JP2000095907A - Holding plate for use in machining printed base board - Google Patents

Holding plate for use in machining printed base board

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JP2000095907A
JP2000095907A JP10268150A JP26815098A JP2000095907A JP 2000095907 A JP2000095907 A JP 2000095907A JP 10268150 A JP10268150 A JP 10268150A JP 26815098 A JP26815098 A JP 26815098A JP 2000095907 A JP2000095907 A JP 2000095907A
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JP
Japan
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weight
styrene
thermoplastic resin
polymer
parts
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Application number
JP10268150A
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Japanese (ja)
Inventor
Chikafumi Kayano
慎史 茅野
Michiaki Yamazaki
亨明 山崎
Keisuke Funaki
圭介 舟木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Petrochemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To inexpensively provide a good printed base board which is free from the occurrence of defects and resin smears in its hole protions. SOLUTION: A holding plate for use in machining a printed base board comprises a thermoplastic resin material having a tensile modulus of elasticity of more than 2 GPa and less than 15 GPa, a breaking extension of 0.5-3%, and a melting point(Tm) of 225 deg.C or above. The thermoplastic resin material pref. comprises (a) a syndiotactic polystyrene, (b) an elastomer and/or a thermoplastic resin other than the syndiotactic polystyrene, (c) a polymer having a compatibility or affinity to component (a) as well as a polar group, and (d) an inorganic filler.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はプリント基板加工用
押え板に関し、詳しくは、熱可塑性樹脂、特に主として
シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体(以
下、「シンジオタクチックポリスチレン」又は「SP
S」と略することもある。)をその材料として用いたプ
リント基板加工用押え板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a holding plate for processing a printed circuit board, and more particularly, to a thermoplastic resin, in particular, a styrenic polymer mainly having a syndiotactic structure (hereinafter referred to as "syndiotactic polystyrene" or "SP").
S ". ) As a material for the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、多くの電子機器において、電子部
品を搭載し、またそれらの間を電気的に接続するためプ
リント配線板が多用されている。かかるプリント配線板
は、大きく分けて片面プリント配線板と両面プリント配
線板が存在するが、片面プリント配線板においては電子
部品を装着させるための穴が必要であり、両面プリント
配線板においてはプリント基板の表裏両面の電気的導通
を得るための穴が必要である。このようにプリント配線
板の製造においてはプリント基板に穴をあけるという工
程が必須かつ、極めて重要なものであり、近年のプリン
ト配線板の多機能化及び高性能化に伴い、穴あけの精密
化への要求が非常に大きくなってきている。
2. Description of the Related Art At present, in many electronic devices, printed wiring boards are frequently used for mounting electronic components and electrically connecting them. Such a printed wiring board is roughly classified into a single-sided printed wiring board and a double-sided printed wiring board. However, a single-sided printed wiring board requires holes for mounting electronic components, and a double-sided printed wiring board requires a printed board. Holes are required to obtain electrical continuity on both sides. As described above, in the manufacture of printed wiring boards, the step of drilling holes in a printed circuit board is essential and extremely important. The demands are becoming very large.

【0003】ところで、プリント基板に開けられる穴
は、通常、その径が0.1mm〜0.4mmと非常に微細な
ものである。そのため、プリント基板に直接ドリルを当
てて穴をあけるという方法を採った場合、あけられた穴
の角部に崩れや割れが生じたり、切り屑が付着して残っ
ている、いわゆるスミアと呼ばれる現象が生じたりし
て、その結果、プリント配線板の接点不良を引き起こし
たりするおそれがあった。
[0003] By the way, the diameter of a hole formed in a printed circuit board is usually very small, ranging from 0.1 mm to 0.4 mm. Therefore, when using the method of drilling holes by directly drilling on the printed circuit board, a phenomenon called so-called smear, in which the corners of the drilled holes collapse or crack, or chips are left attached And as a result, there is a possibility that a contact failure of the printed wiring board may be caused.

【0004】このような角部の欠損やスミア発生を防ぐ
ため、穴あけ工程においては、該プリント基板を上下か
ら2枚の押え板でサンドイッチ状に挟み込み、しかる後
に上部押え板にドリルを当て、この重ね合わせられた上
部押え板−プリント基板−下部押え板の3枚を一体にし
て、穴をあけるという手法が採られてきた。このように
すると、角部の欠損は発生せず、また切り屑は押え板の
切り屑と一緒になって排出され、プリント基板に付着し
て残ってしまうということが避けられるのである。
In order to prevent such corner loss and smearing, in the drilling step, the printed circuit board is sandwiched between two pressing plates from above and below, and then a drill is applied to the upper pressing plate. A method has been adopted in which three superposed upper holding plates, printed circuit boards, and lower holding plates are integrated to form a hole. In this way, the corners are not chipped, and the chips are discharged together with the chips of the holding plate and can be prevented from adhering and remaining on the printed circuit board.

【0005】従来、上記の押え板としては、耐熱性があ
り、かつ固くて脆いという性能を有することから、ベー
クライト等のフェノール系樹脂が用いられてきた。しか
し、フェノール系樹脂は熱硬化性樹脂であるため、一度
使用したものは、溶融して再利用するということができ
ないため、産業廃棄物として使い捨てということになら
ざるを得ず、資源の有効利用、環境保全の面からも、大
きな問題となっていた。
Hitherto, a phenolic resin such as bakelite has been used as the above-mentioned holding plate because it has heat resistance and is hard and brittle. However, since phenolic resin is a thermosetting resin, once used, it cannot be melted and reused, so it must be disposable as industrial waste and effective use of resources However, it has become a major problem from the viewpoint of environmental protection.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような観
点からなされたものであって、熱可塑性樹脂、特に特定
のスチレン系樹脂等をその材料として用いることによ
り、穴部に欠損やスミアの発生がない良好なプリント基
板を低コストで提供することを目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made from this point of view. By using a thermoplastic resin, in particular, a specific styrene resin as its material, defects or smears are formed in the holes. It is an object of the present invention to provide a good printed board free of occurrence at low cost.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる見
地から鋭意研究を重ねた結果、耐熱性、固さ及び脆さに
優れ、かつリサイクル性を有する特定のシンジオタクチ
ックポリスチレン系樹脂を用いることにより、上記課題
を解決することが可能という知見を得た。本発明は、か
かる知見に基づいてなされたものである。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies from such a viewpoint, and as a result, have obtained a specific syndiotactic polystyrene-based resin having excellent heat resistance, hardness and brittleness and recyclability. It has been found that the use can solve the above problem. The present invention has been made based on such findings.

【0008】即ち、本発明は、以下の樹脂材料からなる
プリント基板加工用押え板を提供するものである。 (1)熱可塑性樹脂材料からなり、以下の〜を満た
すプリント基板加工用押え板。 引張弾性率が、2GPa以上、15GPa未満である
こと。 破断伸びが、0.5〜3%であること。 融点(Tm)が、225℃以上であること。 (2)前記熱可塑性樹脂材料が、主としてシンジオタク
チック構造を有するスチレン系重合体又は主としてシン
ジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を含む樹
脂組成物である上記(1)に記載のプリント基板加工用
押え板。 (3)前記熱可塑性樹脂材料が、(a)主としてシンジ
オタクチック構造を有するスチレン系重合体60〜10
0重量%と(b)ゴム状弾性体及び/又は主としてシン
ジオタクチック構造を有するスチレン系重合体以外の熱
可塑性樹脂40〜0重量%、及び上記(a)成分と
(b)成分の合計量100重量部に対し、0〜40重量
部の無機充填材(d)からなるものである上記(1)又
は(2)に記載のプリント基板加工用押え板。 (4)前記熱可塑性樹脂材料が、(a)主としてシンジ
オタクチック構造を有するスチレン系重合体60〜10
0重量%と、(b)ゴム状弾性体及び/又は主としてシ
ンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体以外の
熱可塑性樹脂40〜0重量%、及び(a)成分と(b)
成分の合計100重量部に対して、(c)(a)成分と
の相溶性又は親和性を有し、かつ極性基を有する重合体
0.1〜10重量部、さらに上記(a)成分〜(c)成分
の合計量100重量部に対し、0〜40重量部の無機充
填材(d)からなるものである上記(1)又は(2)に
記載のプリント基板加工用押え板。
That is, the present invention provides a press board for processing a printed circuit board made of the following resin material. (1) A holding plate for processing a printed circuit board, which is made of a thermoplastic resin material and satisfies the following conditions: The tensile modulus is 2 GPa or more and less than 15 GPa. Elongation at break is 0.5-3%. The melting point (Tm) is 225 ° C or higher. (2) The processing of the printed circuit board according to the above (1), wherein the thermoplastic resin material is a resin composition containing a styrene-based polymer mainly having a syndiotactic structure or a styrene-based polymer mainly having a syndiotactic structure. Holding plate. (3) The thermoplastic resin material comprises (a) a styrenic polymer 60 to 10 having mainly a syndiotactic structure.
0% by weight, (b) 40 to 0% by weight of a thermoplastic resin other than a rubbery elastic body and / or a styrene-based polymer mainly having a syndiotactic structure, and the total amount of the above components (a) and (b) The holding plate for processing a printed circuit board according to the above (1) or (2), comprising the inorganic filler (d) in an amount of 0 to 40 parts by weight based on 100 parts by weight. (4) The thermoplastic resin material is (a) a styrenic polymer 60 to 10 having mainly a syndiotactic structure.
0% by weight, (b) 40 to 0% by weight of a thermoplastic resin other than a rubbery elastic body and / or a styrene-based polymer mainly having a syndiotactic structure, and component (a) and (b)
(C) 0.1 to 10 parts by weight of a polymer having compatibility or affinity with component (a) and having a polar group, based on 100 parts by weight of the total of components, The printed board processing press plate according to the above (1) or (2), comprising the inorganic filler (d) in an amount of 0 to 40 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the component (c).

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて説明する。 I.本発明にかかるプリント基板加工用押え板の性状 本発明にかかるプリント基板加工用押え板においては、
次の性状を満たしていることが必要である。 (1)引張弾性率が、2GPa以上、好ましくは2.5G
Pa以上、15GPa未満、好ましくは13GPa未満
であること。
Embodiments of the present invention will be described below. I. Properties of the printed board processing press plate according to the present invention In the printed board processing press plate according to the present invention,
The following properties must be satisfied. (1) The tensile modulus is 2 GPa or more, preferably 2.5 G
Pa or more and less than 15 GPa, preferably less than 13 GPa.

【0010】ここで、引張弾性率は、ASTM D88
2に準拠して測定した値であり、2GPa未満である
と、軟らかいためにスミアが発生しやすくなり、15G
Paを超えると、硬すぎるため、ドリルの磨耗や変形が
生じやすくなり好ましくない。 (2)破断伸びが、0.5〜3%、好ましくは0.7〜2.8
%であること。ここで、破断伸びは、ASTM D88
に準拠して測定した値であり、0.5%未満であると、
ドリル切削時に割れが発生しやすく、3%を超えると切
削時の切り屑が残りやすく、スミアが発生しやすくなる
おそれがある。 (3)融点(Tm)が、225℃以上であること。
[0010] Here, the tensile modulus of elasticity is ASTM D88.
If the value is less than 2 GPa, smear is likely to occur due to softness, and 15 G
If it exceeds Pa, the drill is too hard, and wear and deformation of the drill are likely to occur, which is not preferable. (2) Elongation at break is 0.5-3%, preferably 0.7-2.8.
%. Here, the elongation at break was measured according to ASTM D88.
It is a value measured according to 2 , and if it is less than 0.5%,
Cracks are likely to occur during drill cutting, and if it exceeds 3%, chips during cutting tend to remain, and smear may easily occur. (3) The melting point (Tm) is 225 ° C. or higher.

【0011】ここで融点(Tm)は、示差熱分析(DS
C)により、昇温速度20℃/分でのピーク位置より決
定される値である。225℃未満だと、切削時の発熱に
より融解が起こり削り屑が残りやすくなるおそれがあ
る。 II.本発明にかかる電子部品に用いられる好適な材料 本発明にかかる電子部品は、熱可塑性樹脂であれば特に
制限はないが、その好適な材料として、以下に記す主と
してシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体
又は該スチレン系重合体を含む樹脂組成物が用いられ
る。 1.主としてシンジオタクチック構造を有するスチレン
系重合体 主としてシンジオタクチック構造を有するスチレン系重
合体におけるシンジオタクチック構造とは、立体化学構
造がシンジオタクチック構造、即ち炭素−炭素結合から
形成される主鎖に対して側鎖であるフェニル基が交互に
反対方向に位置する立体構造を有するものであり、その
タクティシティーは同位体炭素による核磁気共鳴法(13C
-NMR) により定量される。13C−NMR法により測定
されるタクティシティーは、連続する複数個の構成単位
の存在割合、例えば2個の場合はダイアッド、3個の場
合はトリアッド、5個の場合はペンタッドによって示す
ことができるが、本発明にいう主としてシンジオタクチ
ック構造を有するスチレン系重合体とは、通常はラセミ
ダイアッドで75%以上、好ましくは85%以上、若し
くはラセミペンタッドで30%以上、好ましくは50%
以上のシンジオタクティシティーを有するポリスチレ
ン、ポリ(アルキルスチレン)、ポリ(アリールスチレ
ン)、ポリ( ハロゲン化スチレン) 、ポリ( ハロゲン化
アルキルスチレン) 、ポリ(アルコキシスチレン)、ポ
リ(ビニル安息香酸エステル)、これらの水素化重合体
およびこれらの混合物、あるいはこれらを主成分とする
共重合体を指称する。なお、ここでポリ(アルキルスチ
レン)としては、ポリ(メチルスチレン)、ポリ(エチ
ルスチレン)、ポリ(イソピルスチレン)、ポリ(ター
シャリーブチルスチレン)等であり、ポリ(アリールス
チレン)としては、ポリ(フェニルスチレン)、ポリ
(ビニルナフタレン)、ポリ(ビニルスチレン)などが
あり、ポリ(ハロゲン化スチレン)としては、ポリ(ク
ロロスチレン)、ポリ(ブロモスチレン)、ポリ(フル
オロスチレン)などがある。また、ポリ(ハロゲン化ア
ルキルスチレン)としては、ポリ(クロロメチルスチレ
ン)など、またポリ(アルコキシスチレン)としては、
ポリ(メトキシスチレン)、ポリ(エトキシスチレン)
などがある。
The melting point (Tm) is determined by differential thermal analysis (DS)
This is a value determined from the peak position at a heating rate of 20 ° C./min. If the temperature is lower than 225 ° C., melting may occur due to heat generated during cutting, and shavings may easily remain. II. Suitable Material Used for Electronic Component According to the Present Invention The electronic component according to the present invention is not particularly limited as long as it is a thermoplastic resin, and as the preferable material, a styrene-based material mainly having a syndiotactic structure described below is used. A polymer or a resin composition containing the styrene-based polymer is used. 1. Styrene polymer mainly having a syndiotactic structure Syndiotactic structure in a styrene polymer mainly having a syndiotactic structure means that the stereochemical structure is a syndiotactic structure, that is, a main chain formed from carbon-carbon bonds. Has a steric structure in which phenyl groups, which are side chains, are alternately located in opposite directions, and its tacticity is determined by nuclear magnetic resonance (13C)
-NMR). Tacticity measured by the 13C-NMR method can be represented by the existence ratio of a plurality of continuous structural units, for example, a dyad for two, a triad for three, and a pentad for five. The styrenic polymer having a predominantly syndiotactic structure as referred to in the present invention generally means at least 75%, preferably at least 85%, in racemic diad, or at least 30%, preferably 50%, in racemic pentad.
Polystyrene, poly (alkyl styrene), poly (aryl styrene), poly (halogenated styrene), poly (halogenated alkyl styrene), poly (alkoxy styrene), poly (vinyl benzoate) having the above syndiotacticity , These hydrogenated polymers and mixtures thereof, or copolymers containing these as main components. Here, the poly (alkyl styrene) includes poly (methyl styrene), poly (ethyl styrene), poly (isopropyl styrene), poly (tertiary butyl styrene), and the like. There are poly (phenylstyrene), poly (vinylnaphthalene), poly (vinylstyrene), etc., and as poly (halogenated styrene), there are poly (chlorostyrene), poly (bromostyrene), poly (fluorostyrene), etc. . Further, as poly (halogenated alkylstyrene), poly (chloromethylstyrene) and the like, and as poly (alkoxystyrene),
Poly (methoxystyrene), poly (ethoxystyrene)
and so on.

【0012】なお、これらのうち好ましいスチレン系重
合体としては、ポリスチレン、ポリ(p−メチルスチレ
ン)、ポリ(m−メチルスチレン)、ポリ(p−ターシ
ャリープチルスチレン)、ポリ(p−クロロスチレ
ン)、ポリ(m−クロロスチレン)、ポリ(p−フルオ
ロスチレン)、水素化ポリスチレン及びこれらの構造単
位を含む共重合体が挙げられる。
Among these, preferred styrene polymers include polystyrene, poly (p-methylstyrene), poly (m-methylstyrene), poly (p-tert-butylstyrene), and poly (p-chlorostyrene). ), Poly (m-chlorostyrene), poly (p-fluorostyrene), hydrogenated polystyrene and copolymers containing these structural units.

【0013】このような主としてシンジオタクチック構
造を有するスチレン系重合体は、例えば不活性炭化水素
溶媒中または溶媒の不存在下に、チタン化合物及び水と
トリアルキルアルミニウムの縮合生成物を触媒として、
スチレン系単量体( 上記スチレン系重合体に対応する単
量体) を重合することにより製造することができる(特
開昭62―187708号公報) 。また、ポリ(ハロゲ
ン化アルキルスチレン)については特開平1−4691
2号公報、これらの水素化重合体は特開平1−1785
05号公報記載の方法などにより得ることができる。
Such a styrenic polymer having a predominantly syndiotactic structure can be prepared, for example, by using a titanium compound and a condensation product of water and a trialkylaluminum as a catalyst in an inert hydrocarbon solvent or in the absence of a solvent.
It can be produced by polymerizing a styrene-based monomer (a monomer corresponding to the above-mentioned styrene-based polymer) (JP-A-62-187708). For poly (halogenated alkylstyrene), see JP-A-1-4691.
No. 2, these hydrogenated polymers are disclosed in JP-A-1-1785.
It can be obtained by the method described in JP-A-05-2005.

【0014】尚、これらのシンジオタクチック構造を有
するスチレン系重合体の中でも、本発明においては、耐
熱性及び機械的強度の点から、特にタクティシティがラ
セミペンタッドで70%以上、重量平均分子量が5〜8
0万のものが好ましい。 2.シンジオタクチックポリスチレンを含む樹脂組成物 本発明にかかるプリント基板加工用押え板用材料として
は、上記シンジオタクチックポリスチレンだけではな
く、シンジオタクチックポリスチレンを含む樹脂組成物
も好適に用いることができる。この樹脂組成物において
は、樹脂成分として(a)シンジオタクチックポリスチ
レンが含まれていることが必要であるが、割れにくくす
るため、或いは平滑性を得る意味から、さらに(b)ゴ
ム状弾性体及び/又は主としてシンジオタクチック構造
を有するスチレン系重合体以外の熱可塑性樹脂と、
(c)無機充填材を含んでいてもよい。さらには、本発
明の目的を阻害しない範囲で各種の添加剤、例えば、ア
ンチブロッキング剤、酸化防止剤、核剤、帯電防止剤、
プロセスオイル、可塑剤、離型剤、相溶化剤,難燃剤、
難燃助剤、顔料等を配合することができる。
Among these styrenic polymers having a syndiotactic structure, in the present invention, in terms of heat resistance and mechanical strength, tacticity is particularly 70% or more in racemic pentad, and weight average molecular weight. Is 5-8
A thing of 100,000 is preferable. 2. Resin Composition Containing Syndiotactic Polystyrene As the material for a press plate for processing a printed board according to the present invention, not only the above-mentioned syndiotactic polystyrene but also a resin composition containing syndiotactic polystyrene can be suitably used. In this resin composition, it is necessary that (a) syndiotactic polystyrene is contained as a resin component. However, in order to prevent cracking or to obtain smoothness, (b) a rubber-like elastic material is further required. And / or a thermoplastic resin other than a styrene-based polymer having a mainly syndiotactic structure,
(C) An inorganic filler may be included. Furthermore, various additives within a range that does not inhibit the object of the present invention, for example, an antiblocking agent, an antioxidant, a nucleating agent, an antistatic agent,
Process oil, plasticizer, release agent, compatibilizer, flame retardant,
Flame retardant aids, pigments and the like can be blended.

【0015】また、上記各成分の混練については、シ
ンジオタクチックポリスチレン製造工程のいずれかの段
階においてブレンドし溶融混練する方法や、組成物を
構成する各成分をブレンドし溶融混練する方法など様々
な方法で行なえばよい。 (1)ゴム状弾性体 ゴム状弾性体の具体例としては、例えば、天然ゴム、ポ
リブタジエン、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ネ
オプレン、ポリスルフィドゴム、チオコールゴム、アク
リルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、エピクロロ
ヒドリンゴム、スチレン−ブタジエンブロック共重合体
(SBR)、水素添加スチレン−ブタジエンブロック共
重合体(SEB)、スチレン−ブタジエン−スチレンブ
ロック共重合体(SBS)、水素添加スチレン−ブタジ
エン−スチレンブロック共重合体(SEBS)、スチレ
ン−イソプレンブロック共重合体(SIR)、水素添加
スチレン−イソプレンブロック共重合体(SEP)、ス
チレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体(SI
S)、水素添加スチレン−イソプレン−スチレンブロッ
ク共重合体(SEPS)、またはエチレンプロピレンゴ
ム(EPM)、エチレンプロピレンジエンゴム(EPD
M)、直鎖状低密度ポリエチレン系エラストマー等のオ
レフィン系ゴム、あるいはブタジエン−アクリロニトリ
ル−スチレン−コアシェルゴム(ABS)、メチルメタ
クリレート−ブタジエン−スチレン−コアシェルゴム
(MBS)、メチルメタクリレート−ブチルアクリレー
ト−スチレン−コアシェルゴム(MAS)、オクチルア
クリレート−ブタジエン−スチレン−コアシェルゴム
(MABS)、アルキルアクリレート−ブタジエン−ア
クリロニトリル−スチレン−コアシェルゴム(AAB
S)、ブタジエン−スチレン−コアシェルゴム(SB
R)、メチルメタクリレート−ブチルアクリレート−シ
ロキサンをはじめとするシロキサン含有コアシェルゴム
等のコアシェルタイプの粒子状弾性体、またはこれらを
変性したゴム、例えば、無水マレイン酸変性水素添加ス
チレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(MA
−SEBS)等が挙げられる。
As for the kneading of each component, there are various methods such as a method of blending and melt-kneading at any stage of the syndiotactic polystyrene production process, and a method of blending and melt-kneading each component constituting the composition. It can be done by the method. (1) Rubber-like elastic body Specific examples of the rubber-like elastic body include, for example, natural rubber, polybutadiene, polyisoprene, polyisobutylene, neoprene, polysulfide rubber, thiochol rubber, acrylic rubber, urethane rubber, silicone rubber, epichlorohydrin rubber Styrene-butadiene block copolymer (SBR), hydrogenated styrene-butadiene block copolymer (SEB), styrene-butadiene-styrene block copolymer (SBS), hydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymer ( SEBS), styrene-isoprene block copolymer (SIR), hydrogenated styrene-isoprene block copolymer (SEP), styrene-isoprene-styrene block copolymer (SI
S), hydrogenated styrene-isoprene-styrene block copolymer (SEPS), or ethylene propylene rubber (EPM), ethylene propylene diene rubber (EPD)
M), an olefin rubber such as a linear low-density polyethylene elastomer, or butadiene-acrylonitrile-styrene-core-shell rubber (ABS), methyl methacrylate-butadiene-styrene-core-shell rubber (MBS), methyl methacrylate-butyl acrylate-styrene Core-shell rubber (MAS), octyl acrylate-butadiene-styrene-core-shell rubber (MABS), alkyl acrylate-butadiene-acrylonitrile-styrene-core-shell rubber (AAB)
S), butadiene-styrene-core-shell rubber (SB
R), a core-shell type particulate elastic material such as a siloxane-containing core-shell rubber such as methyl methacrylate-butyl acrylate-siloxane, or a rubber obtained by modifying the same, for example, maleic anhydride-modified hydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymer. Polymer (MA
-SEBS) and the like.

【0016】これらのゴム状弾性体の中でも、本発明に
おいては、耐熱性及び誘電特性の点から水素添加スチレ
ン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(SEB
S)が好ましい。 (2)シンジオタクチックポリスチレン以外の熱可塑性
樹脂 シンジオタクチックポリスチレン以外の熱可塑性樹脂と
しては、直鎖状高密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリ
エチレン、高圧法低密度ポリエチレン、アイソタクチッ
クポリプロピレン、シンジオタクチックポリプロピレ
ン、ブロックポリプロピレン、ランダムポリプロピレ
ン、ポリブテン、1,2−ポリブタジエン、4−メチル
ペンテン、環状ポリオレフィン及びこれらの共重合体に
代表されるポリオレフィン系樹脂、アタクチックポリス
チレン、アイソタクチックポリスチレン、HIPS、A
BS、AS、スチレンーメタクリル酸共重合体、スチレ
ンーメタクリル酸・アルキルエステル共重合体、スチレ
ンーメタクリル酸・グリシジルエステル共重合体、スチ
レンーアクリル酸共重合体、スチレンーアクリル酸・ア
ルキルエステル共重合体、スチレンーマレイン酸共重合
体、スチレンーフマル酸共重合体に代表されるはじめと
するポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートをは
じめとするポリエステル系樹脂、ポリアミド6、ポリア
ミド6,6をはじめとするポリアミド系樹脂、ポリフェ
ニレンエーテル、ポリアリーレンスルフィド,ポリ−4
−フッ化エチレン(PTFE)等のフッ素化ポリエチレ
ン系樹脂等公知のものから任意に選択して用いることが
できる。中でも、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポ
リオレフィン又はポリフェニレンエーテルが好ましい。
なお、これらの熱可塑性樹脂は一種のみを単独で、また
は、二種以上を組み合わせて用いることができる。 (3)シンジオタクチックポリスチレンとの相溶性又は
親和性を有し、かつ極性基を有する重合体 シンジオタクチックポリスチレンと熱可塑性樹脂及び/
又はゴム状弾性体との間の親和性を向上させ効果的に相
溶化し、また、シンジオタクチックポリスチレンと無機
充填材との親和性を向上させるために配合する。
Among these rubber-like elastic materials, in the present invention, hydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymer (SEB) is used in view of heat resistance and dielectric properties.
S) is preferred. (2) Thermoplastic resins other than syndiotactic polystyrene Examples of thermoplastic resins other than syndiotactic polystyrene include linear high-density polyethylene, linear low-density polyethylene, high-pressure low-density polyethylene, isotactic polypropylene, and syndoxy. Otactic polypropylene, block polypropylene, random polypropylene, polybutene, 1,2-polybutadiene, 4-methylpentene, cyclic polyolefins and polyolefin resins represented by these copolymers, atactic polystyrene, isotactic polystyrene, HIPS, A
BS, AS, styrene-methacrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid / alkyl ester copolymer, styrene-methacrylic acid / glycidyl ester copolymer, styrene-acrylic acid copolymer, styrene-acrylic acid / alkyl ester copolymer Polystyrene resins such as polymers, styrene-maleic acid copolymers and styrene-fumaric acid copolymers, polyester resins such as polycarbonate, polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyamide 6, polyamide 6,6 And other polyamide resins, polyphenylene ether, polyarylene sulfide, poly-4
-Any known materials such as fluorinated polyethylene resins such as fluorinated ethylene (PTFE) can be used. Among them, polyolefins such as polyethylene and polypropylene or polyphenylene ethers are preferred.
In addition, these thermoplastic resins can be used alone or in combination of two or more. (3) Polymer having compatibility or affinity with syndiotactic polystyrene and having a polar group Syndiotactic polystyrene and thermoplastic resin and / or
Alternatively, it is blended to improve the affinity between the rubber-like elastic body and effectively compatibilize it, and to improve the affinity between the syndiotactic polystyrene and the inorganic filler.

【0017】ここでシンジオタクチックポリスチレンと
の相溶性又は親和性を有する重合体とは、シンジオタク
チックポリスチレンとの相溶性又は親和性を示す連鎖を
ポリマ−鎖中に含有するものをいう。これらの相溶性又
は親和性を示す重合体としては、例えば、シンジオタク
チックポリスチレン、アタクチックポリスチレン、アイ
ソタクチックポリスチレン、スチレン系共重合体、ポリ
フェニレンエ−テル、ポリビニルメチルエ−テル等を主
鎖、ブロックまたはグラフト鎖として有するもの等が挙
げられる。
Here, the polymer having compatibility or affinity with syndiotactic polystyrene refers to a polymer having a chain showing compatibility or affinity with syndiotactic polystyrene in a polymer chain. Examples of the polymer exhibiting such compatibility or affinity include, for example, syndiotactic polystyrene, atactic polystyrene, isotactic polystyrene, styrene-based copolymer, polyphenylene ether, polyvinyl methyl ether, and the like. , A block or a graft chain.

【0018】また、ここでいう極性基とは、無機充填剤
との接着性を向上させるものであればよく、具体的に
は、酸無水物基、カルボン酸基、カルボン酸エステル
基、カルボン酸塩化物基、カルボン酸アミド基、カルボ
ン酸塩基、スルホン酸基、スルホン酸エステル基、スル
ホン酸塩化物基、スルホン酸アミド基、スルホン酸塩
基、エポキシ基、アミノ基、イミド基、オキサゾリン基
等が挙げられる。
The polar group referred to herein may be any group which improves the adhesiveness with an inorganic filler, and specifically includes an acid anhydride group, a carboxylic acid group, a carboxylic ester group, and a carboxylic acid group. Chloride group, carboxylic acid amide group, carboxylic acid group, sulfonic acid group, sulfonic acid ester group, sulfonic acid chloride group, sulfonic acid amide group, sulfonic acid group, epoxy group, amino group, imide group, oxazoline group, etc. No.

【0019】この相溶化剤は溶媒、他樹脂の存在下、ま
たは非存在下、上記のシンジオタクチックポリスチレン
と相溶性又は親和性を有する重合体と後述する変性剤を
反応させることにより得ることができる。変性剤として
は、例えば、エチレン性二重結合と極性基を同一分子内
に含む化合物が使用できる。具体的には、無水マレイン
酸、マレイン酸、マレイン酸エステル、マレイミド及び
そのN置換体、マレイン酸塩をはじめとするマレイン酸
誘導体、フマル酸、フマル酸エステル、フマル酸塩をは
じめとするフマル酸誘導体、無水イタコン酸、イタコン
酸、イタコン酸エステル、イタコン酸塩をはじめとする
イタコン酸誘導体、アクリル酸、アクリル酸エステル、
アクリル酸アミド、アクリル酸塩をはじめとするアクリ
ル酸誘導体、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、メ
タクリル酸アミド、メタクリル酸塩、グリシジルメタク
リレ−トをはじめとするメタクリル酸誘導体等が挙げら
れる。その中でも特に好ましくは無水マレイン酸、フマ
ル酸、グリシジルメタクリレ−トが用いられる。
This compatibilizer can be obtained by reacting a polymer having compatibility or affinity with the above-mentioned syndiotactic polystyrene and a modifier described below in the presence or absence of a solvent or other resin. it can. As the modifier, for example, a compound containing an ethylenic double bond and a polar group in the same molecule can be used. Specifically, maleic anhydride, maleic acid, maleic ester, maleimide and its N-substituted product, maleic acid derivatives such as maleic acid salt, fumaric acid, fumaric acid ester, and fumaric acid such as fumaric acid salt Derivatives, itaconic anhydride, itaconic acid, itaconic acid esters, itaconic acid derivatives including itaconic acid salts, acrylic acid, acrylic acid esters,
Acrylic acid derivatives such as acrylamide and acrylate, methacrylic acid, methacrylic acid esters, methacrylic acid amides, methacrylic acid salts, and methacrylic acid derivatives such as glycidyl methacrylate are exemplified. Among them, maleic anhydride, fumaric acid and glycidyl methacrylate are particularly preferably used.

【0020】変性には公知の方法が用いられるが、ロ−
ルミル、バンバリ−ミキサ−、押出機等を用いて150
℃〜350℃の温度で溶融混練し、反応させる方法、ま
た、ベンゼン、トルエン、キシレン等の溶媒中で加熱反
応させる方法などを挙げることができる。さらにこれら
の反応を容易に進めるため、反応系にベンゾイルパ−オ
キサイド、ジ−t−ブチルパ−オキサイド、ジクミルパ
−オキサイド、t−ブチルパ−オキシベンゾエ−ト、ア
ゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリ
ル、2,3−ジフェニル−2,3−ジメチルブタン等の
ラジカル発生剤を存在させることは有効である。このう
ち特に2,3−ジフェニル−2,3−ジメチルブタンが
好ましく用いられる。
A known method is used for the modification.
150 using a mill, Banbury mixer, extruder, etc.
A method of melt-kneading and reacting at a temperature of from 0 to 350 ° C, and a method of heating and reacting in a solvent such as benzene, toluene, and xylene can be exemplified. In order to further facilitate these reactions, benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, t-butyl peroxybenzoate, azobisisobutyronitrile, azobisisovaleronitrile, It is effective to use a radical generator such as 2,3-diphenyl-2,3-dimethylbutane. Of these, 2,3-diphenyl-2,3-dimethylbutane is particularly preferably used.

【0021】また、好ましい変性方法としては、ラジカ
ル発生剤の存在下に溶融混練する方法である。また、変
性の際、他樹脂を添加してもよい。相溶化剤の具体例と
しては、スチレン−無水マレイン酸共重合体(SM
A)、スチレン−グリシジルメタクリレ−ト共重合体、
末端カルボン酸変性ポリスチレン、末端エポキシ変性ポ
リスチレン、末端オキサゾリン変性ポリスチレン、末端
アミン変性ポリスチレン、スルホン化ポリスチレン、ス
チレン系アイオノマ−、スチレン−メチルメタクリレ−
ト−グラフトポリマ−、(スチレン−グリシジルメタク
リレ−ト)−メチルメタクリレ−ト−グラフト共重合
体、酸変性アクリル−スチレン−グラフトポリマ−、
(スチレン−グリシジルメタクリレ−ト)−スチレン−
グラフトポリマ−、ポリブチレンテレフタレ−ト−ポリ
スチレン−グラフトポリマ−、無水マレイン酸変性P
S、フマル酸変性PS、グリシジルメタクリレ−ト変性
PS、アミン変性PS等の変性スチレン系ポリマ−、
(スチレン−無水マレイン酸)−ポリフェニレンエ−テ
ル−グラフトポリマ−、無水マレイン酸変性ポリフェニ
レンエ−テル、グリシジルメタクリレ−ト変性ポリフェ
ニレンエ−テル、アミン変性ポリフェニレンエ−テル等
の変性ポリフェニレンエ−テル系ポリマ−等が挙げられ
る。
A preferred modification method is a method of melt-kneading in the presence of a radical generator. Further, at the time of modification, another resin may be added. Specific examples of the compatibilizer include a styrene-maleic anhydride copolymer (SM
A), a styrene-glycidyl methacrylate copolymer,
Carboxylic acid-modified polystyrene, epoxy-modified polystyrene, oxazoline-modified polystyrene, amine-modified polystyrene, sulfonated polystyrene, styrene ionomer, styrene-methyl methacrylate
To-graft polymer, (styrene-glycidyl methacrylate) -methyl methacrylate-graft copolymer, acid-modified acryl-styrene-graft polymer,
(Styrene-glycidyl methacrylate) -styrene-
Graft polymer, polybutylene terephthalate-polystyrene-graft polymer, maleic anhydride-modified P
S, fumaric acid-modified PS, glycidyl methacrylate-modified PS, amine-modified PS and other modified styrenic polymers,
Modified polyphenylene ethers such as (styrene-maleic anhydride) -polyphenylene ether-grafted polymer, maleic anhydride-modified polyphenylene ether, glycidyl methacrylate-modified polyphenylene ether, and amine-modified polyphenylene ether And the like.

【0022】このうち特に、変性PS、変性ポリフェニ
レンエ−テルが好ましく用いられる。また、上記重合体
は2種以上を併用して用いることも可能である。相溶化
剤中の極性基含有率としては、好ましくは相溶化剤10
0重量%中の0.01〜20重量%、さらに好ましくは
0.05〜10重量%の範囲である。0.01重量%未満で
は無機充填材との接着効果を発揮させるために相溶化剤
を多量に添加する必要があり、組成物の力学物性、耐熱
性、成形性を低下させるおそれがあるため好ましくな
い。また、20重量%を超えるとシンジオタクチックポ
リスチレンとの相溶性が低下するおそれがあるため好ま
しくない。 (4)無機充填材 無機充填材としては、繊維状のものであると、粒状、粉
状のものであるとを問わない。繊維状充填材としては、
例えば、ガラス繊維、炭素繊維、ウイスカ−等が挙げら
れる。形状としてはクロス状、マット状、集束切断状、
短繊維、フィラメント状、ウイスカ−等があるが、集束
切断状の場合、長さが0.05mm〜50mm、繊維径
が5〜20μmのものが好ましい。
Of these, modified PS and modified polyphenylene ether are preferably used. Further, two or more of the above polymers can be used in combination. The polar group content in the compatibilizer is preferably 10
It is in the range of 0.05 to 20% by weight, more preferably 0.05 to 10% by weight, based on 0% by weight. If the content is less than 0.01% by weight, it is necessary to add a large amount of a compatibilizing agent in order to exert an adhesive effect with the inorganic filler, and the mechanical properties, heat resistance, and moldability of the composition may be reduced. Absent. On the other hand, if it exceeds 20% by weight, the compatibility with syndiotactic polystyrene may be undesirably reduced. (4) Inorganic filler The inorganic filler may be fibrous, granular or powdery. As the fibrous filler,
For example, glass fiber, carbon fiber, whisker and the like can be mentioned. The shape is a cross shape, mat shape, focused cut shape,
There are short fibers, filaments, whiskers, etc., and in the case of a bundle cut, those having a length of 0.05 mm to 50 mm and a fiber diameter of 5 to 20 μm are preferred.

【0023】一方、粒状、粉状充填材としては、例え
ば、タルク、カ−ボンブラック、グラファイト、二酸化
チタン、シリカ、マイカ、炭酸カルシウム、硫酸カルシ
ウム、炭酸バリウム、炭酸マグネシウム、硫酸マグネシ
ウム、硫酸バリウム、オキシサルフェ−ト、酸化スズ、
アルミナ、カオリン、炭化ケイ素、金属粉末、ガラスパ
ウダ−、ガラスフレ−ク、ガラスビ−ズ等が挙げられ
る。
On the other hand, as the granular or powdery filler, for example, talc, carbon black, graphite, titanium dioxide, silica, mica, calcium carbonate, calcium sulfate, barium carbonate, magnesium carbonate, magnesium sulfate, barium sulfate, Oxysulfate, tin oxide,
Examples include alumina, kaolin, silicon carbide, metal powder, glass powder, glass flake, glass beads and the like.

【0024】上記のような各種充填材の中でも、特に粒
状、粉状充填材、例えばガラスパウダ−、ガラスフレ−
ク、ガラスビ−ズ、タルク、カ−ボンブラック、グラフ
ァイト、二酸化チタン、シリカ、マイカ、炭酸カルシウ
ウム、硫酸カルシウム、炭酸バリウム、カオリン、炭化
ケイ素が好ましい。また、これらの充填材としては表面
処理したものが好ましい。表面処理に用いられるカップ
リング剤は、充填材と樹脂との接着性を良好にするため
に用いられるものであり、いわゆるシラン系カップリン
グ剤、チタン系カップリング剤等、従来公知のものの中
から任意のものを選択して用いることができる。中でも
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(ア
ミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β
−(3、4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメト
キシシラン等のアミノシラン、エポキシシラン、イソプ
ロピルトリ(N−アミドエチル、アミノエチル)チタネ
−トが好ましい。
Among the various fillers described above, particulate and powdery fillers such as glass powder and glass free
, Glass beads, talc, carbon black, graphite, titanium dioxide, silica, mica, calcium carbonate, calcium sulfate, barium carbonate, kaolin, and silicon carbide are preferred. As these fillers, those subjected to surface treatment are preferable. The coupling agent used for the surface treatment is used for improving the adhesiveness between the filler and the resin, and includes a so-called silane-based coupling agent, a titanium-based coupling agent, and the like. Any one can be selected and used. Among them, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β
Preferred are aminosilanes such as-(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, epoxysilane, and isopropyltri (N-amidoethyl, aminoethyl) titanate.

【0025】また、フィルムフォ−マ−としては従来公
知のものを用いることができるが、中でも、ウレタン
系、エポキシ系、ポリエ−テル系等が好ましく用いられ
る。なお、これらの無機充填材については一種のみを単
独で、または、二種以上を組み合わせて用いることがで
きる。 (5)各種添加剤 本発明の目的を阻害しない限り、以下に例示する各種の
添加剤を配合することができる。
As the film former, a conventionally known one can be used, and among them, urethane type, epoxy type, polyether type and the like are preferably used. In addition, these inorganic fillers can be used alone or in combination of two or more. (5) Various additives As long as the object of the present invention is not impaired, various additives exemplified below can be blended.

【0026】アンチブロッキング剤(AB剤) アンチブロッキング剤としては、以下のような無機粒子
又は有機粒子が挙げられる。無機粒子としては、IA
族、IIA族、IVA族、VIA族、VII A族、VIII族、IB
族、IIB族、III B族、IVB族元素の酸化物、水酸化
物、硫化物、窒素化物、ハロゲン化物、炭酸塩、硫酸
塩、酢酸塩、燐酸塩、亜燐酸塩、有機カルボン酸塩、珪
酸塩、チタン酸塩、硼酸塩及びそれらの含水化合物、そ
れらを中心とする複合化合物及び天然鉱物粒子が挙げら
れる。
Antiblocking Agent (AB Agent) Examples of the antiblocking agent include the following inorganic particles or organic particles. As the inorganic particles, IA
, IIA, IVA, VIA, VIIA, VIII, IB
Oxides, hydroxides, sulfides, nitrides, halides, carbonates, sulfates, acetates, phosphates, phosphites, organic carboxylate salts of Group IIB, IIIB, IIIB and IVB elements, Examples thereof include silicates, titanates, borates and hydrates thereof, composite compounds centered on them, and natural mineral particles.

【0027】具体的には、弗化リチウム、ホウ砂(硼酸
ナトリウム含水塩)等のIA族元素化合物、炭酸マグネ
シウム、燐酸マグネシウム、酸化マグネシウム(マグネ
シア)、塩化マグネシウム、酢酸マグネシウム、弗化マ
グネシウム、チタン酸マグネシウム、珪酸マグネシウ
ム、珪酸マグネシウム含水塩(タルク)、炭酸カルシウ
ム、燐酸カルシウム、亜燐酸カルシウム、硫酸カルシウ
ム(石膏)、酢酸カルシウム、テレフタル酸カルシウ
ム、水酸化カルシウム、珪酸カルシウム、弗化カルシウ
ム、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、炭
酸バリウム、燐酸バリウム、硫酸バリウム、亜硫酸バリ
ウム等のIIA族元素化合物、二酸化チタン(チタニ
ア)、一酸化チタン、窒化チタン、二酸化ジルコニウム
(ジルコニア)、一酸化ジルコニウム等のIVA族元素化
合物、二酸化モリブデン、三酸化モリブデン、硫化モリ
ブデン等のVIA族元素化合物、塩化マンガン、酢酸マン
ガン等のVII A族元素化合物、塩化コバルト、酢酸コバ
ルト等のVIII族元素化合物、沃化第一銅等のIB族元素
化合物、酸化亜鉛、酢酸亜鉛等のIIB族元素化合物、酸
化アルミニウム(アルミナ)、水酸化アルミニウム、弗
化アルミニム、アルミナシリケート(珪酸アルミナ、カ
オリン、カオリナイト)等のIII B族元素化合物、酸化
珪素(シリカ、シリカゲル)、石墨、カーボン、グラフ
ァイト、ガラス等のIVB族元素化合物、カーナル石、カ
イナイト、雲母(マイカ、キンウンモ)、バイロース鉱
等の天然鉱物の粒子が挙げられる。
More specifically, compounds of Group IA such as lithium fluoride, borax (sodium borate hydrate), magnesium carbonate, magnesium phosphate, magnesium oxide (magnesia), magnesium chloride, magnesium acetate, magnesium fluoride, titanium Magnesium silicate, magnesium silicate, magnesium silicate hydrate (talc), calcium carbonate, calcium phosphate, calcium phosphite, calcium sulfate (gypsum), calcium acetate, calcium terephthalate, calcium hydroxide, calcium silicate, calcium fluoride, titanate Group IIA compounds such as calcium, strontium titanate, barium carbonate, barium phosphate, barium sulfate, barium sulfite, titanium dioxide (titania), titanium monoxide, titanium nitride, zirconium dioxide (zirconia), dimonoxide Group VIA element compounds such as group IVA element compounds such as conium, molybdenum dioxide, molybdenum trioxide, and molybdenum sulfide; group VIA element compounds such as manganese chloride and manganese acetate; group VIII element compounds such as cobalt chloride and cobalt acetate; Group IB element compounds such as cuprous chloride, group IIB compounds such as zinc oxide and zinc acetate, aluminum oxide (alumina), aluminum hydroxide, aluminum fluoride, alumina silicate (alumina silicate, kaolin, kaolinite), etc. III Group B element compounds, silicon oxide (silica, silica gel), graphite, carbon, graphite, glass, etc., Group IVB element compounds, kernalite, kainite, mica (mica, kinunmo), and particles of natural minerals such as byrose ore. Can be

【0028】有機粒子としては、テフロン、メラミン系
樹脂、スチレン・ジビニルベンゼン共重合体、アクリル
系レジン及びおよびそれらの架橋体が挙げられる。 酸化防止剤 酸化防止剤としてはリン系、フェノール系、イオウ系等
公知のものから任意に選択して用いることができる。な
お、これらの酸化防止剤は一種のみを単独で、または、
二種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of the organic particles include Teflon, melamine resin, styrene / divinylbenzene copolymer, acrylic resin, and cross-linked products thereof. Antioxidant As the antioxidant, any known antioxidant such as phosphorus-based, phenol-based, and sulfur-based can be used. In addition, these antioxidants may be used alone, or
Two or more can be used in combination.

【0029】核剤 核剤としてはアルミニウムジ(p−t−ブチルベンゾエ
ート)をはじめとするカルボン酸の金属塩、メチレンビ
ス(2,4−ジ−t−ブチルフェノール)アシッドホス
フェートナトリウムをはじめとするリン酸の金属塩、タ
ルク、フタロシアニン誘導体等、公知のものから任意に
選択して用いることができる。なお、これらの核剤は一
種のみを単独で、または、二種以上を組み合わせて用い
ることができる 可塑剤 可塑剤としてはポリエチレングリコール、ポリアミドオ
リゴマー、エチレンビスステアロアマイド、フタル酸エ
ステル、ポリスチレンオリゴマー、ポリエチレンワック
ス、シリコーンオイル等公知のものから任意に選択して
用いることができる。なお、これらの可塑剤は一種のみ
を単独で、または、二種以上を組み合わせて用いること
ができる。
Nucleating Agents As nucleating agents, metal salts of carboxylic acids such as aluminum di (pt-butylbenzoate) and phosphoric acids such as sodium methylenebis (2,4-di-t-butylphenol) acid phosphate Any of known metal salts, talc, phthalocyanine derivatives and the like can be used. These nucleating agents can be used alone or in combination of two or more. Plasticizers Examples of the plasticizer include polyethylene glycol, polyamide oligomer, ethylene bisstearamide, phthalic acid ester, polystyrene oligomer, and the like. Any known materials such as polyethylene wax and silicone oil can be arbitrarily selected and used. These plasticizers can be used alone or in combination of two or more.

【0030】離型剤 離型剤としてはポリエチレンワックス、シリコーンオイ
ル、長鎖カルボン酸、長鎖カルボン酸金属塩等公知のも
のから任意に選択して用いることができる。なお、これ
らの離型剤は一種のみを単独で、または、二種以上を組
み合わせて用いることができる。
Release Agent The release agent may be arbitrarily selected from known materials such as polyethylene wax, silicone oil, long-chain carboxylic acid, and metal salt of long-chain carboxylic acid. These release agents may be used alone or in combination of two or more.

【0031】プロセスオイル 本発明においては、さらにプロセスオイルを配合しても
よい。プロセスオイルは油種により、パラフィン系オイ
ル、ナフテン系オイル、アロマ系オイルに大別される
が、中でもパラフィン系オイルが好ましい。プロセスオ
イルの粘度としては、40℃での動粘度が15〜600
csが好ましく、15〜500csが更に好ましい。
Process Oil In the present invention, a process oil may be further added. Process oils are roughly classified into paraffin-based oils, naphthenic-based oils, and aroma-based oils, depending on the type of oil. As the viscosity of the process oil, the kinematic viscosity at 40 ° C. is 15 to 600.
cs is preferable, and 15 to 500 cs is more preferable.

【0032】なおこれらのプロセスオイルは一種のみを
単独または、二種以上を組み合わせて用いることができ
る。 (5)各成分の配合割合 各成分の配合割合については、(a)シンジオタクチッ
クポリスチレンが60〜100重量%、好ましくは70
〜100重量%、さらには80〜95重量%であり、
(b)ゴム状弾性体及び/又は主としてシンジオタクチ
ック構造を有するスチレン系重合体以外の熱可塑性樹脂
40〜0重量%、好ましくは30〜0重量%、さらには
20〜5重量%である。(b)成分が40重量%より多
いと、ドリルで穴をあけたときのスミアが発生するおそ
れがある。さらに(a)成分との相溶性又は親和性を有
し、かつ極性基を有する重合体(c)を配合する場合に
あっては、(c)成分の割合は、(a)成分と(b)成
分の合計100重量部に対して0.1〜10重量部、好ま
しくは0.5〜8重量部、さらに好ましくは1〜5重量部
である。0.1重量部未満では無機充填材との接着効果が
小さく、樹脂と無機充填材との接着不足を生じ、10重
量部を超えて配合しても接着性の向上は望めず経済的に
不利になる。(d)無機充填材は上記(a)成分〜
(c)成分の合計量100重量部に対し、0〜40重量
部、好ましくは5〜35重量部、さらには5〜35重量
部である。無機充填材が40重量部より多いと、脆くな
りすぎて割れが生じやすくなる。 III.本発明にかかるプリント基板加工用押え板の製造方
法 本発明にかかるプリント基板加工用押え板の製造方法に
ついては特に制限なく、例えば、キャスト成形,射出成
形等の公知の成形法により、目的に応じて適宜選択すれ
ばよい。
These process oils can be used alone or in combination of two or more. (5) Mixing ratio of each component Regarding the mixing ratio of each component, (a) 60 to 100% by weight, preferably 70% by weight of syndiotactic polystyrene is used.
-100% by weight, even 80-95% by weight,
(B) The thermoplastic resin other than the rubbery elastic body and / or the styrene-based polymer mainly having a syndiotactic structure is 40 to 0% by weight, preferably 30 to 0% by weight, and more preferably 20 to 5% by weight. If the amount of the component (b) is more than 40% by weight, smear may occur when a hole is drilled. Further, when a polymer (c) having compatibility or affinity with the component (a) and having a polar group is blended, the ratio of the component (c) is determined by comparing the ratio of the component (a) with the component (b). ) 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.5 to 8 parts by weight, more preferably 1 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total of components. If the amount is less than 0.1 part by weight, the effect of bonding with the inorganic filler is small, and insufficient adhesion between the resin and the inorganic filler occurs. become. (D) The inorganic filler is the component (a)
The amount is 0 to 40 parts by weight, preferably 5 to 35 parts by weight, and more preferably 5 to 35 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the component (c). If the amount of the inorganic filler is more than 40 parts by weight, it becomes too brittle and cracks easily occur. III. Method for Manufacturing Pressing Plate for Processing Printed Circuit Board According to the Present Invention The method for manufacturing the holding plate for processing printed circuit board according to the present invention is not particularly limited. For example, a known method such as cast molding or injection molding may be used. May be appropriately selected according to the conditions.

【0033】[0033]

【実施例】次に、本発明を実施例及び比較例により詳し
く説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。 〔実施例1〕SPS(シンジオタクチックポリスチレン
ホモポリマー、Tm=270℃、MI=13(300
℃、1.2kgf)))を60重量部、ゴム状弾性体とし
て、SEBS(水添スチレン−ブダジエン共重合体、ク
ラレ製「商品名セプトン8006」)を18重量部、無
機充填材として炭酸カルシウム(白石工業製「商品名
ホワイトンP−30」)を20重量部、フマル酸変性ポ
リフェニレンエーテル(変性率1.5重量%)2重量部を
ドライブレンドし、65mmφ二軸押出機にて溶融混練
してペレットを得た。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples. Example 1 SPS (Syndiotactic polystyrene homopolymer, Tm = 270 ° C., MI = 13 (300
C., 1.2 kgf))), 60 parts by weight, SEBS (hydrogenated styrene-butadiene copolymer, "Septon 8006" manufactured by Kuraray) as a rubbery elastic body, 18 parts by weight, and calcium carbonate as an inorganic filler (Product name : Shiraishi Industry
20 parts by weight of Whiten P-30 ") and 2 parts by weight of fumaric acid-modified polyphenylene ether (modification ratio: 1.5% by weight) were dry-blended and melt-kneaded with a 65 mmφ twin-screw extruder to obtain pellets.

【0034】なお、フマル酸変性ポリフェニレンエーテ
ルは、次の方法により調製した。ポリフェニレンエ−テ
ル(固有粘度0.45dl/g、クロロホルム中、25
℃)1キログラム、フマル酸30グラム、ラジカル発生
剤として2,3−ジメチル−2,3−ジフェニルブタン
(日本油脂、ノフマ−BC)20グラムをドライブレン
ドし、30mm二軸押出機を用いてスクリュ回転数20
0rpm、設定温度300℃で溶融混練を行った。スト
ランドを冷却後ペレット化しフマル酸変性ポリフェニレ
ンエ−テルを得た。変性率測定のため、得られた変性ポ
リフェニレンエ−テル1グラムをエチルベンゼンに溶解
後、メタノ−ルに再沈し、回収したポリマ−をメタノ−
ルでソックスレ−抽出し、乾燥後IRスペクトルのカル
ボニル吸収の強度及び滴定により変性率を求めた。
The fumaric acid-modified polyphenylene ether was prepared by the following method. Polyphenylene ether (intrinsic viscosity 0.45 dl / g, in chloroform, 25
C) 1 kg, 30 g of fumaric acid, and 20 g of 2,3-dimethyl-2,3-diphenylbutane (Nippon Oil & Fat, NOFMA-BC) as a radical generator were dry-blended and screwed using a 30 mm twin screw extruder. Rotation speed 20
Melt kneading was performed at 0 rpm and a set temperature of 300 ° C. The strand was cooled and pelletized to obtain a fumaric acid-modified polyphenylene ether. To measure the modification rate, 1 gram of the resulting modified polyphenylene ether was dissolved in ethylbenzene, reprecipitated in methanol, and the recovered polymer was dissolved in methanol.
After extraction with Soxhlet and drying, the denaturation rate was determined by carbonyl absorption intensity in the IR spectrum and titration.

【0035】次に該材料をTダイ温度300℃,ロール
温度90℃の条件にてキャスト成形し、プリント基板加
工用押え板を製作した。このプリント基板加工用押え板
の性状は次のとおりであった。 (1)引張弾性率は2.6MPaであった。 (2)破断伸びは、2.6%であった。 (3)融点(Tm)は、269℃であった。
Next, the material was cast-formed under the conditions of a T-die temperature of 300 ° C. and a roll temperature of 90 ° C. to produce a press plate for processing a printed circuit board. The properties of the printed board processing press plate were as follows. (1) The tensile modulus was 2.6 MPa. (2) The breaking elongation was 2.6%. (3) The melting point (Tm) was 269 ° C.

【0036】このプリント基板加工用押え板(厚さ1.5
mm、300mm×300mm)を用いて、エポキシ製
のプリント基板(厚さ1.6mm)を上下から挟み、しか
る後、径0.2mmのドリルを用いて穴をあけた。このと
き、穴の角部の欠損はなく、またスミアの発生も認めら
れなかった。 〔実施例2〕実施例1におけるSPSのかわりに、SP
Sとして、シンジオタクチックスチレン−p−メチルス
チレン共重合体((p−メチルスチレン含有率:12モ
ル%)、Tm=241℃、MI=3(300℃、1.2k
gf)))を用いた以外は、実施例1と同様に行った。
This press plate for processing a printed circuit board (having a thickness of 1.5
(mm, 300 mm x 300 mm), an epoxy printed circuit board (1.6 mm thick) was sandwiched from above and below, and then a hole was drilled using a 0.2 mm diameter drill. At this time, there was no defect in the corner of the hole, and no generation of smear was observed. [Embodiment 2] Instead of SPS in Embodiment 1, SP
As S, syndiotactic styrene-p-methylstyrene copolymer ((p-methylstyrene content: 12 mol%), Tm = 241 ° C., MI = 3 (300 ° C., 1.2 k
gf))) was carried out in the same manner as in Example 1 except that gf))) was used.

【0037】プリント基板加工用押え板の性状は次のと
おりであった。 (1)引張弾性率は2.6MPaであった。 (2)破断伸びは、2.7%であった。 (3)融点(Tm)は、240℃であった。 結果は、穴の角部の欠損はなく、またスミアの発生も認
められなかった。
The properties of the press board for processing a printed circuit board were as follows. (1) The tensile modulus was 2.6 MPa. (2) The breaking elongation was 2.7%. (3) The melting point (Tm) was 240 ° C. As a result, there was no defect in the corner of the hole, and no generation of smear was observed.

【0038】[0038]

【発明の効果】本発明によれば、穴部に欠損やスミアの
発生がない良好なプリント基板加工用押え板を得ること
ができた。
According to the present invention, it is possible to obtain a good holding plate for processing a printed circuit board, which does not have any loss or smear in the hole.

フロントページの続き Fターム(参考) 4J002 AA011 AA012 AC002 AC012 AC032 AC042 AC062 AC082 AC092 AC112 AC122 BB002 BB032 BB122 BB152 BB172 BB182 BC011 BC023 BC031 BC032 BC033 BC042 BC062 BC072 BC081 BC111 BD152 BE043 BG042 BH012 BN122 BN152 BN162 CF062 CF072 CG002 CH072 CH073 CK022 CL012 CL032 CN012 CN022 CP032 CP162 DA016 DA026 DA036 DA066 DE096 DE136 DE146 DE236 DG046 DG056 DJ006 DJ016 DJ036 DJ046 DJ056 DL006 FA036 FD016 GM00 Continued on front page F-term (reference) 4J002 AA011 AA012 AC002 AC012 AC032 AC042 AC062 AC082 AC092 AC112 AC122 BB002 BB032 BB122 BB152 BB172 BB182 BC011 BC023 BC031 BC032 BC033 BC042 BC062 BC072 BC081 BC111 BD152 BN 012 BF111 BN152 BN 012 CL012 CL032 CN012 CN022 CP032 CP162 DA016 DA026 DA036 DA066 DE096 DE136 DE146 DE236 DG046 DG056 DJ006 DJ016 DJ036 DJ046 DJ056 DL006 FA036 FD016 GM00

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 熱可塑性樹脂材料からなり、以下の
(1)〜(3)を満たすプリント基板加工用押え板。 (1)引張弾性率が、2GPa以上、15GPa未満で
あること。 (2)破断伸びが、0.5〜3%であること。 (3)融点(Tm)が、225℃以上であること。
1. A holding plate for processing a printed circuit board, which is made of a thermoplastic resin material and satisfies the following (1) to (3). (1) The tensile modulus is 2 GPa or more and less than 15 GPa. (2) The elongation at break is 0.5-3%. (3) The melting point (Tm) is 225 ° C. or higher.
【請求項2】 前記熱可塑性樹脂材料が、主としてシン
ジオタクチック構造を有するスチレン系重合体又は主と
してシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体
を含む樹脂組成物である請求項1に記載のプリント基板
加工用押え板。
2. The printed circuit board according to claim 1, wherein the thermoplastic resin material is a styrene-based polymer having a predominantly syndiotactic structure or a resin composition containing a styrene-based polymer having a predominantly syndiotactic structure. Holding plate for processing.
【請求項3】 前記熱可塑性樹脂材料が、(a)主とし
てシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体6
0〜100重量%と、(b)ゴム状弾性体及び/又は主
としてシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合
体以外の熱可塑性樹脂40〜0重量%、及び上記(a)
成分と(b)成分の合計量100重量部に対し、0〜4
0重量部の無機充填材(d)からなるものである請求項
1又は2に記載のプリント基板加工用押え板。
3. The thermoplastic resin material comprises: (a) a styrenic polymer 6 mainly having a syndiotactic structure;
0 to 100% by weight, and (b) 40 to 0% by weight of a thermoplastic resin other than a rubbery elastic body and / or a styrene-based polymer mainly having a syndiotactic structure, and (a)
0 to 4 based on 100 parts by weight of the total amount of the component and the component (b)
The press plate for processing a printed circuit board according to claim 1 or 2, comprising 0 parts by weight of an inorganic filler (d).
【請求項4】 前記熱可塑性樹脂材料が、(a)主とし
てシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体6
0〜100重量%と、(b)ゴム状弾性体及び/又は主
としてシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合
体以外の熱可塑性樹脂40〜0重量%、及び(a)成分
と(b)成分の合計100重量部に対して、(c)
(a)成分との相溶性又は親和性を有し、かつ極性基を
有する重合体0.1〜10重量部、さらに上記(a)成分
〜(c)成分の合計量100重量部に対し、0〜40重
量部の無機充填材(d)からなるものである請求項1又
は2に記載のプリント基板加工用押え板。
4. The thermoplastic resin material comprises: (a) a styrenic polymer 6 mainly having a syndiotactic structure;
0 to 100% by weight, and (b) 40 to 0% by weight of a thermoplastic resin other than a rubbery elastic body and / or a styrene polymer mainly having a syndiotactic structure, and (a) component and (b) component. (C) for a total of 100 parts by weight
With respect to 0.1 to 10 parts by weight of a polymer having compatibility or affinity with the component (a) and having a polar group, and 100 parts by weight of the total of the components (a) to (c), The press plate for processing a printed circuit board according to claim 1 or 2, comprising a mineral filler (d) in an amount of 0 to 40 parts by weight.
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