JP2000129433A - Sputtering target for forming magneto-optical recording medium film - Google Patents

Sputtering target for forming magneto-optical recording medium film

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JP2000129433A
JP2000129433A JP10306858A JP30685898A JP2000129433A JP 2000129433 A JP2000129433 A JP 2000129433A JP 10306858 A JP10306858 A JP 10306858A JP 30685898 A JP30685898 A JP 30685898A JP 2000129433 A JP2000129433 A JP 2000129433A
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Japan
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recording medium
optical recording
magneto
target
medium film
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Inventor
Naoki Hatakeyama
直紀 畠山
Hiroshi Nibuta
浩志 丹生田
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Mitsubishi Materials Corp
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Mitsubishi Materials Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a target for forming a magneto-optical recording medium film in which the concn. of rare earth elements is uniform by sputtering. SOLUTION: In a sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film having a compsn. contg., by atom, 10 to 50% rare earth elements, contg., at need, one or two or more kinds among Cr, Nb, Ti, Pt, Si, Al and Ta by 0.1 to 20 atomic %, and the balance transition metals, one side of the target 1 is provided with a slope 5 whose thickness is reduced from the outer circumferential part R to the center part C.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、希土類元素が膜
全体にわたって均一な組成を有する光磁気記録媒体膜を
形成するためのスパッタリングターゲットに関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film in which a rare earth element has a uniform composition over the entire film.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、光磁気記録媒体膜形成用スパッタ
リングターゲットとして、(イ)Tb,Gd,Dyおよ
びNdなどの希土類元素:10〜50原子%を含有し、
残部:遷移金属からなる組成を有する光磁気記録媒体膜
形成用スパッタリングターゲット、または(ロ)希土類
元素:10〜50原子%、Cr,Nb,Ti,Pt,S
i,AlおよびTaの内の1種または2種以上:0.1
〜20原子%を含有し、残部:遷移金属からなる組成を
有する光磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲッ
トが知られており、これらターゲットは、表裏両面がい
ずれも平面で構成されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film, (a) rare earth elements such as Tb, Gd, Dy and Nd: 10 to 50 atomic%;
The remainder: a sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film having a composition composed of a transition metal, or (ii) a rare earth element: 10 to 50 atomic%, Cr, Nb, Ti, Pt, S
One or more of i, Al and Ta: 0.1
2. Description of the Related Art Sputtering targets for forming a magneto-optical recording medium film having a composition of up to 20 at% and a balance of transition metal are known, and these targets are both flat on both front and back surfaces.

【0003】これらターゲットは、図4に示されるよう
に、ターゲット1の片面を銅のバッキングプレート2に
接着し、この接着したターゲット1をスパッタ装置(図
示せず)に設置し、プラズマを発生させつつスパッタリ
ングを行い、ガラスまたは樹脂からなる基板の表面に光
磁気記録媒体膜4を形成することによりディスクを作製
している。
As shown in FIG. 4, one side of the target 1 is bonded to a copper backing plate 2 and the bonded target 1 is placed in a sputtering apparatus (not shown) to generate plasma, as shown in FIG. A disk is manufactured by performing sputtering while forming a magneto-optical recording medium film 4 on the surface of a substrate made of glass or resin.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】この従来の希土類元素
を含有するターゲットを用いてスパッタリングにより光
磁気記録媒体膜を形成すると、得られた光磁気記録媒体
膜4の中央部cと周辺部rとでは希土類元素の含有量が
相違し、光磁気記録媒体膜の周辺部rの希土類元素の含
有量は中央部cの希土類元素の含有量に比べて大きくな
り、全体が均一な希土類元素の含有量を有する光磁気記
録媒体膜は得られなかった。その原因は、従来の希土類
元素を含有する平面円盤状ターゲットを用いてスパッタ
リングすると、希土類元素は、図4のSで示されるよう
に、内側から外周部に向かって飛散する性質があり、そ
のために、スパッタして得られた光磁気記録媒体膜の周
辺部rの希土類元素の含有量は中央部cの希土類元素の
含有量よりも多くなると考えられている。基板に形成さ
れた光磁気記録媒体膜の希土類元素の含有量が中央部c
と周辺部rに±0.5原子%以上のばらつきがあると、
ディスクとしての特性に重大な影響を及ぼすので好まし
くない。この発明は、基板に全体に均一に希土類元素を
含有量を有する光磁気記録媒体膜を形成することのでき
るターゲットを提供することを目的とするものである。
When a magneto-optical recording medium film is formed by sputtering using the conventional target containing a rare earth element, the center portion c and the peripheral portion r of the obtained magneto-optical recording medium film 4 are formed. In this case, the content of the rare earth element is different, the content of the rare earth element in the peripheral portion r of the magneto-optical recording medium film is larger than the content of the rare earth element in the central portion c, and the content of the rare earth element is uniform throughout. Was not obtained. The cause is that when sputtering is performed using a conventional flat disk-shaped target containing a rare earth element, the rare earth element has a property of scattering from the inside toward the outer periphery as shown by S in FIG. It is considered that the content of the rare earth element in the peripheral portion r of the magneto-optical recording medium film obtained by sputtering is larger than the content of the rare earth element in the central portion c. The content of the rare earth element in the magneto-optical recording medium film formed on the substrate is at the center c.
And there is a variation of ± 0.5 atomic% or more in the peripheral portion r,
This is not preferable because it has a significant effect on the characteristics of the disc. An object of the present invention is to provide a target capable of forming a magneto-optical recording medium film having a rare earth element content uniformly over the entire substrate.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、スパッタ
リングして得られた光磁気記録媒体膜の周辺部rと中央
部cの希土類元素の含有量が均一になるようなスパッタ
リングターゲットを得るべく研究を行なっていたとこ
ろ、図1〜図3の断面図に示されるようなターゲットの
外周部Rから中央部Cに向かって厚みが減少する傾斜面
5を設けたターゲットを用いてスパッタリングすると、
これにより得られた図4の光磁気記録媒体膜4は、周辺
部rの希土類元素の含有量と中央部cの希土類元素の含
有量とのばらつきが±0.5原子%の範囲内におさま
り、希土類元素の含有量が全体に均一な光磁気記録媒体
膜が得られる、という知見を得たのである。
Means for Solving the Problems The present inventors obtain a sputtering target in which the content of the rare earth element in the peripheral portion r and the central portion c of the magneto-optical recording medium film obtained by sputtering is uniform. While conducting research, sputtering using a target provided with an inclined surface 5 whose thickness decreases from the outer peripheral portion R toward the central portion C as shown in the cross-sectional views of FIGS.
In the magneto-optical recording medium film 4 of FIG. 4 obtained as described above, the variation between the content of the rare earth element in the peripheral portion r and the content of the rare earth element in the central portion c is within the range of ± 0.5 atomic%. It has been found that a magneto-optical recording medium film having a uniform content of rare earth elements can be obtained as a whole.

【0006】この発明は、かかる知見に基づいて成され
たものであって、図1〜図3の断面図に示されるよう
に、(1)ターゲット1の片面に外周部Rから中央部C
に向かって厚みが減少する傾斜面5を設けた光磁気記録
媒体膜形成用スパッタリングターゲット、(2)希土類
元素:10〜50原子%を含有し、残部:遷移金属から
なる組成を有する光磁気記録媒体膜形成用スパッタリン
グターゲットにおいて、ターゲット1の片面に外周部R
から中央部Cに向かって厚みが減少する傾斜面5を設け
た光磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲット、
(3)希土類元素:10〜50原子%、Cr,Nb,T
i,Pt,Si,AlおよびTaの内の1種または2種
以上:0.1〜20原子%を含有し、残部:遷移金属か
らなる組成を有する光磁気記録媒体膜形成用スパッタリ
ングターゲットにおいて、ターゲット1の片面に外周部
Rから中央部Cに向かって厚みが減少する傾斜面5を設
けた光磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲッ
ト、に特徴を有するものである。
The present invention has been made based on this finding. As shown in the sectional views of FIGS. 1 to 3, (1) one side of the target 1
A sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film provided with an inclined surface 5 whose thickness decreases toward the surface, (2) magneto-optical recording having a composition comprising a rare earth element: 10 to 50 atomic% and a balance: transition metal In the sputtering target for forming a medium film, an outer peripheral portion R is formed on one surface of the target 1.
A sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film provided with an inclined surface 5 whose thickness decreases from the center toward the central portion C;
(3) Rare earth element: 10 to 50 atomic%, Cr, Nb, T
One or more of i, Pt, Si, Al, and Ta: a sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film having a composition of 0.1 to 20 atomic% and a balance of transition metal; The present invention is characterized in that a sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film is provided, on one surface of a target 1, an inclined surface 5 whose thickness decreases from an outer peripheral portion R toward a central portion C.

【0007】この発明の光磁気記録媒体膜形成用スパッ
タリングターゲットの成分組成は、希土類元素:10〜
50原子%を含有し、残部がFeおよびCoなどの遷移
金属からなる組成が好ましいが、このターゲットにさら
にCr,Nb,Ti,Pt,Si,AlおよびTaの内
の1種または2種以上:0.1〜20原子%を添加する
ことが一層好ましく、この中でもTb:20〜24原子
%、Cr:2〜4原子%、Co:6〜9原子%を含有
し、残部:Feからなる組成を有することが最も好まし
い。
The composition of the sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film according to the present invention is as follows:
A composition containing 50 atomic% and a balance of a transition metal such as Fe and Co is preferable, and this target is further added with one or more of Cr, Nb, Ti, Pt, Si, Al and Ta: It is more preferable to add 0.1 to 20 atomic%. Among them, a composition containing Tb: 20 to 24 atomic%, Cr: 2 to 4 atomic%, Co: 6 to 9 atomic%, and the balance: Fe It is most preferred to have

【0008】したがって、この発明は、(4)Tb:2
0〜24原子%、Cr:2〜4原子%、Co:6〜9原
子%を含有し、残部:Feからなる組成を有する光磁気
記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットにおいて、
ターゲット1の外周部Rから中央部Cに向かって厚みが
減少する傾斜面5を設けた光磁気記録媒体膜形成用スパ
ッタリングターゲット、に特徴を有するものである。
Therefore, the present invention provides (4) Tb: 2
A sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film having a composition of 0 to 24 atomic%, Cr: 2 to 4 atomic%, and Co: 6 to 9 atomic%, with the balance being Fe
It is characterized by a sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film provided with an inclined surface 5 whose thickness decreases from the outer peripheral portion R of the target 1 toward the central portion C.

【0009】前記ターゲット1の外周部Rから中央部C
に向かって厚みが減少する傾斜面は、球面、放物面、楕
円面、双曲面、円錐面などいかなる面であってもよい
が、図1の断面図に示されるような円錐面、図2の断面
図に示されるような球面または放物面が好ましい。この
発明の光磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲッ
トに設けられる傾斜面5は、ターゲットの外周部Rから
中心に向かう完全な傾斜面である必要はなく、図3の断
面図に示されるような平坦な中央部Cに向かって厚みが
減少する傾斜面5であっても良い。
[0009] From the outer peripheral portion R of the target 1 to the central portion C
2 may be any surface such as a spherical surface, a paraboloid, an ellipsoid, a hyperboloid, or a conical surface, but may be a conical surface as shown in the sectional view of FIG. A spherical surface or a paraboloid as shown in the sectional view of FIG. The inclined surface 5 provided in the sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film according to the present invention does not need to be a complete inclined surface from the outer peripheral portion R of the target toward the center, and is flat as shown in the sectional view of FIG. The inclined surface 5 whose thickness decreases toward the central portion C may be used.

【0010】これら傾斜面によって形成されたターゲッ
トの中央部Cの厚さ(HC )と外周部Rの厚さ(HR
の関係がHC /HR =0.8〜0.95の範囲内にある
ことが好ましい。HC /HR >0.95にあるターゲッ
トを用いスパッタリングして得られた光磁気記録媒体膜
は、膜の外周部rの希土類元素の含有量が中央部cの希
土類元素の含有量の0.5原子%を越えるようになり、
ディスクとして使用できないので好ましくない。またH
C /HR <0.8にあるターゲットを用いスパッタリン
グして得られた光磁気記録媒体膜の中央部cの希土類元
素の含有量は外周部rの希土類元素の含有量を0.5原
子%を越えるようになるためにディスクとして使用でき
ないので好ましくない。
[0010] The central portion thickness of C of the target formed by the inclined surfaces (H C) and the outer peripheral portion thickness of the R (H R)
Is preferably in a range of H C / H R = 0.8 to 0.95. In the magneto-optical recording medium film obtained by sputtering using a target having H C / H R > 0.95, the content of the rare earth element in the outer peripheral portion r of the film is 0% of the content of the rare earth element in the central portion c. .5 atomic%.
It is not preferable because it cannot be used as a disc. Also H
The content of the rare earth element in the central portion c of the magneto-optical recording medium film obtained by sputtering using a target having C / H R <0.8 is such that the content of the rare earth element in the outer peripheral portion r is 0.5 atomic%. Is not preferable because it cannot be used as a disc.

【0011】したがって、この発明は、(5)前記
(1)、(2)、(3)または(4)記載のターゲット
の片面に設けられた外周部Cから中央部Cに向かって設
けた傾斜面により、ターゲットの中央部の厚さ(HC
と外周部の厚さ(HR )との関係が、HC /HR =0.
8〜0.95となるようにした光磁気記録媒体膜形成用
スパッタリングターゲット、に特徴を有するものであ
る。
Therefore, the present invention provides (5) a slope provided from the outer peripheral portion C provided on one surface of the target described in the above (1), (2), (3) or (4) toward the central portion C. Depending on the surface, the thickness at the center of the target (H C )
And the thickness of the outer peripheral portion (H R ) is H C / H R = 0.
And a sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film having a thickness of 8 to 0.95.

【0012】この発明の光磁気記録媒体膜形成用スパッ
タリングターゲットは、原料を所望の成分組成を有する
ように溶解し、合金化した溶湯を不活性ガス雰囲気中で
ガスアトマイズするかまたは鋳造して得られたインゴッ
トを粉砕することにより通常より大きい粒径の平均粒
径:50〜60μmを有する合金粉末を作製し、この合
金粉末を温度:900〜1100℃、圧力:100〜2
00kgf/cm2 、0.5〜3時間保持の条件でホッ
トプレスすることにより製造する。
The sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film according to the present invention is obtained by melting a raw material so as to have a desired component composition and subjecting the alloyed melt to gas atomization or casting in an inert gas atmosphere. The obtained ingot is pulverized to produce an alloy powder having a larger average particle diameter: 50 to 60 μm, and the alloy powder is heated at a temperature of 900 to 1100 ° C. and a pressure of 100 to 2 μm.
It is manufactured by hot pressing under conditions of 00 kgf / cm 2 and holding for 0.5 to 3 hours.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】ArガスアトマイズによりTb:
24原子%、Co:8原子%、Cr:3原子%を含有
し、残部Feからなる組成を有し、平均粒径:100μ
mの合金粉末を作製し、この合金粉末を黒鉛型に充填
し、温度:1000℃、圧力:150kgf/cm2
2時間保持の条件でホットプレスすることにより直径:
127mm、外周の厚さ(HR ):10mmの寸法を有
するホットプレス体を作製し、これを従来光磁気記録媒
体膜形成用スパッタリングターゲット(以下、従来ター
ゲットという)とした。ついでこのホットプレス体の片
面を中心の厚さ(HC )およびHC /HR の値が表1に
示される寸法となる球面に加工することにより本発明光
磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲット(以
下、本発明ターゲットという)1〜3および比較光磁気
記録媒体膜形成用スパッタリングターゲット(以下、比
較ターゲットという)1〜2を作製した。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Tb:
Contains 24 atomic%, Co: 8 atomic%, Cr: 3 atomic%, has a composition of balance Fe, and has an average particle diameter of 100 μm.
m, and the alloy powder was filled in a graphite mold. The temperature was 1000 ° C., the pressure was 150 kgf / cm 2 ,
The diameter is obtained by hot pressing under the condition of holding for 2 hours:
A hot-pressed body having dimensions of 127 mm and an outer peripheral thickness (H R ) of 10 mm was prepared, and this was used as a conventional sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film (hereinafter referred to as a conventional target). Then, one side of the hot pressed body is processed into a spherical surface having the values of the thickness (H C ) and H C / H R at the center as shown in Table 1, whereby the sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film of the present invention is obtained. (Hereinafter, the target of the present invention) 1 to 3 and sputtering targets for forming a film of a comparative magneto-optical recording medium (hereinafter, a comparative target) 1 to 2 were produced.

【0014】これら本発明ターゲット1〜3、比較ター
ゲット1〜2および従来ターゲットをスパッタリングチ
ャンバーに装着し、 Ar圧力:1Pa、 DCパワー:500W、 の条件でガラス板に厚さ:1μmの円形光磁気記録媒体
膜を形成し、この円形光磁気記録媒体膜の中心のTbの
濃度(Tb0 )および中心から30mm離れた個所のT
bの濃度(Tb30)を測定し、さらにTb0 −Tb30
値を求め、これらの値を表1に示した。
These targets 1 to 3 of the present invention, comparative targets 1 and 2 and a conventional target were mounted in a sputtering chamber, and a circular magneto-optical disk having a thickness of 1 μm was formed on a glass plate under the conditions of Ar pressure: 1 Pa, DC power: 500 W. A recording medium film is formed, and the Tb concentration (Tb 0 ) at the center of the circular magneto-optical recording medium film and the Tb at a position 30 mm away from the center are determined.
The concentration of b (Tb 30 ) was measured, and the value of Tb 0 -Tb 30 was determined. These values are shown in Table 1.

【0015】[0015]

【表1】 [Table 1]

【0016】[0016]

【発明の効果】表1に示される結果から、本発明ターゲ
ット1〜3は従来ターゲットに比べて、円形光磁気記録
媒体膜の中心のTbの濃度(Tb0 )と中心から30m
m離れた個所のTbの濃度(Tb30)のばらつきが小さ
く、±0.5原子%の範囲内にあることが分かる。しか
し、HC /HR が0.8〜0.95の範囲を外れる比較
ターゲット1〜2は、Tb0 −Tb30の値が大きくなっ
てTb濃度のばらつきが大きく、±0.5原子%の範囲
を大きく外れることが分かる。上述のように、この発明
は、スパッタリングにより希土類元素の濃度が均一な光
磁気記録媒体膜を形成することのできる光磁気記録媒体
膜形成用スパッタリングターゲットを提供することがで
きるので、光磁気産業の発展に大いに貢献し得るもので
ある。
According to the results shown in Table 1, the targets 1 to 3 of the present invention have a Tb concentration (Tb 0 ) at the center of the circular magneto-optical recording medium film and 30 m from the center as compared with the conventional targets.
It can be seen that the variation in the concentration of Tb (Tb 30 ) at a position m away is small and within the range of ± 0.5 atomic%. However, comparison target 1-2 of H C / H R is out of the range of 0.8 to 0.95, the large variation in the Tb concentration value of Tb 0 -Tb 30 increases, ± 0.5 atomic% It can be seen that the range greatly falls outside the range. As described above, the present invention can provide a sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film capable of forming a magneto-optical recording medium film having a uniform concentration of a rare earth element by sputtering. It can greatly contribute to development.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の光磁気記録媒体膜形成用スパッタリ
ングターゲットの断面説明図である。
FIG. 1 is an explanatory sectional view of a sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film according to the present invention.

【図2】この発明の光磁気記録媒体膜形成用スパッタリ
ングターゲットの断面説明図である。
FIG. 2 is an explanatory sectional view of a sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film according to the present invention.

【図3】この発明の光磁気記録媒体膜形成用スパッタリ
ングターゲットの断面説明図である。
FIG. 3 is an explanatory sectional view of a sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film according to the present invention.

【図4】従来の光磁気記録媒体膜形成用スパッタリング
ターゲットを用いたスパッタリングの課題を説明するた
めの断面説明図である。
FIG. 4 is an explanatory cross-sectional view for explaining a problem of sputtering using a conventional sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ターゲット 2 バッキングプレート 3 基板 4 光磁気記録媒体膜 5 傾斜面 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Target 2 Backing plate 3 Substrate 4 Magneto-optical recording medium film 5 Inclined surface

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ターゲットの片面に外周部から中央部に
向かって厚みが減少する傾斜面を設けたことを特徴とす
る光磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲット。
1. A sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film, wherein an inclined surface having a thickness decreasing from an outer peripheral portion toward a central portion is provided on one surface of the target.
【請求項2】 希土類元素:10〜50原子%を含有
し、残部:遷移金属からなる組成を有する光磁気記録媒
体膜形成用スパッタリングターゲットにおいて、 ターゲットの片面に外周部から中央部に向かって厚みが
減少する傾斜面を設けたことを特徴とする光磁気記録媒
体膜形成用スパッタリングターゲット。
2. A sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film having a composition comprising a rare earth element: 10 to 50 atomic% and a balance: transition metal, wherein a thickness of one side of the target from an outer peripheral portion to a central portion is increased. 1. A sputtering target for forming a film on a magneto-optical recording medium, wherein the sputtering target has an inclined surface with a reduced value.
【請求項3】 希土類元素:10〜50原子%、Cr,
Nb,Ti,Pt,Si,AlおよびTaの内の1種ま
たは2種以上:0.1〜20原子%を含有し、残部:遷
移金属からなる組成を有する光磁気記録媒体膜形成用ス
パッタリングターゲットにおいて、 ターゲットの片面に外周部から中央部に向かって厚みが
減少する傾斜面を設けたことを特徴とする光磁気記録媒
体膜形成用スパッタリングターゲット。
3. Rare earth element: 10 to 50 atomic%, Cr,
One or more of Nb, Ti, Pt, Si, Al and Ta: A sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film having a composition comprising 0.1 to 20 atomic% and the balance being a transition metal. 3. The sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film according to claim 1, wherein an inclined surface whose thickness decreases from an outer peripheral portion toward a central portion is provided on one surface of the target.
【請求項4】 Tb:20〜24原子%、Cr:2〜4
原子%、Co:6〜9原子%を含有し、残部:Feから
なる組成を有する光磁気記録媒体膜形成用スパッタリン
グターゲットにおいて、 ターゲットの片面に外周部から中央部に向かって厚みが
減少する傾斜面を設けたことを特徴とする光磁気記録媒
体膜形成用スパッタリングターゲット。
4. Tb: 20 to 24 atomic%, Cr: 2 to 4
In a sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film having a composition consisting of atomic% and Co: 6 to 9 atomic%, and the balance being Fe, the slope on one surface of the target decreases in thickness from the outer periphery toward the center. A sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film, wherein the sputtering target has a surface.
【請求項5】 ターゲットの片面に設けられた傾斜面に
より、ターゲットの中央部の厚さ(HC )と外周部の厚
さ(HR )の関係が、HC /HR =0.8〜0.95と
なるようにしたことを特徴とする請求項1、2、3また
は4記載の光磁気記録媒体膜形成用スパッタリングター
ゲット。
5. The relationship between the thickness (H C ) at the center of the target and the thickness (H R ) at the outer periphery of the target is determined by an inclined surface provided on one surface of the target, where H C / H R = 0.8. 5. The sputtering target for forming a magneto-optical recording medium film according to claim 1, wherein the thickness is set to 0.95.
JP10306858A 1998-10-28 1998-10-28 Sputtering target for forming magneto-optical recording medium film Pending JP2000129433A (en)

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