JP2000138407A - 多層膜ミラー - Google Patents

多層膜ミラー

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JP2000138407A
JP2000138407A JP10308691A JP30869198A JP2000138407A JP 2000138407 A JP2000138407 A JP 2000138407A JP 10308691 A JP10308691 A JP 10308691A JP 30869198 A JP30869198 A JP 30869198A JP 2000138407 A JP2000138407 A JP 2000138407A
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正臣 高坂
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 500〜770nmの波長帯域を有する光パ
ルスの幅を数〜数十fsオーダに圧縮可能な多層膜ミラ
ーを提供する。 【解決手段】 この多層膜ミラーによれば、最外膜40
が低屈折率であるため、高強度のレーザ光がこれに照射
された場合においても、照射による最外膜の電界集中を
減少させて、その破壊を抑制することができる。前記帯
域内の長波長成分の群遅延が短波長成分の群遅延よりも
大きくなるように設定するため、最外膜40直下の膜の
屈折率これよりも高くし、光学膜厚がこれよりも薄くし
た。光学膜厚が上記の如く設定されているため、多層膜
ミラーは、最大で7000cm-1超の反射光周波数帯域
を有することができる。この帯域は、従来の多層膜ミラ
ーのものよりも著しく広いため、広帯域反射光のチャー
プ補償を行うことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光のパルス
圧縮等に用いることが可能な多層膜ミラーに関する。
【0002】
【従来の技術】フェムト秒(fs)オーダのパルス幅を
有する超短パルス光は、種々の計測技術や加工技術への
応用が期待されている。また、超短パルス光の帯域が広
ければ、その応用範囲も広くなる。
【0003】広帯域の光は光非線形媒質に高強度の光を
入射させることによって生成することができる。すなわ
ち、光非線形媒質の屈折率は光強度によって変化する。
光非線形媒質に高強度の光が入射すると、自己位相変調
(SPM)、すなわち媒質の屈折率変化に伴う光の位相
速度変化が生じ、非線形媒質からの出射光は複数の波長
成分を有する白色光となる。このようにして得られた白
色光を増幅させる手段として光パラメトリック増幅(O
PA)がある。OPAにおいて信号光と励起光を非線形
光学結晶中で非平行に位相整合させる非平行光パラメト
リック増幅では、例えばチタンサファイアレーザーの2
倍波を励起光とすれば、可視域に4000cm-1から最
大6000cm-1もの広帯域な超短パルス光を発生させ
ることができる。
【0004】このような白色光の超短パルス光は、個々
の波長成分を有する単一波長パルス光の重ね合わせと捉
えることができる。この白色光の超短パルス光は、群速
度分散(GVD)、すなわち波長成分毎の群速度の相違
のために、非線形光学結晶や空気などの分散媒質により
周波数チャープを受け、光が進行するに従ってパルス幅
が広がってしまう。広がったパルス幅を圧縮するために
は、低速の波長成分を進ませ、高速の波長成分を遅らせ
ればよい。これにより、個々の波長成分を有するパルス
が同一時間内に重複する比率が高くなり、結果的にパル
ス幅が狭くなる。
【0005】上述の群速度分散補償、換言すれば周波数
チャープ補償を行う光学系は種々考えられているが、そ
の中で誘電体多層膜ミラーを用いたものは損失や寸法の
観点から見れば他のものよりも優れている。このような
誘電体多層膜ミラーは、特許第2754214号及び米
国特許5734503号に記載されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特許第
2754214号に記載のミラーは反射帯域に比して周
波数チャープ補償に用いられる帯域が狭く、米国特許5
734503号に記載のミラーは波長720nm〜89
0nmの周波数チャープ補償を行うことができるが、そ
の周波数帯域は2700cm-1程度と狭い。すなわち、
いずれのミラーもその性能は未だ十分ではなく、これら
のミラーでは、OPAの4000cm-1を超える周波数
帯域を有する光パルスを高反射効率で数〜数十fsオー
ダのパルス幅に圧縮することは困難である。
【0007】本発明は、このような課題に鑑みてなされ
たものであり、可視域、特に500nm〜770nmの
波長帯域を有する光パルスの幅を数〜数十fsオーダに
圧縮可能な多層膜ミラーを提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明に係る多層膜ミラーは、屈折率の異なる複数
の誘電体膜を基板上に積層してなる多層膜ミラーにおい
て、可視光帯域における反射率が95%以上であって、
その露出面を構成する最外膜の屈折率がこの最外膜直下
の膜の屈折率よりも低く、且つ、前記帯域内の長波長成
分の群遅延が短波長成分の群遅延よりも大きくなるよう
に、前記最外膜を含む前記誘電体膜各膜の光学膜厚が設
定されていることを特徴とする。
【0009】本発明の多層膜ミラーによれば、最外膜が
低屈折率であるため、高強度のレーザ光がこれに照射さ
れた場合においても、照射による最外膜の電界集中を減
少させて、その破壊を抑制することができる。この場
合、前記帯域内の長波長成分の群遅延が短波長成分の群
遅延よりも大きくなるように設定するためには、少なく
とも最外膜直下の膜の屈折率がこれよりも高く、且つ、
光学膜厚がこれよりも薄いことが好ましい。そして、光
学膜厚が上記の如く設定されているため、多層膜ミラー
は、反射光波長帯域500nm〜770nm、換言すれ
ば、最大で7000cm-1超の反射光周波数帯域を有す
ることができる。この帯域は、従来の多層膜ミラーのも
のよりも著しく広いため、広帯域光のチャープ補償を行
うことができる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、実施の形態に係る多層膜ミ
ラー及び広帯域レーザについて説明する。同一要素又は
同一機能を有する要素には同一符号を用いるものとし、
重複する説明は省略する。
【0011】図1は、第1実施形態に係る多層膜ミラー
の断面構成図である。この多層膜ミラーは、ガラス基板
SBと基板SB上に形成された多層膜MLとからなる。
多層膜MLは、屈折率の異なる2種類の誘電体膜を交互
に積層してなる。本実施の形態においては、多層膜ML
の層数N=40である。基板SB側から奇数番目の誘電
体膜1,3,5,7・・・39は高屈折率膜(H)であ
り、偶数番目の誘電体膜2,4,6,8・・・40は、
低屈折率膜(L)である。高屈折率膜(H)は、TiO
2であり、低屈折率膜(L)はSiO2である。上記ガラ
ス基板SB、TiO2、及びSiO2の屈折率n0、n1
2は、それぞれ、1.52、2.35、1.46であ
る。最外膜40は空気に露出しており、その露出表面は
屈折率nAIR=1.0の空気と最外膜40との間の界面
を構成する。
【0012】図2は、第1実施形態に係る各膜の光学膜
厚(nm)及びその好適範囲(nm)を示す表である。
なお、同表は下から順に1層目、2層目・・・N層目の
膜を示す。また、光学膜厚とは、各膜の屈折率nと厚み
dの積(n×d)である。
【0013】図3は、図2に示した多層膜各膜の番号
1,2・・・40と光学膜厚(nm)との関係を示すグ
ラフである。なお、グラフ中の実線は膜厚近似曲線を示
し、空気側から基板側へ向かう方向を正方向とすると、
この曲線は概ね二次関数を示す。
【0014】図4は、図2に示した多層膜ミラーによる
反射光波長(nm)と群遅延(fs)との関係を示すグ
ラフである。本ミラーにおいては、波長500nm〜7
50nmにおいて、傾き0.05〜0.15(fs/n
m)で群遅延が単調に増加している。また、波長500
nmにおける群遅延は0〜5fsの範囲にあり、波長6
00nmにおける群遅延は10〜15fsの範囲にあ
り、波長700nmにおける群遅延は23〜28fsの
範囲にある。
【0015】本多層膜ミラーにおいては、入射した光の
長波長成分の群速度を短波長成分の群速度に対して相対
的に遅らせるので、分散媒質によってパルス幅が広がっ
たレーザ光のパルス幅を圧縮することができる。
【0016】図5は、第2実施形態に係る各膜の光学膜
厚(nm)及びその好適範囲(nm)を示す表である。
なお、同表は下から順に1層目、2層目・・・N層目の
膜を示し、層数N=54である。
【0017】図6は、図5に示した多層膜ミラーによる
反射光波長(nm)と群遅延(fs)との関係を示すグ
ラフである。本ミラーにおいては、波長500nm〜8
00nmにおいて、傾き0.05〜0.15(fs/n
m)で群遅延が単調に増加している。また、波長500
nmにおける群遅延は0〜5fsの範囲にあり、波長6
00nmにおける群遅延は5〜10fsの範囲にあり、
波長700nmにおける群遅延は20〜25fsの範囲
にある。
【0018】本多層膜ミラーにおいても、入射した光の
長波長成分の群速度を短波長成分の群速度に対して相対
的に遅らせるので、分散媒質によってパルス幅が広がっ
たレーザ光のパルス幅を圧縮することができる。
【0019】図7は、第3実施形態に係る各膜の光学膜
厚(nm)及びその好適範囲(nm)を示す表である。
なお、同表は下から順に1層目、2層目・・・N層目の
膜を示し、層数N=56である。
【0020】図8は、図7に示した多層膜ミラーによる
反射光波長(nm)と群遅延(fs)との関係を示すグ
ラフである。本ミラーにおいては、波長500nm〜8
00nmにおいて、傾き0.05〜0.15(fs/n
m)で群遅延が単調に増加している。また、波長500
nmにおける群遅延は0〜5fsの範囲にあり、波長6
00nmにおける群遅延は13〜18fsの範囲にあ
り、波長700nmにおける群遅延は20〜25fsの
範囲にある。
【0021】本多層膜ミラーにおいても、入射した光の
長波長成分の群速度を短波長成分の群速度に対して相対
的に遅らせるので、分散媒質によってパルス幅が広がっ
たレーザ光のパルス幅を圧縮することができる。
【0022】図9は、第4実施形態に係る各膜の光学膜
厚(nm)及びその好適範囲(nm)を示す表である。
なお、同表は下から順に1層目、2層目・・・N層目の
膜を示し、層数N=40である。
【0023】図10は、図9に示した多層膜ミラーによ
る反射光波長(nm)と群遅延(fs)との関係を示す
グラフである。本ミラーにおいては、波長500nm〜
770nmにおいて、傾き0.15〜0.19(fs/
nm)で群遅延が単調に増加している。また、波長50
0nmにおける群遅延は0〜5fsの範囲にあり、波長
600nmにおける群遅延は5〜10fsの範囲にあ
り、波長700nmにおける群遅延は23〜27fsの
範囲にある。
【0024】本多層膜ミラーにおいても、入射した光の
長波長成分の群速度を短波長成分の群速度に対して相対
的に遅らせるので、分散媒質によってパルス幅が広がっ
たレーザ光のパルス幅を圧縮することができる。
【0025】図11は、第5実施形態に係る各膜の光学
膜厚(nm)及びその好適範囲(nm)を示す表であ
る。なお、同表は下から順に1層目、2層目・・・N層
目の膜を示し、層数N=40である。
【0026】図12は、図11に示した多層膜ミラーに
よる反射光波長(nm)と群遅延(fs)との関係を示
すグラフである。本ミラーにおいては、波長500nm
〜770nmにおいて、傾き0.15〜0.19(fs
/nm)で群遅延が単調に増加している。また、波長5
00nmにおける群遅延は0〜5fsの範囲にあり、波
長600nmにおける群遅延は5〜10fsの範囲にあ
り、波長700nmにおける群遅延は23〜27fsの
範囲にある。
【0027】本多層膜ミラーにおいても、入射した光の
長波長成分の群速度を短波長成分の群速度に対して相対
的に遅らせるので、分散媒質によってパルス幅が広がっ
たレーザ光のパルス幅を圧縮することができる。
【0028】上記第1〜第5実施形態に係る多層膜ミラ
ーは、屈折率の異なる複数の誘電体膜をガラス基板SB
上に積層してなる多層膜ミラーにおいて、可視光帯域、
特に波長500nm〜750nmの帯域における反射率
が95%以上であって、その露出面を構成する最外膜の
屈折率がこの最外膜直下の膜の屈折率よりも低く、且
つ、この帯域内の長波長成分の群遅延が短波長成分の群
遅延よりも大きくなるように、最外膜を含む誘電体膜各
膜の光学膜厚が設定されている。
【0029】これらの多層膜ミラーによれば、最外膜が
低屈折率であるため、高強度のレーザ光がこれに照射さ
れた場合においても、照射による最外膜の電界集中を減
少させて、その破壊を抑制することができる。この場
合、前記帯域内の長波長成分の群遅延が短波長成分の群
遅延よりも大きくなるように設定するためには、少なく
とも最外膜直下の膜の屈折率がこれよりも高く、且つ、
光学膜厚がこれよりも薄いことが好ましい。そして、光
学膜厚が上記の如く設定されているため、多層膜ミラー
は、反射光波長帯域500nm〜770nm、換言すれ
ば、最大で7000cm-1超の反射光周波数帯域を有す
ることができる。この帯域は、従来の多層膜ミラーのも
のよりも著しく広いため、広帯域反射光のチャープ補償
を行うことができる。
【0030】なお、図14は、上記光学膜厚を設定する
ために用いるための式(1)〜(9)を示す表である。
設定の手順は以下の通りである。
【0031】式(8)に示される反射率Rが、波長帯域
500nm〜770nm内のそれぞれの光に対して95
%以上となるように設定される。
【0032】式(9)に示されるΦは、その1階周波数
微分が群遅延(GD)を、2階周波数微分が群遅延分散
(GDD)を示す変数、換言すれば複素振幅反射率Rの
偏角であり、上記波長帯域500nm〜750nmにお
いて、この群遅延GDは波長に対して単調増加するよう
に設定される。なお、R及びΦ(GD)は波長依存性を
有するので、帯域内のそれぞれの波長毎に演算を行う。
【0033】R及びΦは、k層目の複素振幅反射率γ
k+1 kが求められれば算出できる。第1層目の複素振幅
反射率γ21、第2層目の複素振幅反射率γ32は、それぞ
れ式(4)及び(5)から算出される。なお、第k層目
の複素振幅反射率γk+1 kは、式(6)から算出され
る。なお、これらの式におけるフレネル係数rは、j番
目の膜の屈折率をnjとすると、屈折率の式(2)から
算出され、式中のδはj番目の光の入射角をθj、j番
目の膜の膜の厚みをdj、入射光波長をλとすると、式
(1)で与えられる。なお、複素振幅反射率γ10は式
(3)で与えられ、θjを与えるcosθjは式(7)で
与えられる。なお、nairは入射媒体の屈折率であっ
て、本例では空気であるためnair≒1.0であり、θ
airは入射界面の光の入射角度、すなわち、ミラーに対
する光の入射角度である。以上の設定を満たすように計
算を行うと、上記3つの実施形態に係る多層膜ミラーを
得ることができる。
【0034】図13は、上記いずれかの多層膜ミラーを
用いた広帯域レーザのシステム構成図である。この広帯
域レーザは、1対の上記多層膜ミラー100a,100
bを備えており、チャープ補償を行っている。
【0035】この広帯域レーザは、波長790nmのレ
ーザ光を出射するチタンサファイアレーザからなるレー
ザ光源101を備えている。レーザ光源101から出射
されるレーザ光は、パルス幅130fs、光強度400
μJ、繰り返し周波数1kHzを有する。
【0036】このレーザ光は、ビームスプリッタBSに
よって2つに分割され、分割された光の一方は可変ND
フィルタ(アッテネータ)102、レンズ103、通過
するレーザ光の波長帯域を少なくとも500nm〜80
0nmに広げるサファイア基板104、ミラー105、
ミラー106、107、光学フィルタ108、ミラー1
09、ミラー111を介し、信号光として非線形光学結
晶(BBO)112に入射される。なお、光学フィルタ
108は、波長500nm〜800nmのレーザ光から
波長750nm以下のレーザ光を選択する光学フィルタ
108であり、非線形光学結晶112には500nm〜
750nmの信号光が入射される。
【0037】分割された光の他方は、ミラー201、レ
ンズ202、非線形光学結晶(LiB34)203、レ
ンズ204、第2高調波である波長395nmの光を反
射し基本波である波長790nmの光を透過するハーモ
ニックセパレータ205、プリズム206、レンズ20
7、208を介し、波長395nmの励起光として非線
形光学結晶112に入射される。なお、信号光と励起光
の偏光方位は直交している。
【0038】励起光の照射によって非線形光学結晶11
2が励起されている間に、信号光がこれに入射すると、
この信号光は光パラメトリック効果によって増幅され
る。なお、増幅された信号光が波長550nm〜700
nmの波長帯域を有するように、光路長調整用ミラー1
07の位置決めが行われている。増幅された信号光は、
ミラー113aにより反射され、再び非線形光学結晶1
12に入射する。この時、非線形光学結晶112を通過
した励起光もミラー113bにより反射され再び非線形
光学結晶112に入射する。これにより信号光は再び増
幅され、ミラー111で反射されてミラー110に入射
する。この時ミラー113aは縦方向に若干傾いている
ため光路が空間的に分離され、ミラー110は、増幅さ
れた信号光を反射し、反射された信号光はミラー11
4、115、ペリスコープPS、ミラー117を介して
プリズム対300a,300bに入射する。
【0039】増幅された信号光(波長550nm〜70
0nm)は、この時点までの経路の通過によって、群遅
延分散を有している。プリズム対300a,300b
は、この分散を若干補償し、補償された信号光はミラー
117を介することなくその側部を通過して多層膜ミラ
ー対100a,100bに入射する。ここで、入射する
レーザ光の帯域(波長550nm〜700nm)は、多
層膜ミラー100a,100bの反射帯域(波長500
nm〜770nm)よりも狭いため、反射光は効率的に
チャープ補償される。
【0040】多層膜ミラー100a,100bは、互い
に平行に配置されており、多層膜ミラー100aのへの
光の入射角は45度以内に設定されている。信号光は多
層膜ミラー対100a,100bによって数回反射され
た後、これから出射される。なお、出射光の波長は55
0nm〜700nmであって、パルス幅5fs以上、光
強度5μJ以上である。
【0041】以上、説明したように、本実施の形態に係
る広帯域レーザは、レーザ光源101から出力された所
定波長(790nm)のレーザ光から、多層膜ミラー1
00a,100bによる反射光帯域(500nm〜77
0nm)よりも狭帯域(波長550nm〜700nm)
のレーザ光を生成し多層膜ミラーに入射させる光学系B
S,102〜116,201〜208,300a,30
0b,300cを備えている。この光学系によるレーザ
光の帯域は多層膜ミラー100a,100bの反射帯域
よりも狭いため、反射光は効率的にチャープ補償され
る。
【0042】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明に係る多
層膜ミラーは、上述の設定を行うことにより、500n
m〜770nmの波長帯域を有する光パルスの幅を数〜
数十fsオーダに圧縮することができる。このミラーを
用いた広帯域レーザは、超短パルスの広帯域レーザ光を
出射することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施の形態に係る多層膜ミラーの断面構成
図。
【図2】第1実施形態に係る各膜の光学膜厚(nm)及
びその好適範囲(nm)を示す表。
【図3】図2に示した多層膜各膜の番号1,2・・・4
0と光学膜厚(nm)との関係を示すグラフ。
【図4】図2に示した多層膜ミラーによる反射光波長
(nm)と群遅延(fs)との関係を示すグラフ。
【図5】第2実施形態に係る各膜の光学膜厚(nm)及
びその好適範囲(nm)を示す表。
【図6】図5に示した多層膜ミラーによる反射光波長
(nm)と群遅延(fs)との関係を示すグラフ。
【図7】第3実施形態に係る各膜の光学膜厚(nm)及
びその好適範囲(nm)を示す表。
【図8】図7に示した多層膜ミラーによる反射光波長
(nm)と群遅延(fs)との関係を示すグラフ。
【図9】第4実施形態に係る各膜の光学膜厚(nm)及
びその好適範囲(nm)を示す表。
【図10】図9に示した多層膜ミラーによる反射光波長
(nm)と群遅延(fs)との関係を示すグラフ。
【図11】第5実施形態に係る各膜の光学膜厚(nm)
及びその好適範囲(nm)を示す表。
【図12】図11に示した多層膜ミラーによる反射光波
長(nm)と群遅延(fs)との関係を示すグラフ。
【図13】多層膜ミラーを用いた広帯域レーザのシステ
ム構成図。
【図14】光学膜厚を設定するために用いるための式
(1)〜(9)をまとめて示す表。
【符号の説明】
SB…ガラス基板、ML…多層膜。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H042 DA08 DA12 DB02 DE07 2H048 GA07 GA14 GA36 GA51 GA61 2K002 AA04 AA07 AB12 AB27 AB30 AB33 BA02 BA04 CA02 DA20 EA07 HA08 HA16 HA20 HA23 HA26 5F072 AB20 JJ20 KK05 KK11 KK12 QQ02 QQ03 RR03

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 屈折率の異なる複数の誘電体膜を基板上
    に積層してなる多層膜ミラーにおいて、可視光帯域にお
    ける反射率が95%以上であって、その露出面を構成す
    る最外膜の屈折率がこの最外膜直下の膜の屈折率よりも
    低く、且つ、前記帯域内の長波長成分の群遅延が短波長
    成分の群遅延よりも大きくなるように、前記最外膜を含
    む前記誘電体膜各膜の光学膜厚が設定されていることを
    特徴とする多層膜ミラー。
  2. 【請求項2】 前記可視光帯域は波長500nm〜77
    0nmであることを特徴とする請求項1に記載の多層膜
    ミラー。
JP30869198A 1998-10-29 1998-10-29 多層膜ミラー Expired - Fee Related JP4142179B2 (ja)

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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001094991A1 (fr) * 2000-06-08 2001-12-13 Oyokoden Lab Co., Ltd. Dispositif composite de compensation de dispersion de la lumiere et procede de compensation de dispersion de la lumiere l'utilisant
WO2002023234A1 (fr) * 2000-09-14 2002-03-21 Oyokoden Lab Co., Ltd. Dispositif de compensation de la dispersion optique, dispositif composite de compensation de la dispersion optique comportant ledit dispositif et procede de compensation de la dispersion optique a l'aide de ce dispositif
WO2002031542A1 (fr) * 2000-10-13 2002-04-18 Oyokoden Lab Co., Ltd. Element de correction de dispersion optique, element composite de correction de dispersion optique utilisant cet element, et procede de correction de dispersion optique utilisant cet element
WO2002037174A1 (fr) * 2000-10-31 2002-05-10 Hamamatsu Photonics K. K. Modulateur optique spatial et dispositif de commande de forme d'impulsion optique
JP2003107223A (ja) * 2001-09-27 2003-04-09 Sekiji Yamagata 誘電体多層膜ミラー
EP2042893A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 Fujinon Corporation Negative dispersion mirror and mode-locked solid-state laser apparatus including the mirror
EP2136442A1 (en) 2008-06-20 2009-12-23 FUJIFILM Corporation Compact mode-locked solid-state laser
EP2136441A1 (en) 2008-06-20 2009-12-23 FUJIFILM Corporation Mode-locked solid-state laser
EP2136440A1 (en) 2008-06-20 2009-12-23 FUJIFILM Corporation Mode-locked solid-state laser

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011140152A2 (en) * 2010-05-04 2011-11-10 Massachusetts Institute Of Technology Broadband dispersion-free optical filter cavities based on dielectric mirrors with complementary dispersion
JP5718017B2 (ja) 2010-10-27 2015-05-13 オリンパス株式会社 多層膜フィルタ

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001094991A1 (fr) * 2000-06-08 2001-12-13 Oyokoden Lab Co., Ltd. Dispositif composite de compensation de dispersion de la lumiere et procede de compensation de dispersion de la lumiere l'utilisant
WO2002023234A1 (fr) * 2000-09-14 2002-03-21 Oyokoden Lab Co., Ltd. Dispositif de compensation de la dispersion optique, dispositif composite de compensation de la dispersion optique comportant ledit dispositif et procede de compensation de la dispersion optique a l'aide de ce dispositif
WO2002031542A1 (fr) * 2000-10-13 2002-04-18 Oyokoden Lab Co., Ltd. Element de correction de dispersion optique, element composite de correction de dispersion optique utilisant cet element, et procede de correction de dispersion optique utilisant cet element
WO2002037174A1 (fr) * 2000-10-31 2002-05-10 Hamamatsu Photonics K. K. Modulateur optique spatial et dispositif de commande de forme d'impulsion optique
JP2002139716A (ja) * 2000-10-31 2002-05-17 Hamamatsu Photonics Kk 空間光変調器および光パルス波形制御装置
US7057788B2 (en) 2000-10-31 2006-06-06 Hamamatsu Photonics K.K. Spatial light modulator and light pulse waveform controller
JP2003107223A (ja) * 2001-09-27 2003-04-09 Sekiji Yamagata 誘電体多層膜ミラー
EP2042893A3 (en) * 2007-09-28 2010-12-15 Fujinon Corporation Negative dispersion mirror and mode-locked solid-state laser apparatus including the mirror
EP2042893A2 (en) 2007-09-28 2009-04-01 Fujinon Corporation Negative dispersion mirror and mode-locked solid-state laser apparatus including the mirror
US8199397B2 (en) 2007-09-28 2012-06-12 Fujifilm Corporation Negative dispersion mirror and mode-locked solid-state laser apparatus including the mirror
EP2136442A1 (en) 2008-06-20 2009-12-23 FUJIFILM Corporation Compact mode-locked solid-state laser
EP2136440A1 (en) 2008-06-20 2009-12-23 FUJIFILM Corporation Mode-locked solid-state laser
US7949018B2 (en) 2008-06-20 2011-05-24 Fujifilm Corporation Mode-locked solid-state laser apparatus
US7953127B2 (en) 2008-06-20 2011-05-31 Fujifilm Corporation Mode-locked solid-state laser apparatus
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