JP2000121244A - Solvent vapor processing system - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、塩素系有機溶剤の
溶剤蒸気およびこれに同伴する水蒸気を用いて、被処理
物の内部などに存在する不要物を溶解除去する溶剤蒸気
処理システムに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a solvent vapor treatment system for dissolving and removing unnecessary substances present inside an object to be treated by using a solvent vapor of a chlorine-based organic solvent and steam accompanying the solvent vapor. is there.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来この種の溶剤蒸気処理システムとし
ては、メチレンクロライドなどの塩素系有機溶剤(以
下、単に溶剤と略称する)の溶剤蒸気および水蒸気中に
木材などの被処理物を曝露することにより、溶剤蒸気お
よび水蒸気を被処理物の内部に浸透させ、被処理物内の
不要物を溶解して除去するようにしたシステムが知られ
ている。かかる溶剤蒸気処理システムは、例えば、特開
平6−137757号(木材処理),特開平7−323
15号(木材処理),特開平7−292489号(金属
処理),特開平8−170101号(鉄粉処理),特開
平8−165586号(鋼材処理),特開平8−131
705号(生ゴミ等処理)の各公報に開示されている。2. Description of the Related Art Conventionally, a solvent vapor treatment system of this kind includes exposing an object to be treated such as wood to solvent vapor of a chlorine-based organic solvent such as methylene chloride (hereinafter simply referred to as a solvent) and water vapor. Thus, there is known a system in which a solvent vapor and water vapor penetrate into an object to be processed and unnecessary substances in the object are dissolved and removed. Such a solvent vapor processing system is disclosed in, for example, JP-A-6-137775 (wood processing) and JP-A-7-323.
No. 15 (wood treatment), JP-A-7-292489 (metal treatment), JP-A-8-170101 (iron powder treatment), JP-A-8-165586 (steel material treatment), JP-A-8-131
No. 705 (processing of garbage etc.).
【0003】これらの公報に開示された溶剤蒸気処理シ
ステムの要部を図5に示す。図に示した溶剤蒸気処理シ
ステムでは、密閉容器110および蓋111からなる処
理タンク2a内に載置台113が中空配置され、載置台
113上に被処理物20が載置される。処理タンク2a
内の底部には、開閉弁117の開閉により溶剤タンク1
15から溶剤供給配管116を経て送り込まれた塩素系
有機溶剤が溶剤液層30として貯留され、給水装置Wか
ら水供給配管119を経て送り込まれた水が水層31と
して溶剤液層30の上層に貯留される。溶剤液層30
は、ボイラBから開閉弁114の開閉によって蒸気管1
12へ送られた高温水蒸気により、気化可能な温度(例
えば溶剤がメチレンクロライドのときは80℃程度)に
加熱されて溶剤蒸気となる。そして、溶剤蒸気は上方の
水層31を通過する際に水と接触して飽和蒸気圧の水蒸
気を同伴させる。このようにして生じた水蒸気同伴の溶
剤蒸気に被処理物20が曝露され、被処理物20の表面
や内部に存在する不要物を溶解させたのち被処理物20
から流出させる。被処理物20の溶剤蒸気処理が一通り
終了すると、処理タンク2aが常温近くまで放冷された
のち、タンク底部の溶剤が液抜き配管118から抜き出
されて溶剤タンク115へ戻されるようになっている。FIG. 5 shows a main part of a solvent vapor processing system disclosed in these publications. In the solvent vapor processing system shown in the figure, a mounting table 113 is hollowly disposed in a processing tank 2 a including a closed container 110 and a lid 111, and the workpiece 20 is mounted on the mounting table 113. Processing tank 2a
The solvent tank 1 is opened and closed by opening and closing the on-off valve 117.
The chlorine-based organic solvent fed from 15 through the solvent supply pipe 116 is stored as a solvent liquid layer 30, and the water sent from the water supply device W through the water supply pipe 119 is formed as an aqueous layer 31 on the upper layer of the solvent liquid layer 30. Will be stored. Solvent liquid layer 30
Is operated by opening and closing the on-off valve 114 from the boiler B.
The high-temperature water vapor sent to 12 is heated to a vaporizable temperature (for example, about 80 ° C. when the solvent is methylene chloride) to be a solvent vapor. Then, the solvent vapor comes into contact with water when passing through the upper water layer 31 and entrains water vapor having a saturated vapor pressure. The object to be processed 20 is exposed to the solvent vapor accompanying the water vapor generated in this manner to dissolve unnecessary substances present on the surface and inside of the object to be processed 20 and then to dissolve the object to be processed 20
Drain from When the solvent vapor treatment of the article to be treated 20 is completed, the processing tank 2a is allowed to cool to near normal temperature, and then the solvent at the bottom of the tank is withdrawn from the liquid drain pipe 118 and returned to the solvent tank 115. ing.
【0004】ところで、木材組織内の仮道管を仕切る細
胞壁には隣合った仮道管を連通するピット(壁孔)が形
成されていることが、「日本木材学会研究分科会報告書
(木材の科学と利用技術II(2.木材の化学処理))、
第7ページ〜第11ページ、1991年発行」に開示さ
れている。これら木材組織の概要を図6に示す。隣合っ
た仮道管120,121を仕切る細胞壁122には、そ
れぞれ壁孔123,124を有する壁孔縁125,12
5間にレンズ状の中空空間が形成されている。また、板
状のトールス128が透水可能なマルゴ126によって
中空空間内に吊架されている。前記の仮道管120,1
21および中空空間内は、元来、水分127で満たされ
ているのであるが、伐採後の乾燥などにより、例えば片
方の仮道管120に水分127が無くなると(同図
(a)参照)、中空空間内の水分127が壁孔123か
ら仮道管120側へ蒸散していく。これにより、トール
ス128およびマルゴ126は仮道管121側へ移行し
(同図(b)参照)、遂には壁孔124を閉塞する(同
図(c)参照)。[0004] By the way, the fact that pits (wall holes) communicating with adjacent tracheids are formed in the cell wall partitioning the tracheids in the wood tissue is described in the report of the Japan Wood Research Society Research Subcommittee (Wood Science and utilization technology II (2. Chemical treatment of wood)),
7th to 11th pages, issued in 1991. " The outline of these wood structures is shown in FIG. Cell wall 122 partitioning adjacent tracheids 120 and 121 has wall hole edges 125 and 12 having wall holes 123 and 124, respectively.
A lens-shaped hollow space is formed between the five. Further, a plate-shaped talls 128 is suspended in a hollow space by a permeable margo 126. Said tracheid 120,1
21 and the inside of the hollow space are originally filled with the water 127, but when the water 127 is lost in one of the tracheids 120 due to drying or the like after logging (see FIG. 3A), The water 127 in the hollow space evaporates from the wall hole 123 toward the tracheid tube 120. As a result, the talls 128 and the margot 126 move toward the tracheid 121 (see FIG. 3B), and finally close the wall hole 124 (see FIG. 3C).
【0005】このように壁孔124が閉塞すると、仮道
管121に残った水分127は蒸散しにくくなる。木材
において仮道管は無数にありそれ以上に多くの壁孔が存
在するため、壁孔の閉塞によって乾燥しにくくなるのは
言うまでもない。因みに、一般の自然乾燥法によると、
ほとんど木痩せしなくなるまで乾燥させるには1年位か
かる。そこで、図5に示した溶剤蒸気処理システムによ
り「木材」を処理すると、溶剤蒸気および水蒸気が木材
内部の仮道管に浸透し、壁孔を閉塞しているトールスや
マルゴなどを溶解して壁孔を開放し仮道管同士を連通さ
せるのである。これにより、自然乾燥法によれば1年位
かかる程度までを、2〜3日位で乾燥するようになって
いる。[0005] When the wall hole 124 is closed in this manner, the water 127 remaining in the tracheid 121 becomes difficult to evaporate. It is needless to say that since the number of tracheids in wood is innumerable and there are more wall holes, it is difficult to dry due to blockage of the wall holes. By the way, according to the general natural drying method,
It takes about a year to dry the tree until it is no longer thin. Therefore, when "wood" is processed by the solvent vapor processing system shown in FIG. 5, the solvent vapor and water vapor penetrate into the tracheid inside the wood, and dissolve the tolls and margot, etc., which close the wall holes, and dissolve the wall. The holes are opened to allow the tracheids to communicate with each other. Thereby, it takes about two to three days to dry it up to about one year according to the natural drying method.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の溶剤蒸
気処理システムでは、一連の溶剤蒸気処理を終えて被処
理物20を取り出す前に、溶剤および温水を処理タンク
2aから抜き取っておく必要がある。しかしながら、例
えば80℃程度まで昇温した溶剤は臭気がきつく、酸欠
のおそれもあるため、処理タンク2aが溶剤の凝縮温度
以下に冷めるまで待たなければならない。そのため、時
間的な処理効率や作業効率の低下を招いていた。In the above-mentioned conventional solvent vapor processing system, it is necessary to extract the solvent and the hot water from the processing tank 2a before taking out the object to be processed 20 after a series of solvent vapor processing. . However, the solvent heated to, for example, about 80 ° C. has a strong odor and may be deficient in oxygen. Therefore, it is necessary to wait until the processing tank 2a is cooled to the condensation temperature of the solvent or less. As a result, the processing efficiency and work efficiency have been reduced over time.
【0007】また、木材内部に奥深く浸透した溶剤や水
を木材から抜き出すとき、処理タンク2a内が真空引き
されるが、その際に木ヤニなどの樹液が随伴して木材か
ら滲出してくる。滲出した樹液は溶剤と混在するので、
処理後の溶剤を直に溶剤タンク115へは戻せず、別の
分離装置などで樹液を分離除去しなければならない。そ
のため、分離除去作業に多大な手間と時間、あるいは高
価な分離装置を必要としていたのである。When the solvent or water that has penetrated deep into the wood is extracted from the wood, the inside of the processing tank 2a is evacuated. At that time, sap such as wood tarnish comes out of the wood. Since the exuded sap is mixed with the solvent,
The solvent after the treatment cannot be returned directly to the solvent tank 115, and the sap must be separated and removed by another separation device or the like. Therefore, a great deal of labor and time are required for the separation and removal operation, or an expensive separation device is required.
【0008】本発明は、上記した従来の問題点に鑑みて
なされたものであって、被処理物の不要物を溶解除去で
きるのは無論のこと、溶剤処理効率および作業効率が高
く、被処理物から溶解除去した不要物を溶剤から分離す
る必要のない溶剤蒸気処理システムの提供を目的とす
る。The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and it is needless to say that unnecessary substances can be dissolved and removed. It is an object of the present invention to provide a solvent vapor treatment system that does not need to separate an unnecessary substance dissolved and removed from a substance from a solvent.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る溶剤蒸気処理システムは、密閉状の処
理タンク内で、塩素系有機溶剤の溶剤蒸気および水蒸気
に被処理物を曝露して被処理物の内部ないし表面の不要
物を溶解除去する溶剤蒸気処理システムであって、前記
処理タンクと、当該処理タンクとは別個独立に設けら
れ、水から成る水層および当該水層の下方で塩素系有機
溶剤から成る溶剤液層が器内に形成されるとともに溶剤
液層加熱用の加熱装置を有する溶剤蒸気発生器と、溶剤
蒸気発生器と処理タンクを接続して設けられた溶剤蒸気
供給用の供給配管と、処理タンクと溶剤蒸気発生器を接
続して設けられ、処理タンクの塩素系有機溶剤を溶剤蒸
気発生器へ戻すための戻し配管とから、溶剤回収回路が
構成され、溶剤回収回路の戻し配管に、溶剤蒸気を溶剤
蒸気発生器へ向けて送り出すポンプ装置と、溶剤蒸気を
液化させる凝縮器とが設けられ、溶剤蒸気発生器におい
て加熱装置により気化した溶剤蒸気が水層の水と接触し
て水蒸気同伴の溶剤蒸気となり、かつ、凝縮器で液化し
た溶剤液が戻し配管を経て溶剤蒸気発生器に回収される
ように構成されたものである。In order to achieve the above object, a solvent vapor treatment system according to the present invention exposes an object to be treated to solvent vapor and water vapor of a chlorine-based organic solvent in a closed treatment tank. A solvent vapor treatment system for dissolving and removing unnecessary substances inside or on the surface of the object to be treated, wherein the treatment tank and the treatment tank are provided separately and independently, and a water layer composed of water and a water layer A solvent liquid layer comprising a chlorine-based organic solvent is formed in the lower part of the vessel, and a solvent vapor generator having a heating device for heating the solvent liquid layer, and a solvent provided by connecting the solvent vapor generator and the processing tank. A solvent recovery circuit is constituted by a supply pipe for supplying steam, a processing tank and a solvent vapor generator connected to each other, and a return pipe for returning the chlorine-based organic solvent in the processing tank to the solvent vapor generator, Solvent recovery A pump device for sending solvent vapor to the solvent vapor generator and a condenser for liquefying the solvent vapor are provided in the return pipe of the path, and the solvent vapor vaporized by the heating device in the solvent vapor generator is turned into water in the water layer. And a solvent vapor accompanied by water vapor, and the solvent liquid liquefied by the condenser is recovered by a solvent vapor generator via a return pipe.
【0010】尚、本発明にいう塩素系有機溶剤として
は、水よりも比重の重いもの、例えばメチレンクロライ
ド(CH2 Cl2 ,比重=1.32,沸点=39.7
℃)、トリクロロエチレン(CHCl=CCl2 ,比重
=1.46,沸点=87℃)、フロン113(CCl2
FCClF2 ,沸点=47.6℃)などが挙げられる。
これらの溶剤は沸点が水(100℃)よりも低いので、
処理タンクの冷却時に水蒸気が先に凝縮し被処理物から
流出した不要物が水とともに排出されるため、溶剤と水
の分離回収が極めて容易になり、加熱に要するエネルギ
ーも少なくてすむので好適である。また、被処理物とし
ては、例えば木材,金属,鋼材,鉄粉,生ゴミなどのよ
うに、物質内部に塩素系有機溶剤に可溶な不要物を含ん
でいるものが適用される。被処理物中の不要物として、
木材の場合は壁孔を閉塞しているトールスやマルゴ、金
属,鋼材,鉄粉などの場合は金属組織空隙間の付着物や
金属表面の汚れ、生ゴミの場合は野菜クズなどの細胞を
構成する脂肪分や水分、FRP製廃棄物の場合は合成樹
脂と強化繊維体を結合しているバインダなどである。The chlorine-based organic solvent used in the present invention has a higher specific gravity than water, for example, methylene chloride (CH 2 Cl 2 , specific gravity = 1.32, boiling point = 39.7).
C), trichloroethylene (CHCl = CCl 2 , specific gravity = 1.46, boiling point = 87 ° C.), Freon 113 (CCl 2
FCClF 2 , boiling point = 47.6 ° C.).
Since these solvents have a lower boiling point than water (100 ° C.),
When the processing tank is cooled, the steam is condensed first, and unnecessary substances flowing out of the processing object are discharged together with the water, so that the separation and recovery of the solvent and the water become extremely easy, and the energy required for heating is reduced. is there. Further, as the object to be treated, an object containing an unnecessary substance soluble in a chlorine-based organic solvent, such as wood, metal, steel, iron powder, garbage, or the like, is applied. As an unnecessary material in the object to be treated,
In the case of wood, it is composed of metal such as Thors and Margot which closes the hole, metal, steel, iron powder, etc. In the case of FRP waste, the binder is a binder that combines a synthetic resin and a reinforcing fiber.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳しく説明する。図1は本発明の一実施形態
に係る溶剤蒸気処理システムの概略構成を示すブロック
図である。図において、本実施形態の溶剤蒸気処理シス
テム1は、被処理物20を収容して溶剤蒸気などで処理
する密閉状の処理タンク2と、溶剤蒸気を発生させるた
めに処理タンク2とは別個独立に設けられた溶剤蒸気発
生器3と、処理タンク2の底部に配管45,トラップ2
1,および配管46を介して接続された水回収タンク2
2と、処理タンク2の溶剤を回収するために溶剤液を一
時貯留する溶剤回収タンク14といったタンク類を備え
ている。溶剤蒸気発生器3と処理タンク2の間は溶剤蒸
気供給用の供給配管33,35,36により配管接続さ
れている。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a solvent vapor processing system according to one embodiment of the present invention. In the figure, a solvent vapor processing system 1 of the present embodiment has a closed processing tank 2 for accommodating an object to be processed 20 and processing it with a solvent vapor or the like, and is independent of the processing tank 2 for generating a solvent vapor. , A pipe 45 and a trap 2 at the bottom of the processing tank 2.
1 and a water recovery tank 2 connected via a pipe 46
2 and tanks such as a solvent recovery tank 14 for temporarily storing a solvent liquid for recovering the solvent in the processing tank 2. The solvent vapor generator 3 and the processing tank 2 are connected by supply pipes 33, 35, 36 for supplying solvent vapor.
【0012】ここで、溶剤蒸気発生器3は、図2ないし
図4に示すように、器内に水から成る水層31が形成さ
れ、この水層31下方に塩素系有機溶剤から成る溶剤液
層30が形成されるようになっている。この溶剤蒸気発
生器3は、側面開口を有する円筒状の混合液タンク60
と、混合液タンク60の側面開口を開閉可能に封止する
蓋61と、混合液タンク60の上部に設けられた溶剤蒸
気出口ノズル62,水蒸気ブローノズル63,溶剤液入
口ノズル64,給水入口ノズル65と、混合液タンク6
0内の溶剤液層30の浸漬位置に配置された加熱装置1
7と連結される加熱蒸気入口ノズル66および加熱蒸気
出口ノズル67と、混合液タンク60の底部に設けられ
たタンク底ノズル68とから構成されている。溶剤蒸気
発生器3内で水層31の液面は水液面計32で計測監視
されている。タンク底ノズル68は溶剤投入時や抜き出
し時に用いられるワンタッチジョイント53および開閉
弁78と連結されている。給水入口ノズル65は給水装
置Wと接続されている。また、加熱装置17の配管途中
には冷却装置Cからの冷水を送る冷水管18が接続され
ていて、溶剤蒸気発生器3の加熱温度を調整する際や強
制冷却時に用いられるようになっている。As shown in FIGS. 2 to 4, the solvent vapor generator 3 has a water layer 31 made of water formed therein, and a solvent liquid made of a chlorine-based organic solvent below the water layer 31. A layer 30 is to be formed. The solvent vapor generator 3 has a cylindrical mixed liquid tank 60 having a side opening.
And a lid 61 for opening and closing the side opening of the mixed liquid tank 60, and a solvent vapor outlet nozzle 62, a water vapor blow nozzle 63, a solvent liquid inlet nozzle 64, and a water supply inlet nozzle provided on the upper part of the mixed liquid tank 60. 65 and the mixed liquid tank 6
Heating device 1 disposed at the position where the solvent liquid layer 30 is immersed
7 is provided with a heated steam inlet nozzle 66 and a heated steam outlet nozzle 67 which are connected to the tank 7, and a tank bottom nozzle 68 provided at the bottom of the mixed liquid tank 60. The liquid level of the water layer 31 in the solvent vapor generator 3 is measured and monitored by a water level gauge 32. The tank bottom nozzle 68 is connected to the one-touch joint 53 and the on-off valve 78 used at the time of introducing and extracting the solvent. The water supply inlet nozzle 65 is connected to the water supply device W. Further, a chilled water pipe 18 for sending chilled water from the cooling device C is connected in the middle of the piping of the heating device 17, and is used for adjusting the heating temperature of the solvent vapor generator 3 and for forced cooling. .
【0013】再び図1において、処理タンク2は蓋開閉
自在で密封状に構成され、被処理物20を載置台(図示
省略)に載せた状態で収容するようになっている。処理
タンク2内には供給配管36の先端となる噴霧ノズルが
配備されており、ボイラBと接続された蒸気管19がタ
ンク内加熱用として配置されている。処理タンク2の底
部に設けた配管45はトラップ21の上部と接続されて
いる。トラップ21の上部には、処理タンク2と接続さ
れる均圧配管44と、ボイラBからの蒸気配管が接続さ
れている。トラップ21の下部と水回収タンク22とは
配管46を介して接続されている。水回収タンク22は
タンク内に垂下仕切りおよび起立仕切りを有していて、
垂下仕切りの下方を潜り起立仕切りを超えた水が水ポン
プ23の駆動によりドラム缶24に排出されるようにな
っている。Referring again to FIG. 1, the processing tank 2 is configured so as to be openable and closable and hermetically sealed so that the processing object 20 is accommodated in a state mounted on a mounting table (not shown). A spray nozzle serving as a tip of a supply pipe 36 is provided in the processing tank 2, and a steam pipe 19 connected to the boiler B is arranged for heating the tank. A pipe 45 provided at the bottom of the processing tank 2 is connected to the upper part of the trap 21. Above the trap 21, a pressure equalizing pipe 44 connected to the processing tank 2 and a steam pipe from the boiler B are connected. The lower part of the trap 21 and the water recovery tank 22 are connected via a pipe 46. The water recovery tank 22 has a hanging partition and an upright partition in the tank,
Water under the hanging partition and exceeding the standing partition is discharged to a drum 24 by driving a water pump 23.
【0014】処理タンク2の上部に接続された戻し配管
37の途中には、ブロワ4と、真空ポンプであるポンプ
装置5とが並列に配管接続されている。戻し配管37の
末端は、加熱器6を有する配管38と、凝縮器8を有す
る戻し配管39とに分岐している。加熱器6は、配管3
8からの溶剤蒸気や水蒸気を、ボイラBから蒸気管7に
導かれた高温蒸気と熱交換させて加熱したのち、配管4
0へ送り出すようになっている。凝縮器8は、戻し配管
39からの溶剤蒸気や水蒸気を、冷凍装置Rから冷媒管
9に導かれた低温冷媒と熱交換させて冷却したのち、配
管41または戻し配管49へ送り出すようになってい
る。尚、凝縮器8出側の配管41と加熱器6入側の配管
38の間はバイパス配管42で接続されている。バイパ
ス配管42は循環時の溶剤蒸気および水蒸気を凝縮器8
で冷却しすぎたり加熱器6で加熱しすぎたりしたときに
開閉弁102を開けて使用される。In the middle of a return pipe 37 connected to the upper part of the processing tank 2, a blower 4 and a pump device 5 as a vacuum pump are connected in parallel. The end of the return pipe 37 branches into a pipe 38 having the heater 6 and a return pipe 39 having the condenser 8. The heater 6 is connected to the pipe 3
8 is heated by exchanging the solvent vapor or steam from the boiler 8 with the high-temperature steam guided from the boiler B to the steam pipe 7 and then heated.
It is sent to 0. The condenser 8 cools the solvent vapor or steam from the return pipe 39 by exchanging heat with the low-temperature refrigerant guided from the refrigerating apparatus R to the refrigerant pipe 9, and then sends the cooled refrigerant to the pipe 41 or the return pipe 49. I have. A bypass pipe 42 is connected between the pipe 41 on the outlet side of the condenser 8 and the pipe 38 on the inlet side of the heater 6. The bypass pipe 42 converts the solvent vapor and water vapor during circulation into condenser 8.
The opening and closing valve 102 is opened when the cooling is performed too much or the heating is performed too much by the heater 6.
【0015】供給配管33から分岐した配管34は噴霧
タンク26の底部近傍まで延設され、その先端に曝気管
27が設けられている。噴霧タンク26内の水層31の
水は噴霧ポンプ28の駆動により、噴霧管29からタン
ク内上部空間に噴霧循環されるようになっている。配管
34の途中には配管43の一端が分岐接続されている。
配管43は途中で配管41,40と接続されたのち、末
端が供給配管35の途中と接続されている。トラップ1
0の上部には、凝縮器8の上部と連結する均圧配管48
と、凝縮器8の底部と連結する戻し配管49と、ボイラ
Bからの蒸気配管11とが接続されている。トラップ1
0の下部と溶剤回収タンク14とは戻し配管50,51
を介して接続されている。配管50,51の連結位置に
は配管46から分岐した配管47が接続されている。A pipe 34 branched from the supply pipe 33 extends to near the bottom of the spray tank 26, and an aeration pipe 27 is provided at the tip thereof. The water in the water layer 31 in the spray tank 26 is spray-circulated from the spray pipe 29 to the upper space in the tank by driving the spray pump 28. One end of the pipe 43 is branched and connected in the middle of the pipe 34.
The pipe 43 is connected to the pipes 41 and 40 in the middle, and then the terminal is connected to the middle of the supply pipe 35. Trap 1
The pressure equalizing pipe 48 connected to the upper part of the condenser 8
And a return pipe 49 connected to the bottom of the condenser 8 and the steam pipe 11 from the boiler B are connected. Trap 1
0 and the solvent recovery tank 14 are connected to return pipes 50 and 51.
Connected through. A pipe 47 branched from the pipe 46 is connected to a connection position of the pipes 50 and 51.
【0016】溶剤回収タンク14は、戻し配管51から
流入した溶剤液(水は極めて少量である)を、冷却装置
Cと接続された冷水管15内の冷水で冷却しつつ貯留
し、溶剤ポンプ16の駆動により戻し配管52を経て溶
剤蒸気発生器3へ回収するようになっている。すなわ
ち、溶剤蒸気発生器3と、供給配管33,35,36
と、処理タンク2と、ポンプ装置5と、凝縮器8と、ト
ラップ10と、溶剤回収タンク14と、戻し配管37,
39,49,50,51,52とから、溶剤回収回路S
が構成されている。また、クーラ12は、溶剤回収タン
ク14の上部と配管接続されており、溶剤回収タンク1
4からの溶剤蒸気を、冷凍装置Rから冷媒管13に導か
れた低温冷媒と熱交換させて冷却することにより凝縮さ
せ、極力大気へ放出しないように工夫されている。The solvent recovery tank 14 stores the solvent liquid (a very small amount of water) flowing from the return pipe 51 while cooling it with cold water in a cold water pipe 15 connected to the cooling device C. Is driven to return to the solvent vapor generator 3 via the return pipe 52. That is, the solvent vapor generator 3 and the supply pipes 33, 35, 36
, The processing tank 2, the pump device 5, the condenser 8, the trap 10, the solvent recovery tank 14, the return pipe 37,
39, 49, 50, 51, 52, the solvent recovery circuit S
Is configured. The cooler 12 is connected to the upper part of the solvent recovery tank 14 by piping, and
The solvent vapor from 4 is condensed by exchanging heat with the low-temperature refrigerant introduced from the refrigerating device R to the refrigerant pipe 13 so as to be condensed and released to the atmosphere as little as possible.
【0017】そして、配管34,38,40〜43,4
5〜47、供給配管33,35,36、戻し配管37,
39,49,52,均圧配管44,48,その他には、
制御装置(図示省略)からの制御信号によりまたは手動
により弁開閉する開閉弁71〜102(円内に数字を記
してある)がそれぞれ設けられている。尚、図1中の円
内に計器の種類を表した英字記号は、それぞれ、LAが
液面アラーム、LCが液面コントロール、TIが温度表
示、TAが温度アラーム、TCが温度コントロール、P
Aが圧力アラーム、PCが圧力コントロールである。ま
た、本溶剤蒸気処理システム1を構成するタンクや容器
類はいずれも、臭気のきつい塩素系有機溶剤を大気中に
飛散させないため、密閉容器で構成してある。処理タン
ク2は使用時の真空状態に耐える耐圧容器でもある。The pipes 34, 38, 40 to 43, 4
5 to 47, supply pipes 33, 35, 36, return pipe 37,
39, 49, 52, equalizing pipes 44, 48, and others
Opening / closing valves 71 to 102 (numbers are shown in circles) which are opened / closed by a control signal from a control device (not shown) or manually are provided, respectively. The alphabetic symbols indicating the types of instruments in the circle in FIG. 1 are LA for liquid level alarm, LC for liquid level control, TI for temperature display, TA for temperature alarm, TC for temperature control, and TC for temperature control.
A is a pressure alarm, and PC is a pressure control. In addition, all the tanks and containers constituting the present solvent vapor treatment system 1 are formed of closed containers in order to prevent odorous chlorine-based organic solvents from scattering into the atmosphere. The processing tank 2 is also a pressure-resistant container that can withstand a vacuum state during use.
【0018】続いて、溶剤蒸気処理システム1により被
処理物20を溶剤蒸気処理する工程について説明する。
この溶剤蒸気処理システム1では、主に、処理タンク1
次真空引き工程,溶剤蒸気供給工程,溶剤蒸気循環工
程,処理タンク2次真空引き工程が実行される。これら
の各工程を順次説明する。Next, a description will be given of a process of subjecting the processing object 20 to the solvent vapor treatment by the solvent vapor treatment system 1.
In the solvent vapor processing system 1, mainly the processing tank 1
The next evacuation step, the solvent vapor supply step, the solvent vapor circulation step, and the processing tank secondary evacuation step are performed. Each of these steps will be described sequentially.
【0019】「処理タンク1次真空引き工程」まず、開
閉弁75,82,83,84,86,92,93,96
を「開」とし、残りの開閉弁のうち少なくとも開閉弁7
3,74,77,80,81,85,89,98,10
2を「閉」にして、予めシステムのラインアップを完了
しておく。また、加熱装置17により、溶剤蒸気発生器
3内は溶剤が気化可能な温度(例えば、メチレンクロラ
イドを用いる場合は80℃程度)に保持されている。こ
れにより、溶剤液層30から気化した溶剤蒸気が水層3
1の水と接触して水蒸気同伴の溶剤蒸気になる。一方、
処理タンク2内は常温である。そこで、ポンプ装置5が
駆動されると、処理タンク2内が50Torr程度の真
空となり、被処理物20内からも例えば空気などが抜き
出されるのである。"Processing tank primary evacuation step" First, on-off valves 75, 82, 83, 84, 86, 92, 93, 96
Is “open” and at least the on-off valve 7 of the remaining on-off valves
3,74,77,80,81,85,89,98,10
2 is set to "closed" to complete the system lineup in advance. Further, the inside of the solvent vapor generator 3 is maintained at a temperature at which the solvent can be vaporized (for example, about 80 ° C. when methylene chloride is used) by the heating device 17. As a result, the solvent vapor vaporized from the solvent liquid layer 30 is transferred to the aqueous layer 3
(1) Contact with water to form a solvent vapor accompanied by water vapor. on the other hand,
The inside of the processing tank 2 is at normal temperature. Therefore, when the pump device 5 is driven, the inside of the processing tank 2 is evacuated to about 50 Torr, so that, for example, air or the like is extracted from the inside of the workpiece 20.
【0020】「溶剤蒸気供給工程」次に、前工程のライ
ンアップ状態からポンプ装置5を停止し、開閉弁72,
74を「開」とし、開閉弁75を「閉」にする。する
と、処理タンク2内の真空状態が駆動源となって、溶剤
蒸気発生器3からの「水蒸気同伴の溶剤蒸気」が供給配
管33,35,36を経て処理タンク2内に供給され
る。そして、供給された水蒸気同伴の溶剤蒸気に被処理
物20が曝露される。[Solvent Vapor Supply Process] Next, the pump device 5 is stopped from the line-up state of the previous process, and the on-off valve 72,
74 is set to “open” and the on-off valve 75 is set to “closed”. Then, the vacuum state in the processing tank 2 serves as a driving source, and “solvent vapor accompanying water vapor” from the solvent vapor generator 3 is supplied into the processing tank 2 via the supply pipes 33, 35, and 36. Then, the workpiece 20 is exposed to the supplied solvent vapor accompanying the water vapor.
【0021】「溶剤蒸気循環工程」続いて、前工程の状
態から開閉弁73,75,80,81,84,85,8
6,87,89を「開」にし、開閉弁72を「閉」にす
る。加熱器6用または凝縮器8用の開閉弁90,91、
および開閉弁102は処理タンク2内を目標温度に合わ
せるように開閉制御される。そこで、ブロワ4を駆動す
ると、処理タンク2内の溶剤蒸気および水蒸気が戻し配
管37を経てブロワ4に吸い込まれ、更に配管38また
は戻し配管39から加熱器6または凝縮器8へ導かれ
る。加熱器6に導かれた溶剤蒸気および水蒸気は加熱さ
れたのち配管40を経て配管43に流入し、凝縮器8に
導かれた溶剤蒸気および水蒸気は冷却されたのち配管4
1を経て配管43へ流入する。配管43に流入した所定
温度の溶剤蒸気および水蒸気は供給配管36を経て処理
タンク2内へ戻る。かかる溶剤蒸気の循環工程は6〜8
時間程度継続して実行され、これにより溶剤蒸気および
水蒸気が被処理物20の内部奥深くまで浸透して行き、
被処理物20内部の不要物が溶剤および温水に溶け出す
のである。[Solvent Vapor Circulation Process] Subsequently, on-off valves 73, 75, 80, 81, 84, 85, 8
6, 87, 89 are opened and the on-off valve 72 is closed. On-off valves 90, 91 for the heater 6 or the condenser 8,
The opening and closing valve 102 is controlled to open and close so as to adjust the inside of the processing tank 2 to a target temperature. Then, when the blower 4 is driven, the solvent vapor and steam in the processing tank 2 are sucked into the blower 4 via the return pipe 37, and further guided to the heater 6 or the condenser 8 from the pipe 38 or the return pipe 39. The solvent vapor and the water vapor guided to the heater 6 are heated and then flow into the pipe 43 via the pipe 40, and the solvent vapor and the water vapor guided to the condenser 8 are cooled and then discharged to the pipe 4
1 flows into the pipe 43. The solvent vapor and steam at a predetermined temperature flowing into the pipe 43 return to the processing tank 2 via the supply pipe 36. The circulation process of the solvent vapor is 6 to 8
It is continuously executed for about a time, whereby the solvent vapor and water vapor penetrate deep inside the object 20 to be processed,
Unnecessary substances inside the processing object 20 are dissolved in the solvent and the warm water.
【0022】このようにして被処理物20から流出した
不要物は処理タンク2底部に落下し、底部で凝縮した水
とともに、配管45,トラップ21,配管46,水回収
タンク22を経てドラム缶24に貯留され、排出され
る。この溶剤蒸気循環工程において、蒸気管19に高温
蒸気を通して処理タンク2内を加熱することにより、被
処理物20内部の不要物が溶けやすくなり流動性が大き
くなる。尚、ブロア4により処理タンク2内の圧力を高
める操作と、開閉弁の開閉切り換えおよびポンプ装置5
の駆動により処理タンク2内を真空引きする操作とを交
互に繰り返せば、いっそう容易に不要物を取り出すこと
ができる。Unnecessary substances that have flowed out of the article to be treated 20 fall to the bottom of the treatment tank 2 and, together with water condensed at the bottom, pass through the pipe 45, the trap 21, the pipe 46, and the water recovery tank 22 to the drum 24. Stored and discharged. In this solvent vapor circulation step, by heating the inside of the processing tank 2 by passing high-temperature steam through the steam pipe 19, unnecessary substances inside the processing object 20 are easily melted and the fluidity is increased. The operation of increasing the pressure in the processing tank 2 by the blower 4, the switching of the on-off valve, and the pump device 5
By alternately repeating the operation of evacuating the inside of the processing tank 2 by the drive of, unnecessary objects can be more easily taken out.
【0023】「処理タンク2次真空引き工程」各開閉弁
は既述した1次真空引き工程のラインアップ状態に戻す
よう、同様に操作される。処理タンク2内は80℃程度
に保持されつつ再び真空状態にされる。これにより、被
処理物20内の奥部から溶剤、温水、およびこれらに溶
け込んだ不要物が抜き出されるのである。この場合、溶
剤蒸気は戻し配管37,ポンプ装置5,および戻し配管
39を経て凝縮器8に達する。そうして、凝縮器8で凝
縮液化した溶剤液は戻し配管49からトラップ10に移
行し、更に戻し配管50,51から溶剤回収タンク14
に貯留される。溶剤回収タンク14内で溶剤液が所定液
位以上になると、溶剤液は溶剤ポンプ16の駆動により
戻し配管52を経て溶剤蒸気発生器3に回収される。一
方、処理タンク2底部に落下した不要物と水は配管45
からトラップ21や水回収タンク22などを経てドラム
缶24に貯留される。[Processing tank secondary vacuuming step] Each of the on-off valves is operated in the same manner so as to return to the lineup state of the primary vacuuming step described above. The inside of the processing tank 2 is again evacuated while being kept at about 80 ° C. As a result, the solvent, the warm water, and the unnecessary substances dissolved therein are extracted from the inner part of the processing target 20. In this case, the solvent vapor reaches the condenser 8 via the return pipe 37, the pump device 5, and the return pipe 39. Then, the solvent liquid condensed and liquefied in the condenser 8 is transferred from the return pipe 49 to the trap 10, and further returned from the return pipes 50 and 51 to the solvent recovery tank 14.
Is stored in When the solvent liquid becomes equal to or higher than a predetermined liquid level in the solvent recovery tank 14, the solvent liquid is recovered by the solvent pump 16 via the return pipe 52 to the solvent vapor generator 3. On the other hand, unnecessary substances and water that have fallen to the bottom
From the drum 21 via a trap 21 and a water recovery tank 22.
【0024】このとき、トラップ10では、まず開閉弁
95,96が閉じられ開閉弁92,93が開放されるこ
とにより、凝縮器8内と均圧で流出可能な状態にされて
溶剤液が貯留される。貯留した溶剤液量が所定になると
液面コントロール(LC)が作動し、開閉弁92,93
が閉じられ開閉弁95,96が開けられてトラップ10
内がボイラBからの蒸気により加圧され、溶剤液が溶剤
回収タンク14へと圧送される。一方、トラップ21で
は、開閉弁97,100が閉じられ開閉弁74,76,
77が開放されることにより、処理タンク2内と均圧で
流出可能な状態にされて水が貯留される。貯留した水量
が所定になると液面コントロール(LC)が作動し、開
閉弁76,77が閉じられ開閉弁97,99,100が
開けられる。これにより、トラップ21内がボイラBか
らの蒸気により加圧され、水は水回収タンク22へと圧
送される。かかるトラップ10,21および当該関連機
器の構成と制御形態によれば、処理タンク2内や凝縮器
8内が常圧であろうと真空であろうと、水や溶剤液を貯
留して排出することができる。他方で、処理タンク2の
温度が下がって溶剤が凝縮し、トラップ21内で溶剤液
が多くなった場合は開閉弁99を閉じ、開閉弁98を開
いてトラップ21の溶剤液を配管47経由で溶剤回収タ
ンク14に移行させる。At this time, in the trap 10, the on-off valves 95, 96 are first closed and the on-off valves 92, 93 are opened, so that the trap 10 is made to be able to flow out of the condenser 8 at a uniform pressure and the solvent liquid is stored. Is done. When the amount of the stored solvent liquid reaches a predetermined level, the liquid level control (LC) is activated, and the on-off valves 92 and 93 are opened.
Is closed and the on-off valves 95 and 96 are opened, and the trap 10 is opened.
The inside is pressurized by the steam from the boiler B, and the solvent liquid is pumped to the solvent recovery tank 14. On the other hand, in the trap 21, the on-off valves 97, 100 are closed and the on-off valves 74, 76,
When 77 is opened, water is stored in a state where it can flow out of the processing tank 2 at an equal pressure. When the amount of stored water reaches a predetermined level, the liquid level control (LC) is activated, the on-off valves 76, 77 are closed, and the on-off valves 97, 99, 100 are opened. Thereby, the inside of the trap 21 is pressurized by the steam from the boiler B, and the water is pumped to the water recovery tank 22. According to the configuration and control mode of the traps 10 and 21 and the related equipment, water and a solvent liquid can be stored and discharged regardless of whether the pressure in the processing tank 2 or the condenser 8 is normal pressure or vacuum. it can. On the other hand, when the temperature of the processing tank 2 decreases and the solvent condenses and the amount of the solvent in the trap 21 increases, the on-off valve 99 is closed, and the on-off valve 98 is opened to supply the solvent in the trap 21 via the pipe 47. Transfer to the solvent recovery tank 14.
【0025】そうして、一連の溶剤蒸気処理が完了する
と、処理タンク2が溶剤の気化温度よりも低い温度まで
放冷され、更に処理タンク2内に空気が導入されて、被
処理物20の取り出しが可能な状態とされる。上記した
各工程において、各タンクの安全弁(図示省略)から放
出された溶剤蒸気は全て噴霧タンク26に導かれる。一
方、処理タンク2,溶剤蒸気発生器3や各配管が所定圧
以上となって放出すべき溶剤蒸気を生じると、これらの
溶剤蒸気は配管34,43を経て曝気管27から噴霧タ
ンク26へ導かれる。これらの溶剤蒸気は噴霧ポンプ2
8および噴霧管29により循環噴霧される水によって水
層31へたたき落とされて捕捉され、直接大気に放出さ
れることはない。When a series of solvent vapor processing is completed, the processing tank 2 is allowed to cool to a temperature lower than the vaporization temperature of the solvent, and air is further introduced into the processing tank 2 so that the processing object 20 can be treated. It is in a state where it can be taken out. In each of the above-described steps, all the solvent vapor released from the safety valve (not shown) of each tank is led to the spray tank 26. On the other hand, when the processing tank 2, the solvent vapor generator 3, and each pipe generate a solvent vapor to be released at a predetermined pressure or more, these solvent vapors are introduced from the aeration pipe 27 to the spray tank 26 through the pipes 34 and 43. I will These solvent vapors are supplied to the spray pump 2
The water circulated through the spray pipe 8 and the spray pipe 29 is trapped by being dropped into the water layer 31 and is not directly released to the atmosphere.
【0026】ところで、被処理物2が「木材」である場
合は、先述した2次真空引き工程から引き続いて、蒸気
管19の高温蒸気により処理タンク2内を加熱し、加熱
器6で加熱しつつブロア4で循環させることにより、そ
のまま「木材乾燥工程」とすることができる。従って、
従来システムのように、処理タンクの温度が常温近くま
で下がるのを待って、溶剤蒸気処理後の木材を処理タン
クからいったん取り出し、別の乾燥装置により木材乾燥
工程を行うといった不具合がなくなる。When the processing object 2 is “wood”, the processing tank 2 is heated by the high-temperature steam in the steam pipe 19 and heated by the heater 6 following the above-described secondary vacuuming step. By circulating in the blower 4 while circulating, the "wood drying step" can be performed as it is. Therefore,
Unlike the conventional system, there is no such a problem that the wood after the solvent vapor treatment is once taken out of the treatment tank and the wood drying process is performed by another drying device after waiting for the temperature of the treatment tank to be reduced to near normal temperature.
【0027】以上詳述したように、この実施形態の溶剤
蒸気処理システム1によれば、溶剤蒸気発生器3から処
理タンク2に送り込まれた水蒸気同伴の溶剤蒸気により
被処理物20内部の不要物が溶解除去される。加えて、
処理タンク2の溶剤は溶剤回収回路Sにより溶剤蒸気発
生器3に回収されるので、一連の処理後において処理タ
ンク2は少なくとも水が凝縮する温度まで下げるだけで
済む。これにより、溶剤蒸気から分離した水を処理タン
ク2の底部から抜き出すことができる。従って、処理タ
ンク2の冷却度合が小さくてすみ、冷却時間を短縮化で
きる。因みに、処理タンク2への被処理物20の投入開
始から溶剤蒸気処理後に取り出すまで、一連工程全体の
所要時間は、一晩ないし一昼夜程度であり、従来システ
ムの半分で済む。また、最終の真空引き時に被処理物2
0から滲出する不要物は処理タンク2底部の水に随伴し
て排出されるので溶剤に含まれることがなく、溶剤から
の不要物分離操作を行う必要がない。As described in detail above, according to the solvent vapor processing system 1 of this embodiment, the unnecessary material inside the object 20 to be treated is caused by the solvent vapor accompanying the water vapor sent from the solvent vapor generator 3 to the processing tank 2. Is dissolved and removed. in addition,
Since the solvent in the processing tank 2 is recovered in the solvent vapor generator 3 by the solvent recovery circuit S, it is only necessary to lower the processing tank 2 to at least a temperature at which water condenses after a series of processing. Thereby, the water separated from the solvent vapor can be extracted from the bottom of the processing tank 2. Therefore, the cooling degree of the processing tank 2 can be small, and the cooling time can be shortened. Incidentally, the time required for the entire series of processes from the start of loading of the processing object 20 into the processing tank 2 to the removal after the solvent vapor processing is about one night to one day, which is half that of the conventional system. In addition, at the time of final evacuation,
Unnecessary substances oozing from zero are discharged together with the water at the bottom of the processing tank 2, so that they are not included in the solvent, and there is no need to perform an operation of separating unnecessary substances from the solvent.
【0028】因みに、本溶剤蒸気処理システム1により
「木材」を処理する場合は、不要物であるトールスやマ
ルゴが溶解除去され仮道管間の壁孔が開口されるので、
木材の乾燥を早めることができる。Incidentally, when "wood" is treated by the present solvent vapor treatment system 1, unnecessary materials such as tols and margot are dissolved and removed, and the wall holes between the tracheids are opened.
Wood can be dried more quickly.
【0029】また、本溶剤蒸気処理システム1により
「金属,鋼材,または鉄粉」を処理する場合は、金属組
織間の付着物を溶解除去して洗浄する作用を奏し、金属
表面に四酸化三鉄などの不動態皮膜を生成させて錆の進
行防止を図ることができる。Further, in the case of treating "metal, steel material or iron powder" by the present solvent vapor treatment system 1, it has an effect of dissolving and removing the deposits between the metal structures and cleaning the metal surface. A passive film such as iron can be formed to prevent the progress of rust.
【0030】そして、本溶剤蒸気処理システム1により
「FRP製廃棄物」を処理する場合は、FRP製廃棄物
の合成樹脂と強化繊維体とを結合しているバインダなど
を溶解除去することによって、FRP製廃棄物の強度を
大幅に低下させるので、廃棄処分時の破砕作業などを容
易に行うことができる。When "FRP waste" is to be treated by the present solvent vapor treatment system 1, a binder or the like connecting the synthetic resin of the FRP waste and the reinforcing fiber is dissolved and removed. Since the strength of the FRP waste is greatly reduced, crushing work or the like at the time of disposal can be easily performed.
【0031】更に、本溶剤蒸気処理システム1により
「生ゴミ」を処理する場合は、魚や野菜クズなどの細胞
を構成する脂肪分や水分が溶解除去されるので、生ゴミ
の分解を助けて早めることができる。Further, when "garbage" is treated by the present solvent vapor treatment system 1, fats and water constituting cells such as fish and vegetable waste are dissolved and removed, so that the decomposition of the garbage is accelerated. be able to.
【0032】尚、上記実施形態の溶剤蒸気供給工程に際
し、処理タンク2内の被処理物20へ直に界面活性剤液
を噴霧するように構成すれば、被処理物20内部への浸
透性が格段と向上する。従って、不要物取り出し効果を
よりいっそう高めることができる。その場合でも、使用
済みの界面活性剤液は水に溶解してタンク底部から排出
される。但し、将来的に溶剤と同程度の沸点を有する界
面活性剤が開発された場合は、当該界面活性剤を予め溶
剤蒸気発生器3に投入しておくだけで、水蒸気同伴の溶
剤蒸気のみならず界面活性剤蒸気も処理タンク2へ供給
することができる。In the solvent vapor supply step of the above embodiment, if the surfactant liquid is sprayed directly onto the processing object 20 in the processing tank 2, the permeability into the processing object 20 is improved. Dramatically improved. Therefore, the undesired object removal effect can be further enhanced. Even in that case, the used surfactant solution is dissolved in water and discharged from the bottom of the tank. However, if a surfactant having a boiling point similar to that of the solvent is developed in the future, the surfactant is simply charged into the solvent vapor generator 3 in advance, and not only the solvent vapor accompanied by the water vapor but also the solvent vapor is added. Surfactant vapor can also be supplied to the processing tank 2.
【0033】[0033]
【発明の効果】以上述べたように、本発明に係る溶剤蒸
気処理システムによれば、溶剤蒸気発生器から処理タン
クに送り込まれた水蒸気同伴の溶剤蒸気により被処理物
内部の不要物が溶解除去されるのはもとより、処理タン
クが溶剤気化温度以上に保持されていても、凝縮器によ
り溶剤を液の状態とし溶剤回収回路を通して溶剤蒸気発
生器に回収することができる。すなわち、一連の処理後
において処理タンクの温度は、溶剤の凝縮温度まで下げ
る必要はなく、少なくとも水が凝縮する温度まで下げれ
ば済む。これにより、溶剤蒸気から分離した水を処理タ
ンクから抜き出せるため、処理タンクの冷却度合が小さ
くてすみ、冷却時間を短縮化できる。従って、溶剤処理
効率および作業効率を向上化することができる。また、
最終の真空引き時に被処理物から滲出した不要物は処理
タンク底部の水に移行するので溶剤に含まれることがな
く、回収した溶剤について不要物の分離操作を行う必要
がない。As described above, according to the solvent vapor processing system according to the present invention, unnecessary substances inside the object to be processed are dissolved and removed by the solvent vapor accompanying the water vapor sent from the solvent vapor generator to the processing tank. In addition, even if the processing tank is maintained at a temperature equal to or higher than the solvent vaporization temperature, the solvent can be made into a liquid state by the condenser and recovered to the solvent vapor generator through the solvent recovery circuit. That is, it is not necessary to lower the temperature of the processing tank to the condensing temperature of the solvent after the series of processing, but it is sufficient to lower the temperature to at least the temperature at which water condenses. Thereby, the water separated from the solvent vapor can be extracted from the processing tank, so that the cooling degree of the processing tank can be small and the cooling time can be shortened. Therefore, it is possible to improve the solvent treatment efficiency and the work efficiency. Also,
Unnecessary substances leached from the processing object during the final evacuation are transferred to the water at the bottom of the processing tank, so that they are not included in the solvent, and it is not necessary to perform an operation of separating the collected solvent from the unnecessary substance.
【図1】本発明の一実施形態に係る溶剤蒸気処理システ
ムの概略構成を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a solvent vapor processing system according to an embodiment of the present invention.
【図2】前記の溶剤蒸気処理システムに用いられる溶剤
蒸気発生器を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a solvent vapor generator used in the solvent vapor processing system.
【図3】前記の溶剤蒸気発生器を示す底面図である。FIG. 3 is a bottom view showing the solvent vapor generator.
【図4】図2に示した溶剤蒸気発生器のA−A線断面図
である。FIG. 4 is a sectional view taken along line AA of the solvent vapor generator shown in FIG.
【図5】従来の溶剤蒸気処理システムを示す概略構成図
である。FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing a conventional solvent vapor processing system.
【図6】一般的な木材の仮道管近傍の組織を示す説明図
である。FIG. 6 is an explanatory view showing a tissue in the vicinity of a general wood tracheid.
1 溶剤蒸気処理システム 2 処理タンク 3 溶剤蒸気発生器 5 ポンプ装置 8 凝縮器 17 加熱装置 20 被処理物 30 溶剤液層 31 水層 33,35,36 供給配管 37,39,49〜52 戻し配管 126 マルゴ(不要物の例) 128 トールス(不要物の例) S 溶剤回収回路 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Solvent vapor processing system 2 Processing tank 3 Solvent vapor generator 5 Pump device 8 Condenser 17 Heating device 20 Workpiece 30 Solvent liquid layer 31 Water layer 33,35,36 Supply piping 37,39,49-52 Return piping 126 Margot (example of unnecessary material) 128 Torrs (example of unnecessary material) S Solvent recovery circuit
Claims (1)
剤の溶剤蒸気および水蒸気に被処理物を曝露して被処理
物の内部ないし表面の不要物を溶解除去する溶剤蒸気処
理システムであって、前記処理タンクと、当該処理タン
クとは別個独立に設けられ、水から成る水層および当該
水層の下方で塩素系有機溶剤から成る溶剤液層が器内に
形成されるとともに溶剤液層加熱用の加熱装置を有する
溶剤蒸気発生器と、溶剤蒸気発生器と処理タンクを接続
して設けられた溶剤蒸気供給用の供給配管と、処理タン
クと溶剤蒸気発生器を接続して設けられ、処理タンクの
塩素系有機溶剤を溶剤蒸気発生器へ戻すための戻し配管
とから、溶剤回収回路が構成され、溶剤回収回路の戻し
配管に、溶剤蒸気を溶剤蒸気発生器へ向けて送り出すポ
ンプ装置と、溶剤蒸気を液化させる凝縮器とが設けら
れ、溶剤蒸気発生器において加熱装置により気化した溶
剤蒸気が水層の水と接触して水蒸気同伴の溶剤蒸気とな
り、かつ、凝縮器で液化した溶剤液が戻し配管を経て溶
剤蒸気発生器に回収されるように構成されていることを
特徴とする溶剤蒸気処理システム。1. A solvent vapor processing system for exposing an object to be processed to solvent vapor and water vapor of a chlorine-based organic solvent in a closed processing tank to dissolve and remove unnecessary substances inside or on the surface of the object. The treatment tank and the treatment tank are provided separately and independently, and an aqueous layer composed of water and a solvent liquid layer composed of a chlorinated organic solvent are formed in the vessel below the aqueous layer, and the solvent liquid layer is formed. A solvent vapor generator having a heating device for heating, a supply pipe for supplying a solvent vapor provided by connecting the solvent vapor generator and the processing tank, and provided by connecting the processing tank and the solvent vapor generator, A return line for returning the chlorinated organic solvent in the processing tank to the solvent vapor generator constitutes a solvent recovery circuit, and a pump device for sending the solvent vapor toward the solvent vapor generator to the return line of the solvent recovery circuit. , Solvent evaporation A condenser for liquefying gas is provided, and in the solvent vapor generator, the solvent vapor vaporized by the heating device comes into contact with water in the aqueous layer to become solvent vapor accompanied by water vapor, and the solvent liquid liquefied by the condenser is returned. A solvent vapor processing system configured to be recovered by a solvent vapor generator via a pipe.
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JP10299189A JP2000121244A (en) | 1998-10-21 | 1998-10-21 | Solvent vapor processing system |
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ID=17869302
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-
1998
- 1998-10-21 JP JP10299189A patent/JP2000121244A/en active Pending
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