JP2000131852A - 被描画体の搬入装置及び描画システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 描画装置に対する被描画体の搬入前にその被
描画体の寸法データを検出し、誤った寸法の被描画体へ
の描画パターンの描画を未然に防止する。 【解決手段】 搬入装置は感光性の被描画体Ｐを光ビー
ムで走査させつつ該光ビームを描画データに基づいて変
調させることにより該被描画体に所定のパターンを描画
する描画装置１３に対して被描画体を搬入する。搬入装
置は描画装置に搬入すべき被描画体を搭載する搭載手段
８０と、その上の被描画体の寸法データを検出する寸法
データ検出手段（１３４；１３８Ａ、１３８Ｂ；１４
０）と、この寸法データ検出手段によって検出された検
出寸法データを描画装置に送信する検出寸法データ送信
手段と、搭載手段上の被描画体を担持して描画装置に搬
送する搬送手段８４とを具備する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は感光性の被描画体を
光ビームで走査させつつ該光ビームを描画データに基づ
いて変調させることにより該被描画体に所定のパターン
を描画する描画装置に対する被描画体の搬入装置に関
し、またそのような描画装置に少なくともかかる搬入装
置を組み合わせた描画システムに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、上述したような描画装置は主にフ
ォトリソグラフの手法でプリント回路基板を製造する分
野で使用される。この場合、感光性の被描画体はフォト
レジスト層を持つ基板とされ、描画装置はその基板上の
フォトレジスト層に所定の回路パターンを描画するため
に用いられる。基板上のフォトレジスト層に回路パター
ンが描画された後、その基板は種々の処理を受けた後に
プリント回路基板とされる。

【０００３】上述したような描画装置は、元来、多品種
少量生産用として開発されたものであり、このため描画
装置には様々な寸法を持つ基板が被描画体として搬入さ
れ、個々の寸法の基板のそれぞれに対しては、所定のタ
イプの回路パターンが描画される。描画装置への基板の
搬入については描画装置に隣接して設置された搬入装置
によって自動的に行われ、描画装置によって描画すべき
回路パターンのタイプに応じて、基板の寸法による選定
が前もって行われ、それら基板が搬入装置に順次投入さ
れる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、基板の寸法
による選定自体は人員によって行われるが、しかしなが
ら例えば描画装置の操作者との情報の行き違いから、誤
った寸法の基板が搬入装置に投入され得る。勿論、その
ような場合には、基板は適正な回路パターンが描画され
ずに不良品とされる。一方、不適正な寸法の基板が描画
装置に搬入された儘で描画作動が行われると、それが描
画作動中にエラーとして認識されることがあり、この場
合には描画装置の運転が停止され、その運転再開には面
倒な作業が伴うことになる。

【０００５】また、従来の搬入装置の別の問題点として
は、その搬入装置が被描画体の最大縦寸法に適合するよ
うに構成され、このため最大縦寸法よりも小さな縦寸法
を持つ被描画体を該搬入装置でもって描画装置に搬入し
ようとするとき、搬入装置の一部が描画装置の描画テー
ブル上に被描画体を所定位置にクランプすべく該描画テ
ーブル上に設けられたクランプ部材と干渉して小さな縦
寸法を持つ被描画体の適正な搬入が阻害されるという点
も指摘されている。

【０００６】従って、本発明の第１の目的は、上述した
ようなタイプの描画装置に被描画体を搬入する搬入装置
であって、該描画装置に対する被描画体の搬入前にその
被描画体の寸法データを検出し、誤った寸法の被描画体
への描画パターンの描画を未然に防止すべくその検出寸
法データを描画装置に送信するように構成された搬入装
置を実現することである。

【０００７】本発明の第２の目的は、上述したようなタ
イプの描画装置と、そこに被描画体を搬入する搬入装置
とから成る描画システムであって、該描画装置に対する
被描画体の搬入前にその被描画体の寸法データを検出
し、その寸法データに基づいて該被描画体の寸法がそこ
へ描画すべき所定の描画パターンの寸法情報に対して適
正か否かを判断し、誤った寸法の被描画体への描画パタ
ーンの描画を未然に防止し得るように構成された描画シ
ステムを実現することである。

【０００８】本発明の第３の目的は、上述したようなタ
イプの描画装置と、そこに被描画体を搬入する搬入装置
と、該描画装置から被描画体を搬出する搬出装置とから
成る描画システムであって、該描画装置に対する被描画
体の搬入前にその被描画体の寸法データを検出し、その
寸法データに基づいて該被描画体の寸法がそこへ描画す
べき所定の描画パターンの寸法情報に対して適正か否か
を判断し、誤った寸法の被描画体への描画パターンの描
画を未然に防止し得ると共に誤った寸法の被描画体を回
収し得るように構成された描画システムを実現すること
である。

【０００９】本発明の第４の目的は、上述したようなタ
イプの描画装置に被描画体を搬入する搬入装置であっ
て、最大縦寸法から最小縦寸法を持つ被描画体のいずれ
についても該描画装置への適正な搬入を保証し得るよう
に構成された搬入装置を実現することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の第１の目的を達
成するために、本発明の第１の局面によれば、感光性の
被描画体を光ビームで走査させつつ該光ビームを描画デ
ータに基づいて変調させることにより該被描画体に所定
のパターンを描画する描画装置に対して被描画体を搬入
する搬入装置が提供され、この搬入装置は描画装置に搬
入すべき被描画体を搭載する搭載手段と、この搭載手段
上の被描画体の寸法データを検出する寸法データ検出手
段と、この寸法データ検出手段によって検出された検出
寸法データを描画装置に送信する検出寸法データ送信手
段と、該搭載手段上の被描画体を担持して描画装置に搬
送する搬送手段とを具備して成るものである。

【００１１】本発明の第１の局面による搬入装置にあっ
ては、寸法データ検出手段は被描画体の二次元寸法デー
タを検出するように構成されてもよく、この場合には、
寸法データ検出手段は被描画体の横幅寸法データを検出
する横幅寸法データ検出器と、被描画体の縦幅寸法デー
タを検出する縦幅寸法データ検出器とを包含する。ま
た、寸法データ検出手段は被描画体の三次元寸法データ
を検出するように構成されてもよく、この場合には寸法
データ検出手段は被描画体の横幅寸法データを検出する
横幅寸法データ検出器と、被描画体の縦幅寸法データを
検出する横幅寸法データ検出器と、該被描画体の厚さデ
ータを検出する厚さデータ検出器とを包含する。

【００１２】本発明の第２の目的を達成するために、本
発明の第２の局面によれば、 感光性の被描画体を光ビ
ームで走査させつつ該光ビームを描画データに基づいて
変調させることにより該被描画体に所定のパターンを描
画する描画装置と、この描画装置に被描画体を搬入する
搬入装置とを具備して成る描画システムが提供され、こ
の描画システムにおいては、搬入装置は描画装置に搬入
すべき被描画体を搭載する搭載手段と、この搭載手段上
の被描画体の寸法データを検出する寸法データ検出手段
と、この寸法データ検出手段によって検出された検出寸
法データを描画装置に送信する検出寸法データ送信手段
と、搭載手段上の被描画体を担持して描画装置に搬送す
る搬送手段とを包含し、描画装置は所定のパターンを描
画すべき被描画体の寸法情報データと検出寸法データと
を比較する比較手段と、この比較手段によって寸法情報
データと検出寸法データが一致すると判断された際に描
画作動の実行指令を行う描画作動実行指令手段と、比較
手段によって寸法情報データと検出寸法データが不一致
であると判断された際に描画作動の非実行指令を行う描
画作動非実行指令手段とを包含する。

【００１３】本発明の第３の目的を達成するために、本
発明の第３の局面によれば、感光性の被描画体を光ビー
ムで走査させつつ該光ビームを描画データに基づいて変
調させることにより該被描画体に所定のパターンを描画
する描画装置と、この描画装置に被描画体を搬入する搬
入装置と、描画装置に搬入された被描画体を該描画装置
から搬出する搬出装置とを具備して成る描画システムが
提供され、この描画システムにおいては、搬入装置は描
画装置に搬入すべき被描画体を搭載する搭載手段と、こ
の搭載手段上の被描画体の寸法データを検出する寸法デ
ータ検出手段と、この寸法データ検出手段によって検出
された検出寸法データを描画装置に送信する検出寸法デ
ータ送信手段と、搭載手段上の被描画体を担持して描画
装置に搬送する搬送手段とを包含し、描画装置は所定の
パターンを描画すべき被描画体の寸法情報データと検出
寸法データとを比較する比較手段と、この比較手段によ
って寸法情報データと検出寸法データが一致すると判断
された際に描画作動の実行指令を行う描画作動実行指令
手段と、比較手段によって寸法情報データと検出寸法デ
ータが不一致であると判断された際に描画作動の非実行
指令を行う描画作動非実行指令手段とを包含し、搬出装
置は描画装置から被描画体を担持して該描画装置の外部
に搬送する搬送手段と、描画装置の描画作動実行指令手
段による描画作動実行時に搬送手段によって搬送された
描画後の被描画体を受け入れる受入れ手段と、描画装置
の描画作動非実行指令手段による描画作動非実行時に搬
送手段によって搬送された被描画を回収する回収手段と
を包含する。

【００１４】本発明の第２及び第３の局面にあっては、
描画装置は更に寸法情報データを搬入装置に送信する寸
法情報データ送信手段を包含してもよく、この場合に
は、搬入装置が被描画体を描画装置まで搬送した後に寸
法情報データに基づいて該被描画体が描画装置に対して
所定位置に位置決めされる。

【００１５】本発明の第４の目的を達成するために、本
発明の第４の局面によれば、感光性の被描画体を光ビー
ムで走査させつつ該光ビームを描画データに基づいて変
調させることにより該被描画体に所定のパターンを描画
する描画装置に対して被描画体を搬入する搬入装置が提
供され、この搬入装置は描画装置に搬入すべき被描画体
を搭載する搭載手段と、この搭載手段上の被描画体の縦
寸法データを検出するための縦寸法データ検出手段と、
該搭載手段上の被描画体を担持して描画装置に搬送する
搬送手段とを具備する。搬送手段は搭載手段上に被描画
体の縦方向に沿って配置された複数の吸引パッドを備
え、これら吸引パッドによって搭載手段上の被描画体を
担持する際、その担持については、常に、吸引パッドの
うちの縦方向に沿う一方の最端側に位置する吸引パッド
が該被描画体の縦方向の一方の端縁側に接近して位置す
るように行われ、また吸引パッドのうちの縦方向に沿う
他方の最端側に位置する少なくとも１つの吸引パッドに
ついては退避自在とされる。本発明の第４の局面による
搬入装置は、更に、吸引パッドによって搭載手段上の被
描画体を担持する際に縦寸法データ検出手段によって検
出された縦寸法データに基づいて退避自在の吸引パッド
が必要とされるか否かを判別する判別手段と、この判別
手段によって退避自在の吸引パッドが必要とされないと
判断された際に該退避自在の吸引パッドを退避位置に退
避させる退避手段とを具備する。

【００１６】

【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して、本発
明による搬入装置及び描画システムの実施形態について
説明する。

【００１７】先ず、図１及び図２を参照すると、本発明
による描画システムの全体が概略的に図示され、図１に
は描画システムが立面図として示され、また図２には描
画システムが平面図として示される。描画システムに
は、３つのステーション、即ち描画ステーション１０
と、その右側に位置する搬入ステーション１１と、描画
ステーション１０に左側に位置する搬出ステーション１
２とが含まれる。これらステーション１０、１１及び１
２は参照符号Ｆで全体的に示すフレーム構造内に区画さ
れ、後で詳しく説明するように、搬入ステーション１１
から被描画体が描画ステーション１０に搬入され、そこ
で被描画体に所定のパターンが描画された後に搬出ステ
ーション１２に搬出される。なお、図１では、図示の簡
略化のために、描画ステーション１０から描画装置１３
が省かれている。

【００１８】描画ステーション１０には、図２に概略的
に示すような描画装置１３が設置され、この描画装置１
３の詳細な構成については図３に示される。本実施形態
においては、描画装置１３はレーザ描画装置として構成
され、プリント回路基板を製造するための基板上のフォ
トレジスト層に回路パターンを直接描画するために用い
られるものである。レーザ描画装置１３は描画ステーシ
ョン１０の床面上に据え付けられた基台１４を具備し、
この基台１４の上面には一対のレール１５が平行に設置
される。一対のレール１５上にはＸテーブル１６が搭載
され、このＸテーブル１６にはボール螺子１７が一対の
レール１５に沿って組み込まれる。ボール螺子１７は図
３では図示されない適当な駆動モータ例えばサーボモー
タあるいはステッピングモータ等で回転駆動させられ、
これによりＸテーブル１６は一対のレール１５に沿って
移動させられる。

【００１９】Ｘテーブル１６上にはθテーブル１８を介
して描画テーブル１９が設置され、その間には微調整駆
動器２０が互いに対向する側辺のそれぞれに２つずつ設
けられ、これにより描画テーブル１９の水平面内での回
転位置が微調整されるようになっている。なお、図３で
は、図示の複雑化を避けるために一方の側辺に設けられ
た２つの微調整駆動器２０だけが示されている。勿論、
Ｘテーブル１６が一対のレール１５に沿って移動させら
れると、描画テーブル１９及びθテーブル１８もＸテー
ブル１６と共に一対のレール１５に沿って移動させられ
る。

【００２０】描画テーブル１９上には被描画体即ちフォ
トレジスト層を持つ基板が搬入ステーション１１から後
述するような態様で搬入され、その基板は描画テーブル
１９上で適当なクランプ手段によって固定され、図３で
は、そのようなクランプ手段の一部を成す一対のクラン
プ部材２１及び２２が図示されている。なお、一対のク
ランプ部材のうちの一方のクランプ部材２２は基板の縦
寸法に応じて描画テーブル１９の縦方向（即ち、一対の
レール１５の長さ方向）に沿って移動させられる。

【００２１】基台１４の一方の側にはレーザ光源として
アルゴンレーザ発生器２４が設置され、このアルゴンレ
ーザ発生器２４から射出されたレーザビーム光ＬＢはビ
ームベンダ２６によって上方に偏向される。一方、描画
テーブル１９の上方側には、描画装置１３の機枠（図示
されない）によって支持された固定テーブル２８が配置
され、この固定テーブル２８上には種々の光学要素が設
置され、これら光学要素によってレーザビーム光ＬＢは
走査レーザビーム光として描画テーブル１９上に導かれ
る。

【００２２】固定テーブル２８にはビームベンダ３０が
設けられ、このビームベンダ３０はビームベンダ２６か
らのレーザビーム光ＬＢを受け取ってビームスプリッタ
３２に向かわせる。レーザビーム光ＬＢはビームスプリ
ッタ３２によって２つのレーザビーム光ＬＢ１及びＬＢ
２に分割され、一方のレーザビーム光ＬＢ１はビームベ
ンダ３４及び３６を介してビームセパレータ３８に向か
わされ、また他方のレーザビーム光ＬＢ２はビームベン
ダ４０、４２及び４４を介してビームセパレータ４６に
向かわされる。

【００２３】ビームセパレータ３８はレーザビーム光Ｌ
Ｂ１を例えば８本の平行レーザビーム光に分割し、同様
にビームセパレータ４６はレーザビーム光ＬＢ２を８本
の平行レーザビーム光に分割する。ビームセパレータ３
８からの平行レーザビーム光はビームベンダ４８及び５
０によって電子シャッタ５２に導かれ、またビームセパ
レータ４６からの平行レーザビーム光はビームベンダ５
４及び５６によって電子シャッタ５８に導かれる。

【００２４】電子シャッタ５２及び５８の各々は８つの
音響光学素子及びそれら音響光学素子の駆動回路を含
み、各音響光学素子には８本のレーザビーム光のうちの
該当レーザビーム光がそれぞれ割り当てられる。電子シ
ャッタ５２を経た８本のレーザビーム光は光合成器６０
に入射させられ、一方電子シャッタ５８を経た８本のレ
ーザビーム光もビームベンダ６２を介して光合成器６０
に入射させられる。光合成器６０は例えば偏向ビームス
プリッタとして構成され得るものであり、電子シャッタ
５２及び５８のそれぞれを経た８本のレーザビーム光は
光合成器即ち偏光ビームスプリッタ６０によって16本の
レーザビーム光に纏められる。16本のレーザビーム光は
ビームベンダ６４、６６及び６８を介してポリゴンミラ
ー７０に入射させられ、その各回転反射面によって主走
査方向に沿って偏向させられる。

【００２５】ポリゴンミラー７０の各回転反射面によっ
て主走査方向に沿って偏向させられる16本のレーザビー
ム光は先ずｆθレンズ７２を通過させられ、次いでター
ニングミラー７４によって描画テーブル１９側に向かわ
せられた後にコンデンサレンズ７６を経て描画テーブル
１９上に到達させられる。要するに、描画テーブル１９
上に設置された被描画体即ち基板はポリゴンミラー７０
の各回転反射面によって主走査方向に偏向させられる16
本のレーザビーム光でもって走査される。

【００２６】図３に示すように、描画テーブル１９の移
動平面上にはレーザ描画装置１３の機枠に対して不動と
なったＸＹ座標系が設定され、このＸＹ座標系のＸ軸は
副走査方向に延在し、またそのＹ軸は主走査方向に延在
する。描画作動時、16本の走査レーザビーム光はＹ軸の
正側の方向、即ち主走査方向に沿って偏向させられ、一
方描画テーブル１９はＸ軸の負側の方向、即ち副走査方
向に沿って移動させられる。なお、言うまでもなく、一
対のレール１５はＸ軸即ち副走査方向に沿って延在す
る。

【００２７】かくして、被描画体として、基板が先に述
べたように描画テーブル１９上に設置され、その基板上
のフォトレジスト層表面がポリゴンミラー７０の各回転
反射面によって偏向される16本の走査レーザビーム光で
もって一度に走査（主走査方向）される。走査レーザビ
ーム光による走査時、各電子シャッタ５２、５８の８つ
の音響光学素子が回路パターン描画データ（ラスタデー
タ）に基づいて所定の周波数のクロックパルスに従って
作動させられ、これにより16本の走査レーザビーム光が
描画パターンラスタデータに基づいて変調させられる。

【００２８】一方、16本の走査レーザビーム光が主走査
方向に沿って偏向されている間、描画テーブル１９はＸ
テーブル１６によって副走査方向に沿って順次移動させ
られ、16本の走査レーザビーム光による主走査方向に沿
う偏向が終了したとき、描画テーブル１９の移動距離は
かかる16本の走査レーザビーム光の副走査方向の幅に相
当した距離となる。かくして、16本の走査レーザビーム
光による主走査方向に沿う偏向を繰り返すことにより、
基板上のフォトレジスト層表面上には回路パターンが描
画データに基づいて回路パターンが順次記録される。

【００２９】なお、図１に示すように、コンデンサレン
ズ７６の両端側のそれぞれには小型撮像手段例えばＣＣ
Ｄカメラ７８が設けられ、これらＣＣＤカメラ７８はレ
ーザ描画装置１３の機枠に対して所定位置に固定支持さ
れ、２台のＣＣＤカメラ７８は被描画体がレーザ描画装
置１３の描画テーブル１９上に設置された際に該描画テ
ーブル１９に対する基板の相対位置を正確に検出するた
めに使用される。

【００３０】再び図１及び図２を参照すると、搬入ステ
ーション１１の床面側には無端ベルトコンベヤ８０が設
けられ、この無端ベルトコンベヤ８０は基板をその上に
搭載する搭載手段として機能する。無端コンベヤ８０の
搬送方向は上述のＸＹ座標系のＸ軸方向に一致する。ま
た、搬出ステーション１２は基板搬出部１２Ａ及び基板
回収部１２Ｂに区分され、基板回収部１２Ｂは基板搬出
部１２Ａと描画ステーション１０との間に位置する。基
板搬出部１２Ａの床面側には搬入ステーション１１の無
端ベルトコンベヤ８０と同様な無端ベルトコンベヤ８１
が設けられ、この無端ベルトコンベヤ８１も基板をその
上に搭載する搭載手段として機能する。基板回収部１２
Ｂにも無端ベルトコンベヤ８２が設けられるが、その搬
送方向は上述のＸＹ座標系のＹ軸方向に一致する。

【００３１】搬入ステーション１１の無端ベルトコンベ
ヤ８０上にはフォトレジスト層を塗布した基板が例えば
図示されない無端ベルトコンベヤによって導入されて搭
載される。搬入ステーション１１には、図１及び図２に
おいて、参照符号８４で全体的に示す搬送手段が設けら
れ、無端ベルトコンベヤ８０上の基板は該搬送手段８４
で担持されて描画ステーション１０に搬送され、次いで
描画装置１３の描画テーブル１９上に搬入される。

【００３２】図４、図６及び図５に図示すように、本実
施形態では、搬送手段８４は矩形状枠体８６と、この矩
形状枠体８６によって支持された９本の吸引パッド組立
体８８とから構成される。図５に最もよく図示するよう
に、矩形状枠体８６は一対の長尺部材８６Ａと、この一
対の長尺部材８６Ａ間にその長さ方向に沿って等間隔に
配置された３つの支持板部材８６₁ 、８６₂ 及び８６₃
とから成り、各支持板部材８６₁ 、８６₂ 、８６₃ によ
って、吸引パッド組立体８８が３本ずつ支持される。要
するに、９本の吸引パッド組立８８は３×３のマトリッ
クス状に配置される。

【００３３】支持板部材８６₁ 及び８６₂ は一対の長尺
部材８６Ａに対して固着されるが、しかし支持板部材８
６₃ は一対の長尺部材８６Ａに対して上下方向に移動自
在となっている。詳述すると、図４及び図６から明らか
なように、各長尺部材８６Ａの一端部上にはブロック片
８６Ｂに固定され、このブロック片８６Ｂの頂部からは
板片要素８６Ｃが片持ち梁の態様で突出させられる。各
板片要素８６Ｃには空圧作動シリンダ８６Ｄがその作動
ロッドを該板片要素８６Ｃを挿通させるような態様で装
着され、支持板部材８６₃ は各空圧作動シリンダ８６Ｄ
の作動ロッドの先端に固着支持される。

【００３４】空圧作動シリンダ８６Ｄが非駆動状態下で
は支持板部材８６₃ によって支持された３本の吸引パッ
ド組立体８８はその他の６本の吸引パッド組立体８８と
同じレベルに位置させられるが、しかし空圧作動シリン
ダ８６Ｄが作動させられると、その作動ロッドが引っ込
められ、このため支持板部材８６₃ はそこに支持された
３本の吸引パッド組立体８８と共に上方に移動させられ
て退避させられる。要するに、支持板部材８６₃ によっ
て支持された３本の吸引パッド組立体８８は図４に示す
作動位置とそこから上方に移動させられた退避位置との
間で移動自在となっている。なお、支持板部材８６₃ を
その３本の吸引パッド組立体８８と共に退避自在とする
理由については後で詳述される。

【００３５】各吸引パッド組立体８８はベローズ形状の
耐圧ホースと、この耐圧ホースの下側先端部に取り付け
られた吸着パッドとから成り、耐圧ホースの上側先端部
は該当支持板部材８６₁ 、８６₂ 、８６₃ に挿通させら
れて適宜固着される。耐圧ホースは適当な吸引ホース
（図示されない）を介して真空作動源（図示されない）
に接続される。無端ベルトコンベヤ８０上に搭載された
基板は吸引パッド組立体８８の吸着パッドにより吸着さ
れて担持され、描画ステーション１０に向かって搬送さ
れる。

【００３６】搬送手段８４の吸引パッド組立体８８によ
って担持された基板を描画ステーション１０に向かって
搬送させるためには、該搬送手段８４自体を描画ステー
ション１０に向かって移動させることが必要であり、こ
の移動機構について次に説明する。

【００３７】先ず、図１及び図２に最もよく図示するよ
うに、フレーム構造Ｆ内には上述したＸＹ座標系のＹ軸
方向に沿って延在する一対のＹ軸ガイドビーム９０及び
９２が架け渡される。図１から明らかなように、Ｙ軸ガ
イドビーム９０及び９２はフレーム構造Ｆの床面と天井
面とのほぼ中間に位置し、また図２から明らかなよう
に、フレーム構造Ｆの長手方向側面に沿って配置され
る。なお、図１では、Ｙ軸ガイドビーム９０及び９２の
双方を図示するために、該Ｙ軸ガイドビーム９０及び９
２のそれぞれの一部が切り欠かれて示される。

【００３８】一対のＹ軸ガイドビーム９０及び９２間に
は上述したＸＹ座標系のＸ軸方向に沿って延在するＸ軸
ガイドビーム９４が架け渡され、このＸ軸ガイドビーム
９４は一対のＹ軸ガイドビーム９０及び９２に沿って摺
動自在とされる。即ち、図６に最もよく示すように、Ｙ
軸ガイドビーム９０及び９２のそれぞれには鳩尾形横断
面形状を持つガイドレール９０Ａ及び９２Ａが形成さ
れ、Ｘ軸ガイドビーム９４の両端部にはガイドレール９
ＯＡ及び９２Ａを摺動自在に収容するようになった鳩尾
形横断面形状の溝部が形成される。要するに、Ｘ軸ガイ
ドビーム９４は一対のＹ軸ガイドビーム９０及び９２に
沿って移動自在とされる。

【００３９】Ｘ軸ガイドビーム９４を一対のＹ軸ガイド
ビーム９０及び９２に沿って駆動させるために、Ｙ軸ガ
イドビーム９２の一方の端部、即ち搬入ステーション１
１側の端部にはＹ軸モータ９６が取付板９８を介して取
り付けられ、このＹ軸モータ９６の出力シャフトには歯
付駆動プーリ９６Ａが固着される。一方、図１に図示す
るように、Ｙ軸ガイドビーム９２の中間の箇所、即ち描
画ステーション１０のほぼ中央位置に対応する箇所には
取付板１００を介して歯付アイドルプーリ１００Ａが取
り付けられ、歯付駆動プーリ９６Ａと歯付アイドルプー
リ１００Ａとの間には歯付ベルト１０２が架け渡され
る。図４及び図５に最もよく図示するように、Ｘ軸ガイ
ドビーム９４の一端部、即ちＹ軸ガイドビーム９２側の
端部からはアーム部材１０４が片持ち梁の態様で突出さ
せられ、このアーム部材１０４の先端部はクランプ部材
１０６によって歯付ベルト１０２の下側走行部に固着さ
れる。かくして、Ｙ軸モータ９６の回転駆動を適宜制御
することにより、Ｘ軸ガイドビーム９４を一対のＹ軸ガ
イドビーム９０及び９２に沿って駆動させることができ
る。

【００４０】図４及び図６に最もよく図示するように、
Ｘ軸ガイドビーム９４の一方の長手方向側面には鳩尾形
横断面形状を持つガイドレール９４Ａが形成され、この
ガイドレール９４Ａには矩形状キャリッジ１０８が摺動
自在に係合させられる。即ち、矩形状キャリッジ１０８
の一方の壁面、即ちＸ軸ガイドビーム９４に隣接した側
の壁面には一対の摺動ブロック片１０８Ａが固着され、
各摺動ブロック片１０８Ａにはガイドレール９４Ａを摺
動自在に収容するようになった鳩尾形横断面形状の溝部
が形成され（図４）、これにより矩形状キャリッジ１０
８はＸ軸ガイドビーム９４に沿って移動自在とされる。

【００４１】矩形状キャリッジ１０８をＸ軸ガイドビー
ム９４に沿って駆動させるために、Ｘ軸ガイドビーム９
４の一方の端部、即ちＹ軸ガイドビーム９２側の端部に
はＸ軸モータ１１０が取付板１１２を介して取り付けら
れ（図６）、このＸ軸モータ１１０の出力シャフトには
歯付駆動プーリ１１０Ａが固着される。一方、Ｘ軸ガイ
ドビーム９４の反対側の端部には取付板１１４を介して
歯付アイドルプーリ１１４Ａが取り付けられ（図６）、
歯付駆動プーリ１１０Ａと歯付アイドルプーリ１１４Ａ
との間には歯付ベルト１１６が架け渡される。図５に最
もよく図示するように、矩形状キャリッジ１０８の頂部
縁辺からはクランプ板片１１８が片持ち梁の態様で突出
させられ、このクランプ板片１１８の先端側には歯付ベ
ルト１１６の下側走行部が適宜固着される。かくして、
Ｘ軸モータ１１０の回転駆動を適宜制御することによ
り、矩形状キャリッジ１０８をＸ軸ガイドビーム９４に
沿って移動させることができる。なお、図５では、クラ
ンプ板片１１８に対する歯付ベルト１１６の下側走行部
への固着状態を図示するために、該歯付ベルト１１６の
上側走行部の一部が切り欠かれている。

【００４２】図５に最もよく図示するように、矩形状キ
ャリッジ１０８の他方の壁面、即ちＸ軸ガイドビーム９
４に対して反対側の壁面には、上述したＸＹ座標面に対
して直角なＺ軸方向即ち鉛直方向に延在するＺ軸ガイド
レール１０８Ｂが固着され、このＺ軸ガイドレール１０
８Ｂには鳩尾形横断面形状を持つガイド溝部が形成され
る。ガイドレール１０８Ｂのガイド溝部にはＺ軸支持ビ
ーム１２０が摺動自在に係合させられる。即ち、Ｚ軸支
持ビーム１２０には鳩尾形横断面形状の突条１２０Ａが
形成され、この突条１２０ＡがＺ軸ガイドレール１０８
Ｂのガイド溝部に摺動自在に収容される。従って、Ｚ軸
支持ビーム１２０はＺ軸ガイドレール１０８Ｂに沿って
移動自在とされる。

【００４３】図４及び図６に最もよく図示するように、
矩形状キャリッジ１０８にはＺ軸モータ１２２が固着支
持され、その出力シャフトには歯付駆動プーリ１２２Ａ
が固着される。図６から明らかなように、歯付駆動プー
リ１２２ＡはＺ軸支持ビーム１２０の一側面に接近させ
られ、しかもその間には矩形状キャリッジ１０８によっ
て支持された一対のアイドルプーリ１２４が介在させら
れる。歯付駆動プーリ１２２Ａには所定の長さの歯付ベ
ルト１２６がほぼ360 度の角度範囲にわたって掛けら
れ、その一端側に向かう歯付ベルト部分は一対のアイド
ルプーリ１２４間を挿通させられた後にＺ軸支持ビーム
１２０の側面に沿って上方に延在させられてその上端側
でクランプ部材１２８Ａによって固着され、その他端側
に向かう歯付ベルト部分も一対のアイドルプーリ１２４
間を挿通させられた後にＺ軸支持ビーム１２０の側面に
沿って下方に延在させられてその下端側でクランプ１２
８Ｂによって固着される。かくして、Ｚ軸モータ１２２
の回転駆動を適宜制御することにより、Ｚ軸支持ビーム
１２０は矩形状キャリッジ１０８に対して上下方向に駆
動され得る。

【００４４】上述した搬送手段８４はＺ軸支持ビーム１
２０によって支持され、この目的のために搬送手段８４
の矩形状枠体８６は取付板８６Ｅが固着され、その取付
板８６Ｅに対してＺ軸支持ビーム１２０の下端が適宜固
定される。従って、Ｚ軸モータ１２２がＺ軸支持ビーム
１２０を上昇させるように回転駆動させられると、搬送
手段８４はＺ軸支持ビーム１２０と共に図４ないし図６
に示した最下降位置から上昇させられる。また、Ｘ軸モ
ータ１１０が回転駆動させられると、矩形状キャリッジ
１０８がＸ軸方向に沿って移動させられるので、搬送手
段８４も矩形状キャリッジ１０８と共にＸ軸方向に沿っ
て移動させられる。更に、Ｙ軸モータ９６が回転駆動さ
せられると、Ｘ軸ガイドビーム９４が一対のＹ軸ガイド
ビーム９０及び９２に沿って移動させられるので、搬送
手段８４もＸ軸ガイドビーム９４と共にＹ軸方向に沿っ
て移動させられる。かくして、搬送手段８４によって担
持された基板は描画ステーション１０に向かって搬送さ
れ得ることとなり、しかも描画装置１３の描画テーブル
１９の任意上の所望の位置に搭載することが可能とな
る。

【００４５】以上述べたように、搬入ステーション１１
に導入された基板は搬送手段８４によって描画ステーシ
ョン１０に搬送されるが、しかし本発明によればその搬
送前に搬入ステーション１１では基板の寸法測定が行わ
れる。以下、その寸法測定について図７及び図８を参照
して説明する。なお、図８においては、図示の簡略化の
ために、Ｘ軸ガイドビーム９４及びそれに係わる種々の
構成要素が省かれている。

【００４６】図７を参照すると、搬送手段８４が所定位
置即ちＺ軸原点位置まで上昇させられた状態で示され、
この状態で搬入ステーション１１の無端ベルトコンベヤ
８０上にフォトレジスト層を塗布した基板（図７及び図
８では、参照符号Ｐで示す）が導入され、このとき無端
ベルトコンベヤ８０は基板Ｐの先導端縁がフレーム構造
Ｆの一部を成す位置決めビーム１３０に当接する位置即
ち寸法測定位置まで駆動させられる。なお、搬送手段８
４をＺ軸原点位置に位置決めすることについては、Ｚ軸
支持ビーム１２０に位置決めセンサ（図示されない）を
適宜組み込んで、その位置決めセンサでＺ軸モータ１２
２の駆動を制御することにより行うことが可能である。

【００４７】位置決めビーム１３０に対する基板Ｐの先
導端縁の当接を検出するために、例えば、図７に示すよ
うに、レーザセンサ１３２が位置決めビーム１３０の下
方に設けられる。レーザセンサ１３２からは破線矢印で
示すようにレーザビーム光が位置決めビーム１３０の位
置決め側面に沿って射出させられる。図７及び図８に示
すように、基板Ｐの先導端縁が位置決めビーム１３０に
当接すると、レーザビーム光は基板の先導端縁部で反射
させられ、その反射レーザビーム光を検出することによ
り、位置決めビーム１３０に対する基板Ｐの先導端縁の
当接を検出することが可能である。なお、レーザセンサ
１３２の代わりに、位置決めビーム１３０にコンタクト
スイッチ等を組み込んで、位置決めビーム１３０に対す
る基板Ｐの先導端縁の当接を検出してもよい。

【００４８】要するに、基板Ｐが搬入ステーション１１
の無端ベルトコンベヤ８０上に導入されると、無端ベル
トコンベヤ８０は基板Ｐを位置決めビーム１３０に向か
って前進させるように駆動させられ、その先導端縁が位
置決めビーム１３０に当接したことがレーザセンサ１３
２によって検出されると、無端コンベヤ８０の駆動が停
止され、このとき基板Ｐは図７及び図８に示すような位
置即ち寸法測定位置に止められる。

【００４９】基板Ｐが寸法測定位置に止められると、本
実施形態では、基板Ｐの横幅寸法が先ず測定される。こ
の横幅寸法の測定のために、搬送手段８４は横幅測定レ
ーザセンサ１３４を具備し、この横幅測定レーザセンサ
１３４は搬送手段８４の矩形状枠体８６から片持ち梁の
態様で突出したアーム部材１３６の先端に取り付けられ
る。図７に破線矢印で示すように、横幅測定レーザセン
サ１３４はそこからレーザビーム光を射出してその反射
レーザビーム光を受光するようになっている。基板Ｐの
横幅を測定するために、搬送手段８４はＹ軸モータ９６
を駆動して図７及び図８に示すような所定位置即ちＹ軸
原点位置に位置決めされる。なお、搬送手段８４をＹ軸
原点位置に位置決めすることについては、Ｙ軸ガイドビ
ーム９０及び９２のいずれか一方に位置決めセンサ（図
示されない）を適宜組み込んで、その位置決めセンサで
Ｙ軸モータ９６の駆動を制御することにより行うことが
可能である。

【００５０】次いで、Ｙ軸モータ９６を駆動して搬送手
段８４をＹ軸原点位置から位置決めビーム１３０に向か
って移動させつつ横幅測定レーザセンサ１３４によって
基板Ｐの縁を検出することにより、基板Ｐの横幅を測定
することができる。

【００５１】詳述すると、搬送手段８４がＹ軸原点位置
に位置決めされているとき、無端ベルトコンベヤ８０の
搬送面に対する横幅測定レーザセンサ１３４のレーザビ
ーム光射出位置の投影箇所から位置決めビーム１３０の
当接面までの距離Ｍは既知である。一方、横幅測定レー
ザセンサ１３４が基板Ｐの後続端縁を検出するまでの搬
送手段８４のＹ軸方向に沿う移動距離ｍについては、Ｙ
軸モータ９６への駆動パルス出力数をカウントすること
により求め得る。かくして、基板Ｐの横幅寸法ＰＭにつ
いては以下の演算により求められる。ＰＭ＝Ｍ−ｍ

【００５２】横幅測定レーザセンサ１３４による基板Ｐ
の後続端縁の検出について説明すると、その検出は無端
ベルトコンベヤ８０の搬送面の反射率と基板Ｐの表面の
反射率との相違に基づいて容易に行うことができる。例
えば、無端ベルトコンベヤ８０の搬送面を黒色面とし
て、そこからレーザビーム光が殆ど反射しないようにさ
れた場合には、搬送手段８４の移動中に反射レーザビー
ム光の反射強度の変化を適当な時間間隔（例えば20ms）
で逐次モニタすることにより、基板Ｐの後続端縁を検出
することができる。

【００５３】次に、基板Ｐの縦幅寸法の測定について説
明すると、基板Ｐの縦幅寸法の測定のために、搬送手段
８４は一対の縦幅測定レーザセンサ１３８Ａ及び１３８
Ｂを具備し、この一対の縦幅測定レーザセンサ１３８Ａ
及び１３８Ｂは搬送手段８４の矩形状枠体８６の長手方
向の一方の側辺（即ち、横幅測定レーザセンサ１３４側
とは反対側の側辺）の両端側に取り付けられ、このとき
一対の縦幅測定レーザセンサ１３８Ａ及び１３８Ｂ間の
距離は図８に示すように固定距離Ｎとなる。なお、縦幅
測定レーザセンサ１３８Ａ及び１３８Ｂの各々は横幅測
定レーザセンサ１３４と同様なものであって、そこから
レーザビーム光を射出してその反射レーザビーム光を受
光するようになっているものである。

【００５４】基板Ｐの縦幅を測定するために、搬送手段
８４はＸ軸モータ１１０を駆動して図８に示すような所
定位置即ちＸ軸原点位置に位置決めされる。なお、搬送
手段８４をＸ軸原点位置に位置決めすることについて
は、Ｘ軸ガイドビーム９４に位置決めセンサ（図示され
ない）を適宜組み込んで、その位置決めセンサでＸ軸モ
ータ１１０の駆動を制御することにより行うことが可能
である。

【００５５】次いで、縦幅測定レーザセンサ１３８Ａ及
び１３８Ｂの各々によって基板Ｐの縦方向で対向する両
端縁のうちの該当端縁を検出するために、Ｘ軸モータ１
１０がいずれかの回転方向に駆動される。

【００５６】詳述すると、例えば、縦幅測定レーザセン
サ１３８Ａによる基板Ｐの該当端縁について説明する
と、先ず、縦幅測定レーザセンサ１３８Ａが基板Ｐ上に
位置するか或いは無端ベルトコンベヤ８０の搬送面上に
位置するかが判断され、この判断は縦幅測定レーザセン
サ１３８Ａで受光される反射レーザビーム光の反射強度
を測定することにより容易に行い得る。即ち、もし縦幅
測定レーザセンサ１３８Ａが無端ベルトコンベヤ８０の
搬送面（黒色）上に位置している場合には、縦幅測定レ
ーザセンサ１３８Ａで受光される反射レーザビーム光の
反射強度はほぼ零に近いものとなるが、しかし縦幅測定
レーザセンサ１３８Ａが基板Ｐ上に位置していれば、反
射レーザビーム光について所定の反射強度が得られる。

【００５７】図８に示す例では、縦幅測定レーザセンサ
１３８Ａは基板Ｐ上に位置しているので、Ｘ軸モータ１
１０は搬送手段８４がＹ軸ガイドビーム９２側に向かっ
て移動させられるように回転駆動させられ、この移動は
基板Ｐの該当端縁が縦幅測定レーザセンサ１３８Ａによ
って検出されるまで続けられる。即ち、縦幅測定レーザ
センサ１３８Ａによって基板Ｐの該当端縁が検出される
と、Ｘ軸モータ１１０の回転駆動が停止され、そのとき
の搬送手段８４の移動距離は図８に示すようにｎ₁ とな
る（図８）。勿論、移動距離ｎ₁ についてはその移動距
離だけ搬送手段８４を移動させるためにＸ軸モータ１１
０に出力した駆動パルス数に基づいて求め得る。

【００５８】その後、搬送手段８４は図８に示すような
Ｘ軸原点位置に再び戻され、次いで縦幅測定レーザセン
サ１３８Ｂによる基板Ｐの該当端縁が縦幅測定レーザセ
ンサ１３８Ａの場合と同様な態様で行われる。即ち、縦
幅測定レーザセンサ１３８Ｂが基板Ｐ上に位置するか或
いは無端ベルトコンベヤ８０の搬送面上に位置するかが
判断される。図８に示す例では、縦幅測定レーザセンサ
１３８Ｂは基板Ｐ上に位置しているので、Ｘ軸モータ１
１０は搬送手段８４がＹ軸ガイドビーム９０側に向かっ
て移動させられるように回転駆動させられ、この移動は
基板Ｐの該当端縁が縦幅測定レーザセンサ１３８Ｂによ
って検出されるまで続けられる。即ち、縦幅測定レーザ
センサ１３８Ｂによって基板Ｐの該当端縁が検出される
と、Ｘ軸モータ１１０の回転駆動が停止され、そのとき
の搬送手段８４の移動距離は図８に示すようにｎ₂ とな
る（図８）。勿論、移動距離ｎ₂ についてもその移動距
離だけ搬送手段８４を移動させるためにＸ軸モータ１１
０に出力した駆動パルス数に基づいて求め得る。

【００５９】かくして、基板Ｐの縦幅寸法ＰＮについて
は以下の演算により求められる。 ＰＮ＝Ｎ＋（ｎ₁ ＋ｎ₂ ）

【００６０】ところで、図８に示すような例では、搬送
手段８４がＸ軸原点位置に位置決めされたときは、縦幅
測定レーザセンサ１３８Ａ及び１３８Ｂは共に基板Ｐ上
に位置しているので、縦幅測定レーザセンサ１３８Ａ及
び１３８Ｂのそれぞれはその該当端縁を検出するために
基板Ｐ上から無端ベルトコンベヤ８０の搬送面側に向か
って移動させられるとになり、このとき求められた移動
距離ｎ₁ 及びｎ₂ は共に正の値を持つものとされる。

【００６１】しかしながら、基板Ｐの種類によっては、
例えば、図９に示すように、搬送手段８４がＸ軸原点位
置に位置決めされたとき、一方の縦幅測定レーザセンサ
１３８Ａが基板Ｐではなく無端ベルトコンベヤ８０の搬
送面上に位置していることがあり、この場合には縦幅測
定レーザセンサ１３８Ａによって基板Ｐの該当端縁を検
出するために該縦幅測定レーザセンサ１３８Ａは無端ベ
ルトコンベヤ８０の搬送面上から基板Ｐの表面側に向か
って移動させられることになり、このとき求められる移
動距離ｎ₁ については負の値を持つものとされる。一
方、図９に示す例では、他方の縦幅測定レーザセンサ１
３８Ｂは図８に示す例と同様に基板Ｐ上に位置するの
で、移動距離ｎ₂ は正の値を持つものとされる。かくし
て、図９の例では、基板Ｐの縦幅寸法ＰＮは以下の演算
によって求められる。 ＰＮ＝Ｎ＋（−ｎ₁ ＋ｎ₂ ）

【００６２】更に、基板Ｐの種類によっては、図１０に
示すように、搬送手段８４がＸ軸原点位置に位置決めさ
れたとき、双方の縦幅測定レーザセンサ１３８Ａ及び１
３８Ｂが基板Ｐではなく無端ベルトコンベヤ８０の搬送
面上に位置していることもあり、この場合には縦幅測定
レーザセンサ１３８Ａ及び１３８Ｂのそれぞれによって
基板Ｐの該当端縁を検出するために各縦幅測定レーザセ
ンサ１３８Ａ、１３８Ｂは無端ベルトコンベヤ８０の搬
送面上から基板Ｐの表面側に向かって移動させられるこ
とになり、このとき求められる移動距離ｎ₁ 及びｎ₂ に
ついては共に負の値を持つものとされる。かくして、図
１０の例では、基板Ｐの縦幅寸法ＰＮは以下の演算によ
って求められる。 ＰＮ＝Ｎ＋（−ｎ₁ −ｎ₂ ）

【００６３】本実施形態にあっては、搬入ステーション
１１で基板Ｐの厚さも測定され、この厚さ測定のため
に、リニアゲージ１４０が用いられる。リニアゲージ１
４０は厚さ測定器として周知のものであって、空圧作動
方式を採用するものである。図５及び図６に示すよう
に、リニアゲージ１４０は搬入ステーション１１でＹ軸
ガイドビーム９０の下側に配置され、かつフレーム構造
Ｆの一部を成す支持ビーム１４２（図６）によって支持
される。

【００６４】図１１及び図１２を参照すると、リニアゲ
ージ１４０が詳細に示される。図示するように、リニア
ゲージ１４０は支持ビーム１４２に固着された取付板１
４４と、この取付板１４４に支持されかつ適当な加圧空
気源（図示されない）に接続された空圧作動シリンダ１
４６と、この空圧作動シリンダ１４６によって上下方向
に駆動される探触子１４８と、この探触子１４８の下側
に配置されかつ取付板１４４に支持されたパッド１５０
とを具備する。リニアゲージ１４０は更に取付板１４４
に支持されかつ探触子１４８と並置されたワーク保持機
構１５２を具備し、このワーク保持機構１５２は探触子
１４８と同様に空圧によって上下方向に作動させられる
摺動体１５２Ａと、この摺動体１５２Ａの下側に位置し
た受け部１５２Ｂとから成る。図６から明らかなよう
に、パッド１５０の上側支承面は無端ベルトコンベヤ８
０の搬送面と実質的に同一高さレベルとされ、また図１
２に示すようにワーク保持機構１５２の受け部１５２Ｂ
の支承面はパッド１５０の上側支承面とほぼ同一高さレ
ベルとされる。

【００６５】基板Ｐの厚さが測定されるとき、基板Ｐは
搬送手段９４の吸引パッド組立体８８によって一旦吸着
され、次いで搬送手段９４は無端ベルトコンベヤ８０の
搬送面から僅かに上昇させられた後にＹ軸ガイドビーム
９０側に向かって移動させられ、このときリニアゲージ
１４０の探触子１４８及びワーク保持機構１５２の摺動
体１５２Ａは共に上昇させられる。基板Ｐの縁部が探触
子１４８とパッド１５０との間に、また摺動体１５２Ａ
と受け部１５２Ｂとの間に入り込んだとき、Ｙ軸ガイド
ビーム９０側に向かう搬送手段９４の移動は停止され
る。続いて、搬送手段９４は上述の僅かな上昇分だけ下
降され、このとき基板Ｐの縁部はパッド１５０及び受け
部１５２Ｂ上に置かれることになる。そこで、ワーク保
持機構１５２の摺動体１５２Ａが下降して基板Ｐの縁部
が押さえられ、次いでリニアゲージ１４０の探触子１４
８が下降して基板Ｐの縁部上に当接し、これにより該探
触子１４８とパッド１５０との間の距離が基板Ｐの厚さ
として測定される。なお、パッド１５０に対する探触子
１４８の位置情報、即ち基板Ｐの厚さ情報は電気信号と
してリニアゲージ１４０から出力される。

【００６６】先に述べたように、搬出ステーション１２
の基板搬出部１２Ａの床面側には搬入ステーション１１
の無端ベルトコンベヤ８０と同様な無端ベルトコンベヤ
８１が設けられ、また搬出ステーション１２には、図１
及び図２において、参照符号８４′で全体的に示す搬送
手段が設けられる。搬送手段８４′は搬入ステーション
１１に設けられた搬送手段８４と同一の構成を持ち、し
かも双方の搬送手段８４及び８４′は互いに向かい合っ
て配置される。なお、双方の搬送手段８４及び８４′の
相違点としては、搬入ステーション１１の搬送手段８４
には横幅測定レーザセンサ１３４と縦幅測定レーザセン
サ１３８Ａ及び１３８Ｂとが設けられるが、搬送手段８
４′にはそれらの幅測定レーザセンサが設けられない点
が挙げられる。

【００６７】搬送手段８４′は、通常、描画装置１３で
の描画作動の終了後に描画テーブル１９から基板を基板
搬出部１２Ａの無端ベルトコンベヤ８１まで搬送するた
めに用いられるものであるが、描画装置１３で描画すべ
き基板とは異なった寸法の基板が誤って描画テーブル１
９上に搬入された場合には、その誤った寸法の基板を基
板回収部１２Ｂの無端ベルトコンベヤ８２まで搬送する
ために使用される。

【００６８】なお、搬送手段８４′をＹ軸方向、Ｘ軸方
向及びＺ軸方向に移送するための移送機構自体も搬送手
段８４の移送機構と実質的に同じであり、図１及び図２
においては、搬送手段８４の移送機構と同じ構成要素に
ついては同じ参照符号にダッシュを付して示してある。

【００６９】図１３を参照すると、描画装置１３の制御
ブロック図が示され、同ブロック図において、参照符号
１５４は描画装置コントローラを示し、この描画装置コ
ントローラ１５４は例えば中央演算装置（ＣＰＵ）等の
マイクロプロセッサ及びメモリ（ＲＯＭ、ＲＡＭ）等か
らなるマイクロコンピュータとして構成される。

【００７０】描画装置コントローラ１５４はＬＡＮ（ロ
ーカル・エリア・ネットワーク）インターフェース回路
１５６を介してＥＷＳ（エンジニアリング・ワークステ
ーション）１５８に接続され、このＥＷＳ１５８では、
基板上のフォトレジスト層上に書き込むべき回路パター
ンがベクタデータとして作成編集され、ＥＷＳ１５８内
のハードディスク等のメモリ手段には種々の回路パター
ン・ベクタ・データが格納される。また、ＥＷＳ１５８
からは描画装置１３の描画作動を制御すべく種々の指令
信号及び基板寸法情報等がＬＡＮインターフェース回路
１５６を介して描画装置コントローラ１５４に送信さ
れ、一方描画装置コントローラ１５４からもＬＡＮイン
ターフェース回路１５６を介してＥＷＳ１５８に種々の
制御指令信号等が送信される。

【００７１】図１３に示すように、描画装置１３には描
画データ処理回路１６０が設けられ、ＥＷＳ１５８から
送信された所定の回路パターン・ベクタ・データはＬＡ
Ｎインターフェース回路１５８を介して描画データ処理
回路１６０に取り込まれる。また、ＥＷＳ１５８から所
定の回路パターン・ベクタ・データが送信されるとき、
その回路パターン・ベクタ・データに基づく回路パター
ンが書き込まれるべき基板の寸法情報も同時に送信さ
れ、その寸法情報データは描画装置コントローラ１５４
のＲＡＭに一時的に格納される。

【００７２】描画データ処理回路１６０に取り込まれた
回路パターン・ベクタ・データはラスタデータに変換さ
れ、そのラスタデータは描画データ処理回路１６０内の
メモリに一旦格納される。描画作動時、描画データ処理
回路１６０のメモリからラスタデータが16ビットずつ読
み出され、主走査方向制御回路１６２に送出され、そこ
で各１ビットのラスタデータに基づいて電子シャッタ５
２及び５４（図３）に含まれる該当音響光学素子が作動
させられ、これにより該当レーザビーム光が変調され
る。即ち、１ビットのラスタデータが発色画素（即ち、
デジタル画素データとして“１”）であるとき、レーザ
ビーム光は光合成器６０に向かうように回折させられ、
また１ビットのラスタデータが無発色画素（即ち、デジ
タル画素データとして“０”）であるとき、レーザビー
ムは光合成器６０から外れるように回折させられる。

【００７３】描画装置１３には副走査制御回路１６４も
設けられ、この副走査制御回路１６４は駆動モータ１６
６の駆動を制御するものである。駆動モータ１６６はボ
ール螺子１７（図３）に接続され、描画作動時、駆動モ
ータ１６６は所定のクロックパルスに従って駆動され、
これによりＸテーブル１６（描画テーブル１９）がＸ軸
方向即ち副走査方向に移動させられる。

【００７４】なお、図１３から明らかなように、描画デ
ータ処理回路１６０、主走査制御回路１６２及び副走査
制御回路１６４の動作は描画装置コントローラ１５４の
制御下で行われる。

【００７５】図１４を参照すると、搬入ステーション１
１の制御ブロック図が示され、同ブロック図において、
参照符号１６８は搬入ステーションコントローラを示
し、この搬入ステーションコントローラ１６８も中央演
算装置（ＣＰＵ）等のマイクロプロセッサ及びメモリ
（ＲＯＭ、ＲＡＭ）等からなるマイクロコンピュータと
して構成される。搬入ステーションコントローラ１６８
は描画装置１３の描画装置コントローラ１５４と接続さ
れ、その間で種々の情報データが送受信される。

【００７６】搬入ステーション１１にはＹ軸モータ駆動
回路１７０が設けられ、このＹ軸モータ駆動回路１７０
は搬入ステーションコントローラ１６８の制御下でＹ軸
モータ９６に対して駆動パルスを出力し、これによりＹ
軸モータ９６の駆動が制御される。また、搬入ステーシ
ョン１１にはＸ軸モータ駆動回路１７２及びＺ軸モータ
駆動回路１７４が設けられ、これらＸ軸モータ駆動回路
１７２及びＺ軸モータ駆動回路１７４のそれぞれは搬入
ステーションコントローラ１６８の制御下でＸ軸モータ
１１０及びＺ軸モータ１２２に対して駆動パルスを出力
し、これによりＹ軸モータ１１０及びＺ軸モータ１２２
の駆動が制御される。

【００７７】図１４に示すように、搬入ステーション１
１にはレーザセンサ駆動回路１７６が設けられ、このレ
ーザセンサ駆動回路１７６は搬入ステーションコントロ
ーラ１６８の制御下でレーザセンサ１３２（図７）の作
動を制御し、しかもレーザセンサ１３２からの信号を受
信して搬入ステーションコントローラ１６８に送信する
ものである。また、搬入ステーション１１にはレーザセ
ンサ駆動回路１７８が設けられ、このレーザセンサ駆動
回路１７８は搬入ステーションコントローラ１６８の制
御下で横幅測定レーザセンサ１３４（図７）の作動を制
御し、しかも横幅レーザセンサ１３４からの信号を受信
して搬入ステーションコントローラ１６８に送信するも
のである。更に、搬入ステーション１１にはレーザセン
サ駆動回路１８０が設けられ、このレーザセンサ駆動回
路１８０は搬入ステーションコントローラ１６８の制御
下で一対の縦幅測定レーザセンサ１３８Ａ及び１３８Ｂ
（図８）の作動を制御し、しかも一対の縦幅測定レーザ
センサ１３８Ａ及び１３８Ｂからの信号を受信して搬入
ステーションコントローラ１６８に送信するものであ
る。

【００７８】図１４に示すように、搬入ステーション１
１には更にリニアゲージ駆動回路１８２が設けられ、こ
のリニアゲージ駆動回路１８２は搬入ステーションコン
トローラ１６８の制御下でリニアゲージ１４０（図１１
及び図１２）の作動を制御し、しかもリニアゲージ１４
０からの信号を受信して搬入ステーションコントローラ
１６８に送信するものである。また、搬入ステーション
１１には吸引パッド駆動制御回路１８４及び退避シリン
ダ駆動制御回路１８６が設けられ、吸引パッド駆動制御
回路は吸引パッド組立体８８の吸引作動を制御するもの
であり、また退避シリンダ駆動制御回路１８６は空圧作
動シリンダ８６Ｄ（図４）の作動を制御するものであ
る。

【００７９】図１５を参照すると、搬出ステーション１
２の制御ブロック図が示され、同ブロック図において、
参照符号１６８′は搬出ステーションコントローラを示
し、この搬出ステーションコントローラ１６８′も中央
演算装置（ＣＰＵ）等のマイクロプロセッサ及びメモリ
（ＲＯＭ、ＲＡＭ）等からなるマイクロコンピュータと
して構成される。搬出ステーションコントローラ１６
８′は描画装置１３の描画装置コントローラ１５４と接
続され、その間で種々の情報データが送受信される。

【００８０】搬出ステーション１２にはＹ軸モータ駆動
回路１７０′が設けられ、このＹ軸モータ駆動回路１７
０′は搬出ステーションコントローラ１６８′の制御下
でＹ軸モータ９６′（図１、図２）に対して駆動パルス
を出力し、これによりＹ軸モータ９６′の駆動が制御さ
れる。また、搬出ステーション１２にはＸ軸モータ駆動
回路１７２′及びＺ軸モータ駆動回路１７４′が設けら
れ、これらＸ軸モータ駆動回路１７２′及びＺ軸モータ
駆動回路１７４′のそれぞれは搬出ステーションコント
ローラ１６８′の制御下でＸ軸モータ１１０′及びＺ軸
モータ１２２′に対して駆動パルスを出力し、これによ
りＹ軸モータ１１０′及びＺ軸モータ１２２′の駆動が
制御される。

【００８１】また、搬出ステーション１２には吸引パッ
ド駆動制御回路１８４′及び退避シリンダ駆動制御回路
１８６′が設けられ、吸引パッド駆動制御回路は吸引パ
ッド組立体８８′（図１、図２）の吸引作動を制御する
ものであり、また退避シリンダ駆動制御回路１８６は空
圧作動シリンダ８６Ｄ′（図１、図４）の作動を制御す
るものである。

【００８２】図１６及び図１７に示すフローチャートを
参照して、描画装置コントローラ１５４で実行される描
画作動ルーチンについて説明する。

【００８３】ステップ１６０１では、所定の回路パター
ン・ベクタ・データが描画装置１３側でＥＷＳ１５８か
ら受信されたか否かが判断される。所定の回路パターン
・ベクタ・データの受信が確認されると、ステップ１６
０２に進み、そこで所定の回路パターン・ベクタ・デー
タが描画データ処理回路１６０に取り込まれる。

【００８４】ステップ１６０３では、上述した所定の回
路パターン・ベクタ・データに基づいて回路パターンを
描画すべき基板の寸法情報データがＥＷＳ１５８から受
信されたか否かが判断される。寸法情報データの受信が
確認されると、ステップ１６０４に進み、そこで寸法情
報データは描画装置コントローラ１５４のＲＡＭに一旦
格納される。

【００８５】ステップ１６０５では、描画装置コントロ
ーラ１５４から搬入ステーションコントローラ１６８に
対して基板搬入指令信号を送信する。次いで、ステップ
１６０６では、搬入ステーションコントローラ１６８か
ら基板測定寸法データが受信されたか否かが判断され
る。基板測定寸法データの受信が確認されると、ステッ
プ１６０７に進み、そこで基板測定寸法データのうちの
縦横幅測定データが搬出ステーションコントローラ１６
８′に送信される。

【００８６】ステップ１６０８では、ＥＷＳ１５８から
受信した寸法情報データと搬入ステーションコントロー
ラ１６８から受信した測定寸法データが互いに一致する
か否かが判断される。もし双方のデータが一致していれ
ば、ステップ１６０９に進み、そこで搬入ステーション
コントローラ１６８から基板搬入完了信号が受信された
か否かが判断される。基板搬入完了信号の受信が確認さ
れると、ステップ１６１０に進み、そこで先に述べたよ
うな態様で基板上のフォトレジスト層に対して回路パタ
ーンの描画作動が実行される。

【００８７】ステップ１６１１では、描画作動が完了し
たか否かが判断され、描画作動の完了が確認されると、
ステップ１６１２に進み、そこで搬出ステーションコン
トローラ１６８′に基板搬出指令信号が送信される。次
いで、ステップ１６１３では、ＥＷＳ１５８から描画終
了信号を受信しているか否かが判断される。もし描画終
了信号の受信が確認されていない場合には、ステップ１
６０５に戻る。一方、もし描画終了信号の受信が確認さ
れると、ステップ１６１４に進み、そこで描画終了信号
が搬入ステーションコントローラ１６８及び搬出ステー
ションコントローラ１６８′の双方に送信された後、本
描画作動ルーチンの実行は完了する。

【００８８】ステップ１６０８でＥＷＳ１５８から受信
した寸法情報データと搬入ステーションコントローラ１
６８から受信した測定寸法データが互いに一致しないと
判断されたとき、即ち誤った寸法の基板が描画装置１３
に搬入されたとき、その場合にはステップ１６０８から
ステップ１６１５に進み、そこで搬出ステーションコン
トローラ１６８′には基板回収指令信号が送信され、次
いでステップ１６０５に戻る。

【００８９】図１８及び図１９に示すフローチャートを
参照して、搬入ステーションコントローラ１６８で実行
される基板搬入ルーチンについて説明する。

【００９０】ステップ１８０１では、基板搬入指令信号
を描画装置コントローラ１５４から受信したか否かが判
断される（図１６のステップ１６０５参照）。基板搬入
指令信号の受信が確認されると、ステップ１８０２に進
み、そこで搬入ステーション１１の無端ベルトコンベヤ
８０に基板を導入すべく該無端ベルトコンベヤ８０に隣
接して設けられた無端ベルトコンベヤ（図示されない）
のコントローラに対して送信され、これにより基板が搬
入ステーション１１の無端ベルトコンベヤ８０上に導入
され、その基板は無端ベルトコンベヤ８０の駆動により
位置決めビーム１３０に向かって移動させられる。

【００９１】ステップ１８０３では、レーザセンサ駆動
回路１７６によってレーザセンサ１３２（図７）を作動
させ、これにより基板の先導端縁が位置決めビーム１３
０に当接したか否かが検出される。即ち、上述したよう
に、基板が寸法測定位置に位置決めされたかが判断され
る。寸法測定位置に対する基板の位置決めが確認される
と、ステップ１８０４に進み、そこでレーザセンサ駆動
回路１７８によって横幅測定レーザセンサ１３４が作動
させられ、これにより基板の横幅寸法の測定が上述した
ような態様で行われる。

【００９２】ステップ１８０５では、基板の横幅寸法の
測定が完了したか否かが判断され、横幅寸法測定の完了
が確認されると、ステップ１８０６に進み、そこでレー
ザセンサ駆動回路１８０によって一対の縦幅測定レーザ
センサ１３８Ａ及び１３８Ｂが作動させられ、これによ
り基板の縦横幅寸法の測定が上述したような態様で行わ
れる。

【００９３】ステップ１８０７では、基板の横幅寸法の
測定が完了したか否かが判断され、横幅寸法測定の完了
が確認されると、ステップ１８０８に進み、そこで基板
の縦幅寸法が所定値よりも大きいか否かが判断される。
もし基板の縦幅寸法が所定値よりも大きいとき、即ち基
板が３つの支持板部材８６₁ 、８６₂ 及び８６₃ で支持
された９本の吸引パッド組立体８８の全てによって吸着
されなければならなような大きな縦幅寸法を持つときに
は、ステップ１８０８からステップ１８１０に進む。

【００９４】一方、ステップ１８０８でもし基板の縦幅
寸法が所定値よりも小さいと判断されたとき、即ち基板
が２つの支持板部材８６₁ 及び８６₂ で支持された６本
の吸引パッド組立体８８よって十分に吸着し得るような
小さな縦幅寸法を持つと判断されたとき、ステップ１８
０９に進み、そこで片側の残りの３本の吸引パッド組立
体８８、即ち支持部材８６₃ で支持された３本の吸引パ
ッド組立体８８が退避され、次いでステップ１８１０に
進む。要するに、ステップ１８０９では、退避シリンダ
駆動制御回路１８６によって空圧作動シリンダ８６Ｄ
（図７）が作動され、これにより支持部材８６₃ の３本
の吸引パッド組立体８８が上述したような態様で退避さ
れる。

【００９５】なお、支持部材８６₃ によって支持された
３本の吸引パッド組立体８８が退避される理由について
述べると、縦幅寸法の小さいな基板に描画を行う場合に
は、描画装置１３の描画テーブル１９（図３）上のクラ
ンプ部材２２はもう一方のクランプ部材２１に接近した
位置にあり、このとき該基板をクランプ部材２１及び２
２間に搬入しようとするとき、支持部材８６₃ によって
支持された３本の吸引パッド組立体８８がクランプ部材
２２と干渉して基板の搬入を適正に行い得ない場合があ
るからである。即ち、縦幅寸法の小さいな基板の場合に
は、そのような干渉を確実に防止するために、支持部材
８６₃ によって支持された３本の吸引パッド組立体８８
は退避されるわけである。

【００９６】ステップ１８１０では、基板が吸引パッド
組立体８８で吸着され、しかも搬送手段８４によってリ
ニアゲージ１４０側向かって移動させられる。一方、リ
ニアゲージ１４０がリニアゲージ駆動回路１８２によっ
て作動させられ、基板の厚さ測定が上述したような態様
で行われる。なお、リニアゲージ１４０での厚さ測定
中、基板は吸引パッド組立体８８から開放されている。
次いで、ステップ１８１１では、基板の厚さ測定が完了
したか否かが判断される。

【００９７】ステップ１８１１で基板の厚さ測定の完了
が確認されると、ステップ１８１２に進み、そこで測定
寸法データが描画装置コントローラ１５４に送信される
（図１６のステップ１６０６参照）。次いで、ステップ
１８１３では、描画装置１３の描画テーブル１９への基
板の搬入作動が実行され、続いてステップ１８１４で
は、その基板の搬入作動が完了したか否かが判断され
る。

【００９８】なお、基板の搬入作動について説明する
と、基板の厚さ測定が完了すると、基板は再び吸引パッ
ド組立体８８によって吸着され、次いでＺ軸モータ駆動
回路１７４を駆動して搬送手段８４を僅かに上昇させら
れた後（勿論、このときリニアゲージ１４０の探触子１
４８及び摺動体１５２Ａ（図１１、図１２）は引き上げ
られている）、Ｘ軸モータ１１０の駆動をＸ軸モータ駆
動回路１７２によって適宜制御することにより、搬送手
段８４はＸ軸方向の適当な位置まで移動させられる。続
いて、Ｚ軸モータ１２２の駆動をＺ軸モータ駆動回路１
７４によって適宜制御することにより、搬送手段８４は
所定の高さまで上昇させられ、その後Ｙ軸モータ９６の
駆動をＹ軸モータ駆動回路１７０でもって適宜制御する
ことにより、搬送手段８４は搬入ステーション１１から
描画ステーション１０の描画装置１３に向かって搬送さ
せられる。搬送手段８４が描画装置１３の描画テーブル
１９上の所定位置まで搬送させられると、Ｙ軸モータ９
６の駆動は一旦停止させられる。次いで、Ｘ軸モータ１
１０及びＺ軸モータ１２２のそれぞれの駆動をＸ軸モー
タ駆動回路１７２及びＺ軸モータ駆動回路１７４でもっ
て順次制御することにより、基板は描画テーブル１９上
の所定位置に搬入される。なお、基板搬入が完了する
と、搬送手段８４は速やかに描画ステーション１０から
搬入ステーション１１に戻される。

【００９９】ステップ１８１４で描画テーブル１９への
基板の搬入が確認されると、ステップ１８１５に進み、
そこで基板搬入完了信号が描画装置コントローラ１５４
に送信される（図１７のステップ１６０９参照）。次い
で、ステップ１８１６に進み、そこで支持部材８６₃ に
よって支持された３本の吸引パッド組立体８８が退避位
置から通常の作動位置まで戻される。続いて、ステップ
１８１７では、描画装置コントローラ１５４から描画終
了信号が受信されているか否かが判断される（図１７の
ステップ１６１４参照）。もし描画終了信号の受信が確
認されていない場合には、ステップ１８０３に戻り、も
し描画終了信号の受信が確認されると、本基板搬入ルー
チンは終了する。

【０１００】図２０に示すフローチャートを参照して、
搬出ステーションコントローラ１６８′で実行される基
板搬出／回収ルーチンについて説明する。

【０１０１】ステップ２００１では、基板の縦幅寸法測
定データが描画装置コントローラ１５４から受信された
か否かが判断される（図１６のステップ１６０７参
照）。縦幅寸法測定データの受信が確認されると、ステ
ップ２００２に進み、そこで基板の縦幅寸法が所定値よ
りも大きいか否かが判断される。もし基板の縦幅寸法が
所定値よりも大きいとき、即ち基板が３つの支持板部材
８６₁ ′、８６₂ ′及び８６₃ ′（図２）で支持された
９本の吸引パッド組立体８８′（図１）の全てによって
吸着されなければならなような大きな縦幅寸法を持つと
きには、ステップ２００２からステップ２００４に進
む。

【０１０２】一方、ステップ２００２でもし基板の縦幅
寸法が所定値よりも小さいと判断されたとき、即ち基板
が２つの支持板部材８６₁ ′及び８６₂ ′で支持された
６本の吸引パッド組立体８８′よって十分に吸着し得る
ような小さな縦幅寸法を持つと判断されたとき、ステッ
プ２００３に進み、そこで片側の残りの３本の吸引パッ
ド組立体８８′、即ち支持部材８６₃ ′で支持された３
本の吸引パッド組立体８８′が退避され、次いでステッ
プ２００４に進む。要するに、ステップ２００３では、
退避シリンダ駆動制御回路１８６′によって空圧作動シ
リンダ８６Ｄ′（図１、図２）が作動され、これにより
支持部材８６₃ ′の３本の吸引パッド組立体８８′が退
避される。なお、支持部材８６₃ ′によって支持された
３本の吸引パッド組立体８８′が退避される理由につい
ては、搬入ステーション１１での搬送手段８４の支持部
材８６₃ によって支持された３本の吸引パッド組立体８
８が退避される理由と実質的に同じである。

【０１０３】ステップ２００４では、描画装置コントロ
ーラ１５４から基板搬出指令信号が受信されたか否かが
判断される（図１７のステップ１６０９参照）。基板搬
出指令信号の受信が確認されていないときには、ステッ
プ２００５に進み、そこで描画装置コントローラ１５４
から基板回収指令信号が受信されたか否かが判断される
（図１６のステップ１６１５参照）。基板回収指令信号
の受信が確認されていないときには、ステップ２００４
に戻り、基板搬出指令信号及び基板回収指令信号のいず
れかが受信されるまで、ステップ２００４及びステップ
２００５が繰り返される。

【０１０４】ステップ２００４で基板搬出指令信号が描
画装置コントローラ１５４から受信されたとき、ステッ
プ２００４からステップ２００６に進み、そこで描画装
置１３の描画テーブル１９からの基板の搬出が実行され
る。即ち、搬送手段８４′が搬出ステーション１２の基
板搬出部１２Ａから描画ステーション１０に向かって移
動させられ、描画装置１３の描画テーブル１９上の基板
（描画済み）を吸引パッド組立体８８′でもって吸着し
た後に基板搬出部１２Ａに戻って無端ベルトコンベヤ８
１上に搭載する。その後、無端ベルトコンベヤ８１が駆
動されて基板は次の処理ステーション例えば現像ステー
ション（図示されない）に向かって移動させられる。な
お、搬送手段８４′の移動については、Ｚ軸モータ１２
２′、Ｘ軸モータ１１０′及びＹ軸モータ９６′のそれ
ぞれの駆動をＺ軸モータ駆動回路１７４′、Ｘ軸モータ
駆動回路１７２′及びＹ軸モータ駆動回路１７０′でも
って適宜制御して行い得ることは、搬入ステーション１
１の搬送手段８４の場合と同様である。

【０１０５】ステップ２００５で基板回収指令信号が描
画装置コントローラ１５４から受信されたとき、即ち誤
った寸法の基板が描画装置１３の描画テーブル１９に搬
入されたとき、ステップ２００５からステップ２００７
に進み、そこで描画装置１３の描画テーブル１９からの
基板の回収が実行される。即ち、搬送手段８４′が搬出
ステーション１２の基板搬出部１２Ａから描画ステーシ
ョン１０に向かって移動させられ、描画装置１３の描画
テーブル１９上の基板（未描画）を吸引パッド組立体８
８′でもって吸着した後に基板回収部１２Ｂまで戻って
無端ベルトコンベヤ８２上に搭載する。その後、無端ベ
ルトコンベヤ８２が駆動されて誤った寸法の基板は回収
される。基板を回収する際の搬送手段８４′の移動につ
いても、Ｚ軸モータ１２２′、Ｘ軸モータ１１０′及び
Ｙ軸モータ９６′のそれぞれの駆動をＺ軸モータ駆動回
路１７４′、Ｘ軸モータ駆動回路１７２′及びＹ軸モー
タ駆動回路１７０′でもって適宜制御して行い得ること
は明らかであろう。

【０１０６】基板搬出及び基板回収のいずれかが実行さ
れると、ステップ２００８に進み、そこで支持部材８６
₃ ′によって支持された３本の吸引パッド組立体８８′
が退避位置から通常の作動位置まで戻される。続いて、
ステップ２００９では、描画装置コントローラ１５４か
ら描画終了信号が受信されているか否かが判断される
（図１７のステップ１６１４参照）。もし描画終了信号
の受信が確認されていない場合には、ステップ２００１
に戻り、もし描画終了信号の受信が確認されると、本基
板搬出／回収ルーチンは終了する。

【０１０７】

【発明の効果】以上の記載から明らかなように、本発明
によれば、誤った寸法の被描画体（基板）への描画パタ
ーンの描画を未然に防止することができるので、かかる
被描画体が不良品とされるようなことはない。また。不
適正な寸法の被描画体が描画装置に搬入された儘で描画
作動が行われることが阻止されるので、描画作動中にエ
ラー発生を未然に防ぐことができる。また、本発明によ
れば、被描画体の寸法の大小に拘らず、個々の被描画体
を常に適正に描画装置の描画テーブルに搬入することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による描画システムの全体を示す概略立
面図である。

【図２】図１の概略平面図である。

【図３】図１及び図２に示す描画システムの一部を成す
描画ステーションに設置される描画装置の概略斜視図で
ある。

【図４】図１に示す描画システムの搬入ステーションを
示す拡大立面図である。

【図５】図４の平面図である。

【図６】図５のＶＩ−ＶＩ線に沿う断面図である。

【図７】図４に対応する立面図であって、寸法測定位置
への基板の位置決め及び基板の横幅寸法の測定を説明す
る説明図である。

【図８】図５に対応する平面図であって、基板の縦幅寸
法の測定を説明する説明図である。

【図９】図８に示す基板とは異なった寸法を持つ基板の
縦幅寸法の測定を説明する説明図である。

【図１０】図８に示す基板とも図９に示す基板とも異な
った寸法を持つ基板の縦幅寸法の測定を説明する説明図
である。

【図１１】基板の厚さを測定するリニアゲージの側面図
である。

【図１２】図１１の正面図である。

【図１３】図３に示す描画装置の制御ブロック図であ
る。

【図１４】図１及び図２に示す描画システムの一部を成
す搬入ステーションの制御ブロック図である。

【図１５】図１及び図２に示す描画システムの一部を成
す搬出ステーションの制御ブロック図である。

【図１６】図１３の制御ブロック図の描画装置コントロ
ーラで実行される描画作動ルーチンのフローチャートの
一部分である。

【図１７】図１３の制御ブロック図の描画装置コントロ
ーラで実行される描画作動ルーチンのフローチャートの
残りの部分である。

【図１８】図１４の制御ブロック図の搬入ステーション
コントローラで実行される基板搬入ルーチンのフローチ
ャートの一部分である。

【図１９】図１４の制御ブロック図の搬入ステーション
コントローラで実行される基板搬入ルーチンのフローチ
ャートの残りの部分である。

【図２０】図１５の制御ブロック図の搬出ステーション
コントローラで実行される基板搬出／回収ルーチンのフ
ローチャートである。

【符号の説明】

１０ 描画ステーション １１ 搬入ステーション １２ 搬出ステーション １２Ａ 基板搬出部 １２Ｂ 基板回収部 ８０・８１・８２ 無端ベルトコンベヤ ８４・８４′ 搬送手段 ８６Ｄ 空圧作動シリンダ ８８・８８′ 吸引パッド組立体 ９０・９２ Ｙ軸ガイドビーム ９４・９４′ Ｘ軸ガイドビーム ９６・９６′ Ｙ軸モータ １１０・１１０′ Ｘ軸モータ １２２・１２２′ Ｚ軸モータ １３４ 横幅測定レーザセンサ １３８Ａ・１３８Ｂ 縦幅測定レーザセンサ １４０ リニアゲージ １５４ 描画装置コントローラ １６８ 搬入ステーションコントローラ １６８′ 搬出ステーションコントローラ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H097 CA17 DB03 DB07 DB14 LA03 5E343 ER18 FF28 5F046 AA06 CA03 CD01 CD06 DB04 DC10

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 感光性の被描画体を光ビームで走査させ
   つつ該光ビームを描画データに基づいて変調させること
   により該被描画体に所定のパターンを描画する描画装置
   に対して被描画体を搬入する搬入装置であって、 前記描画装置に搬入すべき被描画体を搭載する搭載手段
   と、 前記搭載手段上の被描画体の寸法データを検出する寸法
   データ検出手段と、 前記寸法データ検出手段によって検出された検出寸法デ
   ータを前記描画装置に送信する検出寸法データ送信手段
   と、 前記搭載手段上の被描画体を担持して前記描画装置に搬
   送する搬送手段とを具備して成る搬入装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の搬入装置において、前
   記寸法データ検出手段が被描画体の二次元寸法データを
   検出することを特徴とする搬入装置。
3. 【請求項３】 請求項２に記載の搬入装置において、前
   記寸法データ検出手段が被描画体の横幅寸法データを検
   出する横幅寸法データ検出器と、該被描画体の縦幅寸法
   データを検出する縦幅寸法データ検出器とを包含するこ
   とを特徴とする搬入装置。
4. 【請求項４】 請求項１に記載の搬入装置において、前
   記寸法データ検出手段が被描画体の三次元寸法データを
   検出することを特徴とする搬入装置。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の搬入装置において、前
   記寸法データ検出手段が被描画体の横幅寸法データを検
   出する横幅寸法データ検出器と、該被描画体の縦幅寸法
   データを検出する横幅寸法データ検出器と、該被描画体
   の厚さデータを検出する厚さデータ検出器とを包含する
   ことを特徴とする搬入装置。
6. 【請求項６】 感光性の被描画体を光ビームで走査させ
   つつ該光ビームを描画データに基づいて変調させること
   により該被描画体に所定のパターンを描画する描画装置
   と、この描画装置に被描画体を搬入する搬入装置とを具
   備して成る描画システムであって、 前記搬入装置が前記描画装置に搬入すべき被描画体を搭
   載する搭載手段と、この搭載手段上の被描画体の寸法デ
   ータを検出する寸法データ検出手段と、この寸法データ
   検出手段によって検出された検出寸法データを前記描画
   装置に送信する検出寸法データ送信手段と、前記搭載手
   段上の被描画体を担持して前記描画装置に搬送する搬送
   手段とを包含し、 前記描画装置が前記所定のパターンを描画すべき被描画
   体の寸法情報データと前記検出寸法データとを比較する
   比較手段と、この比較手段によって前記寸法情報データ
   と前記検出寸法データが一致すると判断された際に描画
   作動の実行指令を行う描画作動実行指令手段と、前記比
   較手段によって前記寸法情報データと前記検出寸法デー
   タが不一致であると判断された際に描画作動の非実行指
   令を行う描画作動非実行指令手段とを包含することを特
   徴とする描画システム。
7. 【請求項７】 請求項６に記載の描画システムにおい
   て、前記描画装置が更に前記寸法情報データを前記搬入
   装置に送信する寸法情報データ送信手段を包含し、前記
   搬入装置が被描画体を前記描画装置まで搬送した後に前
   記寸法情報データに基づいて該被描画体を前記描画装置
   に対して所定位置に位置決めすることを特徴とする描画
   システム。
8. 【請求項８】 感光性の被描画体を光ビームで走査させ
   つつ該光ビームを描画データに基づいて変調させること
   により該被描画体に所定のパターンを描画する描画装置
   と、この描画装置に被描画体を搬入する搬入装置と、前
   記描画装置に搬入された被描画体を該描画装置から搬出
   する搬出装置とを具備して成る描画システムであって、 前記搬入装置が前記描画装置に搬入すべき被描画体を搭
   載する搭載手段と、この搭載手段上の被描画体の寸法デ
   ータを検出する寸法データ検出手段と、この寸法データ
   検出手段によって検出された検出寸法データを前記描画
   装置に送信する検出寸法データ送信手段と、前記搭載手
   段上の被描画体を担持して前記描画装置に搬送する搬送
   手段とを包含し、 前記描画装置が前記所定のパターンを描画すべき被描画
   体の寸法情報データと前記検出寸法データとを比較する
   比較手段と、この比較手段によって前記寸法情報データ
   と前記検出寸法データが一致すると判断された際に描画
   作動の実行指令を行う描画作動実行指令手段と、前記比
   較手段によって前記寸法情報データと前記検出寸法デー
   タが不一致であると判断された際に描画作動の非実行指
   令を行う描画作動非実行指令手段とを包含し、 前記搬出装置が前記描画装置から被描画体を担持して該
   描画装置の外部に搬送する搬送手段と、前記描画装置の
   描画作動実行指令手段による描画作動実行時に前記搬送
   手段によって搬送された描画後の被描画体を受け入れる
   受入れ手段と、前記描画装置の描画作動非実行指令手段
   による描画作動非実行時に前記搬送手段によって搬送さ
   れた被描画を回収する回収手段とを包含することを特徴
   とする描画システム。
9. 【請求項９】 請求項８に記載の描画システムにおい
   て、前記描画装置が更に前記寸法情報データを前記搬入
   装置に送信する寸法情報データ送信手段を包含し、前記
   搬入装置が被描画体を前記描画装置まで搬送した後に前
   記寸法情報データに基づいて該被描画体を前記描画装置
   に対して所定位置に位置決めすることを特徴とする描画
   システム。
10. 【請求項１０】 感光性の被描画体を光ビームで走査さ
    せつつ該光ビームを描画データに基づいて変調させるこ
    とにより該被描画体に所定のパターンを描画する描画装
    置に対して被描画体を搬入する搬入装置であって、 前記描画装置に搬入すべき被描画体を搭載する搭載手段
    と、 前記搭載手段上の被描画体の縦寸法データを検出するた
    めの縦寸法データ検出手段と、 前記搭載手段上の被描画体を担持して前記描画装置に搬
    送する搬送手段とを具備し、前記搬送手段は前記搭載手
    段上に被描画体の縦方向に沿って配置された複数の吸引
    パッドを備え、これら吸引パッドによって前記搭載手段
    上の被描画体を担持する際、その担持については、常
    に、前記吸引パッドのうちの前記縦方向に沿う一方の最
    端側に位置する吸引パッドが該被描画体の縦方向の一方
    の端縁側に接近して位置するように行われ、前記吸引パ
    ッドのうちの前記縦方向に沿う他方の最端側に位置する
    少なくとも１つの吸引パッドが退避自在とされ、 更に、前記吸引パッドによって前記搭載手段上の被描画
    体を担持する際に前記縦寸法データ検出手段によって検
    出された縦寸法データに基づいて前記退避自在の吸引パ
    ッドが必要とされるか否かを判別する判別手段と、 前記判別手段によって前記退避自在の吸引パッドが必要
    とされないと判断された際に該退避自在の吸引パッドを
    退避位置に退避させる退避手段とを具備して成る搬入装
    置。