JP3909161B2

JP3909161B2 - Chemical processing equipment

Info

Publication number: JP3909161B2
Application number: JP30236998A
Authority: JP
Inventors: 壽員桝谷
Original assignee: 桝谷精工株式会社
Priority date: 1998-10-23
Filing date: 1998-10-23
Publication date: 2007-04-25
Anticipated expiration: 2018-10-23
Also published as: JP2000130937A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機溶剤を気化させた溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気で被処理物を化学処理する処理タンクを備えた化学処理装置、具体的には、木材などの被処理物を、メチレンクロライドなどの塩素系有機溶剤を気化させた溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気で化学処理する処理タンクを備えた化学処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来では、特開平６−１３７７５７号、特開平７−３２３１５号、特開平７−２９２４８９号、特開平８−１７０１０１号、特開平８−１６５５８６号、特開平８−１３１７０５号の各公報に開示されているように、メチレンクロライドなどの塩素系有機溶剤の溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気を被処理物に浸透させることにより、例えば木材に浸透させる場合には、木材細胞中の水分量を調整する調整膜であるピットを破壊し、木材細胞内の水分を排出しやすくして、乾燥速度を向上させるようにしたり、または、プラスチックなどの高分子材料に前記混合蒸気を曝して該高分子材料を分解する技術が知られている。
【０００３】
そして、化学処理装置において前記混合蒸気を発生させるに当たっては、従来では図３に示すように、容器Ａ内に、メチレンクロライド（ＭＣ）溶液と水とを貯留すると共に、該混合液を加熱する加熱部Ｂを配設したガス発生器Ｃを設け、該ガス発生器Ｃにおいて、メチレンクロライド溶液を加熱部Ｂで加熱して、メチレンクロライドを気化させ、気化されたメチレンクロライド蒸気を水に接触させてメチレンクロライド蒸気と水蒸気との混合蒸気を発生させる。そして、ガス発生器Ｃで発生させた混合蒸気を、木材が収納された密閉処理タンク内に注入し、収納された木材に混合蒸気を浸透させて、木材細胞のピットを破壊するようにしていた。
【０００４】
このガス発生器Ｃは、メチレンクロライド溶液と水とが容器Ａ内で、比重差により下層のメチレンクロライド溶液層Ｄと、上層の水層Ｅとに分離された状態で貯留される。そして、前記加熱部Ｂを容器の底部近くに配設することにより、下層のメチレンクロライド溶液を直接加熱して、メチレンクロライドの気泡を発生させ、該気泡を上層の水に接触させることにより反応させて、メチレンクロライド蒸気と水蒸気との混合蒸気を発生させるようにしていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の化学処理装置では、ガス発生器Ｃでメチレンクロライド蒸気と水蒸気との混合蒸気を発生させるために、容器Ａ内に、メチレンクロライド溶液と水を貯留した状態で、加熱部Ｂによりメチレンクロライド溶液を加熱するようにしていたため、以下のような不具合が生じていた。
【０００６】
即ち、容器Ａ内では、下層のメチレンクロライド溶液層Ｄと、上層の水層Ｅとに分離され、前記加熱部Ｂでメチレンクロライド溶液を直接加熱するようにしていたため、図３中、メチレンクロライド溶液中に点線で示す自然対流が生ずると、容器中央部にメチレンクロライドの気泡が集中して発生し、水層Ｅの中心をほとんどの気泡が通過して該メチレンクロライドの気泡が水と接触しないままガス発生器Ｃから排出されてしまい、安定した質の混合蒸気が得られないという不具合があった。
【０００７】
また、容器Ａ内では、下層のメチレンクロライド溶液層Ｄと、上層の水層Ｅとに分離されて貯留されるので、各液層の安定した液位制御および液量の制御が困難となり、この点においても混合蒸気の質が安定しないという不具合があった。
【０００８】
さらに、上記のガス発生器Ｃでは、容器Ａ内において、メチレンクロライド蒸気の場所的な発生むらや水との接触時間のむらが生じることからも、混合蒸気の質および量の制御が細かくできないという不具合もあった。
【０００９】
本発明は、上記問題に鑑みてなしたものであって、液量、液温度、液圧力の制御が容易に行えながら、安定した質の混合蒸気が得られるガス発生器を備えた化学処理装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記問題に鑑みてなしたものであって、請求項１記載の発明は、有機溶剤を気化させた溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気で被処理物を化学処理する処理タンクを備えた化学処理装置において、内部に加熱部を有し、有機溶剤液が貯留され、該有機溶剤液を加熱部で加熱して気化させる基本液気化容器と、該基本液気化容器と別個独立に設けられ、内部に加熱部を有し、水である補助液が貯留され、該補助液を加熱部で加熱し、かつ、前記基本液気化容器で気化された溶剤蒸気を補助液中に放出させて、溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気を発生させる反応容器とを備えるガス発生器を有し、該ガス発生器で発生させた混合蒸気を処理タンクに注入するように構成したのである。
【００１１】
なお、本発明における有機溶剤としては、特に塩素系有機溶剤を使用するのが好ましく、具体的には水よりも比重の重いもの、例えば、メチレンクロライド（ＣＨ₂Ｃｌ₂）、トリクロロエチレン（ＣＨＣｌ＝ＣＣｌ₂）、パークロロエチレン（ＣＣｌ₂＝ＣＣｌ₂）、１，１，１−トリクロロエタン（ＣＨ₃ＣＣｌ₃）、フロン１１３（ＣＣｌ₂ＦＣＣｌＦ₂）などが挙げられる。
【００１２】
また、被処理物としては、例えば、木材、金属、鋼材、鉄粉、生ごみなどのように、物質内部に塩素系有機溶剤に可溶な、かつ、分解可能な物質を含んでいるものが適用される。
【００１３】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、一端側が基本液気化容器内の蒸気層に連通され、他端側が反応容器内に挿入される注入管を設け、反応容器内に挿入される注入管の先端を閉鎖状にすると共に、該注入管先端側に複数の孔を形成し、該注入管の孔形成部を反応容器の補助液中に浸漬させて、基本液気化容器で気化された溶剤蒸気を反応容器内の補助液中に放出させるように構成した。
【００１４】
請求項３記載の発明は、請求項１または請求項２に記載の発明において、反応容器内の補助液中で、該補助液中に放出された溶剤蒸気の上昇経路上に該溶剤蒸気を衝突させる多孔板を設ける構成とした。
【００１５】
溶剤蒸気の上昇経路上とは、たとえば、溶剤蒸気が補助液中に放出される際の注入管の孔形成部の上方をいう。
【００１６】
請求項４記載の発明は、請求項１乃至請求項３の何れかに記載の発明において、反応容器内の補助液中に、該補助液中に放出された溶剤蒸気を通過させる微細孔を有する微細孔形成部材を配設する構成とした。
【００１７】
微細孔形成部材としては、メッシュの細かい網や、細かいスリットの入った板状部材が挙げられる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳しく説明する。
【００１９】
本発明の実施の形態の化学処理装置は、木材の乾燥速度を速めるために、被処理物である木材を有機溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気で、化学処理するものであって、図１は、本発明の実施形態にかかる化学処理装置の概略構成を示した、一部断面を含むシステム回路図である。
【００２０】
図１において、本実施形態の化学処理装置１は、被処理物Ｔが収容され、該被処理物Ｔを溶剤蒸気と水蒸気の混合蒸気で処理する密閉状の処理タンク２と、溶剤蒸気と水蒸気の混合蒸気を発生させるために処理タンク２とは別個独立に設けられたガス発生器３と、処理タンク２内に溜まった水を回収するための水回収タンク４と、ガス発生器３で発生した混合蒸気のうち、凝縮された溶剤を回収するための溶剤回収タンク５とを備えている。
【００２１】
さらに、本化学処理装置１は、処理タンク２内を真空引きするための真空ポンプ装置６１、処理タンク２内の混合蒸気を一旦容器外に排出させて再度戻すための循環用ブロワ６２、処理タンク２から排出された蒸気を凝縮させるための凝縮器６３、処理タンク２から排出された蒸気を加熱する加熱器６４を備えている。
【００２２】
そして、処理タンク２は、配管７１，７２，７３を介してガス発生器３と接続されており、ガス発生器３で発生した混合蒸気を処理タンク２に注入するようにしている。
【００２３】
また、処理タンク２の上部に配管７４を接続して、該配管７４から処理タンク２内の蒸気を排出するようにしている。この配管７４の途中には、並列で配設される真空ポンプ装置６１と循環用ブロワ６２とを設けており、配管７４を凝縮器６３に接続させている。該凝縮器６３は、配管７５、トラップ６５を介して溶剤回収タンク５に接続されている。なお、トラップ６５は、凝縮器６３で凝縮された溶剤を一旦溜めるためのものである。
【００２４】
また、前記加熱器６４は、処理タンク２内の蒸気を排出する配管７４と、ガス発生器３のガスを処理タンク２内に注入するための配管７３との間に配管７６を介して設けられている。さらに、前記凝縮器６３には、該凝縮器６３の蒸気を再度ガス発生器３に戻すための配管７７を配管７３に接続している。
【００２５】
前記溶剤回収タンク５は、配管７８を介してガス発生器３と接続されており、溶剤回収タンク５内の溶剤液を溶剤液ポンプ５１によりガス発生器３内に戻すようにしている。
【００２６】
また、処理タンク２は、該処理タンク２の底部に接続される配管７９、トラップ６６を介して水回収タンク４と接続されており、該処理タンク２内に溜まる水や樹液などを水回収タンク４に回収するようにしている。
【００２７】
各機器について、さらに詳しく説明する。
【００２８】
処理タンク２は、蓋開閉自在で密封状に構成され、被処理物Ｔを載置台（図示省略）に載せた状態で収容するようになっている。処理タンク２内には、ガス発生器３の混合蒸気をタンク内に注入するための配管７３の先端部に設ける噴霧ノズル２１と、ボイラーＢの蒸気を取り入れ、該蒸気でタンク内を加熱するための蒸気管２２が配設されている。処理タンク２の底部に設けた配管７９はトラップ６６の上部と接続されている。
【００２９】
トラップ６６の上部には、処理タンク２に接続される均圧配管８１と、ボイラーＢから蒸気をトラップ６６内に取り入れるための蒸気配管８２が接続されて、トラップ６６の下部と水回収タンク４とを配管７９で接続している。
【００３０】
水回収タンク４は、タンク内に垂下仕切りと起立仕切りを有していて、垂下仕切りの下方を潜り起立仕切りを越えた水を水ポンプ４１の駆動によりドラム缶４２などに排出するようにしている。
【００３１】
加熱器６４は、配管７４から配管７６に流れる混合蒸気を、ボイラーＢから蒸気管６４ａに導かれた高温蒸気と熱交換させて加熱したのち、配管７３へ送り出すように成っている。
【００３２】
凝縮器６３は、配管７４を流れる混合蒸気を、冷凍装置Ｒから冷媒管６３ａに導かれた低温冷媒と熱交換させて冷却した後、溶媒液を配管７５へ、溶媒蒸気を配管７７へ送り出すようになっている。なお、凝縮器６３出口側の配管７７と加熱器６４入り口側の配管７６の間はバイパス配管８３でバイパス接続されている。
【００３３】
凝縮器６３で液化した溶剤液は、配管７５、トラップ６５、溶剤回収タンク５、および配管７８を経て、ガス発生器３に回収されるように成っている。
【００３４】
トラップ６５の上部には、凝縮器６３の側部と連結する均圧配管８４と、凝縮器６３の底部と連結する配管７５と、ボイラーＢからの蒸気配管８５とが接続されている。トラップ６５の下部と溶剤回収タンク５とは配管７５を介して接続されている。
【００３５】
溶剤回収タンク５は、配管７５から流入した溶剤液（水は極めて少量である。）を、冷却装置Ｃと接続された冷水管５２内の冷水で冷却しつつ暫時貯留し、溶剤液ポンプ５１の駆動により配管７８を経てガス発生器３へ回収するようになっている。
【００３６】
クーラー５３は、溶剤回収タンク５の上部と配管接続されており、溶剤回収タンク５からの溶剤蒸気を、冷凍装置Ｒから冷媒管５４に導かれた低温冷媒と熱交換させて冷却することにより凝縮させて再度溶剤回収タンク５内に回収させて極力大気へ放出しないようにしている。
【００３７】
また、各配管には、制御装置（図示せず）からの制御信号により、または手動により弁開閉する開閉弁９がそれぞれ設けられている。
【００３８】
さらに、本化学処理装置１は、処理タンク２内から溶媒混合蒸気を真空引きした後、処理タンク２内部を大気に開放する前に、残存の溶剤をできるだけ排除するために、該処理タンク２内を加圧してタンク内の気体を水に接触させて残存溶剤を水に吸着させる噴霧タンク６７を設けている。
【００３９】
該噴霧タンク６７は、配管７１から分岐した配管７０を噴霧タンク６７に接続し、さらに、この配管７０を噴霧タンク６７内の底部近傍まで延設させて、その先端に排出ノズル６７ａを設けている。噴霧タンク６７内の水は噴霧ポンプ６７ｂの駆動により、噴霧管６７ｃから噴霧タンク６７内上部空間に噴霧循環され、排出ノズル６７ａから水中にガスを排出させてガス中の溶剤を水に吸着させ、さらに、吸着されなかった溶剤を噴霧管６７ｃから噴霧される水で吸着させるようにしている。
【００４０】
そして、ガス発生器３は、図１および図２に示すように、メチレンクロライド（ＭＣ）からなる有機溶剤液を貯留する基本液気化容器３１と、該基本液気化容器３１とは別個に設けられ、補助液となる水を貯留する反応容器３２とを備えている。
【００４１】
基本液気化容器３１は、水平方向に延びる円筒状をしており、基本液気化容器３１の上部に、溶剤蒸気を排出するための溶剤蒸気出口３１ａを設けて、該溶剤蒸気出口３１ａに反応容器３２と連通される注入管３３が接続される。また、基本液気化容器３１の上部には、容器内に溶剤液を注入するためのＭＣ注入パイプ３１ｂと、溶剤回収タンク５の溶剤を基本液気化容器３１に戻すための配管７８を接続している。
【００４２】
基本液気化容器３１内底部には、容器内に貯留されるメチレンクロライド液を加熱するための加熱部３１ｃを配設しており、該加熱部３１ｃは、ボイラーＢまたは冷却装置Ｃに選択的に接続される加熱管３１ｄからなり、該加熱管３１ｄは、容器内に蛇行状に配設されている。前記冷却装置Ｃは、加熱部３１ｃの加熱温度を調整したり、強制冷却時に用いられる。
【００４３】
さらに、基本液気化容器３１内には、溶剤液中の液面近くに、溶剤液から気化した溶剤蒸気を通過させる微細孔を有する微細孔形成部材３１ｅを配設して、溶剤液の自然対流により液面が乱れるのを抑制し、該基本液気化容器３１内から気泡のみを反応容器３２へと送るようにしている。微細孔形成部材３１ｅは、メッシュの細かい網や、細かいスリットの入った板状部材を用いる。
なお、基本液気化容器３１内には、図示していないが、溶剤液の液面の位置を計測するための液面計を設けている。
【００４４】
反応容器３２は、図１および図２に示すように、水平方向に延びる円筒状をしており、反応容器３２の上部に、溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気を排出するための混合蒸気出口３２ａを設けて、該混合蒸気出口３２ａに処理タンク２へ混合蒸気を送るための配管１を接続している。
【００４５】
また、反応容器３２の上部には、基本液気化容器３１と連通される注入管３３が接続されている。
【００４６】
該注入管３３は、一端側が基本液気化容器３１内の蒸気層に連通され、他端側が反応容器３２内に挿入されており、反応容器３２内に挿入される注入管３３の先端を閉鎖状にすると共に、該注入管３３先端側に複数の孔３３ａを形成し、該注入管３３の孔形成部３３ｂを反応容器３２内の補助液中に浸漬させて、基本液気化容器３１で気化された溶剤蒸気を反応容器３２内の補助液中に放出させるようにしている。
【００４７】
また、反応容器３２の上部には、容器内に水である補助液を注入するための水注入パイプ３２ｂを接続している。
【００４８】
反応容器３２内底部で、前記注入管３３の孔形成部３３ｂより下方には、容器内に貯留される水を加熱するための加熱部３２ｃを配設しており、該加熱部３２ｃは、ボイラーＢまたは冷却装置Ｃに選択的に接続される加熱管３２ｄからなり、該加熱管３２ｄは、容器内に蛇行状に配設されている。前記冷却装置Ｃは、加熱部３２ｃの加熱温度を調整したり、強制冷却時に用いられる。
【００４９】
さらに、反応容器３２内の補助液中で、該補助液中に放出された溶剤蒸気の上昇経路上に該溶剤蒸気を衝突させる多孔板３４を設けている。該多孔板３４は、注入管３３の孔形成部３３ｂの上方に配設しており、加熱部３２ｃによって生ずる自然対流を衝突させて、この自然対流の流れを変更させると共に、該多孔板３４に溶剤蒸気の気泡を衝突させるようにしている。
【００５０】
そして、小さい気泡のみを多孔板３４の多数の孔に通過させ、大きい気泡は、多孔板３４の下面に溜めて、気泡の流れを容器内面に向かって変更させることにより、気泡を反応容器３２内に分散させて万遍なく行き渡るようにし、溶剤蒸気と水との接触率を向上させている。
【００５１】
反応容器３２内には、さらに、補助液中の液面近くに、水に接触した溶剤蒸気を通過させる微細孔を有する微細孔形成部材３２ｅを配設して、補助液の自然対流により液面が乱れるのを抑制すると共に、溶剤蒸気を微細孔形成部材３２ｅの微細孔に通過させてより細かい気泡を発生させることにより、溶剤蒸気と水との接触をさらに高めて、質の良い混合蒸気を発生させられるようにしている。微細孔形成部材３２ｅは、メッシュの細かい網や、細かいスリットの入った板状部材を用いる。
【００５２】
なお、反応容器３２内には、図示していないが、溶剤液の液面の位置を計測するための液面計を設けている。
【００５３】
そして、反応容器３２内で発生させた混合蒸気を処理タンク２に配管７１，７２，７３を介して注入するようにしている。
【００５４】
なお、本実施の形態では、塩素系有機溶剤としてメチレンクロライドを使用している。
【００５５】
また、本化学処理装置１を構成するタンクや容器は、何れも臭気のきつい塩素系有機溶剤を大気中に飛散させないため、密閉容器で構成してある。
【００５６】
続いて、化学処理装置１により被処理物Ｔを溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気で処理する工程について説明する。
【００５７】
この化学処理装置１では、主に、処理タンク一次真空引き工程、溶剤蒸気供給工程、溶剤蒸気循環工程、処理タンク二次真空引き工程が実行される。これらの各工程を順次説明する。
「一次処理タンク真空引き工程」
処理タンク２内に収納された被処理物Ｔを化学処理する前に、常温で大気に開放されていた処理タンク２内の空気などの余分な気体を真空引きしておく工程である。
【００５８】
本工程は、処理タンク２に接続される配管７３、および配管７９を開閉弁により閉鎖しておき、配管７４を介して真空ポンプ装置６１により真空引きを行うと共に、処理タンク２内の温度を溶剤蒸気の凝縮を防ぐようにボイラーＢにより上昇させる（例えば、メチレンクロライドを用いる場合には、８５℃）。
【００５９】
このとき、同時に、ガス発生器３において、基本液気化容器３１、および、反応容器３２の各加熱部３１ｃ，３２ｃを、溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気を発生させる温度に加熱しておく（例えば、メチレンクロライドを用いる場合には、８０℃程度）。
「溶剤蒸気供給工程」
本工程は、処理タンク２が真空引きされると、真空ポンプ装置６１の駆動を停止し、配管７４およびトラップ６６の出口側配管７９の開閉弁を閉鎖して、連通を遮断すると共に、処理タンク２とガス発生器３とを連通させる配管７１、配管７２、配管７３から処理タンク２内に圧力差を利用して、混合蒸気を処理タンク２内及びトラップ６６内に注入する工程である。
【００６０】
本工程により、処理タンク２内で、有機溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気を被処理物Ｔに曝露して、該被処理物Ｔ内に混合蒸気を浸透させはじめる。
「溶剤蒸気循環工程」
本工程は、循環用ブロワ６２を使用して、処理タンク２内に注入された混合蒸気を一旦タンク外に出した後、再度タンク内に戻す混合蒸気の循環工程である。
【００６１】
本工程により、処理タンク２内の混合蒸気を循環用ブロワ６２で取り出して、凝縮器６３または加熱器６４で混合蒸気の加熱度または気化状態を調整したのち配管７６、配管７７、配管７３を介して処理タンク２内に戻される。
【００６２】
また、本工程は、６〜８時間程度継続して実行され、これにより混合蒸気が被処理物Ｔの内部奥深くまで浸透して行き、被処理物Ｔの細胞ピットが破壊されていく。
【００６３】
このとき、木材の樹液も溶け出し、処理タンク２内底部から、トラップ６６に貯留される。
「処理タンク二次真空引き工程」
本工程は、処理タンク２内の溶媒蒸気を真空引きにより、溶剤回収タンク５を介してガス発生器３に回収する工程である。
【００６４】
本工程では、処理タンク２内の温度を混合蒸気中の水蒸気が凝縮する温度で、溶剤蒸気が気化状態のままとなる温度まで下げた状態で、配管７３およびトラップ６６の出口側配管７９の開閉弁を閉鎖して、連通を遮断すると共に、真空ポンプ装置６１を駆動させて処理タンク２内およびトラップ６６内の真空引きを行う。
【００６５】
これにより、被処理物Ｔ内の奥部から溶剤、温水、およびこれらに溶け込んだ樹液などの不要物が抜き出されるのである。この場合、溶剤蒸気は配管７４を経て凝縮器６３に達し、凝縮器６３で凝縮液化した溶剤液は配管７５からトラップ６５に移行した後、溶剤回収タンク５に貯留される。
【００６６】
溶剤回収タンク５内で溶剤液が所定液位以上になると、溶剤液は溶剤液ポンプ５１の駆動により配管７８を経てガス発生器３の基本液気化容器３１に回収される。
【００６７】
一方、処理タンク２底部に落下した不要物と水は配管７９からトラップ６６を介して水回収タンク４に回収され、該水回収タンク４に回収された水がドラム缶４２に貯留される。
【００６８】
また、処理タンク２内の溶剤蒸気の残留をできるだけ少なくするため、処理タンク２内のガスを真空ポンプ装置６１の駆動により噴霧タンク６７に排出し、ガス中に残る溶剤蒸気を水に吸着させる作業を行う。さらに、上記した各工程で各タンクの安全弁（図示省略）から放出された溶剤蒸気も全て噴霧タンク６７に導かれるようになっている。
【００６９】
こうして、溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気による一連の化学処理が完了すると、処理タンク２内の温度をボイラーＢにより再度上昇させて木材の乾燥処理が行われる。この乾燥処理においては、乾燥処理の前に溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気による化学処理を行って、木材細胞のピットを破壊させているので、木材内部からの水分の排出を良好に行えるのである。
【００７０】
【発明の効果】
請求項１記載の本発明のガス発生器は、有機溶剤液を貯留する基本液気化容器と、補助液を貯留する反応容器とを別個に設け、それぞれの容器内で単体液を加熱して蒸気を発生させると共に、基本液気化容器で気化された溶剤蒸気を補助液中に放出させて、溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気を発生させるようにしているので、従来のように溶剤液の自然対流で補助液が攪拌されることがなくなり、各液の状態を安定に保つことができるし、単体液なので、液位制御および液量の管理が容易に行え、質の良い混合蒸気が得られる。
【００７１】
基本液気化容器で溶剤蒸気を発生させた後、反応容器中の補助液中に溶剤蒸気を放出させるようにしているので、溶剤蒸気の反応容器への放出量の制御も容易に行え、溶剤蒸気の水との接触反応量の場所むらや、時間むらを少なくすることができ、安定した質の混合蒸気が得られる。
【００７２】
基本液である溶剤液と補助液である水とを別々の容器に収容させ、それぞれ別個に加熱部で加熱させるようにしているので、基本液と補助液とをそれぞれ個別に圧力および温度の条件を設定することができ、さらに、基本液気化容器で気化された溶剤蒸気を補助液中に放出させる注入管に過熱器や減圧検圧器など他の調制器を設けることにより、混合蒸気の製造温度、圧力の範囲を拡大できる。
【００７３】
また、請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、一端側が基本液気化容器内の蒸気層に連通され、他端側が反応容器内に挿入される注入管を設け、反応容器内に挿入される注入管の先端を閉鎖状にすると共に、該注入管先端側に複数の孔を形成し、該注入管の孔形成部を反応容器の補助液中に浸漬させて、基本液気化容器で気化された溶剤蒸気を反応容器内の補助液中に放出させる構成としているので、溶剤蒸気を補助液に確実に接触させられる。
【００７４】
さらに、請求項３記載の発明は、請求項１または請求項２記載の発明において、反応容器内の補助液中で、該補助液中に放出された溶剤蒸気の上昇経路上に該溶剤蒸気を衝突させる多孔板を設ける構成としているので、反応容器の補助液中で溶剤蒸気を多孔板に衝突させて分散させられ、溶剤蒸気の水との接触反応量の場所むらや、時間むらをさらに少なくすることができ、さらに良好な質の混合蒸気が得られる。
【００７５】
しかも、請求項４記載の発明では、請求項１乃至請求項３記載の何れかの発明において、反応容器内の補助液中に、該補助液中に放出された溶剤蒸気を通過させる微細孔を有する微細孔形成部材を配設する構成としているので、該微細孔形成部材に溶剤蒸気を通過させて大きな気泡の溶剤蒸気を粉砕、変形させて補助液との接触反応率をさらに向上させられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態にかかる化学処理装置の概略構成を示すシステム回路図である。
【図２】本発明の化学処理装置に用いられるガス発生器の断面図である。
【図３】従来使用していた化学処理装置のガス発生器の断面図である。
【符号の説明】
１化学処理装置
２処理タンク
３ガス発生器
３１基本液気化容器
３１ｃ加熱部
３２反応容器
３２ｃ加熱部
３３注入管
３４多孔板
３１ｅ微細孔形成部材[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a chemical treatment apparatus having a treatment tank for chemically treating an object to be treated with a mixed vapor of a solvent vapor obtained by vaporizing an organic solvent and water vapor, specifically, to treat an object to be treated such as wood with methylene chloride. The present invention relates to a chemical processing apparatus including a processing tank that performs chemical processing with a mixed vapor of a solvent vapor obtained by vaporizing a chlorinated organic solvent such as a vapor.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, it has been disclosed in JP-A-6-137757, JP-A-7-32315, JP-A-7-292589, JP-A-8-170101, JP-A-8-165586, and JP-A-8-131705. As described above, by infiltrating the material to be treated with a mixed vapor of a chlorinated organic solvent such as methylene chloride and water vapor, the amount of water in the wood cells is adjusted. The pit, which is the adjustment film, is destroyed and the moisture in the wood cells is easily discharged, so that the drying rate is improved, or the mixed vapor is exposed to a polymer material such as plastic to remove the polymer material. A technique for decomposing is known.
[0003]
Then, in generating the mixed vapor in the chemical treatment apparatus, conventionally, as shown in FIG. 3, while storing the methylene chloride (MC) solution and water in the container A, heating for heating the mixed liquid A gas generator C provided with a part B is provided. In the gas generator C, the methylene chloride solution is heated by the heating part B to vaporize methylene chloride, and the vaporized methylene chloride vapor is brought into contact with water. A mixed vapor of methylene chloride vapor and water vapor is generated. Then, the mixed steam generated by the gas generator C is injected into the sealed processing tank in which the wood is stored, and the mixed steam is infiltrated into the stored wood to destroy the pits of the wood cells. .
[0004]
In the gas generator C, the methylene chloride solution and water are stored in a container A in a state of being separated into a lower methylene chloride solution layer D and an upper aqueous layer E due to a difference in specific gravity. Then, by disposing the heating part B near the bottom of the container, the lower layer methylene chloride solution is directly heated to generate methylene chloride bubbles, which are reacted by bringing the bubbles into contact with the upper layer water. Therefore, a mixed vapor of methylene chloride vapor and water vapor is generated.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional chemical processing apparatus, in order to generate a mixed vapor of methylene chloride vapor and water vapor by the gas generator C, methylene chloride solution and water are stored in the container A, and the methylene chloride solution and water are stored by the heating unit B. Since the chloride solution was heated, the following problems occurred.
[0006]
That is, in the container A, the lower methylene chloride solution layer D and the upper aqueous layer E were separated, and the methylene chloride solution was directly heated by the heating unit B. When natural convection indicated by a dotted line occurs, methylene chloride bubbles are concentrated in the center of the container, most of the bubbles pass through the center of the water layer E, and the methylene chloride bubbles remain in contact with water. There was a problem that a stable quality mixed steam could not be obtained because it was discharged from the gas generator C.
[0007]
Further, in the container A, since the lower methylene chloride solution layer D and the upper aqueous layer E are separated and stored, stable liquid level control and liquid volume control of each liquid layer becomes difficult. There was also a problem that the quality of the mixed steam was not stable.
[0008]
Further, in the gas generator C described above, in the container A, because of the uneven generation of methylene chloride vapor and the uneven contact time with water, the quality and quantity of the mixed steam cannot be finely controlled. There was also.
[0009]
The present invention has been made in view of the above problems, and is a chemical processing apparatus provided with a gas generator that can easily control a liquid volume, a liquid temperature, and a liquid pressure, and can obtain a mixed vapor having a stable quality. The purpose is to provide.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
The present invention has been made in view of the above problems, and the invention according to claim 1 includes a treatment tank for chemically treating an object to be treated with a mixed vapor of a solvent vapor obtained by vaporizing an organic solvent and water vapor. In the chemical processing apparatus, there is a basic liquid vaporization container that has a heating part inside, stores the organic solvent liquid, and vaporizes the organic solvent liquid by heating with the heating part, and is provided separately from the basic liquid vaporization container. The auxiliary liquid as water is stored, the auxiliary liquid is heated in the heating section, and the solvent vapor evaporated in the basic liquid vaporization container is discharged into the auxiliary liquid. The gas generator includes a reaction vessel that generates a mixed vapor of solvent vapor and water vapor, and the mixed vapor generated by the gas generator is injected into the processing tank.
[0011]
As the organic solvent in the present invention, it is particularly preferable to use a chlorinated organic solvent. Specifically, those having a specific gravity heavier than water, for example, methylene chloride (CH ₂ Cl ₂ ), trichloroethylene (CHCl = CCl ₂ ), perchlorethylene (CCl ₂ = CCl ₂ ), 1,1,1-trichloroethane (CH ₃ CCl ₃ ), Freon 113 (CCl ₂ FCClF ₂ ) and the like.
[0012]
In addition, as an object to be treated, for example, a material that contains a substance that is soluble in a chlorinated organic solvent and can be decomposed, such as wood, metal, steel, iron powder, garbage, etc. Applied.
[0013]
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, there is provided an injection tube in which one end side communicates with the vapor layer in the basic liquid vaporization vessel and the other end side is inserted into the reaction vessel, and is inserted into the reaction vessel The injection tube is closed at the tip, and a plurality of holes are formed at the tip of the injection tube, and the hole forming portion of the injection tube is immersed in the auxiliary liquid in the reaction vessel, The vaporized solvent vapor was configured to be released into the auxiliary liquid in the reaction vessel.
[0014]
The invention according to claim 3 is the invention according to claim 1 or claim 2, wherein the solvent vapor collides with the rising path of the solvent vapor released into the auxiliary liquid in the auxiliary liquid in the reaction vessel. A perforated plate is provided.
[0015]
On the rising path of the solvent vapor is, for example, above the hole forming portion of the injection pipe when the solvent vapor is released into the auxiliary liquid.
[0016]
The invention according to claim 4 is the invention according to any one of claims 1 to 3, wherein the auxiliary liquid in the reaction vessel has fine holes through which the solvent vapor released in the auxiliary liquid passes. It was set as the structure which arrange | positions a micropore formation member.
[0017]
Examples of the fine hole forming member include a fine mesh or a plate-like member having a fine slit.
[0018]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0019]
The chemical treatment apparatus according to the embodiment of the present invention chemically treats wood to be treated with a mixed vapor of organic solvent vapor and water vapor in order to increase the drying speed of the wood. 1 is a system circuit diagram including a partial cross section, showing a schematic configuration of a chemical processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
[0020]
In FIG. 1, a chemical processing apparatus 1 according to this embodiment includes an object T to be processed, a sealed processing tank 2 that processes the object T with a mixed vapor of solvent vapor and water vapor, solvent vapor and water vapor. Is generated in the gas generator 3 provided separately from the processing tank 2 to generate the mixed steam, the water recovery tank 4 for recovering the water accumulated in the processing tank 2, and the gas generator 3. Among the mixed steam, a solvent recovery tank 5 for recovering the condensed solvent is provided.
[0021]
Further, the chemical processing apparatus 1 includes a vacuum pump device 61 for evacuating the inside of the processing tank 2, a circulation blower 62 for discharging the mixed vapor in the processing tank 2 to the outside once and returning it again, a processing tank 2 is provided with a condenser 63 for condensing the steam discharged from 2, and a heater 64 for heating the steam discharged from the processing tank 2.
[0022]
The processing tank 2 is connected to the gas generator 3 via pipes 71, 72, and 73, and the mixed steam generated by the gas generator 3 is injected into the processing tank 2.
[0023]
Further, a pipe 74 is connected to the upper part of the processing tank 2 so that the steam in the processing tank 2 is discharged from the pipe 74. In the middle of the pipe 74, a vacuum pump device 61 and a circulation blower 62 arranged in parallel are provided, and the pipe 74 is connected to the condenser 63. The condenser 63 is connected to the solvent recovery tank 5 via a pipe 75 and a trap 65. The trap 65 is for temporarily storing the solvent condensed by the condenser 63.
[0024]
Further, the heater 64 is provided via a pipe 76 between a pipe 74 for discharging the steam in the processing tank 2 and a pipe 73 for injecting the gas of the gas generator 3 into the processing tank 2. ing. Further, a pipe 77 for returning the vapor of the condenser 63 back to the gas generator 3 is connected to the pipe 63 in the condenser 63.
[0025]
The solvent recovery tank 5 is connected to the gas generator 3 via a pipe 78 so that the solvent liquid in the solvent recovery tank 5 is returned to the gas generator 3 by the solvent liquid pump 51.
[0026]
The processing tank 2 is connected to the water recovery tank 4 via a pipe 79 and a trap 66 connected to the bottom of the processing tank 2, and the water, sap, etc. accumulated in the processing tank 2 are collected in the water recovery tank. 4 is collected.
[0027]
Each device will be described in more detail.
[0028]
The processing tank 2 is configured so as to be openable and closable in a sealed manner, and accommodates the workpiece T in a state of being placed on a mounting table (not shown). In order to heat the inside of the processing tank 2 with the spray nozzle 21 provided at the tip of the pipe 73 for injecting the mixed steam of the gas generator 3 into the tank and the steam of the boiler B, and heating the tank with the steam The steam pipe 22 is disposed. A pipe 79 provided at the bottom of the processing tank 2 is connected to the upper part of the trap 66.
[0029]
A pressure equalizing pipe 81 connected to the processing tank 2 and a steam pipe 82 for taking steam from the boiler B into the trap 66 are connected to the upper part of the trap 66, and the lower part of the trap 66 and the water recovery tank 4 are connected. Are connected by a pipe 79.
[0030]
The water recovery tank 4 has a hanging partition and an upright partition in the tank. The water recovery tank 4 dives below the hanging partition and discharges water beyond the standing partition to the drum can 42 and the like by driving the water pump 41.
[0031]
The heater 64 heats the mixed steam flowing from the pipe 74 to the pipe 76 by exchanging heat with the high-temperature steam led from the boiler B to the steam pipe 64 a, and then sends the mixed steam to the pipe 73.
[0032]
The condenser 63 cools the mixed vapor flowing through the pipe 74 by exchanging heat with the low-temperature refrigerant introduced from the refrigeration apparatus R to the refrigerant pipe 63 a, and then sends the solvent liquid to the pipe 75 and the solvent vapor to the pipe 77. It has become. Note that a bypass pipe 83 bypasses the pipe 63 on the outlet side of the condenser 63 and the pipe 76 on the inlet side of the heater 64.
[0033]
The solvent liquid liquefied by the condenser 63 is recovered by the gas generator 3 through the pipe 75, the trap 65, the solvent recovery tank 5, and the pipe 78.
[0034]
A pressure equalizing pipe 84 connected to the side of the condenser 63, a pipe 75 connected to the bottom of the condenser 63, and a steam pipe 85 from the boiler B are connected to the upper portion of the trap 65. The lower part of the trap 65 and the solvent recovery tank 5 are connected via a pipe 75.
[0035]
The solvent recovery tank 5 stores the solvent liquid flowing in from the pipe 75 (the amount of water is very small) for a while while cooling with the cold water in the cold water pipe 52 connected to the cooling device C, The gas is recovered to the gas generator 3 through the pipe 78 by driving.
[0036]
The cooler 53 is connected to the upper part of the solvent recovery tank 5 by piping, and condenses by cooling the solvent vapor from the solvent recovery tank 5 by heat exchange with the low-temperature refrigerant led from the refrigeration apparatus R to the refrigerant pipe 54. Thus, it is recovered again in the solvent recovery tank 5 so as not to be released to the atmosphere as much as possible.
[0037]
Each pipe is provided with an open / close valve 9 that opens and closes according to a control signal from a control device (not shown) or manually.
[0038]
Further, the present chemical treatment apparatus 1 is configured to remove the residual solvent as much as possible after evacuating the solvent mixed vapor from the treatment tank 2 and before opening the treatment tank 2 to the atmosphere. A spray tank 67 is provided to pressurize the gas and bring the gas in the tank into contact with water to adsorb the residual solvent to water.
[0039]
In the spray tank 67, a pipe 70 branched from a pipe 71 is connected to the spray tank 67, and the pipe 70 is extended to the vicinity of the bottom in the spray tank 67, and a discharge nozzle 67a is provided at the tip thereof. . The water in the spray tank 67 is sprayed and circulated from the spray pipe 67c to the upper space in the spray tank 67 by driving of the spray pump 67b, and the gas is discharged from the discharge nozzle 67a into the water to adsorb the solvent in the gas to the water. Further, the solvent that has not been adsorbed is adsorbed with water sprayed from the spray pipe 67c.
[0040]
As shown in FIGS. 1 and 2, the gas generator 3 is provided separately from the basic liquid vaporization container 31 for storing an organic solvent liquid made of methylene chloride (MC) and the basic liquid vaporization container 31. And a reaction vessel 32 for storing water as an auxiliary liquid.
[0041]
The basic liquid vaporization vessel 31 has a cylindrical shape extending in the horizontal direction, and a solvent vapor outlet 31a for discharging solvent vapor is provided on the upper portion of the basic liquid vaporization vessel 31, and a reaction vessel is provided at the solvent vapor outlet 31a. An injection tube 33 communicated with 32 is connected. Further, an MC injection pipe 31b for injecting the solvent liquid into the container and a pipe 78 for returning the solvent in the solvent recovery tank 5 to the basic liquid evaporation container 31 are connected to the upper part of the basic liquid vaporization container 31. Yes.
[0042]
A heating part 31c for heating the methylene chloride liquid stored in the container is disposed at the bottom of the basic liquid vaporization container 31, and the heating part 31c is selectively provided to the boiler B or the cooling device C. The heating tube 31d is connected, and the heating tube 31d is arranged in a meandering manner in the container. The cooling device C is used for adjusting the heating temperature of the heating unit 31c or for forced cooling.
[0043]
Further, in the basic liquid vaporization container 31, a micropore forming member 31e having micropores through which the solvent vapor evaporated from the solvent liquid passes is disposed near the liquid surface in the solvent liquid, so that natural convection of the solvent liquid is performed. Therefore, the liquid surface is prevented from being disturbed, and only bubbles are sent from the basic liquid vaporization vessel 31 to the reaction vessel 32. The fine hole forming member 31e is a plate member having a fine mesh or a fine slit.
In addition, although not shown in figure in the basic liquid vaporization container 31, the liquid level meter for measuring the position of the liquid level of a solvent liquid is provided.
[0044]
As shown in FIGS. 1 and 2, the reaction vessel 32 has a cylindrical shape extending in the horizontal direction, and a mixed vapor outlet 32 a for discharging mixed vapor of solvent vapor and water vapor to the upper portion of the reaction vessel 32. And a pipe 1 for sending the mixed steam to the processing tank 2 is connected to the mixed steam outlet 32a.
[0045]
Further, an injection pipe 33 communicating with the basic liquid vaporization container 31 is connected to the upper part of the reaction container 32.
[0046]
One end side of the injection tube 33 communicates with the vapor layer in the basic liquid vaporization vessel 31 and the other end side is inserted into the reaction vessel 32, and the tip of the injection tube 33 inserted into the reaction vessel 32 is closed. In addition, a plurality of holes 33a are formed on the distal end side of the injection tube 33, and the hole forming portion 33b of the injection tube 33 is immersed in the auxiliary liquid in the reaction vessel 32, and is vaporized in the basic liquid vaporization vessel 31. The solvent vapor is discharged into the auxiliary liquid in the reaction vessel 32.
[0047]
Further, a water injection pipe 32b for injecting an auxiliary liquid that is water into the container is connected to the upper part of the reaction container 32.
[0048]
A heating part 32c for heating water stored in the container is disposed at the bottom of the reaction container 32 below the hole forming part 33b of the injection tube 33. The heating part 32c is a boiler. The heating tube 32d is selectively connected to B or the cooling device C, and the heating tube 32d is arranged in a meandering manner in the container. The cooling device C is used for adjusting the heating temperature of the heating unit 32c or for forced cooling.
[0049]
Further, in the auxiliary liquid in the reaction vessel 32, a perforated plate 34 is provided for causing the solvent vapor to collide with the rising path of the solvent vapor released into the auxiliary liquid. The perforated plate 34 is disposed above the hole forming portion 33b of the injection tube 33, and collides with the natural convection generated by the heating unit 32c to change the flow of the natural convection, and to the perforated plate 34. Solvent vapor bubbles are allowed to collide.
[0050]
Then, only small bubbles are allowed to pass through a large number of holes in the perforated plate 34, and large bubbles are accumulated on the lower surface of the perforated plate 34 to change the flow of the bubbles toward the inner surface of the vessel, thereby causing the bubbles to enter the reaction vessel 32. It is dispersed in a uniform manner so that the contact rate between solvent vapor and water is improved.
[0051]
Further, in the reaction vessel 32, a micropore forming member 32e having micropores through which solvent vapor in contact with water passes is disposed near the liquid level in the auxiliary liquid, and the liquid level is obtained by natural convection of the auxiliary liquid. Is prevented, and the solvent vapor is passed through the fine holes of the fine hole forming member 32e to generate finer bubbles, thereby further improving the contact between the solvent vapor and water, thereby producing a high quality mixed vapor. It is made to generate. The fine hole forming member 32e uses a fine mesh or a plate-like member having a fine slit.
[0052]
In addition, although not shown in figure in the reaction container 32, the liquid level meter for measuring the position of the liquid level of a solvent liquid is provided.
[0053]
Then, the mixed steam generated in the reaction vessel 32 is injected into the processing tank 2 through pipes 71, 72, 73.
[0054]
In the present embodiment, methylene chloride is used as the chlorinated organic solvent.
[0055]
In addition, the tanks and containers constituting the chemical treatment apparatus 1 are configured as sealed containers in order to prevent scattering of odorous chlorinated organic solvents into the atmosphere.
[0056]
Then, the process of processing to-be-processed object T with the mixed vapor | steam of solvent vapor | steam and water vapor | steam with the chemical processing apparatus 1 is demonstrated.
[0057]
In the chemical processing apparatus 1, a processing tank primary evacuation step, a solvent vapor supply step, a solvent vapor circulation step, and a processing tank secondary evacuation step are mainly performed. Each of these steps will be described sequentially.
"Primary processing tank evacuation process"
This is a step of evacuating excess gas such as air in the processing tank 2 that has been opened to the atmosphere at room temperature before chemically processing the workpiece T stored in the processing tank 2.
[0058]
In this step, the pipe 73 and the pipe 79 connected to the processing tank 2 are closed by an on-off valve, the vacuum pump device 61 is evacuated through the pipe 74, and the temperature in the processing tank 2 is adjusted to the solvent. The temperature is raised by boiler B so as to prevent vapor condensation (for example, 85 ° C. when methylene chloride is used).
[0059]
At the same time, in the gas generator 3, the basic liquid vaporization container 31 and the heating units 31 c and 32 c of the reaction container 32 are heated to a temperature at which a mixed vapor of solvent vapor and water vapor is generated (for example, When methylene chloride is used, about 80 ° C.).
"Solvent vapor supply process"
In this step, when the processing tank 2 is evacuated, the driving of the vacuum pump device 61 is stopped, the on-off valves of the piping 74 and the outlet side piping 79 of the trap 66 are closed, the communication is shut off, and the processing tank 2 is a process of injecting the mixed steam into the processing tank 2 and the trap 66 from the piping 71, the piping 72, and the piping 73 for communicating the gas generator 3 with the gas generator 3 using the pressure difference.
[0060]
By this step, the mixed vapor of the organic solvent vapor and the water vapor is exposed to the object to be processed T in the processing tank 2 and the mixed vapor starts to penetrate into the object to be processed T.
"Solvent vapor circulation process"
This step is a circulation step of the mixed steam that uses the circulation blower 62 and once returns the mixed steam injected into the processing tank 2 out of the tank and then returns it to the tank again.
[0061]
In this step, the mixed steam in the processing tank 2 is taken out by the circulation blower 62 and the heating degree or vaporization state of the mixed steam is adjusted by the condenser 63 or the heater 64, and then the pipe 76, the pipe 77, and the pipe 73 are used. Is returned to the processing tank 2.
[0062]
Moreover, this process is performed continuously for about 6 to 8 hours, whereby the mixed vapor penetrates deep inside the workpiece T, and the cell pits of the workpiece T are destroyed.
[0063]
At this time, the sap of the wood is also melted and stored in the trap 66 from the bottom of the processing tank 2.
"Secondary vacuuming process for processing tank"
This step is a step of recovering the solvent vapor in the processing tank 2 to the gas generator 3 through the solvent recovery tank 5 by evacuation.
[0064]
In this step, the pipe 73 and the outlet pipe 79 of the trap 66 are opened and closed while the temperature in the processing tank 2 is lowered to a temperature at which the water vapor in the mixed vapor condenses and the solvent vapor remains in a vaporized state. The valve is closed to cut off the communication, and the vacuum pump device 61 is driven to evacuate the processing tank 2 and the trap 66.
[0065]
Thereby, unnecessary substances, such as a solvent, warm water, and the sap which melt | dissolved in these, are extracted from the inner part in the to-be-processed object T. In this case, the solvent vapor reaches the condenser 63 via the pipe 74, and the solvent liquid condensed and liquefied by the condenser 63 is transferred from the pipe 75 to the trap 65 and then stored in the solvent recovery tank 5.
[0066]
When the solvent liquid reaches a predetermined liquid level or higher in the solvent recovery tank 5, the solvent liquid is recovered into the basic liquid vaporization container 31 of the gas generator 3 through the pipe 78 by driving the solvent liquid pump 51.
[0067]
On the other hand, unnecessary materials and water dropped on the bottom of the processing tank 2 are collected from the pipe 79 through the trap 66 to the water collection tank 4, and the water collected in the water collection tank 4 is stored in the drum can 42.
[0068]
Further, in order to reduce the residual solvent vapor in the processing tank 2 as much as possible, the gas in the processing tank 2 is discharged to the spray tank 67 by driving the vacuum pump device 61, and the solvent vapor remaining in the gas is adsorbed to water. I do. Further, all the solvent vapor released from the safety valve (not shown) of each tank in each step described above is also guided to the spray tank 67.
[0069]
Thus, when a series of chemical treatments using the mixed vapor of solvent vapor and water vapor is completed, the temperature in the treatment tank 2 is raised again by the boiler B, and the wood is dried. In this drying process, chemical treatment with a mixed vapor of solvent vapor and water vapor is performed before the drying treatment to destroy the pits of the wood cells, so that moisture can be discharged from the wood well. .
[0070]
【The invention's effect】
The gas generator according to the first aspect of the present invention separately provides a basic liquid vaporization container for storing an organic solvent liquid and a reaction container for storing an auxiliary liquid, and heats the single liquid in each container to vaporize In addition, the solvent vapor vaporized in the basic liquid vaporization vessel is released into the auxiliary liquid to generate a mixed vapor of solvent vapor and water vapor. Thus, the auxiliary liquid is not agitated, the state of each liquid can be kept stable, and since it is a single liquid, the liquid level can be easily controlled and the liquid volume can be easily managed, and a high quality mixed vapor can be obtained.
[0071]
After the solvent vapor is generated in the basic liquid vaporization vessel, the solvent vapor is released into the auxiliary liquid in the reaction vessel, so that the amount of solvent vapor released into the reaction vessel can be easily controlled. As a result, it is possible to reduce the nonuniformity of the amount of contact reaction with water and the nonuniformity of time, and a stable quality mixed steam can be obtained.
[0072]
Since the solvent solution as the basic solution and the water as the auxiliary solution are housed in separate containers and heated separately by the heating unit, the basic solution and the auxiliary solution are individually subjected to pressure and temperature conditions. In addition, by providing other regulators such as a superheater and a decompression pressure detector in the injection pipe for releasing the solvent vapor evaporated in the basic liquid vaporization container into the auxiliary liquid, the production temperature of the mixed vapor , Can expand the range of pressure.
[0073]
The invention according to claim 2 is the invention according to claim 1, further comprising an injection tube having one end connected to the vapor layer in the basic liquid vaporization container and the other end inserted into the reaction container. The tip of the injection tube inserted into the tube is closed, a plurality of holes are formed on the tip side of the injection tube, and the hole forming part of the injection tube is immersed in the auxiliary liquid in the reaction vessel to evaporate the basic liquid Since the solvent vapor evaporated in the container is released into the auxiliary liquid in the reaction container, the solvent vapor can be reliably brought into contact with the auxiliary liquid.
[0074]
Furthermore, the invention according to claim 3 is the invention according to claim 1 or claim 2, wherein the solvent vapor is supplied to the rising path of the solvent vapor released into the auxiliary liquid in the auxiliary liquid in the reaction vessel. Since the perforated plate to be collided is provided, the solvent vapor collides with the perforated plate in the auxiliary liquid of the reaction vessel and is dispersed, so that the unevenness of the contact amount of the solvent vapor with water and the time unevenness are further reduced. And a better quality mixed steam can be obtained.
[0075]
Moreover, in the invention according to claim 4, in the invention according to any one of claims 1 to 3, micropores through which the solvent vapor released into the auxiliary liquid passes through the auxiliary liquid in the reaction vessel. Since the micropore forming member is arranged, the solvent vapor is passed through the micropore forming member to crush and deform the large bubble solvent vapor, thereby further improving the contact reaction rate with the auxiliary liquid.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a system circuit diagram showing a schematic configuration of a chemical processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of a gas generator used in the chemical processing apparatus of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view of a gas generator of a chemical processing apparatus that has been conventionally used.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Chemical processing apparatus 2 Processing tank 3 Gas generator 31 Basic liquid vaporization container 31c Heating part 32 Reaction container 32c Heating part 33 Injection pipe 34 Perforated plate 31e Micropore formation member

Claims

In a chemical processing apparatus equipped with a processing tank for chemically processing an object to be processed with a mixed vapor of solvent vapor obtained by vaporizing an organic solvent and water vapor,
There is a heating part inside, an organic solvent liquid is stored, and a basic liquid vaporization container for heating and vaporizing the organic solvent liquid by the heating part is provided separately from the basic liquid vaporization container. The auxiliary liquid which is water is stored, the auxiliary liquid is heated by the heating unit, and the solvent vapor vaporized in the basic liquid vaporization container is discharged into the auxiliary liquid, so that the solvent vapor and the water vapor A gas generator comprising a reaction vessel for generating a mixed vapor of
A chemical processing apparatus for injecting mixed steam generated by the gas generator into a processing tank.

One end side communicates with the vapor layer in the basic liquid vaporization vessel, and the other end side is provided with an injection tube inserted into the reaction vessel, and the tip of the injection tube inserted into the reaction vessel is closed, and the injection tube A plurality of holes are formed on the distal end side, and the hole forming portion of the injection tube is immersed in the auxiliary liquid in the reaction vessel to release the solvent vapor evaporated in the basic liquid vaporization vessel into the auxiliary liquid in the reaction vessel. The chemical processing apparatus according to claim 1, which is configured as described above.

The chemical processing apparatus according to claim 1 or 2, wherein a perforated plate is provided in the auxiliary liquid in the reaction vessel so that the solvent vapor collides with the rising path of the solvent vapor released into the auxiliary liquid.

The chemistry according to any one of claims 1 to 3, wherein a micropore forming member having micropores through which the solvent vapor released in the auxiliary liquid passes is provided in the auxiliary liquid in the reaction vessel. Processing equipment.