JP2000093807A - Photocatalyst body, and heat exchanger and purifying device using the same - Google Patents

Photocatalyst body, and heat exchanger and purifying device using the same

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JP2000093807A
JP2000093807A JP10271106A JP27110698A JP2000093807A JP 2000093807 A JP2000093807 A JP 2000093807A JP 10271106 A JP10271106 A JP 10271106A JP 27110698 A JP27110698 A JP 27110698A JP 2000093807 A JP2000093807 A JP 2000093807A
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film
photocatalyst
titanium oxide
substrate
catalyst
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Norihiro Matsuoka
憲弘 松岡
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    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F8/00Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying
    • F24F8/20Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying by sterilisation
    • F24F8/22Treatment, e.g. purification, of air supplied to human living or working spaces otherwise than by heating, cooling, humidifying or drying by sterilisation using UV light

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the catalytic activity by using a metal having a chromate film formed on its surface as a substrate and depositing a catalyst film made of a photocatalytic material on the surface. SOLUTION: The photocatalyst consists of an aluminum plate 32 having a smooth surface and subjected to phosphate chromating treatment as its base body, and a titanium oxide film as a catalyst film formed on the base body by sputtering. The titanium oxide film is formed by using an RF magnetron sputtering device. The aluminum plate 32 with the titanium oxide film formed is cut into strips of specified width. A part of the strips is press-formed into way aluminum plates 31. The way aluminum plates 31 thus formed are alternately laminated with a aluminum plates 32 not pressed with an adhesive to form a honeycomb to obtain a purifying functional body 30 made of the photocatalytic medium. Thus, the obtd. photocatalyst body keeps hydrophilicity for a long time and has an improved decomposition effect.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線を照射する
と有機物などを分解する光触媒体や、空気調和機などに
備えられる熱交換器、空気中や水中の有機物などを分解
除去する浄化装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photocatalyst which decomposes organic substances when irradiated with ultraviolet rays, a heat exchanger provided in an air conditioner, etc., and a purifying apparatus which decomposes and removes organic substances in the air or water. It is.

【0002】[0002]

【従来の技術】光触媒物質は、そのバンドギャップ以上
のエネルギーをもつ波長の光を照射すると光励起により
伝導帯に電子を生じ、価電子帯に正孔を生じる。この電
子の強い還元力や正孔の強い酸化力によって、有機物や
窒素酸化物の分解除去や水の分解などが起こり、抗菌や
浄化に有効である。従って、従来より光触媒物質から成
る触媒膜を基体の表面に担持させた光触媒体を浄化機能
体として空気清浄機や浄水器などに用いてきた。
2. Description of the Related Art When a photocatalytic substance is irradiated with light having a wavelength having energy equal to or greater than its band gap, electrons are generated in a conduction band by photoexcitation and holes are generated in a valence band. The strong reducing power of electrons and strong oxidizing power of holes cause decomposition and removal of organic substances and nitrogen oxides, decomposition of water, and the like, which is effective for antibacterial and purification. Therefore, conventionally, a photocatalyst in which a catalyst film made of a photocatalytic substance is supported on the surface of a substrate has been used as a purifying function in an air purifier, a water purifier, or the like.

【0003】また、特開平9-229585号公報で
は、空気調和機に備えられている熱交換器のフィンを親
水化する手段としてその表面に触媒膜を形成している。
即ち、熱交換器のフィンを基体としてその表面に粒子状
光触媒物質とシリコン樹脂から成る触媒膜を形成する
と、光触媒物質が疎水性を示すアルキル基を分解してフ
ィン表面を親水性化する。
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-229585, a catalyst film is formed on the surface of a fin of a heat exchanger provided in an air conditioner as a means for hydrophilizing the fin.
That is, when a fin of a heat exchanger is used as a base and a catalyst film composed of a particulate photocatalytic substance and a silicon resin is formed on the surface thereof, the photocatalytic substance decomposes a hydrophobic alkyl group to make the fin surface hydrophilic.

【0004】表面が親水性化された熱交換器では、熱交
換効率を高めるためにフィンを多数設けてフィン間隔が
狭くなっても、隣接するフィン同士の間に結露水が保持
されるということがない。故に、結露水によって空気流
が阻害されたり、結露水が飛散するといった不都合が解
消される。
[0004] In a heat exchanger having a hydrophilic surface, even if a large number of fins are provided to increase the heat exchange efficiency and the fin spacing is reduced, dew condensation water is retained between adjacent fins. There is no. Therefore, disadvantages such as obstruction of the airflow by the condensed water and scattering of the condensed water are eliminated.

【0005】基体の表面に光触媒物質を膜状に担持させ
るのに、微粒子状の光触媒物質を接着剤(バインダー)と
混合して基体上に塗布し、それを常温下又は加熱して接
着性物質を硬化させる方法がある。このバインダー材料
としては、シリカ系やフッ素樹脂などが検討されてい
る。
[0005] In order to carry the photocatalyst substance on the surface of the substrate in the form of a film, the photocatalyst substance in the form of fine particles is mixed with an adhesive (binder) and applied on the substrate, and the mixture is applied at room temperature or by heating. There is a method of curing. As the binder material, silica, fluororesin, and the like have been studied.

【0006】しかしながら、上記方法では光触媒物質の
表面がバインダーで覆われるために光触媒物質がもつ本
来の活性が損なわれたり、バインダー自身が光触媒物質
に分解されて被膜強度が劣化するという欠点を有する。
また、バインダーとして多孔質材料を使用することによ
り触媒活性の低下を抑えることも可能であるが、逆に基
体への密着性が低下するという問題が生じる。
[0006] However, the above-mentioned method has the disadvantage that the surface of the photocatalytic substance is covered with the binder, so that the intrinsic activity of the photocatalytic substance is impaired, or the binder itself is decomposed into the photocatalytic substance and the film strength is deteriorated.
Further, by using a porous material as a binder, it is possible to suppress a decrease in catalytic activity, but on the contrary, there arises a problem that adhesion to a substrate is reduced.

【0007】バインダーを使用せずに触媒膜を形成する
にはゾルゲル法がある。このゾルゲル法は、原料液を基
体上に塗布した後、これを500℃以上の高温で焼成す
るものである。しかしながら、耐熱温度が低いアルミニ
ウムを基体として触媒膜を形成した場合、高温での焼成
により基体の強度が劣化する。
There is a sol-gel method for forming a catalyst film without using a binder. In the sol-gel method, after a raw material liquid is applied on a substrate, it is fired at a high temperature of 500 ° C. or higher. However, when the catalyst film is formed using aluminum having a low heat-resistant temperature as a base, the strength of the base is deteriorated by firing at a high temperature.

【0008】また、原料液を基体の広い範囲で均一に塗
布するのが難しく、触媒膜に膜厚のばらつきが生じやす
い。膜厚が極端に薄い箇所があると、そこでは基体が耐
食しやく、また触媒活性が低下するといった問題が生じ
る。尚、光触媒物質の触媒活性を向上させる手法として
は、例えば金属の微粒子を酸化チタン(触媒膜)上に担持
させる方法や、水素又はアルコールガス中で還元処理す
る方法などが検討されている。
Further, it is difficult to apply the raw material liquid uniformly over a wide range of the substrate, and the thickness of the catalyst film tends to vary. If there is an extremely thin portion, there arises a problem that the substrate is liable to be corrosion-resistant and the catalytic activity is lowered. As a method for improving the catalytic activity of the photocatalytic substance, for example, a method of supporting metal fine particles on titanium oxide (catalyst film), a method of performing reduction treatment in hydrogen or alcohol gas, and the like are being studied.

【0009】上記ゾルゲル法を用いない触媒膜の形成方
法が、特開平9-192498号公報に開示されてい
る。ここでは、基体の表面に真空蒸着法といった物理的
堆積法により触媒膜を形成している。
A method for forming a catalyst film without using the sol-gel method is disclosed in JP-A-9-192498. Here, the catalyst film is formed on the surface of the substrate by a physical deposition method such as a vacuum deposition method.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
9-192498号公報の技術では、基体上に触媒膜を
直接形成するので触媒膜は基体材料の影響を受けやす
い。例えば、基体が金属やナトリウムなどのアルカリ金
属を含む物質(ガラスなど)の場合、触媒活性が小さくな
るという問題がある。また、このような光触媒体を熱交
換器や浄化装置に用いた場合、十分な親水化作用や分解
作用が得られず、良好な性能のものではなかった。
However, in the technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-192498, the catalyst film is directly formed on the substrate, so that the catalyst film is easily affected by the material of the substrate. For example, when the substrate is a substance containing a metal or an alkali metal such as sodium (such as glass), there is a problem that catalytic activity is reduced. In addition, when such a photocatalyst is used in a heat exchanger or a purifying device, a sufficient hydrophilizing effect and a decomposing effect cannot be obtained, and the photocatalyst does not have good performance.

【0011】本発明は上記課題をかんがみて成されたも
のであり、バインダーを用いずに基体上に触媒膜を担持
させた光触媒体であって、良好な触媒活性を有する光触
媒体を提供することを目的とする。また、そのほかの目
的は、表面が良好な親水性を有する熱交換器、又は良好
な浄化能を有する浄化機能体を備えた浄化装置を提供す
ることにある。
The present invention has been made in view of the above problems, and provides a photocatalyst having a catalyst film supported on a substrate without using a binder, the photocatalyst having good catalytic activity. With the goal. Another object of the present invention is to provide a heat exchanger having a surface having good hydrophilicity or a purifying apparatus provided with a purifying function body having a good purifying ability.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1の光触媒体は、表面にクロメート膜を形成
した金属を基体としてその表面に光触媒物質から成る触
媒膜を担持したことを特徴とする。また、請求項2の光
触媒体は、請求項1に記載の光触媒体において、前記金
属がアルミニウムであることを特徴とする。上記請求項
1及び請求項2の光触媒体では、基体と触媒膜との間に
中間層としてクロメート膜を有している。このクロメー
ト膜は一般的な金属のクロメート処理により形成される
もので、リン酸クロメート膜やクロミック・クロメート
膜でよい。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a photocatalyst comprising a metal having a chromate film formed on a surface thereof as a base, and a catalyst film made of a photocatalytic substance carried on the surface. Features. A photocatalyst according to a second aspect is the photocatalyst according to the first aspect, wherein the metal is aluminum. The photocatalysts of the first and second aspects have a chromate film as an intermediate layer between the substrate and the catalyst film. This chromate film is formed by a general metal chromate treatment, and may be a phosphoric acid chromate film or a chromic chromate film.

【0013】請求項2では基体にアルミニウムを用いて
いるが、アルミニウムは材料として安価で、且つ薄くす
ることにより鉄やステンレスなどほかの金属と比べて打
ち抜きや曲げなどの加工が容易になる。このため、ロー
ル・ツー・ロールに巻き取りながら、光触媒体を連続的に
形成するのに適している。特に、クロメート処理を施し
たアルミニウムは、熱交換器のフィン材として大量に生
産されていて安価である。
In the second aspect, aluminum is used for the substrate. However, aluminum is inexpensive as a material, and by making it thin, processing such as punching and bending becomes easier as compared with other metals such as iron and stainless steel. For this reason, it is suitable for continuously forming a photocatalyst while being wound up on a roll-to-roll basis. In particular, aluminum subjected to chromate treatment is mass-produced as a fin material for a heat exchanger and is inexpensive.

【0014】請求項3の光触媒体は、表面にアルマイト
膜を形成したアルミニウムを基体としてその表面に光触
媒物質から成る触媒膜を担持したことを特徴とする。故
に、この光触媒体では基体と触媒膜との間に中間層とし
てアルマイト膜を有している。このアルマイト膜は、一
般的なアルミニウムのアルマイト処理によって形成され
るものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a photocatalyst wherein aluminum having a surface on which an alumite film is formed is used as a base and a catalyst film made of a photocatalytic substance is supported on the surface. Therefore, this photocatalyst has an alumite film as an intermediate layer between the substrate and the catalyst film. This alumite film is formed by a general aluminum alumite treatment.

【0015】請求項4の光触媒体は、金属又は表面にク
ロメート膜を有する金属を基体としてその表面に形成さ
れたシリカ膜の上に光触媒物質から成る触媒膜を担持し
たことを特徴とする。また、請求項5の光触媒体は、請
求項4に記載の光触媒体において、前記金属がアルミニ
ウムであることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a photocatalyst wherein a catalyst film made of a photocatalytic substance is carried on a silica film formed on the surface of a metal or a metal having a chromate film on the surface. A photocatalyst according to a fifth aspect is the photocatalyst according to the fourth aspect, wherein the metal is aluminum.

【0016】また、請求項6の光触媒体は、表面にアル
マイト膜を形成したアルミニウムを基体としてその表面
に形成されたシリカ膜の上に光触媒物質から成る触媒膜
を担持したことを特徴とする。上記請求項4及び請求項
5と請求項6の光触媒体では、基体と触媒膜との中間層
としてシリカ膜を有している。
A photocatalyst according to a sixth aspect of the present invention is characterized in that a catalyst film made of a photocatalytic substance is carried on a silica film formed on the surface of an aluminum substrate on which an alumite film is formed. Each of the photocatalysts according to the fourth, fifth and sixth aspects has a silica film as an intermediate layer between the substrate and the catalyst film.

【0017】請求項7の光触媒体は、請求項4乃至請求
項6のいずれかに記載の光触媒体において、前記シリカ
膜はコロイダルシリカから形成されたことを特徴とす
る。このシリカ膜は表面粗度が大きいので、その上に形
成される触媒膜は表面積の大きいものとなる。
According to a seventh aspect of the present invention, in the photocatalyst according to any one of the fourth to sixth aspects, the silica film is formed of colloidal silica. Since this silica film has a large surface roughness, the catalyst film formed thereon has a large surface area.

【0018】請求項8の光触媒体は、請求項4乃至請求
項6のいずれかに記載の光触媒体において、前記シリカ
膜はスパッタリング法又は蒸着法又はCVD法で形成さ
れたことを特徴とする。
The photocatalyst of claim 8 is characterized in that, in the photocatalyst according to any one of claims 4 to 6, the silica film is formed by a sputtering method, a vapor deposition method, or a CVD method.

【0019】また、請求項9の光触媒体は、請求項1乃
至請求項8のいずれかに記載の光触媒体において、前記
光触媒物質は酸化チタンであって前記触媒膜はスパッタ
リング法又は蒸着法又はCVD法により形成されたこと
を特徴とする。
The photocatalyst according to claim 9 is the photocatalyst according to any one of claims 1 to 8, wherein the photocatalytic substance is titanium oxide and the catalyst film is formed by a sputtering method, a vapor deposition method, or a CVD method. It is characterized by being formed by a method.

【0020】このように、シリカ膜や触媒膜の形成にス
パッタリング法又は蒸着法又はCVD法を用いると、膜
を広い面積に均一の厚さで形成することができる。ま
た、スパッタリング法や蒸着法では300℃以下で膜を
形成することが可能である。
As described above, when a sputtering method, a vapor deposition method, or a CVD method is used for forming a silica film or a catalyst film, the film can be formed over a large area with a uniform thickness. In addition, a film can be formed at 300 ° C. or lower by a sputtering method or an evaporation method.

【0021】請求項10の熱交換器は、請求項1乃至請
求項9のいずれかに記載の光触媒体をフィンに用いたこ
とを特徴とする。この熱交換器では疎水性を示すアルキ
ル基などの有機基が触媒膜によって分解され、フィンは
親水性となる。
A heat exchanger according to a tenth aspect is characterized in that the photocatalyst according to any one of the first to ninth aspects is used for a fin. In this heat exchanger, organic groups such as alkyl groups exhibiting hydrophobicity are decomposed by the catalyst film, and the fins become hydrophilic.

【0022】請求項11の浄化装置は、請求項1乃至請
求項9のいずれかに記載の光触媒体を浄化機能体として
用いたことを特徴とする。この浄化機能体は光触媒の作
用により空気中の臭いや有害ガス、水中のカルキ臭や有
機物を分解することができる。
According to a eleventh aspect of the present invention, there is provided a purifying apparatus using the photocatalyst according to any one of the first to ninth aspects as a purifying functional body. This purifying functional body can decompose odors and harmful gases in the air, odors and organic substances in water by the action of a photocatalyst.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】先ず、本発明に係る光触媒体の実
施例について示し、従来の光触媒体を比較例としてその
特徴を説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First, an embodiment of the photocatalyst according to the present invention will be described, and its features will be described using a conventional photocatalyst as a comparative example.

【0024】[実施例1]実施例1の光触媒体は、表面
が平滑でリン酸クロメート処理を施したアルミニウム板
を基体とし、スパッタリング法にて酸化チタン膜(触媒
膜)を形成したものである。
Example 1 The photocatalyst of Example 1 was obtained by forming a titanium oxide film (catalyst film) by a sputtering method using an aluminum plate having a smooth surface and a phosphoric acid chromate treatment as a base. .

【0025】酸化チタン膜の形成方法及び条件は次の通
りである。即ち、成膜装置はRFマグネトロンスパッタ
装置を用い、基体のアルミニウム板の寸法は6cm×3cm
(18cm2)、ターゲットは純度99.9%以上のTiO2
導入ガスはアルゴンと酸素である。
The method and conditions for forming the titanium oxide film are as follows. That is, an RF magnetron sputtering apparatus was used as a film forming apparatus, and the size of an aluminum plate as a substrate was 6 cm × 3 cm.
(18 cm 2 ), the target is TiO 2 with a purity of 99.9% or more,
The introduced gases are argon and oxygen.

【0026】図1はRFマグネトロンスパッタ装置の概
略構成図である。装置本体の真空室1内に基体2をター
ゲット3に対向させて設置する。先ず、真空ポンプ4で
排気バルブ5から排気して真空室1内を所定の真空度に
する。そして、基体2を所定温度にまで加熱し、バルブ
6,7を介してアルゴンと酸素を導入して混合ガス雰囲
気とする。このとき、アルゴンと酸素が所定の分圧比と
なるように導入ガス流量と排気量を調整する。そして、
電源8によりターゲット3に高周波電力を印加して、基
体2の表面に酸化チタン膜を形成する。各形成条件につ
いては以下の表1に示す。
FIG. 1 is a schematic structural view of an RF magnetron sputtering apparatus. A substrate 2 is placed in a vacuum chamber 1 of the apparatus main body so as to face a target 3. First, the inside of the vacuum chamber 1 is evacuated from the exhaust valve 5 by the vacuum pump 4 to a predetermined degree of vacuum. Then, the base 2 is heated to a predetermined temperature, and argon and oxygen are introduced through the valves 6 and 7 to form a mixed gas atmosphere. At this time, the flow rate of the introduced gas and the amount of exhaust gas are adjusted so that argon and oxygen have a predetermined partial pressure ratio. And
High frequency power is applied to the target 3 by the power source 8 to form a titanium oxide film on the surface of the base 2. The respective forming conditions are shown in Table 1 below.

【0027】[0027]

【表1】 [Table 1]

【0028】この成膜条件下での膜厚成長速度は0.3
×10-6cm/minである。ここでは、膜厚が0.6μmとな
るまで成膜した。
The film growth rate under this film formation condition is 0.3.
× 10 −6 cm / min. Here, the film was formed until the film thickness became 0.6 μm.

【0029】[実施例2]実施例2の光触媒体は、表面
が平滑でアルマイト処理を施したアルミニウム板を基体
とし、スパッタリング法にて酸化チタン膜(触媒膜)を形
成したものである。酸化チタン膜の形成方法及び条件は
実施例1と同様である。
Example 2 The photocatalyst of Example 2 was obtained by forming a titanium oxide film (catalyst film) by a sputtering method using an aluminum plate having a smooth surface and anodized aluminum as a base material. The method and conditions for forming the titanium oxide film are the same as those in the first embodiment.

【0030】[実施例3]実施例3の光触媒体は、表面
が平滑でリン酸クロメート処理を施したアルミニウム板
を基体とし、その表面にコロイダルシリカ膜を形成した
後にスパッタリング法にて酸化チタン膜(触媒膜)を形成
したものである。
Example 3 The photocatalyst of Example 3 was based on an aluminum plate having a smooth surface and a phosphoric acid chromate treatment as a base, a colloidal silica film was formed on the surface, and a titanium oxide film was formed by sputtering. (Catalyst film).

【0031】コロイダルシリカ膜の形成方法は次の通り
である。即ち、粒径10〜20mmのSiO2粒子を10%
含む酸性水溶液(日産化学製スノーテックスOの2倍希
釈水溶液)に基体を浸漬した後、これを溶液中から引き
上げて200℃で30分間硬化させた。
The method of forming the colloidal silica film is as follows. That is, 10% of SiO 2 particles having a particle size of 10 to 20 mm
After the substrate was immersed in an acidic aqueous solution (2 times diluted aqueous solution of Snowtex O manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), the substrate was pulled out of the solution and cured at 200 ° C. for 30 minutes.

【0032】また、酸化チタン膜の形成方法及び条件は
実施例1と同様である。尚、ここでの酸化チタンの膜厚
は0.3μmとする。
The method and conditions for forming the titanium oxide film are the same as in the first embodiment. Here, the thickness of the titanium oxide is 0.3 μm.

【0033】[実施例4]実施例4の光触媒体は、表面
が平滑なアルミニウム板を基体とし、その表面にスパッ
タリング法にてシリカ膜を形成した後に、さらにスパッ
タリング法にて酸化チタン膜(触媒膜)を形成したもので
ある。
Example 4 The photocatalyst of Example 4 was formed by using an aluminum plate having a smooth surface as a base, forming a silica film on the surface by a sputtering method, and further forming a titanium oxide film (catalyst) by a sputtering method. Film).

【0034】シリカ膜の形成方法及び条件は次の通りで
ある。即ち、成膜装置はRFマグネトロンスパッタ装置
を用い(図1参照)、ターゲットは純度99.9%以上の
SiO2、導入ガスはアルゴンと酸素である。そのほかの
形成条件は表1と同様とする。これによってシリカ膜の
膜厚成長速度は0.3×10-6cm/minとなり、ここでは
膜厚が0.6μmとなるまで成膜した。
The method and conditions for forming the silica film are as follows. That is, an RF magnetron sputtering apparatus is used as the film forming apparatus (see FIG. 1), the target is SiO 2 having a purity of 99.9% or more, and the introduced gases are argon and oxygen. Other forming conditions are the same as in Table 1. As a result, the growth rate of the thickness of the silica film became 0.3 × 10 −6 cm / min. In this case, the film was formed until the film thickness became 0.6 μm.

【0035】また、酸化チタン膜の形成方法及び条件は
実施例1と同様である。
The method and conditions for forming the titanium oxide film are the same as in the first embodiment.

【0036】[比較例1]比較例1の光触媒体は、表面
が平滑なアルミニウム板を基体とし、スパッタリング法
にて酸化チタン膜(触媒膜)を形成したものである。酸化
チタン膜の形成方法及び条件は実施例1と同様である。
Comparative Example 1 The photocatalyst of Comparative Example 1 was obtained by forming a titanium oxide film (catalyst film) by a sputtering method using an aluminum plate having a smooth surface as a base. The method and conditions for forming the titanium oxide film are the same as those in the first embodiment.

【0037】[比較例2]比較例2の光触媒体は、ガラ
ス板を基体としてその表面にゾルゲル法にて酸化チタン
膜(触媒膜)を形成したものである。
[Comparative Example 2] The photocatalyst of Comparative Example 2 has a glass plate as a substrate and a titanium oxide film (catalyst film) formed on the surface thereof by a sol-gel method.

【0038】即ち、表面が平滑なバリウム硼珪酸系の無
アルカリガラス上にチタンアルコキシドを塗布し、50
0℃で1時間焼成して酸化チタン膜を形成する。そし
て、膜厚が0.6μmになるまで塗布、焼成を繰り返す。
That is, a titanium alkoxide is applied on a barium borosilicate-based alkali-free glass having a smooth surface,
Baking at 0 ° C. for 1 hour to form a titanium oxide film. Then, application and baking are repeated until the film thickness becomes 0.6 μm.

【0039】[比較例3]比較例3は、表面が平滑でリ
ン酸クロメート処理を施したアルミニウム板を基体と
し、その表面にコロイダルシリカ膜を形成したものであ
る。コロイダルシリカ膜の形成方法は実施例3と同様で
ある。
Comparative Example 3 In Comparative Example 3, an aluminum plate having a smooth surface and subjected to a phosphoric acid chromate treatment was used as a base, and a colloidal silica film was formed on the surface thereof. The method of forming the colloidal silica film is the same as that of the third embodiment.

【0040】上述した実施例1〜4及び比較例1,2の
各光触媒体について、その触媒活性を比較する実験を行
った。実験方法は、先ず各光触媒体をそれぞれ5リット
ルの容器に入れ、悪臭物質の1つであるアセトアルデヒ
ドを100ppmとなるように容器内に注入する。次に、
6Wのブラックライトで各光触媒体を照射し、アセトア
ルデヒド濃度が1ppmにまで減少する時間を測定する。
その結果を以下の表2に示す。
An experiment was conducted to compare the catalytic activities of the photocatalysts of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 described above. In the experimental method, each photocatalyst is first placed in a 5 liter container, and acetaldehyde, one of the malodorous substances, is injected into the container so as to be 100 ppm. next,
Each photocatalyst is irradiated with a 6 W black light, and the time required for the acetaldehyde concentration to decrease to 1 ppm is measured.
The results are shown in Table 2 below.

【0041】[0041]

【表2】 [Table 2]

【0042】表2に示すように、アルミニウム板に直接
酸化チタン膜を形成した比較例1はアセトアルデヒド分
解に6.2時間かかっているのに対し、アルミニウム板
と酸化チタン膜の間に中間層としてクロメート膜を有す
る実施例1、アルマイト膜を有する実施例2、クロメー
ト膜上にコロイダルシリカ膜を形成した実施例3、及び
スパッタシリカ膜を形成した実施例4はいずれもより短
時間でアセトアルデヒドを分解している。
As shown in Table 2, in Comparative Example 1 in which a titanium oxide film was formed directly on an aluminum plate, it took 6.2 hours to decompose acetaldehyde, whereas in Comparative Example 1, an intermediate layer was formed between the aluminum plate and the titanium oxide film. Example 1 having a chromate film, Example 2 having an alumite film, Example 3 having a colloidal silica film on a chromate film, and Example 4 having a sputtered silica film were all capable of decomposing acetaldehyde in a shorter time. are doing.

【0043】特に、実施例3はコロイダルシリカ膜によ
って酸化チタン膜の表面積が大きくなっていることか
ら、ほかの実施例1,2,4よりも短時間でアセトアルデ
ヒドを分解している。また、ゾルゲル法で酸化チタン膜
を形成した比較例2は、スパッタリング法で酸化チタン
膜を形成した実施例1〜4に比べて分解に時間を要して
いる。
In particular, in Example 3, since the surface area of the titanium oxide film was increased by the colloidal silica film, acetaldehyde was decomposed in a shorter time than in Examples 1, 2, and 4. Further, Comparative Example 2 in which the titanium oxide film was formed by the sol-gel method required more time for decomposition than Examples 1 to 4 in which the titanium oxide film was formed by the sputtering method.

【0044】次に、上述した実施例1〜4及び比較例1
の各光触媒体と比較例3の試料について、その濡れ性の
経時変化を比較する実験を行った。実験方法は、6Wの
ブラックライトで各光触媒体及び試料を2時間照射し、
照射終了後10分以内に純粋を滴下して水の接触角を測
定する。その後は暗箱内で保管しておき、所定時間の経
過ごとに同じ方法で水の接触角を測定する。その結果を
表3に示す。
Next, the above-described Examples 1 to 4 and Comparative Example 1
For each of the photocatalysts of Comparative Example 3 and the sample of Comparative Example 3, an experiment was conducted to compare the change over time in wettability. The experimental method irradiates each photocatalyst and the sample with a 6W black light for 2 hours,
Pure water is dropped within 10 minutes after the irradiation is completed, and the contact angle of water is measured. After that, it is kept in a dark box, and the contact angle of water is measured by the same method every predetermined time. Table 3 shows the results.

【0045】[0045]

【表3】 [Table 3]

【0046】表3に示すように、実施例1〜4は比較例
1よりも親水性を有し、それが長期間持続している。特
に、実施例3はコロイダルシリカ膜によって酸化チタン
膜の表面積が大きくなっていることから、ほかの実施例
1,2,4よりも大きな親水性が持続している。比較例3
では表面にシリカ膜を形成することで親水性をもたせた
従来技術であるが、実施例1〜4に比べると親水性は劣
る。
As shown in Table 3, Examples 1 to 4 are more hydrophilic than Comparative Example 1, and they are maintained for a long time. In particular, in Example 3, since the surface area of the titanium oxide film was increased by the colloidal silica film, the hydrophilicity which was larger than that of the other Examples 1, 2, and 4 was maintained. Comparative Example 3
Is a prior art in which a silica film is formed on the surface to impart hydrophilicity, but the hydrophilicity is inferior to Examples 1-4.

【0047】上述したように、本発明に係る実施例は基
体と触媒膜との間に中間層としてクロメート膜やアルマ
イト膜、シリカ膜を有し、またスパッタリング法によっ
て触媒膜が形成されていることから、光触媒物質の触媒
活性が低下せず、良好な親水化作用及び分解作用を得る
ことができる。特に、親水化作用については長期間親水
性が保たれる。また、コロイダルシリカ膜を中間層に有
した場合はその上に形成される触媒膜の表面積が大きく
なるので、有機物などの分解速度はより早く、親水性も
より長期間保たれる。
As described above, the embodiment according to the present invention has a chromate film, an alumite film, and a silica film as an intermediate layer between the substrate and the catalyst film, and the catalyst film is formed by a sputtering method. As a result, the catalytic activity of the photocatalytic substance does not decrease, and good hydrophilizing action and decomposition action can be obtained. In particular, hydrophilicity is maintained for a long period of time. Further, when a colloidal silica film is provided in the intermediate layer, the catalyst film formed thereon has a large surface area, so that the decomposition rate of organic substances and the like is faster, and the hydrophilicity is maintained for a longer period.

【0048】次に、本発明に係る熱交換器の一実施形態
について説明する。該熱交換器のフィンの作製方法は次
の通りである。即ち、リン酸クロメート処理を施したア
ルミニウム板の両面に、コロイダルシリカ液(日産化学
製スノーテックスO)と純水を重量比1:1で混合したも
のを、アルミニウム板の片面の塗布量が1g/m2となるよ
うにロールコートし、200℃で30分硬化させる。
Next, an embodiment of the heat exchanger according to the present invention will be described. The method for producing the fins of the heat exchanger is as follows. That is, a mixture of colloidal silica liquid (Nissan Chemical Snowtex O) and pure water at a weight ratio of 1: 1 on both surfaces of an aluminum plate subjected to a phosphoric acid chromate treatment was applied in an amount of 1 g on one side of the aluminum plate. / m 2 and cured at 200 ° C. for 30 minutes.

【0049】次に、コロイダルシリカ膜の上に片面ずつ
スパッタリング法で酸化チタン膜を形成する。このとき
の形成方法及び条件を上記実施例1と同様にし、酸化チ
タン膜の膜厚を0.3μmとする。そして、このコロイダ
ルシリカ膜と酸化チタン膜を形成したアルミニウム板を
切断、プレス加工することで所定のフィン形状にする。
図2は本実施形態の熱交換器の斜視図であり、図3は該
熱交換器の一部を拡大して示した断面図である。ここで
はフィン11は矩形状に形成されていて、多数枚のフィ
ン11に冷媒パイプ12が貫通して取り付けられてい
る。
Next, a titanium oxide film is formed on the colloidal silica film one by one by a sputtering method. The formation method and conditions at this time are the same as those in the first embodiment, and the thickness of the titanium oxide film is 0.3 μm. Then, the aluminum plate on which the colloidal silica film and the titanium oxide film are formed is cut and pressed into a predetermined fin shape.
FIG. 2 is a perspective view of the heat exchanger of the present embodiment, and FIG. 3 is a cross-sectional view showing a part of the heat exchanger in an enlarged manner. Here, the fins 11 are formed in a rectangular shape, and the refrigerant pipes 12 are attached to a large number of the fins 11 so as to pass therethrough.

【0050】図4は上記熱交換器を備えた空気調和機の
室内機の一例であり、その断面を示している。室内機本
体21の上部には吸気口21aが形成されており、そこ
から取り入れられた空気は先ず静電フィルター22によ
って塵埃が除去される。熱交換器10では冷媒パイプ1
2内を通る冷媒が空気より吸熱してこれを冷却する。そ
して、冷却された空気はシロッコファン23により本体
21の下部の吹出口21bから室内へ送出される。
FIG. 4 shows an example of an indoor unit of an air conditioner provided with the above heat exchanger, and shows a cross section thereof. An intake port 21a is formed in an upper portion of the indoor unit main body 21, and air taken in from the intake port 21a is first subjected to dust removal by an electrostatic filter 22. In the heat exchanger 10, the refrigerant pipe 1
The refrigerant passing through 2 absorbs heat from the air and cools it. Then, the cooled air is sent into the room by the sirocco fan 23 from the outlet 21b at the lower part of the main body 21.

【0051】熱交換器10にはブラックライト24が対
向して設けられており、これによって紫外線が照射され
る。この熱交換器10はフィン11にクロメート膜とコ
ロイダルシリカ膜を中間層として酸化チタン膜を形成し
ていることから、紫外線照射によって良好な親水性を有
する。
The heat exchanger 10 is provided with a black light 24 opposed thereto, and is irradiated with ultraviolet rays. Since the heat exchanger 10 has a fin 11 on which a titanium oxide film is formed using a chromate film and a colloidal silica film as an intermediate layer, the heat exchanger 10 has good hydrophilicity when irradiated with ultraviolet rays.

【0052】故に、フィン11同士の間隔が狭くなって
もその間には結露水が保持されないので、多数枚のフィ
ン11を設けることができ、それだけ熱交換効率が向上
して省エネ効果の大きいものとなる。また、この親水性
は長期間保たれるものであるから、紫外線の照射は断続
的に行うだけでよい。
Therefore, even if the interval between the fins 11 becomes narrow, dew condensation water is not retained between the fins 11, so that a large number of fins 11 can be provided. Become. In addition, since the hydrophilicity is maintained for a long period of time, the irradiation of ultraviolet rays may be performed only intermittently.

【0053】さらに、光触媒物質から成る触媒膜を担持
した熱交換器を空気調和機に用いると、光触媒物質によ
り空気中の臭いやNOxなどが分解されるので空気清浄
機能が付加され、また煙草のヤニなどの汚れが熱交換器
に付着しても分解されるのでメンテナンスが不要となる
ことが知られている。特に、本実施形態の熱交換器では
触媒活性が良好であることからこれらの効果が大いに得
られることになる。また、汚れが表面に付着しても自浄
作用により親水性は低下しない。
[0053] Furthermore, the use of heat exchangers carrying the catalyst film made of a photocatalytic material in the air conditioner, since smell and NO x in the air is decomposed by the photocatalytic material is added air cleaning function and tobacco It is known that even if dirt such as tar is attached to the heat exchanger, it is decomposed and maintenance is not required. Particularly, in the heat exchanger of the present embodiment, these effects are greatly obtained because the catalyst activity is good. Further, even if dirt adheres to the surface, the hydrophilicity does not decrease due to the self-cleaning action.

【0054】次に、本発明に係る浄化装置として浄水器
の一実施形態について説明する。この浄水器に備えられ
る浄化機能体の作製方法は次の通りである。即ち、リン
酸クロメート処理を施したアルミニウム板の両面に、ス
パッタリング法で酸化チタン膜を形成する。このときの
形成方法及び条件を上記実施例1と同様にし、酸化チタ
ン膜の膜厚を0.3μmとする。
Next, an embodiment of a water purifier as a purification device according to the present invention will be described. The method for producing the purifying function body provided in this water purifier is as follows. That is, a titanium oxide film is formed on both surfaces of an aluminum plate subjected to a phosphoric acid chromate treatment by a sputtering method. The formation method and conditions at this time are the same as those in the first embodiment, and the thickness of the titanium oxide film is 0.3 μm.

【0055】図5は上記浄化機能体の外観斜視図であ
る。酸化チタン膜を形成したアルミニウム板を切断して
所定の幅の帯状にし、その一部をプレス加工することで
波状にした(図中、波状アルミニウム板31)。そして、
この波状アルミニウム板31と残りのプレスしていない
アルミニウム板32とを交互に接着剤で張り合わせてハ
ニカムを形成し、浄化機能体30とする。
FIG. 5 is an external perspective view of the purifying function body. The aluminum plate on which the titanium oxide film was formed was cut into a band having a predetermined width, and a part of the band was pressed to form a wave (in the figure, a wave-shaped aluminum plate 31). And
The corrugated aluminum plate 31 and the remaining unpressed aluminum plate 32 are alternately adhered to each other with an adhesive to form a honeycomb.

【0056】図6は上記浄化機能体30を備えた浄水器
の構成概略図である。本体41内ではホルダー42によ
って浄化機能体30が保持されており、そこへ給水管4
3より水が送られる。この浄化機能体30にはブラック
ライト44によって紫外線が照射されており、光触媒物
質により水中の有機物やカルキ臭などが分解除去され
る。特に、この浄化機能体30はクロメート膜を中間層
として酸化チタン膜を形成したものであることから、触
媒活性は良好で分解作用の効果が大いに得られる。そし
て、浄化された水は送水管45より本体41外部へ送出
される。
FIG. 6 is a schematic structural view of a water purifier provided with the purifying function body 30. In the main body 41, the purifying function body 30 is held by a holder 42, and the water supply pipe 4
Water is sent from 3. The purifying function body 30 is irradiated with ultraviolet rays by the black light 44, and organic matter and odor in the water are decomposed and removed by the photocatalytic substance. In particular, since the purifying function body 30 is formed by forming a titanium oxide film using a chromate film as an intermediate layer, the catalytic activity is good and the effect of the decomposition action is greatly obtained. Then, the purified water is sent from the water pipe 45 to the outside of the main body 41.

【0057】尚、上述した本発明に係る実施例1乃至実
施例4と熱交換器及び浄化装置の実施形態において、シ
リカ膜の形成方法はスパッタリング法のほかに蒸着法や
CVD法を用いてもよい。蒸着法は、例えばSiO2を抵
抗加熱、又は電子ビーム照射により加熱して気化させ、
SiO2と対向する位置に設置した基体上にシリカ膜を形
成する。CVD法は、例えば酸素プラズマ中にモノシラ
ンガス(SiF4)を導入し、近傍に設置した基体上にシリ
カ膜を形成する。
In the above-described embodiments 1 to 4 of the present invention and the embodiments of the heat exchanger and the purifier, the silica film may be formed by a vapor deposition method or a CVD method in addition to the sputtering method. Good. In the vapor deposition method, for example, SiO 2 is heated by resistance heating or electron beam irradiation to be vaporized,
Forming a silica film on a substrate installed in SiO 2 and a position facing. In the CVD method, for example, a monosilane gas (SiF 4 ) is introduced into oxygen plasma, and a silica film is formed on a substrate provided in the vicinity.

【0058】また、酸化チタン膜の形成方法もスパッタ
リング法のほかに蒸着法やCVD法を用いてもよい。蒸
着法は、例えばTiO2を抵抗加熱、又は電子ビーム照射
により加熱して気化させ、TiO2と対向する位置に設置
した基体上に酸化チタン膜を形成する。CVD法は、例
えば加熱した基体上にチタンアルコキシド(TiO(C
3)4)ガスを導入して酸化チタン膜を形成する。
The titanium oxide film may be formed by a vapor deposition method or a CVD method other than the sputtering method. In the vapor deposition method, for example, TiO 2 is heated and vaporized by resistance heating or electron beam irradiation, and a titanium oxide film is formed on a substrate provided at a position opposed to TiO 2 . In the CVD method, for example, a titanium alkoxide (TiO (C
H 3 ) 4 ) gas is introduced to form a titanium oxide film.

【0059】また、クロメート膜としては、リン酸クロ
メートのほかクロミッククロメート膜でもよい。
The chromate film may be a chromate chromate film in addition to phosphoric acid chromate.

【0060】また、浄化装置の実施形態ではその一例と
して浄水器を説明したが、このほかにも空気清浄機や有
毒ガス除去装置などにも適用することができる。
Although the water purifier has been described as an example in the embodiment of the purifying apparatus, the present invention can be applied to an air purifier, a toxic gas removing apparatus, and the like.

【0061】[0061]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1から請求
項9の光触媒体では、金属製の基体と触媒膜との間に中
間層としてクロメート膜又はアルマイト膜又はシリカ膜
のいずれか、もしくはその複数が介在している。これに
よって、触媒膜では基体の金属の影響を受けることがな
いのでその触媒活性が損なわれず、良好な有機物の分解
作用や親水化作用が得られる。また、これらの中間層に
より光触媒体の耐食性を向上させることができ、長期間
の使用に対して信頼性の高いものとなる。
As described above, in the photocatalyst according to any one of claims 1 to 9, any one of a chromate film, an alumite film, and a silica film is provided as an intermediate layer between the metal substrate and the catalyst film. Several of them are interposed. As a result, the catalyst film is not affected by the metal of the substrate, so that its catalytic activity is not impaired, and a good organic substance decomposing and hydrophilizing action can be obtained. In addition, the corrosion resistance of the photocatalyst can be improved by these intermediate layers, and the photocatalyst has high reliability for long-term use.

【0062】また、請求項2及び請求項3と請求項5及
び請求項6の光触媒体は基体としてアルミニウムを用い
ている。故に、この光触媒体はコストが安く大量生産が
可能であり、また打ち抜きや曲げなどの加工が容易であ
る。
The photocatalysts according to the second, third, fifth, and sixth aspects use aluminum as the base. Therefore, this photocatalyst is inexpensive, can be mass-produced, and can be easily processed by punching and bending.

【0063】また、請求項7の光触媒体は表面粗度の大
きいコロイダルシリカ膜の上に触媒膜を形成しているこ
とから、触媒膜の表面積は大きくなる。従って、光触媒
物質による反応速度が早くなる。また、親水性も向上
し、それが長期間保たれる。
Further, in the photocatalyst according to the seventh aspect, since the catalyst film is formed on the colloidal silica film having a large surface roughness, the surface area of the catalyst film becomes large. Therefore, the reaction speed by the photocatalytic substance is increased. Also, the hydrophilicity is improved, and it is maintained for a long time.

【0064】また、請求項8の光触媒体ではシリカ膜を
スパッタリング法又は蒸着法又はCVD法により形成し
ているので、膜が広い範囲に均一な厚さで形成される。
故に、基体はシリカ膜によって保護されて高い耐食性を
有するものとなる。また、シリカ膜が薄い部分で触媒膜
が基体から直接影響を受け、触媒活性が低下するといっ
た不都合は生じない。
In the photocatalyst according to the eighth aspect, since the silica film is formed by a sputtering method, a vapor deposition method or a CVD method, the film is formed over a wide range with a uniform thickness.
Therefore, the substrate is protected by the silica film and has high corrosion resistance. Further, there is no disadvantage that the catalyst film is directly affected by the substrate in the portion where the silica film is thin, and the catalytic activity is reduced.

【0065】また、請求項9の光触媒体では触媒膜をス
パッタリング法又は蒸着法又はCVD法により形成して
いるので、膜が広い範囲に均一な厚さで形成される。故
に、膜厚の薄い部分で触媒活性が低下するといった不都
合は生じない。また、基体を高温にする必要がないこと
から、アルミニウムのように耐熱温度が低い金属を基体
に用いることができる。さらに、バインダーを使用して
いないので耐水性に優れた触媒膜となる。
Further, in the photocatalyst of the ninth aspect, since the catalyst film is formed by the sputtering method, the vapor deposition method or the CVD method, the film is formed with a uniform thickness over a wide range. Therefore, there is no inconvenience that the catalytic activity is reduced in the thin portion. Further, since the substrate does not need to be heated to a high temperature, a metal having a low heat-resistant temperature such as aluminum can be used for the substrate. Further, since no binder is used, a catalyst film having excellent water resistance is obtained.

【0066】請求項10の熱交換器ではフィンが良好な
親水性を長期間有することから、フィン間隔が狭くなっ
てもフィン同士の間に結露水が保持されることがないの
で、多数枚のフィンを設けることができる。故に、熱交
換器の熱交換効率が向上し、省エネ効果の大きいものと
なる。
In the heat exchanger according to the tenth aspect, since the fins have good hydrophilicity for a long period of time, even if the fin spacing becomes narrow, dew condensation water is not retained between the fins. Fins can be provided. Therefore, the heat exchange efficiency of the heat exchanger is improved, and the energy saving effect is large.

【0067】請求項11の浄化装置では浄化機能体が良
好な触媒活性を有するので、空気中や水中の臭いや有機
物を早く分解することができる。また、耐食性及び耐水
性に優れた光触媒体から成るので寿命の長いものとな
る。
In the purifying apparatus according to the eleventh aspect, since the purifying functional body has good catalytic activity, it is possible to quickly decompose odors and organic substances in the air and water. In addition, the photocatalyst body having excellent corrosion resistance and water resistance has a long life.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】RFマグネトロンスパッタ装置の概略構成図。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an RF magnetron sputtering apparatus.

【図2】本発明の熱交換器の一実施形態を示した斜視
図。
FIG. 2 is a perspective view showing an embodiment of the heat exchanger of the present invention.

【図3】上記熱交換器の一部を拡大して示した断面図。FIG. 3 is an enlarged sectional view showing a part of the heat exchanger.

【図4】上記熱交換器を備えた空気調和機の室内機の断
面図。
FIG. 4 is a cross-sectional view of an indoor unit of an air conditioner including the heat exchanger.

【図5】本発明の浄化装置に備えられる浄化機能体の外
観斜視図。
FIG. 5 is an external perspective view of a purification function body provided in the purification device of the present invention.

【図6】上記浄化機能体を備えた浄水器の構成概略図。FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a water purifier provided with the purification function body.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 真空室 2 基体 3 ターゲット 4 真空ポンプ 5 排気バルブ 6 バルブ 7 バルブ 8 電源 10 熱交換器 11 フィン 12 冷媒パイプ 21 室内機本体 21a 吸気口 21b 吹出口 22 静電フィルター 23 シロッコファン 24 ブラックライト 30 浄化機能体 31 波状アルミニウム板 32 アルミニウム板 41 浄水器本体 42 ホルダー 43 給水管 44 ブラックライト 45 送水管 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vacuum chamber 2 Substrate 3 Target 4 Vacuum pump 5 Exhaust valve 6 Valve 7 Valve 8 Power supply 10 Heat exchanger 11 Fin 12 Refrigerant pipe 21 Indoor unit main body 21a Inlet 21b Outlet 22 Electrostatic filter 23 Sirocco fan 24 Black light 30 Purification Functional body 31 Corrugated aluminum plate 32 Aluminum plate 41 Water purifier main body 42 Holder 43 Water supply pipe 44 Black light 45 Water supply pipe

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4F100 AA19A AA20C AA21C AA21D AA22A AB01B AB10B BA03 BA04 BA07 BA10B BA10C EH66C EH66D EJ69A GB51 JB02 JB05 JB07 JC00 JL01 JL02 JL08C JL08D JM01C JM02A JM02C JM02D 4G069 AA03 BA02A BA02B BA04A BA04B BA17 BA18 BA48A BB02A BB02B BC16A BC16B BC58A BC58B BD02A BD02B BD05A BD05B CA06 CA10 FA02 FB02 FB03  ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page F-term (reference) 4F100 AA19A AA20C AA21C AA21D AA22A AB01B AB10B BA03 BA04 BA07 BA10B BA10C EH66C EH66D EJ69A GB51 JB02 JB05 JB07 JC00 JL01 JL02 JL08C JL08MBA JA02JA02A BB02A BB02B BC16A BC16B BC58A BC58B BD02A BD02B BD05A BD05B CA06 CA10 FA02 FB02 FB03

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表面にクロメート膜を形成した金属を基
体としてその表面に光触媒物質から成る触媒膜を担持し
たことを特徴とする光触媒体。
1. A photocatalyst comprising a metal having a chromate film formed on its surface as a substrate and a catalyst film made of a photocatalyst substance carried on its surface.
【請求項2】 前記金属はアルミニウムであることを特
徴とする請求項1に記載の光触媒体。
2. The photocatalyst according to claim 1, wherein the metal is aluminum.
【請求項3】 表面にアルマイト膜を形成したアルミニ
ウムを基体としてその表面に光触媒物質から成る触媒膜
を担持したことを特徴とする光触媒体。
3. A photocatalyst comprising an aluminum substrate on which an alumite film is formed on its surface and a catalyst film made of a photocatalytic substance carried on its surface.
【請求項4】 金属又は表面にクロメート膜を有する金
属を基体としてその表面に形成されたシリカ膜の上に光
触媒物質から成る触媒膜を担持したことを特徴とする光
触媒体。
4. A photocatalyst wherein a catalyst film made of a photocatalytic substance is carried on a silica film formed on a surface of a metal or a metal having a chromate film on its surface as a substrate.
【請求項5】 前記金属はアルミニウムであることを特
徴とする請求項4に記載の光触媒体。
5. The photocatalyst according to claim 4, wherein the metal is aluminum.
【請求項6】 表面にアルマイト膜を形成したアルミニ
ウムを基体としてその表面に形成されたシリカ膜の上に
光触媒物質から成る触媒膜を担持したことを特徴とする
光触媒体。
6. A photocatalyst, comprising a catalyst film made of a photocatalytic substance supported on a silica film formed on an aluminum substrate having an alumite film formed on a surface thereof.
【請求項7】 前記シリカ膜はコロイダルシリカから形
成されたことを特徴とする請求項4乃至請求項6のいず
れかに記載の光触媒体。
7. The photocatalyst according to claim 4, wherein the silica film is formed of colloidal silica.
【請求項8】 前記シリカ膜はスパッタリング法又は蒸
着法又はCVD法により形成されたことを特徴とする請
求項4乃至請求項6のいずれかに記載の光触媒体。
8. The photocatalyst according to claim 4, wherein the silica film is formed by a sputtering method, an evaporation method, or a CVD method.
【請求項9】 前記光触媒物質は酸化チタンであって前
記触媒膜はスパッタリング法又は蒸着法又はCVD法に
より形成されたことを特徴とする請求項1乃至請求項8
のいずれかに記載の光触媒体。
9. The photocatalytic substance is titanium oxide, and the catalyst film is formed by a sputtering method, a vapor deposition method, or a CVD method.
The photocatalyst according to any one of the above.
【請求項10】 請求項1乃至請求項9のいずれかに記
載の光触媒体をフィンに用いたことを特徴とする熱交換
器。
10. A heat exchanger, wherein the photocatalyst according to claim 1 is used for a fin.
【請求項11】 請求項1乃至請求項9のいずれかに記
載の光触媒体を浄化機能体として用いたことを特徴とす
る浄化装置。
11. A purifying apparatus using the photocatalyst according to claim 1 as a purifying function.
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