 stepwise is performed.

【0021】[0021]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術の真空圧力制御システムにおいては、図16のCVD
装置の反応室10について言えば、真空比例開閉弁16
の接ガス面に析出しやすいジクロールシランなどの材料
ガスが入口11から供給されることが多いことから、反
応室10の材料ガスが通過する真空比例開閉弁16を定
期的に分解・清浄・再組立する必要があった。
However, in the prior art vacuum pressure control system, the CVD system shown in FIG.
Regarding the reaction chamber 10 of the apparatus, the vacuum proportional on-off valve 16
Since a material gas such as dichlorsilane which tends to precipitate on the gas contact surface of the reaction chamber is often supplied from the inlet 11, the vacuum proportional on-off valve 16 through which the material gas in the reaction chamber 10 passes is periodically decomposed, cleaned and cleaned. Had to be reassembled.

【0022】そして、真空比例開閉弁16を再組立した
際には、再組立時の締付力の相違、ポペット弁体45に
設けられたOリング50の経時変化などから、ポペット
弁体45が動き始めた直後における真空比例開閉弁16
の開度(弁のリフト量)が変わることとなる。
When the vacuum proportional on-off valve 16 is reassembled, the poppet valve body 45 is re-assembled due to a difference in the tightening force at the time of reassembly and a change with time of the O-ring 50 provided on the poppet valve body 45. Vacuum proportional on-off valve 16 immediately after starting to move
Of the valve (valve lift amount) changes.

【0023】従って、例えば、反応室10内の真空圧力
を高真空圧から大気圧付近の目標真空圧力値に変化させ
る場合に、積分回路104の最小値である0Vを位置制
御回路31に対して出力し、ポペット弁体45に設けら
れたOリング50を弁座47に密接させて、真空比例開
閉弁16を遮断状態にして、反応室10内の真空圧力を
高真空圧から大気圧付近の目標真空圧力値に急速に近づ
けることが行われると、その後に、真空圧力制御回路2
2が弁開度指令値を位置制御回路31へ出力して真空比
例開閉弁16の開度を操作しても、ポペット弁体45が
動き始めた直後の真空比例開閉弁16の開度(弁のリフ
ト量)が変わることによって、反応室10内の材料ガス
の排出が再び開始されるまでの時間が、真空比例開閉弁
16の再組立前のものと比べて長くなることがあるの
で、その結果、反応室10内の真空圧力が目標真空圧力
値に対して行き過ぎること(オーバーシュート)があっ
た。また、同様にして、反応室10内の材料ガスの排出
が開始されるまでの時間が、真空比例開閉弁16の再組
立前のものと比べて短くなることがあるので、真空比例
開閉弁16が遮断状態にある場合に、反応室10内の真
空圧力を大気圧から絶対真空方向に向かってゆっくりと
変化させる際に、反応室10内の真空圧力が目標真空圧
力値に対して行き過ぎること(アンダーシュート)があ
った。
Accordingly, for example, when changing the vacuum pressure in the reaction chamber 10 from a high vacuum pressure to a target vacuum pressure value near the atmospheric pressure, 0 V which is the minimum value of the integration circuit 104 is applied to the position control circuit 31. The O-ring 50 provided on the poppet valve body 45 is brought into close contact with the valve seat 47, the vacuum proportional on-off valve 16 is closed, and the vacuum pressure in the reaction chamber 10 is changed from a high vacuum pressure to a pressure near the atmospheric pressure. Once the target vacuum pressure value is rapidly approached, the vacuum pressure control circuit 2
2 outputs the valve opening command value to the position control circuit 31 and operates the opening of the vacuum proportional on-off valve 16, the opening of the vacuum proportional on-off valve 16 immediately after the poppet valve body 45 starts moving (the valve Of the vacuum proportional on-off valve 16 may be longer than before the re-assembly of the vacuum proportional on-off valve 16 due to the change of the lift amount of the vacuum chamber. As a result, the vacuum pressure in the reaction chamber 10 sometimes exceeded the target vacuum pressure value (overshoot). Similarly, the time until the discharge of the material gas in the reaction chamber 10 is started may be shorter than that before the vacuum proportional on-off valve 16 is reassembled. When the vacuum pressure in the reaction chamber 10 is slowly changed from the atmospheric pressure toward the absolute vacuum direction when the pressure is in the shut-off state, the vacuum pressure in the reaction chamber 10 goes too far with respect to the target vacuum pressure value ( Undershoot).

【0024】また、真空比例開閉弁16を再組立した際
には、再組立時の締付力の相違、ポペット弁体45に設
けられたOリング50の経時変化、電気的な経年変化な
どから、弁座47とポテンショメータ18の位置関係が
真空比例開閉弁16の再組立前のものと比べて上下に変
化するので、真空比例開閉弁16の開度が同じ値であっ
ても、真空比例開閉弁16の再組立前と再組立後では、
真空比例開閉弁16の開度を計測するポテンショメータ
18の出力値が異なることとなる。
Also, when the vacuum proportional on-off valve 16 is reassembled, the difference in tightening force at the time of reassembly, the aging of the O-ring 50 provided on the poppet valve body 45, the electrical aging, etc. Since the positional relationship between the valve seat 47 and the potentiometer 18 changes up and down as compared to that before reassembly of the vacuum proportional on-off valve 16, even if the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 is the same value, the vacuum proportional on-off Before and after reassembly of the valve 16,
The output value of the potentiometer 18 for measuring the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 will be different.

【0025】一方、反応室10内の真空圧力を目標真空
圧力値に一定に保持するフィードバック制御を行う場合
には、ポテンショメータ18の出力値で真空比例開閉弁
16の開度を測定しながら、真空圧力制御回路22から
出力された弁開度指令値に従って真空比例開閉弁16の
開度を操作しており、真空比例開閉弁16の開度が弁開
度指令値に応じた開度になったか否かは、ポテンショメ
ータ18の出力値で判断しているので、ポテンショメー
タ18の出力値と真空圧力制御回路22から出力された
弁開度指令値とは一対一の電気的対応関係にある。すな
わち、弁開度指令値は、ポテンショメータ18の出力値
を介して、真空比例開閉弁16の開度と一対一の対応関
係にあった。
On the other hand, when performing feedback control in which the vacuum pressure in the reaction chamber 10 is kept constant at the target vacuum pressure value, while measuring the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 with the output value of the potentiometer 18, The opening of the vacuum proportional on-off valve 16 is being operated in accordance with the valve opening command value output from the pressure control circuit 22, and the opening of the vacuum proportional on-off valve 16 has reached the opening corresponding to the valve opening command value. Since the determination is made based on the output value of the potentiometer 18, there is a one-to-one electrical correspondence between the output value of the potentiometer 18 and the valve opening command value output from the vacuum pressure control circuit 22. That is, the valve opening command value has a one-to-one correspondence with the opening of the vacuum proportional on-off valve 16 via the output value of the potentiometer 18.

【0026】従って、ポテンショメータ18の出力値の
ずれが生じると、真空比例開閉弁16の再組立後におい
ては、弁開度指令値と真空比例開閉弁16の開度との対
応関係にもずれが生じることとなる。そして、弁開度指
令値と真空比例開閉弁16の開度との対応関係のずれが
大きい場合には、ポテンショメータ18の出力値と弁開
度指令値との電気的対応関係の範囲内から、真空比例開
閉弁16の開度の制御範囲の一部が外れることがあり、
真空比例開閉弁16の再組立後において、真空比例開閉
弁16の開度と弁開度指令値の対応関係のずれを補正で
きないことがあった。
Therefore, when the output value of the potentiometer 18 shifts, after the reassembly of the vacuum proportional on-off valve 16, the correspondence between the valve opening command value and the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 also changes. Will occur. If the deviation between the correspondence between the valve opening command value and the opening of the vacuum proportional on-off valve 16 is large, from the range of the electrical correspondence between the output value of the potentiometer 18 and the valve opening command value, A part of the control range of the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 may be deviated,
After the reassembly of the vacuum proportional on-off valve 16, it may not be possible to correct the deviation of the correspondence between the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 and the valve opening command value.

【0027】そこで、本発明は、上述した問題点を解決
するためになされたものであり、真空比例開閉弁の弁体
が動き始めた直後の弁開度指令値を、弁開度指令値の最
下点として真空比例開閉弁の開度を制御することによっ
て、真空容器内の真空圧力を変化させる際に、目標真空
圧力値に対して行き過ぎることを防止する真空圧力制御
システムを提供することを目的とする。また、真空比例
開閉弁の再組立後において、真空比例開閉弁の開度と弁
開度指令値の対応関係のずれを補正する真空圧力制御シ
ステムを提供することを目的とする。
Accordingly, the present invention has been made to solve the above-described problem, and the valve opening command value immediately after the valve element of the vacuum proportional on-off valve has started to move is defined as the valve opening command value. To provide a vacuum pressure control system that controls the degree of opening of a vacuum proportional on-off valve as the lowest point, thereby preventing the vacuum pressure in a vacuum vessel from being excessively high with respect to a target vacuum pressure value. Aim. It is another object of the present invention to provide a vacuum pressure control system that corrects a shift in the correspondence between the opening degree of the vacuum proportional on-off valve and the valve opening command value after reassembly of the vacuum proportional on-off valve.

【0028】[0028]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に成された請求項1に係る発明は、真空容器と真空ポン
プとを接続する配管上にあって開度を変化させることに
より前記真空容器内の真空圧力を変化させる真空比例開
閉弁と、前記真空容器内の真空圧力を計測する真空圧力
センサーと、前記真空圧力センサーの出力値と目標真空
圧力値に基づいて発生させる弁開度指令値で前記真空比
例開閉弁の開度を制御するコントローラとを有する真空
圧力制御システムであって、前記真空比例開閉弁が、弁
座と、前記弁座と当接または離間する弾性シール部材を
設けた弁体とを備え、前記弁体が前記弁座と密接してい
る際の前記弁開度センサーの出力値に対応する前記弁開
度指令値を、初期の前記真空比例開閉弁の開度の零点と
して扱うとともに、前記真空比例開閉弁の開度の制御上
の最下点として扱うことによって、前記真空容器内の真
空圧力を変化させる際に、前記目標真空圧力値に対して
行き過ぎることを防止することを特徴とする。
In order to achieve the above object, the invention according to the first aspect of the present invention is directed to a method of manufacturing a vacuum pump by changing an opening degree on a pipe connecting a vacuum vessel and a vacuum pump. A vacuum proportional on-off valve for changing the vacuum pressure in the container, a vacuum pressure sensor for measuring the vacuum pressure in the vacuum container, and a valve opening command generated based on an output value of the vacuum pressure sensor and a target vacuum pressure value. A controller for controlling the degree of opening of the vacuum proportional on-off valve by a value, wherein the vacuum proportional on-off valve is provided with a valve seat, and an elastic seal member that abuts or separates from the valve seat. The valve opening command value corresponding to the output value of the valve opening sensor when the valve body is in close contact with the valve seat, the initial opening of the vacuum proportional on-off valve And treat it as a zero By treating it as the lowest point in controlling the opening degree of the vacuum proportional on-off valve, when changing the vacuum pressure in the vacuum vessel, it is possible to prevent the vacuum pressure from going too far with respect to the target vacuum pressure value. I do.

【0029】また、請求項2に係る発明は、請求項1に
記載する真空圧力制御システムであって、初期の前記真
空比例開閉弁の開度の零点に対応する前記弁開度指令値
を除々に変化させながら前記真空比例開閉弁の開度を制
御し、前記弁体が動き始めた直後の前記弁開度指令値
を、新たな前記真空比例開閉弁の開度の零点として扱う
ことを自動的に行うことを特徴とする。また、請求項3
に係る発明は、請求項2に記載する真空圧力制御システ
ムであって、新たな前記真空比例開閉弁の開度の零点と
して扱う際に、前記弁体が動き始めた直後から前記弁体
を前記弁座から制御的に最も離間させるまでの前記真空
比例開閉弁の開度の制御、及び、前記真空比例開閉弁の
再組立又は経年変化による前記真空比例開閉弁の開度の
零点のずれに対する補正を、前記弁開度センサーの出力
値と前記弁開度指令値との電気的対応関係内で確保する
ことを特徴とする。また、請求項4に係る発明は、請求
項2又は請求項3に記載する真空圧力制御システムであ
って、前記真空比例開閉弁の開度の零点に対応する前記
弁開度指令値を前記コントローラに記憶して保持するこ
とを特徴とする。
The invention according to claim 2 is the vacuum pressure control system according to claim 1, wherein the valve opening command value corresponding to the initial zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve is gradually increased. Controlling the opening degree of the vacuum proportional on-off valve while changing the valve body, and automatically treating the valve opening degree command value immediately after the valve element starts moving as a new zero point of the opening degree of the vacuum proportional on-off valve. It is characteristically performed. Claim 3
The invention according to the vacuum pressure control system according to claim 2, wherein when treating as a new zero point of the opening degree of the vacuum proportional on-off valve, the valve element immediately after the valve element starts to move Controlling the degree of opening of the vacuum proportional on-off valve until the valve is farthest away from the valve seat in a controlled manner, and correcting for a zero point deviation of the degree of opening of the vacuum proportional on-off valve due to reassembly or aging of the vacuum proportional on-off valve In the electrical relationship between the output value of the valve opening sensor and the valve opening command value. The invention according to claim 4 is the vacuum pressure control system according to claim 2 or 3, wherein the valve opening command value corresponding to the zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve is set to the controller. And is stored.

【0030】また、請求項5に係る発明は、請求項2乃
至請求項4のいずれか一つに記載する真空圧力制御シス
テムであって、前記真空比例開閉弁の開度を計測する弁
開度センサーを備え、前記弁開度センサーの出力に基づ
いて、前記真空比例開閉弁の開度の零点に対応する前記
弁開度指令値を算出することを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the vacuum pressure control system according to any one of the second to fourth aspects, wherein the opening degree of the vacuum proportional on-off valve is measured. A sensor is provided, and the valve opening command value corresponding to a zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve is calculated based on an output of the valve opening sensor.

【0031】また、請求項6に係る発明は、請求項2乃
至請求項4のいずれか一つに記載する真空圧力制御シス
テムであって、前記真空比例開閉弁の駆動源となる空気
圧シリンダと、前記空気圧シリンダ内の空気圧を計測す
る空気圧センサーとを備え、前記空気圧シリンダーの出
力に基づいて、前記真空比例開閉弁の開度の零点に対応
する前記弁開度指令値を算出することを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided the vacuum pressure control system according to any one of the second to fourth aspects, wherein a pneumatic cylinder serving as a drive source of the vacuum proportional on-off valve is provided. An air pressure sensor that measures the air pressure in the air pressure cylinder, and calculates the valve opening command value corresponding to the zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve based on the output of the air pressure cylinder. I do.

【0032】このような特定事項を有する本発明の真空
圧力制御システムでは、真空ポンプは、真空容器内のガ
スを吸引して、真空容器内を真空にする。ここで、真空
ポンプは一定の吸引を行っており、真空比例開閉弁の開
度を変化させることにより、真空容器内から真空ポンプ
が吸引するガス量を調整し、真空容器内の真空圧力を変
化させている。また、真空圧力センサーは真空容器内の
真空圧力を計測する。コントローラは、目標真空圧力と
真空圧力センサーの出力値が一致するように、弁開度指
令値をもって、真空比例開閉弁の開度を制御する。この
とき、弁開度センサーの出力値で真空比例開閉弁の開度
を測定しながら、コントローラから発生した弁開度指令
値に従って真空比例開閉弁の開度を制御しており、真空
比例開閉弁の開度が弁開度指令値に応じた開度になった
か否かは、弁開度センサーの出力値で判断しているの
で、弁開度センサーの出力値と弁開度指令値とは一対一
の電気的対応関係にある。
In the vacuum pressure control system of the present invention having such specific items, the vacuum pump sucks the gas in the vacuum vessel to make the inside of the vacuum vessel vacuum. Here, the vacuum pump is performing a constant suction, and by changing the opening of the vacuum proportional on-off valve, the amount of gas sucked by the vacuum pump from the vacuum container is adjusted, and the vacuum pressure in the vacuum container is changed. Let me. Further, the vacuum pressure sensor measures the vacuum pressure in the vacuum container. The controller controls the opening of the vacuum proportional on-off valve based on the valve opening command value so that the target vacuum pressure matches the output value of the vacuum pressure sensor. At this time, while measuring the opening of the vacuum proportional on-off valve with the output value of the valve opening degree sensor, the opening of the vacuum proportional on-off valve is controlled in accordance with the valve opening command value generated from the controller. Is determined by the output value of the valve opening sensor, the output value of the valve opening sensor and the valve opening command value are determined by the output value of the valve opening sensor. There is a one-to-one electrical correspondence.

【0033】そして、本発明の真空圧力制御システムの
立ち上げ時において、弁体が弁座と密接している際の弁
開度センサーの出力値に対応する弁開度指令値を、弁体
が動き始めた直後における真空比例開閉弁の開度とし
て、初期の真空比例開閉弁の開度の零点として扱う。さ
らに、弁体が弁座と密接している際の弁開度センサーの
出力値に対応する弁開度指令値を、真空比例開閉弁の開
度の制御上の最下点として扱うことによって、真空比例
開閉弁の不感帯特性をなくしている。
When the vacuum pressure control system according to the present invention is started, the valve opening command value corresponding to the output value of the valve opening sensor when the valve body is in close contact with the valve seat is received by the valve body. The opening of the vacuum proportional on-off valve immediately after it starts moving is treated as the initial zero point of the vacuum proportional on-off valve. Furthermore, by treating the valve opening command value corresponding to the output value of the valve opening sensor when the valve body is in close contact with the valve seat as the lowest point in controlling the opening of the vacuum proportional on-off valve, The dead band characteristic of the vacuum proportional on-off valve is eliminated.

【0034】一方、真空比例開閉弁を再組立した際に
は、再組立時の締付力の相違、弁体に設けられた弾性部
材の経時変化、電気的経事変化などから、弁体が動き始
めた直後における真空比例開閉弁の開度が変わることと
なる。従って、弁開度指令値を最下点からステップ的又
はランプ的に変化させて、真空比例開閉弁を遮断状態か
ら真空比例開閉弁の開度を操作しても、弁体が動き始め
た直後における真空比例開閉弁の開度が変わることによ
って、真空室内のガスの排出が(再び)開始されるまで
の時間が、真空比例開閉弁の再組立前のものと比べて長
く又は短くなることがある。同時に、真空比例開閉弁の
開度を計測する弁開度センサーの出力値が異なることと
なるから、真空比例開閉弁の再組立後においては、弁開
度指令値と真空比例開閉弁の開度との対応関係にもずれ
が生じることとなる。
On the other hand, when the vacuum proportional on-off valve is reassembled, the valve body may be damaged due to a difference in tightening force at the time of reassembly, a change with time of the elastic member provided on the valve body, a change in electrical events, and the like. Immediately after the movement starts, the opening of the vacuum proportional on-off valve changes. Therefore, even if the valve opening command value is changed stepwise or rampwise from the lowest point to operate the opening of the vacuum proportional on-off valve from the shut-off state of the vacuum proportional on-off valve, immediately after the valve element starts to move. By changing the opening degree of the vacuum proportional on-off valve in the above, the time until the discharge of gas in the vacuum chamber is started (again) may be longer or shorter than that before reassembly of the vacuum proportional on-off valve. is there. At the same time, the output value of the valve opening sensor that measures the opening of the vacuum proportional on-off valve will be different. Therefore, after reassembly of the vacuum proportional on-off valve, the valve opening command value and the opening of the vacuum proportional on-off valve will be Will also be shifted.

【0035】そこで、本発明の真空圧力制御システムで
は、真空比例開閉弁の再組立後において、弁体が動き始
めた直後における真空比例開閉弁の開度に対応する弁開
度指令値を、新たな真空比例開閉弁の開度の零点として
扱うとともに、真空比例開閉弁の開度の制御上の最下点
として扱うことを自動的に行い、さらに、新たな真空比
例開閉弁の開度の零点に対応する弁開度指令値をコント
ローラに記憶して保持する。これにより、真空比例開閉
弁の再組立前と再組立後において、弁体が動き始めた直
後における真空比例開閉弁の開度が変化しても、真空比
例開閉弁を遮断状態から真空比例開閉弁の開度を操作す
るときに、真空室内のガスの排出が再び開始されるまで
の時間を同じにすることができるので、真空容器内の真
空圧力を大気圧又は大気圧付近で変化させる際に、目標
真空圧力値に対して行き過ぎること(オーバーシュー
ト)を防止することができる。また、同様にして、真空
室内のガスの排出が開始されるまでの時間を同じにする
ことができるので、真空比例開閉弁が遮断状態にある場
合に、真空室内の真空圧力を大気圧から絶対真空方向に
向かってゆっくりと変化させるときでも、真空室内の真
空圧力が目標真空圧力値に対して行き過ぎること(アン
ダーシュート)を防止することができる。
Therefore, in the vacuum pressure control system of the present invention, after the reassembly of the vacuum proportional on-off valve, the valve opening command value corresponding to the opening degree of the vacuum proportional on-off valve immediately after the valve element starts moving is newly added. It automatically treats as the zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve, and automatically treats it as the lowest point in controlling the opening of the vacuum proportional on-off valve. Is stored and held in the controller. Thus, before and after reassembly of the vacuum proportional on-off valve, even if the opening degree of the vacuum proportional on-off valve immediately after the valve element starts to move, the vacuum proportional on-off valve is changed from the shut-off state to the vacuum proportional on-off valve. When operating the opening of the vacuum chamber, the time until the discharge of the gas in the vacuum chamber is started again can be the same, so when changing the vacuum pressure in the vacuum vessel to atmospheric pressure or near atmospheric pressure, In addition, overshoot (overshoot) with respect to the target vacuum pressure value can be prevented. Similarly, the time until gas discharge in the vacuum chamber is started can be made the same, so that when the vacuum proportional on-off valve is in the shut-off state, the vacuum pressure in the vacuum chamber is changed from the atmospheric pressure to the absolute pressure. Even when the pressure is slowly changed in the vacuum direction, it is possible to prevent the vacuum pressure in the vacuum chamber from exceeding the target vacuum pressure value (undershoot).

【0036】ただし、真空比例開閉弁の再組立後の弁開
度指令値と真空比例開閉弁の開度との対応関係のずれが
大きい場合は、弁体が動き始めた直後における真空比例
開閉弁の開度に対応する弁開度指令値を、新たな真空比
例開閉弁の開度の零点として扱ったときに、弁体が動き
始めた直後から弁体を弁座から制御的に最も離間させる
までの真空比例開閉弁の開度の制御範囲の一部が、弁開
度センサーの出力値と弁開度指令値との電気的対応関係
内に収まらないことがある。そこで、新たな真空比例開
閉弁の開度の零点として扱う際には、弁体が動き始めた
直後から弁体を前記弁座から制御的に最も離間させるま
での真空比例開閉弁の開度の制御が、弁開度センサーの
出力値と弁開度指令値との電気的対応関係内で確保され
るようにする。これにより、真空比例開閉弁の再組立後
の真空比例開閉弁の開度と弁開度指令値の対応関係のず
れを補正することができる。
However, if the correspondence between the valve opening command value after reassembly of the vacuum proportional on-off valve and the opening of the vacuum proportional on-off valve is large, the vacuum proportional on-off valve immediately after the valve element starts to move. When the valve opening command value corresponding to the opening of the valve is treated as the zero point of the opening of the new vacuum proportional on-off valve, the valve is controlled to be most separated from the valve seat immediately after the valve starts to move. A part of the control range of the opening of the vacuum proportional on-off valve up to the above may not be within the electrical correspondence between the output value of the valve opening sensor and the valve opening command value. Therefore, when treating as a zero point of the opening degree of the new vacuum proportional on-off valve, the opening degree of the vacuum proportional on-off valve from immediately after the valve body starts to move until the valve body is most controllably separated from the valve seat. Control is ensured within the electrical correspondence between the output value of the valve opening sensor and the valve opening command value. This makes it possible to correct the deviation of the correspondence between the opening degree of the vacuum proportional on-off valve and the valve opening command value after the reassembly of the vacuum proportional on-off valve.

【0037】新たな真空比例開閉弁の開度の零点を自動
的に算出するには、例えば、以下の手順で行うことがで
きる。先ず、再組立後の真空比例開閉弁において、弁体
が弁座と密接させて、機械的に最下点の位置にする。
The automatic calculation of the zero point of the degree of opening of the new vacuum proportional on-off valve can be carried out, for example, by the following procedure. First, in the vacuum proportional on-off valve after the reassembly, the valve body is brought into close contact with the valve seat and is mechanically set at the lowest point.

【0038】そして、弁体が弁座と密接している際の弁
開度センサーの出力値に対応する弁開度指令値を暫定弁
開度指令値として求め、暫定弁開度指令値を除々に変化
させながら真空比例開閉弁の開度を操作する。その後、
弁体が動き始めた直後の弁開度指令値を、新たな真空比
例開閉弁の開度の零点とする。尚、弁体が動き始めた直
後の時点は、弁開度センサーの出力値が変動し始めたこ
とで判断する。
Then, a valve opening command value corresponding to the output value of the valve opening sensor when the valve body is in close contact with the valve seat is determined as a provisional valve opening command value, and the provisional valve opening command value is gradually reduced. Operate the opening of the vacuum proportional on-off valve while changing to. afterwards,
The valve opening command value immediately after the valve element starts moving is set as the zero point of the opening of the new vacuum proportional on-off valve. Note that the time immediately after the valve element starts moving is determined by the fact that the output value of the valve opening degree sensor has started to fluctuate.

【0039】また、真空比例開閉弁の駆動源となる空気
圧シリンダと、空気圧シリンダの空気圧を計測する空気
圧センサーを備えている場合には、弁体が弁座と密接し
ている際に、空気圧シリンダの空気圧を除々に変化させ
ながら真空比例開閉弁の開度を操作する。その後、真空
容器内の真空圧力が僅かに変化した時の空気圧シリンダ
内の空気圧を空気圧センサーで計測し、その計測した空
気圧より適度に低い空気圧を実現するための弁開度指令
値を、新たな真空比例開閉弁の開度の零点とする。尚、
真空容器内の真空圧力が僅かに変化した時点は、真空圧
力センサーの出力値が変動し始めたことで判断する。
When a pneumatic cylinder serving as a drive source of the vacuum proportional on-off valve and a pneumatic sensor for measuring the air pressure of the pneumatic cylinder are provided, when the valve body is in close contact with the valve seat, the pneumatic cylinder Operate the opening of the vacuum proportional on-off valve while gradually changing the air pressure of After that, the air pressure in the pneumatic cylinder when the vacuum pressure in the vacuum vessel changes slightly is measured by an air pressure sensor, and a valve opening command value for realizing an air pressure that is appropriately lower than the measured air pressure is added to a new value. This is the zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve. still,
The point in time when the vacuum pressure in the vacuum vessel slightly changes is determined by the fact that the output value of the vacuum pressure sensor has started to fluctuate.

【0040】すなわち、本発明の真空圧力制御システム
では、弁体が動き始めた直後における真空比例開閉弁の
開度に対応する弁開度指令値を、新たな真空比例開閉弁
の開度の零点として扱うとともに、真空比例開閉弁の開
度の制御上の最下点として扱うことによって、真空比例
開閉弁の再組立前と再組立後において、弁体が動き始め
た直後における真空比例開閉弁の開度が変化しても、真
空比例開閉弁を遮断状態から真空比例開閉弁の開度を操
作するときに、真空室内のガスの排出が(再び)開始さ
れるまでの時間を同じにすることができるので、真空容
器内の真空圧力を変化させる際に、目標真空圧力値に対
して行き過ぎることを防止することができる。
That is, in the vacuum pressure control system of the present invention, the valve opening command value corresponding to the opening of the vacuum proportional on-off valve immediately after the valve element starts moving is set to the new zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve. By treating it as the lowest point in the control of the opening of the vacuum proportional on-off valve, before and after reassembly of the vacuum proportional on-off valve, Even when the opening changes, when the vacuum proportional on-off valve is closed and the opening of the vacuum proportional on-off valve is operated, the time until gas discharge in the vacuum chamber starts (again) must be the same. Therefore, when changing the vacuum pressure in the vacuum vessel, it is possible to prevent the vacuum pressure from going too far with respect to the target vacuum pressure value.

【0041】また、新たな真空比例開閉弁の開度の零点
として扱う際には、弁体が動き始めた直後から弁体を前
記弁座から制御的に最も離間させるまでの真空比例開閉
弁の開度の制御が、弁開度センサーの出力値と弁開度指
令値との電気的対応関係内で確保されるようにしている
ので、真空比例開閉弁の再組立後の真空比例開閉弁の開
度と弁開度指令値の対応関係のずれを補正することがで
きる。
Further, when the valve is treated as a zero point of the opening degree of the new vacuum proportional on-off valve, immediately after the valve element starts moving, the vacuum proportional on-off valve is controlled from the valve seat until it is most separated from the valve seat. Since the opening control is ensured within the electrical correspondence between the output value of the valve opening sensor and the valve opening command value, the vacuum proportional on-off valve is reassembled after the vacuum proportional on-off valve is reassembled. The deviation of the correspondence between the opening and the valve opening command value can be corrected.

【0042】[0042]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照にして説明する。本実施の形態の真空圧力制御シ
ステムは、従来技術の真空圧力制御システムと同様な構
成を持つものである。従って、本実施の形態の真空圧力
制御システムは、従来技術の欄で述べたように、半導体
製造ライン上に設けられたCVD装置の反応室10内の
真空圧力を真空圧力センサー14、15で計測して、外
部から与えられた目標真空圧力値との差を求め、この差
に応じてコントローラ20が弁開度指令値を発生し、こ
の弁開度指令値に従って空気圧制御部30が真空比例開
閉弁16の開度を操作し、反応室10から真空ポンプ1
3までの排気系のコンダクタンスを変化させることによ
って、真空ポンプ13でガスが排出される反応室10内
の真空圧力を、大気圧から高真空圧までの範囲にある目
標真空圧力値に一定に保持するフィードバック制御を行
うものである。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The vacuum pressure control system according to the present embodiment has a configuration similar to that of the conventional vacuum pressure control system. Therefore, the vacuum pressure control system according to the present embodiment measures the vacuum pressure in the reaction chamber 10 of the CVD apparatus provided on the semiconductor manufacturing line with the vacuum pressure sensors 14 and 15 as described in the section of the related art. Then, a difference from an externally applied target vacuum pressure value is obtained, and the controller 20 generates a valve opening command value in accordance with the difference, and the air pressure control unit 30 controls the vacuum proportional opening / closing in accordance with the valve opening command value. By operating the opening of the valve 16, the vacuum pump 1
By changing the conductance of the exhaust system up to 3, the vacuum pressure in the reaction chamber 10 from which gas is discharged by the vacuum pump 13 is kept constant at a target vacuum pressure value in the range from atmospheric pressure to high vacuum pressure. This is to perform feedback control.

【0043】このとき、空気圧制御部30は、ポテンシ
ョメータ18の出力値で真空比例開閉弁16の開度を測
定しながら、弁開度指令値に従った真空比例開閉弁16
の開度を操作しているので、真空比例開閉弁16の開度
が弁開度指令値に応じた開度になったか否かは、ポテン
ショメータ18の出力値で判断しているので、ポテンシ
ョメータ18の出力値とコントローラ20から発生され
た弁開度指令値とは一対一の電気的対応関係にある。
At this time, the air pressure control unit 30 measures the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 based on the output value of the potentiometer 18 and, while measuring the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 in accordance with the valve opening command value.
Since the opening of the vacuum proportional on-off valve 16 has been adjusted to the opening in accordance with the valve opening command value, the output value of the potentiometer 18 is used. And the valve opening command value generated by the controller 20 are in one-to-one electrical correspondence.

【0044】例えば、コントローラ20が発生する弁開
度指令値が0〜5Vの範囲にあり、ポテンショメータ1
8がアンプ19を介して発生する出力値が1〜5Vの範
囲にある場合には、図4に示すような一対一の電気的対
応関係にある。そして、ポペット弁体45が弁座47か
ら離間する距離(弁の開度)も、ポテンショメータ18
がアンプ19を介して発生する出力値と一対一の対応関
係にある。すなわち、弁開度指令値は、ポテンショメー
タ18の出力値を介して、真空比例開閉弁16の開度と
一対一の対応関係にある。
For example, when the valve opening command value generated by the controller 20 is in the range of 0 to 5 V, the potentiometer 1
In the case where the output value 8 is generated via the amplifier 19 in the range of 1 to 5 V, there is a one-to-one electrical correspondence as shown in FIG. The distance (opening degree of the valve) of the poppet valve element 45 from the valve seat 47 is also determined by the potentiometer 18.
Have a one-to-one correspondence with the output value generated via the amplifier 19. That is, the valve opening command value has a one-to-one correspondence with the opening of the vacuum proportional on-off valve 16 via the output value of the potentiometer 18.

【0045】そして、本実施の形態の真空圧力制御シス
テムの立ち上げ時においては、ポペット弁体45が弁座
47と密接している際のポテンショメータ18の出力値
(1.2V)に対応する弁開度指令値(0.25V)
を、ポペット弁体45が動き始めた直後における真空比
例開閉弁16の開度として、初期の真空比例開閉弁16
の開度の零点として扱っている。
When the vacuum pressure control system according to the present embodiment is started up, the valve corresponding to the output value (1.2 V) of the potentiometer 18 when the poppet valve element 45 is in close contact with the valve seat 47. Opening command value (0.25V)
Is set as the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 immediately after the poppet valve element 45 starts to move.
Is treated as the zero point of the opening.

【0046】一方、真空比例開閉弁16を再組立した際
には、再組立時の締付力の相違、ポペット弁体45に設
けられたOリング50の経時変化、電気的経時変化など
から、ポペット弁体45が動き始めた直後における真空
比例開閉弁16の開度が変わることとなる。
On the other hand, when the vacuum proportional on-off valve 16 is reassembled, the difference in the tightening force at the time of reassembly, the aging of the O-ring 50 provided on the poppet valve body 45, the aging of electrical characteristics, etc. The opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 immediately after the poppet valve element 45 starts to move changes.

【0047】また、真空比例開閉弁16を再組立した際
には、弁座47とポテンショメータ18の位置関係が真
空比例開閉弁16の再組立前のものと比べて上下に変化
するので、真空比例開閉弁16の開度が同じ値であって
も、真空比例開閉弁16の再組立前と再組立後では、真
空比例開閉弁16の開度を計測するポテンショメータ1
8の出力値が異なることとなる。従って、ポテンショメ
ータ18の出力値のずれが生じることから、真空比例開
閉弁16の再組立後においては、弁開度指令値と真空比
例開閉弁16の開度との対応関係にもずれが生じる。
Further, when the vacuum proportional on-off valve 16 is reassembled, the positional relationship between the valve seat 47 and the potentiometer 18 changes up and down as compared with that before the vacuum proportional on-off valve 16 is reassembled. Even if the opening of the on-off valve 16 has the same value, before and after reassembly of the vacuum proportional on-off valve 16, the potentiometer 1 measures the opening of the vacuum proportional on-off valve 16.
8 will be different. Therefore, since the output value of the potentiometer 18 shifts, after the reassembly of the vacuum proportional on-off valve 16, the correspondence between the valve opening command value and the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 also shifts.

【0048】そこで、本実施の形態の真空圧力制御シス
テムでは、真空比例開閉弁16を再組立した際には、ポ
ペット弁体45が動き始めた直後における真空比例開閉
弁16の開度に対応する弁開度指令値を、初期の真空比
例開閉弁16の開度の零点にかわる、新たな真空比例開
閉弁16の開度の零点として、図10のコントローラ2
0のZERO点補正回路121で自動的に算出し、コン
トローラ20内に記憶して保持している。図10のZE
RO点補正回路121で算出する手順の一例を図1のフ
ローチャートを用いて説明する。但し、図10のZER
O点補正回路121で新たな真空比例開閉弁16の開度
の零点を算出する際は、再組立後の真空比例開閉弁16
において、ポペット弁体45を弁座47と密接させて、
機械的に最下点の位置にしておく。
Therefore, in the vacuum pressure control system of the present embodiment, when the vacuum proportional on-off valve 16 is reassembled, it corresponds to the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 immediately after the poppet valve body 45 starts moving. The valve opening command value is set as a new zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve 16 in place of the initial zero of the opening of the vacuum proportional on-off valve 16, and the controller 2 shown in FIG.
The ZERO point correction circuit 121 automatically calculates the zero point and stores the value in the controller 20. ZE in FIG.
An example of a procedure of calculation by the RO point correction circuit 121 will be described with reference to the flowchart of FIG. However, the ZER of FIG.
When the zero point of the opening of the new vacuum proportional on-off valve 16 is calculated by the O point correction circuit 121, the vacuum proportional on-off valve 16
, The poppet valve body 45 is brought into close contact with the valve seat 47,
Keep it at the lowest point mechanically.

【0049】そして、図1のS1において、ポテンショ
メータ18の出力値に基づいて、ポペット弁体45が機
械的に最下点の位置にあるか否かを判断する。ポペット
弁体45が機械的に最下点の位置にないと判断した場合
には(S1:No)、S12に進んで、メインプログラ
ムに戻るが、ポペット弁体45が機械的に最下点の位置
にあると判断した場合には(S1:Yes)、S2に進
んで、ポペット弁体45が機械的に最下点の位置にある
と判断した際のポテンショメータ18の出力値を取得す
る。そして、S3において、S2で取得したポテンショ
メータ18の出力値に対応する弁開度指令値を暫定弁開
度指令値として取得する。例えば、図4に示すように、
弁開度指令値が0〜5Vの範囲にあり、ポテンショメー
タ18の出力値が1〜5Vの範囲にある場合には、S2
で取得したポテンショメータ18の出力値をY(V)、
暫定弁開度指令値をX(V)とすれば、 (Y−1):(X−0)=(5−1):(5−0) の比例式により計算する。
At S1 in FIG. 1, it is determined whether or not the poppet valve body 45 is mechanically at the lowest point based on the output value of the potentiometer 18. If it is determined that the poppet valve 45 is not mechanically located at the lowest point (S1: No), the process proceeds to S12 and returns to the main program. When it is determined that the poppet valve 45 is at the position (S1: Yes), the process proceeds to S2, and the output value of the potentiometer 18 when the poppet valve body 45 is mechanically determined to be at the lowest point is acquired. Then, in S3, a valve opening command value corresponding to the output value of the potentiometer 18 obtained in S2 is obtained as a provisional valve opening command value. For example, as shown in FIG.
If the valve opening command value is in the range of 0 to 5 V and the output value of the potentiometer 18 is in the range of 1 to 5 V, S2
The output value of the potentiometer 18 obtained in the step is Y (V),
Assuming that the provisional valve opening command value is X (V), calculation is performed using a proportional expression of (Y-1) :( X-0) = (5-1) :( 5-0).

【0050】また、S4において、S2で取得したポテ
ンショメータ18の出力値に基づいて、判定点となる弁
開度指令値を設定する。この判定点とは、真空比例開閉
弁16の駆動源となる空気圧シリンダ41内の空気圧を
ポペット弁体45が動き始めるまでの値に充填するまで
の時間を考慮して予め決定されている。その後、S5に
おいて、S4で計算した暫定弁開度指令値を出力する。
In step S4, a valve opening command value serving as a determination point is set based on the output value of the potentiometer 18 obtained in step S2. This determination point is determined in advance in consideration of the time required to fill the air pressure in the pneumatic cylinder 41 serving as the drive source of the vacuum proportional on-off valve 16 to a value required until the poppet valve body 45 starts moving. Then, in S5, the provisional valve opening command value calculated in S4 is output.

【0051】その後、S6では、暫定弁開度指令値が判
定点となる弁開度指令値を越えているか判断する。暫定
弁開度指令値が判定点となる弁開度指令値を越えている
と判断した場合には(S6:Yes)、S7に進んで、
越えたことを示すフラグをコントローラ20の内部にお
いて記憶する。そして、S8に進んで、暫定弁開度指令
値に対して15mVを引いた値を、新たな暫定弁開度指
令値とし、S6に戻る。
Thereafter, in S6, it is determined whether the provisional valve opening command value exceeds the valve opening command value serving as a determination point. If it is determined that the provisional valve opening command value exceeds the valve opening command value serving as a determination point (S6: Yes), the process proceeds to S7.
A flag indicating that the value has been exceeded is stored inside the controller 20. Then, the process proceeds to S8, a value obtained by subtracting 15 mV from the provisional valve opening command value is set as a new provisional valve opening command value, and the process returns to S6.

【0052】一方、暫定弁開度指令値が判定点となる弁
開度指令値を越えていないと判断した場合には(S6:
No)、S9に進んで、越えたことを示すフラグが立っ
ているか判断する。越えたことを示すフラグが立ってい
ると判断した場合には(S9:Yes)、S11に進ん
で、暫定弁開度指令値を新たな真空比例開閉弁16の開
度の零点として決定する。一方、越えたことを示すフラ
グが立っていないと判断した場合には(S9:No)、
S10に進んで、暫定弁開度指令値に対して15mVを
加えた値を、新たな暫定弁開度指令値とし、S6に戻
り、S11に進むまで、上述した処理を繰り返す。
On the other hand, when it is determined that the provisional valve opening command value does not exceed the valve opening command value serving as the determination point (S6:
No), the process proceeds to S9, and it is determined whether or not a flag indicating that the value has been exceeded is set. If it is determined that the flag indicating that it has exceeded is set (S9: Yes), the process proceeds to S11, and the provisional valve opening command value is determined as a new zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve 16. On the other hand, when it is determined that the flag indicating the overrun is not set (S9: No),
Proceeding to S10, a value obtained by adding 15 mV to the provisional valve opening command value is set as a new provisional valve opening command value, the process returns to S6, and the above processing is repeated until the process proceeds to S11.

【0053】図5は、S3で取得した暫定弁開度指令値
が既に判定点となる弁開度指令値を越えている場合にお
いて、新たな真空比例開閉弁16の開度の零点が決定す
るまでの経過を説明する図である。この場合では、S6
→S7→S8→S6のループ処理を2回繰り返した後
に、S11に進んで、新たな真空比例開閉弁16の開度
の零点が決定されている。また、図6は、S3で取得し
た暫定弁開度指令値が未だ判定点となる弁開度指令値を
越えていない場合において、新たな真空比例開閉弁16
の開度の零点が決定するまでの経過を説明する図であ
る。この場合では、S6→S9→S10→S6のループ
処理を2回繰り返した後に、S6→S7→S8→S6の
ループ処理を1回行った後に、S11に進んで、新たな
真空比例開閉弁16の開度の零点が決定されている。
FIG. 5 shows a case where the provisional valve opening command value acquired in S3 already exceeds the valve opening command value serving as a determination point, and a new zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve 16 is determined. FIG. In this case, S6
After repeating the loop process of → S7 → S8 → S6 twice, the process proceeds to S11, where a new zero point of the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 is determined. FIG. 6 shows a case where the provisional valve opening command value acquired in S3 has not yet exceeded the valve opening command value serving as a determination point, and the new vacuum proportional on-off valve 16
FIG. 7 is a diagram for explaining the progress until the zero point of the opening degree is determined. In this case, after the loop processing of S6 → S9 → S10 → S6 is repeated twice, the loop processing of S6 → S7 → S8 → S6 is performed once, and then the process proceeds to S11, where a new vacuum proportional on-off valve 16 is set. Is determined.

【0054】尚、図5と図6の機械的基準点とは、ポペ
ット弁体45が機械的に最下点の位置にあり、かつ、真
空比例開閉弁16の駆動源となる空気圧シリンダ41内
の空気圧が大気圧にある状態にあることを意味するもの
である。従って、図1のフローチャートによって決定さ
れる、新たな真空比例開閉弁16の開度の零点は、判定
値を僅かに下回るものとすることによって、空気圧シリ
ンダ41内の空気圧の充填が考慮されるので、ポペット
弁体45が動き始めた直後の弁開度指令値とすることが
できる。
The mechanical reference point shown in FIGS. 5 and 6 corresponds to the position where the poppet valve element 45 is mechanically located at the lowest point and the inside of the pneumatic cylinder 41 serving as a drive source of the vacuum proportional on-off valve 16. Means that the air pressure is at atmospheric pressure. Therefore, the zero point of the opening degree of the new vacuum proportional on-off valve 16 determined by the flowchart of FIG. 1 is slightly lower than the determination value, so that the filling of the air pressure in the pneumatic cylinder 41 is considered. , The valve opening command value immediately after the poppet valve element 45 starts moving.

【0055】すなわち、図10のZERO点補正回路1
21で新たな真空比例開閉弁16の開度の零点を算出す
る手順の一例である図1のフローチャートでは、S3に
おいて、ポペット弁体45が弁座47と密接している際
のポテンショメータ18の出力値に対応する弁開度指令
値を暫定弁開度指令値として求め、S11で決定された
新たな真空比例開閉弁16の開度の零点は、S3で取得
された暫定弁開度指令値より僅かに変化した弁開度指令
値となっている(図5、図6参照)。そして、S11で
決定された、新たな真空比例開閉弁16の開度の零点
は、判定値を僅かに下回るものであるから、ポペット弁
体45が動き始めた直後の弁開度指令値となる。
That is, the ZERO point correction circuit 1 shown in FIG.
In the flowchart of FIG. 1, which is an example of the procedure for calculating the zero point of the opening degree of the new vacuum proportional on-off valve 16 at 21, the output of the potentiometer 18 when the poppet valve body 45 is in close contact with the valve seat 47 in S 3. The valve opening command value corresponding to the value is obtained as a provisional valve opening command value, and the zero point of the opening degree of the new vacuum proportional on-off valve 16 determined in S11 is calculated from the provisional valve opening command value acquired in S3. The valve opening command value slightly changed (see FIGS. 5 and 6). Then, the zero point of the opening of the new vacuum proportional on-off valve 16 determined in S11 is slightly lower than the determination value, and thus becomes the valve opening command value immediately after the poppet valve body 45 starts moving. .

【0056】また、図10のZERO点補正回路121
で新たな真空比例開閉弁16の開度の零点を算出する手
順の一例として、以下のものがある。例えば、ポペット
弁体45が弁座47と密接している際のポテンショメー
タ18の出力値に対応する弁開度指令値を暫定弁開度指
令値として求める。この計算方法は、図1のS3の計算
方法と同様である。そして、暫定弁開度指令値を除々に
変化させながら真空比例開閉弁16の開度を空気圧制御
部30で操作する。その後、ポテンショメータ18の出
力値の変動開始をもって、ポペット弁体45が動き始め
た直後の時点を特定し、ポペット弁体45が動き始めた
直後の弁開度指令値を、新たな真空比例開閉弁16の開
度零点とする。このように、オートティーチングにより
算出した、新たな真空比例開閉弁16の開度の零点は、
図3に示すように、ゼロ点補正プログラムを介して、コ
ントローラ20が弁開度指令値を発生する際に考慮され
る。
The ZERO point correction circuit 121 shown in FIG.
The following is an example of a procedure for calculating a new zero point of the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 in the following. For example, a valve opening command value corresponding to the output value of the potentiometer 18 when the poppet valve element 45 is in close contact with the valve seat 47 is obtained as a provisional valve opening command value. This calculation method is the same as the calculation method of S3 in FIG. Then, the air pressure control unit 30 operates the opening of the vacuum proportional on-off valve 16 while gradually changing the provisional valve opening command value. Thereafter, when the output value of the potentiometer 18 starts to change, the time point immediately after the poppet valve element 45 starts moving is specified, and the valve opening command value immediately after the poppet valve element 45 starts moving is used as a new vacuum proportional on-off valve. It is assumed that the opening degree is 16 zero. As described above, the zero point of the opening degree of the new vacuum proportional on-off valve 16 calculated by the automatic teaching is:
As shown in FIG. 3, this is taken into consideration when the controller 20 generates a valve opening command value via the zero point correction program.

【0057】尚、新たな真空比例開閉弁16の開度の零
点を、ポペット弁体45が動き始める直前の弁開度指令
値としたい場合には、ポペット弁体45が動き始めた直
後の弁開度指令値に対して、真空比例開閉弁16の開度
の閉方向に僅かに変化させた値を、新たな真空比例開閉
弁16の開度の零点とする。
If the zero point of the opening degree of the new vacuum proportional on-off valve 16 is to be used as the valve opening command value immediately before the poppet valve body 45 starts moving, the valve immediately after the poppet valve body 45 starts moving will be described. With respect to the opening command value, a value obtained by slightly changing the opening of the vacuum proportional on-off valve 16 in the closing direction is set as a new zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve 16.

【0058】また、図10のZERO点補正回路121
で新たな真空比例開閉弁16の開度の零点を算出する手
順の一例として、以下のものがある。例えば、ポペット
弁体45が弁座47と密接している際に、空気圧シリン
ダ41の空気圧を除々に変化させながら真空比例開閉弁
17の開度を空気圧制御部30で操作する。ここで、空
気圧シリンダ41の空気圧を除々に変化させることは、
空気圧シリンダ41の空気圧を計測する空気圧力センサ
ー70を使用して、図10のバイアス制御回路110が
行う。例えば、空気圧シリンダ41の空気圧をステップ
的又はランプ的に除々に変化させる。
The ZERO point correction circuit 121 shown in FIG.
The following is an example of a procedure for calculating a new zero point of the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 in the following. For example, when the poppet valve body 45 is in close contact with the valve seat 47, the opening of the vacuum proportional on-off valve 17 is operated by the air pressure control unit 30 while gradually changing the air pressure of the air pressure cylinder 41. Here, gradually changing the air pressure of the air pressure cylinder 41 is as follows.
Using the air pressure sensor 70 that measures the air pressure of the pneumatic cylinder 41, the bias control circuit 110 shown in FIG. For example, the air pressure of the air pressure cylinder 41 is gradually changed stepwise or ramp-wise.

【0059】その後、反応室10の真空圧力が僅かに変
化した時の空気圧シリンダ41内の空気圧を空気圧セン
サー70で計測し、その計測した空気圧より適度に低い
空気圧を実現するための弁開度指令値を、新たな真空比
例開閉弁16の開度の零点とする。ここで、空気圧セン
サー70で計測した空気圧より適度に低い空気圧を実現
するための弁開度指令値を、新たな真空比例開閉弁16
の開度の零点とするのは、ポペット弁体45が動き始め
た直後は、ポペット弁体45に設けられたOリング50
の弾性変形などによって、反応室10内の材料ガスの排
出は未だ開始されてはいないからである。尚、反応室1
0の真空圧力が僅かに変化した直後の時点は、真空圧力
センサー14、15の計測値の変動開始をもって特定す
る。これにより、新たな真空比例開閉弁16の開度の零
点は、ポペット弁体45が動き始める直後の弁開度指令
値となる。
Thereafter, the air pressure in the pneumatic cylinder 41 when the vacuum pressure in the reaction chamber 10 slightly changes is measured by the air pressure sensor 70, and a valve opening command for realizing an air pressure appropriately lower than the measured air pressure. The value is set as the zero point of the opening degree of the new vacuum proportional on-off valve 16. Here, the valve opening command value for realizing an air pressure that is appropriately lower than the air pressure measured by the air pressure sensor 70 is changed to a new vacuum proportional on-off valve 16.
The zero point of the opening degree is determined by the O-ring 50 provided on the poppet valve body 45 immediately after the poppet valve body 45 starts moving.
This is because the discharge of the material gas in the reaction chamber 10 has not yet started due to the elastic deformation of the gas. The reaction chamber 1
The time point immediately after the vacuum pressure of 0 slightly changes is specified by the start of the fluctuation of the measurement values of the vacuum pressure sensors 14 and 15. Thereby, the zero point of the opening degree of the new vacuum proportional on-off valve 16 becomes the valve opening degree command value immediately after the poppet valve body 45 starts moving.

【0060】そして、図10の下限値制限回路120を
使用して、図11の弁開度指令値の出力範囲を、図12
の弁開度指令値の出力範囲のようにして、図10のZE
RO点補正回路121で決定した、新たな真空比例開閉
弁16の開度の零点を、真空比例開閉弁16の制御上の
最下点とする。
Using the lower limit value limiting circuit 120 shown in FIG. 10, the output range of the valve opening command value shown in FIG.
As shown in the output range of the valve opening command value in FIG.
The zero point of the opening degree of the new vacuum proportional on-off valve 16 determined by the RO point correction circuit 121 is set as the lowest point in control of the vacuum proportional on-off valve 16.

【0061】これにより、本実施の形態の真空圧力制御
システムでは、ポペット弁体45が動き始めた直後にお
ける真空比例開閉弁16の開度に対応する弁開度指令値
を、新たな真空比例開閉弁の開度の零点として扱うとと
もに、真空比例開閉弁16の開度の制御上の最下点とし
て扱うことによって、真空比例開閉弁16の再組立前と
再組立後において、ポペット弁体45が動き始めた直後
における真空比例開閉弁16の開度が変化しても、真空
比例開閉弁16を遮断状態から真空比例開閉弁16の開
度を操作するときに、反応室10内の材料ガスの排出が
再び開始されるまでの時間を同じにすることができるの
で、反応室10内の真空圧力を大気圧又は大気圧付近で
変化させる際に、目標真空圧力値に対して行き過ぎるこ
と(オーバーシュート)を防止することができる。
Thus, in the vacuum pressure control system according to the present embodiment, the valve opening command value corresponding to the opening of the vacuum proportional opening / closing valve 16 immediately after the poppet valve body 45 starts moving is changed to a new vacuum proportional opening / closing valve. By treating it as the zero point of the valve opening degree and treating it as the lowest point in controlling the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16, the poppet valve body 45 before and after reassembly of the vacuum proportional on-off valve 16 is Even if the opening of the vacuum proportional on-off valve 16 changes immediately after it starts moving, when the opening of the vacuum proportional on-off valve 16 is operated from the shut-off state of the vacuum proportional on-off valve 16, the material gas in the reaction chamber 10 is Since the time until the discharge is started again can be made the same, when the vacuum pressure in the reaction chamber 10 is changed to the atmospheric pressure or near the atmospheric pressure, the pressure may be too large for the target vacuum pressure value (overshoot). It is possible to prevent the door).

【0062】例えば、図8は、新たな真空比例開閉弁の
開度の零点を弁開度指令値の下限値とすることなく、反
応室10内の真空圧力を大気圧又は大気圧付近でフィー
ドバック制御した経過状況を示した一例であるが、ポペ
ット弁体45が動き始めた直後における真空比例開閉弁
16の開度の変化が要因となって、ポペット弁体45が
弁座47から離間し始めるのに、時間t3の応答遅れが
生じている。その結果、反応室10内の真空圧力を大気
圧又は大気圧付近でフィードバック制御する際に、反応
室10内の真空圧力が目標真空圧力値に対して行き過ぎ
ること(オーバーシュート)となる。
For example, FIG. 8 shows that the vacuum pressure in the reaction chamber 10 is fed back at or near atmospheric pressure without setting the zero point of the opening of the new vacuum proportional on-off valve as the lower limit of the valve opening command value. This is an example showing the progress of control, but the poppet valve body 45 starts to separate from the valve seat 47 due to a change in the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 immediately after the poppet valve body 45 starts to move. However, a response delay of time t3 occurs. As a result, when performing feedback control of the vacuum pressure in the reaction chamber 10 at or near the atmospheric pressure, the vacuum pressure in the reaction chamber 10 will overshoot the target vacuum pressure value (overshoot).

【0063】一方、図7は、新たな真空比例開閉弁16
の開度の零点を弁開度指令値の下限値して、反応室10
内の真空圧力を大気圧又は大気圧付近でフィードバック
制御した経過状況を示した一例であるが、弁開度指令値
の下限値がポペット弁体45が動き始めた直後における
真空比例開閉弁16の開度に対応するものであるから、
ポペット弁体45が弁座47から離間し始めるのに、応
答遅れが生じることはない。その結果、反応室10内の
真空圧力を大気圧又は大気圧付近でフィードバック制御
する際に、反応室10内の真空圧力が目標真空圧力値に
対して行き過ぎること(オーバーシュート)がない。
FIG. 7 shows a new vacuum proportional on-off valve 16.
Is set to the lower limit of the valve opening command value, and the reaction chamber 10
This is an example showing the progress of the feedback control of the vacuum pressure in the inside at or near atmospheric pressure, but the lower limit of the valve opening command value is set to the value of the vacuum proportional on-off valve 16 immediately after the poppet valve body 45 starts moving. Because it corresponds to the opening,
There is no response delay when the poppet valve element 45 starts to separate from the valve seat 47. As a result, when performing feedback control of the vacuum pressure in the reaction chamber 10 at or near atmospheric pressure, the vacuum pressure in the reaction chamber 10 does not overshoot (overshoot) the target vacuum pressure value.

【0064】また、ポペット弁体45が弁座47から離
間し始めるのに応答遅れが生じないことは、図9に示す
ような、真空比例開閉弁16が遮断状態にある場合に、
反応室10内の真空圧力を大気圧から絶対真空方向に向
かってゆっくりと変化させるときに有効である。なぜな
ら、応答遅れが生じて、反応室10内の真空圧力の絶対
圧真空方向に向かう進行過程が少しでも行き過ぎる(ア
ンダーシュート)と、反応室10内のガス流れが速くな
ってパーティクルが発生し、反応室10内のウエハーの
品質が低下するためである。
The fact that no response delay occurs when the poppet valve element 45 begins to separate from the valve seat 47 is caused by the fact that the vacuum proportional on-off valve 16 is in the shut-off state as shown in FIG.
This is effective when the vacuum pressure in the reaction chamber 10 is slowly changed from the atmospheric pressure toward the absolute vacuum. This is because if a response delay occurs and the progress of the vacuum pressure in the reaction chamber 10 toward the absolute vacuum direction is slightly excessive (undershoot), the gas flow in the reaction chamber 10 becomes faster and particles are generated, This is because the quality of the wafer in the reaction chamber 10 deteriorates.

【0065】図2に、真空比例開閉弁16の再組立前後
における、ポテンショメータ18の出力値と、弁開度指
令値と、真空比例開閉弁16の開度の関係についての一
例を示す。ここでは、図4と同様にして、弁開度指令値
が0〜5Vの範囲にあり、ポテンショメータ18の出力
値が1〜5Vの範囲にある場合であり、弁開度指令値と
ポテンショメータ18の出力値とは、一対一の電気的対
応関係にある。そして、ポテンショメータ18の出力値
の1〜5Vの範囲が、真空比例開閉弁16の開度(弁の
リフト量)の0〜31.112mmの範囲に相当する。
FIG. 2 shows an example of the relationship between the output value of the potentiometer 18, the valve opening command value, and the opening of the vacuum proportional on-off valve 16 before and after reassembly of the vacuum proportional on-off valve 16. Here, as in FIG. 4, the valve opening command value is in the range of 0 to 5 V and the output value of the potentiometer 18 is in the range of 1 to 5 V. The output values are in one-to-one electrical correspondence. The range of the output value of the potentiometer 18 from 1 to 5 V corresponds to the range of the opening degree (valve lift amount) of the vacuum proportional on-off valve 16 from 0 to 31.112 mm.

【0066】真空比例開閉弁16の再組立前として、例
えば、真空比例開閉弁16が出荷される時点の設定時
(B)では、弁開度指令値の0.25V(このときのポ
テンショメータ18の出力値は1.2V)を、初期の真
空比例開閉弁17の開度の零点として扱っている。
Before reassembly of the vacuum proportional on-off valve 16, for example, at the time of setting (B) when the vacuum proportional on-off valve 16 is shipped, the valve opening command value of 0.25 V (at this time, the potentiometer 18 The output value is 1.2 V) is treated as the initial zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve 17.

【0067】そして、真空比例開閉弁16の再組立後と
して、例えば、真空比例開閉弁16の開度の零点が上方
向にずれた時(A)では、弁開度指令値の0V(このと
きのポテンショメータ18の出力値は1.0V)を、新
たな真空比例開閉弁17の開度の零点として扱ってい
る。また、真空比例開閉弁16の開度の零点が下方向に
ずれた時(C)では、弁開度指令値の0.5V(このと
きのポテンショメータ18の出力値は1.4V)を、新
たな真空比例開閉弁17の開度の零点として扱ってい
る。
After the reassembly of the vacuum proportional on-off valve 16, for example, when the zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve 16 is shifted upward (A), the valve opening command value of 0 V (at this time) (The output value of the potentiometer 18 is 1.0 V) is treated as the zero point of the degree of opening of the new vacuum proportional on-off valve 17. When the zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve 16 shifts downward (C), the valve opening command value of 0.5 V (the output value of the potentiometer 18 at this time is 1.4 V) is newly added. The opening degree of the vacuum proportional on-off valve 17 is treated as a zero point.

【0068】そして、真空比例開閉弁16の開度の制御
範囲を、ポペット弁体45が動き始めた直後から28m
m(弁のリフト量として0〜28mmの範囲)までとす
れば、弁開度指令値の範囲は、真空比例開閉弁16が出
荷される時点の設定時(B)で0.25〜4.75V、
真空比例開閉弁16の開度の零点が上方向にずれた時
(A)で0〜4.5V、真空比例開閉弁16の開度の零
点が下方向にずれた時(C)で0.5〜5Vとなる。こ
のようにすることにより、ポペット弁体45が動き始め
た直後からポペット弁体45を弁座47から制御的に最
も離間させるまでの真空比例開閉弁17の開度の制御
(弁のリフト量として0〜28mmの範囲)を、ポテン
ショメータ18の出力値と弁開度指令値との電気的対応
関係内で確保している。これにより、真空比例開閉弁1
6の再組立後の真空比例開閉弁16の開度と弁開度指令
値の対応関係のずれを補正することができる。
The control range of the opening of the vacuum proportional on-off valve 16 is set at 28 m from immediately after the poppet valve body 45 starts moving.
m (in the range of 0 to 28 mm as the valve lift amount), the range of the valve opening command value is 0.25 to 4.25 when the vacuum proportional on-off valve 16 is set at the time of shipment (B). 75V,
When the zero point of the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 shifts upward (A), 0 to 4.5 V, and when the zero point of the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 shifts downward (C), the voltage drops to 0. It becomes 5-5V. In this manner, the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 17 is controlled from immediately after the poppet valve element 45 starts to move until the poppet valve element 45 is farthest away from the valve seat 47 in a controlled manner (as the valve lift amount). (Range of 0 to 28 mm) is ensured within the electrical correspondence between the output value of the potentiometer 18 and the valve opening command value. Thereby, the vacuum proportional on-off valve 1
The deviation of the correspondence between the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 and the valve opening command value after the reassembly of Step 6 can be corrected.

【0069】図2の場合では、ポテンショメータ18の
出力値と真空比例開閉弁16の開度の対応関係のずれ
が、真空比例開閉弁16の開度の零点が上方向にずれた
時(A)や下方向にずれた時(C)に対して大きくずれ
ると、ポペット弁体45が動き始めた直後から28mm
(弁のリフト量として0〜28mmの範囲)までの範囲
で真空比例開閉弁16の開度を制御するには、弁開度指
令値の範囲が0〜5Vの範囲では不十分となるので、真
空比例開閉弁16の開度の操作に支障をきたすこととな
る。従って、この範囲よりも大きくずれる場合は、異常
と判断して、ゼロ点補正不可能として扱い、エラー処理
を行うように警報を出す工夫がされている。尚、この補
正の下限限界値(C)及び補正の上限限界値(A)は、
設計上の公差、電気的誤差及びOリング50の経年変化
などを考慮して設定されている。
In the case of FIG. 2, when the output value of the potentiometer 18 and the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 correspond to each other, the zero point of the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 shifts upward (A). When it is greatly shifted with respect to (C) when it is shifted downward or downward, 28 mm from immediately after the poppet valve body 45 starts to move.
(In order to control the opening of the vacuum proportional on-off valve 16 in a range up to (valve lift amount of 0 to 28 mm), a valve opening command value range of 0 to 5 V is insufficient. Operation of the opening of the vacuum proportional on-off valve 16 will be hindered. Therefore, if the deviation is larger than this range, it is determined that there is an abnormality, the zero point correction is impossible, and an alarm is issued to perform error processing. The lower limit (C) of the correction and the upper limit (A) of the correction are
The setting is made in consideration of design tolerance, electrical error, aging of the O-ring 50, and the like.

【0070】これにより、本実施の形態の真空圧力制御
システムでは、真空比例開閉弁16の再組立後におい
て、真空比例開閉弁16の開度と弁開度指令値の対応関
係のずれをも補正することができる。
Thus, in the vacuum pressure control system of the present embodiment, even after the vacuum proportional on-off valve 16 is reassembled, the deviation of the correspondence between the opening degree of the vacuum proportional on-off valve 16 and the valve opening command value is also corrected. can do.

【0071】尚、本発明は上記実施の形態に限定される
ものでなく、その趣旨を逸脱しない範囲で様々な変更が
可能である。例えば、本実施の形態の真空圧力制御シス
テムは、CVD装置の反応室10以外の半導体製造ライ
ンの真空容器についても、実施することは可能である。
例えば、半導体製造ラインの拡散装置について使用する
場合には、真空容器の真空圧力を大気圧又は大気圧付近
でフィードバック制御する際に、真空容器内の真空圧力
が目標真空圧力値に対して行き過ぎることを防止するこ
とによって、真空容器に設けられたリリーフバルブの作
動を防ぎ、真空容器内が大気と導通することを防ぐこと
ができる。
The present invention is not limited to the above embodiment, and various changes can be made without departing from the gist of the present invention. For example, the vacuum pressure control system according to the present embodiment can be applied to a vacuum vessel of a semiconductor manufacturing line other than the reaction chamber 10 of the CVD apparatus.
For example, when used for a diffusion device in a semiconductor manufacturing line, when the vacuum pressure of the vacuum container is feedback-controlled at or near atmospheric pressure, the vacuum pressure in the vacuum container may exceed the target vacuum pressure value. , The operation of the relief valve provided in the vacuum vessel can be prevented, and the inside of the vacuum vessel can be prevented from communicating with the atmosphere.

【0072】[0072]

【発明の効果】本発明の真空圧力制御システムでは、弁
体が動き始めた直後における真空比例開閉弁の開度に対
応する弁開度指令値を、新たな真空比例開閉弁の開度の
零点として扱うとともに、真空比例開閉弁の開度の制御
上の最下点として扱うことによって、真空比例開閉弁の
再組立前と再組立後において、弁体が動き始めた直後に
おける真空比例開閉弁の開度が変化しても、真空比例開
閉弁を遮断状態から真空比例開閉弁の開度を操作すると
きに、真空室内のガスの排出が(再び)開始されるまで
の時間を同じにすることができるので、真空容器内の真
空圧力を変化させる際に、目標真空圧力値に対して行き
過ぎることを防止することができる。
According to the vacuum pressure control system of the present invention, the valve opening command value corresponding to the opening of the vacuum proportional on-off valve immediately after the valve element starts moving is set to the new zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve. By treating it as the lowest point in the control of the opening of the vacuum proportional on-off valve, before and after reassembly of the vacuum proportional on-off valve, Even when the opening changes, when the vacuum proportional on-off valve is closed and the opening of the vacuum proportional on-off valve is operated, the time until gas discharge in the vacuum chamber starts (again) must be the same. Therefore, when changing the vacuum pressure in the vacuum vessel, it is possible to prevent the vacuum pressure from going too far with respect to the target vacuum pressure value.

【0073】また、新たな真空比例開閉弁の開度の零点
を扱う際には、弁体が動き始めた直後から弁体を前記弁
座から制御的に最も離間させるまでの真空比例開閉弁の
開度の制御が、弁開度センサーの出力値と弁開度指令値
との電気的対応関係内で確保されるようにしているの
で、真空比例開閉弁の再組立後の真空比例開閉弁の開度
と弁開度指令値の対応関係のずれを補正することができ
る。
Further, when handling the zero point of the opening degree of the new vacuum proportional on-off valve, the vacuum proportional on-off valve is controlled from immediately after the valve element starts moving until the valve element is farthest away from the valve seat in a controlled manner. Since the opening control is ensured within the electrical correspondence between the output value of the valve opening sensor and the valve opening command value, the vacuum proportional on-off valve is reassembled after the vacuum proportional on-off valve is reassembled. The deviation of the correspondence between the opening and the valve opening command value can be corrected.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】真空比例開閉弁の開度の零点をZERO点補正
回路で算出する手順の一例を示したフローチャート図で
ある。
FIG. 1 is a flowchart illustrating an example of a procedure for calculating a zero point of an opening degree of a vacuum proportional on-off valve by a ZERO point correction circuit.

【図2】真空比例開閉弁の再組立後において、真空比例
開閉弁の開度と弁開度指令値との対応関係のずれとその
補正を説明する図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a deviation of a correspondence relationship between the opening degree of the vacuum proportional on-off valve and a valve opening command value after reassembly of the vacuum proportional on-off valve and a correction thereof.

【図3】本実施の形態の真空圧力制御システムのブロッ
ク図である。
FIG. 3 is a block diagram of a vacuum pressure control system according to the present embodiment.

【図4】ポテンショメータの出力値と弁開度指令値との
対応関係の一例を示した図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a correspondence relationship between an output value of a potentiometer and a valve opening command value;

【図5】図1のフローチャートで算出した一例を説明す
る図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating an example calculated by the flowchart of FIG. 1;

【図6】図1のフローチャートで算出した一例を説明す
る図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating an example calculated by the flowchart of FIG. 1;

【図7】真空比例開閉弁の再組立後において、真空比例
開閉弁の開度の零点を弁開度指令値の最下点にした場合
の効果を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing the effect when the zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve is set to the lowest point of the valve opening command value after the reassembly of the vacuum proportional on-off valve.

【図8】真空比例開閉弁の再組立後において、真空比例
開閉弁の開度の零点を弁開度指令値の最下点にしなかっ
た場合の問題を示す図である。
FIG. 8 is a diagram illustrating a problem in a case where the zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve is not set to the lowest point of the valve opening command value after the reassembly of the vacuum proportional on-off valve.

【図9】真空比例開閉弁の再組立後において、真空比例
開閉弁の開度の零点を弁開度指令値の最下点にした場合
の効果を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing an effect when the zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve is set to the lowest point of the valve opening command value after the reassembly of the vacuum proportional on-off valve.

【図10】本実施の形態の真空圧力制御システムのブロ
ック図である。
FIG. 10 is a block diagram of a vacuum pressure control system according to the present embodiment.

【図11】下限値制限回路で弁開度指令値の下限を制限
する前の弁開度指令値の出力範囲を示した図である。
FIG. 11 is a diagram illustrating an output range of the valve opening command value before the lower limit value limiting circuit limits the lower limit of the valve opening command value.

【図12】下限値制限回路で弁開度指令値の下限を制限
した後の弁開度指令値の出力範囲を示した図である。
FIG. 12 is a diagram showing an output range of the valve opening command value after the lower limit of the valve opening command value is limited by the lower limit value limiting circuit.

【図13】真空比例開閉弁の遮断した状態の断面図であ
る。
FIG. 13 is a cross-sectional view of a state in which a vacuum proportional on-off valve is shut off.

【図14】真空比例開閉弁の開いた状態の断面図であ
る。
FIG. 14 is a cross-sectional view of the open state of the vacuum proportional on-off valve.

【図15】本実施の形態の真空圧力制御システムのブロ
ック図である。
FIG. 15 is a block diagram of a vacuum pressure control system according to the present embodiment.

【図16】CVD装置の反応室の排気系の概略図であ
る。
FIG. 16 is a schematic view of an exhaust system of a reaction chamber of a CVD apparatus.

【図17】本実施の形態の真空圧力制御システムのブロ
ック図である。
FIG. 17 is a block diagram of a vacuum pressure control system according to the present embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 CVD装置の反応室 14、15 真空圧力センサー 16 真空比例開閉弁 18 ポテンショメータ 22 真空圧力制御回路 41 空気圧シリンダ 45 ポペット弁体 70 空気圧力センサー 110 バイアス回路 120 下限値制限回路 121 ZERO点補正回路 Reference Signs List 10 Reaction chamber of CVD apparatus 14, 15 Vacuum pressure sensor 16 Vacuum proportional on-off valve 18 Potentiometer 22 Vacuum pressure control circuit 41 Pneumatic cylinder 45 Poppet valve body 70 Air pressure sensor 110 Bias circuit 120 Lower limit value limiting circuit 121 Zero point correction circuit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 籠橋 宏 愛知県春日井市堀の内町850 シーケーデ ィ株式会社春日井事業所内 Fターム(参考) 3H045 AA02 AA12 AA38 BA22 BA36 CA04 CA12 DA12 DA50 3H052 AA01 BA35 CD09 DA04 EA01 EA09  ──────────────────────────────────────────────────の Continuing from the front page (72) Inventor Hiroshi Kagohashi 850, Horinouchi-cho, Kasugai-shi, Aichi Prefecture F-term (reference) 3K045 AA02 AA12 AA38 BA22 BA36 CA04 CA12 DA12 DA50 3H052 AA01 BA35 CD09 DA04 EA01 EA09

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 真空容器と真空ポンプとを接続する配管
上にあって開度を変化させることにより前記真空容器内
の真空圧力を変化させる真空比例開閉弁と、前記真空容
器内の真空圧力を計測する真空圧力センサーと、前記真
空圧力センサーの出力値と目標真空圧力値に基づいて発
生させる弁開度指令値で前記真空比例開閉弁の開度を制
御するコントローラとを有する真空圧力制御システムに
おいて、 前記真空比例開閉弁が、弁座と、前記弁座と当接または
離間する弾性シール部材を設けた弁体と、 前記真空比例開閉弁の開度を計測する弁開度センサーと
を備え、 前記弁体が前記弁座と密接している際の前記弁開度セン
サーの出力値に対応する前記弁開度指令値を、初期の前
記真空比例開閉弁の開度の零点として扱うとともに、前
記真空比例開閉弁の開度の制御上の最下点として扱うこ
とによって、前記真空容器内の真空圧力を変化させる際
に、前記目標真空圧力値に対して行き過ぎることを防止
することを特徴とする真空圧力制御システム。
A vacuum proportional on-off valve which is on a pipe connecting a vacuum container and a vacuum pump and changes an opening degree to change a vacuum pressure in the vacuum container; A vacuum pressure sensor for measuring, and a controller for controlling the opening of the vacuum proportional on-off valve with a valve opening command value generated based on an output value of the vacuum pressure sensor and a target vacuum pressure value. The vacuum proportional on-off valve, a valve seat, a valve body provided with an elastic seal member that abuts or separates from the valve seat, a valve opening degree sensor that measures the opening degree of the vacuum proportional on-off valve, The valve opening command value corresponding to the output value of the valve opening sensor when the valve body is in close contact with the valve seat is treated as an initial zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve, Vacuum proportional open By treating as the lowest point in the control of the opening degree of the valve closing, when changing the vacuum pressure in the vacuum vessel, it is possible to prevent the vacuum pressure from going too far with respect to the target vacuum pressure value. Control system.
【請求項2】 請求項1に記載する真空圧力制御システ
ムにおいて、 初期の前記真空比例開閉弁の開度の零点に対応する前記
弁開度指令値を除々に変化させながら前記真空比例開閉
弁の開度を制御し、前記弁体が動き始めた直後の前記弁
開度指令値を、新たな前記真空比例開閉弁の開度の零点
として扱うことを自動的に行うことを特徴とする真空圧
力制御システム。
2. The vacuum pressure control system according to claim 1, wherein the valve opening command value corresponding to the initial zero point of the opening of the vacuum proportional switching valve is gradually changed while gradually changing the valve opening command value. Controlling the opening degree, automatically treating the valve opening command value immediately after the valve element starts moving as the zero point of the opening degree of the new vacuum proportional on-off valve, Control system.
【請求項3】 請求項2に記載する真空圧力制御システ
ムにおいて、 新たな前記真空比例開閉弁の開度の零点として扱う際
に、前記弁体が動き始めた直後から前記弁体を前記弁座
から制御的に最も離間させるまでの前記真空比例開閉弁
の開度の制御、及び、前記真空比例開閉弁の再組立又は
経年変化による前記真空比例開閉弁の開度の零点のずれ
に対する補正を、前記弁開度センサーの出力値と前記弁
開度指令値との電気的対応関係内で確保することを特徴
とする真空圧力制御システム。
3. The vacuum pressure control system according to claim 2, wherein, when treating as a new zero point of the degree of opening of the vacuum proportional on-off valve, the valve element is moved to the valve seat immediately after the valve element starts moving. Controlling the degree of opening of the vacuum proportional on-off valve until the control is most distant from, and correcting for the deviation of the zero point of the degree of opening of the vacuum proportional on-off valve due to reassembly or aging of the vacuum proportional on-off valve, A vacuum pressure control system, wherein the value is secured within an electrical correspondence between an output value of the valve opening sensor and the valve opening command value.
【請求項4】 請求項2又請求項3に記載する真空圧力
制御システムにおいて、 前記真空比例開閉弁の開度の零点に対応する前記弁開度
指令値を前記コントローラに記憶して保持することを特
徴とする真空圧力制御システム。
4. The vacuum pressure control system according to claim 2, wherein the valve opening command value corresponding to the zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve is stored and held in the controller. A vacuum pressure control system.
【請求項5】 請求項2乃至請求項4のいずれか一つに
記載する真空圧力制御システムにおいて、 前記真空比例開閉弁の開度を計測する弁開度センサーを
備え、 前記弁開度センサーの出力に基づいて、前記真空比例開
閉弁の開度の零点に対応する前記弁開度指令値を算出す
ることを特徴とする真空圧力制御システム。
5. The vacuum pressure control system according to claim 2, further comprising: a valve opening sensor that measures an opening of the vacuum proportional on-off valve; A vacuum pressure control system, wherein the valve opening command value corresponding to a zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve is calculated based on the output.
【請求項6】 請求項2乃至請求項4のいずれか一つに
記載する真空圧力制御システムにおいて、 前記真空比例開閉弁の駆動源となる空気圧シリンダと、 前記空気圧シリンダ内の空気圧を計測する空気圧センサ
ーとを備え、 前記空気圧シリンダーの出力に基づいて、前記真空比例
開閉弁の開度の初期零点に対応する前記弁開度指令値を
算出することを特徴とする真空圧力制御システム。
6. The vacuum pressure control system according to claim 2, wherein: a pneumatic cylinder serving as a drive source of the vacuum proportional on-off valve; and a pneumatic pressure measuring an air pressure in the pneumatic cylinder. A vacuum pressure control system comprising: a sensor; and calculating the valve opening command value corresponding to an initial zero point of the opening of the vacuum proportional on-off valve based on an output of the pneumatic cylinder.
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