JP2000117204A - Disk substrate washer - Google Patents

Disk substrate washer

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JP2000117204A
JP2000117204A JP10293404A JP29340498A JP2000117204A JP 2000117204 A JP2000117204 A JP 2000117204A JP 10293404 A JP10293404 A JP 10293404A JP 29340498 A JP29340498 A JP 29340498A JP 2000117204 A JP2000117204 A JP 2000117204A
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JP
Japan
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substrate
scrub
disk substrate
washing water
cleaning
Prior art date
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Pending
Application number
JP10293404A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hisashi Toda
久志 戸田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
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Publication of JP2000117204A publication Critical patent/JP2000117204A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve washing effect by providing with a rotating mechanism for supporting a disk substrate in a straight state to rotate it and a pair of scrub rolls each abutted on both surfaces of the substrate and rotated and feeding washing water to the surface of the disk substrate by the rotation of blades through scrub materials. SOLUTION: At the time of washing a disk substrate 2, a central opening 3 of the substrate 2 is fitted on a substrate holding utensil 4 to make the substrate 2 in a straight state and rotated, and also scrub rolls 6a, 6b are abutted on the surfaces of the substrate 2 and rotated. In this state, washing water is fed from a washing water feeding pipe 9 and is injected into a hollow part of a rotating shaft 7. The injected washing water is forcibly fed downward by blades rotated with the rotating shaft 7 and fed onto the surface of the substrate 2 through scrub materials 5. When feed balance of the washing water is lost and the quantity fed from the washing water feeding pipe is larger than that fed downward by the blades, the balance is discharged from an overflow hole to prevent an overflow from the upper part.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はディスク基板の洗浄
装置、更に詳しくは磁気ディスク、光記録ディスク等の
情報記録媒体の製造における基板の洗浄に適するディス
ク基板の洗浄方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a disk substrate cleaning apparatus, and more particularly to a disk substrate cleaning method suitable for cleaning a substrate in the manufacture of an information recording medium such as a magnetic disk and an optical recording disk.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、コンピュータ等の情報処理技術の
発達に伴い、その外部記憶装置として磁気ディスク等の
磁気記録媒体や、光磁気ディスクや相変化型光ディス
ク、DVD−ROMなどの光記録媒体が広く用いられて
いる。磁気記録媒体としては、従来、アルミニウム合金
基板にアルマイト処理やNi−Pメッキ等の非磁性メッ
キ処理を施した非磁性基板に、CrまたはCr合金、N
i−Al合金等の下地層を形成し、次いで、Co系合金
の磁性層を形成した上に炭素質の保護層で被覆し、潤滑
剤を塗布したものが使用されている。かかる磁気記録媒
体は記録の高密度化が進行しており、磁気ディスクと磁
気ヘッドとの間隔、すなわち浮上量が小さくなってお
り、最近では0.10μm以下が要求されている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of information processing technologies such as computers, magnetic recording media such as magnetic disks, and optical recording media such as magneto-optical disks, phase-change optical disks, and DVD-ROMs have been used as external storage devices. Widely used. Conventionally, as a magnetic recording medium, a non-magnetic substrate obtained by subjecting an aluminum alloy substrate to a non-magnetic plating treatment such as an alumite treatment or Ni-P plating is treated with Cr or Cr alloy,
An underlayer of an i-Al alloy or the like is formed, and then a magnetic layer of a Co-based alloy is formed, coated with a carbonaceous protective layer, and coated with a lubricant. In such a magnetic recording medium, the recording density has been increasing, and the distance between the magnetic disk and the magnetic head, that is, the flying height has been reduced, and recently, 0.10 μm or less is required.

【0003】また、光記録媒体として、プラスチック基
板に反射層、磁性層および保護層を形成した後潤滑剤を
塗布した光磁気ディスクが用いられているが、光磁気デ
ィスクにおいても浮上量が3μm以下の浮上型ヘッドあ
るいは接触型ヘッドが使用されている。記録あるいは再
生ヘッドの浮上量が小さくなると記録媒体表面の均一性
は高い精度が要求され、異物があるとヘッドクラッシュ
が生じて破損に至るおそれがあり、また、ヘッドクラッ
シュに至らないまでも、記録・再生のエラーの原因とな
る。
As an optical recording medium, a magneto-optical disk in which a reflective layer, a magnetic layer, and a protective layer are formed on a plastic substrate and then coated with a lubricant is used, but the flying height of the magneto-optical disk is 3 μm or less. Floating head or contact head. When the flying height of the recording or reproducing head is small, high uniformity of the recording medium surface is required, and if there is a foreign substance, a head crash may occur, leading to breakage.・ It may cause a playback error.

【0004】また、磁気ディスク等は、ディスク起動時
にヘッドがディスク面に固着したまま浮上しないという
付着現象が生じたり、動作中にヘッドとディスクとが接
触して摩擦抵抗のため正常な回転が阻害される問題があ
る。磁気ディスクにおいては特に、上述の高密度化(低
浮上量化)と並行して小型化も進められており、スピン
ドル回転用のモーターもますます小さくなっている。そ
の結果、モーターのトルクが不足し、起動時に磁気ヘッ
ドが磁気ディスク面に固着したまま浮上しないという付
着現象が生ずるおそれがある。また動作中に磁気ヘッド
と磁気ディスクとが接触して、摩擦抵抗のため正常な回
転が阻害されるおそれもある。
In addition, a magnetic disk or the like causes an adhesion phenomenon that the head is fixed to the disk surface and does not fly when the disk is started, or the head and the disk come into contact during operation and normal rotation is hindered due to frictional resistance. There are problems. In particular, the size of the magnetic disk is also being reduced in parallel with the above-mentioned high density (low flying height), and the motor for rotating the spindle is becoming smaller. As a result, the torque of the motor is insufficient, and there is a possibility that an adhesion phenomenon in which the magnetic head does not float while being fixed to the magnetic disk surface at the time of startup may occur. In addition, the magnetic head may come into contact with the magnetic disk during operation, and normal rotation may be hindered due to frictional resistance.

【0005】これらの現象の発生を防止する手段とし
て、磁気ディスクの場合は、基板表面に微細な凹凸を形
成するテキスチャ加工と称する表面処理が行われてい
る。かかるテキスチャ加工あるいは研磨の後には極めて
高度な洗浄を必要とする。従来、ディスク基板の洗浄
は、図1に示す洗浄装置を用いて行なわれている。図1
の洗浄装置1は、ディスク基板2が、その中央に設けら
れた開孔3に基板保持具4が嵌合されて直立した状態で
支持され回転される。
As means for preventing the occurrence of these phenomena, in the case of a magnetic disk, surface treatment called texture processing for forming fine irregularities on the substrate surface is performed. After such texturing or polishing, a very high degree of cleaning is required. Conventionally, cleaning of a disk substrate is performed using a cleaning apparatus shown in FIG. FIG.
In the cleaning apparatus 1, the disk substrate 2 is supported and rotated in an upright state with a substrate holder 4 fitted in an opening 3 provided in the center thereof.

【0006】ディスク基板2の両面には多孔性のスクラ
ブ材5を周面に有する一対のスクラブロール6a、6b
が当接するように配設され、両スクラブロール6a、6
bは中空の回転軸7が連設されギヤ8によって回転駆動
されるように構成されており、洗浄水供給管9を通して
供給された洗浄水は中空の回転軸7を通してスクラブロ
ール6a、6b内に入り、スクラブ材5を通してディス
ク基板2表面に供給されるように構成されている。
A pair of scrub rolls 6a, 6b having a porous scrub material 5 on the peripheral surface are provided on both surfaces of the disk substrate 2.
Are arranged in contact with each other, and both scrub rolls 6a, 6
b is configured so that a hollow rotary shaft 7 is continuously connected and driven to rotate by a gear 8, and the cleaning water supplied through the cleaning water supply pipe 9 is passed through the hollow rotary shaft 7 into scrub rolls 6a and 6b. And is supplied to the surface of the disk substrate 2 through the scrub material 5.

【0007】しかして、従来の洗浄装置1は図4に示す
ように、洗浄水供給管9が中空の回転軸7内に開口さ
れ、回転軸7と洗浄水供給管9間には摺動部材10を介
装してスクラブロール6内を封止することによって、ス
クラブロール6内の水圧を高くしてスクラブ材5を通し
て洗浄水がディスク基板2表面に供給されるように構成
されている。このため、従来の洗浄装置1においては、
回転軸7に固定され回転する摺動部材10が洗浄水供給
管9と摺動して摩擦が生じるため、摺動部材10が摩耗
し微粉となって洗浄水に混入してディスク基板2の表面
に供給されてディスク基板2表面に異物が付着する原因
となっていた。
In the conventional cleaning apparatus 1, as shown in FIG. 4, a cleaning water supply pipe 9 is opened in a hollow rotary shaft 7, and a sliding member is provided between the rotary shaft 7 and the cleaning water supply pipe 9. By sealing the inside of the scrub roll 6 with the interposition of 10, the water pressure in the scrub roll 6 is increased, and the cleaning water is supplied to the surface of the disk substrate 2 through the scrub material 5. For this reason, in the conventional cleaning device 1,
The sliding member 10 fixed to the rotating shaft 7 and rotating slides with the cleaning water supply pipe 9 to generate friction, so that the sliding member 10 is abraded into fine powder and mixed into the cleaning water to mix with the surface of the disk substrate 2. To cause foreign matter to adhere to the surface of the disk substrate 2.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、洗浄水に異
物を混入させることなく、所定流量で安定して洗浄水を
供給することが可能で洗浄効果の優れたディスク基板の
洗浄装置を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a disk substrate cleaning apparatus which is capable of stably supplying cleaning water at a predetermined flow rate without introducing foreign matter into the cleaning water and has an excellent cleaning effect. Is what you do.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、かかる課題を
解決するために鋭意検討を行った結果なされたもので、
ディスク基板を直立した状態に支持し回転する回転機構
と、洗浄水を供給する洗浄水供給機構と、透水性のスク
ラブ材を周面に有し回転軸を縦方向とし基板の両面にそ
れぞれ当接して回転する一対のスクラブロールとからな
り、スクラブロールの上端に中空の回転軸が連設されそ
の内部に羽根が固定され、回転軸内に供給された洗浄水
を羽根の回転によってスクラブ材を通してディスク基板
表面に送給するようにしてなるディスク基板の洗浄装置
を提供するものである。
Means for Solving the Problems The present invention has been made as a result of intensive studies in order to solve such problems.
A rotating mechanism that supports and rotates the disk substrate in an upright state, a cleaning water supply mechanism that supplies cleaning water, and a water-permeable scrubbing material on a peripheral surface, a rotating shaft in a vertical direction, and abutting on both surfaces of the substrate. A hollow rotating shaft is connected to the upper end of the scrub roll, and the blades are fixed inside the scrub roll.The washing water supplied to the rotating shaft is passed through the scrubbing material by the rotation of the blades. An object of the present invention is to provide an apparatus for cleaning a disk substrate, which is supplied to a substrate surface.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明は、磁気記録媒体、光磁気
ディスク、相変化型光ディスク、DVD−ROM等の光
記録媒体等の情報記録媒体用のディスク基板の洗浄に適
用される。情報記録媒体用のディスク基板の洗浄は、デ
ィスク基板の研磨、テキスチャ加工、ポリッシュ加工の
後等に行われる。なお、本発明においてディスク基板と
は、記録媒体の基盤を形成する機材から機能層が積層さ
れて製品に至るまでの各段階におけるものを含むものと
する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention is applied to cleaning of a disk substrate for an information recording medium such as a magnetic recording medium, a magneto-optical disk, a phase change optical disk, and an optical recording medium such as a DVD-ROM. Cleaning of the disc substrate for the information recording medium is performed after polishing, texturing, polishing, etc. of the disc substrate. In the present invention, the disk substrate includes those at each stage from a device forming a base of a recording medium to a product in which functional layers are laminated to a product.

【0011】磁気記録媒体としては、一般に基板上に下
地層、磁性層および保護層が順次形成される。本発明に
使用される磁気記録媒体の非磁性基板としては、一般に
アルミニウムまたはアルミニウム合金からなるアルミニ
ウム系金属を使用し、これを所定の厚さのディスク状基
板形状に加工した後、その表面が鏡面加工される。この
基板に非磁性金属、例えば、Ni−P合金、または、N
i−Cu−P合金等を無電解メッキ処理等により積層
し、更にこれにテキスチャ加工した後、下地層、磁性
層、保護層等が積層されて磁気ディスクが形成される。
As a magnetic recording medium, an underlayer, a magnetic layer and a protective layer are generally formed on a substrate in this order. As the non-magnetic substrate of the magnetic recording medium used in the present invention, an aluminum-based metal generally made of aluminum or an aluminum alloy is used, and after processing this into a disk-shaped substrate having a predetermined thickness, the surface is mirror-finished. Processed. A non-magnetic metal such as a Ni-P alloy or N
After laminating an i-Cu-P alloy or the like by electroless plating or the like, and further performing a texturing process, an underlayer, a magnetic layer, a protective layer, and the like are laminated to form a magnetic disk.

【0012】テキスチャ加工工程に至る前の基板の処理
工程としては、帯状のアルミニウム系金属薄板を基板形
状に裁断した後、角部を研削するチャンファリング工程
を得て、平滑研削するグラインディング工程、Ni−P
等のメッキ工程、表面を平滑化するポリッシュ工程が行
なわれ、その間に、前工程で発生した応力歪みを除去す
るための焼成(熱処理)工程が行なわれる。ポリッシュ
加工は例えば、表面に遊離砥粒を付着してしみ込ませた
ポリッシュパッドの間に基板をはさみこみ、界面活性剤
水溶液等の研磨液を補給しながらポリッシュ加工を行な
い、通常2〜5μm程度ポリッシュしてその表面を平均
表面粗さRaが50オングストローム以下、望ましくは
30オングストローム以下に鏡面仕上げする。
As a substrate processing step before the texturing step, a strip-shaped aluminum-based thin metal plate is cut into a substrate shape, and then a chamfering step of grinding a corner portion is performed, and a grinding step of smooth grinding is performed. Ni-P
And the like, and a polishing step for smoothing the surface are performed. During that time, a firing (heat treatment) step for removing the stress distortion generated in the previous step is performed. Polishing is performed, for example, by sandwiching a substrate between polishing pads that have been impregnated with free abrasive grains adhered to the surface, and polishing is performed while replenishing a polishing solution such as an aqueous solution of a surfactant. The surface is mirror-finished to an average surface roughness Ra of 50 Å or less, preferably 30 Å or less.

【0013】また、テキスチャ加工としては例えば、2
500〜6000#程度のアルミナ砥粒を担持した研磨
テープを用いるテープ研削または、遊離砥粒を用いるス
ラリー研削により、上記ポリッシュ加工を施した基板面
に、平均表面粗さRaが20オングストローム以上、好
ましくは30〜300オングストローム、さらに好まし
くは50〜150オングストロームに形成された条痕の
交差する角度が好ましくは10〜40°、更に好ましく
は10〜30°の範囲の微細な溝もしくは凹凸を精度よ
く形成するものであり、基板表面にクロスパターンの条
痕を形成することは、吸着特性が改善されるという点で
好ましい。
As the texture processing, for example, 2
By means of tape grinding using a polishing tape carrying alumina abrasive grains of about 500 to 6000 #, or slurry grinding using loose abrasive grains, the polished substrate surface has an average surface roughness Ra of 20 Å or more, preferably Is formed with a precision of 30 to 300 angstroms, more preferably 50 to 150 angstroms, in which the crossing angle of the streaks is preferably 10 to 40 °, more preferably 10 to 30 °. It is preferable to form a cross-pattern streak on the substrate surface in that the adsorption characteristics are improved.

【0014】テキスチャ加工された基板は、下地層が形
成される。基板上に形成する下地層は、従来公知の非磁
性下地層でよく、例えば、Cr、Ti、Ni等で形成す
ることができる。なお、下地層のCrまたはTiは、通
常、これらの結晶性を損なわない範囲において、例え
ば、数原子%の範囲でSi、V、Cu等を含有する合金
であっても良い。本発明においては、特に、Cr系の下
地層が好適である。下地層の膜厚は、通常50〜200
0オングストロームの範囲である。
An underlayer is formed on the textured substrate. The underlayer formed on the substrate may be a conventionally known nonmagnetic underlayer, and may be formed of, for example, Cr, Ti, Ni, or the like. In addition, Cr or Ti of the underlayer may be an alloy containing Si, V, Cu, or the like in a range that does not impair the crystallinity thereof, for example, in a range of several atomic%. In the present invention, a Cr-based underlayer is particularly preferable. The thickness of the underlayer is usually 50 to 200.
0 angstrom range.

【0015】上記基板の下地層上に形成される磁性層
は、一般に、Co−Cr、Co−Ni、Co−Cr−
X、Co−Ni−X、Co−W−X等で表わされるコバ
ルト系合金薄膜層である。ここでXとしては、Li、S
i、P、Ca、Ti、V、Cr、Ni、As、Y、Z
r、Nb、Mo、Ru、Rh、Ag、Sb、Hf、T
a、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、La、Ce、
Pr、Nd、Pm、Sm、EuおよびBよりなる群より
選ばれた1種または2種以上の元素が用いられる。磁性
層は、通常、スパッタリング等の手段によって、基板の
下地層上に被着形成される。この磁性層の膜厚は、通常
100〜1000オングストロームの範囲が好ましい。
The magnetic layer formed on the underlayer of the substrate is generally made of Co—Cr, Co—Ni, Co—Cr—.
It is a cobalt-based alloy thin film layer represented by X, Co-Ni-X, Co-WX or the like. Here, X is Li, S
i, P, Ca, Ti, V, Cr, Ni, As, Y, Z
r, Nb, Mo, Ru, Rh, Ag, Sb, Hf, T
a, W, Re, Os, Ir, Pt, Au, La, Ce,
One or more elements selected from the group consisting of Pr, Nd, Pm, Sm, Eu and B are used. The magnetic layer is usually formed on the base layer of the substrate by means such as sputtering. The thickness of the magnetic layer is usually preferably in the range of 100 to 1000 Å.

【0016】保護層は、炭素膜、水素化カーボン膜、窒
素化カーボン膜、TiC、SiC等の炭化膜、SiN、
TiN等の窒化膜、SiO、Al2 3 、ZrO等の酸
化物膜等によって構成され、通常、スパッタ法により形
成される。保護層としては、炭素膜、水素化カーボン膜
および窒素化カーボン膜が特に好ましい。保護層が形成
された後ポリッシュ加工が施され洗浄された後潤滑剤が
塗布される。潤滑層の厚さは約15〜50オングストロ
ームの範囲が好ましい。また、潤滑層形成後に加熱処理
を施してもよい。加熱温度は50℃以上であるが、潤滑
剤の分解温度よりも低い温度で適宜選択すればよい。
The protective layer includes a carbon film, a hydrogenated carbon film, a nitrogenated carbon film, a carbonized film such as TiC and SiC, SiN,
It is composed of a nitride film such as TiN, an oxide film such as SiO, Al 2 O 3 , ZrO and the like, and is usually formed by a sputtering method. As the protective layer, a carbon film, a hydrogenated carbon film, and a nitrogenated carbon film are particularly preferable. After the protective layer is formed, polishing is performed, and after cleaning, a lubricant is applied. Preferably, the thickness of the lubricating layer ranges from about 15 to 50 Angstroms. Further, a heat treatment may be performed after the formation of the lubricating layer. The heating temperature is 50 ° C. or higher, but may be appropriately selected at a temperature lower than the decomposition temperature of the lubricant.

【0017】潤滑剤としてはフッ素系液体潤滑剤が好ま
しい。特には、末端または側鎖に水酸基を有し、分子骨
格中にフルオロカーボン骨格を有する化合物、例えば、
パーフルオロカルボン酸エステル、パーフルオロチオー
ルカルボン酸エステル、パーフルオロジカルボン酸エス
テル、パーフルオロカルボン酸パーフルオロアルキルエ
ステル、パーフルオロ安息香酸エステル、カルボン酸パ
ーフルオロアルキルエステル、ジカルボン酸パーフルオ
ロアルキルエステル、カルボン酸パーフルオロアルコキ
シアルキルエステル、パーフルオロカルボン酸アミド、
パーフルオロポリエーテル、パーフルオロポリエーテル
カルボン酸、パーフルオロポリエーテルアルコール、パ
ーフルオロポリエーテルエステル等を用いることができ
る。
As the lubricant, a fluorine-based liquid lubricant is preferable. Particularly, a compound having a hydroxyl group at a terminal or a side chain and having a fluorocarbon skeleton in a molecular skeleton, for example,
Perfluorocarboxylic acid ester, perfluorothiolcarboxylic acid ester, perfluorodicarboxylic acid ester, perfluorocarboxylic acid perfluoroalkyl ester, perfluorobenzoic acid ester, carboxylic acid perfluoroalkyl ester, dicarboxylic acid perfluoroalkyl ester, carboxylic acid Perfluoroalkoxyalkyl ester, perfluorocarboxylic acid amide,
Perfluoropolyether, perfluoropolyether carboxylic acid, perfluoropolyether alcohol, perfluoropolyether ester, and the like can be used.

【0018】一方、光記録媒体にはピットやグルーブを
設けた樹脂基板が用いられる。樹脂としては、アクリル
系樹脂、ノルボルネン系樹脂、ポリオレフィン樹脂、液
晶ポリマー、ポリカーボネート等が挙げられ、例として
ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ARTON
(日本合成ゴム社 ノルボルネン系エステル置換環状オ
レフィン開環重合体水添物)、ZEONEX(日本ゼオ
ン社 ノルボルネン系環状オレフィン開環重合体水添
物)、芳香族ポリエステル系液晶ポリマー、ポリカーボ
ネートなどが挙げられる。
On the other hand, a resin substrate provided with pits and grooves is used for an optical recording medium. Examples of the resin include an acrylic resin, a norbornene resin, a polyolefin resin, a liquid crystal polymer, and a polycarbonate. Examples of the resin include polymethyl methacrylate (PMMA) and ARTON.
(Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd. Norbornene-based ester-substituted cyclic olefin ring-opening polymer hydrogenated product), ZEONEX (Nippon Zeon Co., Ltd., norbornene-based cyclic olefin ring-opening polymer hydrogenated product), aromatic polyester-based liquid crystal polymer, polycarbonate and the like. .

【0019】ピットおよびグルーブを設けたスタンパー
をもとに、これら樹脂を用いて射出成形、射出圧縮成
形、放射線硬化などによりピット/グルーブを転写形成
して樹脂基板とする。ガラス、金属、セラミック等と異
なり、樹脂を用いることで、幅または長さが2μm以
下、深さが100nm以下の微細なピットやグルーブが
精密かつ安価に形成できる。基板の厚みは0.4〜2m
m程度が一般的である。あまり薄すぎると、基板が自重
によりたわんで平面性が出にくくなるが、2mmを超え
ると強度面では大差がなくなる。
Based on a stamper provided with pits and grooves, pits / grooves are transferred and formed by injection molding, injection compression molding, radiation curing or the like using these resins to form a resin substrate. Unlike glass, metal, ceramic, and the like, by using a resin, fine pits or grooves having a width or length of 2 μm or less and a depth of 100 nm or less can be formed accurately and at low cost. Substrate thickness is 0.4-2m
m is common. If the thickness is too thin, the substrate is bent by its own weight and it is difficult to obtain flatness, but if it exceeds 2 mm, there is no great difference in strength.

【0020】基板上に形成する光記録層としては、各種
のものを用いることができ、例えば光磁気記録層や相変
化型記録層、色素型記録層が用いられる。また、層構成
としても特に制限はなく、各種の層構成を採用すること
ができる。光磁気記録層としては、例えばTbFe、T
bFeCo、TbCo、GdFeCo、DyTbFeC
o等の希土類と遷移金属との非晶質磁性層、MnBi、
MnCuBi等の多結晶垂直磁化層、Pt/Co多層膜
等が用いられる。光磁気記録層は単層であっても良い
し、オーバーライトやMSRを可能とするためにGdT
bFe/TbFeのように2層以上の磁性層を重ねて用
いても良い。
As the optical recording layer formed on the substrate, various types can be used, for example, a magneto-optical recording layer, a phase change recording layer, and a dye recording layer. The layer configuration is not particularly limited, and various layer configurations can be adopted. As the magneto-optical recording layer, for example, TbFe, Tb
bFeCo, TbCo, GdFeCo, DyTbFeC
an amorphous magnetic layer of a rare earth such as o and a transition metal, MnBi,
A polycrystalline perpendicular magnetization layer such as MnCuBi, a Pt / Co multilayer film or the like is used. The magneto-optical recording layer may be a single layer, or GdT to enable overwriting and MSR.
Two or more magnetic layers such as bFe / TbFe may be stacked and used.

【0021】相変化型記録層としては、例えばGeSb
TeやInSbTe、AgSbTe、AgInSbTe
といった化合物が使用できる。好ましくは、{(Sb2
Te3 1-x (GeTe)x 1-y Sby (0.2<x
<0.9、0≦y<0.1)合金、および該3元合金に
10原子%程度までのIn、Ga、Zn、Sn、Si、
Cu、Au、Ag、Pd、Pt、Pb、Cr、Co、
O、S、Se、Ta、Nb、Vのうち少なくとも1種を
含む合金薄膜が挙げられる。あるいは、高速でのオーバ
ーライトが可能な材料として、Sb70Te30共晶点近傍
のSbTe合金を主成分とする、MSbTe(M=I
n、Ga、Zn、Ge、Sn、Si、Cu、Au、A
g、Pd、Pt、Pb、Cr、Co、O、S、Se、T
a、Nb、Vのうち少なくとも1種)合金薄膜が好まし
い。
As the phase change type recording layer, for example, GeSb
Te, InSbTe, AgSbTe, AgInSbTe
Can be used. Preferably, {(Sb 2
Te 3) 1-x (GeTe ) x} 1-y Sb y (0.2 <x
<0.9, 0 ≦ y <0.1) alloy and the ternary alloy, up to about 10 atomic% of In, Ga, Zn, Sn, Si,
Cu, Au, Ag, Pd, Pt, Pb, Cr, Co,
An alloy thin film containing at least one of O, S, Se, Ta, Nb, and V is exemplified. Alternatively, as a material that can be overwritten at high speed, MSbTe (M = I) mainly containing an SbTe alloy near the eutectic point of Sb 70 Te 30.
n, Ga, Zn, Ge, Sn, Si, Cu, Au, A
g, Pd, Pt, Pb, Cr, Co, O, S, Se, T
a, Nb, V).

【0022】光記録層上には耐候性、高硬度、高滑性な
どの性質を備えた透明中間層を設ける。中間層の材質は
これら性質を考慮の上選ばれる。中間層として誘電体が
好ましく金属酸化物、窒化物、カルコゲン化物、炭化
物、フッ化物、およびその混合物などが用いられる。金
属酸化物としてはAl2 3 、Ta2 5 、SiO2
SiO、TiO2 等の金属酸化物単独またはこれらの混
合物、或いはAl−Ta−Oの複合酸化物等が挙げられ
る。金属窒化物としては、窒化ケイ素、窒化アルミニウ
ム等が挙げられる。
On the optical recording layer, a transparent intermediate layer having properties such as weather resistance, high hardness and high lubricity is provided. The material of the intermediate layer is selected in consideration of these properties. As the intermediate layer, a dielectric is preferable, and metal oxides, nitrides, chalcogenides, carbides, fluorides, and mixtures thereof are used. As metal oxides, Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 , SiO 2 ,
Metal oxides such as SiO and TiO 2 alone or a mixture thereof, or a composite oxide of Al—Ta—O may be used. Examples of the metal nitride include silicon nitride and aluminum nitride.

【0023】カルコゲン化物としては、ZnS、ZnS
e等のカルコゲン化亜鉛、CdS、CdSe等のII−V
族化合物、La2 3 、Ce2 3 等の希土類硫化物、
TaS2 、MgS、CaS等が挙げられる。カルコゲン
化亜鉛は化学的にも安定で、その中でも特にZnSは毒
性も低く最も好ましい。これら誘電体層の形成方法とし
ては、蒸着やスパッタリングが挙げられるが、スパッタ
リングがより好ましい。滑性に優れた材質としては炭素
膜、水素化カーボン膜、窒素化カーボン膜、TiC、S
iC等の炭化膜、SiN、TiN等の窒化膜、SiO、
Al2 3 、ZrO等の酸化物膜等によって構成され、
通常、スパッタ法等により形成される。より好ましく
は、炭素膜、水素化カーボン膜および窒素化カーボン膜
である。
As chalcogenides, ZnS, ZnS
II-V such as chalcogenide zinc such as e, CdS and CdSe
Group compounds, rare earth sulfides such as La 2 S 3 and Ce 2 S 3
TaS 2 , MgS, CaS and the like can be mentioned. Zinc chalcogenide is chemically stable, and among them, ZnS is particularly preferable because of its low toxicity. Examples of a method for forming these dielectric layers include vapor deposition and sputtering, and sputtering is more preferred. Materials with excellent lubricity include carbon film, hydrogenated carbon film, nitrogenated carbon film, TiC, S
carbide film such as iC, nitride film such as SiN and TiN, SiO,
An oxide film of Al 2 O 3 or ZrO or the like;
Usually, it is formed by a sputtering method or the like. More preferred are a carbon film, a hydrogenated carbon film and a nitrogenated carbon film.

【0024】中間層は保護層および滑性層としての役割
を有するが、これを複数層としてもよい。例えば記録層
に接する側に耐候性に優れ硬度の高い保護層を、潤滑層
に接する側に滑性に優れた滑性層を設けると、全体とし
て両方に優れた性質を得ることができ、好ましい。光磁
気記録層に接する層としては、窒化シリコン、Si
2 、Ta2 5 などが好適に用いられる。相変化型記
録層に接する層としては、ZnSと金属酸化物の混合物
が好適に用いられる。
The intermediate layer has a role as a protective layer and a lubricating layer, but may have a plurality of layers. For example, when a protective layer having high weather resistance and high hardness is provided on the side in contact with the recording layer, and a lubricating layer having excellent lubricity is provided on the side in contact with the lubricating layer, both excellent properties can be obtained as a whole, which is preferable. . As the layer in contact with the magneto-optical recording layer, silicon nitride, Si
O 2 and Ta 2 O 5 are preferably used. As a layer in contact with the phase-change recording layer, a mixture of ZnS and a metal oxide is preferably used.

【0025】好ましくは、基板と記録層との間に反射層
を設ける。反射層としては高反射率の金属または合金が
用いられ、例えばAl、Ag、Au、Cuやこれを主成
分とする合金である。さらに、基板あるいは反射層と、
記録層との間に、光を干渉させ増幅させる目的や記録層
保護の目的等で透明中間層を設けても良い。材質として
は、上述した誘電体等が好ましく用いられる。これ等光
記録媒体の最外層には潤滑剤層を形成することができ
る。
Preferably, a reflective layer is provided between the substrate and the recording layer. As the reflective layer, a metal or an alloy having a high reflectance is used, for example, Al, Ag, Au, Cu, or an alloy containing these as a main component. Further, a substrate or a reflective layer,
A transparent intermediate layer may be provided between the recording layer and the recording layer for the purpose of interfering and amplifying light or protecting the recording layer. As the material, the above-described dielectric or the like is preferably used. A lubricant layer can be formed on the outermost layer of these optical recording media.

【0026】潤滑剤としては磁気ディスクに用いるもの
と同じでよいが、エステル結合を有するパーフルオロポ
リエーテル、ジアルキルアミドカルボン酸、パークロロ
ポリエーテル、ステアリン酸、ステアリン酸ナトリウ
ム、リン酸エステル等が好ましい。エステル結合は分子
内のどこにあってもよいが、末端にエステル結合の官能
基を有すると分子中の可動部が長くなり潤滑性が得られ
易いためより好ましい。特に主鎖に−Ca 2aO−単位
(但し、aは1〜4の整数)を有し、末端にエステル結
合の官能基を有するパーフルオロポリエーテルが好まし
い。
The lubricant may be the same as that used for the magnetic disk, but is preferably a perfluoropolyether having an ester bond, a dialkylamide carboxylic acid, a perchloropolyether, stearic acid, sodium stearate, a phosphate ester, or the like. . The ester bond may be located anywhere in the molecule, but it is more preferable to have an ester bond functional group at the end, since the movable portion in the molecule becomes longer and lubricity is easily obtained. Particularly -C a F 2a O- units (wherein, a is an integer of 1 to 4) in the main chain has a perfluoropolyether having a functional group of the terminal ester bond.

【0027】潤滑剤の分子量は100〜10000の範
囲内が好ましい。分子量が低いと一般的に蒸気圧が高
く、塗布した後にわずかづつ揮散し、時間と共に所望の
膜厚から外れてしまう。逆に分子量が高い場合は、一般
的に粘性が高く、所望の潤滑性が得られない時がある。
また、これらを溶解させる溶媒としては例えばフロン
系、アルコール系、炭化水素系、ケトン系、エーテル
系、フッ素系、芳香族系等が用いられる。潤滑剤の塗布
膜厚としては、1〜20nmの範囲であることが好まし
い。この範囲外すなわち薄い場合は、所望の潤滑性が得
られないが、あまり厚くしても一定以上の潤滑性は得ら
れず余分な潤滑剤がディスクの回転に伴って外周側へ移
動し、内外周での膜厚分布が発生しやすくなる。
The molecular weight of the lubricant is preferably in the range of 100 to 10,000. If the molecular weight is low, the vapor pressure is generally high, and it evaporates little by little after coating, and deviates from a desired film thickness with time. Conversely, when the molecular weight is high, the viscosity is generally high, and the desired lubricity may not be obtained.
As a solvent for dissolving these, for example, a fluorocarbon type, alcohol type, hydrocarbon type, ketone type, ether type, fluorine type, aromatic type, etc. are used. The coating thickness of the lubricant is preferably in the range of 1 to 20 nm. If the thickness is out of this range, that is, if the thickness is too small, the desired lubricity cannot be obtained. The film thickness distribution in the periphery is likely to occur.

【0028】このような情報記録媒体の製造において、
基板表面の清浄化あるいは研磨、グラインディング、ポ
リッシュ、テキスチャ加工等の処理を行った後の洗浄に
適用される。本発明洗浄装置1の外部構造は従来装置と
同じ構造であってよく、図1に示すように、ディスク基
板2の中央開口3に基板保持具4が嵌合されて、ディス
ク基板1を直立した状態に保持し、駆動源(図示せず)
によって回転する回転機構を有す。また、ディスク基板
2の両面には多孔性のスクラブ材5を周面に有する一対
のスクラブロール6a、6bが配設される。
In the production of such an information recording medium,
The present invention is applied to cleaning after cleaning or polishing, polishing, grinding, polishing, and texturing the substrate surface. The external structure of the cleaning device 1 of the present invention may be the same as that of the conventional device. As shown in FIG. 1, the substrate holder 4 is fitted into the central opening 3 of the disk substrate 2, and the disk substrate 1 stands upright. Drive state (not shown)
It has a rotation mechanism that rotates. A pair of scrub rolls 6a and 6b having a porous scrub material 5 on the peripheral surface are provided on both surfaces of the disk substrate 2.

【0029】スクラブ材5としては通水性で弾力性のあ
る材料が使用され、発泡ウレタン等の連続気泡性樹脂、
ポリプロピレン、ナイロン等の合成繊維の織布、不織布
等を用いることができる。スクラブロール6は回転軸7
が縦方向となるように配設され、スクラブ材5がディス
ク基板2に当接するように装着される。また、スクラブ
ロール6は、図2に示すようにスクラブ材5の中心部が
中空とされ、洗浄水を供給可能なようにされる。
As the scrub material 5, a water-permeable and elastic material is used, and an open-cell resin such as urethane foam,
A woven or non-woven fabric of synthetic fibers such as polypropylene and nylon can be used. The scrub roll 6 has a rotating shaft 7
Are arranged in the vertical direction, and are mounted so that the scrubbing material 5 comes into contact with the disk substrate 2. As shown in FIG. 2, the scrub roll 6 has a hollow central portion of the scrub material 5 so that cleaning water can be supplied.

【0030】図2においては、スクラブロール6は、基
板2の上方と下方を同時に洗浄可能なように2本のスク
ラブ材5が軸方向に連続形成されているが目的に応じて
上方側一方のみとしてもよい。スクラブロール6の上端
には中空の回転軸7が連設され、その上端部がギヤ8を
介して回転用の駆動源(図示せず)に連結されると共
に、中空部12に洗浄水供給機構の洗浄水供給管9の先
端が挿入され開口されている。
In FIG. 2, the scrub roll 6 has two scrub members 5 formed continuously in the axial direction so that the upper and lower portions of the substrate 2 can be cleaned at the same time. It may be. A hollow rotating shaft 7 is connected to the upper end of the scrub roll 6, and the upper end is connected to a driving source for rotation (not shown) via a gear 8. Of the washing water supply pipe 9 is inserted and opened.

【0031】本発明洗浄装置1は、中空の回転軸7と洗
浄液供給管9の間に若干の間隙をもたせて摺動が生じな
いようにすることが好ましい。また、回転軸7内部には
羽根11が設けられる。羽根11の構造は特に制限はな
く、羽根11の回転により回転軸7の中空部12に注入
された洗浄水を下方に送る作用を有するものが使用さ
れ、一般には図3に示すように傾斜した羽根板13、1
3が、回転中心から放射状に複数枚結合されたものが使
用される。羽根板13、13の外周縁は環状体14を介
して回転軸7に固着される。また、羽根11の上部に
は、過剰の洗浄水が注入されたとき上部から溢流するこ
とを防止するために、オーバーフロー機構を設けること
が望ましく、中空部12から外部に連通するオーバーフ
ロ孔15、15が設けられる。
In the cleaning apparatus 1 of the present invention, it is preferable that a slight gap be provided between the hollow rotary shaft 7 and the cleaning liquid supply pipe 9 so that sliding does not occur. Further, a blade 11 is provided inside the rotating shaft 7. The structure of the blade 11 is not particularly limited, and has a function of sending down washing water injected into the hollow portion 12 of the rotating shaft 7 by rotation of the blade 11, and is generally inclined as shown in FIG. Slats 13, 1
3 is used in which a plurality of sheets 3 are radially coupled from the center of rotation. The outer peripheral edges of the blades 13, 13 are fixed to the rotating shaft 7 via an annular body 14. In addition, an overflow mechanism is desirably provided in the upper part of the blade 11 in order to prevent overflow of the washing water when the excessive washing water is injected, and an overflow hole 15 communicating from the hollow part 12 to the outside. , 15 are provided.

【0032】本発明洗浄装置1を用いてディスク基板2
を洗浄するときは、ディスク基板2の中央開孔3を基板
保持具4に嵌着して基板2を直立状態として回転せしめ
ると共にディスク基板2の両面にスクラブロール6a、
6bを当接してスクラブロール6a、6bを回転する。
洗浄水供給管9からは洗浄水が送給され回転軸7の中空
部12に注水される。注水された水は、回転軸7に固定
されて回転軸7と共に回転する羽根11によって下方に
圧送され、洗浄水はスクラブ材5を通してディスク基板
2表面に供給される。
Disk substrate 2 using cleaning apparatus 1 of the present invention
When cleaning the disk substrate 2, the central opening 3 of the disk substrate 2 is fitted into the substrate holder 4, the substrate 2 is rotated upright, and scrub rolls 6a,
The scrub rolls 6a and 6b are rotated by contacting the scrub rolls 6b.
Cleaning water is supplied from the cleaning water supply pipe 9 and injected into the hollow portion 12 of the rotating shaft 7. The injected water is pumped downward by a blade 11 fixed to the rotating shaft 7 and rotating with the rotating shaft 7, and the washing water is supplied to the surface of the disk substrate 2 through the scrubbing material 5.

【0033】また、洗浄水の供給バランスが崩れ羽根1
1によって下方に送られる量よりも洗浄水供給管9から
供給される量が大となったときは、オーバーフロー孔1
5から放出され、上部から溢流することを防止すること
ができる。なお、オーバーフロー管15から放出された
洗浄水は適当な洗浄水受けを配設してディスク基板2上
に流れ落ちないようにすることが望ましい。
Further, the supply balance of the washing water is lost and the blade 1
When the amount supplied from the washing water supply pipe 9 becomes larger than the amount sent downward by the
5 and can be prevented from overflowing from above. It is desirable that the cleaning water discharged from the overflow pipe 15 be provided with an appropriate cleaning water receiver so as not to flow down onto the disk substrate 2.

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明は、洗浄水供給管と中空の回転軸
間の摺動部を無くしたから、摺動材の摩耗により微粉が
ディスク基板に付着することがなく、また、回転軸内に
羽根を設けたから洗浄水をスクラブロール内に圧入する
ことができ、所定流量で安定してディスク基板表面に洗
浄水を供給することができる。
According to the present invention, the sliding portion between the cleaning water supply pipe and the hollow rotary shaft is eliminated, so that fine powder does not adhere to the disk substrate due to wear of the sliding material. Since the blades are provided, the washing water can be pressed into the scrub roll, and the washing water can be stably supplied to the disk substrate surface at a predetermined flow rate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】洗浄装置を示す斜視図FIG. 1 is a perspective view showing a cleaning device.

【図2】本発明洗浄装置の内部構造を示す部分切欠き側
面図
FIG. 2 is a partially cutaway side view showing the internal structure of the cleaning device of the present invention.

【図3】本発明装置に使用される羽根の一例を示す斜視
FIG. 3 is a perspective view showing an example of a blade used in the apparatus of the present invention.

【図4】従来の洗浄装置の内部構造を示す一部切欠き側
面図
FIG. 4 is a partially cutaway side view showing the internal structure of a conventional cleaning device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1.洗浄装置 2.ディスク基板 3.中央開孔 4.基板保持具 5.スクラブ材 6a、6b スクラブロール 7.回転軸 8.ギヤ 9.洗浄水供給管 11.羽根 12.中空部 13.羽根板 14.環状体 1. Cleaning device 2. Disk board 3. Central aperture 4. Substrate holder 5. 6. Scrub material 6a, 6b Scrub roll Rotation axis 8. Gear 9. Cleaning water supply pipe 11. Feather 12. Hollow 13. Slats 14. Ring

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ディスク基板を直立した状態に支持し回
転する回転機構と、洗浄水を供給する洗浄水供給機構
と、透水性のスクラブ材を周面に有し回転軸を縦方向と
し基板の両面にそれぞれ当接して回転する一対のスクラ
ブロールとからなり、スクラブロールの上端に中空の回
転軸が連設されその内部に羽根が固定され、回転軸内に
供給された洗浄水を羽根の回転によってスクラブ材を通
してディスク基板表面に送給するようにしてなるディス
ク基板の洗浄装置。
1. A rotating mechanism for supporting and rotating a disk substrate in an upright state, a cleaning water supply mechanism for supplying cleaning water, and a substrate having a water-permeable scrubbing material on its peripheral surface and a rotating shaft in a vertical direction. It consists of a pair of scrub rolls that contact and rotate on both sides, and a hollow rotary shaft is connected to the upper end of the scrub roll, and the blades are fixed inside the scrub rolls.The cleaning water supplied into the rotary shaft is rotated by the blades. A disk substrate cleaning apparatus configured to feed a disk substrate surface through a scrubbing material.
【請求項2】 中空の回転軸に設けられた羽根の上部に
過剰の洗浄水を排出するオーバーフロー機構を設けてな
る請求項1記載のディスク基板の洗浄装置。
2. An apparatus for cleaning a disk substrate according to claim 1, wherein an overflow mechanism for discharging excess cleaning water is provided above the blade provided on the hollow rotary shaft.
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