JP2000108063A - Substrate conveying device and substrate conveying robot - Google Patents

Substrate conveying device and substrate conveying robot

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JP2000108063A
JP2000108063A JP10275923A JP27592398A JP2000108063A JP 2000108063 A JP2000108063 A JP 2000108063A JP 10275923 A JP10275923 A JP 10275923A JP 27592398 A JP27592398 A JP 27592398A JP 2000108063 A JP2000108063 A JP 2000108063A
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JP
Japan
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substrate
robot
hand
base
moving plate
Prior art date
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Application number
JP10275923A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Kimata
一夫 木全
Kanji Baba
寛次 馬場
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Asyst Japan Inc
Original Assignee
Asyst Japan Inc
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Publication date
Application filed by Asyst Japan Inc filed Critical Asyst Japan Inc
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate conveying robot and a substrate conveying device, capable of achieving flexibility of alignment. SOLUTION: This conveying robot is constituted of a base 41 to be moved along Y axis, a moving plate 43 to be arranged on the base 41, and a robot main body 50 to be supported on the moving plate 43. The moving plate 43 is driven in a direction perpendicular to the Y-axis direction by a moving plate driving part 60 arranged on the base 41. Accordingly, a hand 56 of a robot 4 performs the X-axis movement in which the hand 56 itself is extended, the Y-axis movement in which the hand 56 is moved by the base 41, and the correcting X-axis movement in which the hand 56 is moved by the moving plate 43.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、X軸及びY軸方
向に移動可能なハンドを有するロボットによりガラス基
板を保持して搬送する搬送装置の改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improvement in a transfer device for holding and transferring a glass substrate by a robot having a hand movable in X-axis and Y-axis directions.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、ガラス基板は各種の加工が施さ
れて液晶ディスプレイ用基板として製造されている。液
晶ディスプレイはワードプロセッサ、ポータブルパソコ
ンまたは車載用の各種の計測機類やナビゲータ等の普及
により広い分野に進出するとともに高精度・大型化が要
求されてきている。ガラス基板の加工工程やそのための
搬送工程はほとんどが自動化されるとともに、高精度・
大型化の要求に合わせて改良がなされている。通常、ガ
ラス基板を搬送して加工するためにガラス基板は多段に
形成されたカセットに収納され、ロボットでカセットか
ら取り出されて次工程に搬送される。しかし、カセット
に収納されているガラス基板は、通常、設定された正規
の位置に載置されていることは少なく、正規の位置に対
して僅かに傾いた位置で載置されたり、X軸方向(ハン
ドの基板取り出し方向)あるいはY軸方向(ロボット自
体の移動方向)またはθ軸方向(水平方向の傾き)にず
れた位置で収納されている。そのため、ガラス基板を次
工程に搬送する場合、ガラス基板の側端縁や前端縁の位
置をセンサで検出し、検出した結果でロボットのハンド
を位置補正してガラス基板を搬送していた。
2. Description of the Related Art In general, a glass substrate is manufactured as a substrate for a liquid crystal display by performing various processes. Liquid crystal displays have entered a wide range of fields due to the spread of word processors, portable personal computers, various types of measuring instruments and navigators for vehicles, and have been required to have high precision and large size. Most of the glass substrate processing process and the transport process for it are automated,
Improvements have been made to meet the demand for larger sizes. Usually, glass substrates are stored in a multi-stage cassette in order to transport and process the glass substrates, and are taken out of the cassette by a robot and transported to the next step. However, the glass substrate stored in the cassette is usually rarely placed at a set regular position, and is placed at a position slightly inclined with respect to the regular position, or in the X-axis direction. (The direction in which the substrate is taken out of the hand), the Y-axis direction (the moving direction of the robot itself), or the θ-axis direction (horizontal inclination). Therefore, when the glass substrate is transported to the next process, the position of the side edge or the front edge of the glass substrate is detected by a sensor, and the position of the robot hand is corrected based on the detected result, and the glass substrate is transported.

【0003】従来、ガラス基板のアライメントを行なう
ためのアライナーを有する基板搬送装置は、特開平9−
69548号に示されるように、カセットに収納されて
いるガラス基板の側面近傍に第1距離センサが2か所に
設置されている。そして、ガラス基板が収納されている
カセットが所定位置に装着されると、2個の第1距離セ
ンサは上下移動またはガラス基板に対して接近離隔する
方向に移動して全てのガラス基板の側面の距離を検出し
て、ガラス基板の定位置に対するずれを検知する。
Conventionally, a substrate transfer apparatus having an aligner for aligning a glass substrate is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No.
As shown in Japanese Patent No. 69548, two first distance sensors are installed near the side surface of a glass substrate housed in a cassette. Then, when the cassette containing the glass substrates is mounted at a predetermined position, the two first distance sensors move up and down or move in a direction approaching and separating from the glass substrates, so that The distance is detected to detect the deviation of the glass substrate from the fixed position.

【0004】一方、カセットの正面に対向する位置にガ
ラス基板を搬送するロボットが配置され、ロボットにガ
ラス基板の正面端面の位置を測定する第2距離センサが
取り付けられている。第2距離センサがガラス基板の正
面端面の距離を測定することによって、第1距離センサ
との3か所でガラス基板の位置を検出することができ
る。検出されたガラス基板の現在位置と正規の位置を比
較してロボットのハンド部がその補正分、機台に対して
θ回転してガラス基板を取り出すために移動する。
On the other hand, a robot for transporting a glass substrate is disposed at a position facing the front of the cassette, and a second distance sensor for measuring the position of the front end face of the glass substrate is attached to the robot. The second distance sensor measures the distance of the front end face of the glass substrate, so that the position of the glass substrate can be detected at three points with the first distance sensor. The detected current position of the glass substrate is compared with the regular position, and the hand portion of the robot is rotated by θ with respect to the machine base by an amount corresponding to the correction and moves to take out the glass substrate.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の基板搬
送装置においては、搬送装置内にアライナーが設置され
ているため、カセット内の基板の位置ずれをアライナー
とロボットに取り付けられたセンサにより基板を正規の
状態に補正して搬送することが可能であった。しかし、
各種の基板搬送ラインにおいては、例えば、Y軸移動可
能に設置されたロボットに対して、ロボットの上流位置
でY軸と直交する方向に流れてきた処理装置あるいはカ
セット内の基板をハンドで取り出し、ロボットの下流位
置でY軸と直交する方向に流れる処理装置またはカセッ
ト内に基板を収納する場合がある。この場合、ロボット
のハンドは、上流位置あるいは下流位置に対して正面を
向くために、ロボットのθ回転によりY軸方向に沿って
配置されることになる。一方、上流位置にある処理装置
あるいはカセット内の基板は正規の状態で配置されてい
るとは限らず、ハンドのセンタと基板のセンターがY軸
方向と直交する方向にずれているとハンドで位置ずれを
修正することができない。つまり、このタイプのロボッ
トはハンドがロボット機台の中心線上を通る直線移動を
行なうように構成されているため、ハンドの直線移動に
対する直交方向への移動に対してはその構成がなされて
いない。
However, in the conventional substrate transfer device, since the aligner is installed in the transfer device, the displacement of the substrate in the cassette is determined by the aligner and the sensor attached to the robot. It was possible to correct and transport the paper to a normal state. But,
In various substrate transfer lines, for example, for a robot installed so as to be movable in the Y-axis, a substrate in a processing device or a cassette which has flowed in a direction orthogonal to the Y-axis at a position upstream of the robot is taken out by hand, Substrates may be stored in a processing apparatus or cassette that flows in a direction orthogonal to the Y axis at a position downstream of the robot. In this case, the robot hand is arranged along the Y-axis direction by the θ rotation of the robot in order to face the front with respect to the upstream position or the downstream position. On the other hand, the substrate in the processing apparatus or cassette at the upstream position is not always arranged in a normal state. The shift cannot be corrected. That is, since this type of robot is configured so that the hand performs a linear movement passing on the center line of the robot machine base, the configuration is not made for the movement of the hand in a direction orthogonal to the linear movement.

【0006】従って、カセットあるいは加工処理装置が
ロボットのY軸方向の延長線上に配置されている場合に
は、ハンドをY軸と直交する方向に補正移動することが
できず、ハンドのロボット本体に対するX軸方向及びY
軸方向への補正移動できるロボットが要望されていた。
Therefore, when the cassette or the processing device is arranged on an extension of the Y-axis direction of the robot, the hand cannot be corrected and moved in the direction orthogonal to the Y-axis, and the hand cannot be moved relative to the robot body. X-axis direction and Y
There has been a demand for a robot capable of correcting movement in the axial direction.

【0007】この発明は、上述の課題を解決するもので
あり、各種の基板搬送ラインに適用するために、ハンド
のロボット本体に対するX軸方向及びY軸方向への補正
移動できる基板搬送ロボット及びその基板搬送ロボット
を含む基板搬送装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problems, and in order to be applied to various substrate transfer lines, a substrate transfer robot capable of correcting and moving a hand with respect to a robot body in an X-axis direction and a Y-axis direction, and its It is an object to provide a substrate transfer device including a substrate transfer robot.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この発明にかかわる基板
搬送装置では、上記の課題を解決するために以下のよう
に構成するものである。即ち、基板を収納するカセット
と、基板を保持して搬送するハンドを備えるロボット
と、前記ロボットにより搬送される基板を処理する処理
装置と、を有する基板搬送装置であって、前記ロボット
のハンドが、前記カセット及び前記処理装置に対して進
退する方向に移動するX軸移動を行なうとともに、前記
ロボット自体が基板を搬送する方向に移動するY軸移動
を行ない、さらに、前記ハンドが、前記ロボットのY軸
移動方向に対して直交する方向に補正移動可能に構成さ
れることを特徴とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION A substrate transfer apparatus according to the present invention is configured as follows to solve the above-mentioned problems. That is, a substrate transport device including a cassette for storing substrates, a robot having a hand for holding and transporting the substrate, and a processing device for processing the substrate transported by the robot, wherein the hand of the robot is Performing an X-axis movement that moves in a direction of moving back and forth with respect to the cassette and the processing apparatus, and performing a Y-axis movement in which the robot itself moves in a direction in which the substrate is transported. It is characterized in that it can be corrected and moved in a direction orthogonal to the Y-axis moving direction.

【0009】また好ましくは、前記ハンドに、前記基板
の傾きを検出するための2個の第1検出センサが配設さ
れるとともに、前記ロボットのY軸移動に対して直交す
る方向に前記基板の位置補正するための少なくとも1個
の第2検出センサが、前記処理装置の近傍付近で床面上
に固着支持されていることを特徴とするものであればよ
い。
Preferably, the hand is provided with two first detection sensors for detecting the inclination of the board, and the hand is provided with the first detection sensor in a direction orthogonal to the Y-axis movement of the robot. At least one second detection sensor for position correction may be fixedly supported on the floor near the processing device.

【0010】また、前記ロボットが、ハンドとハンド駆
動部とを有する本体部を備え、前記本体部が、Y軸方向
に移動可能なベースに移動可能に配設される移動プレー
トに支持され、前記移動プレートが前記ベースに配設さ
れる駆動手段により前記ロボットのY軸方向に対して直
交する方向に移動可能に構成されることを特徴とするも
のであればなおよい。
Further, the robot has a main body having a hand and a hand driving section, and the main body is supported by a moving plate movably disposed on a base movable in the Y-axis direction. It is more preferable that the moving plate is configured to be movable in a direction orthogonal to the Y-axis direction of the robot by a driving unit disposed on the base.

【0011】また、この発明にかかわる基板搬送ロボッ
トは、基板を保持し機台に対して旋回可能に構成される
とともに前記基板を出入するために伸縮可能に構成され
たハンド手段を有するロボット本体と、前記ハンド手段
に保持された基板を搬送するために前記ロボット本体と
共に移動するベースと、前記ベースに移動可能に配設さ
れる移動プレートと、前記ベースに配設され前記移動プ
レートを駆動する移動プレート駆動手段と、を有して構
成され、前記ロボット本体が前記移動プレートに支持さ
れて前記移動プレートと共に前記ベースの移動方向に対
して直交する方向に移動可能に構成されたことを特徴と
するものである。
Further, a substrate transfer robot according to the present invention is provided with a robot main body having a hand means configured to hold a substrate and be capable of turning with respect to a machine base and extendable to move the substrate in and out. A base that moves together with the robot body to transfer a substrate held by the hand means, a moving plate movably disposed on the base, and a movement that is disposed on the base and drives the moving plate. Plate driving means, wherein the robot body is supported by the moving plate and is configured to be movable together with the moving plate in a direction orthogonal to the moving direction of the base. Things.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施の形態を
図面に基づいて説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0013】本形態の基板搬送装置Mは、架台1上にガ
ラス基板(以下、基板という)Wが多段に収納されるカ
セット2(本形態では2台)と、基板Wを保持して搬送
する後述のハンド56を有し並設された前記2台のカセ
ット2に沿って平行に移動可能なロボット4と、架台1
の外方で前記ロボット4の移動方向の延長線上の両側に
配設され基板Wを加工処理する上流側処理装置5(また
は下流側加工装置6)と、を有して構成されている。上
流側処理装置5(または下流側加工装置6)は、本形態
においてはロボット4自体の移動に対して直交する方向
に沿って移動され、ロボット4が処理装置5(または
6)内の基板Wを搬入搬出する際には、ロボット4に対
向する位置で停止されている。さらに、上流側処理装置
5(または下流側処理装置6)の近傍付近には架台1上
に支持された検出装置7(または8)が設置されてい
る。また、搬送装置1内のカセット2は2台に限定する
ものではなく1台でもよく3台以上設置されていても構
わない。
The substrate transfer apparatus M of this embodiment holds and transfers a cassette 2 (two in this embodiment) in which glass substrates (hereinafter, referred to as substrates) W are stored in multiple stages on a gantry 1. A robot 4 having a hand 56 to be described later and movable in parallel along the two cassettes 2 arranged side by side;
And an upstream processing device 5 (or a downstream processing device 6) disposed on both sides on the extension of the moving direction of the robot 4 for processing the substrate W. In the present embodiment, the upstream processing device 5 (or the downstream processing device 6) is moved along a direction orthogonal to the movement of the robot 4 itself, and the robot 4 moves the substrate W in the processing device 5 (or 6). Is stopped at a position facing the robot 4. Further, a detection device 7 (or 8) supported on the gantry 1 is installed near the upstream processing device 5 (or the downstream processing device 6). Further, the number of cassettes 2 in the transport device 1 is not limited to two, but may be one, or three or more.

【0014】なお、以下に説明にあたっては、ロボット
4のハンド56がカセット2及び処理装置5に対して進
退する方向に移動することをX軸移動といい、例えば、
カセット2に収納されている基板Wを取り出したり、カ
セット2内に基板Wを挿入するためにハンド56が進退
したり、また、処理装置5(または6)に対して基板W
を搬入したり搬出したりするためにハンド56が進退し
たりする移動をいう。
In the following description, the movement of the hand 56 of the robot 4 in the direction of moving back and forth with respect to the cassette 2 and the processing device 5 is called X-axis movement.
The substrate W stored in the cassette 2 is taken out, the hand 56 moves forward and backward to insert the substrate W into the cassette 2, and the substrate W is moved to the processing device 5 (or 6).
Refers to a movement in which the hand 56 moves back and forth in order to carry in and out.

【0015】また、ロボット4がロボット4と対向する
ように配置された上流側処理装置5(または下流側処理
装置6)に対して移動することをY軸移動といい、ロボ
ット4がY軸方向と直交する方向に補正移動することを
補正X軸移動という。
The movement of the robot 4 with respect to the upstream processing device 5 (or the downstream processing device 6) disposed so as to face the robot 4 is called Y-axis movement, and the robot 4 moves in the Y-axis direction. Correction movement in a direction orthogonal to the above is referred to as correction X-axis movement.

【0016】カセット2は、矩形の基板Wを上下方向に
多段に収納するとともにロボット4に対向する側が基板
Wの前端縁部をロボット4のセンサで検出するために解
放するように形成されている。
The cassette 2 is formed so as to store rectangular substrates W in multiple stages in the vertical direction, and to open the side facing the robot 4 so that the front edge of the substrate W can be detected by a sensor of the robot 4. .

【0017】ロボット4は、図2〜4に示すように、下
方が解放された側面視コ字形のロボットベース(以下、
ベースという)41と、ベース41上に2本並設された
リニアガイド42を介して補正X軸移動可能な移動プレ
ート43と、ベース41上に配置され移動プレート43
を補正X軸移動させる移動プレート駆動部60と、移動
プレート43に支持されるロボット本体50とを有して
構成されている。
As shown in FIGS. 2 to 4, the robot 4 has a U-shaped robot base (hereinafter referred to as a “bottom”) with a lower part opened.
A movable plate 43 disposed on the base 41 and a movable plate 43 movable on the base 41 by a correction X-axis via two linear guides 42 arranged side by side on the base 41.
And a robot body 50 supported by the movable plate 43.

【0018】ベース41は前後両面に箱状のガイド44
が取り付けられ、それぞれのガイド44にY軸移動する
ために架台1に支持された2本のレール体45が取り付
けられ、2本のレール体45のうち一方のレール体45
にはベース41をY軸移動するための図示しない駆動部
が装着されている。そのため、ベース41は2本のレー
ル体45に支持されてY軸移動を行なうことができる。
さらにベース41の上面にはロボット本体50が挿通す
るとともに補正X軸方向に長尺状に形成された長穴41
aを有し、ロボット本体50が長穴41a内を補正X軸
移動できるように構成される。そして長穴41の両側に
は移動プレート43を移動可能に支持するリニアガイド
42、42が取り付けられている。
The base 41 has a box-shaped guide 44 on both front and rear sides.
Are attached, and two rails 45 supported by the gantry 1 are attached to the respective guides 44 for Y-axis movement. One of the two rails 45 is one of the rails 45
Is mounted with a drive unit (not shown) for moving the base 41 in the Y-axis. Therefore, the base 41 is supported by the two rail bodies 45 and can perform the Y-axis movement.
Further, a robot main body 50 is inserted into the upper surface of the base 41 and a long hole 41 formed in a long shape in the correction X-axis direction.
a so that the robot body 50 can move in the corrected X-axis in the elongated hole 41a. On both sides of the elongated hole 41, linear guides 42, 42 for movably supporting the moving plate 43 are attached.

【0019】移動プレート43はリニアガイド42の可
動部に取り付けられ、上面にロボット本体50を支持す
る支持面43aが形成されるとともに、中央部にはロボ
ット本体50を挿通するための穴43b(図3参照)が
形成され、さらに、一方の側面部には移動プレート駆動
部60の移動体63が取り付けられる。移動プレート駆
動部60は移動プレート43を補正X軸移動するもので
あればその構成に限定するものではないが、本形態にお
いては、ボールねじを使用した構成としている。ベース
41の上面に取り付けられる2個のボールねじ受け部6
1、61にボールねじ62が取着されボールねじ62の
中央部に移動プレート43に取り付けられる移動体63
が装着されている。ボールねじ62の一端は一方のボー
ルねじ受け部61を挿通して突出され、突出した端部に
プーリ64が装着される。プーリ64はベルト65を介
して別のプーリ66に連結されプーリ66はベース41
上に固着されたモータ67に接続される軸部68に装着
されている。従って、モータ67を作動することにより
プーリ64、66、ベルト65を介してボールねじ62
が一方の方向に回転され、ボールねじ62に装着された
移動体63がボールねじ62の軸心に沿って直線的に移
動することによって移動プレート43が補正X軸方向に
移動することになる。
The moving plate 43 is attached to the movable portion of the linear guide 42, has a support surface 43a for supporting the robot body 50 formed on the upper surface, and has a hole 43b (see FIG. 3) is formed, and the moving body 63 of the moving plate driving unit 60 is attached to one side surface. The moving plate driving unit 60 is not limited to the structure as long as it moves the moving plate 43 in the corrected X-axis direction. In this embodiment, the moving plate driving unit 60 uses a ball screw. Two ball screw receiving portions 6 attached to the upper surface of the base 41
A moving body 63 attached to a moving plate 43 at the center of the ball screw 62 with a ball screw 62 attached to 1 and 61
Is installed. One end of the ball screw 62 is projected through one of the ball screw receiving portions 61, and a pulley 64 is mounted on the projected end. The pulley 64 is connected to another pulley 66 via a belt 65, and the pulley 66 is connected to the base 41.
It is mounted on a shaft 68 connected to a motor 67 fixed above. Therefore, by operating the motor 67, the ball screw 62 is pulled through the pulleys 64 and 66 and the belt 65.
Is rotated in one direction, and the moving body 63 mounted on the ball screw 62 moves linearly along the axis of the ball screw 62, so that the moving plate 43 moves in the correction X-axis direction.

【0020】ロボット本体50は、機台51(図3〜4
参照)と、機台51の上方に配置されるロボットハンド
部52とを有し、機台51はベース41の下部に配置さ
れるとともにロボットハンド部52を上下方向(Z軸方
向)に移動するとともにロボットハンド部52を機台5
1に対して回転(θ回転)させる図示しない駆動部を内
部に収納している。
The robot body 50 includes a machine base 51 (FIGS. 3 and 4).
), And a robot hand 52 disposed above the machine base 51. The machine 51 is arranged below the base 41 and moves the robot hand 52 in the vertical direction (Z-axis direction). And the robot hand unit 52 with the machine base 5
A drive unit (not shown) that rotates (θ rotation) with respect to the drive unit 1 is housed inside.

【0021】ロボットハンド部52は移動プレート43
上に配置されるアームベース53と、アームベース53
上に配置され機台51に対して旋回する第1アーム54
と、第1アーム54の先端部に第1アーム54に対して
旋回可能に連結される第2アーム55と、第2アーム5
5の先端部に第2アーム55に対して旋回可能に連結さ
れるハンド56とを有して構成され、第1アーム54が
アームベース53に内蔵された図示しないモータによっ
て旋回駆動される。そして、アームベース53が移動プ
レート43の上面に取り付け支持され移動プレート43
と共に補正X軸方向に移動される。ハンド56を駆動す
る構成は従来から一般的に公知のもの(例えば、特開平
2−172687号)が使用され、ハンド56は一定方
向に向いたまま直線的に移動するように駆動される。
The robot hand unit 52 includes a moving plate 43
An arm base 53 disposed thereon, and an arm base 53
First arm 54 disposed above and pivoting with respect to machine base 51
A second arm 55 pivotally connected to the distal end of the first arm 54 with respect to the first arm 54;
5 has a hand 56 pivotally connected to the second arm 55. The first arm 54 is driven to rotate by a motor (not shown) built in the arm base 53. The arm base 53 is attached to and supported on the upper surface of the moving plate 43.
Is moved in the correction X-axis direction. As a configuration for driving the hand 56, a conventionally well-known one (for example, JP-A-2-172687) is used, and the hand 56 is driven so as to move linearly while facing in a certain direction.

【0022】また、ハンド56はフォーク状に形成され
先端部に第1検出センサとしての2個の前端位置センサ
57、57が埋設されている。前端位置センサ57はハ
ンド56が基板Wに接近し基板Wの前端縁下方に位置し
た時に前端位置センサ57から投射する光が基板Wの前
端縁部に反射されて受光することによってその位置を検
出する。そして、2個の前端位置センサ57、57が基
板Wの前端縁部のそれぞれの位置を検出すると、その位
置の差により、予め設定された基板Wの正規の位置に対
して水平面上での傾きを検出することができ、その補正
分、ハンド56をθ角度回転する。
The hand 56 is formed in a fork shape, and has two front end position sensors 57, 57 as first detection sensors embedded in the tip end thereof. When the hand 56 approaches the substrate W and is positioned below the front edge of the substrate W, the front end position sensor 57 detects the position of the light projected from the front end position sensor 57 by being reflected by the front edge of the substrate W and receiving the light. I do. When the two front end position sensors 57, 57 detect the positions of the front end edges of the substrate W, the difference between the positions causes the inclination on the horizontal plane with respect to the preset normal position of the substrate W. Can be detected, and the hand 56 is rotated by the angle θ for the correction.

【0023】上流側処理装置5(または下流側処理装置
6)はロボット4によって搬送された基板Wを上流側処
理装置5(または下流側処理装置6)の上方から装着す
るように構成するもので、本形態では、特に上流側処理
装置5(または下流側処理装置6)の具体的な加工内容
を示すものではなく、例えば、基板Wを収納するカセッ
トであってもよい。
The upstream processing apparatus 5 (or the downstream processing apparatus 6) is configured to mount the substrate W transferred by the robot 4 from above the upstream processing apparatus 5 (or the downstream processing apparatus 6). In the present embodiment, the specific processing contents of the upstream processing apparatus 5 (or the downstream processing apparatus 6) are not particularly shown, and for example, a cassette for storing the substrates W may be used.

【0024】また、位置検出センサ7(または8)は、
上流側処理装置5から取り出した(または下流側処理装
置6に収納する)基板Wの補正X軸移動するために第2
検出センサとして上流側処理装置5(または下流側処理
装置6)付近に、図示しないセンサ支持台を介して図示
しない支持台に取り付けられている。検出センサ7(ま
たは8)は、特にセンサのタイプ(例えば、反射型ある
いは透過型等)を限定するものではないが、本形態では
投光部と受光部とを有する透過型のセンサが使用され
る。透過型センサは、基板Wの縁部を下方あるいは上方
の投光部から光を投射して受光部で受光されていた光
が、基板Wによって遮光された時の位置を検出するもの
であり、ロボット4のハンド56が上流側処理装置5か
ら取り出した(または下流側処理装置6に収納する)基
板Wの端縁部の位置を検出することによって基板処理装
置のセンターと基板Wのセンターとの位置ずれ量を検出
し、それぞれのセンターを一致させるために基板Wの位
置データを制御装置に送る。
The position detection sensor 7 (or 8)
To move the substrate W taken out of the upstream processing apparatus 5 (or housed in the downstream processing apparatus 6) in the corrected X-axis direction,
As a detection sensor, it is attached to a support (not shown) via a sensor support (not shown) near the upstream processing device 5 (or the downstream processing device 6). The detection sensor 7 (or 8) is not particularly limited to a sensor type (for example, a reflection type or a transmission type), but in the present embodiment, a transmission type sensor having a light projecting unit and a light receiving unit is used. You. The transmissive sensor detects the position when the light that has been received by the light receiving unit by projecting light from the light projecting unit below or above the edge of the substrate W is blocked by the substrate W, By detecting the position of the edge of the substrate W taken out of the upstream processing apparatus 5 (or stored in the downstream processing apparatus 6) by the hand 56 of the robot 4, the center of the substrate processing apparatus and the center of the substrate W are detected. The position shift amount is detected, and the position data of the substrate W is sent to the control device in order to match the respective centers.

【0025】次に、上記のように構成された基板搬送装
置Mの作用を、主に、図5〜20に基づいて説明する。
この作用説明においては、(1)上流側処理装置5から
基板Wを取り出して一方のカセット2に収納する形態
と、(2)架台1上に新たに装着されたカセット2から
基板Wを取り出して下流側処理装置6に収納する形態を
別々に説明するものであり、上流側処理装置5から基板
Wを取り出して、一旦、カセット2に収納した後、カセ
ット2から下流側処理装置6に収納する形態も発生する
ものの、ここでは詳細な説明を省略する。
Next, the operation of the substrate transfer apparatus M configured as described above will be described mainly with reference to FIGS.
In this operation description, (1) the substrate W is taken out from the upstream processing apparatus 5 and stored in one of the cassettes 2, and (2) the substrate W is taken out from the cassette 2 newly mounted on the gantry 1. This is for separately describing the form of storage in the downstream processing device 6. The substrate W is taken out of the upstream processing device 5, temporarily stored in the cassette 2, and then stored in the downstream processing device 6 from the cassette 2. Although a form may occur, a detailed description is omitted here.

【0026】(1)上流側処理装置5からカセット2に
基板Wを搬送する場合(図5〜12による)、図5にお
いては、基板Wを装着した上流側処理装置5がロボット
4のY軸移動方向の上流側延長線上に移動されて停止さ
れ、ロボットのハンド56が処理装置5の正面に対向す
る位置に回転移動された状態を示している。処理装置5
に収納されている基板Wは正規の位置にあるとは限ら
ず、水平方向に傾いたり、位置ずれを起こしている。
(1) When a substrate W is transported from the upstream processing apparatus 5 to the cassette 2 (see FIGS. 5 to 12), in FIG. This shows a state where the robot hand 56 has been moved and stopped on the upstream extension line in the moving direction, and has been rotated to a position facing the front of the processing device 5. Processing device 5
The substrate W accommodated in is not always at the proper position, but is tilted in the horizontal direction or misaligned.

【0027】この状態で、図6に示すように、ハンド5
6をX軸方向に伸張し基板Wの下方に向かって移動させ
る。この際、ハンド56に取り付けられた位置センサ5
7、57が基板Wの前端縁を通過すると、位置センサ5
7、57から投射された光によって基板Wの2点の位置
が検出され、その位置差を演算することによって基板W
の傾きを測定することができる。
In this state, as shown in FIG.
6 is extended in the X-axis direction and moved downward of the substrate W. At this time, the position sensor 5 attached to the hand 56
7 and 57 pass the front edge of the substrate W, the position sensor 5
The positions of two points on the substrate W are detected by the light projected from the substrates 7 and 57, and the position difference is calculated to calculate the position of the substrate W.
Can be measured.

【0028】基板Wの下方に移動したハンド56は、図
7に示すように、基板Wの傾きに合わせてθ回転を行な
うと同時に、位置センサ57、57で検出された基板W
の位置からX軸方向及び補正X軸方向への僅かな移動を
行なう。この僅かなX軸移動及び補正X軸移動は、もと
もと設定されたハンド56の位置に対してハンド56を
θ角度分傾けることによって生じた位置の差異を基板W
の傾いた状態で補正するものである。この状態ではハン
ド56のセンターと基板Wのセンターは平行であるが一
致はしていない。
As shown in FIG. 7, the hand 56 that has moved below the substrate W makes a .theta. Rotation in accordance with the inclination of the substrate W, and at the same time, the substrate W detected by the position sensors 57, 57.
Are slightly moved in the X-axis direction and the corrected X-axis direction from the position. The slight X-axis movement and the corrected X-axis movement correspond to a difference in position caused by tilting the hand 56 by an angle θ with respect to the originally set position of the hand 56, and the substrate W
Is corrected in a state of inclination. In this state, the center of the hand 56 and the center of the substrate W are parallel but not coincident.

【0029】その後ハンド56を上昇させて基板Wを吸
着保持し、図8に示すように、基板Wを予め設定された
位置までθ回転及びX軸移動及び補正X軸移動すること
によって位置補正する。これにより基板Wはハンド56
と共にY軸方向に平行に配置される。
Thereafter, the hand 56 is lifted to hold the substrate W by suction, and the position is corrected by rotating the substrate W by θ, moving the X axis, and correcting the X axis to a preset position as shown in FIG. . As a result, the substrate W is
Are arranged in parallel with the Y-axis direction.

【0030】次に、Y軸方向に平行に補正された基板W
を、図9に示すように、ハンド56をX軸方向に移動し
て図5の位置まで復帰することにより、処理装置5から
取り出す。
Next, the substrate W corrected in parallel to the Y-axis direction
As shown in FIG. 9, the hand 56 is taken out of the processing device 5 by moving the hand 56 in the X-axis direction and returning to the position of FIG.

【0031】その後、基板Wを吸着保持したハンド56
を補正X軸方向に移動して基板Wのセンターとハンド5
6のセンターとのずれ量を検出するために、基板Wの端
縁を検出センサ7の下方に移動させる。図10は、基板
Wの端縁が検出センサ7によって位置検出された後、ハ
ンド56とのセンターとのずれ量を補正して基板Wを正
規の位置に配置するように、ハンド56を補正X軸方向
に補正移動した状態を示している。
Thereafter, the hand 56 holding the substrate W by suction is held.
Is moved in the direction of the correction X axis, and the center of the substrate W and the hand 5 are moved.
The edge of the substrate W is moved below the detection sensor 7 in order to detect the amount of deviation from the center of the substrate 6. FIG. 10 shows that after the position of the edge of the substrate W is detected by the detection sensor 7, the hand 56 is corrected by X so that the amount of deviation from the center with respect to the hand 56 is corrected and the substrate W is arranged at a proper position. This shows a state where the correction movement has been performed in the axial direction.

【0032】基板Wを正規の位置に補正したロボット4
は、図11に示すように、ハンド56を90°回転させ
て、カセット2の正面に対向させる。この際、基板Wの
センターとカセット2のセンターを一致させるためにY
軸方向にロボット4を補正移動する。そして、図12に
示すように、ハンド56を伸張させカセット2内に基板
Wを正規の位置に合わせた状態で収納し、ハンド56だ
けが元の位置に復帰する。
The robot 4 which has corrected the substrate W to a regular position.
As shown in FIG. 11, the hand 56 is rotated by 90 ° to face the front of the cassette 2. At this time, in order to match the center of the substrate W with the center of the cassette 2, Y
The robot 4 is corrected and moved in the axial direction. Then, as shown in FIG. 12, the hand 56 is extended and the substrate W is stored in the cassette 2 in a state where the substrate W is adjusted to the regular position, and only the hand 56 returns to the original position.

【0033】(2)カセット2から下流側処理装置6に
基板Wを搬送する場合(図13〜20)、図13は、基
板Wが収納されたカセット2が架台1上に装着され、ロ
ボット4のハンド56がカセット2の正面に対向するよ
うに回転移動された状態を示している。カセット2に収
納されている基板Wは正規の位置にあるとは限らず、水
平方向に傾いたり、位置ずれを起こしている。
(2) When transferring a substrate W from the cassette 2 to the downstream processing apparatus 6 (FIGS. 13 to 20), FIG. 13 shows that the cassette 2 containing the substrate W is mounted on the gantry 1 and the robot 4 3 shows a state in which the hand 56 is rotated and moved so as to face the front of the cassette 2. The substrate W accommodated in the cassette 2 is not always at a proper position, but is tilted in the horizontal direction or is displaced.

【0034】次に、図14に示すように、ハンド56を
X軸方向に伸張し基板Wの下方に向かって移動させる。
この際、ハンド56に取り付けられた位置センサ57、
57が基板Wの前端縁を通過すると、前述の形態と同
様、位置センサ57、57によって基板Wの傾きを測定
することができる。
Next, as shown in FIG. 14, the hand 56 is extended in the X-axis direction and moved downward of the substrate W.
At this time, the position sensor 57 attached to the hand 56,
When the 57 passes through the front edge of the substrate W, the inclination of the substrate W can be measured by the position sensors 57, 57 as in the above-described embodiment.

【0035】基板Wの下方に移動したハンド56は、図
15に示すように、基板Wの傾きに合わせてθ回転を行
なうと同時に、位置センサ57、57で検出された基板
Wの位置からX軸方向及びY軸方向への僅かな補正移動
を行なう。この状態ではハンド56のセンターと基板W
のセンターは平行であるが一致はしていない。
As shown in FIG. 15, the hand 56 moved below the substrate W makes a .theta. Rotation in accordance with the inclination of the substrate W and, at the same time, moves X from the position of the substrate W detected by the position sensors 57 and 57. A slight correction movement is performed in the axial direction and the Y-axis direction. In this state, the center of the hand 56 and the substrate W
Are parallel but not coincident.

【0036】その後、ハンド56を上昇させて基板Wを
吸着保持し、図16に示すように、基板Wを予め設定さ
れた位置までθ回転及びX軸移動及びY軸移動すること
によって位置補正する。これにより基板Wはハンド56
と共にX軸方向に平行に配置される。
Thereafter, the hand 56 is lifted to hold the substrate W by suction, and the position is corrected by rotating the substrate W by θ, X-axis and Y-axis to a preset position as shown in FIG. . As a result, the substrate W is
Are arranged in parallel with the X-axis direction.

【0037】次に、X軸方向に平行に補正された基板W
を、図17に示すように、ハンド56をX軸方向に移動
して図13の位置まで復帰することにより、カセット2
から取り出す。ハンド56が元の位置に復帰すると、図
18に示すように、ロボット4は基板Wを吸着保持して
いるハンド56を下流側処理装置6側の正面に対向する
位置に回転移動させる。
Next, the substrate W corrected in parallel to the X-axis direction
By moving the hand 56 in the X-axis direction and returning to the position shown in FIG. 13 as shown in FIG.
Remove from When the hand 56 returns to the original position, as shown in FIG. 18, the robot 4 rotates the hand 56 holding the substrate W by suction to a position facing the front side of the downstream processing device 6 side.

【0038】その後、下流側処理装置6側に向かってY
軸移動し、下流側処理装置6の直前位置で一旦停止す
る。そして、基板Wを吸着保持したハンド56を補正X
軸方向に移動して基板Wのセンターとハンド56のセン
ターとのずれ量を検出するために、基板Wの端縁を処理
装置6の近傍付近に設置された検出センサ8の下方に移
動させる。図19は、基板Wの端縁が検出センサ8によ
って位置検出された後、ハンド56とのセンターとのず
れ量を補正して基板Wを正規の位置に配置するように、
ハンド56を補正X軸方向に補正移動した状態を示して
いる。
Thereafter, Y is moved toward the downstream processing device 6 side.
The shaft moves, and temporarily stops at a position immediately before the downstream processing device 6. Then, the hand 56 holding the substrate W by suction is corrected X
In order to move in the axial direction and detect the amount of displacement between the center of the substrate W and the center of the hand 56, the edge of the substrate W is moved below the detection sensor 8 installed near the processing device 6. FIG. 19 shows that the position of the edge of the substrate W is detected by the detection sensor 8 and then the amount of deviation from the center with respect to the hand 56 is corrected so that the substrate W is arranged at a regular position.
This shows a state in which the hand 56 has been corrected and moved in the correction X-axis direction.

【0039】そして、図20に示すように、ハンド56
をX軸移動して伸張させ、下流側処理装置6内に基板W
を正規の位置に合わせた状態で収納し、ハンド56だけ
が元の位置に復帰する。
Then, as shown in FIG.
Is moved in the X-axis direction to extend it, and the substrate W
Is stored in a state where it is adjusted to the proper position, and only the hand 56 returns to the original position.

【0040】上述のように搬送装置は(1)、(2)の
形態に限らず、例えば、(1)の形態における図9の状
態で上流側処理装置5から基板Wを取り出したハンド5
6が、180°回転して下流側処理装置6の正面に対向
する位置に移動した後、(2)の形態における図19の
状態に移動して、検出装置8で基板Wの拡張X軸方向の
位置ずれを検出・補正して下流側処理装置6に収納する
ような形態の作用を行なってもよい。
As described above, the transfer device is not limited to the embodiments (1) and (2). For example, the hand 5 that takes out the substrate W from the upstream processing unit 5 in the state of FIG.
After rotating by 180 ° to a position facing the front of the downstream processing device 6, the device 6 moves to the state of FIG. 19 in the form of (2), and the detecting device 8 extends the substrate W in the extended X-axis direction. The operation may be performed in such a manner that the positional deviation is detected and corrected and stored in the downstream processing device 6.

【0041】なお、本発明の基板搬送装置あるいはロボ
ットは発明の要旨を越えるものでなければ上記形態に限
るものではない。例えば、ロボット本体に配設されるロ
ボットハンド部は2組あるものでもよく、またリンク式
でなく特開平4−171747号に示されるロボットで
もよい。
It should be noted that the substrate transfer apparatus or robot of the present invention is not limited to the above-described embodiment unless it goes beyond the gist of the present invention. For example, there may be two sets of robot hand units provided on the robot body, or a robot shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-171747 instead of a link type.

【0042】さらにベースは移動プレートを装着してロ
ボット本体をY軸移動及びX軸移動できるように構成さ
れていれば、上記形態に限るものではない。また、移動
プレートの位置はベース上面に限らず、移動プレート駆
動部も移動プレートが補正X軸移動できれば、他の一般
的に知られた駆動手段、例えば、シリンダ手段やラック
・ピニオン駆動手段であってもよい。
The base is not limited to the above-described embodiment as long as the base is configured so that the robot body can be moved in the Y-axis and the X-axis by mounting the moving plate. In addition, the position of the moving plate is not limited to the upper surface of the base, and the moving plate driving unit may be another generally known driving means, for example, a cylinder means or a rack and pinion driving means, as long as the moving plate can move the corrected X axis. You may.

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明によれば、基板搬送装置は、基板
を収納するカセットと、基板を保持して搬送するハンド
を備えるロボットと、前記ロボットにより搬送される基
板を加工処理する処理装置と、を有するものであり、前
記ロボットのハンドが、前記カセット及び前記処理装置
に対して進退する方向に移動するX軸移動を行なうとと
もに、前記ロボット自体が基板を搬送する方向に移動す
るY軸移動を行ない、さらに、前記ハンドが、前記ロボ
ットのY軸移動方向に対して直交する方向に補正移動可
能に構成されている。従って前記ハンドがY軸方向に伸
張する際に、Y軸方向に対して直交する方向にハンドの
補正が可能となる。例えば、前記ロボットのY軸方向の
先端に処理装置が配置されていれば、ロボットのハンド
に保持された基板の中心位置と前記処理装置の設定され
た中心位置がずれていたとしてもその補正が可能とな
り、アライメントのフレキシブル化を図ることができ
る。
According to the present invention, a substrate transfer apparatus includes a cassette for storing a substrate, a robot having a hand for holding and transferring the substrate, and a processing apparatus for processing the substrate transferred by the robot. A hand of the robot performs an X-axis movement that moves in a direction of moving forward and backward with respect to the cassette and the processing apparatus, and a Y-axis movement that moves in a direction in which the robot itself transfers a substrate. And the hand can be corrected and moved in a direction perpendicular to the Y-axis movement direction of the robot. Therefore, when the hand extends in the Y-axis direction, the hand can be corrected in a direction orthogonal to the Y-axis direction. For example, if a processing device is arranged at the tip of the robot in the Y-axis direction, even if the center position of the substrate held by the robot hand and the set center position of the processing device are shifted, the correction is performed. The alignment can be made flexible.

【0044】また、前記ハンドに、前記基板の傾きを検
出するための2個の第1検出センサが配設されるととも
に、前記ロボットのY軸移動に対して直交する方向に前
記基板の位置補正するための少なくとも1個の第2検出
センサが、前記処理装置の付近近傍で床面上に固着支持
されているため、設定された基板の位置補正を行なって
処理装置あるいはカセットに収納することができる。
The hand is provided with two first detection sensors for detecting the inclination of the substrate, and the position of the substrate is corrected in a direction orthogonal to the Y-axis movement of the robot. At least one second detection sensor is fixedly supported on the floor in the vicinity of the processing device, so that the set substrate can be corrected in position and stored in the processing device or cassette. it can.

【0045】また、前記ハンドに、前記基板の傾きを検
出するための2個の第1検出センサが配設されるととも
に、前記ロボットのY軸移動に対して直交する方向に前
記基板の位置補正するための少なくとも1個の第2検出
センサが、前記処理装置の近傍付近で床面上に固着支持
されているので、複雑な構成のアライナーを新たに設置
する必要がなくコストを低減することができる。
The hand is provided with two first detection sensors for detecting the inclination of the substrate, and the position of the substrate is corrected in a direction orthogonal to the Y-axis movement of the robot. At least one second detection sensor is fixedly supported on the floor in the vicinity of the processing apparatus, so that it is not necessary to newly install an aligner having a complicated configuration, thereby reducing costs. it can.

【0046】また、前記ロボットが、ハンドとハンド駆
動部とを有する本体部を有し、前記本体部が、Y軸方向
に移動可能なベースに移動可能に配設される移動プレー
トに支持され、前記移動プレートが前記ベースに配設さ
れる駆動手段により前記ロボットのY軸方向に対して直
交する方向に移動可能に構成されている。そのため、前
記ハンドがY軸方向に伸張する際に、Y軸方向に対して
直交する方向にハンドの補正が可能となる。
Further, the robot has a main body having a hand and a hand drive, and the main body is supported by a movable plate movably disposed on a base movable in the Y-axis direction, The moving plate is configured to be movable in a direction orthogonal to the Y-axis direction of the robot by a driving unit disposed on the base. Therefore, when the hand extends in the Y-axis direction, the hand can be corrected in a direction orthogonal to the Y-axis direction.

【0047】また、本発明の基板搬送ロボットは、基板
を保持し機台に対して旋回可能に構成されるとともに前
記基板を取り出すために伸縮可能に構成されたハンド手
段を有するロボット本体と、前記ハンド手段に保持され
た基板を搬送するために前記ロボット本体と共に移動す
るベースと、前記ベースに移動可能に配設される移動プ
レートと、前記ベースに配設され前記移動プレートを駆
動する移動プレート駆動手段と、を有して構成され、前
記ロボット本体が前記移動プレートに支持されて前記移
動プレートと共に前記ベースの移動方向に対して直交す
る方向に移動可能に構成されている。そのため、前記ロ
ボットのハンド手段が前記ベースの移動方向に伸張する
際、前記ハンド手段に保持された基板の中心位置を補正
することができ、アライメントのフレキシブル化を図る
ことが可能となる。
Also, the substrate transfer robot of the present invention is configured to hold a substrate and be rotatable with respect to a machine base, and to have a robot body having a hand means configured to be extendable and contractable for taking out the substrate. A base that moves together with the robot main body to transfer the substrate held by the hand means, a moving plate movably disposed on the base, and a moving plate drive disposed on the base and driving the moving plate Means, and the robot main body is supported by the moving plate, and is configured to be movable together with the moving plate in a direction orthogonal to a moving direction of the base. Therefore, when the hand means of the robot extends in the moving direction of the base, the center position of the substrate held by the hand means can be corrected, and the alignment can be made flexible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一形態を示す基板搬送装置の平面図FIG. 1 is a plan view of a substrate transfer device according to one embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一形態を示す搬送ロボットの全体斜視
FIG. 2 is an overall perspective view of a transfer robot showing one embodiment of the present invention.

【図3】図2の搬送ロボットの一部正面断面図FIG. 3 is a partial front sectional view of the transfer robot of FIG. 2;

【図4】図3におけるIV−IV断面図4 is a sectional view taken along line IV-IV in FIG.

【図5】図1の基板搬送装置の第1の形態の作用を示す
FIG. 5 is a diagram showing an operation of the first embodiment of the substrate transfer apparatus of FIG. 1;

【図6】図1の基板搬送装置の第1の形態の作用を示す
FIG. 6 is a view showing the operation of the first embodiment of the substrate transfer apparatus of FIG. 1;

【図7】図1の基板搬送装置の第1の形態の作用を示す
FIG. 7 is a view showing the operation of the first embodiment of the substrate transfer apparatus of FIG. 1;

【図8】図1の基板搬送装置の第1の形態の作用を示す
FIG. 8 is a view showing the operation of the first embodiment of the substrate transfer apparatus of FIG. 1;

【図9】図1の基板搬送装置の第1の形態の作用を示す
FIG. 9 is a diagram showing an operation of the first embodiment of the substrate transfer apparatus of FIG. 1;

【図10】図1の基板搬送装置の第1の形態の作用を示
す図
FIG. 10 is a diagram showing the operation of the first embodiment of the substrate transfer apparatus of FIG. 1;

【図11】図1の基板搬送装置の第1の形態の作用を示
す図
11 is a view showing the operation of the first embodiment of the substrate transfer apparatus of FIG. 1;

【図12】図1の基板搬送装置の第1の形態の作用を示
す図
FIG. 12 is a view showing the operation of the first embodiment of the substrate transfer apparatus of FIG. 1;

【図13】図1の基板搬送装置の第2の形態の作用を示
す図
FIG. 13 is a view showing the operation of the second embodiment of the substrate transfer apparatus of FIG. 1;

【図14】図1の基板搬送装置の第2の形態の作用を示
す図
FIG. 14 is a view showing the operation of the second embodiment of the substrate transfer apparatus of FIG. 1;

【図15】図1の基板搬送装置の第2の形態の作用を示
す図
FIG. 15 is a diagram showing the operation of the second embodiment of the substrate transfer apparatus of FIG. 1;

【図16】図1の基板搬送装置の第2の形態の作用を示
す図
FIG. 16 is a diagram showing the operation of the second embodiment of the substrate transfer apparatus of FIG. 1;

【図17】図1の基板搬送装置の第2の形態の作用を示
す図
FIG. 17 is a view showing the operation of the second embodiment of the substrate transfer apparatus of FIG. 1;

【図18】図1の基板搬送装置の第2の形態の作用を示
す図
FIG. 18 is a view showing the operation of the second embodiment of the substrate transfer apparatus of FIG. 1;

【図19】図1の基板搬送装置の第2の形態の作用を示
す図
FIG. 19 is a view showing the operation of the second embodiment of the substrate transfer apparatus of FIG. 1;

【図20】図1の基板搬送装置の第2の形態の作用を示
す図
FIG. 20 is a view showing the operation of the second embodiment of the substrate transfer apparatus of FIG. 1;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

M…基板搬送装置 1…架台 2…カセット 4…ロボット 5…上流側処理装置 6…下流側処理装置 7…検出装置 8…検出装置 41…ベース 43…移動プレート 45…レール体 50…ロボット本体 51…機台 52…ロボットハンド部(ハンド手段) 54…第1アーム 55…第2アーム 56…ハンド 57…前端位置センサ 60…移動プレート駆動部 M ... Substrate transfer device 1 ... Base 2 ... Cassette 4 ... Robot 5 ... Upstream processing device 6 ... Downstream processing device 7 ... Detection device 8 ... Detection device 41 ... Base 43 ... Movement plate 45 ... Rail body 50 ... Robot body 51 ... machine stand 52 ... robot hand unit (hand means) 54 ... first arm 55 ... second arm 56 ... hand 57 ... front end position sensor 60 ... moving plate drive unit

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板を収納するカセットと、基板を保持
して搬送するハンドを備えるロボットと、前記ロボット
により搬送される基板を処理する処理装置と、を有する
基板搬送装置であって、 前記ロボットのハンドが、前記カセット及び前記処理装
置に対して進退する方向に移動するX軸移動を行なうと
ともに、前記ロボット自体が基板を搬送する方向に移動
するY軸移動を行ない、さらに、前記ハンドが、前記ロ
ボットのY軸移動方向に対して直交する方向に補正移動
可能に構成されることを特徴とする基板搬送装置。
1. A substrate transport apparatus comprising: a cassette for storing substrates; a robot having a hand for holding and transporting the substrates; and a processing device for processing the substrates transported by the robots, wherein the robot Performs an X-axis movement that moves in a direction to move forward and backward with respect to the cassette and the processing apparatus, and performs a Y-axis movement that moves in a direction in which the robot itself conveys the substrate. A substrate transfer apparatus characterized in that it can be corrected and moved in a direction orthogonal to the Y-axis movement direction of the robot.
【請求項2】 前記ハンドに、前記基板の傾きを検出す
るための2個の第1検出センサが配設されるとともに、
前記ロボットのY軸移動に対して直交する方向に前記基
板の位置補正するための少なくとも1個の第2検出セン
サが、前記処理装置の付近近傍で床面上に固着支持され
ていることを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。
2. The hand is provided with two first detection sensors for detecting an inclination of the substrate,
At least one second detection sensor for correcting the position of the substrate in a direction orthogonal to the Y-axis movement of the robot is fixedly supported on a floor near the processing device. 2. The substrate transfer device according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記ロボットが、ハンドとハンド駆動部
とを有する本体部を備え、前記本体部が、Y軸方向に移
動可能なベースに移動可能に配設される移動プレートに
支持され、前記移動プレートが前記ベースに配設される
駆動手段により前記ロボットのY軸方向に対して直交す
る方向に移動可能に構成されることを特徴とする請求項
1記載の基板搬送装置。
3. The robot has a main body having a hand and a hand drive, the main body being supported by a moving plate movably disposed on a base movable in the Y-axis direction, 2. The substrate transport apparatus according to claim 1, wherein the movable plate is configured to be movable in a direction orthogonal to a Y-axis direction of the robot by a driving unit disposed on the base.
【請求項4】 基板を保持し機台に対して旋回可能に構
成されるとともに前記基板を出入するために伸縮可能に
構成されたハンド手段を有するロボット本体と、 前記ハンド手段に保持された基板を搬送するために前記
ロボット本体と共に移動するベースと、 前記ベースに移動可能に配設される移動プレートと、 前記ベースに配設され前記移動プレートを駆動する移動
プレート駆動手段と、を有して構成され、 前記ロボット本体が前記移動プレートに支持されて前記
移動プレートと共に前記ベースの移動方向に対して直交
する方向に移動可能に構成されることを特徴とする基板
搬送ロボット。
4. A robot body having a hand means configured to hold a substrate and to be pivotable with respect to a machine base and extendable to move the substrate in and out; and a substrate held by the hand means. A base that moves together with the robot body to convey the moving object, a moving plate that is movably disposed on the base, and moving plate driving means that is disposed on the base and drives the moving plate. The substrate transport robot, wherein the robot main body is supported by the moving plate and is configured to be movable together with the moving plate in a direction orthogonal to a moving direction of the base.
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