JP2000127290A - バリア被覆および高出力プラズマ化学気相成長法によってプラスチック物体上にバリア被覆を堆積する方法 - Google Patents
バリア被覆および高出力プラズマ化学気相成長法によってプラスチック物体上にバリア被覆を堆積する方法Info
- Publication number
- JP2000127290A JP2000127290A JP11277468A JP27746899A JP2000127290A JP 2000127290 A JP2000127290 A JP 2000127290A JP 11277468 A JP11277468 A JP 11277468A JP 27746899 A JP27746899 A JP 27746899A JP 2000127290 A JP2000127290 A JP 2000127290A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- support
- chamber
- buffer layer
- coating
- inorganic coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/60—Deposition of organic layers from vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/401—Oxides containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
- B05D3/068—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation using ionising radiations (gamma, X, electrons)
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラスチック支持体に損傷を与えることな
く、またその結果被覆に欠陥を引き起こすことなく、巨
視的欠陥が無いプラスチック支持体に高エネルギーレベ
ルで無機被覆が堆積されたプラスチック支持体の提供。 【解決手段】 上面および底面と、支持体の前記上面の
上に結合された緩衝層と、プラズマ化学気相法によって
１３０Ｗより大きい電力レベルで付着した、前記緩衝層
の上に結合された無機被履とを含むプラスチック支持
体。
く、またその結果被覆に欠陥を引き起こすことなく、巨
視的欠陥が無いプラスチック支持体に高エネルギーレベ
ルで無機被覆が堆積されたプラスチック支持体の提供。 【解決手段】 上面および底面と、支持体の前記上面の
上に結合された緩衝層と、プラズマ化学気相法によって
１３０Ｗより大きい電力レベルで付着した、前記緩衝層
の上に結合された無機被履とを含むプラスチック支持
体。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、バリア被覆と、機
械的隔離用緩衝層を使用して高出力プラズマ化学気相成
長法によりポリマー支持体上に無機膜を堆積する方法に
関する。
械的隔離用緩衝層を使用して高出力プラズマ化学気相成
長法によりポリマー支持体上に無機膜を堆積する方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】非常に多くの技術分野では、純粋な物質
の非常に薄い被覆をある物体に付着させることが必要で
ある。一例として窓ガラスがあり、このガラスには、日
光からある波長範囲を濾波するために、金属酸化物の薄
い被覆が設けられている。半導体技術では、１種または
数種の物質の薄い被覆を基板に付着する場合が多い。こ
れらの薄い被覆は純粋であるだけでなく、被覆の厚さ、
および化合物の場合にはその組成が正確に再現できるよ
うに、精密に計り出されることが特に重要である。これ
らの被覆の厚さは、一般に２千ナノメートルから数千ナ
ノメートルの間である。
の非常に薄い被覆をある物体に付着させることが必要で
ある。一例として窓ガラスがあり、このガラスには、日
光からある波長範囲を濾波するために、金属酸化物の薄
い被覆が設けられている。半導体技術では、１種または
数種の物質の薄い被覆を基板に付着する場合が多い。こ
れらの薄い被覆は純粋であるだけでなく、被覆の厚さ、
および化合物の場合にはその組成が正確に再現できるよ
うに、精密に計り出されることが特に重要である。これ
らの被覆の厚さは、一般に２千ナノメートルから数千ナ
ノメートルの間である。
【０００３】フィルム、ガラス、およびその他の支持体
に、薄い被覆を付着させる様々な方法が知られている。
に、薄い被覆を付着させる様々な方法が知られている。
【０００４】プラズマ化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）と
は、支持体、特にプラスチック支持体上に被覆を堆積す
る方法である。ＰＥＣＶＤプロセスでの重要な変数は、
プラズマを持続させ支持体にバイアスをかけるために使
用する入力電力（すなわち無線周波数）のレベルであ
る。支持体のバイアスは、支持体の高エネルギーイオン
衝撃の原因であり、被覆の高密度化を招く。イオン衝撃
によって支持体表面に熱も伝えられ、これが堆積プロセ
ス中の支持体温度の上昇を引き起こす。支持体の温度が
臨界値を超えて上昇する場合、支持体は変形し、または
軟化する。通常、この影響は、ガラス転移温度Ｔｇ付近
で生じる。ガラス転移温度とは、ポリマーが硬いガラス
状の状態から軟らかいゴム状の状態に転移する温度であ
る。Ｔｇ未満では分子運動が凍結し、材料がガラスに変
わる。支持体温度がＴｇに達すると、ポリマー鎖のセグ
メント移動が生じ、無機被覆用の不安定な堆積プラット
ホームが創り出される。したがって支持体が変形または
軟化する場合、これが被覆の変形の原因になり、巨視的
な欠陥をもたらす可能性がある。その上この欠陥によっ
て、一般に被覆は「霜状」の外観になる。ＰＥＣＶＤ
は、プラスチック支持体の低温支持体要件に容易に適応
可能であるため、プラスチック支持体上に被覆を堆積す
るのに良い方法である。しかし、ポリプロプレンやＰＥ
Ｔ（Ｔｇはそれぞれ−１０℃と６８℃）などの低Ｔｇポ
リマーは、高いシステム電力にさらすことができない。
は、支持体、特にプラスチック支持体上に被覆を堆積す
る方法である。ＰＥＣＶＤプロセスでの重要な変数は、
プラズマを持続させ支持体にバイアスをかけるために使
用する入力電力（すなわち無線周波数）のレベルであ
る。支持体のバイアスは、支持体の高エネルギーイオン
衝撃の原因であり、被覆の高密度化を招く。イオン衝撃
によって支持体表面に熱も伝えられ、これが堆積プロセ
ス中の支持体温度の上昇を引き起こす。支持体の温度が
臨界値を超えて上昇する場合、支持体は変形し、または
軟化する。通常、この影響は、ガラス転移温度Ｔｇ付近
で生じる。ガラス転移温度とは、ポリマーが硬いガラス
状の状態から軟らかいゴム状の状態に転移する温度であ
る。Ｔｇ未満では分子運動が凍結し、材料がガラスに変
わる。支持体温度がＴｇに達すると、ポリマー鎖のセグ
メント移動が生じ、無機被覆用の不安定な堆積プラット
ホームが創り出される。したがって支持体が変形または
軟化する場合、これが被覆の変形の原因になり、巨視的
な欠陥をもたらす可能性がある。その上この欠陥によっ
て、一般に被覆は「霜状」の外観になる。ＰＥＣＶＤ
は、プラスチック支持体の低温支持体要件に容易に適応
可能であるため、プラスチック支持体上に被覆を堆積す
るのに良い方法である。しかし、ポリプロプレンやＰＥ
Ｔ（Ｔｇはそれぞれ−１０℃と６８℃）などの低Ｔｇポ
リマーは、高いシステム電力にさらすことができない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】したがって、プラスチ
ック支持体に損傷を与えてその結果被覆に欠陥を生じさ
せるということなく、巨視的欠陥が無いプラスチック支
持体に高エネルギーレベルで無機被覆を堆積できるよう
にする必要がある。
ック支持体に損傷を与えてその結果被覆に欠陥を生じさ
せるということなく、巨視的欠陥が無いプラスチック支
持体に高エネルギーレベルで無機被覆を堆積できるよう
にする必要がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、緩衝層および
無機被覆を含むプラスチック支持体と、実質上巨視的欠
陥がない無機被覆を、通常は巨視的欠陥が被覆に現れる
閾値を超える電力レベルで最小の処理時間でプラスチッ
ク支持体に堆積する方法である。
無機被覆を含むプラスチック支持体と、実質上巨視的欠
陥がない無機被覆を、通常は巨視的欠陥が被覆に現れる
閾値を超える電力レベルで最小の処理時間でプラスチッ
ク支持体に堆積する方法である。
【０００７】本発明の方法は、支持体に緩衝層を付着さ
せる前処理段階を含むことが最も好ましい。緩衝層は、
一般に支持体の変形を招く電力レベルまたは温度レベル
にこの支持体をさらすことができるように、機械的に支
持体を隔離する。
せる前処理段階を含むことが最も好ましい。緩衝層は、
一般に支持体の変形を招く電力レベルまたは温度レベル
にこの支持体をさらすことができるように、機械的に支
持体を隔離する。
【０００８】緩衝層は、実質上目に見える巨視的欠陥が
無いことが好ましく、それによってこの緩衝層は、被覆
または最終製品の透明度要件を満たす。
無いことが好ましく、それによってこの緩衝層は、被覆
または最終製品の透明度要件を満たす。
【０００９】緩衝層は、支持体上に無機材料を堆積する
ためのプラットホームを提供する。緩衝層の厚さは約
０．１ミクロンから約１０ミクロンが好ましく、最も好
ましくは約０．５ミクロンから約３ミクロンである。
ためのプラットホームを提供する。緩衝層の厚さは約
０．１ミクロンから約１０ミクロンが好ましく、最も好
ましくは約０．５ミクロンから約３ミクロンである。
【００１０】緩衝層は、有機材料であることが望まし
い。緩衝層は、透明で、目に見える巨視的欠陥が無く、
実質上硬い（架橋ポリマーであるため）ことが好まし
く、また、ＰＥＣＶＤプロセスからポリマー支持体を機
械的に隔離できることが好ましい。緩衝層は、支持体の
Ｔｇ付近の温度で軟化せず、ガラス転移せず、溶融せ
ず、または別の方法による変形を受けない。緩衝層は、
架橋したアクリレート材料が好ましい。
い。緩衝層は、透明で、目に見える巨視的欠陥が無く、
実質上硬い（架橋ポリマーであるため）ことが好まし
く、また、ＰＥＣＶＤプロセスからポリマー支持体を機
械的に隔離できることが好ましい。緩衝層は、支持体の
Ｔｇ付近の温度で軟化せず、ガラス転移せず、溶融せ
ず、または別の方法による変形を受けない。緩衝層は、
架橋したアクリレート材料が好ましい。
【００１１】無機材料は、ｘが約１．０から約２．５で
あるＳｉＯXなどの酸化ケイ素をベースとした組成物
や、酸化アルミニウムをベースとした組成物などの金属
酸化物が望ましい。
あるＳｉＯXなどの酸化ケイ素をベースとした組成物
や、酸化アルミニウムをベースとした組成物などの金属
酸化物が望ましい。
【００１２】酸化ケイ素をベースとする組成物は、実質
上高密度で蒸気を通さず、揮発性の有機ケイ素化合物の
誘導体であることが望ましい。酸化ケイ素をベースとす
る材料の厚さは、約１００オングストローム（Å）から
約１００００Åが好ましく、最も好ましくは約５００Å
から約３０００Åである。５０００Åを超える材料には
クラックが発生する可能性があり、したがってバリアと
しては効果がない。
上高密度で蒸気を通さず、揮発性の有機ケイ素化合物の
誘導体であることが望ましい。酸化ケイ素をベースとす
る材料の厚さは、約１００オングストローム（Å）から
約１００００Åが好ましく、最も好ましくは約５００Å
から約３０００Åである。５０００Åを超える材料には
クラックが発生する可能性があり、したがってバリアと
しては効果がない。
【００１３】緩衝層は、浸漬または噴霧し、次いで約５
０℃で風乾しまたは紫外線によって、プラスチック支持
体上に付着させることができる。
０℃で風乾しまたは紫外線によって、プラスチック支持
体上に付着させることができる。
【００１４】前処理した支持体上に無機材料を堆積する
方法は、（ａ）真空気密チャンバと、前記チャンバにモ
ノマーを送出する手段と、前記チャンバに無線周波電力
を加える手段と、前記チャンバに酸化剤ガスを送出する
手段と、前記チャンバ内に真空を創り出して維持する手
段と、電極とを有する、支持体にバリア被膜状の被覆を
付着させることが可能な装置を準備する段階と、（ｂ）
前記チャンバ内に前記支持体を配置する段階と、（ｃ）
前記チャンバを５ｍＴｏｒｒ未満に排気する段階と、
（ｄ）前記チャンバにモノマーガスを送出する段階と、
（ｅ）前記チャンバに酸化剤を送出する段階と、（ｆ）
前記電極に無線周波数を送る段階と、（ｇ）前記前処理
した支持体上にバリア被膜状の被覆を堆積する段階とを
含むことが最も好ましい。
方法は、（ａ）真空気密チャンバと、前記チャンバにモ
ノマーを送出する手段と、前記チャンバに無線周波電力
を加える手段と、前記チャンバに酸化剤ガスを送出する
手段と、前記チャンバ内に真空を創り出して維持する手
段と、電極とを有する、支持体にバリア被膜状の被覆を
付着させることが可能な装置を準備する段階と、（ｂ）
前記チャンバ内に前記支持体を配置する段階と、（ｃ）
前記チャンバを５ｍＴｏｒｒ未満に排気する段階と、
（ｄ）前記チャンバにモノマーガスを送出する段階と、
（ｅ）前記チャンバに酸化剤を送出する段階と、（ｆ）
前記電極に無線周波数を送る段階と、（ｇ）前記前処理
した支持体上にバリア被膜状の被覆を堆積する段階とを
含むことが最も好ましい。
【００１５】モノマーガスは、約０．１ｓｃｃｍから約
１００ｓｃｃｍで、最も好ましくは約２０ｓｃｃｍでチ
ャンバに送出されることが好ましい。
１００ｓｃｃｍで、最も好ましくは約２０ｓｃｃｍでチ
ャンバに送出されることが好ましい。
【００１６】モノマーガスはヘキサメチルジシロキサン
（ＨＭＤＳＯ）またはトリメチルジシロキサン（ＴＭＳ
Ｏ）が好ましく、最も好ましくはＨＭＤＳＯである。
（ＨＭＤＳＯ）またはトリメチルジシロキサン（ＴＭＳ
Ｏ）が好ましく、最も好ましくはＨＭＤＳＯである。
【００１７】酸化剤ガスは、約２ｓｃｃｍから約２００
０ｓｃｃｍで、最も好ましくは約６００ｓｃｃｍでチャ
ンバに送出されることが好ましい。
０ｓｃｃｍで、最も好ましくは約６００ｓｃｃｍでチャ
ンバに送出されることが好ましい。
【００１８】酸化剤ガスは、酸素、亜酸化窒素、または
空気が好ましく、最も好ましくは酸素である。
空気が好ましく、最も好ましくは酸素である。
【００１９】無線周波数は約５ＭＨｚから約２０ＭＨｚ
であり、電極面積の単位当たりの電力は約０．０１ワッ
ト／ｃｍ2から約５ワット／ｃｍ2であることが好まし
い。無線周波数は、約１０ＭＨｚから約１４ＭＨｚであ
り、約０．１ワット／ｃｍ2から約１ワット／ｃｍ2が最
も好ましい。
であり、電極面積の単位当たりの電力は約０．０１ワッ
ト／ｃｍ2から約５ワット／ｃｍ2であることが好まし
い。無線周波数は、約１０ＭＨｚから約１４ＭＨｚであ
り、約０．１ワット／ｃｍ2から約１ワット／ｃｍ2が最
も好ましい。
【００２０】前処理された支持体は、約１０ｎｍ／分か
ら約２００ｎｍ／分の速度で、最も好ましくは約２０ｎ
ｍ／分から約１００ｎｍ／分の速度でバリア被膜によっ
て被覆されることが好ましい。
ら約２００ｎｍ／分の速度で、最も好ましくは約２０ｎ
ｍ／分から約１００ｎｍ／分の速度でバリア被膜によっ
て被覆されることが好ましい。
【００２１】前処理され、次いでバリア被膜で被覆され
たプラスチック支持体は、バリア被膜のみで被覆されて
いる以前の支持体よりも実質上はるかに良好な真空保持
状態および機械的整合性保持状態を維持することができ
る。その上、支持体の耐衝撃性はガラスの耐衝撃性より
もはるかに良好である。最も注目に値する点は、緩衝層
を備えるＳｉＯX被覆の透明度とその耐久性であり、こ
の耐久性とは、耐衝撃性および耐摩耗性に十分に耐える
ものである。
たプラスチック支持体は、バリア被膜のみで被覆されて
いる以前の支持体よりも実質上はるかに良好な真空保持
状態および機械的整合性保持状態を維持することができ
る。その上、支持体の耐衝撃性はガラスの耐衝撃性より
もはるかに良好である。最も注目に値する点は、緩衝層
を備えるＳｉＯX被覆の透明度とその耐久性であり、こ
の耐久性とは、耐衝撃性および耐摩耗性に十分に耐える
ものである。
【００２２】本発明の支持体は、採血器具が最も好まし
い。採血器具は、空にされた採血管、または空にされて
いない採血管のどちらでもよい。採血管は、ポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレン（Ｐ
Ｐ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカー
ボネート（ＰＣ）、またはこれらの共重合体で製造され
たものが望ましい。
い。採血器具は、空にされた採血管、または空にされて
いない採血管のどちらでもよい。採血管は、ポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレン（Ｐ
Ｐ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカー
ボネート（ＰＣ）、またはこれらの共重合体で製造され
たものが望ましい。
【００２３】採血器具の他に、本発明の方法は、被膜の
両側が緩衝層を含むポリマー被膜とともに使用すること
ができる。
両側が緩衝層を含むポリマー被膜とともに使用すること
ができる。
【００２４】本発明では、高度に架橋したアクリレート
の緩衝層によって、プラスチック表面とＳｉＯXの間の
接着性が改善され、また支持体を変形させることなくよ
り高い電力レベルにかけることができるように、支持体
の熱機械安定性が全体的に改善されることが見出され
た。
の緩衝層によって、プラスチック表面とＳｉＯXの間の
接着性が改善され、また支持体を変形させることなくよ
り高い電力レベルにかけることができるように、支持体
の熱機械安定性が全体的に改善されることが見出され
た。
【００２５】その上アクリレート材料は、ポリマーの表
面の粒子および不完全な部分を覆う。アクリレートの良
好な結合特性は、アクリレートが極性を有し、この極性
によってＳｉＯXとアクリレートの間に良好な結合を形
成する手段が提供されるためでもある。したがって本発
明は、ポリプロピレン管のバリア特性を十分に改善する
手段を提供する。
面の粒子および不完全な部分を覆う。アクリレートの良
好な結合特性は、アクリレートが極性を有し、この極性
によってＳｉＯXとアクリレートの間に良好な結合を形
成する手段が提供されるためでもある。したがって本発
明は、ポリプロピレン管のバリア特性を十分に改善する
手段を提供する。
【００２６】本発明の方法によって被覆されたプラスチ
ック採血管は、管内の血液について一般に行われる試験
および分析を妨げない。このような試験には、日常化学
分析、生物学的不活性、血液学、血液化学、血液型検
査、毒物学分析、または薬物治療管理と、体液に関する
その他の臨床試験が含まれるが、これらに限定するもの
ではない。さらに、本発明の方法によって被覆されたプ
ラスチック採血管は、遠心分離機などの自動機械装置に
かけることができ、また殺菌プロセス中に、光学的また
は機械的性質および機能的性質を実質上変化させずにあ
るレベルの放射にさらすことができる。
ック採血管は、管内の血液について一般に行われる試験
および分析を妨げない。このような試験には、日常化学
分析、生物学的不活性、血液学、血液化学、血液型検
査、毒物学分析、または薬物治療管理と、体液に関する
その他の臨床試験が含まれるが、これらに限定するもの
ではない。さらに、本発明の方法によって被覆されたプ
ラスチック採血管は、遠心分離機などの自動機械装置に
かけることができ、また殺菌プロセス中に、光学的また
は機械的性質および機能的性質を実質上変化させずにあ
るレベルの放射にさらすことができる。
【００２７】本発明の方法は、外観が透明、半透明、ま
たは無色の被覆であって、その上に付着された印刷物を
有することが可能な被覆を提供することが好ましい。
たは無色の被覆であって、その上に付着された印刷物を
有することが可能な被覆を提供することが好ましい。
【００２８】本発明の注目に値する利点とは、プラスチ
ック支持体に欠陥を生じさせることなく、巨視的欠陥の
ない無機被覆を高エネルギーレベルでこのプラスチック
支持体に付着できることである。
ック支持体に欠陥を生じさせることなく、巨視的欠陥の
ない無機被覆を高エネルギーレベルでこのプラスチック
支持体に付着できることである。
【００２９】別の利点とは、本発明の方法によって、温
度閾値を超えるために明らかにされていなかった三次元
物体の浸透性が改善されることである。
度閾値を超えるために明らかにされていなかった三次元
物体の浸透性が改善されることである。
【００３０】本発明の方法の重要な利点とは、欠陥が最
小限に抑えられた被覆を支持体に付着させることができ
るように、緩衝層が、増加するＳｉＯXを付着させる際
の閾値温度に対する耐熱シールドを提供することであ
る。したがって支持体の浸透性の著しい減少は、ＳｉＯ
Xによる完全な表面被覆が得られるためである。
小限に抑えられた被覆を支持体に付着させることができ
るように、緩衝層が、増加するＳｉＯXを付着させる際
の閾値温度に対する耐熱シールドを提供することであ
る。したがって支持体の浸透性の著しい減少は、ＳｉＯ
Xによる完全な表面被覆が得られるためである。
【００３１】緩衝層の注目に値する属性には、（ｉ）目
に見える巨視的欠陥がなく、（ｉｉ）最後に被覆される
支持体の透明度を減少させず、（ｉｉｉ）より高い電力
のＰＥＣＶＤプロセスおよびその結果としての高温に支
持体をさらすことができるように、実質上硬質の前処理
済み材料をこの支持体に施すことが含まれる。
に見える巨視的欠陥がなく、（ｉｉ）最後に被覆される
支持体の透明度を減少させず、（ｉｉｉ）より高い電力
のＰＥＣＶＤプロセスおよびその結果としての高温に支
持体をさらすことができるように、実質上硬質の前処理
済み材料をこの支持体に施すことが含まれる。
【００３２】本発明の緩衝層前処理段階がないと、無機
被覆またはプラスチック支持体の高密度化は、支持体が
その構造的性質を保持する電力範囲により限定される。
本発明の前処理段階によって、被覆が支持体から保護さ
れるためにＰＥＣＶＤプロセス中でのより高い電力が可
能になり、それによって、他の方法では達成できないよ
うな被覆の密度および最終の性質が可能になる。
被覆またはプラスチック支持体の高密度化は、支持体が
その構造的性質を保持する電力範囲により限定される。
本発明の前処理段階によって、被覆が支持体から保護さ
れるためにＰＥＣＶＤプロセス中でのより高い電力が可
能になり、それによって、他の方法では達成できないよ
うな被覆の密度および最終の性質が可能になる。
【００３３】本発明の別の属性は、緩衝層によって、高
出力ＰＥＣＶＤプロセス中に生じる可能性がある被覆の
霜状化の始まりが遅くなることである。
出力ＰＥＣＶＤプロセス中に生じる可能性がある被覆の
霜状化の始まりが遅くなることである。
【００３４】本発明の別の属性は、ＰＥＣＶＤによって
支持体を被覆するプロセスまたは継続時間が、高閾値電
力を使用する場合に短縮されることである。したがって
臨界的な電力閾値は、無機被覆プロセスの継続時間に逆
比例する。
支持体を被覆するプロセスまたは継続時間が、高閾値電
力を使用する場合に短縮されることである。したがって
臨界的な電力閾値は、無機被覆プロセスの継続時間に逆
比例する。
【００３５】
【発明の実施の形態】本発明は、その他の特定の形に具
体化することができ、詳細が述べられる単なる例示にす
ぎない任意の特定の実施形態に限定されない。本発明の
範囲および精神から逸脱することなく、様々なその他の
変形例が当業者には明らかであり、またこれらの変形例
が当業者によって容易に行われることが明らかであろ
う。本発明の範囲は、添付の請求の範囲およびその均等
物によって評価される。
体化することができ、詳細が述べられる単なる例示にす
ぎない任意の特定の実施形態に限定されない。本発明の
範囲および精神から逸脱することなく、様々なその他の
変形例が当業者には明らかであり、またこれらの変形例
が当業者によって容易に行われることが明らかであろ
う。本発明の範囲は、添付の請求の範囲およびその均等
物によって評価される。
【００３６】本発明の方法に使用するプラスチック支持
体は、その最終用途でのガスおよび／または水蒸気の透
過の減少によって利益を受ける任意の支持体でよい。こ
のような支持体の代表的なものではあるがそれらに限定
されないもののリストには、包装用フィルム、瓶などの
容器、注射器などの医療器具、管、管材、およびガラス
瓶が含まれる。飲料容器および医療器具は、ガスおよび
／または水蒸気の透過の減少によって利益を受けること
が最も好ましい。
体は、その最終用途でのガスおよび／または水蒸気の透
過の減少によって利益を受ける任意の支持体でよい。こ
のような支持体の代表的なものではあるがそれらに限定
されないもののリストには、包装用フィルム、瓶などの
容器、注射器などの医療器具、管、管材、およびガラス
瓶が含まれる。飲料容器および医療器具は、ガスおよび
／または水蒸気の透過の減少によって利益を受けること
が最も好ましい。
【００３７】本発明の好ましい実施形態は、プラズマ化
学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）によって、前処理済みのプ
ラスチック支持体上に無機被覆を堆積することである。
前処理段階は、プラスチック支持体を緩衝層で被覆する
ことを含む。
学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）によって、前処理済みのプ
ラスチック支持体上に無機被覆を堆積することである。
前処理段階は、プラスチック支持体を緩衝層で被覆する
ことを含む。
【００３８】緩衝層は、アクリレート材料などの有機材
料であり、この有機材料を支持体上に浸漬被覆し、ロー
ルコーティングし、または噴霧し、その後、紫外線硬化
プロセスまたは乾燥プロセスを行うことによって、プラ
スチック支持体上に緩衝層を形成することができる。
料であり、この有機材料を支持体上に浸漬被覆し、ロー
ルコーティングし、または噴霧し、その後、紫外線硬化
プロセスまたは乾燥プロセスを行うことによって、プラ
スチック支持体上に緩衝層を形成することができる。
【００３９】この有機材料は、米国特許第５０３２４６
１号に述べられているように実施した蒸発または硬化プ
ロセスによって付着させることもでき、その開示を参照
により本明細書に組み込む。
１号に述べられているように実施した蒸発または硬化プ
ロセスによって付着させることもでき、その開示を参照
により本明細書に組み込む。
【００４０】アクリレートは、望まれるほとんどどのよ
うな化学的性質も備えるものが入手可能である。これら
は通常、１分子当たり１個、２個、または３個のアクリ
レート基のいずれかを有している。本発明では、モノア
クリレート、ジアクリレート、およびトリアクリレート
の様々な混合物が有用である。最も好ましいものはモノ
アクリレートとジアクリレートである。
うな化学的性質も備えるものが入手可能である。これら
は通常、１分子当たり１個、２個、または３個のアクリ
レート基のいずれかを有している。本発明では、モノア
クリレート、ジアクリレート、およびトリアクリレート
の様々な混合物が有用である。最も好ましいものはモノ
アクリレートとジアクリレートである。
【００４１】アクリレートは、化学薬品の最も反応性に
富む種類の１つを形成する。これらは、紫外線または電
子線の放射に曝されると急速に硬化して、架橋構造を形
成する。したがってアクリレートは、組成物および支持
体に、高温性、安定性、および耐摩耗性を付与する。
富む種類の１つを形成する。これらは、紫外線または電
子線の放射に曝されると急速に硬化して、架橋構造を形
成する。したがってアクリレートは、組成物および支持
体に、高温性、安定性、および耐摩耗性を付与する。
【００４２】図１は、プラスチック支持体にアクリレー
ト材料を付着させる数多くの方法の１つを示している。
アクリレートモノマー１００は誘電蒸発器１０２の内部
に誘導され、次いで超音波アトマイザ１０４の内部を通
って真空チャンバ１０６に入る。モノマーの小滴を超音
波で霧状にし、小滴を蒸発させて、ドラム１０８に装填
された回転チューブまたはフィルム上に凝縮させる。
ト材料を付着させる数多くの方法の１つを示している。
アクリレートモノマー１００は誘電蒸発器１０２の内部
に誘導され、次いで超音波アトマイザ１０４の内部を通
って真空チャンバ１０６に入る。モノマーの小滴を超音
波で霧状にし、小滴を蒸発させて、ドラム１０８に装填
された回転チューブまたはフィルム上に凝縮させる。
【００４３】凝縮したモノマー液体には、引き続き電子
線銃１１０による放射線硬化が行われる。
線銃１１０による放射線硬化が行われる。
【００４４】無機材料は酸化ケイ素などの酸化物材料が
最も好ましく、その開示が参照により本明細書に組み込
まれている米国特許第４６９８２５６号、第４８０９８
７６号、第４９９２２９８号、第５０５５３１８号、お
よび第５６９１００７号に記載されているように、無線
周波放電、直接またはデュアルイオンビーム蒸着法、ス
パッタ、またはプラズマ化学気相成長法によって形成す
ることができる。
最も好ましく、その開示が参照により本明細書に組み込
まれている米国特許第４６９８２５６号、第４８０９８
７６号、第４９９２２９８号、第５０５５３１８号、お
よび第５６９１００７号に記載されているように、無線
周波放電、直接またはデュアルイオンビーム蒸着法、ス
パッタ、またはプラズマ化学気相成長法によって形成す
ることができる。
【００４５】図２を参照すると、酸化ケイ素材料を堆積
するシステムは密閉型反応チャンバ１７０を含み、その
内部ではプラズマが形成されて、材料の薄膜を堆積する
ために支持体または管１７１が試料ホルダ１７２上に配
置される。支持体は、プラスチックなどの任意の真空適
合性材料でよい。１種または数種のガスを、ガス供給シ
ステム１７３によって反応チャンバに供給する。電源１
７４によって、電界が創り出される。
するシステムは密閉型反応チャンバ１７０を含み、その
内部ではプラズマが形成されて、材料の薄膜を堆積する
ために支持体または管１７１が試料ホルダ１７２上に配
置される。支持体は、プラスチックなどの任意の真空適
合性材料でよい。１種または数種のガスを、ガス供給シ
ステム１７３によって反応チャンバに供給する。電源１
７４によって、電界が創り出される。
【００４６】反応チャンバは、プラズマ化学気相成長法
（ＰＥＣＶＤ）またはプラズマ重合法のいずれかを実施
するのに適切なタイプでよい。さらに、この反応チャン
バは、チャンバ内で１つ、または複数の支持体が酸化物
層で同時に被覆されるように改良することができる。
（ＰＥＣＶＤ）またはプラズマ重合法のいずれかを実施
するのに適切なタイプでよい。さらに、この反応チャン
バは、チャンバ内で１つ、または複数の支持体が酸化物
層で同時に被覆されるように改良することができる。
【００４７】チャンバの圧力は、バルブ１９０によりチ
ャンバ１７０に連結された機械式ポンプ１８８によって
制御される。
ャンバ１７０に連結された機械式ポンプ１８８によって
制御される。
【００４８】被覆される支持体は、まずチャンバ１７０
内に装入されて、試料ホルダ１７２の内部または上に装
填される。チャンバの圧力を、機械式ポンプ１８８によ
って約５ｍＴｏｒｒに減少させる。チャンバの運転圧力
は、ＰＥＣＶＤまたはプラズマ重合法の場合、約５０ｍ
Ｔｏｒｒから約２００ｍＴｏｒｒであり、例えば有機ケ
イ素蒸気（ＨＭＤＳＯなど）と酸化剤（例えば酸素な
ど）の混合物を含むプロセスガスを、モノマー入口１７
６および酸化剤１７８を通してチャンバ内に流すことに
より実現する。
内に装入されて、試料ホルダ１７２の内部または上に装
填される。チャンバの圧力を、機械式ポンプ１８８によ
って約５ｍＴｏｒｒに減少させる。チャンバの運転圧力
は、ＰＥＣＶＤまたはプラズマ重合法の場合、約５０ｍ
Ｔｏｒｒから約２００ｍＴｏｒｒであり、例えば有機ケ
イ素蒸気（ＨＭＤＳＯなど）と酸化剤（例えば酸素な
ど）の混合物を含むプロセスガスを、モノマー入口１７
６および酸化剤１７８を通してチャンバ内に流すことに
より実現する。
【００４９】酸化物をベースとする被膜を所望の厚さに
堆積する。酸化物材料の厚さは約１００オングストロー
ム（Å）から約１００００Åである。厚さが約５００Å
未満では十分なバリアを提供することができず、厚さが
約５０００Åより厚いとクラックが発生する可能性があ
り、したがって有効なバリアが減少する。酸化物材料の
厚さは、約５００Åから約３０００Åが最も好ましい。
堆積する。酸化物材料の厚さは約１００オングストロー
ム（Å）から約１００００Åである。厚さが約５００Å
未満では十分なバリアを提供することができず、厚さが
約５０００Åより厚いとクラックが発生する可能性があ
り、したがって有効なバリアが減少する。酸化物材料の
厚さは、約５００Åから約３０００Åが最も好ましい。
【００５０】揮発した有機ケイ素成分は、チャンバ内に
流す前に酸素成分および不活性ガス成分と混ぜることが
好ましい。このように混ぜられたこれらのガスの量は、
ガス流成分の流量比が調整可能に制御されるように流量
制御器によって制御する。
流す前に酸素成分および不活性ガス成分と混ぜることが
好ましい。このように混ぜられたこれらのガスの量は、
ガス流成分の流量比が調整可能に制御されるように流量
制御器によって制御する。
【００５１】本発明の堆積方法は、比較的高出力でかつ
相当な低圧で実施することが好ましい。堆積中は、約５
００ミリトル（ｍＴｏｒｒ）未満の圧力が維持されるべ
きであり、チャンバは、被膜の堆積中は約４３ミリトル
から約４９０ミリトルの間の圧力であることが好まし
い。システム圧力が低いと堆積速度がより遅くなるのに
対し、システム圧力がより高いと堆積速度はより速くな
る。
相当な低圧で実施することが好ましい。堆積中は、約５
００ミリトル（ｍＴｏｒｒ）未満の圧力が維持されるべ
きであり、チャンバは、被膜の堆積中は約４３ミリトル
から約４９０ミリトルの間の圧力であることが好まし
い。システム圧力が低いと堆積速度がより遅くなるのに
対し、システム圧力がより高いと堆積速度はより速くな
る。
【００５２】プラズマ堆積方法でのガス流に有用な、適
切な有機ケイ素化合物の例は、ほぼ周囲温度で液体また
は気体であり、揮発するときには沸点が約０℃から約１
５０℃であって、ジメチルシラン、トリメチルシラン、
ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ヘ
キサメチルジシラン、１，１，２，２−テトラメチルジ
シラン、ビス（トリメチルシラン）メタン、ビス（ジメ
チルシリル）メタン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、エ
チルメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ジビ
ニルテトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシラザ
ン、ジビニルヘキサメチルトリシロキサン、トリビニル
ペンタメチルトリシロキサザン、テトラエトキシシラ
ン、およびテトラメトキシシランが含まれる。
切な有機ケイ素化合物の例は、ほぼ周囲温度で液体また
は気体であり、揮発するときには沸点が約０℃から約１
５０℃であって、ジメチルシラン、トリメチルシラン、
ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ヘ
キサメチルジシラン、１，１，２，２−テトラメチルジ
シラン、ビス（トリメチルシラン）メタン、ビス（ジメ
チルシリル）メタン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、エ
チルメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ジビ
ニルテトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシラザ
ン、ジビニルヘキサメチルトリシロキサン、トリビニル
ペンタメチルトリシロキサザン、テトラエトキシシラ
ン、およびテトラメトキシシランが含まれる。
【００５３】好ましい有機ケイ素には、１，１，３，３
−テトラメチルジシロキサン、トリメチルシラン、ヘキ
サメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、お
よびヘキサメチルジシラザンがある。これらの好ましい
有機ケイ素化合物は、沸点がそれぞれ７１℃、５５．５
℃、１０２℃、１２３℃、および１２７℃である。
−テトラメチルジシロキサン、トリメチルシラン、ヘキ
サメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、お
よびヘキサメチルジシラザンがある。これらの好ましい
有機ケイ素化合物は、沸点がそれぞれ７１℃、５５．５
℃、１０２℃、１２３℃、および１２７℃である。
【００５４】電源１７４からの無線周波（ＲＦ）電力発
生器は、電極の数および近接度に応じて周波数が約５Ｍ
Ｈｚから約２０ＭＨｚ、電極面積当たりの電力が約０．
０１ワット／ｃｍ2から約５ワット／ｃｍ2のプラズマを
発生させるために使用する。ＳｉＯXの堆積は、このよ
うに露出した支持体上に約２２ｎｍ／分から約１００ｎ
ｍ／分の速度で生じる。
生器は、電極の数および近接度に応じて周波数が約５Ｍ
Ｈｚから約２０ＭＨｚ、電極面積当たりの電力が約０．
０１ワット／ｃｍ2から約５ワット／ｃｍ2のプラズマを
発生させるために使用する。ＳｉＯXの堆積は、このよ
うに露出した支持体上に約２２ｎｍ／分から約１００ｎ
ｍ／分の速度で生じる。
【００５５】したがって以下の実施例で示すように、第
１の酸化ケイ素をベースとする被膜は、酸化ケイ素を堆
積させる温度パラメータ（ＴｓｉｏX）がＴｇより高い
ときは支持体の表面を完全に覆わない。堆積電力がある
臨界値を超えるとき、ポリマー支持体はポリマー鎖のセ
グメント移動が生じる温度にさらされる。この動きの結
果、支持体は軟化する可能性がある。したがって、支持
体は変形または軟化することがあり、それによって酸化
ケイ素に欠陥が形成され、巨視的欠陥を引き起こす。し
たがって以下の実施例で示すように、１３０Ｗよりも高
い堆積電力で付着した酸化ケイ素をベースとする被膜で
は、完全な被覆を実現することができない。
１の酸化ケイ素をベースとする被膜は、酸化ケイ素を堆
積させる温度パラメータ（ＴｓｉｏX）がＴｇより高い
ときは支持体の表面を完全に覆わない。堆積電力がある
臨界値を超えるとき、ポリマー支持体はポリマー鎖のセ
グメント移動が生じる温度にさらされる。この動きの結
果、支持体は軟化する可能性がある。したがって、支持
体は変形または軟化することがあり、それによって酸化
ケイ素に欠陥が形成され、巨視的欠陥を引き起こす。し
たがって以下の実施例で示すように、１３０Ｗよりも高
い堆積電力で付着した酸化ケイ素をベースとする被膜で
は、完全な被覆を実現することができない。
【００５６】しかし、緩衝層で前処理した支持体の場
合、前処理した支持体に酸化ケイ素をベースとする被膜
を高出力ＰＥＣＶＤ法によって付着させることができる
ように、緩衝層が支持体を完全に覆う。したがって緩衝
層は、Ｔｇより高い温度パラメータまたはＴｓｉｏX＞
Ｔｇでの変形または軟化から支持体を保護し、その結
果、酸化ケイ素被覆が巨視的欠陥のない支持体に高い電
力レベルで付着する。
合、前処理した支持体に酸化ケイ素をベースとする被膜
を高出力ＰＥＣＶＤ法によって付着させることができる
ように、緩衝層が支持体を完全に覆う。したがって緩衝
層は、Ｔｇより高い温度パラメータまたはＴｓｉｏX＞
Ｔｇでの変形または軟化から支持体を保護し、その結
果、酸化ケイ素被覆が巨視的欠陥のない支持体に高い電
力レベルで付着する。
【００５７】この開示により使用される酸化物材料また
はその配合物は、それから製造される物品の性質に悪影
響を及ぼさない従来の添加剤および成分を含有すること
ができる。
はその配合物は、それから製造される物品の性質に悪影
響を及ぼさない従来の添加剤および成分を含有すること
ができる。
【００５８】様々な支持体を、本発明の方法および材料
で被覆することができる。このような支持体には、包装
材料、容器、瓶、ジャー、管、および医療器具が含まれ
るが、これらに限定されない。
で被覆することができる。このような支持体には、包装
材料、容器、瓶、ジャー、管、および医療器具が含まれ
るが、これらに限定されない。
【００５９】
【実施例】高出力プラズマ化学気相成長法によってプラ
スチック支持体上にＳｉＯXを付着させる方法 Ｒａｄ−Ｃｕｒｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎの光重合開
始剤を含有するＲＡＤ−ＫＯＴＥ１１０ＨＳアクリルモ
ノマーの配合物中に支持体を浸漬することによって、Ｐ
ＥＴ管に緩衝層を付着させた。次いで、Ｆ３００／Ｆ３
０５紫外線ランプシステム（Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ
Ｌａｍｐ Ｓｙｓｔｅｍ）で、被覆を硬化した。
スチック支持体上にＳｉＯXを付着させる方法 Ｒａｄ−Ｃｕｒｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎの光重合開
始剤を含有するＲＡＤ−ＫＯＴＥ１１０ＨＳアクリルモ
ノマーの配合物中に支持体を浸漬することによって、Ｐ
ＥＴ管に緩衝層を付着させた。次いで、Ｆ３００／Ｆ３
０５紫外線ランプシステム（Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ
Ｌａｍｐ Ｓｙｓｔｅｍ）で、被覆を硬化した。
【００６０】緩衝層がないＰＥＴ管（対照）と緩衝層を
備えるＰＥＴ管を、真空チャンバ（図２に示す）内の電
極上に配置した。チャンバを排気して約５０ｍＴｏｒｒ
にした。次いでモノマーとしてのＨＭＤＳＯと、酸化剤
としての酸素をチャンバ内に送出した。次いで電源から
電極に電力を供給し、ＳｉＯXを管に付着させた。
備えるＰＥＴ管を、真空チャンバ（図２に示す）内の電
極上に配置した。チャンバを排気して約５０ｍＴｏｒｒ
にした。次いでモノマーとしてのＨＭＤＳＯと、酸化剤
としての酸素をチャンバ内に送出した。次いで電源から
電極に電力を供給し、ＳｉＯXを管に付着させた。
【００６１】この管にＳｉＯXを堆積させるために使用
するシステムパラメータを、表１に報告する。
するシステムパラメータを、表１に報告する。
【００６２】ＳｉＯX薄膜を堆積した後、チャンバを冷
却した。次いでチャンバを開き、管を取り出した。結果
を表１および図３に報告する。
却した。次いでチャンバを開き、管を取り出した。結果
を表１および図３に報告する。
【００６３】表１および図３の結果によれば、ＳｉＯX
のみで被覆されたＰＥＴ管は１４０ワットの電力レベル
で霜状化し始めるが、緩衝層、次いでＳｉＯXで被覆さ
れたＰＥＴ管は１４０ワット以上の電力レベルで霜状化
しないことが示されている。
のみで被覆されたＰＥＴ管は１４０ワットの電力レベル
で霜状化し始めるが、緩衝層、次いでＳｉＯXで被覆さ
れたＰＥＴ管は１４０ワット以上の電力レベルで霜状化
しないことが示されている。
【００６４】
【発明の効果】本発明によれば、プラスチック支持体に
損傷を与えてその結果被履に欠陥を生じさせるというこ
となく、巨視的欠陥が無いプラスチック支持体に高エネ
ルギーレベルで無機被履を堆積できるという格別の作用
効果が得られる。
損傷を与えてその結果被履に欠陥を生じさせるというこ
となく、巨視的欠陥が無いプラスチック支持体に高エネ
ルギーレベルで無機被履を堆積できるという格別の作用
効果が得られる。
【図１】フラッシュ蒸発器装置の部分拡大断面図を示す
一般的な概略図である。
一般的な概略図である。
【図２】プラズマ化学気相成長用装置を示す図である。
１７０ 反応チャンバ １７１ 管 １７２ 試料ホルダ １７３ ガス供給システム １７４ 電源 １７６ モノマー入口 １７８ 酸化剤入口 １８８ ポンプ １９０ バルブ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１１年１２月９日（１９９９．１２．
９）
９）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の名称】 バリア被覆および高出力プラズマ化学
気相成長法によってプラスチック物体上にバリア被覆を
堆積する方法
気相成長法によってプラスチック物体上にバリア被覆を
堆積する方法
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 595117091 １ ＢＥＣＴＯＮ ＤＲＩＶＥ， ＦＲＡ ＮＫＬＩＮ ＬＡＫＥＳ， ＮＥＷ ＪＥ ＲＳＥＹ 07417−1880， ＵＮＩＴＥＤ ＳＴＡＴＥＳ ＯＦ ＡＭＥＲＩＣＡ (72)発明者 マノー ダルヴィー アメリカ合衆国 95014 カリフォルニア 州 カパーティノ ボニー ドライブ 1028 (72)発明者 エレナ ジー． トロップシャ アメリカ合衆国 27514 ノース カロラ イナ州 チャペル ヒル セラーノ ウェ イ 113 (72)発明者 ルイス ピー． ウェインライト アメリカ合衆国 27707 ノースカロライ ナ州 ダーラム ユニヴァーシティ ドラ イブ 3611 アパートメント ４−エフ (72)発明者 ジェーン シー． グラパー アメリカ合衆国 27707 ノース カロラ イナ州 ダーラム ウィンスロップ コー ト 19
Claims (10)
- 【請求項１】 上面および底面と、 支持体の前記上面の上に結合された緩衝層と、 プラズマ化学気相成長法によって１３０Ｗより大きい電
力レベルで付着した、前記緩衝層の上に結合された無機
被覆とを含むことを特徴とするプラスチック支持体。 - 【請求項２】 前記緩衝層の材料が有機材料であること
を特徴とする請求項１に記載の支持体。 - 【請求項３】 前記有機材料が架橋アクリレートである
ことを特徴とする請求項２に記載の支持体。 - 【請求項４】 前記無機被覆が酸化ケイ素または酸化ア
ルミニウムであることを特徴とする請求項１に記載の支
持体。 - 【請求項５】 前記無機被覆が酸化ケイ素であることを
特徴とする請求項４に記載の支持体。 - 【請求項６】 前記緩衝層が、 （ａ）（ｉ）多官能性アクリレート、または（ｉｉ）モ
ノアクリレートと多官能性アクリレートの混合物を含
む、硬化可能な成分を選択する段階と、 （ｂ）前記成分を前記支持体上にフラッシュ蒸発させる
段階と、 （ｃ）被膜または蒸発した成分を前記支持体上に凝縮さ
せる段階とを含んで前記プラスチック支持体上に堆積さ
れることを特徴とする請求項１に記載の支持体。 - 【請求項７】 前記無機被覆が、 （ａ）真空気密チャンバと、前記チャンバにモノマーを
送出する手段と、前記チャンバに無線周波電力を加える
手段と、前記チャンバに酸化剤ガスを送出する手段と、
前記チャンバ内に真空を創り出して維持する手段と、電
極とを有する支持体に無機被覆を付着させることが可能
な装置を準備する段階と、 （ｂ）前記チャンバ内に前記支持体を配置する段階と、 （ｃ）前記チャンバを５ｍＴｏｒｒ未満に排気する段階
と、 （ｄ）前記チャンバにモノマーガスを送出する段階と、 （ｅ）前記チャンバに酸化剤を送出する段階と、 （ｆ）前記電極に無線周波数を送る段階と、 （ｇ）前記支持体上に無機被覆を堆積する段階とを含む
プラズマ化学気相成長法によって、前記緩衝層上に堆積
されることを特徴とする請求項１に記載の支持体。 - 【請求項８】 前記モノマーガスが、約０．１ｓｃｃｍ
から約１００ｓｃｃｍで前記チャンバに送出されること
を特徴とする請求項７に記載の支持体。 - 【請求項９】 前記モノマーガスが、ヘキサメチレンジ
シロキサン（ＨＭＤＳＯ）またはトリメチルジシロキサ
ン（ＴＭＳＯ）であることを特徴とする請求項７に記載
の支持体。 - 【請求項１０】 前記酸化剤ガスが、約２ｓｃｃｍから
約２００ｓｃｃｍで前記チャンバに送出されることを特
徴とする請求項７に記載の支持体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US16410098A | 1998-09-30 | 1998-09-30 | |
| US09/164,100 | 1998-09-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000127290A true JP2000127290A (ja) | 2000-05-09 |
Family
ID=22592983
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11277468A Pending JP2000127290A (ja) | 1998-09-30 | 1999-09-29 | バリア被覆および高出力プラズマ化学気相成長法によってプラスチック物体上にバリア被覆を堆積する方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0992610A3 (ja) |
| JP (1) | JP2000127290A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008132766A (ja) * | 2006-10-14 | 2008-06-12 | Schott Ag | プラスチック容器用のｐｉｃｖｄ被覆 |
| JP2009067049A (ja) * | 2007-08-22 | 2009-04-02 | Hitachi Chem Co Ltd | 透明樹脂積層体とその製造方法 |
| JP2009291950A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-17 | Fujifilm Corp | 積層体及びそのバルクロール、並びに積層体の製造装置 |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2002316959A1 (en) * | 2001-06-09 | 2002-12-23 | Markus Seibel | Method for stabilizing permeation restricting layers on plastic parts |
| DE102004038396A1 (de) * | 2004-08-06 | 2006-03-30 | Lothar Sellin | Vorrichtung zur Beschichtung von Medizinprodukten |
| US7985188B2 (en) | 2009-05-13 | 2011-07-26 | Cv Holdings Llc | Vessel, coating, inspection and processing apparatus |
| MX345403B (es) | 2009-05-13 | 2017-01-30 | Sio2 Medical Products Inc | Revestimiento por pecvd utilizando un precursor organosilícico. |
| US9458536B2 (en) | 2009-07-02 | 2016-10-04 | Sio2 Medical Products, Inc. | PECVD coating methods for capped syringes, cartridges and other articles |
| US11624115B2 (en) | 2010-05-12 | 2023-04-11 | Sio2 Medical Products, Inc. | Syringe with PECVD lubrication |
| US9878101B2 (en) | 2010-11-12 | 2018-01-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods |
| US9272095B2 (en) | 2011-04-01 | 2016-03-01 | Sio2 Medical Products, Inc. | Vessels, contact surfaces, and coating and inspection apparatus and methods |
| US11116695B2 (en) | 2011-11-11 | 2021-09-14 | Sio2 Medical Products, Inc. | Blood sample collection tube |
| EP2776603B1 (en) | 2011-11-11 | 2019-03-06 | SiO2 Medical Products, Inc. | PASSIVATION, pH PROTECTIVE OR LUBRICITY COATING FOR PHARMACEUTICAL PACKAGE, COATING PROCESS AND APPARATUS |
| CA2887352A1 (en) | 2012-05-09 | 2013-11-14 | Sio2 Medical Products, Inc. | Saccharide protective coating for pharmaceutical package |
| EP2914762B1 (en) | 2012-11-01 | 2020-05-13 | SiO2 Medical Products, Inc. | Coating inspection method |
| US9903782B2 (en) | 2012-11-16 | 2018-02-27 | Sio2 Medical Products, Inc. | Method and apparatus for detecting rapid barrier coating integrity characteristics |
| US9764093B2 (en) | 2012-11-30 | 2017-09-19 | Sio2 Medical Products, Inc. | Controlling the uniformity of PECVD deposition |
| WO2014085348A2 (en) | 2012-11-30 | 2014-06-05 | Sio2 Medical Products, Inc. | Controlling the uniformity of pecvd deposition on medical syringes, cartridges, and the like |
| US9662450B2 (en) | 2013-03-01 | 2017-05-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Plasma or CVD pre-treatment for lubricated pharmaceutical package, coating process and apparatus |
| US9937099B2 (en) | 2013-03-11 | 2018-04-10 | Sio2 Medical Products, Inc. | Trilayer coated pharmaceutical packaging with low oxygen transmission rate |
| KR102472240B1 (ko) | 2013-03-11 | 2022-11-30 | 에스아이오2 메디컬 프로덕츠, 인크. | 코팅된 패키징 |
| WO2014144926A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Sio2 Medical Products, Inc. | Coating method |
| US11066745B2 (en) | 2014-03-28 | 2021-07-20 | Sio2 Medical Products, Inc. | Antistatic coatings for plastic vessels |
| US11077233B2 (en) | 2015-08-18 | 2021-08-03 | Sio2 Medical Products, Inc. | Pharmaceutical and other packaging with low oxygen transmission rate |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1159012A (en) * | 1980-05-02 | 1983-12-20 | Seitaro Matsuo | Plasma deposition apparatus |
| US4737379A (en) * | 1982-09-24 | 1988-04-12 | Energy Conversion Devices, Inc. | Plasma deposited coatings, and low temperature plasma method of making same |
| US4842941A (en) * | 1987-04-06 | 1989-06-27 | General Electric Company | Method for forming abrasion-resistant polycarbonate articles, and articles of manufacture produced thereby |
| TW434301B (en) * | 1996-01-30 | 2001-05-16 | Becton Dickinson Co | Non-ideal barrier coating composition comprising organic and inorganic materials |
-
1999
- 1999-09-29 JP JP11277468A patent/JP2000127290A/ja active Pending
- 1999-09-29 EP EP99119338A patent/EP0992610A3/en not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008132766A (ja) * | 2006-10-14 | 2008-06-12 | Schott Ag | プラスチック容器用のｐｉｃｖｄ被覆 |
| JP2009067049A (ja) * | 2007-08-22 | 2009-04-02 | Hitachi Chem Co Ltd | 透明樹脂積層体とその製造方法 |
| JP2009291950A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-17 | Fujifilm Corp | 積層体及びそのバルクロール、並びに積層体の製造装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0992610A2 (en) | 2000-04-12 |
| EP0992610A3 (en) | 2003-10-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2000127290A (ja) | バリア被覆および高出力プラズマ化学気相成長法によってプラスチック物体上にバリア被覆を堆積する方法 | |
| JP3224349B2 (ja) | 採血管アセンブリ | |
| US5545375A (en) | Blood collection tube assembly | |
| JP3226820B2 (ja) | 採血管アセンブリ | |
| US5952069A (en) | Blood collection tube assembly | |
| US5665280A (en) | Blood collection tube assembly | |
| US5968620A (en) | Blood collection tube assembly | |
| EP0787824B1 (en) | Container with a non-ideal barrier coating sequence composition | |
| CA2277679C (en) | Blood collection tube assembly | |
| JP2000109581A (ja) | バリア被覆および高出力プラズマ化学気相成長法によってプラスチック物体上にバリア被覆を堆積する方法 | |
| JP2781777B2 (ja) | 血液採集用試験管アセンブリー | |
| AU709857B2 (en) | Blood collection tube assembly | |
| CN1160534A (zh) | 血液采集管组件 | |
| MXPA97000636A (en) | Pipe assembly for san collection | |
| MXPA97000684A (en) | Pipe assembly for san collection | |
| MXPA97000639A (en) | Pipe assembly for san collection | |
| MXPA97000640A (en) | Pipe assembly for san collection |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060925 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060925 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090625 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090630 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20090929 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20091002 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091225 |