JP2000109345A - Glass product coated with antireflection color film and optical filter for plasma display panel - Google Patents

Glass product coated with antireflection color film and optical filter for plasma display panel

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JP2000109345A
JP2000109345A JP11221292A JP22129299A JP2000109345A JP 2000109345 A JP2000109345 A JP 2000109345A JP 11221292 A JP11221292 A JP 11221292A JP 22129299 A JP22129299 A JP 22129299A JP 2000109345 A JP2000109345 A JP 2000109345A
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Japan
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film
refractive index
glass article
weight
coated
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Japanese (ja)
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Koichiro Nakamura
浩一郎 中村
Toshifumi Tsujino
敏文 辻野
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Nippon Sheet Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Sheet Glass Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass product coated with an antireflection color film which has excellent antireflection performance for visible rays and which arbitrarily controls the color tone of transmitted light and which has high transmittance for visible rays, and to provide an optical filter for a PDP by using the product described above. SOLUTION: This glass product coated with an antireflection color film is produced by forming a high refractive index film on a transparent glass substrate having a refractive index of 1.47 to 1.53, and further forming a low refractive index film on the high refractive index film. The high refractive index film has a refractive index of 1.59 to 2.30 and a thickness of 80 to 140 nm, and contains 0 to 85 wt.% silicon oxide, 10 to 95 wt.% titanium oxide and 5 to 30 wt.% gold fine particles. The low refractive index film has a refractive index smaller by at least 0.20 than that of the high refractive index film, has a film thickness of 70 to 99 nm, and contains 90 to 100 wt.% silicon oxide.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は反射防止着色膜被覆
ガラス物品、特に可視光反射を低減し透過色調を調節す
る反射防止着色膜被覆ガラス板およびそれを用いてなる
光学フィルタに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glass article coated with an anti-reflection colored film, and more particularly to a glass plate coated with an anti-reflection colored film which reduces visible light reflection and adjusts transmission color tone, and an optical filter using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】反射防止膜については、従来よりカメラ
やメガネなどの光学部品、あるいは表示パネル、ディス
プレイなどのOA電子機器の表示部などに用いられてき
た。これらの反射防止膜は、視認性を高めるため、ある
いは元来、具備する光学特性をさらに高めるため、低反
射性とともに高透過率性が要求されている。
2. Description of the Related Art Antireflection films have conventionally been used for optical parts such as cameras and glasses, or display parts of OA electronic equipment such as display panels and displays. These antireflection films are required to have high transmissivity as well as low reflectivity in order to enhance the visibility or to further enhance the optical characteristics originally provided.

【0003】貴金属微粒子を無機酸化物中にドープした
着色膜については、これまで数多く知られている。例え
ばシリカ−チタニア膜中に金微粒子をドープすることに
より着色膜付きガラスが得られること、および膜中のシ
リカおよびチタニアの量によって赤色、赤紫色、青色、
青緑色、緑色などの色が得られることが開示されてい
る。〔例えば(イ)H.Kozuka, Control of Optical pro
perties of gel-derivedoxide coating films containi
ng finemetal particles(ゲル由来の金属微粒子含有酸
化物被覆膜の光学的性質の制御), J. Sol-Gel Sci. Te
ch., 2,741-744(1994)、および特開平6−19189
6]
[0003] Many colored films in which noble metal fine particles are doped in an inorganic oxide are known. For example, a glass with a colored film can be obtained by doping gold particles in a silica-titania film, and depending on the amount of silica and titania in the film, red, magenta, blue,
It is disclosed that colors such as turquoise and green can be obtained. [For example, (a) H. Kozuka, Control of Optical pro
perties of gel-derived oxide coating films containi
ng finemetal particles (Control of optical properties of oxide coating film containing metal fine particles derived from gel), J. Sol-Gel Sci. Te
ch., 2,741-744 (1994), and JP-A-6-19189.
6]

【0004】またシリカ膜またはシリカ−チタニア膜中
に金微粒子をドープすることにより可視光反射率(膜面
側から光照射)が5〜7%であり、赤〜赤紫〜グリーン
グレー〜グレーに着色され、厚みが80〜140nmの
着色膜被覆ガラス物品について開示されている((ロ)
特開平9−295834)。
Further, by doping gold fine particles in a silica film or a silica-titania film, the visible light reflectance (light irradiation from the film surface side) is 5 to 7%, and the red, reddish purple, green gray and gray are obtained. A colored film-coated glass article having a thickness of 80 to 140 nm which is colored is disclosed ((b)).
JP-A-9-295834).

【0005】一方プラズマディスプレイパネル(PD
P)は、大画面壁掛けテレビとして近年実用化され、さ
らに普及するための開発が盛んになされている。このP
DPの前面に、外光の反射を防止するための多層反射防
止膜の層、および電磁波遮蔽層を有し、PDPの発光色
を補正する光学フィルタを設けることが知られている。
例えば、着色透明基板(アクリル樹脂またはポリカーボ
ネート樹脂製で、PDPの発する過剰の赤色成分を吸収
する顔料を樹脂中に混合することにより、本来は青色で
あるべき発色色調が紫がかって見えるのを防止する)の
一方表面に反射防止フィルム(屈折率の異なる材料の膜
を複数重ねて蒸着したもの)を透明粘着剤で接合し、透
明基板の他方表面には、(1)電磁波および近赤外領域
の線スペクトルを遮蔽するフィルム(例えば、PETフ
ィルム表面に銀−無機酸化物微粒子をスパッタしたも
の)、および(2)干渉縞防止フィルム(例えば透明フ
ィルムの外側表面に微細な凹凸を形成し、PDPに接触
させた場合にもPDPに密着しないようにしたもの)を
その順に透明粘着剤で接合したものが知られている。
(例えば(ハ)特開平9−306366)
On the other hand, a plasma display panel (PD)
P) has recently been put to practical use as a large-screen wall-mounted television, and has been actively developed for further popularization. This P
It is known to provide an optical filter that has a multilayer antireflection film layer for preventing reflection of external light and an electromagnetic wave shielding layer on the front surface of the DP and corrects the emission color of the PDP.
For example, by mixing a colored transparent substrate (made of acrylic resin or polycarbonate resin, which absorbs the excess red component emitted by PDP into the resin, it prevents the color tone that should be blue from appearing purple. ) Is bonded with a transparent adhesive on one surface of an antireflection film (a film obtained by stacking a plurality of films of materials having different refractive indices), and the other surface of the transparent substrate is provided with (1) an electromagnetic wave and a near-infrared region. (For example, a film obtained by sputtering silver-inorganic oxide fine particles on the surface of a PET film), and (2) an anti-interference fringe film (for example, PDP in which fine irregularities are formed on the outer surface of a transparent film) Are bonded in that order with a transparent pressure-sensitive adhesive.
(For example, (c) JP-A-9-306366)

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】前記貴金属微粒子をド
ープした着色膜(イ)については、色調をある程度自由
にコントロールできるものの反射防止性能がほとんどな
かった。また反射率について述べられているもの(ロ)
についても、可視光線反射率の値が無処理の透明基板と
あまり差がなく、しかも透過率が著しく下がるとういう
問題もあった。
The colored film (a) doped with the noble metal fine particles can control the color tone to some extent, but has little antireflection performance. In addition, a statement about the reflectance (b)
Also, there was a problem that the value of the visible light reflectance was not so different from that of the untreated transparent substrate, and the transmittance was significantly reduced.

【0007】一方PDPに用いる光学フィルタに関し
て、前記(ハ)では、樹脂板の中に顔料を混合し、しか
もその表面に反射防止フィルムを張り付けるので製作費
がかさむといった問題があった。
On the other hand, with respect to the optical filter used in the PDP, in the above (c), there is a problem that the pigment is mixed in the resin plate and the antireflection film is attached to the surface thereof, so that the production cost increases.

【0008】本発明は上記の従来技術の課題を解決し
て、可視光の反射防止性能が優れ、しかも透過光の色調
を自由に制御することができ、可視光透過率が高い反射
防止着色膜被覆ガラス物品を提供すること、およびそれ
を用いたPDP用の光学フィルタを提供することを目的
とする。
The present invention solves the above-mentioned problems of the prior art, and has an excellent antireflection performance for visible light, can freely control the color tone of transmitted light, and has a high visible light transmittance. An object of the present invention is to provide a coated glass article and to provide an optical filter for a PDP using the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、透明ガラス基
板上に、屈折率の異なる2層からなる反射防止膜を形成
するとともに、このうちの少なくとも1層を選択的吸収
膜として着色機能をもたせることにより反射防止着色膜
を得るものである。
According to the present invention, an antireflection film composed of two layers having different refractive indices is formed on a transparent glass substrate, and at least one of these layers is used as a selective absorption film to provide a coloring function. An anti-reflection colored film is obtained by giving.

【0010】すなわち本発明は、屈折率が1.47〜
1.53の透明ガラス基板上に、1.59〜2.30の
屈折率および80〜140nmの膜厚を有し、重量%で
表わして0〜85%のケイ素酸化物、10〜95%のチ
タン酸化物および5〜30%の金微粒子を含有する高屈
折率膜を形成し、前記高屈折率膜上に、1.35〜1.
58の範囲内でかつ前記高屈折率膜の屈折率に比して少
なくとも0.20小さい値の屈折率、および70〜99
nmの膜厚を有し、重量%で表わして90〜100%の
ケイ素酸化物を含有する低屈折率膜を形成してなる反射
防止着色膜被覆ガラス物品であり、また、上記透明ガラ
ス基板上に、1.59〜2.30の範囲内でかつ前記高
屈折率膜の屈折率に比して少なくとも0.20小さい値
の屈折率および80〜140nmの膜厚を有し、重量%
で表わして0〜89%のケイ素酸化物、11〜100%
のチタン酸化物を含有する高屈折率膜を形成し、該高屈
折率膜上に、1.35〜1.58の屈折率、70〜99
nmの膜厚を有し、重量%で表わして70〜95%のケ
イ素酸化物および4〜30%の金微粒子を含有する低屈
折率膜を形成してなる反射防止着色膜被覆ガラス物品で
ある。
That is, the present invention has a refractive index of 1.47 to
On a 1.53 transparent glass substrate, having a refractive index of 1.59 to 2.30 and a film thickness of 80 to 140 nm, 0 to 85% silicon oxide, 10 to 95% A high refractive index film containing titanium oxide and 5 to 30% of fine gold particles is formed, and 1.35-1.
A refractive index within a range of 58 and at least 0.20 smaller than the refractive index of the high refractive index film;
An anti-reflection colored film-coated glass article having a low refractive index film having a thickness of 90 nm and containing 90 to 100% by weight of a silicon oxide expressed in% by weight. Has a refractive index in the range of 1.59 to 2.30 and at least 0.20 smaller than the refractive index of the high refractive index film, and a film thickness of 80 to 140 nm, and
0 to 89% of silicon oxide, 11 to 100%
A high refractive index film containing titanium oxide is formed, and a refractive index of 1.35 to 1.58, 70 to 99 is formed on the high refractive index film.
An anti-reflective colored film-coated glass article having a thickness of 70 nm and comprising a low refractive index film containing 70 to 95% by weight of silicon oxide and 4 to 30% of fine gold particles in weight%. .

【0011】本発明における上記高屈折率膜の各成分に
ついて、以下に説明する。ケイ素酸化物は必須成分では
ないが膜の屈折率を調整するために有効であり、その含
有量が低い場合は着色膜の屈折率が高くなり膜は青緑色
を呈する。逆に含有量が多い場合は着色膜の屈折率が低
くなり膜は赤紫色を呈する。ケイ素酸化物含有量が多す
ぎると、膜の加熱工程で膜の大きな収縮により基板が変
形するので、ケイ素酸化物の含有量は、SiO2に換算
して0〜85重量%であり、好ましくは0〜70重量%
である。
The components of the high refractive index film according to the present invention will be described below. Although silicon oxide is not an essential component, it is effective for adjusting the refractive index of the film, and when its content is low, the refractive index of the colored film increases and the film exhibits a bluish green color. Conversely, when the content is large, the refractive index of the colored film becomes low, and the film exhibits reddish purple. If the silicon oxide content is too high, the substrate is deformed by a large shrinkage of the film in the film heating step, so that the silicon oxide content is 0 to 85% by weight in terms of SiO 2 , preferably 0-70% by weight
It is.

【0012】チタン酸化物は膜の成膜のためにまた着色
膜の屈折率を高めるために必要であり、その含有量が低
い場合は着色膜の屈折率が低くなり膜は赤紫を呈し、ま
たその含有量が多い場合は着色膜の屈折率が大きくなり
膜は青緑色を呈する。チタン酸化物の含有量があまりに
低すぎると、膜の成膜性および透明性が低下するので、
その含有量はTiO2に換算して10〜95重量%であ
り、好ましくは20〜90重量%であり、更に好ましく
は25〜85重量%である。
[0012] Titanium oxide is necessary for film formation and to increase the refractive index of the colored film. When the content is low, the refractive index of the colored film is reduced, and the film exhibits reddish purple. When the content is large, the refractive index of the colored film increases, and the film exhibits blue-green color. If the content of the titanium oxide is too low, the film formability and transparency of the film are reduced,
Its content is 10 to 95% by weight in terms of TiO 2, preferably 20 to 90 wt%, more preferably from 25 to 85 wt%.

【0013】金は着色用微粒子として、高屈折率膜に色
を与えるために必要であり、その含有量があまり低すぎ
ると充分な着色が得られず、逆に多すぎると膜の耐久性
が低下したり、余剰の金微粒子が膜の外に出てしまって
着色に寄与しない。従って、金微粒子の含有量は5〜3
0重量%であり、好ましくは5〜25重量%であり、更
に好ましくは8〜23重量%である。
[0013] Gold is necessary as coloring fine particles to impart color to the high refractive index film. If the content is too low, sufficient coloring cannot be obtained, and if it is too high, the durability of the film will be poor. The gold particles are reduced or surplus gold fine particles come out of the film and do not contribute to coloring. Therefore, the content of the fine gold particles is 5 to 3
0 wt%, preferably 5 to 25 wt%, more preferably 8 to 23 wt%.

【0014】高屈折率膜の厚みd1(物理膜厚)は、あ
まり薄すぎると反射防止効果が低くなり、また着色効果
も小さくなる。逆に厚すぎるても反射防止効果が低くな
り、またクラックが入ったりして膜強度が低下するの
で、80〜140nmであり、好ましくは85〜125
nmであり、更に好ましくは89〜125nmである。
そして高屈折率膜の屈折率n1は低すぎると反射防止効
果が充分に得られないため、1.59〜2.30であ
り、好ましくは1.65〜2.23であり、更に好まし
くは1.70〜2.20である。なおこの高屈折率膜の
屈折率は、金微粒子を含有しない状態の、ケイ素酸化物
およびチタン酸化物を含有する膜についての550nm
波長での値として定義する。高屈折率膜の光学膜厚(n
11)は可視光域(380〜680nm)内のいずれか
の波長の4分の1の値を有することが可視光反射率を減
少させるために好ましく、具体的には高屈折率膜の光学
膜厚は95〜170nmの範囲内にあることが好まし
い。しかしこの範囲内では反射色が赤みを帯びやすく、
赤色の反射色は好まれないことが多いので、反射色に青
みを帯びさせるためには、上記範囲よりもやや大きな光
学膜厚155〜230nmが選ばれることが好ましい。
If the thickness d 1 (physical film thickness) of the high refractive index film is too small, the antireflection effect is reduced and the coloring effect is reduced. Conversely, if the thickness is too large, the antireflection effect will be low, and the film strength will be reduced due to cracks, so the thickness is 80 to 140 nm, preferably 85 to 125 nm.
nm, more preferably 89 to 125 nm.
Then the refractive index n 1 and the anti-reflection effect is too low of a high refractive index film can not be obtained sufficiently, a 1.59 to 2.30, preferably 1.65 to 2.23, more preferably 1.70 to 2.20. The refractive index of this high-refractive-index film was 550 nm for a film containing silicon oxide and titanium oxide in a state not containing gold fine particles.
Defined as a value at wavelength. The optical thickness of the high refractive index film (n
1 d 1 ) preferably has a value of の of one of wavelengths in a visible light range (380 to 680 nm) in order to reduce the visible light reflectance. The optical thickness is preferably in the range of 95 to 170 nm. However, within this range, the reflected color tends to be reddish,
Since the red reflection color is often not preferred, it is preferable to select an optical film thickness of 155 to 230 nm slightly larger than the above range in order to make the reflection color bluish.

【0015】本発明の低屈折率膜について、以下に説明
する。ケイ素酸化物は膜の成膜のためにまた低屈折率膜
の屈折率を低めるために必要であり、ケイ素酸化物の含
有量はSiO2に換算して90〜100重量%であり、
好ましくは92〜100重量%であり、更に好ましくは
95〜100重量%である。
The low refractive index film of the present invention will be described below. Silicon oxide is necessary for forming the film and for lowering the refractive index of the low-refractive-index film. The content of silicon oxide is 90 to 100% by weight in terms of SiO 2 ,
Preferably it is 92 to 100% by weight, more preferably 95 to 100% by weight.

【0016】低屈折率膜の厚みd2(物理膜厚)は、あ
まり薄すぎると反射防止効果が低くなり、逆に厚すぎて
もクラックが入ったりして膜強度が低下するので、70
〜99nmであり、好ましくは75〜95nmであり、
更に好ましくは77〜93nmである。そして低屈折率
膜の屈折率は高すぎると反射防止効果が充分に得られな
いため、低屈折率膜の屈折率n2は1.35〜1.58
の範囲内でかつ前記高屈折率膜の屈折率に比して少なく
とも0.20小さい値であり、好ましくは1.36〜
1.53であり、更に好ましくは1.37〜1.49で
ある。なおこの低屈折率膜の屈折率は、550nm波長
での値として定義し、そして後述のように低屈折率膜に
金微粒子を含有させる場合の低屈折率膜の屈折率は、金
微粒子を含有しない状態の、ケイ素酸化物を含有する膜
についての値として定義する。低屈折率膜の光学膜厚
(n22)は可視光域(380〜680nm、好ましく
は視感度が高い420〜600nm)内のいずれかの波
長の4分の1の値を有することが可視光反射率を減少さ
せるために好ましく、具体的には低屈折率膜の光学膜厚
は105〜150nmの範囲内にあることが好ましい。
If the thickness d 2 (physical film thickness) of the low refractive index film is too small, the antireflection effect is reduced. On the other hand, if the thickness is too large, cracks occur and the film strength is reduced.
9999 nm, preferably 75-95 nm,
More preferably, it is 77 to 93 nm. And because too high antireflection effect is the refractive index of the low refractive index film is not sufficiently obtained, the refractive index n 2 of the low refractive index film is 1.35 to 1.58
And at least 0.20 smaller than the refractive index of the high refractive index film, preferably from 1.36 to
1.53, and more preferably 1.37 to 1.49. Note that the refractive index of this low refractive index film is defined as a value at a wavelength of 550 nm, and the refractive index of the low refractive index film when gold particles are contained in the low refractive index film contains gold particles as described later. It is defined as a value for a film containing silicon oxide in a state where no silicon oxide is contained. The optical thickness (n 2 d 2 ) of the low refractive index film may have a value that is a quarter of any wavelength in the visible light range (380 to 680 nm, preferably 420 to 600 nm having high visibility). It is preferable to reduce the visible light reflectance, and specifically, the optical film thickness of the low refractive index film is preferably in the range of 105 to 150 nm.

【0017】以上は金微粒子を高屈折率膜に含有させた
場合について述べたが、金微粒子を高屈折率膜に含有さ
せる代わりに前記低屈折率膜に含有させてもよい。この
場合、金微粒子を含有させない高屈折率膜の各成分につ
いて以下に説明する。
In the above, the case where the gold fine particles are contained in the high refractive index film has been described. However, the gold fine particles may be contained in the low refractive index film instead of being contained in the high refractive index film. In this case, each component of the high refractive index film that does not contain the fine gold particles will be described below.

【0018】ケイ素酸化物は必須成分ではないが膜の屈
折率を調整するために有効である。ケイ素酸化物含有量
が多すぎると、膜の加熱工程で膜の大きな収縮により基
板が変形するので、ケイ素酸化物の含有量は、SiO2
に換算して0〜89重量%であり、好ましくは10〜7
5重量%であり、更に好ましくは20〜70重量%であ
る。
Although silicon oxide is not an essential component, it is effective for adjusting the refractive index of the film. When the silicon oxide content is too large, since the substrate due to the large shrinkage of the film in the heating step of the membrane deforms, the content of silicon oxide, SiO 2
0 to 89% by weight, preferably 10 to 7%
The content is 5% by weight, more preferably 20 to 70% by weight.

【0019】チタン酸化物は膜の成膜のためにまた着色
膜の屈折率を高めるために必要である。チタン酸化物の
含有量があまりに低すぎると、反射防止の効果が得られ
難くなり、膜の成膜性および透明性が低下するので、そ
の含有量はTiO2に換算して11〜100重量%であ
り、好ましくは20〜95重量%であり、更に好ましく
は30〜85重量%である。
Titanium oxide is necessary for forming the film and for increasing the refractive index of the colored film. If the content of titanium oxide is too low, the effect of preventing reflection becomes difficult to obtain, since the film forming property and transparency of the film is lowered, and the content thereof in terms of TiO 2 eleven to one hundred wt% , Preferably 20 to 95% by weight, more preferably 30 to 85% by weight.

【0020】そして金微粒子を含有させた低屈折率膜に
ついて、以下に説明する。ケイ素酸化物は膜の成膜のた
めにまた低屈折率膜の屈折率を低めるために必要であ
り、ケイ素酸化物の含有量はSiO2に換算して70〜
96重量%であり、好ましくは72〜96重量%であ
り、更に好ましくは75〜96重量%である。
The low refractive index film containing the fine gold particles will be described below. Silicon oxide is necessary for forming the film and for lowering the refractive index of the low refractive index film, and the content of silicon oxide is 70 to 70 in terms of SiO 2.
It is 96% by weight, preferably 72-96% by weight, and more preferably 75-96% by weight.

【0021】低屈折率膜中の金微粒子は、着色用微粒子
として、低屈折率膜に色を与えるために必要であり、そ
の含有量があまり低すぎると充分な着色が得られず、逆
に多すぎると膜の耐久性が低下したり、余剰の金微粒子
が膜の外に出てしまって着色に寄与しない。従って、金
微粒子の含有量は4〜30重量%であり、好ましくは4
〜25重量%であり、更に好ましくは4〜23重量%で
ある。
The fine gold particles in the low-refractive-index film are necessary as coloring fine particles to impart color to the low-refractive-index film. If the content is too low, sufficient coloring cannot be obtained. If the amount is too large, the durability of the film is reduced, or excessive gold fine particles come out of the film and do not contribute to coloring. Therefore, the content of the gold fine particles is 4 to 30% by weight, preferably 4 to 30% by weight.
-25% by weight, more preferably 4-23% by weight.

【0022】以上は、金微粒子を高屈折率膜に含有させ
る場合および、金微粒子を前記低屈折率膜に含有させる
場合について説明した。しかしこれらの場合以外、すな
わち、金微粒子を高屈折率膜および低屈折率膜の両方に
含有させてもよい。この場合、高屈折率膜は、上記の高
屈折率膜の場合と同様な理由で、ケイ素酸化物を、Si
2に換算して0〜89重量%、好ましくは10〜75
重量%、さらに好ましくは20〜65重量%、チタン酸
化物を、TiO2に換算して10〜100%、好ましく
は20〜95%、更に好ましくは30〜85重量%、そ
して金微粒子を0〜30重量%、それぞれ含有する。そ
して低屈折率膜は、上記の低屈折率膜の場合と同様な理
由で、ケイ素酸化物を、SiO2に換算して70〜10
0重量%、好ましくは72〜96重量%、さらに好まし
くは75〜96重量%、そして金微粒子を0〜30重量
%含有する。ここにおいて、高屈折率膜中の金微粒子含
有量と低屈折率膜中の金微粒子含有量の和は4〜30重
量%であり、好ましくは4〜25重量%、更に好ましく
は8〜20重量%である。
The case where gold fine particles are contained in the high refractive index film and the case where gold fine particles are contained in the low refractive index film have been described above. However, other than these cases, that is, gold fine particles may be contained in both the high refractive index film and the low refractive index film. In this case, the high refractive index film is formed by replacing silicon oxide with Si for the same reason as in the case of the above high refractive index film.
O 2 in terms of 0 to 89 wt%, preferably from 10 to 75
Wt%, more preferably 20 to 65 wt%, titanium oxide, 10-100% in terms of TiO 2, preferably 20 to 95%, more preferably 30 to 85 wt%, and from 0 to gold particles 30% by weight, respectively. The low-refractive-index film, for the same reason as that in the low refractive index film, a silicon oxide, in terms of SiO 2 70 to 10
0% by weight, preferably 72 to 96% by weight, more preferably 75 to 96% by weight, and 0 to 30% by weight of fine gold particles. Here, the sum of the content of the fine gold particles in the high refractive index film and the content of the fine gold particles in the low refractive index film is 4 to 30% by weight, preferably 4 to 25% by weight, and more preferably 8 to 20% by weight. %.

【0023】上記金微粒子を含有しまたは含有しない高
屈折率膜はケイ素酸化物、チタン酸化物の他に他の成
分、例えば、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化亜
鉛、、酸化タンタル、酸化コバルト、酸化クロム、酸化
銅、酸化マンガン、酸化ニッケル、酸化鉄および金微粒
子(高屈折率膜が金微粒子含有を必須としない場合)等
を、ZrO2、CeO2、ZnO、Ta25、CoO、C
rO、CuO、MnO、NiO、Fe23およびAuに
換算して、これらの合計を少量、例えば10重量%以下
含有していても差し支えない。ここにおいて、高屈折率
膜中のAu微粒子含有量と低屈折率膜中のAu微粒子含
有量の合計は30重量%を超えないことが好ましい。
The high-refractive-index film containing or not containing the above-mentioned gold fine particles is composed of silicon oxide, titanium oxide, and other components such as zirconium oxide, cerium oxide, zinc oxide, tantalum oxide, cobalt oxide, and oxide. Chromium, copper oxide, manganese oxide, nickel oxide, iron oxide, and fine gold particles (when the high refractive index film does not require the presence of fine gold particles) and the like, ZrO 2 , CeO 2 , ZnO, Ta 2 O 5 , CoO, C
In terms of rO, CuO, MnO, NiO, Fe 2 O 3 and Au, a small amount of these totals, for example, 10% by weight or less, may be contained. Here, the total of the content of Au fine particles in the high refractive index film and the content of Au fine particles in the low refractive index film preferably does not exceed 30% by weight.

【0024】また、同様に、上記金微粒子を含有しまた
は含有しない低屈折率膜はケイ素酸化物の他に他の成
分、例えば、チタン酸化物、酸化ジルコニウム、酸化セ
リウム、酸化亜鉛、酸化タンタル、酸化コバルト、酸化
クロム、酸化銅、酸化マンガン、酸化ニッケル、酸化鉄
および金微粒子(低屈折率膜が金微粒子含有を必須とし
ない場合)等を、TiO2、ZrO2、CeO2、Zn
O、Ta25、CoO、CrO、CuO、MnO、Ni
O、Fe23およびAuに換算して、これらの合計を少
量、例えば10重量%以下含有していても差し支えな
い。ここにおいて、低屈折率膜中のAu微粒子含有量と
高屈折率膜中のAu微粒子含有量の合計は30重量%を
超えないことが好ましい。
Similarly, the low-refractive-index film containing or not containing the above-mentioned gold fine particles contains, in addition to silicon oxide, other components such as titanium oxide, zirconium oxide, cerium oxide, zinc oxide, tantalum oxide, Cobalt oxide, chromium oxide, copper oxide, manganese oxide, nickel oxide, iron oxide, and fine gold particles (when the low refractive index film does not require the presence of fine gold particles) and the like, TiO 2 , ZrO 2 , CeO 2 , Zn
O, Ta 2 O 5 , CoO, CrO, CuO, MnO, Ni
In terms of O, Fe 2 O 3 and Au, the total of these may be contained in a small amount, for example, 10% by weight or less. Here, the sum of the content of Au fine particles in the low refractive index film and the content of Au fine particles in the high refractive index film preferably does not exceed 30% by weight.

【0025】本発明の高屈折率膜および低屈折率膜を形
成する方法としては、ゾル−ゲル法、スパッタ法、CV
D法等で形成することが可能であるが、コストの面から
ゾル−ゲル法による方が望ましい。ゾル−ゲル法による
コーティングについてはスピンコート法、ディップコー
ト法、フローコート法、メニスカスコート法、ロールコ
ート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スクリー
ン印刷法などが用いられる。
The method for forming the high refractive index film and the low refractive index film of the present invention includes a sol-gel method, a sputtering method, and a CV method.
Although it can be formed by the D method or the like, the sol-gel method is more preferable in terms of cost. For the coating by the sol-gel method, a spin coating method, a dip coating method, a flow coating method, a meniscus coating method, a roll coating method, a gravure coating method, a flexographic printing method, a screen printing method and the like are used.

【0026】本発明の高屈折率膜および低屈折率膜をゾ
ル−ゲル法により、例えば、チタン酸化物、ケイ素酸化
物および金微粒子を含有する光学薄膜を形成する場合、
その塗布液組成物は、チタン化合物、ケイ素化合物、金
原料および溶媒からなり、チタン化合物、ケイ素化合物
および金原料を有機溶媒に混合することにより得られ
る。
When the high refractive index film and the low refractive index film of the present invention are formed by a sol-gel method, for example, to form an optical thin film containing titanium oxide, silicon oxide and fine gold particles,
The coating composition comprises a titanium compound, a silicon compound, a gold material and a solvent, and is obtained by mixing the titanium compound, the silicon compound and the gold material with an organic solvent.

【0027】チタン化合物としてはチタンアルコキシ
ド、チタンアルコキシド塩化物、チタンキレート化物な
どが用いられる。チタンアルコキシドとしてはチタンメ
トキシド、チタンエトキシド、チタンn-プロポキシド、
チタンイソプロポキシド、チタンn-ブトキシド、チタン
イソブトキシド、チタンメトキシプロポキシド、チタン
ステアリルオキシド、チタン2-エチルヘキシオキシドな
どが例示できる。チタンアルコキシド塩化物としてはチ
タンクロリドトリイソプロポキシド、チタンジクロリド
ジエトキシドなどが挙げられる。チタンキレート化物と
しては、チタントリイソプロポキシド(2,4-ペンタンジ
オネート)、チタンジイソプロポキシド(ビス-2,4-ペン
タンジオネート)、チタンアリルアセテートトリイソプ
ロポキシド、チタンビス(トリエタノールアミン)ジイ
ソプロポキシド、 チタンジ-n-ブトキシド(ビス-2,4-
ペンタンジオネート)などが用いられる。
As the titanium compound, titanium alkoxide, titanium alkoxide chloride, titanium chelate and the like are used. As titanium alkoxide, titanium methoxide, titanium ethoxide, titanium n-propoxide,
Examples thereof include titanium isopropoxide, titanium n-butoxide, titanium isobutoxide, titanium methoxypropoxide, titanium stearyl oxide, and titanium 2-ethylhexoxide. Examples of the titanium alkoxide chloride include titanium chloride triisopropoxide, titanium dichloride diethoxide and the like. Titanium chelates include titanium triisopropoxide (2,4-pentanedionate), titanium diisopropoxide (bis-2,4-pentanedionate), titanium allyl acetate triisopropoxide, titanium bis (triethanol Amine) diisopropoxide, titanium di-n-butoxide (bis-2,4-
Pentanedionate) and the like.

【0028】ケイ素化合物としてはシリコンアルコキシ
ドをアルコールなどの溶媒に混ぜ、酸性や塩基性の触媒
で加水分解、重合を進めたものが用いられる。シリコン
アルコキシドとしてはシリコンメトキシド、シリコンエ
トキシドあるいはそれらのオリゴマー体が用いられる。
酸触媒としては塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、しゅう酸、ト
リクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、リン酸、フッ酸、蟻
酸などが用いられる。塩基性触媒としてはアンモニア、
アミン類が用いられる。
As the silicon compound, a compound obtained by mixing silicon alkoxide with a solvent such as alcohol, and promoting hydrolysis and polymerization with an acidic or basic catalyst is used. As the silicon alkoxide, silicon methoxide, silicon ethoxide, or an oligomer thereof is used.
As the acid catalyst, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, acetic acid, oxalic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, phosphoric acid, hydrofluoric acid, formic acid and the like are used. Ammonia, as a basic catalyst,
Amines are used.

【0029】金微粒子の原料としては、塩化金酸4水和
物、塩化金酸3水和物、塩化金酸ナトリウム2水和物、
シアン化金、シアン化カリウム金、金ジエチルアセチル
アセトネート錯体、あるいは金コロイド分散溶液などが
挙げられる。
As raw materials for the fine gold particles, chloroauric acid tetrahydrate, chloroauric acid trihydrate, sodium chloroaurate dihydrate,
Examples include gold cyanide, potassium gold cyanide, gold diethylacetylacetonate complex, and a gold colloid dispersion solution.

【0030】上記高屈折率膜および低屈折率膜の形成に
用いられる塗布液組成物に用いられる有機溶媒は、コー
ティング方法に依存するが、メタノール、エタノール、
イソプロパノール、ブタノール、ヘキサノール、オクタ
ノール、2-メトキシエタノール、2-エトキシエタノー
ル、2-ブトキシエタノール、プロピレングリコールモノ
メチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルグリ
コール、セロソルブアセテート、エチレングリコール、
プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、へキシレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリプロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、ジアセトンアルコール
などが挙げられる。塗布液組成物は上述した溶媒を単独
でまたは塗布液の粘度、表面張力などを調節するために
複数用いても構わない。また安定化剤、レベリング剤、
増粘剤などを必要に応じて少量加えても構わない。溶媒
使用量は最終的に得られる高屈折率膜および低屈折率膜
の膜厚、採用するコーティング方法にも依存するが、通
常は全固形分が1〜20%の範囲内に入るように使用さ
れる。
The organic solvent used in the coating liquid composition used for forming the high refractive index film and the low refractive index film depends on the coating method.
Isopropanol, butanol, hexanol, octanol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl glycol, cellosolve acetate, ethylene glycol,
Examples include propylene glycol, diethylene glycol, diethylene glycol monoethyl ether, hexylene glycol, diethylene glycol, tripropylene glycol, polypropylene glycol, diacetone alcohol and the like. As the coating liquid composition, the above-mentioned solvent may be used alone or plurally in order to adjust the viscosity, surface tension and the like of the coating liquid. Also stabilizers, leveling agents,
A small amount of a thickener or the like may be added as needed. The amount of the solvent used depends on the thickness of the high-refractive index film and low-refractive index film finally obtained, and the coating method to be used, but is usually used so that the total solid content falls within the range of 1 to 20%. Is done.

【0031】上記塗布液組成物を前記塗布方法で塗布し
たあと、乾燥または/および250℃以上の温度で加熱
焼成し、ついで、次の塗布液を塗布したあと、乾燥また
は/および250℃以上の温度で加熱焼成することによ
り反射防止着色膜被覆ガラス物品が完成する。このよう
にして得られた被膜は、透明性、耐環境性、耐擦傷性な
どの性能に優れ、積層されていても、高屈折率膜の層と
低屈折率膜の層の緻密化の過程における熱収縮率の違い
により生じやすい膜剥離およびクラックの生成を抑制す
ることができる。
After the above-mentioned coating solution composition is applied by the above-mentioned coating method, it is dried or / and baked by heating at a temperature of 250 ° C. or more. Then, after applying the next coating solution, it is dried and / or 250 ° C. or more. By heating and baking at a temperature, an antireflection colored film-coated glass article is completed. The coating obtained in this way has excellent properties such as transparency, environmental resistance, and scratch resistance, and the process of densification of the high-refractive-index film layer and the low-refractive-index film layer even when they are laminated. In this case, it is possible to suppress film peeling and generation of cracks, which are likely to occur due to the difference in the thermal shrinkage in the above.

【0032】上記の乾燥または/および250℃以上の
加熱による焼成を用いる製造方法に代えて次に述べる光
照射方法を用いることもできる。すなわち、上記塗布液
組成物を前記塗布方法で塗布したあと、可視光線よりも
波長の短い電磁波を塗膜に照射する工程を行い、引き続
いて次の塗布液を塗布したあと、可視光線よりも波長の
短い電磁波を塗膜に照射する工程を行うという、塗布−
乾燥工程を繰り返す方法である。可視光線より短い波長
を有する電磁波としては、γ線、X線、紫外線がある
が、大面積を有する基板への照射を考慮した装置上の実
用性の点から紫外線照射が好ましい。紫外光源としては
エキシマランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メ
タルハライドランプなどが用いられる。365nmを主
波長とし254nm、303nmを効率良く発光する高
圧水銀ランプを用いて、10mW/cm2以上、好まし
くは50mW/cm2以上、さらに好ましくは100m
W/cm2以上の照射強度で塗膜に照射することが望ま
しい。このような紫外線光源を用いて、100mJ/c
2以上、好ましくは500mJ/cm2以上、さらに好
ましくは1000mJ/cm2以上の照射エネルギー
を、本発明の塗布液組成物を用いて塗布された塗膜面に
照射することにより、低温で透明性、耐環境性、耐擦傷
性などの性能に優れ、クラックの生じにくい膜を与え
る。
The light irradiation method described below can be used in place of the above-described manufacturing method using drying and / or baking by heating at 250 ° C. or more. That is, after applying the coating solution composition by the coating method, performing a step of irradiating the coating film with an electromagnetic wave having a shorter wavelength than visible light, and subsequently applying the next coating solution, the wavelength than visible light Irradiating the coating film with a short electromagnetic wave of
This is a method in which the drying step is repeated. Examples of electromagnetic waves having a wavelength shorter than that of visible light include γ-rays, X-rays, and ultraviolet rays. However, ultraviolet irradiation is preferable from the viewpoint of practicality of the apparatus in consideration of irradiation to a substrate having a large area. As an ultraviolet light source, an excimer lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like is used. Using a high-pressure mercury lamp that efficiently emits light at 254 nm and 303 nm with a main wavelength of 365 nm, 10 mW / cm 2 or more, preferably 50 mW / cm 2 or more, and more preferably 100 mW / cm 2 or more.
It is desirable to irradiate the coating film with an irradiation intensity of W / cm 2 or more. Using such an ultraviolet light source, 100 mJ / c
m 2 or more, preferably 500 mJ / cm 2 or more, and more preferably 1000 mJ / cm 2 or more, by irradiating the coating surface coated with the coating liquid composition of the present invention with a low-temperature transparent energy. A film with excellent properties such as resistance, environmental resistance, and scratch resistance, and which hardly causes cracks.

【0033】また紫外線を照射しながら熱による乾燥お
よび/または焼成を同時に行ってもよい。紫外線照射に
よる乾燥方法と、好ましくは250℃以下の温度での熱
乾燥による乾燥工程を同時に用いることにより、透明
性、耐環境性、耐擦傷性などの性能に優れた塗膜を与
え、積層されていても高屈折率膜の層と低屈折率膜の層
の緻密化の過程における熱収縮率の違いにより生じやす
い膜剥離およびクラックの生成を抑制することができ
る。このように紫外線照射を利用することにより、乾燥
工程の高速化がなされ生産性を飛躍的に向上させること
ができる。
Drying and / or baking by heat may be simultaneously performed while irradiating ultraviolet rays. By simultaneously using a drying method by ultraviolet irradiation and a drying step by thermal drying at a temperature of preferably 250 ° C. or less, a coating film excellent in performance such as transparency, environmental resistance, and scratch resistance is given and laminated. Even in this case, it is possible to suppress film peeling and crack generation, which are likely to occur due to a difference in thermal shrinkage in the process of densification of the high refractive index film layer and the low refractive index film layer. By utilizing the ultraviolet irradiation as described above, the speed of the drying process can be increased, and the productivity can be dramatically improved.

【0034】本発明における透明ガラス基材としては、
屈折率が1.47〜1.53の透明ガラス物品、例えば
透明なソーダライム珪酸塩ガラス組成を有する、無着色
のガラス板、緑色、ブロンズ色等に着色され、または紫
外線、または熱線を遮断する性能を有するガラス板その
他の形状を有する透明ガラス基板等を使用してもよく、
厚みが0.5mm〜5.0mmの、PDPその他のディ
スプレイ用のガラス板、自動車用ガラス板および建築用
ガラス板が好ましく用いられ、そのガラス板の片側表面
または両側表面に上記反射防止着色膜を被覆することが
できる。板状の反射防止着色膜被覆ガラス物品の両表面
が常圧または減圧された空気その他の気体に接している
状態で使用される場合には、ガラス基板の両側表面に反
射防止着色膜を被覆させることにより可視光反射率を最
も小さくすることができる。板状の反射防止着色膜被覆
ガラス物品の一方表面が例えばプラスチック膜を介して
各種パネルに接合、または密着して使用される場合に
は、反射防止着色膜は前記ガラス物品の他方の表面のみ
に被覆されているだけで充分であることが多い。
As the transparent glass substrate in the present invention,
A transparent glass article having a refractive index of 1.47 to 1.53, for example, an uncolored glass plate having a transparent soda lime silicate glass composition, colored in green, bronze, or the like, or blocking ultraviolet rays or heat rays. A glass plate having performance or a transparent glass substrate having another shape may be used,
A glass plate for PDP or other displays, a glass plate for automobiles and a glass plate for buildings having a thickness of 0.5 mm to 5.0 mm are preferably used, and the antireflection colored film is provided on one surface or both surfaces of the glass plate. Can be coated. When both surfaces of a plate-shaped anti-reflection colored film-coated glass article are used in contact with air or other gas at normal pressure or reduced pressure, both surfaces of the glass substrate are coated with an anti-reflection colored film. Thereby, the visible light reflectance can be minimized. When one surface of the plate-shaped anti-reflection colored film-coated glass article is bonded to, or adhered to, various panels via, for example, a plastic film, the anti-reflection colored film is applied only to the other surface of the glass article. It is often sufficient to be coated.

【0035】本発明の反射防止着色膜被覆ガラス物品、
特にPDPのようなディスプレイ装置の前面ガラス、自
動車窓、建築用窓等に用いられる着色膜被覆ガラス板
は、好ましくはLab表色系で表して、aが−15.0
〜20.0、bが−15.0〜3.0の範囲の色度で表
される透過色を有する。より好ましくはLab表色系で
表して、aが−5.0〜10.0、bが−5.0〜3.
0の範囲の色度で表される透過色を有する。
The glass article coated with the antireflection colored film of the present invention,
In particular, a colored film-coated glass plate used for a front glass of a display device such as a PDP, an automobile window, an architectural window, or the like is preferably represented by a Lab color system, and a is -15.0.
220.0, b has a transmission color represented by chromaticity in the range of −15.0 to 3.0. More preferably, in the Lab color system, a is -5.0 to 10.0, and b is -5.0 to 3.0.
It has a transmitted color represented by a chromaticity in the range of 0.

【0036】本発明の反射防止着色膜被覆ガラス物品
は、選択的吸収を利用した反射低減性に優れたガラス物
品を提供する。また着色吸収膜により意匠性に優れたガ
ラス物品を提供する。また本発明の反射防止着色膜被覆
ガラス物品と電磁波遮蔽膜などと組み合わせて、PDP
の前面に密着させて用いる光学フィルタとして利用でき
る。その場合、選択吸収膜を利用していることから、P
DPの発光色を調節する光学フィルタを提供する。例え
ば、PDPでは青色を発光する蛍光体が青色以外にわず
かに赤色成分を発色する性質を有しているため青色に表
示されるべき部分が紫がかった色で表示される場合、蛍
光体の赤色成分を本発明の着色膜で吸収させて、PDP
からの発光色をバランスさせることができる。また電磁
波遮蔽層として銀多層膜を用いた場合に、従来の光学フ
ィルタの透過色が黄緑色になるが、本発明の反射防止着
色膜として透過色が赤紫になるものを使用することによ
り、フィルタ全体として透過色を中性グレー色あるいは
ブルーグレー色に調節することができる。上記の、反射
防止着色膜を被覆した面と反対側の面に、電磁波遮蔽層
を設けたプラズマディスプレイパネル用光学フィルタ
は、Lab表色系で表わして、aが−3.0〜3.0、
bが−3.0〜3.0の色度で表わされる透過色を有す
ることが好ましい。なお、上記電磁波遮蔽層としては銀
多層膜を用いる他に、合成樹脂製のメッシュ織物に高導
電率の金属である銅または銅ニッケル等を無電解めっき
したものを透明基板に張合せる方法、低抵抗ITO膜、
銀薄膜、および銀薄膜からなる多層膜を透明基板に直接
積層する方法やこれらを積層したフィルムを透明基板に
張合せる方法等をとることができる。
The glass article coated with an antireflection colored film according to the present invention provides a glass article having excellent reflection reducing properties utilizing selective absorption. In addition, the present invention provides a glass article excellent in design by a colored absorbing film. In addition, the glass article coated with the antireflection colored film of the present invention is combined with an electromagnetic wave shielding film and the like to form a PDP.
It can be used as an optical filter that is used in close contact with the front surface of a. In that case, since a selective absorption membrane is used, P
Provided is an optical filter for adjusting the emission color of DP. For example, in a PDP, a phosphor that emits blue light has a property of slightly emitting a red component in addition to blue. Therefore, when a portion that should be displayed in blue is displayed in a purplish color, the phosphor of the phosphor emits red light. The components are absorbed by the colored film of the present invention, and PDP
Emission colors from the LEDs can be balanced. When a silver multilayer film is used as the electromagnetic wave shielding layer, the transmission color of the conventional optical filter is yellow-green, but by using the anti-reflection coloring film of the present invention, the transmission color of which is reddish purple, The transmission color of the entire filter can be adjusted to a neutral gray color or a blue gray color. The above-mentioned optical filter for a plasma display panel in which the electromagnetic wave shielding layer is provided on the surface opposite to the surface coated with the anti-reflection colored film has a value of -3.0 to 3.0 in a Lab color system. ,
It is preferable that b has a transmission color represented by a chromaticity of -3.0 to 3.0. In addition to using a silver multilayer film as the electromagnetic wave shielding layer, a method of applying a high conductivity metal, such as copper or copper nickel, to a transparent substrate by electroless plating a synthetic resin mesh fabric on a transparent substrate may be used. Resistance ITO film,
A method of directly laminating a silver thin film and a multilayer film composed of a silver thin film on a transparent substrate, a method of laminating a film obtained by laminating these layers on a transparent substrate, and the like can be used.

【0037】PDPはその部品として前面ガラス板およ
び背面ガラス板を有しているが、透明ガラス基板として
高歪点ガラス板、すなわち歪点が570℃以上であるガ
ラス基板を用いた本発明の反射防止膜被覆ガラス物品
を、PDPの前面ガラス板として使用することにより、
PDP用光学フィルタとPDPの前面ガラス板とを兼用
させることができ、表面に反射防止膜を有するPDPを
提供することができる。
The PDP has a front glass plate and a rear glass plate as its parts. The reflection of the present invention using a high strain point glass plate, ie, a glass substrate having a strain point of 570 ° C. or more, as a transparent glass substrate. By using the glass article coated with the protective film as a front glass plate of PDP,
An optical filter for a PDP can be used as a front glass plate of the PDP, and a PDP having an antireflection film on its surface can be provided.

【0038】[0038]

【発明の実施の形態】次に、本発明を具体的な実施例に
より更に詳細に説明する。 [原液の調製]フラスコ中で撹拌しているチタンイソプ
ロポキシド1モルに、アセチルアセトン2モルを滴下ロ
ートで滴下した。この溶液を酸化チタン原液1とした。
これはTiO2固形分を16.5%含有している。エチ
ルシリケート(コルコート社製「エチルシリケート4
0」)50gに、0.1N塩酸6gとエチルセロソルブ4
4gを加え、室温で2時間撹拌した。この溶液を酸化ケ
イ素原液2とした。これはSiO2固形分を20%含有
している。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples. [Preparation of stock solution] To 1 mol of titanium isopropoxide stirred in a flask, 2 mol of acetylacetone was added dropwise using a dropping funnel. This solution was used as titanium oxide stock solution 1.
It contains 16.5% TiO 2 solids. Ethyl silicate (Colcoat Co., Ltd. “Ethyl silicate 4
0 ") 50g, 0.1N hydrochloric acid 6g and ethyl cellosolve 4
4 g was added and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. This solution was used as silicon oxide stock solution 2. It contains 20% SiO 2 solids.

【0039】[膜形成用液組成物の作製]ガラス基板か
ら数えて第1層の塗布液として、表1に示した組成比率
にしたがって高屈折率膜形成用液組成物を作製した。酸
化チタン原液1、溶媒(エチルセロソルブ)、酸化ケイ
素原液2、金原料(塩化金酸4水和物)の順に所定量を
混合し、2時間室温で撹拌して塗布液番号(H1〜H1
5)で示す高屈折率膜形成用液組成物を得た。同様に表
2に示した組成比率にしたがって塗布液番号(L1〜L
15)で示す低屈折率膜形成用液組成物を得た。
[Preparation of Liquid Composition for Film Forming] A liquid composition for forming a high refractive index film was prepared in accordance with the composition ratio shown in Table 1 as a coating liquid for the first layer counted from the glass substrate. A predetermined amount of a titanium oxide stock solution 1, a solvent (ethyl cellosolve), a silicon oxide stock solution 2, and a gold raw material (chloroauric acid tetrahydrate) were mixed in this order and stirred at room temperature for 2 hours to obtain a coating solution number (H1 to H1).
A liquid composition for forming a high refractive index film shown in 5) was obtained. Similarly, the coating liquid numbers (L1 to L
A liquid composition for forming a low refractive index film shown in 15) was obtained.

【0040】[実施例1〜15、比較例1〜4]上記作
製した塗布液H1を用いて、厚み1.1mmで10cm
×10cmの寸法のソーダ石灰ケイ酸塩組成の無着色透
明ガラス基板(屈折率=1.50)の片側表面上に回転
数3000rpmで15秒間スピンコーティングを行っ
た。風乾の後に550℃で2分間熱処理して高屈折率着
色膜を被覆し、次に上記作製した塗布液L1を回転数2
000rpmで15秒間スピンコーティングを行い、風
乾の後に550℃で2分間熱処理して低屈折率膜を被覆
し、高屈折率着色膜およびその上に形成した低屈折率膜
からなる反射防止着色膜を被覆したガラス板を得た。こ
のガラス板の可視光線反射率Rvisは、着色膜が被覆さ
れた膜面側からD光源光を12度の角度で入射させ、裏
面側(非膜面)からの反射光を遮断した膜面側のみの反
射率(「Rvis膜面」)および裏面側および膜面側から
の反射を含む反射率(「Rvis両面」)の2通りを測定
した。可視光線透過率Tvis(D光源光)はJIS R
3106に従い、透過光の色度についてはJIS Z
8729に従い測定した。
[Examples 1 to 15 and Comparative Examples 1 to 4] The above-prepared coating solution H1 was used to prepare a 1.1 cm thick 10 cm
Spin coating was performed for 15 seconds at a rotation speed of 3000 rpm on one surface of a non-colored transparent glass substrate (refractive index = 1.50) of soda-lime silicate composition having a size of × 10 cm. After air drying, heat treatment was performed at 550 ° C. for 2 minutes to cover the high refractive index colored film.
Spin coating at 000 rpm for 15 seconds, heat-dry at 550 ° C. for 2 minutes after air drying to coat the low refractive index film, and form an antireflection colored film composed of a high refractive index colored film and a low refractive index film formed thereon. A coated glass plate was obtained. The visible light reflectance Rvis of this glass plate is such that the D light source light is incident at an angle of 12 degrees from the film surface coated with the colored film, and the reflected light from the back surface (non-film surface) is blocked. Only two types of reflectance were measured, namely, the reflectance (“Rvis film surface”) and the reflectance including the reflection from the back surface side and the film surface side (“Rvis both surfaces”). Visible light transmittance Tvis (D light source light) is JIS R
According to 3106, the chromaticity of transmitted light is determined according to JIS Z
8729.

【0041】高屈折率膜および低屈折率膜の組成、屈折
率および膜厚は表3,4に示す通りであり、可視光線透
過率(Tvis)、透過光の色度、および可視光線反射率
(Rvis)は表5に示す通りであった。また得られた着
色膜は耐薬品性、耐摩耗性について良好な結果を示し
た。なお、上記反射防止着色膜を上記ガラス基板の両表
面に被覆した場合、表面側および裏面側からの反射を含
む反射率(「Rvis両面」) は、反射防止着色膜をガラ
ス基板の片側表面のみに被覆した場合の反射率(「Rvi
s両面」)3.8%よりも小さく、1.2%であった。
The compositions, refractive indices, and film thicknesses of the high refractive index film and the low refractive index film are as shown in Tables 3 and 4, and include visible light transmittance (Tvis), chromaticity of transmitted light, and visible light reflectance. (Rvis) was as shown in Table 5. Further, the obtained colored film showed good results in chemical resistance and abrasion resistance. When the antireflection colored film is coated on both surfaces of the glass substrate, the reflectance including the reflection from the front side and the back side (“Rvis both sides”) is obtained by applying the antireflection colored film to only one surface of the glass substrate. Reflectance (“Rvi
s both sides "), which was smaller than 3.8% and 1.2%.

【0042】同様にして表1、2に示した塗布液(H2
〜H15およびL2〜L15)を用いて、表3〜表4に
示すような組成、屈折率、および膜厚をそれぞれ有する
高屈折率膜および低屈折率膜を被覆した反射防止着色膜
被覆ガラス物品(実施例2〜15)を得た。これらの光
学特性の測定結果を表5にまとめた。
Similarly, the coating solutions (H2
To H15 and L2 to L15), coated with an antireflection colored film coated with a high-refractive-index film and a low-refractive-index film having compositions, refractive indices, and film thicknesses as shown in Tables 3 and 4, respectively. (Examples 2 to 15) were obtained. Table 5 summarizes the measurement results of these optical characteristics.

【0043】実施例1〜8では、表5に示すように、赤
色を吸収し透過色が緑色、すなわちLab表色系で表し
てa=−3.1〜−8.4でb=−2.9〜−7.8の透過
光色度であり、膜面側のみの反射率(「Rvis膜面」)
が1.0%以下の、反射防止膜被覆ガラス物品を得た。
実施例9〜11では、黄色を吸収し透過色が青色、すな
わちLab表色系で表してa=0.3〜0.8でb=−
3.5〜−10.5の透過光色度であり、膜面側のみの反
射率(「Rvis膜面」)が1.0%以下の、反射防止膜
被覆ガラス物品を得た。また実施例12〜15では、緑
色を吸収し透過色が紫〜赤紫色、すなわちLab表色系
で表してa=2.4〜9.8でb=−5.3〜−1.8の
透過光色度であり、膜面側のみの可視光反射率(「Rvi
s膜面」)が1.0%以下の、反射防止膜被覆ガラス物
品を得た。そして実施例1〜15のすべての反射防止膜
被覆ガラス物品は60%以上の可視光線透過率(Tvi
s)を示した。
In Examples 1 to 8, as shown in Table 5, the red color is absorbed and the transmitted color is green, that is, a = -3.1 to -8.4 and b = -2 in the Lab color system. Transmitted light chromaticity of 0.9 to -7.8, reflectance only on the film surface side ("Rvis film surface")
Was 1.0% or less.
In Examples 9 to 11, the yellow color is absorbed and the transmission color is blue, that is, a = 0.3 to 0.8 and b = − in the Lab color system.
An antireflection film-coated glass article having a transmitted light chromaticity of 3.5 to -10.5 and a reflectance (“Rvis film surface”) only on the film surface side of 1.0% or less was obtained. In Examples 12 to 15, green is absorbed and the transmission color is purple to magenta, that is, a = 2.4 to 9.8 and b = −5.3 to −1.8 in the Lab color system. It is the chromaticity of transmitted light, and the visible light reflectance (“Rvi
The glass article coated with an antireflection film having an “s film surface” of 1.0% or less was obtained. All of the glass articles coated with the antireflection film of Examples 1 to 15 had a visible light transmittance (Tvi) of 60% or more.
s).

【0044】高屈折率膜形成用塗布液または低屈折率膜
形成用塗布液の塗布条件である、スピンコートによる回
転速度を調節することにより、表6、表7に示すよう
に、高屈折率膜の膜厚を80〜140nmの範囲の外
に、または低屈折率膜の膜厚を70〜99nmの範囲の
外に変えた以外は実施例5と同じ方法で反射防止着色膜
被覆ガラス物品(比較例1〜4)を得た。それらの光学
特性の測定結果は表8に示す通りである。比較例では、
膜面側のみの可視光反射率(「Rvis膜面」)は3.0〜
4.2%であり、実施例(0.4〜0.9%)に比べて可
視光反射防止性能は明らかに劣っていた。また比較例の
可視光線透過率(Tvis)は60%未満であり実施例
(60%以上)に比べて劣っていた。
As shown in Tables 6 and 7, by adjusting the rotation speed by spin coating, which is the application condition of the coating liquid for forming a high refractive index film or the coating liquid for forming a low refractive index film, Except that the thickness of the film was changed out of the range of 80 to 140 nm, or the thickness of the low refractive index film was changed out of the range of 70 to 99 nm, the antireflection colored film-coated glass article ( Comparative Examples 1 to 4) were obtained. Table 8 shows the measurement results of the optical characteristics. In the comparative example,
The visible light reflectance (“Rvis film surface”) only on the film surface side is 3.0 to 3.0.
It was 4.2%, and the visible light antireflection performance was clearly inferior to the examples (0.4 to 0.9%). The visible light transmittance (Tvis) of the comparative example was less than 60%, which was inferior to the examples (60% or more).

【0045】[0045]

【表1】 ────────────────────────────────── 実施例 塗布液 酸化チタン 酸化ケイ素 金原料 溶媒 番号 番号 原液1(g) 原液2(g) (g) (g) ────────────────────────────────── 1 H1 25.8 0 1.3 73.0 2 H2 22.1 3.0 1.3 73.6 3 H3 20.6 4.3 1.3 73.9 4 H4 18.5 6.0 1.3 74.2 5 H5 15.5 6.5 2.0 76.1 6 H6 17.3 7.0 1.3 74.4 7 H7 18.5 7.8 0.7 73.1 8 H8 14.6 9.3 1.3 74.9 9 H9 7.9 12.8 2.0 77.4 10 H10 8.5 14.3 1.3 76.0 11 H11 9.4 15.3 0.7 74.7 12 H12 10.0 16.8 0 73.3 13 H13 10.0 16.8 0 73.3 14 H14 10.0 16.8 0 73.3 15 H15 9.7 16.1 0.35 73.9 16 H16 10.0 16.8 0 73.3 ──────────────────────────────────[Table 1] Example coating liquid Titanium oxide Silicon oxide Gold raw material Solvent number No. Stock solution 1 (g) Stock solution 2 (g) (g) (g) ───────────────────────────────── ─ 1 H1 25.8 0 1.3 73.0 2 H2 22.1 3.0 1.3 73.6 3 H3 20.6 4.3 1.3 1.3 73.9 4 H4 18.5 6.0 1 .3 74.2 5 H5 15.5 6.5 2.0 76.1 6 H6 17.3 7.0 1.3 74.4 7 H7 18.5 7.8 0.7 73.18 H8 14 .6 9.3 1.3 74.9 9 H9 7.9 12.8 2.0 77.4 10 H10 8.5 14.3 1.3 76.0 11 H11 9.4 15.3 0.7 74.7 12 H12 10.0 16.8 0 73.3 13 H13 10.0 16.8 0 73.3 14 H14 10.0 16.8 0 73.3 15 H15 9.7 16.1 0.35 73.9 16 H16 10.0 16.8 0 73.3 ──────────────────────────

【0046】[0046]

【表2】 ─────────────────────────────────── 実施例 塗布液 酸化ケイ素 Au原料 溶媒 番号 番号 原液2(g) (g) ─────────────────────────────────── 1 L1 25.0 0 75.0 2 L2 25.0 0 75.0 3 L3 25.0 0 75.0 4 L4 25.0 0 75.0 5 L5 25.0 0 75.0 6 L6 25.0 0 75.0 7 L7 25.0 0 75.0 8 L8 25.0 0 75.0 9 L9 25.0 0 75.0 10 L10 25.0 0 75.0 11 L11 25.0 0 75.0 12 L12 19.3 2.0 78.8 13 L13 21.3 1.3 77.5 14 L14 23.0 0.7 76.3 15 L15 24.0 0.26 75.7 16 L16 24.0 0.3 75.7 ───────────────────────────────────[Table 2] Example coating liquid Silicon oxide Au raw material Solvent No. No. Stock solution 2 (g) (g) 1 1 L1 25.0 0 75 0.02 L2 25.0 0 75.0 3 L3 25.0 0 75.0 4 L4 25.0 0 75.0 5 L5 25.0 0 75.0 6 L6 25.0 0 75.0 7 725 0.0 75.08 L8 25.0 0 75.0 9 L9 25.0 0 75.0 10 L10 25.0 0 75.0 11 L11 25.0 0 75.0 12 L12 19.3 2.0 78.8 13 L13 21.3 1.3 77.5 14 L14 23.0 0.7 76.3 15 L15 24.0 0.26 75.7 16 L16 24.0 0.3 75.7 ─── ────────────────────────────

【0047】[0047]

【表3】 ─────────────────────────────────── 実施例 高屈折率膜組成(重量%) 屈折率 膜厚 番号 TiO2 SiO2 Au (nm) ─────────────────────────────────── 1 85 0 15 2.20 100 2 73 12 15 2.07 101 3 68 17 15 2.00 107 4 61 23 15 1.95 108 5 51 26 23 1.86 108 6 57 28 15 1.86 108 7 61 31 8 1.86 111 8 48 37 15 1.80 110 9 26 51 23 1.76 123 10 28 57 15 1.76 122 11 31 61 8 1.76 120 12 33 67 0 1.76 101 13 33 67 0 1.76 101 14 33 67 0 1.76 100 15 32 64 4 1.76 105 16 33 67 0 1.76 100 ───────────────────────────────────[Table 3] Example: High refractive index film composition (% by weight) Refractive index Thickness number TiO 2 SiO 2 Au (nm) ─────────────────────────────────── 185 0 15 2.20 100 2 73 12 15 2.07 101 3 68 17 15 2.00 107 4 61 23 15 15 .95 108 5 51 26 23 1.86 108 6 57 28 15 1.86 108 7 61 31 8 1.86 111 848 37 15 1.80 110 9 926 51 23 1.76 123 10 28 57 15 1.76 122 11 31 61 61 8.1.76 120 12 33 67 0 1.76 101 13 33 67 0 1. 76 101 14 33 67 0 1.76 100 15 326 4 1.76 105 16 33 67 0 1.76 100 ───────────────────────────────────

【0048】[0048]

【表4】 ─────────────────────────────────── 実施例 低屈折率膜組成(重量%) 屈折率 膜厚 番号 SiO2 Au (nm) ─────────────────────────────────── 1 100 0 1.46 77 2 100 0 1.46 77 3 100 0 1.46 78 4 100 0 1.46 79 5 100 0 1.46 79 6 100 0 1.46 80 7 100 0 1.46 80 8 100 0 1.46 80 9 100 0 1.46 81 10 100 0 1.46 81 11 100 0 1.46 81 12 77 23 1.46 87 13 85 15 1.46 90 14 92 8 1.46 91 15 97 3 1.46 92 16 96 4 1.46 91 ───────────────────────────────────[Table 4] Example Low refractive index film composition (% by weight) Refractive index Thickness number SiO 2 Au (nm) ─────────────────────────────────── 1 100 0 1 .46 77 2 100 0 1.46 773 100 0 1.46 784 4 100 0 1.46 795 100 0 1.46 796 6 100 0 1.46 807 100 0 1.46 808 001. 46 80 9 100 0 1.46 81 10 100 0 1.46 81 11 100 0 1.46 81 12 77 23 1.46 87 13 85 15 1.46 90 14 92 8 1.46 91 15 973 1.46 92 16 96 4 1.46 91 ──────────────────────────── ───────

【0049】[0049]

【表5】 ───────────────────────────────── 透過光 透過光の色度 Rvis(%) 実施例 Tvis 色調 ────────── ───────── 番号 (%) a b 膜面 両面 ───────────────────────────────── 1 71.0 緑 −6.9 −3.4 0.6 3.8 2 72.2 緑 −6.7 −3.3 0.7 3.7 3 73.9 緑 −6.3 −2.9 0.6 3.8 4 74.0 緑 −6.2 −4.1 0.8 3.6 5 66.2 緑 −8.4 −7.8 0.4 3.0 6 74.1 緑 −5.6 −5.2 0.7 3.6 7 82.0 緑 −2.8 −2.6 0.9 4.0 8 73.4 緑 −3.1 −6.5 0.6 3.7 9 64.8 青 0.8 −10.5 0.4 3.4 10 73.2 青 0.5 −7.0 0.7 3.7 11 81.6 青 0.3 −3.5 0.9 4.1 12 76.8 赤紫 9.8 −5.3 0.4 3.2 13 81.2 赤紫 6.5 −3.5 0.7 3.8 14 85.6 赤紫 3.3 −1.8 0.9 4.1 15 81.0 紫 2.4 −2.7 0.9 4.1 16 85.6 赤紫 2.5 −0.8 0.9 4.3 ─────────────────────────────────[Table 5] ───────────────────────────────── Transmitted light Chromaticity of transmitted light Rvis (%) Tvis color tone ────────── ───────── number (%) a b film surface both sides ──────────────────── 1 171.0 Green -6.9 -3.4 0.6 0.6 3.8 2 72.2 Green -6.7 -3.3 0.7 3. 7 373.9 green -6.3 -2.9 0.6 0.6 3.8 74.0 green -6.2 -4.1 0.8 3.6 5 66.2 green -8.4-7 .8 0.4 3.0 674.1 green -5.6 -5.2 0.7 3.6 67 82.0 green -2.8 -2.6 0.9 0.9 4.08 73.4 Green -3.1 -6.5 0.6 3.7 9 64.8 Blue 0.8-10.5 0.4 3.4 10 73.2 Blue 0.5-7.0 0.7 3. 7 11 81.6 Blue 0.3 -3.5 0.9 4 .11 12 76.8 Red-purple 9.8-5.3 0.4 3.2 13 81.2 Red-purple 6.5 -3.5 0.7 3.7 148.5.6 Red-purple 3.3- 1.8 0.9 4.1 15 81.0 Purple 2.4-2.7 0.9 4.1 16 85.6 Red purple 2.5-0.8 0.9 4.3 ──── ─────────────────────────────

【0050】[0050]

【表6】 ─────────────────────────────────── 比較例 塗布液 高屈折率膜組成(重量%) 屈折率 膜厚 番号 番号 TiO2 SiO2 Au (nm) ─────────────────────────────────── 1 H5 51 26 23 1.86 70 2 H5 51 26 23 1.86 160 3 H5 51 26 23 1.86 108 4 H5 51 26 23 1.86 108 ───────────────────────────────────[Table 6] Comparative example Coating liquid High refractive index film composition (weight %) Refractive index Thickness number No. TiO 2 SiO 2 Au (nm) ────────────────────────────────── {1 H5 512 2623 1.86 702 H5 51 2623 1.86 160 3 H5 5126 23 1.86 108 4 H5 51 2623 1.86 108} ──────────────────────

【0051】[0051]

【表7】 ─────────────────────────────────── 比較例 塗布液 低屈折率膜組成(重量%) 屈折率 膜厚 番号 番号 SiO2 Au (nm) ─────────────────────────────────── 1 L5 100 0 1.46 77 2 L5 100 0 1.46 77 3 L5 100 0 1.46 50 4 L5 100 0 1.46 120 ───────────────────────────────────[Table 7] 比較 Comparative example Coating liquid Low refractive index film composition (weight %) Refractive index Thickness number No. SiO 2 Au (nm) 1 1 L5 100 0 1.46 77 2 L5 100 0 1.46 773 3 L5 100 0 1.46 504 L5 100 0 1.46 120 ─────────────────── ────────────────

【0052】[0052]

【表8】 ─────────────────────────────────── 透過光の色度 Rvis(%) 比較例 Tvis ───────── ───────── 番号 (%) a b 膜面 両面 ─────────────────────────────────── 1 58.0 −7.9 −7.4 3.0 6.3 2 55.2 −7.7 −7.3 4.0 7.1 3 56.9 −7.3 −7.9 3.2 6.6 4 54.0 −7.2 −7.1 4.2 7.6 ───────────────────────────────────[Table 8] 色 Chromaticity of transmitted light Rvis (%) Comparative Example Tvis ───────── 番号 Number (%) a b Membrane surface Both surfaces ────────────────────── 1 158.0 -7.9 -7.4 3.0 6.3 25.5.2 -7.7 -7.3 4.0 7.13 56.9 -7.3 -7.9 3.2 6.6 4 54.0 -7.2 -7.1 4.2 7.6 ─────────────── ────────────────────

【0053】[実施例16] 光学フィルタの作製 酸化セリウム研磨材で表面を研磨・洗浄した59cmx
89cmで3.2mmの厚みの高歪点を有する無着色フ
ロートガラス板(歪点575℃、屈折率=1.50)の
片側表面をフレキソコート法により表1に示す塗布液H
16をコーティングし、160W/cmの高圧水銀ラン
プを用いて10cmの距離から15mW/cm2の照射
強度で30秒間の紫外線照射を行い、表3に示す組成、
屈折率、および膜厚をそれぞれ有する第1層の高屈折率
膜を形成した。続いて、該第1層膜の上に表2に示す塗
布液L16を塗布し、コンベア搬送式赤外線加熱炉(炉
内温度300℃)でガラス温度250℃に加熱して、表
4に示す組成、屈折率、および膜厚をそれぞれ有する第
2層の着色低屈折率膜を形成した。このようにして高屈
折率着色膜およびその上に形成した低屈折率膜からなる
反射防止着色膜を被覆したガラス板を得た。この反射防
止着色膜被覆ガラス板の光学特性の測定結果を表5に示
す。
Example 16 Production of Optical Filter 59 cmx whose surface was polished and washed with a cerium oxide abrasive.
A coating solution H shown in Table 1 was applied to one surface of an uncolored float glass plate (strain point: 575 ° C., refractive index = 1.50) having a high strain point of 89 cm and a thickness of 3.2 mm by a flexographic coating method.
16 and irradiated with ultraviolet light for 30 seconds at an irradiation intensity of 15 mW / cm 2 from a distance of 10 cm using a high-pressure mercury lamp of 160 W / cm, and the composition shown in Table 3 was obtained.
A first layer high refractive index film having a refractive index and a film thickness, respectively, was formed. Subsequently, the coating liquid L16 shown in Table 2 was applied onto the first layer film, and heated to a glass temperature of 250 ° C. in a conveyor-conveying infrared heating furnace (in-furnace temperature: 300 ° C.) to obtain a composition shown in Table 4. , A second layer of colored low refractive index film having a refractive index and a thickness. Thus, a glass plate coated with an antireflection colored film composed of a high refractive index colored film and a low refractive index film formed thereon was obtained. Table 5 shows the measurement results of the optical characteristics of the glass plate coated with the antireflection colored film.

【0054】上記ガラス板の反射防止着色膜を形成した
面(第一面)とは反対側のガラス表面(第二面)の周辺
部(幅約10mm)に、光遮蔽層として、黒色のインク
をシルクスクリーン印刷で印刷し、引き続いてその黒色
印刷層の上にアース電極として導電性銀ペーストを印刷
し、500℃で焼成した。そしてこの第二面の全体の上
に、スパッタ法により電磁波遮蔽層として次のような銀
と無機酸化物微粒子の多層膜を形成した。この多層膜は
上記ガラス板の第二面に、SnO2(34)−ZAO(7)−AgPd
0.4(8)−ZAO(7)−SnO2(50)−ZAO(7)−AgPd0.4
(9)−ZAO(7)−SnO2(52)−ZAO(7)−AgPd0.4
(7)−ZAO(7)−SnO2(35)の順に14層積層した。
なお、「ZAO」は、Zn(94重量%)、Al(6重量
%)のメタルターゲットから酸素反応性スパッタリング
で得られた複合金属酸化物膜であり、「AgPd0.4」はA
g(99.6重量%)Pd(0.4重量%)のメタルタ
ーゲットからアルゴンガスによるスパッタリングで得ら
れた合金膜である。また括弧内は膜厚(nm)である。
この多層膜は2.5Ω/□のシート抵抗および12%
の近赤外線透過率を有している。もし、この多層膜を無
着色のフロートガラス板の片側表面に成膜した場合の透
過色調(色度)はLab表色系で表わして、a=−2.
4で,b=0.7であり、黄緑色を示した。第一面に反
射防止膜を、第二面に電磁波遮蔽層をそれぞれ形成した
ガラス板を電磁波遮蔽層がPDPに面するように密着配
置させた場合に、干渉縞であるニュートンリングを生じ
させないために、そしてもしガラス板が破損した場合の
破片飛散防止膜として、PDPに面する表面側に微少な
凹凸を形成させたプラスチックフィルムを上記ガラス板
の第二面に張合せ、PDP用光学フィルタを得た。得ら
れた光学フィルタの透過色調はa=0.2、b=0.3
であり、中性灰色を示した。
A black ink as a light shielding layer is formed on the periphery (width of about 10 mm) of the glass surface (second surface) opposite to the surface (first surface) of the glass plate on which the antireflection coloring film is formed. Was printed by silk screen printing, and then a conductive silver paste was printed as a ground electrode on the black printed layer, and baked at 500 ° C. Then, on the entire second surface, the following multilayer film of silver and inorganic oxide fine particles was formed as an electromagnetic wave shielding layer by a sputtering method. This multilayer film is formed on the second surface of the glass plate by SnO 2 (34) -ZAO (7) -AgPd
0.4 (8) -ZAO (7) -SnO 2 (50) -ZAO (7) -AgPd0.4
(9) -ZAO (7) -SnO 2 (52) -ZAO (7) -AgPd0.4
Fourteen layers were laminated in the order of (7) -ZAO (7) -SnO 2 (35).
“ZAO” is a composite metal oxide film obtained by oxygen reactive sputtering from a metal target of Zn (94% by weight) and Al (6% by weight), and “AgPd0.4” is A
g (99.6 wt%) Pd (0.4 wt%) is an alloy film obtained by sputtering with an argon gas from a metal target. The value in parentheses is the film thickness (nm).
This multilayer film has a sheet resistance of 2.5Ω / □ and 12%
Near infrared transmittance. If this multilayer film is formed on one surface of an uncolored float glass plate, the transmission color tone (chromaticity) is represented by the Lab color system, and a = −2.
4, b = 0.7, indicating a yellow-green color. When a glass plate having an anti-reflection film on the first surface and an electromagnetic wave shielding layer formed on the second surface is closely attached to the PDP so that the electromagnetic wave shielding layer faces the PDP, a Newton ring which is an interference fringe is not generated. Then, as a debris scattering prevention film if the glass plate is broken, a plastic film having fine irregularities formed on the surface side facing the PDP is adhered to the second surface of the glass plate, and an optical filter for the PDP is formed. Obtained. The transmission color tone of the obtained optical filter is a = 0.2, b = 0.3
And showed a neutral gray.

【0055】[実施例17]実施例16における、表面
に微少な凹凸を形成させたプラスチックフィルムを張り
合わせる代わりに、市販の破片飛散防止膜兼用の反射防
止フィルム(屈折率の異なる材料の膜を複数重ねて蒸着
したもの。)を上記ガラス板の第二面に張合せ、PDP
用光学フィルタを得た。
Example 17 Instead of laminating a plastic film having fine irregularities on its surface in Example 16, a commercially available anti-reflection film (also a film of a material having a different refractive index having a different refractive index) is also used as a shatter-prevention film. A plurality of layers are deposited on the second surface of the glass plate, and the PDP
Optical filter was obtained.

【0056】[0056]

【発明の効果】以上発明の詳細な説明で述べたように、
本発明によれば可視光の反射防止性能が優れ、しかも透
過光の色調を自由に制御することができ、可視光透過率
が高い反射防止着色膜被覆ガラス物品が得られる。そし
てこの反射防止着色膜被覆ガラス物品を用いて高性能の
PDP用の光学フィルタが得られる。
As described above in the detailed description of the invention,
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the antireflection performance of visible light is excellent, the color tone of transmitted light can be freely controlled, and the glass article coated with an antireflection colored film having high visible light transmittance can be obtained. Using this glass article coated with an anti-reflection colored film, a high-performance optical filter for PDP can be obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/30 316 H01J 11/02 E H01J 11/02 G02B 1/10 A ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G09F 9/30 316 H01J 11/02 E H01J 11/02 G02B 1/10 A

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 屈折率が1.47〜1.53の透明ガラ
ス基板上に、1.59〜2.30の屈折率および80〜
140nmの膜厚を有し、重量%で表わして0〜85%
のケイ素酸化物、10〜95%のチタン酸化物および5
〜30%の金微粒子を含有する高屈折率膜を形成し、前
記高屈折率膜上に、1.35〜1.58の範囲内でかつ
前記高屈折率膜の屈折率に比して少なくとも0.20小
さい値の屈折率、および70〜99nmの膜厚を有し、
重量%で表わして90〜100%のケイ素酸化物を含有
する低屈折率膜を形成してなる反射防止着色膜被覆ガラ
ス物品。
1. A transparent glass substrate having a refractive index of 1.47 to 1.53, a refractive index of 1.59 to 2.30 and a refractive index of 80 to
Has a thickness of 140 nm and is expressed as 0 to 85% by weight
Silicon oxide, 10-95% titanium oxide and 5
A high-refractive-index film containing 30% to 30% of fine gold particles is formed on the high-refractive-index film in a range of 1.35 to 1.58 and at least as compared with the refractive index of the high-refractive-index film. A refractive index of 0.20 less, and a film thickness of 70-99 nm;
An antireflection colored film-coated glass article comprising a low-refractive-index film containing 90 to 100% by weight of silicon oxide expressed in terms of% by weight.
【請求項2】 屈折率が1.47〜1.53の透明ガラ
ス基板上に、1.59〜2.30の屈折率および80〜
140nmの膜厚を有し、重量%で表わして0〜89%
のケイ素酸化物、11〜100%のチタン酸化物を含有
する高屈折率膜を形成し、該高屈折率膜上に、1.35
〜1.58の範囲内でかつ前記高屈折率膜の屈折率に比
して少なくとも0.20小さい値の屈折率、70〜99
nmの膜厚を有し、重量%で表わして70〜95%のケ
イ素酸化物および4〜30%の金微粒子を含有する低屈
折率膜を形成してなる反射防止着色膜被覆ガラス物品。
2. A transparent glass substrate having a refractive index of 1.47 to 1.53, a refractive index of 1.59 to 2.30 and a refractive index of 80 to
Having a thickness of 140 nm, expressed in% by weight, 0-89%
A high refractive index film containing 11-100% titanium oxide, and forming 1.35 on the high refractive index film.
1.51.58 and a refractive index of at least 0.20 smaller than the refractive index of the high refractive index film;
An anti-reflective colored film-coated glass article having a thickness of 10 nm and forming a low refractive index film containing 70 to 95% by weight of silicon oxide and 4 to 30% of fine gold particles by weight.
【請求項3】 屈折率が1.47〜1.53の透明ガラ
ス基板上に、1.59〜2.30の屈折率および80〜
140nmの膜厚を有し、重量%で表わして0〜89%
のケイ素酸化物、10〜100%のチタン酸化物および
0〜30%の金微粒子を含有する高屈折率膜を形成し、
前記高屈折率膜上に、1.35〜1.58の範囲内でか
つ前記高屈折率膜の屈折率に比して少なくとも0.20
小さい値の屈折率、および70〜99nmの膜厚を有
し、重量%で表わして70〜100%のケイ素酸化物お
よび0〜30%の金微粒子を含有する低屈折率膜を形成
してなり、ここにおいて、高屈折率膜中の金微粒子含有
量と低屈折率膜中の金微粒子含有量の和が4〜30重量
%である反射防止着色膜被覆ガラス物品。
3. A transparent glass substrate having a refractive index of 1.47 to 1.53 and a refractive index of 1.59 to 2.30 and a refractive index of 80 to
Having a thickness of 140 nm, expressed in% by weight, 0-89%
Forming a high refractive index film containing silicon oxide, 10 to 100% titanium oxide and 0 to 30% gold fine particles,
On the high refractive index film, at least 0.20 in the range of 1.35 to 1.58 and the refractive index of the high refractive index film.
A low refractive index film having a small value of refractive index and a film thickness of 70 to 99 nm and containing 70 to 100% of silicon oxide and 0 to 30% of fine gold particles in weight% is formed. Here, an antireflection colored film-coated glass article wherein the sum of the content of the fine gold particles in the high refractive index film and the content of the fine gold particles in the low refractive index film is 4 to 30% by weight.
【請求項4】 前記ガラス物品が、Lab表色系で表わ
して、aが−15.0〜20.0、bが−15.0〜
3.0の色度で表わされる透過色を有する請求項1〜3
のいずれか1項に記載の反射防止着色膜被覆ガラス物
品。
4. The glass article according to claim 1, wherein a is -15.0 to 20.0 and b is -15.0 to 1 in a Lab color system.
4. A transparent color having a chromaticity of 3.0.
The glass article coated with an antireflective colored film according to any one of the above.
【請求項5】 前記ガラス物品が、Lab表色系で表わ
して、aが−5.0〜10.0、bが−5.0〜3.0
の色度で表わされる透過色を有する請求項1〜3のいず
れか1項に記載の反射防止着色膜被覆ガラス物品。
5. The glass article is represented by a Lab color system, wherein a is -5.0 to 10.0 and b is -5.0 to 3.0.
The antireflection colored film-coated glass article according to any one of claims 1 to 3, which has a transmission color represented by the following chromaticity.
【請求項6】 前記ガラス物品が、6.0%以下の可視
光線反射率(12度の入射角で被膜面側から光を入射さ
せ、裏面からの反射も含む)を有する請求項1〜5のい
ずれか1項に記載の反射防止着色膜被覆ガラス物品。
6. The glass article has a visible light reflectance of 6.0% or less (including light reflected from the back side at an incident angle of 12 degrees, from the coating surface side). The glass article coated with an antireflective colored film according to any one of the above.
【請求項7】 前記ガラス物品が、1.0%以下の膜面
の可視光線反射率(12度の入射角で被膜面側から光を
入射させ、裏面からの反射光を遮断する)を有する請求
項1〜6のいずれか1項に記載の反射防止着色膜被覆ガ
ラス物品。
7. The glass article has a visible light reflectance of the film surface of 1.0% or less (light is incident on the film surface side at an incident angle of 12 degrees and light reflected from the back surface is blocked). The glass article coated with an anti-reflection colored film according to claim 1.
【請求項8】 請求項1〜7のいずれか1項に記載のガ
ラス物品の、反射防止着色膜を被覆した面と反対側の面
に、電磁波遮蔽層を設けたことを特徴とするプラズマデ
ィスプレイパネル用光学フィルタ。
8. A plasma display, characterized in that an electromagnetic wave shielding layer is provided on the surface of the glass article according to any one of claims 1 to 7 opposite to the surface coated with the antireflection colored film. Optical filter for panel.
【請求項9】 前記光学フィルタが、Lab表色系で表
わして、aが−3.0〜3.0、bが−3.0〜3.0
の色度で表わされる透過色を有する請求項8に記載のプ
ラズマディスプレイパネル用光学フィルタ。
9. The optical filter according to claim 1, wherein a is -3.0 to 3.0, and b is -3.0 to 3.0 in a Lab color system.
9. The optical filter for a plasma display panel according to claim 8, having a transmission color represented by the following chromaticity.
【請求項10】 前記透明ガラス基板が高歪点を有する
透明ガラス板である請求項1〜7のいずれか1項に記載
の着色反射防止膜被覆ガラス物品。
10. The colored antireflection film-coated glass article according to claim 1, wherein the transparent glass substrate is a transparent glass plate having a high strain point.
【請求項11】 請求項10記載の着色反射防止膜被覆
ガラス物品を前面ガラスとして用いてなるプラズマディ
スプレイパネル。
11. A plasma display panel using the glass article coated with a colored anti-reflection film according to claim 10 as a front glass.
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