JP2000124709A - マイクロ波可変減衰回路 - Google Patents
マイクロ波可変減衰回路Info
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Abstract
いて、可変抵抗素子の寄生容量による通過損の増大と可
変減衰量の低下を防止し、良好な伝送特性を有するマイ
クロ波可変減衰回路を提供することにある。 【解決手段】第1の方向性結合器10の通過端子13と
第2の方向性結合器20の結合端子24との間、及び第
1の方向性結合器10の結合端子14と第2の方向性結
合器20の通過端子23との間には、それぞれ少なくと
も2つ以上のインダクタ70a〜7na、70b〜7n
b(nは任意の自然数)を直列接続し、各インダクタ同
士の接続点にはFET301a〜30na、301b〜
30nbのドレイン電極が接続されている。FET30
1a〜30na、301b〜30nbのソース電極はす
べて接地され、ゲート電極はそれぞれ抵抗161a〜1
6na、161b〜16nbを介して制御端子41に接
続されたマイクロ波可変減衰回路を構成している。
Description
通信装置等に用いられる可変減衰回路に関する。
を利用して、機器の電力利得や出力電力レベルなどの高
周波特性を制御することが行われている。滅衰回路とし
てはT字型もしくはI字型に接続した可変抵抗網を構成
し、可変抵抗素子としてダイオードもしくは電界効果ト
ランジスタなどが使用されている。しかしながら、この
回路構成を用いた場合、所望の滅衰量とインピーダンス
を実現するためには、直列に接続された可変抵抗素子と
並列に接続された可変抵抗素子のそれぞれの抵抗値を減
衰量に応じて一意に決まる値に設定する必要があり、可
変抵抗素子の抵抗値を設定するための制御回路が複雑と
なってしまう。
向性結合器を利用した構成がマイクロ波帯の回路として
多く利用されている。図12に示した回路について説明
すると、図示した回路は第1の方向性結合器10の通過
端子13及び結合端子14をそれぞれ第2の方向性結合
器20の結合端子24及び通過端子23に接続し、通過
端子13と結合端子24及び結合端子14と通過端子2
3の間にそれぞれ電界効果トランジスタ(以下FETと
略す)30a、30bを並列に接続し、方向性結合器1
0の入力端子11を信号入力とし、方向性結含器20の
入力端子21を信号出力とし、かつそれぞれの方向性結
合器10、20のアイソレーション端子12、22はそ
れぞれ終端抵抗15、25により終端する構成となって
いる。信号入力11より入力された信号は方向性結合器
10により通過端子13およぴ結合端子14に分配され
る。分配された信号はFET30a、30bの並列回路
を通過した後、それぞれ方向性結合器20の結合端子2
4及び通過端子23に入力され合成されて信号出力21
より出力される。このときFET30a、30bはドレ
イン・ソース間電圧0[V]として、ゲートバイアスによ
り可変抵抗素子として利用される。方向性結合器の特性
インピーダンス(例えば、50[Ω])に対してFET30
a、30bの抵抗値を変化させることで、FET30
a、30bにより吸収される電力を変化させて通過損を
制御し、可変減衰機能を実現している。
とのFETのインピーダンスとの不整合により生じた反
射電力は、アイソレーション端子12に接続した終端抵
抗15に吸収されるため、入力端子11には戻らず整合
状態を実現することができる。
合器10とFET30a、30bとのインピーダンスの
不整合を利用して、反射された信号を合成しアイソレー
ション端子12から出力させ、FET30a、30bの
インピーダンスを変化させて反射量を制御することによ
り可変減衰機能を実現している。
滅衰回路では、並列に接続したFETのゲートバイアス
のみを制御電圧として動作し、かつ方向性結合器の性質
を利用して整合状態を実現している。
路では、所望の減衰量を得るために方向性結合器の特性
インピーダンスとFETなどの可変抵抗素子の抵抗値を
変化させている。しかしながら、周波数が高くなるにつ
れてFETの寄生容量や寄生インダクタンスの影讐によ
るリアクタンス成分のインピーダンスが大きくなるた
め、ゲートバイアスを変化させても十分にFETのイン
ピーダンスを変化させられなくなってくる。図14にF
ETの寄生容量を考慮した場合の可変減衰器の通過特性
を示した。図14では図12の構成において、各FET
としてゲート長が0.3μmでゲート幅が300μmの高移
動度トランジスタ(以下HEMTと略す)を使用した場合に
ついて示した。また、方向性結合器としては25GHzを中
心周波数とする4フィンガーのLangeカップラとした。図
14を見て分かるように高周波領域では、通過損が大き
くなると共に可変範囲も著しく小さくなってしまうとい
う不都合が生じている。
の減衰回路はおいて、周波数が高くなるとFETの寄生
容量及び寄生インダクタンスによるリアクタンス成分の
インピーダンスが大きくなるため、FETのゲートバイ
アスの変化では、FET自体のインピーダンスを十分に
変化させられなくなってしまう。このため、高周波帯域
の通過損が大きくなり、可変範囲も著しく小さくなって
しまうといった問題があった。
ので,方向性結合器を利用してなる可変減衰回路におい
て、可変抵抗素子の寄生容量による通過損の増大と可変
減衰量の低下を防止し、良好な伝送特性を有するマイク
ロ波可変減衰回路を提供することを目的とする。
めに、本願発明は、第1及び第2の方向性結合器と、イ
ンダクタ素子を複数直列に接続し、前記インダクタ素子
の接続点に各電界効果トランジスタのドレイン端子を接
続し、前記電界効果トランジスタのソース端子を接地し
た第1及び第2の梯子型回路とからなり、前記第1の方
向性結合器の入力端子を信号入力端子、前記第2の方向
性結合器の入力端子を信号出力端子とし、前記第1及び
第2の方向性結合器のアイソレーション端子をそれぞれ
終端抵抗で接地し、前記第1の梯子型回路の両端を、前
記第1の方向性結合器の結合端子と前記第2の方向性結
合器の通過端子とに接続し、前記第2の梯子型回路の両
端を、前記第1の方向性結合器の通過端子と前記第2の
方向性結合器の結合端子とに接続し、前記第1及び第2
の梯子型回路の電界効果トランジスタのゲート端子を接
続して制御端子とすることを特徴としている。また、本
願発明は電界効果トランジスタの代わりにダイオードを
用いた場合も適用できる。この構成により、通過損が減
少すると共に減衰量の可変範囲も大きくすることがで
き、減衰器として使用できる周波数帯域が広くなる効果
がある。
成し、電界効果トランジスタまたはダイオードの接地を
共通化したスルーホールにより接地し、第1、第2の梯
子型回路を対称構造にした構成により、省スペース化及
び減衰器の特性が向上する効果がある。
に沿って説明する。図lに本発明による第lの実施の形態
を示す。図1に示した回路は、それぞれ第1の方向性結
合器10(例えば、3dB方向性結合器)の通過端子1
3と第2の方向性結合器20の結合端子24との間、及
び第1の方向性結合器10の結合端子14と第2の方向
性結合器20の通過端子23との間に、インダクタンス
の値が等しいインダクタ51a,52a及び51b,5
2bを直列接続し、この接続部にそれぞれ電界効果トラ
ンジスタ(以下FETとする)30a,30bのドレイ
ン電極31a,31bを接続し、ゲート電極33a,3
3bは抵抗16a、16bを介して制御端子41と接続
し、ソース電極32a,32bは接地している。また、
方向性結合器10の入力端子11を信号入力とし、方向
性結含器20の入力端子21を信号出力とし、かつそれ
ぞれの方向性結合器10、20のアイソレーション端子
12、22はそれぞれ終端抵抗15、25により終端す
る構成となっている。
の等価回路は、図2(b)に示した制御電圧VCにより
制御される可変抵抗器34と、寄生容量35(キャパシ
タンスC)との並列回路で表現することができる。本発
明では、方向性結合器10、20の特性インピーダンス
をZ0としたとき、以下の数1に示したような式を満足
するように、インダクタ51、52(インダクタンス
L)の値を設定している。
力された信号は、方向性結合器10により通過端子13
及び結合端子14に分配され、分配された信号はインダ
クタ51、52を介してFET30の並列回路を通過し
た後、それぞれ方向性結合器20の結合端子24及び通
過端子23に入力され合成されて信号出力(入力端子2
1)より出力される。方向性結合器の特性インピーダン
スZ0に対してFET30は、制御端子41に印加され
る制御電圧の値によりFET30の抵抗値を変化させ、
FET30により吸収される電力を変化させて通過損を
制御し、可変減衰機能を実現している。
ピーダンスとFET30のインピーダンスとの不整合に
より生じた反射電力は、アイソレーション端子12に接
続した終端抵抗15に吸収されるため、入力端子11に
は戻らず整合状態を実現される。
インダクタンスの値Lは数1の式を満たしているので、
並列回路は方向性結合器10、20と同じ特性インピー
ダンスを持つ伝送線路と可変抵抗器で構成された回路に
みなすことができ、高周波領域でもFET30の寄生容
量35の影響によるインピーダンスを小さくできるた
め、図3に示したように通過損が減少すると共に減衰量
の可変範囲も大きくすることができ、減衰器として使用
できる周波数帯域が広くなる。
4に示す。図1と同じ部分は同符号で表し、説明は省略
する。方向性結合器10の通過端子13と結合端子14
それぞれ両方に、インダクタ51a、52a及び51
b、52bを直列接続した直列回路の一端を接続し、そ
の他端は終端抵抗17a、17bがそれぞれ接続されて
いる。この2つのインダクタ51、52のインダクタン
ス値は等しく、その接続部にはそれぞれFET30のド
レイン電極31と接続され、ソース電極32は接地され
ている。FET30のゲート電極32にはそれぞれのF
ET30の抵抗値を制御する制御端子41が、抵抗16
a、16bを介して接続されており、制御端子41に印
加される印加電圧の増減により制御される。よって、方
向性結合器10とFET30とのインピーダンスの不整
合を利用して、反射されたアイソレーション端子12か
ら信号を出力させ、FET30のインピーダンスを変化
させて反射量を制御することで可変減衰が実現される。
態において説明したのと同様に、この第2の実施の形態
でもインダクタ51、52が前述の数1の式を満足した
構成なので、高周波領域においても反射信号の通過損が
減少すると共に、減衰量の可変範囲を大きくすることが
でき、減衰器として使用できる周波数帯域が広くなる。
用した場合について説明した。しかし、ダイオードを利
用した場合についても本発明は適用できるので、FET
の代わりにダイオードを用いた第3、第4の実施の形態
について、図5、図6を用いて説明する。図1、図4と
重複する構成については同符号で表し、説明を省略す
る。前述した図1、図4のFET30の部分には、イン
ダクタ51、52との接続点にダイオード60a,60
bの一端とダイオード60の抵抗値を制御するためのチ
ョーク61a,61bが接続され、更にダイオード60
の他端は接地されるように接続された構成となってい
る。
する電圧の増減により、ダイオード60の抵抗値を可変
に制御できるため、この場合もダイオード60の接合容
量(キャパシタンスCp)は以下の数2の式を満足する
ようにインダクタ51、52のインダクタンスLの値が
設定されているので、高周波領域においても通過損が減
少すると共に、減衰量の可変範囲を大きくでき、周波数
帯域が広くとれる効果がある。
用いて説明する。この回路は、第1の方向性結合器の通
過端子13と第2の方向性結合器の結合端子24との
間、及び第1の方向性結合器の結合端子14と第2の方
向性結合器の通過端子23との間には、それぞれ少なく
とも2つ以上のインダクタ70a〜7na、70b〜7
nb(nは任意の自然数)を直列接続し、各インダクタ
同士の接続点にはFET301a〜30na、301b
〜30nbのドレイン電極が接続されている。FET3
01a〜30na、301b〜30nbのソース電極は
すべて接地され、ゲート電極はそれぞれ抵抗161a〜
16na、161b〜16nbを介して制御端子41に
接続される。インダクタ70a〜7na、70b〜7n
bは、各FETの寄生容量をCとした場合、前述と同様
に数1の式を満たすように通過端子13、23及び結合
端子14、24と接続されるインダクタ70a、7n
a、70b、7nbのインダクタンスをLとし、その他
のインダクタンスを2Lに設定する。
基板上に形成したMMIC(Monolithic Microwave
Integrated Circuit)の構成を図8に示す。図8
では、FETの数をn=3とした場合を示した。ここで
は、FET301aとFET301b、302aと30
2b及び303aと303bはそれぞれ共通のスルーホ
ール81〜83にソース電極を接続し接地し、スルーホ
ール81〜83を通る線分A−A’を中心線としてa側
とb側で線対称の構造になっている。
減少すると共に、減衰量の可変範囲を大きくできる。更
にMMIC化した構成から、接地するスルーホールを共
通化して数量が減らせるため省スペース化ができ、上述
の通り対称性が取れる配置のため、減衰器全体の特性が
向上する。また、FETを複数個用いているため、それ
ぞれのFETを小さく設定できることから、寄生容量、
挿入するインダクタを小さくなる。そのため回路全体と
して最小挿入損が更に小さくとれるようになり、減衰量
の可変範囲を大きくすることができる。
明する。図7と同じ部分は同符号で表し、説明は省略す
る。方向性結合器10の結合端子14及び通過端子13
にそれぞれ、インダクタ70〜7nが直列接続され、そ
の接続点にそれぞれFETのドレイン電極が接続する。
FETのゲート電極はすべて抵抗161a〜16na、
161b〜16nbを介して制御端子41に接続され、
インダクタの最終端7na、7nbには終端抵抗16
a、16bが接続されている。このとき、方向性結合器
10とFET301a〜30na、301b〜30nb
とのインピーダンスの不整合を利用して、反射された信
号をアイソレーション端子12から出力させ、FET3
01a〜30na、301b〜30nbのインピーダン
スを変化させて反射量を制御することで可変減衰が実現
される。また、この実施の形態は図8と同様にMMIC
で構成した場合も、終端抵抗17a、17bの接地端の
スルーホールを共通化した構成となり、a側とb側で対
称構造となる。
通過損が減少すると共に、減衰量の可変範囲を大きくで
きる。更にMMIC化した構成から、接地するスルーホ
ールを共通化して数量が減らせるため省スペース化がで
き、上述の通り対称性が取れる配置のため、減衰器全体
の特性が向上する。また、FETを複数個用いているた
め、それぞれのFETを小さく設定できることから、寄
生容量、挿入するインダクタを小さくなる。そのため回
路全体として最小挿入損が更に小さくとれるようにな
り、減衰量の可変範囲を大きくすることができる。
図11を用いて説明する。図7及び図9に示した第5、第
6の実施の形態で用いたFETの代わりにダイオード6
01a〜60na、601b〜60nbを用いた構成で
あり、ダイオードの一端に接続されたチョーク61a〜
6na、61b〜6nbから制御電圧を増減すること
で、ダイオードの抵抗値を制御する構成をとっている。
の形態と同様に、高周波領域での通過損が減少すると共
に、減衰量の可変範囲を大きくできる。更にMMIC化
した構成から、接地するスルーホールを共通化して数量
が減らせるため省スペース化ができ、上述の通り対称性
が取れる配置のため、減衰器全体の特性が向上する。ま
た、ダイオードを複数個用いているため、それぞれのダ
イオードを小さく設定できることから、寄生容量、挿入
するインダクタを小さくなる。そのため回路全体として
最小挿入損が更に小さくとれるようになり、減衰量の可
変範囲を大きくすることができる。
波領域での通過損が減少すると共に、減衰量の可変領域
を大きくできる。また、本発明による回路構成はひ化ガ
リウムなどの半絶縁性半導体基版上に形成したモノリシ
ックマイクロ波集積回路構成で実現する場合に特に有効
で、かつ容易に実現することができるため、対称性が取
れる配置となり減衰器全体の特性が向上する。
を示す回路図。
を示す回路図。
を示す回路図。
を示す回路図。
を示す回路図。
を示す平面図。
を示す回路図。
態を示す回路図。
態を示す回路図。
方向性結合器 11,21……………………………………………………
入力端子 12,22……………………………………………………
アイソレーション端子 13,23……………………………………………………
通過端子 14,24……………………………………………………
結合端子 15,25,17a,17b………………………………
終端抵抗 16a,16b………………………………………………
抵抗30 ,30a,30b………………………………………
FET 31a,31b………………………………………………
ドレイン電極 32a,32b………………………………………………
ソース電極 33a,33b………………………………………………
ゲート電極 34……………………………………………………………
可変抵抗 35……………………………………………………………
寄生容量 41……………………………………………………………
制御端子 51a,51b,52a,52b…………………………
インダクタ 60a,60b………………………………………………
ダイオード 61a,b〜6na,b……………………………………
チョーク 70a,b〜7na,b……………………………………
インダクタ 81〜83……………………………………………………
スルーホール 161a,b〜16na,b………………………………
抵抗301a ,b〜30na,b………………………………
FET 601a,b〜60na,b………………………………
ダイオード
Claims (12)
- 【請求項1】第1の方向性結合器と、第2方向性結合器
と、インダクタ素子を複数直列に接続し、前記インダク
タ素子の接続点に各電界効果トランジスタのドレイン端
子を接続し、前記電界効果トランジスタのソース端子を
接地した第1及び第2の梯子型回路とを具備し、前記第
1の方向性結合器の入力端子を信号入力端子、前記第2
の方向性結合器の入力端子を信号出力端子とし、前記第
1及び第2の方向性結合器のアイソレーション端子をそ
れぞれ終端抵抗で接地し、前記第1の梯子型回路の両端
を、前記第1の方向性結合器の結合端子と前記第2の方
向性結合器の通過端子とに接続し、前記第2の梯子型回
路の両端を、前記第1の方向性結合器の通過端子と前記
第2の方向性結合器の結合端子とに接続し、前記第1及
び第2の梯子型回路の電界効果トランジスタのゲート端
子を接続して制御端子とすることを特徴としたマイクロ
波可変減衰回路。 - 【請求項2】第1の方向性結合器と、インダクタ素子を
複数直列に接続し、前記インダクタ素子の接続点に各電
界効果トランジスタのドレイン端子を接続し、前記電界
効果トランジスタのソース端子を接地した第1及び第2
の梯子型回路とを具備し、前記第1の方向性結合器の入
力端子を信号入力端子、アイソレーション端子を信号出
力端子とし、前記第1の梯子型回路の一端を前記第1の
方向性結合器の結合端子と接続し、他端を終端抵抗で接
地し、前記第2の梯子型回路の一端を前記第1の方向性
結合器の通過端子と接続し、他端を終端抵抗で接地し、
前記第1及び第2の梯子型回路の電界効果トランジスタ
のゲート端子を接続して制御端子とすることを特徴とし
たマイクロ波可変減衰回路。 - 【請求項3】第1の方向性結合器と、第2方向性結合器
と、インダクタ素子を複数直列に接続し、前記インダク
タ素子の接続点に各ダイオードの一端とチョークの一端
とを接続し、前記ダイオードの他端を接地した第1及び
第2の梯子型回路とを具備し、前記第1の方向性結合器
の入力端子を信号入力端子、前記第2の方向性結合器の
入力端子を信号出力端子とし、前記第1及び第2の方向
性結合器のアイソレーション端子をそれぞれ終端抵抗で
接地し、前記第1の梯子型回路の両端を、前記第1の方
向性結合器の結合端子と前記第2の方向性結合器の通過
端子とに接続し、前記第2の梯子型回路の両端を、前記
第1の方向性結合器の通過端子と前記第2の方向性結合
器の結合端子とに接続し、前記第1及び第2の梯子型回
路のチョークの他端を接続して制御端子とすることを特
徴としたマイクロ波可変減衰回路。 - 【請求項4】第1の方向性結合器と、インダクタ素子を
複数直列に接続し、前記インダクタ素子の接続点に各ダ
イオードの一端とチョークの一端とを接続し、前記ダイ
オードの他端を接地した第1及び第2の梯子型回路とを
具備し、前記第1の方向性結合器の入力端子を信号入力
端子、アイソレーション端子を信号出力端子とし、前記
第1の梯子型回路の一端を前記第1の方向性結合器の結
合端子と接続し、他端を終端抵抗で接地し、前記第2の
梯子型回路の一端を前記第1の方向性結合器の通過端子
と接続し、他端を終端抵抗で接地し、前記第1及び第2
の梯子型回路のチョークの他端を接続して制御端子とす
ることを特徴としたマイクロ波可変減衰回路。 - 【請求項5】第1及び第2の梯子型回路は、それぞれ電
界効果トランジスタを1個、同じインダクタンス値Lの
インダクタ端子を2個から構成されることを特徴とする
請求項1または請求項2記載のマイクロ波可変減衰回
路。 - 【請求項6】第1及び第2の梯子型回路は、それぞれダ
イオードを1個、同じインダクタンス値Lのインダクタ
端子を2個から構成されることを特徴とする請求項3ま
たは請求項4記載のマイクロ波可変減衰回路。 - 【請求項7】第1及び第2の梯子型回路のインダクタ端
子は、両端のインダクタ端子のインダクタンス値をLと
し、内側のインダクタのインダクタンス値を2Lとした
ことを特徴とする請求項1乃至請求項4記載のマイクロ
波可変減衰回路。 - 【請求項8】電界効果トランジスタの寄生容量をC、方
向性結合器の特性インピーダンスをZ0としたとき、Z
0 2=2L/Cを満足するようにしたことを特徴とする
請求項5または請求項7記載のマイクロ波可変減衰回
路。 - 【請求項9】ダイオードの接合容量をCp、方向性結合
器の特性インピーダンスをZ0としたとき、Z0 2=2
L/Cpを満足するようにしたことを特徴とする請求項
6または請求項7記載のマイクロ波可変減衰回路。 - 【請求項10】半導体基板上に一体形成してモノリシッ
クマイクロ波集積回路を構成したことを特徴とする請求
項1乃至請求項9記載のマイクロ波可変減衰回路。 - 【請求項11】第1の梯子型回路と、第2の梯子型回路
を対称構造となるように構成したことを特徴とする請求
項10記載のマイクロ波可変減衰回路。 - 【請求項12】第1の梯子型回路の電界効果トランジス
タのソース端子と第2の梯子型回路の電界効果トランジ
スタのソース端子とを共通化したスルーホールにより接
地することを特徴とする請求項10または請求項11記
載のマイクロ波可変減衰回路。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29643598A JP3350457B2 (ja) | 1998-10-19 | 1998-10-19 | マイクロ波可変減衰回路 |
US09/418,020 US6448866B1 (en) | 1998-10-19 | 1999-10-14 | Microwave semiconductor variable attenuation circuit |
EP99120027A EP1001480B1 (en) | 1998-10-19 | 1999-10-18 | Microwave semiconductor variable attenuation circuit |
DE69932908T DE69932908T2 (de) | 1998-10-19 | 1999-10-18 | Einstellbare Halbleiterdämpfungsschaltung für Mikrowellen |
US10/237,051 US20030062968A1 (en) | 1998-10-19 | 2002-09-09 | Microwave semiconductor variable attenuation circuit |
Applications Claiming Priority (1)
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