JP2000146017A - 制御弁のデテント機構 - Google Patents

制御弁のデテント機構

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JP2000146017A
JP2000146017A JP10314469A JP31446998A JP2000146017A JP 2000146017 A JP2000146017 A JP 2000146017A JP 10314469 A JP10314469 A JP 10314469A JP 31446998 A JP31446998 A JP 31446998A JP 2000146017 A JP2000146017 A JP 2000146017A
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detent
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Masayuki Okitsu
政幸 興津
Katsuaki Takahashi
克彰 高橋
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 制御弁のデテント機構において、制御弁の設
定軸を所定の位置に設定した後は、そのままの状態で設
定軸の回転が防止され、しかもデテント機構のコストを
低くすることを課題とする。 【解決手段】 制御弁(10)の設定軸(22)を所定の位置に
設定し、その後の設定軸(22)の回転を防止するための制
御弁(10)のデテント機構である。設定軸(22)に環状溝(3
5)が形成され、設定軸(22)の環状溝(35)にデテントリン
グ(32)が係合された状態で設定軸(22)及びデテントリン
グ(32)が制御弁(10)の支持孔(28)に圧入されている。設
定軸(22)と支持孔(28)との間にデテントリング(32)が介
在して、設定軸(22)と支持孔(28)との間に回転防止に必
要な摩擦力が付与されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、空気圧制御弁、油
圧制御弁等の制御弁の設定軸の回転を防止するためのデ
テント機構に関する。
【0002】
【従来の技術】図2(a) は従来の制御弁(減圧弁)のデ
テント機構の第1例(実開平2−27207号公報参
照)を示し、設定軸1をハンドル2により回転して設定
軸1を所定の位置に設定し、六角ナット3をボンネット
4の上端面に締め付けて、その後の設定軸1の回転を防
止するように構成されている。供給ポート5から流入し
た流体の圧力を制御して出力ポート6から排出する。設
定軸1を所定圧力に設定する毎に、回転防止のため六角
ナット3を締め付けてロックをする必要があり、操作が
大変煩わしいという欠点がある。
【0003】図2(b) は従来の制御弁のデテント機構の
第2例を示し、設定軸1をハンドル2により回転して設
定軸1を所定の位置に設定する。次いで、キャップ状の
ハンドル2を下方に押し下げ、ハンドル2の下方内面の
係合突起をボンネット4の側部の係合溝7に係合(ロッ
ク)させ、その後の設定軸1の回転を防止する。供給ポ
ート5から流入した流体の圧力を制御して出力ポート6
から排出する。ハンドル2を押し下げてロックしたり、
引き上げてロックを解除する操作を円滑には行い難いと
いう問題がある。
【0004】図2(c) は従来の制御弁のデテント機構の
第3例を示し、設定軸1をドライバーにより回転して設
定軸1を所定の位置に設定する。設定軸1の端部の表面
にローレット目が施され、ボンネット4に形成された雌
ねじの先端にボール8が配置され、ボール8がローレッ
ト目に接触している。前記雌ねじに螺合された雄ねじ
が、ボール8をローレット目に向けて押圧し、その後の
設定軸1の回転を防止している。第3例では、設定後の
煩わしい操作は不要であるが、部品のコストが高く、組
付に相当の時間を要するという欠点がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、制御弁のデ
テント機構において、制御弁の設定軸を所定の位置に設
定した後は、そのままの状態で設定軸の回転が防止さ
れ、しかもデテント機構のコストを低くすることを課題
とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を達
成するために、制御弁の設定軸を所定の位置に設定し、
その後の設定軸の回転を防止するための制御弁のデテン
ト機構において、設定軸に環状溝が形成され、設定軸の
環状溝にデテントリングが係合された状態で設定軸及び
デテントリングが制御弁の支持孔に圧入されており、設
定軸と支持孔との間にデテントリングが介在して、設定
軸と支持孔との間に回転防止に必要な摩擦力が付与され
ていることを第1構成とする。本発明は、第1構成にお
いて、デテントリングに円弧部と端部折曲部とが形成さ
れ、支持孔の内面にリング支持溝が形成され、デテント
リングの円弧部が環状溝に装着されるとともにデテント
リングの端部折曲部がリング支持溝に装着されたことを
第2構成とする。本発明は、第1・第2構成において、
環状溝の断面を円弧となし、デテントリングの断面を円
形となし、制御弁の支持孔の内面に滑り止めが施され、
デテントリングの円弧部と支持孔の内面との間に摩擦力
が付加されていることを第3構成とする。
【0007】
【発明の実施の形態】図1は、本発明の制御弁のデテン
ト機構の実施の形態を示す。制御弁の一種の減圧弁10
は、弁ボディ11の上側にボンネット12を重ねた直方体の
ブロック内に設けられている。図1(a) のボンネット12
の左方には縦方向の段付孔14が形成され、段付孔14には
上から順に挿入孔15、中径孔16及び大径孔17があり、大
径孔17の下端には環状溝18が形成されている。段付孔14
と同一軸線上で弁ボディ11に弁室孔20が形成され、弁室
孔20は上端が段付孔14の下端に開口した盲孔である。
【0008】段付孔14内には下側から挿入された調圧ス
クリュー(設定軸)22、調圧スプリング受け23、ピスト
ン25等が装着されている。図1(a) 〜(d) に明示されて
いるように、ボンネット12の挿通孔15には、上方端部に
小径の軸受孔29が形成され、その下側に軸受孔29よりや
や直径の大きい支持孔28が形成され、支持孔28の内面に
はローレット目などの滑り止めが施されている。図1
(a) 〜(d) では、支持孔28の内面には2個のリング支持
溝30、31が縦方向に向けて形成され、支持孔28を中心に
してリング支持溝30とリング支持溝31とは所定の間隔と
されている。所定長さの円弧部32Aと、円弧部32Aの両
端部が円弧部32Aの面に対して垂直方向に曲げられた形
状のデテントリング32が用意される。デテントリング32
の断面は例えば円形(針金等を使用)であり、デテント
リング32の両端部がリング支持溝30、31に下側から装着
できるようにされている。
【0009】図1(d) に示すように、調圧スクリュー22
には上方から上方突出部34、断面円弧の環状溝35、フラ
ンジ部36及び雄ねじ部37が形成されている。環状溝35は
デテントリング32を係合させるための横向きの溝であっ
て上方突出部34より小径であり、フランジ部36に隣接し
て配置されている。環状溝35にデテントリング32の円弧
部32Aを係合させ(デテントリング32の円弧部32Aの相
当部分は環状溝35外に露出している)、デテントリング
32の端部折曲部32Bを上方に向け、調圧スクリュー22の
上方突出部34をデテントリング32を介して挿入孔15の支
持孔28に圧入し(調圧スクリュー22が支持孔28に直接に
接触することもある)、デテントリング32の両方の端部
折曲部32Bをリング支持溝30、31に装着させる。挿入孔
15の軸受孔29には調圧スクリュー22の上端部が支持され
ている。
【0010】デテントリング32は端部折曲部32Bがリン
グ支持溝30、31に装着されて固定され、デテントリング
32の円弧部32Aの外周面は支持孔28の滑り止めに圧接さ
れて移動しないように支持されている。ここでは、デテ
ントリング32の円弧部32Aは360度未満であるが、3
60度以上にしてもよい。なお、デテントリング32は、
図1(e) に示すように、円弧部32Aと端部折曲部32Bと
を略同一平面上におき、端部折曲部32Bを半径方向の外
側に向けて折り曲げてもよい。この場合は、リング支持
溝30、31を支持孔28の内面で開口部に形成することとな
るが、調圧スクリュー22のフランジ部36の上面がデテン
トリング32の下面を支持し、抜け出しの恐れはない。
【0011】調圧スプリング受け23は段付孔14の中径孔
16に回転不能かつ上下動可能の状態に配設され、ピスト
ン25は段付孔14の大径孔17に上下動可能の状態に嵌合さ
れている。調圧スクリュー22の雄ねじ部36に調圧スプリ
ング受け23の中央の雌ねじが螺合され、調圧スクリュー
22の回転により調圧スプリング受け23が上下動する。調
圧スクリュー22の上端面にはドライバー係合孔(−溝又
は+溝)が形成されており、ドライバー係合孔にドライ
バーの先端を嵌合して調圧スクリュー22を回転させる。
【0012】バルブ案内部材26の上側フランジ39が段付
孔14の大径孔17に嵌合され、バルブ案内部材26の下側フ
ランジ40は段付孔14の環状溝18に嵌合されている。環状
溝18内で下側フランジ40の下側にOリングが装着され、
Oリングによってボンネット12とバルブ案内部材26と弁
部材11との間が密封されている。調圧スプリング受け23
の下面とピストン25の上面との間には第1調圧スプリン
グ24が装着され、ピストン25の下面とバルブ案内部材26
の上面との間には第2調圧スプリング45が装着されてい
る。第1調圧スプリング23は太くて強いコイルばねであ
り、第2調圧スプリング45は細くて弱いコイルばねであ
る。
【0013】段付孔14内で調圧スプリング受け23とピス
トン25との間の第1調圧スプリング室47は、ボンネット
12中の排気孔46を介して大気に連通されている。段付孔
14内でピストン25とバルブ案内部材26との間のフィード
バック室48は、ピストン25のフィードバック孔49を介し
てバルブ案内部材26内の二次圧室51に連通している。ピ
ストン25の中央には連通孔42が上下方向に貫通されてお
り、連通孔42の下端部は第2弁座60であり、複合弁体55
の上端の第2弁体部57が対向している。バルブ案内部材
26の中央部には段付の縦孔が形成され、この縦孔の上端
部は挿通孔であって複合弁体55のステム部が挿通され、
縦孔の下端は第1弁座59であって、複合弁体55の第1弁
体部56が対向している。
【0014】弁ボディ11の弁室孔20にはライニングが施
され、ライニングの内部が一次圧室52となっており、一
次圧室52は不図示の通路を介して仮想線で示す供給ポー
ト62に連通されている。一次圧室52の底面と複合弁体55
の下面との間にスプリング65が装着され、複合弁体55の
側面及び上面にはライニングが施されている。二次圧室
51は連通孔43を介して弁ボディ11の側部の出力ポート63
に連通され、連通孔43はボンネット12の上面のゲージ装
着孔66に連通され、ゲージ装着孔66には栓が装着されて
いる。
【0015】供給ポート62に圧縮空気を供給し、圧力を
減圧して出力ポート63から所定圧力の圧縮空気を流出さ
せる場合、圧力の設定を正確にするためにゲージ装着孔
66に圧力計を接続することが望ましい。作業者は、圧力
計を見ながらドライバーの先端を調圧スクリュー22の上
端のドライバー係合孔に係合し、調圧スクリュー22を回
転させる。圧縮空気は供給ポート62から一次圧室52に入
り、第1弁座59と第1弁体部56との間の間隙を通り、二
次圧室51、連通路43、出力ポート63を通って流出する。
第1弁座59と第1弁体部56との間の間隙が略一定とな
り、第2弁座60と第2弁体部57との間が閉じ、二次圧が
所定の圧力になったとき、調圧スクリュー22が所定の位
置に設定されたとする。
【0016】調圧スクリュー22の円柱状の上方突出部34
と弁ボディ12の支持孔28との間にはデテントリング32が
介在して、調圧スクリュー22の上方突出部34と弁ボディ
12の支持孔28との間に調圧スクリュー22の回転防止に必
要な適度の摩擦力が付与されている。この摩擦力は、通
常の使用時に振動などにより調圧スクリュー22を戻し回
転させようとする力よりも大きく設定されている。従っ
て、調圧スクリュー22を回転させて位置(制御弁の圧
力)を設定した後は、そのままの状態にしておけば、調
圧スクリュー22が回転されることがない。
【0017】
【発明の効果】本発明においては、設定軸に環状溝が形
成され、設定軸の環状溝にデテントリングが係合された
状態で設定軸及びデテントリングが制御弁の支持孔に圧
入されており、設定軸と支持孔との間にデテントリング
が介在して、設定軸と支持孔との間に回転防止に必要な
摩擦力が付与されている。従って、制御弁の設定軸を所
定の位置に設定した後は、そのままの状態で設定軸の回
転が防止される。しかも従来から存在する設定軸と支持
孔との間に、新たにデテントリングが介在させるだけで
あるので、安価なデテントリング(通常の針金)を用
い、支持孔にリング支持溝や滑り止めを形成しても加工
費をあまり必要としないので、デテント機構のコストが
低い。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(a) は本発明の制御弁のデテント機構の実
施の形態を示す断面図であり、図1(b) は図1(a) のA
−A線の拡大断面図であり、図1(c) は図1(a) のB−
B線の拡大断面図であり、図1(d) は調圧スクリューの
正面図であり、図1(e)はデテントリングの第2例の平
面図である。
【図2】図2(a) は従来のデテント機構の第1例の断面
図であり、図2(b) は従来のデテント機構の第2例の断
面図であり、図2(c) は従来のデテント機構の第3例の
断面図である。
【符号の説明】
10 減圧弁(制御弁) 22 調圧スクリュー(設定軸) 28 支持孔 30 リング支持溝 31 リング支持溝 32 デテントリング 32A 円弧部 32B 端部折曲部 35 環状溝
フロントページの続き Fターム(参考) 3H059 AA07 CA02 CA05 CD04 CE01 CF08 CF09 EE01 FF03 FF04 3H063 AA01 BB33 BB50 DA01 DB04 EE13 GG13

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 制御弁の設定軸を所定の位置に設定し、
    その後の設定軸の回転を防止するための制御弁のデテン
    ト機構において、設定軸に環状溝が形成され、設定軸の
    環状溝にデテントリングが係合された状態で設定軸及び
    デテントリングが制御弁の支持孔に圧入されており、設
    定軸と支持孔との間にデテントリングが介在して、設定
    軸と支持孔との間に回転防止に必要な摩擦力が付与され
    ていることを特徴とする制御弁のデテント機構。
  2. 【請求項2】 デテントリングに円弧部と端部折曲部と
    が形成され、支持孔の内面にリング支持溝が形成され、
    デテントリングの円弧部が環状溝に装着されるとともに
    デテントリングの端部折曲部がリング支持溝に装着され
    た請求項1記載の制御弁のデテント機構。
  3. 【請求項3】 環状溝の断面を円弧となし、デテントリ
    ングの断面を円形となし、制御弁の支持孔の内面に滑り
    止めが施され、デテントリングの円弧部と支持孔の内面
    との間に摩擦力が付加されている請求項1又は2記載の
    制御弁のデテント機構。
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