JP2000090865A - 電子銃とその取り扱い方法 - Google Patents
電子銃とその取り扱い方法Info
- Publication number
- JP2000090865A JP2000090865A JP11191593A JP19159399A JP2000090865A JP 2000090865 A JP2000090865 A JP 2000090865A JP 11191593 A JP11191593 A JP 11191593A JP 19159399 A JP19159399 A JP 19159399A JP 2000090865 A JP2000090865 A JP 2000090865A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- module
- port
- gun
- filament
- load lock
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J5/00—Details relating to vessels or to leading-in conductors common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J5/50—Means forming part of the tube or lamps for the purpose of providing electrical connection to it
- H01J5/52—Means forming part of the tube or lamps for the purpose of providing electrical connection to it directly applied to or forming part of the vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/248—Components associated with high voltage supply
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/50—Repairing or regenerating used or defective discharge tubes or lamps
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W30/00—Technologies for solid waste management
- Y02W30/50—Reuse, recycling or recovery technologies
- Y02W30/82—Recycling of waste of electrical or electronic equipment [WEEE]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
と、その交換方法とを提供する。 【解決手段】電子銃GNは、電子銃の壁TPを通り抜け
る供給手段FTと、上記供給手段に接続する前記電子銃
に格納される電子ビーム発生手段とを有する電子銃であ
って、前記電子ビーム発生手段と前記銃の壁のポートと
を格納するフィラメントモジュールFMを備え、前記ポ
ートは、前記ポートを通して前記供給手段を取り外し、
前記供給手段と共に前記フィラメントモジュールを取り
外す。
Description
ステムに関するもので、特に電極、即ちフィラメントや
カソードなどのような電子ビーム投影システムの部品
を、交換する方法と装置に関するものである。
ermionic Cathode Heater”には、製造用カソードと、
伝導性環状シリンダーの内側に直線状ワイヤを設けたカ
ソードヒーターを含む電子ビームとが、書かれている。
そのシリンダは、その直線状ワイヤを1方向に流れてシ
リンダに戻る電流によって加熱されるカソードの内部
に、設けられている。カソードは、焼結タングステンの
ような導電性材料で、構成される。
tron Beam Heated Thermionic CAthode”には、電気的
な加熱板のような適当な加熱手段で、その背面からの低
レベル電子放射に充分な温度まで初期に加熱される、電
子ビームジェネレーターなどが、書かれている。維持電
圧がカソードと加熱板との間に印加され、カソードから
加熱板までの間の空間を通る“背面電子ビーム”という
電子流を、引き出している。背面電子ビームは、その近
傍に設けられているカソードの温度が、要求される放射
温度に上昇するのに十分な温度まで、加熱板を加熱す
る。この加熱プロセスは、その時点で終了する。という
のは、この加熱は、要求される放射温度が達成されるま
での初期にだけ、用いられるからである。
考えるような、EBPS電子鏡筒COLの上部に取り付
けられた電子銃GNが設けられている電子ビーム投影シ
ステム(EBPS)の、一部を表わしている。図1A
は、図4に示す一次フィラメントFILを囲む、フィラ
メントモジュールFMを示しており、一次フィラメント
FILは一次電子ビームを発生する。一次フィラメント
FILは、重量が軽く、比較的寿命の短いワイヤででき
ている。フィラメントモジュールFMの一次フィラメン
トFILは、フィラメントモジュールFMの下方で支持
されているカソードCAの背面に、一次電子ビームを放
射する。カソードCAの背面に入射するエネルギーは、
カソードCAによって電子ビームを発生する原因とな
る。フィラメントFILで発生した一次電子ビームから
の、カソードCAの背面の表面に入射するエネルギー
は、カソードCAを刺激して2次電子ビームとなる電子
を放射する、加熱の原因となる。
る。このようなエレメントには、一次電子ビームエレメ
ントがカソードからの電子の放射にエネルギーを与える
ための電子ビーム衝撃加熱に用いられるフィラメント
が、設けられている。カソードにエネルギーを与えるた
めに用いられるフィラメントの場合は、小さなフィラメ
ントは、そのエレメントの定期交換を強いる短寿命であ
る。本発明によれば、フィラメントやカソードからなる
エレメントは、新しい手順によって置き換えられる。こ
の手順には、不要なガスをシステムに導入することな
く、あるいは、そのような不要なガスの導入を最小限に
留める、フィラメントFILのようなエレメントを有す
るフィラメントモジュールFMの交換が、伴う。
を有する天板TPとを備える容器が、設けられている。
高電圧供給コネクタFTは、孔FHから挿入される。コ
ネクタFTは、高電圧ワイヤケーブルWCにつながり、
コネクタFTは、貫通ボルトBTで銃GNの天板TPに
結び付けられ、貫通ボルトBTは、コネクタFTの基板
上の取り付けフランジFLを通り、天板TPの貫通孔に
抜けている。
とが、設けられている。電子鏡筒COLの天板CTに
は、二次電子ビームが銃GNから筒壁CWで定義される
電子鏡筒COLに向かうための、E−beam開口AP
が、設けられている。天板TPの底面への固定は、取り
付け環MRに連結している2つの絶縁体IN(1つ或い
は複数の絶縁体であっても構わない)で示され、取り付
け環MRは、絶縁体INの下側の表面に固定される。取
り付け環MRは、供給孔FHと開口APとに同軸上に並
ぶように示されている取り付け孔MHを、有している。
ネジSCで取り付け環MRの底面に、その上面が銃GN
の底面に露出する状態で、締め付けられている。フィラ
メントモジュールFMの上面には、ハードワイヤHWで
供給コネクタFTの底面接続端子に電気的に接続する、
多数の接点が設けられている。取り付け環MRの底面へ
の固定は、カソード環CRに連結している2つ以上の絶
縁体IL(1つ或いは複数の絶縁体であっても構わな
い)で示され、カソード環CRは、絶縁体ILの下側の
表面に更に多くのネジSCで固定される。カソード環C
Rは、供給孔FHと開口APとに同軸上に並ぶように示
されているカソード孔CHを、有している。
の上部に、その上面が銃GNの底面に露出する状態で、
固定される。フィラメントモジュールFMの上面には、
ハードワイヤHWで供給コネクタFTの底面接続端子と
電気的に接続する、多数の接点が設けられている。図1
Bは、図1Aの装置の分解図で、分解されたいくつかの
部品が、分解される前にあった場所を表わす破線で、示
されている。フィラメントモジュールFMを交換するに
は、図1Bに示すように、銃GNを電子鏡筒COLから
取り外し、そして、ネジSCを取り外し、ハードワイヤ
HWがフィラメントモジュールFMの上から取り外さ
れ、フィラメントモジュールFMが銃GNから分離され
て交換できる。これは、雰囲気に曝される銃GNの内側
の空間に起因し、更に、開口APを雰囲気条件に曝すき
っかけとなるという大きな問題があり、故に、雰囲気ガ
スが開口APを通って、電子鏡筒COLに入ることもあ
る。
は、本発明の開発中だったが、フィラメントモジュール
FMの交換が必要だった。この交換は、交換の必要のあ
るフィラメントモジュールFMを、取り扱いやすくする
ために、電子鏡筒COLから図1Aに示す電子銃GNを
取り外す作業である。しかし、銃GNの取り外しは、銃
GNの真空を破ること、また可能なら電子鏡筒COLの
真空を破ることを、要求することがある。そのようなプ
ロセスの結果は、交換作業の受け入れがたい長時間化を
招くという問題点となり、これは、そのような不要なガ
スを鏡筒COLと銃GNに導入することによるシステム
への妨害の原因となる。また、交換時間が長すぎると、
その内部表面を雰囲気に曝した後に、電子鏡筒COLを
安定した真空中に再設置することが、必要になる事があ
るという問題点もある。
換作業が短時間なフィラメントモジュールと、その交換
方法とを提供することを、目的とする。
子銃の壁を通り抜ける供給手段と、上記供給手段に接続
する前記電子銃に格納される電子ビーム発生手段とを有
する電子銃であって、前記電子ビーム発生手段と前記銃
の壁のポートとを格納するフィラメントモジュールを備
え、前記ポートは、前記ポートを通して前記供給手段を
取り外し、前記供給手段と共に前記フィラメントモジュ
ールを取り外すためのものであることを特徴とする。
ジュールにはフィラメントが格納され、前記フィラメン
トモジュールは前記ポートを通して取り扱いと取り外し
とが可能であることを特徴とする。
手段は、フィラメントモジュールに格納され、前記フィ
ラメントモジュールは、前記銃に接続するチャンバー
に、前記ポートを通して取り扱いと取り外しが可能であ
り、前記フィラメントモジュールの取り外し中は、真空
を破る前記チャンバーが、汚染ガスの前記銃への侵入を
防止するための手段を更に有することを特徴とする。
手段は、前記ポートを通して取り扱いと取り外しとが可
能なビーム発生エレメントモジュールに格納され、前記
フィラメントモジュールと前記供給手段とは、素早く自
動的に電気的に接続することを特徴とする。
手段は、ビーム発生手段に格納され、前記フィラメント
モジュールは、前記ポートを通して、取り扱いと取り外
しとが可能で、前記フィラメントモジュールの取り外し
中に、前記銃の真空を破るための手段を更に有し、前記
フィラメントモジュールと前記供給手段とは、素早く自
動的に電気的に接続することを特徴とする。
手段は、前記ポートを通して取り扱いと取り外しとが可
能な前記フィラメントモジュールに格納され、前記ポー
トを取り扱うために、前記銃の上にロードロックが更に
設けられることを特徴とする。
手段は、前記ポートを通して取り扱いと取り外しとが可
能な前記フィラメントモジュールに格納され、前記フィ
ラメントモジュールと前記供給手段とは、素早く自動的
に電気的に接続し、前記ポートを取り扱うために、前記
銃の上にロードロックが更に設けられることを特徴とす
る。
手段は、フィラメントモジュールに格納され、前記フィ
ラメントモジュールは、前記ポートを通して取り扱いと
取り外しとが可能で、前記ポートを取り扱うために、前
記銃の上にロードロックが更に設けられ、前記ロードロ
ックのバルブ手段の間に、開閉孔を更に設けることを特
徴とする。
手段は、カソードの背面に向けて一次電子ビームを発生
するフィラメントを備え、前記カソードは、前記電子ビ
ーム発生手段と電子ビーム鏡筒の中の開口との間に、設
けられ、前記カソードは、前記電子ビーム鏡筒の内部に
2次電子ビームを供給するために、設けられ、前記前記
電子ビーム発生手段は、前記ポート通して取り扱いと取
り外しとが可能なフィラメントモジュールに、格納さ
れ、前記フィラメントモジュールと前記供給手段とは、
素早く自動的に電気的接続され、前記ポートの取り扱い
のために、前記銃の上にロードロックが更に設けられ、
前記ロードロックのバルブエレメントの間に、開閉孔が
更に設けられることを特徴とする。
生手段は、前記ポートを通して取り扱いと取り外しとが
可能なフィラメントモジュールに格納される、フィラメ
ントを備え、前記フィラメントモジュールと前記供給手
段とは、素早く自動的に電気的に接続し、前記ポートを
取り扱うために、前記銃の上にロードロックを更に設
け、前記ロードロックの複数のバルブ手段の間に、開閉
孔を更に設けることを特徴とする。
を通り抜ける供給手段によって、前記電子銃からエレメ
ントを取り外す方法で、前記エレメントは前記供給手段
に接続する前記銃の中に格納されている方法であって、
前記供給手段を取り外すために、前記銃の壁に取り扱い
ポートを設け、前記ポートを通して前記供給手段を取り
外し、前記取り扱いポートを通して、前記供給手段でフ
ィラメントモジュールを取り外すことを特徴とする。
を通して取り扱いと取り外しとが可能なモジュールに、
前記エレメントを格納することを含むことを特徴とす
る。請求項13の取り扱い方法は、前記ポートを通して
取り扱いと取り外しとが可能なモジュールに、前記エレ
メントを格納し、前記モジュールの取り外し中は、前記
銃の真空を破ることを含むことを特徴とする。
を通して取り扱いと取り外しとが可能なモジュールに、
前記エレメントを格納し、前記モジュールと前記供給手
段とは、素早く自動的に電気的に接続することを含むこ
とを特徴とする。
を通して取り扱いと取り外しとが可能なモジュールに、
前記エレメントを格納し、前記モジュールの取り外し中
は、前記銃の真空を破り、前記ポートを取り扱うため
に、前記銃の上に設けられるロードロックを操作するこ
とを含むことを特徴とする。
を通して取り扱いと取り外しとが可能なモジュールに、
前記エレメントを格納し、前記ポートを取り扱うため
に、前記銃の上に設けられるロードロックを操作するこ
とを含むことを特徴とする。
を通して取り扱いと取り外しとが可能なモジュールに、
前記エレメントを格納し、前記モジュールと前記供給手
段とは、素早く自動的に電気的に接続し、前記ポートを
取り扱うために、前記銃の上に設けられるロードロック
を操作することを含むことを特徴とする。
を通して取り扱いと取り外しとが可能なモジュールに、
前記エレメントを格納し、前記ポートを取り扱うため
に、前記銃の上に設けられるロードロックを操作し、前
記ロードロックの複数のバルブ手段の間に設けられる開
閉孔を、操作することを含むことを特徴とする。
ントは、カソードの背面に向かって一次電子を発生する
フィラメントを有し、前記カソードは、前記エレメント
と電子ビーム鏡筒の中の開口との間に、設けられ、前記
カソードは、前記電子ビーム鏡筒の中に2次電子を発生
するために、設けられ、前記ポートを通して取り扱いと
取り外しとが可能なモジュールに、前記エレメントを格
納し、前記モジュールと前記供給手段とは、素早く自動
的に電気的に接続し、前記ポートを取り扱うために、前
記銃の上に設けられるロードロックを操作し、前記ロー
ドロックの複数のバルブ手段の間に設けられる開閉孔
を、操作することを含むことを特徴とする。
ントは、フィラメント手段を備え、前記ポートを通して
取り扱いと取り外しとが可能なモジュールに、前記エレ
メントを格納し、前記フィラメントモジュールと前記供
給手段とは、素早く自動的に電気的に接続し、前記ポー
トを取り扱うために、前記銃の上に設けられるロードロ
ックを操作し、前記ロードロックの複数のバルブ手段の
間に設けられる開閉孔を、操作することを含むことを特
徴とする。
置は、フィラメントを含んでおり、フィラメントは一次
電子を発生し、1次電子はカソードを加熱し、カソード
は電子ビーム投影システムの鏡筒に向かう高エネルギー
2次電子を発生する。本発明で取上げる課題は、必要な
ときに、システムの真空を破ることなく、電子ビーム鏡
筒のフィラメントのような部品を、交換しなければなら
ないということである。
り外さずに、電子ビーム発生コンポーネントのようなエ
レメントを、電子銃から取り外したり、取り付けたり、
できる方法と装置が提供される。電子ビーム発生コンポ
ーネントは、フィラメントやカソードエレメントモジュ
ールのような装置である。供給コネクタは銃の中のコネ
クタ部から取り外され、そして、そのエレメントモジュ
ールがコネクタ部から取り外される。銃の上部からの供
給エレメントの取り外しは、そのモジュールの取り扱い
を容易にする。そのエレメントは、供給エレメントを取
り外す事で容易に開く開口を通して、取り外される。そ
して、そのエレメントは、銃から簡単に持ち上げられ、
新しいエレメントが取り付けられる。素早い接続を容易
にするために、そのエレメントモジュールは、支持板と
の全ての電気的接続が自動にされるように、電子銃に取
り付けられる。
クはコネクタ部の上方に設けられ、銃の真空が破られる
事を防止している。供給エレメントとロードロックチャ
ンバーとの間のベローズは、銃が周辺の雰囲気ガスに露
出することなく、その供給エレメントの取り外しを容易
にしている。図2Aと2Bは、それぞれ図1Aと1Bの
変形であるが、本発明の第1実施形態の部分的で模式的
な引き上げ断面図である。これは図1Aと1Bの問題
を、図4に示すフィラメントが交換の時期に来ていると
き、ドライ窒素ガスを銃に流入させながらフィラメント
モジュールを交換することで、解決している。
部分的で模式的な引き上げ断面図で、フィラメントモジ
ュールを交換するために、銃の真空を破る必要をなくし
ている。この場合、ロードロックの供給部の上の天板に
ある銃の上方に、電子銃を延長して付け足す。ロードロ
ックには、ガス問題を低減するために、フィラメントな
どを格納するフィラメントモジュールを交換している
間、ずっと動作し続けるバルブとベローズとが、設けら
れている。
ィラメントモジュールFMの詳細な断面図である。図2
A、2Bと3A、3Bは、本発明の2つの実施形態に従
う、電子ビーム投影システム(EBPS)の一部分を示
しており、これらの実施例には、EBPS電子鏡筒CO
Lの上に取り付けられた電子銃GNが、設けられてい
る。EBPS電子鏡筒COLは、図1Aの変形である。
本発明に従えば、図2A、2Bと3A、3Bに示すよう
に、電子銃GNを鏡筒COLから取り外さずに、電子銃
GNからフィラメントモジュールFMを取り外し、また
取り付けられる、様々な方法と装置とが提供される。
メントモジュールFMは、支持板とフィラメントとへの
全ての電気的接続が、ハンダ接続などを必要とせず自動
的に行われるように、電子銃GNに取り付けられる。図
2B、3Bに示すように、高電圧供給コネクタFTの底
面には、従来技術から容易に理解できるように、接続パ
ッドXPに重なる標準バネ接点XSが、設けられてい
る。 <第1実施形態>図2Aと2Bとに示す本発明の第1実
施形態は、従来技術から容易に理解できるように、図4
に示す使用中のフィラメントFILが、電子銃GNにド
ライ窒素ガスを最初に入れる交換時期に来ているとき
に、フィラメントモジュールFMを取り替えることを、
表わしている。
が高電圧供給コネクタFTの下に直接位置しているの
で、図2Aと2Bの実施例では、高電圧供給コネクタF
TとフィラメントモジュールFMとは、供給孔FHから
取り外され、交換のためのフィラメントモジュールFM
の取り扱いを可能にしている。ドライ窒素ガス流(窒素
ガス注入口は鏡筒COLの下方に設けられているので、
図示しない)は、このプロセスが供給孔FHを通して銃
GN全体から雰囲気の空気を遮断している間、出続け
る。そして、古くなったフィラメントモジュールFM
は、取り外され、新しいフィラメントモジュールFMが
取り付けられる。高電圧供給コネクタFTは再取り付け
されて、そのフィラメントモジュールFMと自動的に接
続する。窒素ガス流が停止され、電子銃GNは高真空ま
で排気される。このプロセスの間、電子銃GNは、電子
鏡筒COLからは取り外されない。
システム(EBPS)を表わしており、従来と同じよう
にEBPS電子鏡筒COLの上に設けられる電子銃GN
が、設けられている。電子銃GNは、円筒壁GWと高電
圧供給コネクタFTの挿入用の供給孔FHとが設けられ
ている容器を、有している。高電圧供給コネクタFT
は、高電圧ワイヤケーブルWCに接続し、高電圧供給コ
ネクタFTはボルトBTで電子銃GNの天板TP上に、
固定される。
Wとが、設けられている。電子鏡筒COLの天板CTに
は、電子ビームが電子銃GNのカソードCAから電子鏡
筒COLの内部に向かうためのEビーム開口APが、設
けられている。電子銃GNの天板TPの底面への固定
は、取り付け環MR'に連結する2つの絶縁体INによ
ってなされ、取り付け環MR'は絶縁体INの下部面に
固定されている。環MR'は、電子銃GNの内部でフィ
ラメントモジュールFMを適切な位置に並べるアライメ
ントフランジAFによって、供給孔FHとEビーム開口
APとに対して同軸上に並べられる、取り付け孔MHを
有している。
ード取り付け環CRに連結する2つの下部絶縁体ILに
よってなされ、カソード取り付け環CRは絶縁体ILの
下側の面にネジSCで固定される。環CRは、供給孔F
HとEビーム開口APとに対して同軸上にアライメント
フランジによって並べられる取り付け孔を、有してお
り、アライメントフランジは、カソード取り付け環CR
上のカソードCAを電子銃GNの内部の適切な位置に収
納する。カソードCAの上部は、図4に示すフィラメン
トモジュールFMのフィラメントFILからの一次電子
ビームによって、活性化される位置にある。
ールFMは、取り付け環MR'の表面にアライメントフ
ランジAFによって形成されるアニュラー環に、載置さ
れる。従って、フィラメントモジュールFMを取り付け
環MR'に結び付けるのに、ネジは必要ない。モジュー
ルFMには、電子銃GNの内部に囲われるチャンバーに
露出する上面が、ある。フィラメントモジュールFMの
上面には、高電圧供給コネクタFTの底でスプリングコ
ネクタXSに短時間で電気的に接続する、多数の接点が
設けられている。電気接点は、カソードCAを活性化す
る一次電子ビームの発生用に、フィラメントFILに電
気エネルギーを供給する。
FMを交換するために、ボルトBTが取り外され、そし
て、高電圧供給コネクタFTが電子鏡筒COLから持ち
上げられる。そして、フィラメントモジュールFMは取
り外され、新しいフィラメントモジュールFMが短時間
で取り付けられる;また、数秒という短時間で、高電圧
供給コネクタFTが電子銃GNの上に再取り付けされ
る。 <第2実施形態>本発明の第2実施形態を図3Aと3B
とに示す。この実施形態では、電子銃GNの真空を破っ
てフィラメントモジュールFMを交換する必要がない。
この場合、電子銃GNが、天板TPの上の電子銃GNの
上方で、且つ、ロードロックLLの供給孔の上方で、上
側に拡張され、ロードロックLL側のバルブSVを通す
フィラメントモジュールFMの交換用に、ロードロック
LLの内側に置かれた通常の真空装置(図示せず)が、
用いられる。ロードロックチャンバーは、以下に述べる
ように、ロードロックLLの横と底の円形ゲートバルブ
SVとLVとによって閉じられる、円形断面部を有す
る。
が交換時期になると、真空装置が働いて、電子銃GNか
らフィラメントモジュールFMを引っ込め、そして、真
空装置が働いて、フィラメントモジュールFMを真空に
なっているロードロックLLの中まで移動する。ロード
ロックLLと電子銃GNとの間のバルブLVが閉じて、
ロードロックLLが開かれる。そして、フィラメントモ
ジュールFMが、ロードロックLLからロードロックL
LのバルブSVを通して、取り除かれる。置き換えられ
たフィラメントモジュールFMは、高真空まで引かれた
ロードロックLLの中に、置かれる。電子銃GNとロー
ドロックLLとの間のバルブLVが開いて、マニピュレ
ーターが使われて、新しいフィラメントモジュールFM
を電子銃GNに取り付ける。フィラメントモジュールF
Mとの全ての電気的接続は自動なので、本実施例によっ
て、銃の真空を破ったり取り除く必要がない。ロードロ
ックLLには、ロードロックLLによるチャンバーの真
空引き用の真空ポートVが、設けられている。バルブS
VとUVとは、従来のゲートやシャッタータイプのバル
ブ(それぞれ真空ポートVの横と下方に設けられてい
る)で、これらは、移動可能な円形板を有する。移動可
能な円形板は、ロードロックチャンバーの開口を横切っ
て移動でき、ロードロックチャンバーの入り口の環状開
口を閉じる。従来のシャッターバルブを模式図で示す。
ントモジュールFMを、図4に詳しく示す。モジュール
FMは、2つの支持板から構成され、1つめの板PL1
は図4の上側にあり、2つめの板PL2はPL1の下方
にある。板PL1とPL2とは、高電圧電気絶縁体I
N'で分離されている。高電圧電気絶縁体IN'は、カソ
ードCAを活性化する一次電子ビームを発生するのに充
分でなければならないフィラメント加熱電圧に、耐えら
れる。絶縁体IN'はまた、板PL1とPL2とを(図
示の簡略化のために図示していない従来の固定手段によ
って)固定している。板PL1とPL2とへの取り付け
は、それぞれフィラメント支持用(取り付け用)の柱P
1とP2の中心端である。柱P1とP2とは、貫通ネジ
SCによって板PL1とPL2とに、それぞれ固定さ
れ、貫通ネジSCは板PL1とPL2の下面の対向孔に
固定されている。柱P1は、電子銃GN内の真空に用い
られている高電圧での電子の放電を、防止するのに十分
な距離だけ離れて、板PL2のスルーホールTHを通っ
ている。フィラメントFILは、フィラメントFILの
一端が柱P1とP2とのそれぞれにつながるように、柱
P1とP2の末端に取り付けられている。この構造によ
り、フィラメントモジュールFMは、分離された自己内
蔵エレメントになっている。
図3Aと3Bとに示す。フランジFLは、ベローズシー
ルBE(当業者に分かりやすいように、模式図で示し
た)で、ロードロックLLの天板TLと、つながってい
る。ベローズシールBEは、高電圧供給コネクタFT’
がその取り付けられた位置から電子銃GNの真空を破ら
ずに取り外されることを、可能にしている。
がマニピュレータ装置によってフィラメントモジュール
FMを取り除くために、持ち上げられた位置にあるとき
に、フィラメントモジュールFMの取り扱いを容易にす
るために、バルブSVは、ロードロックLLの横に設け
られている。マニピュレータ装置は、モジュールFMを
取上げて、供給孔FHとバルブSVとを通してフィラメ
ントモジュールFMを取り除ける。マニピュレータ(図
示せず)とバルブのシーケンス制御とロードロックLL
への真空の適用とによって、電子銃GNの真空を破った
状態でのフィラメントモジュールFMの取り外しと交換
とが、可能になっている。
FMは影像で描かれており、一部が取り除かれている
が、下方バルブLVが閉じた後、ロードロックLL内に
一時的に残っている。この設計は、フィラメントの平均
交換時間(MTR)を劇的に低減するので、好ましい。
抜ける供給手段と、上記供給手段に接続する前記電子銃
に格納される電子ビーム発生手段とを有する電子銃であ
って、前記電子ビーム発生手段と前記銃の壁のポートと
を格納するフィラメントモジュールを備え、前記ポート
は、前記ポートを通して前記供給手段を取り外し、前記
供給手段と共に前記フィラメントモジュールを取り外す
ためのものであることを特徴とする。従って、前記フィ
ラメントモジュールの交換時間を、短縮できる。
ジュールにはフィラメントが格納され、前記フィラメン
トモジュールは前記ポートを通して取り扱いと取り外し
とが可能であることを特徴とする。従って、前記フィラ
メントモジュールの交換時間を、短縮できる。
手段は、フィラメントモジュールに格納され、前記フィ
ラメントモジュールは、前記銃に接続するチャンバー
に、前記ポートを通して取り扱いと取り外しが可能であ
り、前記フィラメントモジュールの取り外し中は、真空
を破る前記チャンバーが、汚染ガスの前記銃への侵入を
防止するための手段を更に有することを特徴とする。従
って、前記汚染ガスによって前記銃が傷まない。
手段は、前記ポートを通して取り扱いと取り外しとが可
能なビーム発生エレメントモジュールに格納され、前記
フィラメントモジュールと前記供給手段とは、素早く自
動的に電気的に接続することを特徴とする。従って、前
記フィラメントモジュールの交換時間を、短縮できる。
手段は、ビーム発生手段に格納され、前記フィラメント
モジュールは、前記ポートを通して、取り扱いと取り外
しとが可能で、前記フィラメントモジュールの取り外し
中に、前記銃の真空を破るための手段を更に有し、前記
フィラメントモジュールと前記供給手段とは、素早く自
動的に電気的に接続することを特徴とする。従って、前
記フィラメントモジュールの交換時間を、短縮できる。
手段は、前記ポートを通して取り扱いと取り外しとが可
能な前記フィラメントモジュールに格納され、前記ポー
トを取り扱うために、前記銃の上にロードロックが更に
設けられることを特徴とする。従って、前記フィラメン
トモジュールの交換時間を、短縮できる。
手段は、前記ポートを通して取り扱いと取り外しとが可
能な前記フィラメントモジュールに格納され、前記フィ
ラメントモジュールと前記供給手段とは、素早く自動的
に電気的に接続し、前記ポートを取り扱うために、前記
銃の上にロードロックが更に設けられることを特徴とす
る。従って、前記フィラメントモジュールの交換時間
を、短縮できる。
手段は、フィラメントモジュールに格納され、前記フィ
ラメントモジュールは、前記ポートを通して取り扱いと
取り外しとが可能で、前記ポートを取り扱うために、前
記銃の上にロードロックが更に設けられ、前記ロードロ
ックのバルブ手段の間に、開閉孔を更に設けることを特
徴とする。従って、前記フィラメントモジュールの交換
時間を、短縮できる。
手段は、カソードの背面に向けて一次電子ビームを発生
するフィラメントを備え、前記カソードは、前記電子ビ
ーム発生手段と電子ビーム鏡筒の中の開口との間に、設
けられ、前記カソードは、前記電子ビーム鏡筒の内部に
2次電子ビームを供給するために、設けられ、前記前記
電子ビーム発生手段は、前記ポート通して取り扱いと取
り外しとが可能なフィラメントモジュールに、格納さ
れ、前記フィラメントモジュールと前記供給手段とは、
素早く自動的に電気的接続され、前記ポートの取り扱い
のために、前記銃の上にロードロックが更に設けられ、
前記ロードロックのバルブエレメントの間に、開閉孔が
更に設けられることを特徴とする。従って、前記フィラ
メントモジュールの交換時間を、短縮できる。
生手段は、前記ポートを通して取り扱いと取り外しとが
可能なフィラメントモジュールに格納される、フィラメ
ントを備え、前記フィラメントモジュールと前記供給手
段とは、素早く自動的に電気的に接続し、前記ポートを
取り扱うために、前記銃の上にロードロックを更に設
け、前記ロードロックの複数のバルブ手段の間に、開閉
孔を更に設けることを特徴とする。従って、前記フィラ
メントモジュールの交換時間を、短縮できる。
を通り抜ける供給手段によって、前記電子銃からエレメ
ントを取り外す方法で、前記エレメントは前記供給手段
に接続する前記銃の中に格納されている方法であって、
前記供給手段を取り外すために、前記銃の壁に取り扱い
ポートを設け、前記ポートを通して前記供給手段を取り
外し、前記取り扱いポートを通して、前記供給手段でフ
ィラメントモジュールを取り外すことを特徴とする。従
って、前記フィラメントモジュールの交換時間を、短縮
できる。
を通して取り扱いと取り外しとが可能なモジュールに、
前記エレメントを格納することを含むことを特徴とす
る。従って、前記フィラメントモジュールの交換時間
を、短縮できる。
を通して取り扱いと取り外しとが可能なモジュールに、
前記エレメントを格納し、前記モジュールの取り外し中
は、前記銃の真空を破ることを含むことを特徴とする。
従って、前記フィラメントモジュールの交換時間を、短
縮できる。
を通して取り扱いと取り外しとが可能なモジュールに、
前記エレメントを格納し、前記モジュールと前記供給手
段とは、素早く自動的に電気的に接続することを含むこ
とを特徴とする。従って、前記フィラメントモジュール
の交換時間を、短縮できる。
を通して取り扱いと取り外しとが可能なモジュールに、
前記エレメントを格納し、前記モジュールの取り外し中
は、前記銃の真空を破り、前記ポートを取り扱うため
に、前記銃の上に設けられるロードロックを操作するこ
とを含むことを特徴とする。従って、前記フィラメント
モジュールの交換時間を、短縮できる。
を通して取り扱いと取り外しとが可能なモジュールに、
前記エレメントを格納し、前記ポートを取り扱うため
に、前記銃の上に設けられるロードロックを操作するこ
とを含むことを特徴とする。従って、前記フィラメント
モジュールの交換時間を、短縮できる。
を通して取り扱いと取り外しとが可能なモジュールに、
前記エレメントを格納し、前記モジュールと前記供給手
段とは、素早く自動的に電気的に接続し、前記ポートを
取り扱うために、前記銃の上に設けられるロードロック
を操作することを含むことを特徴とする。従って、前記
フィラメントモジュールの交換時間を、短縮できる。
を通して取り扱いと取り外しとが可能なモジュールに、
前記エレメントを格納し、前記ポートを取り扱うため
に、前記銃の上に設けられるロードロックを操作し、前
記ロードロックの複数のバルブ手段の間に設けられる開
閉孔を、操作することを含むことを特徴とする。従っ
て、前記フィラメントモジュールの交換時間を、短縮で
きる。
ントは、カソードの背面に向かって一次電子を発生する
フィラメントを有し、前記カソードは、前記エレメント
と電子ビーム鏡筒の中の開口との間に、設けられ、前記
カソードは、前記電子ビーム鏡筒の中に2次電子を発生
するために、設けられ、前記ポートを通して取り扱いと
取り外しとが可能なモジュールに、前記エレメントを格
納し、前記モジュールと前記供給手段とは、素早く自動
的に電気的に接続し、前記ポートを取り扱うために、前
記銃の上に設けられるロードロックを操作し、前記ロー
ドロックの複数のバルブ手段の間に設けられる開閉孔
を、操作することを含むことを特徴とする。従って、前
記フィラメントモジュールの交換時間を、短縮できる。
ントは、フィラメント手段を備え、前記ポートを通して
取り扱いと取り外しとが可能なモジュールに、前記エレ
メントを格納し、前記フィラメントモジュールと前記供
給手段とは、素早く自動的に電気的に接続し、前記ポー
トを取り扱うために、前記銃の上に設けられるロードロ
ックを操作し、前記ロードロックの複数のバルブ手段の
間に設けられる開閉孔を、操作することを含むことを特
徴とする。従って、前記フィラメントモジュールの交換
時間を、短縮できる。
Claims (20)
- 【請求項1】電子銃の壁を通り抜ける供給手段と、上記
供給手段に接続する前記電子銃に格納される電子ビーム
発生手段とを有する電子銃であって、 前記電子ビーム発生手段と前記銃の壁のポートとを格納
するフィラメントモジュールを備え、 前記ポートは、前記ポートを通して前記供給手段を取り
外し、前記供給手段と共に前記フィラメントモジュール
を取り外すためのものであることを特徴とする電子銃。 - 【請求項2】前記フィラメントモジュールにはフィラメ
ントが格納され、 前記フィラメントモジュールは前記ポートを通して取り
扱いと取り外しとが可能であることを特徴とする請求項
1の電子銃。 - 【請求項3】前記電子ビーム発生手段は、フィラメント
モジュールに格納され、 前記フィラメントモジュールは、前記銃に接続するチャ
ンバーに、前記ポートを通して取り扱いと取り外しが可
能であり、 前記フィラメントモジュールの取り外し中は、真空を破
る前記チャンバーが、汚染ガスの前記銃への侵入を防止
するための手段を更に有することを特徴とする請求項1
の電子銃。 - 【請求項4】前記電子ビーム発生手段は、前記ポートを
通して取り扱いと取り外しとが可能なビーム発生エレメ
ントモジュールに格納され、 前記フィラメントモジュールと前記供給手段とは、素早
く自動的に電気的に接続することを特徴とする請求項1
の電子銃。 - 【請求項5】前記電子ビーム発生手段は、ビーム発生手
段に格納され、 前記フィラメントモジュールは、前記ポートを通して、
取り扱いと取り外しとが可能で、 前記フィラメントモジュールの取り外し中に、前記銃の
真空を破るための手段を更に有し、 前記フィラメントモジュールと前記供給手段とは、素早
く自動的に電気的に接続することを特徴とする請求項1
の電子銃。 - 【請求項6】前記電子ビーム発生手段は、前記ポートを
通して取り扱いと取り外しとが可能な前記フィラメント
モジュールに格納され、 前記ポートを取り扱うために、前記銃の上にロードロッ
クが更に設けられることを特徴とする請求項1の電子
銃。 - 【請求項7】前記電子ビーム発生手段は、前記ポートを
通して取り扱いと取り外しとが可能な前記フィラメント
モジュールに格納され、 前記フィラメントモジュールと前記供給手段とは、素早
く自動的に電気的に接続し、 前記ポートを取り扱うために、前記銃の上にロードロッ
クが更に設けられることを特徴とする請求項1の電子
銃。 - 【請求項8】前記電子ビーム発生手段は、フィラメント
モジュールに格納され、 前記フィラメントモジュールは、前記ポートを通して取
り扱いと取り外しとが可能で、 前記ポートを取り扱うために、前記銃の上にロードロッ
クが更に設けられ、 前記ロードロックのバルブ手段の間に、開閉孔を更に設
けることを特徴とする請求項1の電子銃。 - 【請求項9】前記電子ビーム発生手段は、カソードの背
面に向けて一次電子ビームを発生するフィラメントを備
え、 前記カソードは、前記電子ビーム発生手段と電子ビーム
鏡筒の中の開口との間に、設けられ、 前記カソードは、前記電子ビーム鏡筒の内部に2次電子
ビームを供給するために、設けられ、 前記前記電子ビーム発生手段は、前記ポート通して取り
扱いと取り外しとが可能なフィラメントモジュールに、
格納され、 前記フィラメントモジュールと前記供給手段とは、素早
く自動的に電気的接続され、 前記ポートの取り扱いのために、前記銃の上にロードロ
ックが更に設けられ、 前記ロードロックのバルブエレメントの間に、開閉孔が
更に設けられることを特徴とする請求項1の電子銃。 - 【請求項10】前記電子ビーム発生手段は、前記ポート
を通して取り扱いと取り外しとが可能なフィラメントモ
ジュールに格納される、フィラメントを備え、 前記フィラメントモジュールと前記供給手段とは、素早
く自動的に電気的に接続し、 前記ポートを取り扱うために、前記銃の上にロードロッ
クを更に設け、 前記ロードロックの複数のバルブ手段の間に、開閉孔を
更に設けることを特徴とする請求項1の電子銃。 - 【請求項11】電子銃の壁を通り抜ける供給手段によっ
て、前記電子銃からエレメントを取り外す方法で、前記
エレメントは前記供給手段に接続する前記銃の中に格納
されている方法であって、 前記供給手段を取り外すために、前記銃の壁に取り扱い
ポートを設け、前記ポートを通して前記供給手段を取り
外し、 前記取り扱いポートを通して、前記供給手段でフィラメ
ントモジュールを取り外すことを特徴とする取り扱い方
法。 - 【請求項12】前記ポートを通して取り扱いと取り外し
とが可能なモジュールに、前記エレメントを格納するこ
とを含むことを特徴とする請求項11の取り扱い方法。 - 【請求項13】前記ポートを通して取り扱いと取り外し
とが可能なモジュールに、前記エレメントを格納し、 前記モジュールの取り外し中は、前記銃の真空を破るこ
とを含むことを特徴とする請求項11の取り扱い方法。 - 【請求項14】前記ポートを通して取り扱いと取り外し
とが可能なモジュールに、前記エレメントを格納し、 前記モジュールと前記供給手段とは、素早く自動的に電
気的に接続することを含むことを特徴とする請求項11
の取り扱い方法。 - 【請求項15】前記ポートを通して取り扱いと取り外し
とが可能なモジュールに、前記エレメントを格納し、 前記モジュールの取り外し中は、前記銃の真空を破り、 前記ポートを取り扱うために、前記銃の上に設けられる
ロードロックを操作することを含むことを特徴とする請
求項11の取り扱い方法。 - 【請求項16】前記ポートを通して取り扱いと取り外し
とが可能なモジュールに、前記エレメントを格納し、 前記ポートを取り扱うために、前記銃の上に設けられる
ロードロックを操作することを含むことを特徴とする請
求項11の取り扱い方法。 - 【請求項17】前記ポートを通して取り扱いと取り外し
とが可能なモジュールに、前記エレメントを格納し、 前記モジュールと前記供給手段とは、素早く自動的に電
気的に接続し、 前記ポートを取り扱うために、前記銃の上に設けられる
ロードロックを操作することを含むことを特徴とする請
求項11の取り扱い方法。 - 【請求項18】前記ポートを通して取り扱いと取り外し
とが可能なモジュールに、前記エレメントを格納し、 前記ポートを取り扱うために、前記銃の上に設けられる
ロードロックを操作し、 前記ロードロックの複数のバルブ手段の間に設けられる
開閉孔を、操作することを含むことを特徴とする請求項
11の取り扱い方法。 - 【請求項19】前記エレメントは、カソードの背面に向
かって一次電子を発生するフィラメントを有し、 前記カソードは、前記エレメントと電子ビーム鏡筒の中
の開口との間に、設けられ、 前記カソードは、前記電子ビーム鏡筒の中に2次電子を
発生するために、設けられ、 前記ポートを通して取り扱いと取り外しとが可能なモジ
ュールに、前記エレメントを格納し、 前記モジュールと前記供給手段とは、素早く自動的に電
気的に接続し、 前記ポートを取り扱うために、前記銃の上に設けられる
ロードロックを操作し、 前記ロードロックの複数のバルブ手段の間に設けられる
開閉孔を、操作することを含むことを特徴とする請求項
11の取り扱い方法。 - 【請求項20】前記エレメントは、フィラメント手段を
備え、 前記ポートを通して取り扱いと取り外しとが可能なモジ
ュールに、前記エレメントを格納し、 前記フィラメントモジュールと前記供給手段とは、素早
く自動的に電気的に接続し、 前記ポートを取り扱うために、前記銃の上に設けられる
ロードロックを操作し、 前記ロードロックの複数のバルブ手段の間に設けられる
開閉孔を、操作することを含むことを特徴とする請求項
11の取り扱い方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/156,544 US6252339B1 (en) | 1998-09-17 | 1998-09-17 | Removable bombardment filament-module for electron beam projection systems |
US09/156544 | 1998-09-17 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000090865A true JP2000090865A (ja) | 2000-03-31 |
Family
ID=22560005
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11191593A Pending JP2000090865A (ja) | 1998-09-17 | 1999-07-06 | 電子銃とその取り扱い方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6252339B1 (ja) |
JP (1) | JP2000090865A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015138639A (ja) * | 2014-01-22 | 2015-07-30 | 住友重機械工業株式会社 | 負イオン源装置及び負イオン源装置におけるプラズマ生成部の交換方法 |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6548946B1 (en) * | 2000-11-02 | 2003-04-15 | General Electric Company | Electron beam generator |
US20050092253A1 (en) * | 2003-11-04 | 2005-05-05 | Venkat Selvamanickam | Tape-manufacturing system having extended operational capabilites |
JP4978065B2 (ja) * | 2006-06-12 | 2012-07-18 | 株式会社日立製作所 | 電子顕微鏡応用装置 |
EP2757571B1 (en) * | 2013-01-17 | 2017-09-20 | IMS Nanofabrication AG | High-voltage insulation device for charged-particle optical apparatus |
JP2015023286A (ja) | 2013-07-17 | 2015-02-02 | アイエムエス ナノファブリケーション アーゲー | 複数のブランキングアレイを有するパターン画定装置 |
EP2913838B1 (en) | 2014-02-28 | 2018-09-19 | IMS Nanofabrication GmbH | Compensation of defective beamlets in a charged-particle multi-beam exposure tool |
US9443699B2 (en) | 2014-04-25 | 2016-09-13 | Ims Nanofabrication Ag | Multi-beam tool for cutting patterns |
EP3358599B1 (en) | 2014-05-30 | 2021-01-27 | IMS Nanofabrication GmbH | Compensation of dose inhomogeneity using row calibration |
JP6890373B2 (ja) | 2014-07-10 | 2021-06-18 | アイエムエス ナノファブリケーション ゲーエムベーハー | 畳み込みカーネルを使用する粒子ビーム描画機における結像偏向の補償 |
US9568907B2 (en) | 2014-09-05 | 2017-02-14 | Ims Nanofabrication Ag | Correction of short-range dislocations in a multi-beam writer |
US9653263B2 (en) | 2015-03-17 | 2017-05-16 | Ims Nanofabrication Ag | Multi-beam writing of pattern areas of relaxed critical dimension |
EP3096342B1 (en) | 2015-03-18 | 2017-09-20 | IMS Nanofabrication AG | Bi-directional double-pass multi-beam writing |
US10410831B2 (en) | 2015-05-12 | 2019-09-10 | Ims Nanofabrication Gmbh | Multi-beam writing using inclined exposure stripes |
US10325756B2 (en) | 2016-06-13 | 2019-06-18 | Ims Nanofabrication Gmbh | Method for compensating pattern placement errors caused by variation of pattern exposure density in a multi-beam writer |
US10325757B2 (en) | 2017-01-27 | 2019-06-18 | Ims Nanofabrication Gmbh | Advanced dose-level quantization of multibeam-writers |
GB2560966A (en) * | 2017-03-30 | 2018-10-03 | Aquasium Tech Limited | Electron beam emitting assembly |
US10522329B2 (en) | 2017-08-25 | 2019-12-31 | Ims Nanofabrication Gmbh | Dose-related feature reshaping in an exposure pattern to be exposed in a multi beam writing apparatus |
US11569064B2 (en) | 2017-09-18 | 2023-01-31 | Ims Nanofabrication Gmbh | Method for irradiating a target using restricted placement grids |
US10651010B2 (en) | 2018-01-09 | 2020-05-12 | Ims Nanofabrication Gmbh | Non-linear dose- and blur-dependent edge placement correction |
US10840054B2 (en) | 2018-01-30 | 2020-11-17 | Ims Nanofabrication Gmbh | Charged-particle source and method for cleaning a charged-particle source using back-sputtering |
US11099482B2 (en) | 2019-05-03 | 2021-08-24 | Ims Nanofabrication Gmbh | Adapting the duration of exposure slots in multi-beam writers |
KR20210132599A (ko) | 2020-04-24 | 2021-11-04 | 아이엠에스 나노패브릭케이션 게엠베하 | 대전 입자 소스 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1205208B (de) * | 1962-06-13 | 1965-11-18 | Shimadzu Corp | Anordnung zum Auswechseln der Kathode eines Elektronenstrahlerzeugungssystems |
US3470412A (en) * | 1962-06-13 | 1969-09-30 | Shimadzu Corp | Apparatus for exchanging the filament of an electron gun |
US3602685A (en) * | 1966-06-28 | 1971-08-31 | Atomic Energy Commission | Method of electron-beam welding |
US3636346A (en) * | 1968-03-17 | 1972-01-18 | Hitachi Ltd | Electron beam generator for electron microscope or the like apparatus |
DE2110130C3 (de) * | 1971-02-26 | 1974-07-04 | Max-Planck-Gesellschaft Zur Foerderung Der Wissenschaften E.V., 3400 Goettingen | Vorrichtung zum Auswechseln der Kathode in einem Elektronenstrahlerzeugungssystem |
US3761676A (en) * | 1971-05-20 | 1973-09-25 | Farland G Mc | Portable electron beam welding apparatus |
US3740554A (en) * | 1972-04-13 | 1973-06-19 | Atomic Energy Commission | Multi-ampere duopigatron ion source |
DE2302938C3 (de) * | 1973-01-22 | 1979-07-12 | Polymer-Physik Gmbh & Co Kg, 2844 Lemfoerde | Mehrstufiger Beschleuniger für geladene Teilchen mit Hochvakuumisolation |
FR2315766A1 (fr) * | 1975-06-23 | 1977-01-21 | Sciaky Sa | Canon a electrons |
JPS57128433A (en) | 1980-12-27 | 1982-08-10 | Denki Kagaku Kogyo Kk | High luminance electron gun |
US4486684A (en) | 1981-05-26 | 1984-12-04 | International Business Machines Corporation | Single crystal lanthanum hexaboride electron beam emitter having high brightness |
US4468586A (en) | 1981-05-26 | 1984-08-28 | International Business Machines Corporation | Shaped electron emission from single crystal lanthanum hexaboride with intensity distribution |
US4521902A (en) * | 1983-07-05 | 1985-06-04 | Ridge, Inc. | Microfocus X-ray system |
US4634921A (en) | 1984-07-03 | 1987-01-06 | Sony Corporation | Thermionic cathode heater |
US4583023A (en) | 1984-07-23 | 1986-04-15 | Avco Everett Research Laboratory, Inc. | Electron beam heated thermionic cathode |
CA1286769C (en) * | 1988-01-07 | 1991-07-23 | Hans Joachim Kolpin | Electron gun design |
US4833362A (en) * | 1988-04-19 | 1989-05-23 | Orchid One | Encapsulated high brightness electron beam source and system |
US4998004A (en) * | 1989-07-28 | 1991-03-05 | Ferranti Sciaky, Inc. | Electron beam gun |
US5149934A (en) * | 1991-09-24 | 1992-09-22 | Ferranti Sciaky, Inc. | High voltage electron beam gun |
EP0698907A3 (de) | 1994-07-20 | 1996-05-01 | Mishnarodnij Zentr Elektronno | Elektronenkanone. |
DE4443830C1 (de) | 1994-12-09 | 1996-05-23 | Ardenne Anlagentech Gmbh | Vorrichtung zur Elektronenstrahlerzeugung |
JPH08250054A (ja) | 1995-03-14 | 1996-09-27 | Hitachi Ltd | 拡散補給型電子線源およびそれを用いた電子線装置 |
-
1998
- 1998-09-17 US US09/156,544 patent/US6252339B1/en not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-07-06 JP JP11191593A patent/JP2000090865A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015138639A (ja) * | 2014-01-22 | 2015-07-30 | 住友重機械工業株式会社 | 負イオン源装置及び負イオン源装置におけるプラズマ生成部の交換方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6252339B1 (en) | 2001-06-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2000090865A (ja) | 電子銃とその取り扱い方法 | |
JP2995388B2 (ja) | イオン注入機に使用するイオン発生装置とその方法 | |
JP4817656B2 (ja) | 間接的に加熱されるカソードイオン源 | |
US8878148B2 (en) | Method and apparatus of pretreatment of an electron gun chamber | |
US20030051739A1 (en) | Apparatus for in situ cleaning of carbon contaminated surfaces | |
JP4911567B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JPH02312141A (ja) | イオン源 | |
US3601649A (en) | Electron beam generating system for high beam potentials | |
TW201708987A (zh) | 微粒射束設備及操作微粒射束設備的方法 | |
EP0858097B1 (en) | Mercury lamp of the short arc type | |
US3930163A (en) | Ion beam apparatus with separately replaceable elements | |
JP2003045368A (ja) | 電子線発生装置及び光電面収容カートリッジ | |
US3881125A (en) | Separable-chamber electron-beam tube including means for puncturing a pressure seal therein | |
JPH0684450A (ja) | 熱電界放射陰極 | |
US7271542B2 (en) | Gas discharge tube | |
US20230317400A1 (en) | Charged Particle Beam Source and Charged Particle Beam System | |
US20230134054A1 (en) | Energy beam irradiation device | |
JPH09167593A (ja) | イオン注入装置 | |
KR102556786B1 (ko) | 전계 방사 장치 및 전계 방사 방법 | |
JPH09219169A (ja) | イオン源 | |
JP2773176B2 (ja) | 集束イオンビーム装置 | |
JPH0498732A (ja) | マイクロ波管装置 | |
KR100344150B1 (ko) | 전자빔을 이용한 음극선관의 연속노광장치 | |
JPH0754880Y2 (ja) | 電子線照射装置 | |
JP2003115276A (ja) | イオンビーム照射装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 8 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070709 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080709 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090709 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100709 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110709 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 12 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110709 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 13 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120709 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 13 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120709 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130709 Year of fee payment: 14 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |