JP2000124279A - Semiconductor device applicable to wafer burn-in - Google Patents
Semiconductor device applicable to wafer burn-inInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
工程で行われる製品試験の1つのバーンイン試験におい
て、ウエハ状態で試験実施が可能な機能を有する半導体
装置に関する。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a semiconductor device having a function of performing a test in a wafer state in one burn-in test of a product test performed in a semiconductor device manufacturing process.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、半導体装置を製造する最終工程
において、製造した製品の良否をチェックするための種
々の試験が行われる。2. Description of the Related Art Generally, in a final step of manufacturing a semiconductor device, various tests for checking the quality of manufactured products are performed.
【0003】そのうち、半導体装置の潜在的な欠陥や固
有の欠陥を見い出す試験として、スクリーニング試験の
一種であるバーンイン試験が実施されている。このバー
ンイン試験は、高温雰囲気の中で行われるエージング試
験であり、定格電圧若しくはそれ以上の電源電圧を印加
して各デバイスに一定電流若しくは、実動作に近い入力
信号を流して、温度及び電圧のストレスを与えて、潜在
的な欠陥を意図的に発生させて選別する試験である。[0003] Among them, a burn-in test, which is a kind of screening test, is performed as a test for finding potential defects or inherent defects of a semiconductor device. This burn-in test is an aging test performed in a high-temperature atmosphere. A constant current or an input signal close to actual operation is applied to each device by applying a power supply voltage of a rated voltage or higher, and the temperature and voltage are reduced. This is a test in which potential defects are intentionally generated by applying stress and selected.
【0004】従来は、ウエハをダイシングして個々にチ
ップ化した後、それぞれに試験を実施していたが、近年
では、図2に示すように、ウエハ上の各ICチップ11
内のボンディングパッド12に接続する試験用電源線1
3を通常の製造工程の中で形成する。そして電源電圧を
印加しバーンイン後、ボンディングパッド12に試験装
置のプローブを当てて、テストする事により、ウエハ単
位でバーンイン試験が実施できるようになった。Conventionally, a wafer has been diced into individual chips and then tested individually. In recent years, however, as shown in FIG.
Test power supply line 1 connected to bonding pad 12 inside
3 is formed in a normal manufacturing process. Then, after applying a power supply voltage and performing burn-in, a probe of a test apparatus is applied to the bonding pad 12 to perform a test, so that a burn-in test can be performed for each wafer.
【0005】例えば、特開平5−55327号公報に
は、複数のICチップが設けられたウエハに対し、ダイ
シンク(スクライブ)ラインを横切るようにバーンイン
用電源線を形成し、このバーンイン用電源線は、各IC
チップ(半導体装置)の入力側に接続している。このバ
ーンイン用電源線を経て、各々ICチップに作動電圧を
印加することにより、ウエハ単位で全てのICチップを
短時間に効率的にバーンイン試験することができる。For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-55327 discloses that a burn-in power supply line is formed on a wafer provided with a plurality of IC chips so as to cross a die sink (scribe) line. , Each IC
It is connected to the input side of a chip (semiconductor device). By applying an operating voltage to each of the IC chips via the burn-in power supply line, all the IC chips can be efficiently and efficiently subjected to the burn-in test for each wafer in a short time.
【0006】また、ICチップ毎入力側に抵抗体を設け
て、不良によりICチップが絶縁破壊を起こした場合に
短絡を防止し、他の正常なICチップへの影響を抑制し
ている。In addition, a resistor is provided on the input side of each IC chip to prevent a short circuit when an insulation failure occurs in the IC chip due to a defect, thereby suppressing the influence on other normal IC chips.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかし、ウエハ上の各
ICチップにバーンイン用電源線を形成した構成におい
て、バーンイン試験中にICチップの不良が発生した場
合、その不良のICチップに過電流が流れる恐れがあ
る。過電流が流れ、バーンイン試験装置の出力許容範囲
を超えて過負荷となると、装置自体が停止してしまい、
バーンイン試験が途中で中断されてしまう。However, in a configuration in which a burn-in power supply line is formed on each IC chip on a wafer, if an IC chip failure occurs during a burn-in test, an overcurrent is applied to the defective IC chip. There is a risk of flowing. If an overcurrent flows and the load exceeds the allowable output range of the burn-in test device, the device itself stops,
Burn-in test is interrupted on the way.
【0008】また前述した公報のように、ICチップ毎
に抵抗体を設けた構成であっても、ある程度は抵抗体に
より短絡による過電流を防止できるが、不具合が発生し
たICチップに試験を実施するために印加した電源が流
れ込むことにより、他の正常なICチップに印加される
べき電圧が低下して規定通りの試験が実施できない場合
がある。Further, as described in the above-mentioned publication, even with a configuration in which a resistor is provided for each IC chip, an overcurrent due to a short circuit can be prevented to some extent by the resistor, but a test is performed on the IC chip in which a defect has occurred. As a result, the voltage to be applied to other normal IC chips may be reduced due to the flow of the applied power, and the prescribed test may not be performed.
【0009】また、抵抗体を各ICチップの入力側に設
けると、本来では不必要な電流消費が行われ、ウエハ全
体に形成されたICチップの多数であるため、印加する
電圧が高電圧となり、好ましくない。If a resistor is provided on the input side of each IC chip, unnecessary current consumption is originally performed, and since a large number of IC chips are formed on the entire wafer, the applied voltage becomes high. Is not preferred.
【0010】そこで本発明は、ウエハ上に形成された複
数のICチップに対するバーンイン試験の際に、不良が
発生したICチップに印加される試験用電源や信号を遮
断して、正常なICチップへのバーンイン試験を設定通
りに実施することができるウエハバーンインに対応した
半導体装置を提供することを目的とする。Therefore, according to the present invention, during a burn-in test on a plurality of IC chips formed on a wafer, a test power supply or a signal applied to a defective IC chip is cut off, so that a normal IC chip can be restored. It is an object of the present invention to provide a semiconductor device compatible with wafer burn-in, which can perform the burn-in test as set.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、複数の回路素子で構成され、それぞれの間
にスクライブラインが設けられて半導体基板上に多数配
置されて形成された半導体装置において、前記スクライ
ブライン上に形成された試験用の電源線と、前記電源線
と接続して前記半導体装置内の入力側に形成され、ウエ
ハテスト時に試験装置の試験用端子が押し当てられるプ
ロービング用パッドと、前記半導体装置内に設けられ、
前記回路素子に通じるボンディングパッドと前記プロー
ビング用パッドとを接続する配線途中に設けられたヒュ
ーズとを備え、バーンイン試験中に不具合が発生して前
記半導体装置へ過電流が流れた際に、この過電流で前記
ヒューズが溶断して、前記電源線から印加される試験用
電流を遮断する半導体装置を提供する。According to the present invention, there is provided a semiconductor device comprising a plurality of circuit elements, a scribe line provided therebetween, and a plurality of semiconductor elements formed on a semiconductor substrate. In the apparatus, a test power supply line formed on the scribe line, and probing connected to the power supply line and formed on an input side in the semiconductor device, to which a test terminal of a test apparatus is pressed during a wafer test. And a pad provided in the semiconductor device,
A fuse provided in the middle of wiring for connecting the bonding pad to the circuit element and the probing pad, and when a fault occurs during a burn-in test and an overcurrent flows to the semiconductor device, The present invention provides a semiconductor device that cuts off a test current applied from the power supply line by blowing the fuse with a current.
【0012】以上のような構成の半導体装置は、ICチ
ップへの電源線の途中にテストに用いるためのパッドと
ヒューズを設けており、バーンイン試験の途中で過電流
によりヒューズ5が溶断されたICチップ1は、プロー
ビング用バッド2と内部回路素子とは、電気的に遮断さ
れているため、正常な試験を行うことができず、不良品
として判定される。The semiconductor device having the above-described configuration is provided with a pad and a fuse for use in a test in the middle of the power supply line to the IC chip. Since the probing pad 2 and the internal circuit element are electrically disconnected from each other, the chip 1 cannot perform a normal test, and is determined to be defective.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態について詳細に説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【0014】図1には、本発明による実施形態に係るウ
エハ状態でバーンイン試験を実施可能な半導体装置の構
成を示し説明する。FIG. 1 shows a configuration of a semiconductor device capable of performing a burn-in test in a wafer state according to an embodiment of the present invention.
【0015】この半導体装置1は、複数の回路素子から
なり、シリコン等の半導体基板(ウエハ)上に多数配置
されて形成されており、ダイシングにより個々にチップ
化される。以降、本実施形態では、半導体装置をICチ
ップと称する。The semiconductor device 1 is composed of a plurality of circuit elements, is formed in a large number on a semiconductor substrate (wafer) made of silicon or the like, and is individually chipped by dicing. Hereinafter, in the present embodiment, the semiconductor device is referred to as an IC chip.
【0016】これらのICチップ1内には、入力側にプ
ロービング用パッド2が形成され、スクライブライン3
上に配線された試験用の電源線4に接続されている。こ
のプロービング用パッド2は、ウエハテスト時に試験装
置のプローブ等が押し当てられるパッドである。In these IC chips 1, probing pads 2 are formed on the input side, and scribe lines 3 are formed.
It is connected to the test power supply line 4 wired above. The probing pad 2 is a pad to which a probe or the like of a test device is pressed during a wafer test.
【0017】そして、プロービング用パッド2は、過電
流が流れると溶断される多結晶シリコンや金属等からな
るヒューズ5を有する配線6を介して、内部回路素子に
通じるボンディングパッド7に接続される。このヒュー
ズ5の溶断の目安は、例えばICチップ1における通常
の消費電流の5倍程度の電流が流れた際に溶断するもの
とする。勿論、ICチップの設計段階で最大電流量が厳
しく規定されている装置であれば、その値に準じた電流
により溶断されるように形成する。The probing pad 2 is connected to a bonding pad 7 connected to an internal circuit element via a wiring 6 having a fuse 5 made of polycrystalline silicon, metal or the like which is blown when an overcurrent flows. The standard of the blow of the fuse 5 is, for example, that the fuse 5 is blown when a current of about five times the normal current consumption in the IC chip 1 flows. Of course, if the maximum current amount is strictly defined in the design stage of the IC chip, the device is formed so as to be blown by a current according to the value.
【0018】このような構成の半導体装置をバーンイン
試験した際の作用について説明する。The operation of the semiconductor device having such a configuration when a burn-in test is performed will be described.
【0019】まず、従来と同様に、各ICチップに電源
が供給されたウエハを所定の高温雰囲気の内に入れて、
バーンイン試験を開始する。First, as in the conventional case, a wafer supplied with power to each IC chip is placed in a predetermined high-temperature atmosphere,
Start the burn-in test.
【0020】この試験中に、ICチップ1の中で不良品
が発生すると、電源線4からプロービング用パッド2を
通じてチップ内の回路素子に過電流が流れる。この過電
流が予め定めたヒューズ5の許容電流量を超えると、ヒ
ューズ5は溶断され、電源線4からICチップ1へ流れ
込む電流が遮断される。If a defective product occurs in the IC chip 1 during this test, an overcurrent flows from the power supply line 4 to the circuit element in the chip through the probing pad 2. When the overcurrent exceeds a predetermined allowable current amount of the fuse 5, the fuse 5 is blown and the current flowing from the power supply line 4 to the IC chip 1 is cut off.
【0021】従って、ヒューズ5の溶断により、電気的
に電源線4から遮断され、その不良のICチップ2のみ
バーンイン試験が中断される。Therefore, the blowout of the fuse 5 is electrically interrupted from the power supply line 4, and the burn-in test is interrupted only for the defective IC chip 2.
【0022】そして、バーンイン試験の後、さらに良品
選別のためにプローブカード等を使用しウエハテストを
実施する。このとき、ウエハテストの電圧印加には、各
ICチップ1のプロービング用パッド2を使用する。After the burn-in test, a wafer test is performed using a probe card or the like to further select good products. At this time, the probing pad 2 of each IC chip 1 is used for applying a voltage for the wafer test.
【0023】正常なICチップ1であれば、プロービン
グ用パッド2は、配線6及びヒューズ5を介して、内部
回路素子と接続しているため、正常なスクリーニング試
験の実施がされる。In the case of a normal IC chip 1, the probing pad 2 is connected to an internal circuit element via the wiring 6 and the fuse 5, so that a normal screening test is performed.
【0024】バーンイン試験の途中で過電流によりヒュ
ーズ5が溶断されたICチップ1は、プロービング用バ
ッド2と内部回路素子とは、電気的に遮断されているた
め、試験を行うことができず、不良品として判定され
る。In the IC chip 1 in which the fuse 5 has been blown due to an overcurrent during the burn-in test, the test cannot be performed because the probing pad 2 and the internal circuit element are electrically disconnected. It is determined as defective.
【0025】以上説明したように本実施形態によれば、
ICチップへの電源線の途中にテストに用いるためのパ
ッドとヒューズを設けたため、ウエハ状態でバーンイン
試験を各ICチップに対して実施すると、不具合により
不良品となったICチップのみに過電流が流れ込み、ヒ
ューズが溶断する。As described above, according to the present embodiment,
Since a pad and a fuse for use in the test are provided in the middle of the power supply line to the IC chip, when a burn-in test is performed on each IC chip in a wafer state, only an IC chip which has become defective due to a defect has an overcurrent. It flows and the fuse blows.
【0026】これにより、バーンイン試験装置の出力が
過負荷にならず、停止することが無くなり、また電源電
圧が降下することもなく、正常なICチップへのバーン
イン試験を設定通り実施される。As a result, the output of the burn-in test apparatus is not overloaded and does not stop, and the burn-in test for a normal IC chip is performed as set without any drop in the power supply voltage.
【0027】また、プロービング用バッドをテスト専用
に設けているため、ダイシングされてパッケージング工
程でフレームにマウントされ、配線接続される際に、ボ
ンディングされるパッドには、テスト用のプローブの接
触による損傷が無く、不良の発生を無くしている。Further, since the probing pad is provided exclusively for the test, when the dicing is performed, the mounting is performed on the frame in the packaging process, and the wiring is connected, the pad to be bonded is contacted with the test probe. No damage and no defects.
【0028】[0028]
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、ウ
エハ上に形成された複数のICチップに対するバーンイ
ン試験の際に、不良が発生したICチップに印加される
試験用電源や信号を遮断して、正常なICチップへのバ
ーンイン試験を設定通りに実施することができるウエハ
バーンインに対応した半導体装置を提供することができ
る。As described above in detail, according to the present invention, when a burn-in test is performed on a plurality of IC chips formed on a wafer, a test power supply and a signal applied to the defective IC chip are supplied. It is possible to provide a semiconductor device corresponding to wafer burn-in that can shut off and perform a burn-in test on a normal IC chip as set.
【図1】本発明による実施形態に係るウエハ状態でバー
ンイン試験を実施可能な半導体装置の構成を示す図であ
る。FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a semiconductor device capable of performing a burn-in test in a wafer state according to an embodiment of the present invention.
【図2】従来技術によるウエハ状態でバーンイン試験を
実施可能な半導体装置の構成を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a semiconductor device capable of performing a burn-in test in a wafer state according to a conventional technique.
1…ICチップ 2…プロービング用パッド 3…スクライブライン 4…電源線 5…ヒューズ 6…配線 7…ボンディングパッド 11…ICチップ 12…プロービング及び兼用パッド 13…電源線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... IC chip 2 ... Probing pad 3 ... Scribe line 4 ... Power supply line 5 ... Fuse 6 ... Wiring 7 ... Bonding pad 11 ... IC chip 12 ... Probing and shared pad 13 ... Power supply line
Claims (2)
間にスクライブラインが設けられて半導体基板上に多数
配置されて形成された半導体装置において、 前記スクライブライン上に形成された試験用の電源線
と、 前記電源線と接続して前記半導体装置内の入力側に形成
され、ウエハテスト時に試験装置の試験用端子が押し当
てられるプロービング用パッドと、 前記半導体装置内に設けられ、前記回路素子に通じるボ
ンディングパッドと前記プロービング用パッドとを接続
する配線途中に設けられたヒューズと、を具備し、 バーンイン試験中に不具合が発生して前記半導体装置へ
過電流が流れた際に、この過電流で前記ヒューズが溶断
して、前記電源線から印加される試験用電流を遮断する
ことを特徴とするウエハバーンインに対応する半導体装
置。1. A semiconductor device comprising a plurality of circuit elements, a plurality of scribe lines provided therebetween, and a plurality of semiconductor devices formed on a semiconductor substrate, wherein a test power supply formed on the scribe lines is provided. A probing pad connected to the power supply line and formed on an input side in the semiconductor device, to which a test terminal of a test device is pressed during a wafer test; and a circuit element provided in the semiconductor device, And a fuse provided in the middle of a wiring connecting the probing pad to the probing pad. Wherein the fuse is blown to cut off a test current applied from the power supply line. Body apparatus.
平常の消費電流の5倍若しくは、半導体装置設計時に予
め規定された値のいずれかであることを特徴とする請求
項1に記載のウエハバーンインに対応する半導体装置。2. The fuse of the semiconductor device, wherein an overcurrent for blowing the fuse is one of five times a normal current consumption of the semiconductor device or a value specified in advance when designing the semiconductor device. A semiconductor device corresponding to wafer burn-in according to claim 1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10296520A JP2000124279A (en) | 1998-10-19 | 1998-10-19 | Semiconductor device applicable to wafer burn-in |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP10296520A JP2000124279A (en) | 1998-10-19 | 1998-10-19 | Semiconductor device applicable to wafer burn-in |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2000124279A true JP2000124279A (en) | 2000-04-28 |
Family
ID=17834608
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP10296520A Pending JP2000124279A (en) | 1998-10-19 | 1998-10-19 | Semiconductor device applicable to wafer burn-in |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2000124279A (en) |
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