JP2000089456A - Corrosion-resistant resin composition, etching-resistant resin layer using the composition and production of shadow mask - Google Patents

Corrosion-resistant resin composition, etching-resistant resin layer using the composition and production of shadow mask

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JP2000089456A
JP2000089456A JP25859598A JP25859598A JP2000089456A JP 2000089456 A JP2000089456 A JP 2000089456A JP 25859598 A JP25859598 A JP 25859598A JP 25859598 A JP25859598 A JP 25859598A JP 2000089456 A JP2000089456 A JP 2000089456A
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resistant resin
etching
corrosion
resin layer
shadow mask
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Michio Yanagimoto
道夫 柳本
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Toppan Printing Co Ltd
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent distortion or twist in a metal thin plate during secondary etching with respect to a long-hole type (aperture grill type) shadow mask. SOLUTION: The corrosion-resistant resin compsn. is prepared from reactive unsatd. oligomers and monomers having acryloyl groups or methacryloyl groups in the molecular ends or side chains of the molecular structure, a photopolymn. initiator selected from benzoin alkylethers, benzophenones and acetophenones, and an ester plasticizer selected from trimellitic acids, adipic acid and maleic acid. The obtd. compsn. is applied and dried on the face of the metal thin plate 1 where a small aperture pattern 5 is formed after primary etching so as to form an etching-resistant resin layer 7, and then the metal plate is subjected to secondary etching and peeling treatment to obtain a shadow mask.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は長尺帯状の金属薄板
を用いてフォトエッチング法にてシャドウマスクを製造
する方法に関し、詳しくはシャドウマスク製造に用いら
れるエッチング耐蝕樹脂層を形成するための耐蝕樹脂組
成物及びシャドウマスクの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a shadow mask by a photo-etching method using a long strip-shaped metal thin plate, and more particularly, to a method for forming an etching-resistant resin layer used for manufacturing a shadow mask. The present invention relates to a resin composition and a method for producing a shadow mask.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般的なカラーディスプレー管は電子
銃、シャドウマスク及び赤、緑、青からなる三色のドッ
ト蛍光面から成り立っている。シャドウマスクは蛍光面
の手前に取りつけられた薄い鉄系材料で、電子ビームが
通過する孔が規則正しく多数配列されたものである。一
つの孔が赤、緑、青の蛍光体ドットの一組三個に対応し
ており、電子銃から放出された三本の電子ビームをそれ
ぞれの蛍光体ドットに導く役目を果たしている。
2. Description of the Related Art A general color display tube comprises an electron gun, a shadow mask, and phosphor screens of three colors of red, green and blue. The shadow mask is a thin iron-based material attached in front of the phosphor screen, and has a large number of regularly arranged holes through which electron beams pass. One hole corresponds to a set of three red, green, and blue phosphor dots, and plays a role of guiding three electron beams emitted from the electron gun to the respective phosphor dots.

【0003】一般的なシャドウマスクの製造方法は、ま
ず、鉄又は鉄合金よりなる金属薄板の両面に感光性樹脂
(フォトレジスト)を塗布、乾燥して感光層を形成す
る。次いで、所定の遮光パターンを有する露光用マスク
(多くの場合、表裏2枚のマスク)を位置合わせ、密着
して、所定の露光量で感光層にパターン露光を行い、所
定の薬液で現像、硬膜処理等を行い、金属薄板の両面に
所定形状のレジストパターンを形成する。
In a general method of manufacturing a shadow mask, first, a photosensitive resin (photoresist) is applied to both surfaces of a thin metal plate made of iron or an iron alloy and dried to form a photosensitive layer. Next, an exposure mask having a predetermined light-shielding pattern (in many cases, two masks on the front and back sides) is aligned and brought into close contact with each other, pattern exposure is performed on the photosensitive layer with a predetermined exposure amount, and development and hardening are performed with a predetermined chemical solution. By performing a film treatment or the like, a resist pattern having a predetermined shape is formed on both surfaces of the metal thin plate.

【0004】次に、レジストパターンが形成された金属
薄板の両面から塩化第2鉄液等を用いて1次エッチング
(ハーフエッチング)を行い、金属薄板の両面に所定形
状の小孔及び大孔の開口パターンを形成する。
Next, primary etching (half-etching) is performed on both surfaces of the metal sheet on which the resist pattern is formed using a ferric chloride solution or the like, and small holes and large holes of a predetermined shape are formed on both surfaces of the metal sheet. An opening pattern is formed.

【0005】次に、小孔開口パターンが形成された金属
薄板の片面に所定の樹脂溶液をローラーコーティングや
グラビアコーティング、スプレーコーティングなどの方
法を用いて塗布、乾燥してエッチング耐触樹脂層を形成
する。
[0005] Next, a predetermined resin solution is applied to one side of the metal sheet on which the small-hole opening pattern is formed by using a method such as roller coating, gravure coating, or spray coating, and dried to form an etching-resistant resin layer. I do.

【0006】次に、金属薄板のもう一方の面の大孔開口
パターンを塩化第2鉄液等を用いて金属薄板が貫通する
まで2次エッチングを行い、大孔開口パターンを形成す
る。
Next, the large hole opening pattern on the other surface of the metal thin plate is subjected to secondary etching using a ferric chloride solution or the like until the metal thin plate penetrates to form a large hole opening pattern.

【0007】次に、金属薄板上のエッチング耐触樹脂層
及びレジストパターンを、アルカリ水溶液を用いて剥離
処理して、所定形状の開口パターンを有するシャドウマ
スクとするものである。
Next, the etching resistant resin layer and the resist pattern on the metal thin plate are peeled off using an alkaline aqueous solution to form a shadow mask having an opening pattern of a predetermined shape.

【0008】ここで、生産性向上を目的に、2次エッチ
ングの高比重化・高温度化・スプレー高圧力化を計っ
て、エッチング時間の短縮化を行っている。その際、特
に長孔タイプ(アパチャーグリルタイプ)のシャドウマ
スクの場合に、エッチング時に金属薄板にひずみやねじ
れ現象が起こり、スリットパターン(すだれパターン)
折れや曲がり等の変形不良が生じたり、場合によって
は、エッチング耐蝕樹脂層にひび割れや剥がれ等の劣化
が起こり、過剰にエッチングが進み所定の孔寸法形状が
得られないという問題が生じている。
Here, for the purpose of improving the productivity, the etching time is shortened by increasing the specific gravity, the temperature, and the spray pressure of the secondary etching. At that time, especially in the case of the shadow mask of the long hole type (aperture grill type), the metal sheet becomes distorted or twisted during etching, and the slit pattern (blind pattern)
Deformation defects such as bending and bending occur, and in some cases, deterioration such as cracking and peeling occurs in the etching-resistant resin layer, and there is a problem that etching proceeds excessively and a predetermined hole size and shape cannot be obtained.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点に鑑みなされたもので、長孔タイプ(アパチャーグリ
ルタイプ)のシャドウマスクにおいて、2次エッチング
時の金属薄板にひずみやねじれ現象を起こさないエッチ
ング耐蝕樹脂層及びそれを形成している耐蝕樹脂組成物
及びそれを用いたシャドウマスクの製造方法を提供する
ことを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems, and has been described in connection with a shadow mask of an elongated hole type (aperture grill type). An object of the present invention is to provide a corrosion-resistant resin layer that does not cause corrosion, a corrosion-resistant resin composition forming the same, and a method of manufacturing a shadow mask using the same.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明に於いて上記課題
を解決するために、まず請求項1においては、金属薄板
の両面に所望のレジストパターンを形成し、前記金属薄
板を両面から1次エッチング(ハーフエッチング)をし
て前記金属薄板の両面に小孔開口パターン及び大孔開口
パターンを形成した後、前記小孔開口パターン側の前記
金属薄板の片面にエッチング耐蝕樹脂層を形成し、前記
金属薄板のもう一方の面の大孔開口パターンを2次エッ
チングして貫通させた後、前記エッチング耐蝕樹脂層及
び前記レジストパターンを剥離してシャドウマスクを作
製するシャドウマスクの製造方法において、前記エッチ
ング耐蝕樹脂層を形成している耐蝕樹脂組成物が、分子
構造中の末端または側鎖にアクリロイル基またはメタア
クリロイル基をもつ反応性不飽和オリゴマー及びモノマ
ーと、ベンゾインアルキルエーテル類、ベンゾフェノン
類及びアセトフェノン類からなる群から選択された光重
合開始剤と、トリメリット酸系、アジピン酸系及びマレ
イン酸系からなる群から選択されたエステル可塑剤とか
らなることを特徴とする耐蝕樹脂組成物としたものであ
る。
In order to solve the above-mentioned problems in the present invention, first, in claim 1, a desired resist pattern is formed on both surfaces of a metal thin plate, and the metal thin plate is firstly formed from both surfaces. After etching (half-etching) to form a small hole opening pattern and a large hole opening pattern on both surfaces of the metal thin plate, an etching corrosion resistant resin layer is formed on one surface of the metal thin plate on the small hole opening pattern side, In the method for manufacturing a shadow mask, the second pattern of the large hole opening on the other surface of the thin metal plate is penetrated by secondary etching, and then the etching corrosion-resistant resin layer and the resist pattern are peeled off to produce a shadow mask. The corrosion-resistant resin composition forming the corrosion-resistant resin layer has an acryloyl group or a methacryloyl group at a terminal or a side chain in a molecular structure. Reactive unsaturated oligomers and monomers, benzoin alkyl ethers, photopolymerization initiators selected from the group consisting of benzophenones and acetophenones, and trimellitic acid, adipic acid and maleic acid selected from the group consisting of And an ester plasticizer.

【0011】また、請求項2においては、25℃におけ
る粘度が5000cps以下であることを特徴とする耐
蝕樹脂組成物としたものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a corrosion-resistant resin composition having a viscosity at 25 ° C. of 5,000 cps or less.

【0012】また、請求項3においては、請求項1又は
2記載の耐蝕樹脂組成物を用いて前記小孔開口パターン
側の前記金属薄板上に耐蝕樹脂層を形成することを特徴
とするエッチング耐蝕樹脂層としたものである。
According to a third aspect of the present invention, a corrosion-resistant resin layer is formed on the thin metal plate on the side of the small hole opening pattern using the corrosion-resistant resin composition according to the first or second aspect. It is a resin layer.

【0013】さらにまた、請求項4においては、請求項
1又は2記載の耐蝕樹脂組成物を用いて前記エッチング
耐蝕樹脂層を形成して2次エッチングすることを特徴と
するシャドウマスクの製造方法としたものである。
Further, in a fourth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a shadow mask, comprising forming the etching corrosion-resistant resin layer by using the corrosion-resistant resin composition according to the first or second aspect and performing secondary etching. It was done.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明は、シャドウマスク製造工
程の中のエッチング耐蝕樹脂層を形成している耐蝕樹脂
組成物が、分子構造中の末端または側鎖にアクリロイル
基またはメタアクリロイル基をもつ反応性不飽和オリゴ
マー及びモノマーと、ベンゾインアルキルエーテル類、
ベンゾフェノン類及びアセトフェノン類からなる群から
選択された光重合開始剤と、トリメリット酸系、アジピ
ン酸系及びマレイン酸系からなる群から選択されたエス
テル可塑剤とからなることを特徴としている。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION According to the present invention, a corrosion-resistant resin composition forming an etching-corrosion-resistant resin layer in a shadow mask manufacturing process has an acryloyl group or a methacryloyl group at a terminal or a side chain in a molecular structure. Reactive unsaturated oligomers and monomers, benzoin alkyl ethers,
It is characterized by comprising a photopolymerization initiator selected from the group consisting of benzophenones and acetophenones, and an ester plasticizer selected from the group consisting of trimellitic acid, adipic acid and maleic acid.

【0015】上記耐蝕樹脂組成物で形成されたエッチン
グ耐蝕樹脂層は所定の被膜強度を有し、柔軟性及び可撓
性(たわみ性)に優れた特性を有しているため、長孔タ
イプ(アパーチャグリルタイプ)のシャドウマスクの場
合、2次エッチングの際の金属薄板にひずみやねじれ現
象が発生せず、スリットパターンの変形がなくなり、エ
ッチング時間の短縮化及びシャドウマスクの高品質化が
図れるものである。
The etching and corrosion resistant resin layer formed of the above corrosion resistant resin composition has a predetermined film strength, and has excellent properties of flexibility and flexibility (flexibility). In the case of an aperture grill type shadow mask, no distortion or twisting occurs in the metal sheet during secondary etching, the slit pattern is not deformed, and the etching time can be reduced and the quality of the shadow mask can be improved. It is.

【0016】以下、本発明の耐蝕樹脂組成物について述
べる。まず、樹脂本体として、分子構造中の末端または
側鎖に、アクリロイル基またはメタアクリロイル基をも
つ反応性不飽和オリゴマー及びモノマーを使用する。酸
素による硬化阻害が少なく、紫外線等による硬化速度の
大きい点、また多数のモノマーやオリゴマーの組み合わ
せることにより、性状や硬化物の物性を相当幅広く選択
できる点に特徴がある。
Hereinafter, the corrosion resistant resin composition of the present invention will be described. First, a reactive unsaturated oligomer or monomer having an acryloyl group or a methacryloyl group at a terminal or a side chain in a molecular structure is used as a resin body. It is characterized in that the curing is hardly inhibited by oxygen and the curing speed by ultraviolet rays is high, and that the properties and physical properties of the cured product can be selected from a wide range by combining a large number of monomers and oligomers.

【0017】例えば、ポリエステルアクリレート、ポリ
ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエ
ーテルアクリレート、オリゴアクリレート、アルキドア
クリレート、ポリオールアクリレートなどが好ましい。
具体例として、エッチング耐性と硬化性を持つポリエー
テルアクリレート、ポリオールアクリレートとして、エ
チレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコー
ルジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレ
ート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプ
ロピレングリコールジアクリレート、プロピレングリコ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールアクリレ
ート、1、4―ブタンジオールアクリレート、1、6―
ヘキサンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトー
ルジアクリレート、トリメチールプロパントリアクリレ
ート等が挙げられる。またアルカリ剥離性を付与するた
めに、カルボキシル基含有するフタル酸、アジピン酸、
マレイン酸、イタコン酸、コハク酸、テレフタル酸等の
多塩基酸と、エチレングリコール、1、4―ブタンジオ
ール、1、6―ヘキサンジオール、ジエチレングリコー
ル、トリメチロールプロパン、ジプロピレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、
ジペンタエリスリトール等の多価アルコールから組み合
わされるポリエステルアクリレート等が挙げられる。
For example, polyester acrylate, polyurethane acrylate, epoxy acrylate, polyether acrylate, oligoacrylate, alkyd acrylate, polyol acrylate and the like are preferable.
Specific examples include polyether acrylate having etching resistance and curability, and polyol acrylates such as ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, and neo Pentyl glycol acrylate, 1,4-butanediol acrylate, 1,6-
Hexanediol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, trimethylpropane triacrylate and the like can be mentioned. In addition, in order to impart alkali releasability, phthalic acid containing a carboxyl group, adipic acid,
Polybasic acids such as maleic acid, itaconic acid, succinic acid and terephthalic acid, and ethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, diethylene glycol, trimethylolpropane, dipropylene glycol, polyethylene glycol, pentaerythritol ,
Polyester acrylate combined with a polyhydric alcohol such as dipentaerythritol and the like can be mentioned.

【0018】エッチング耐蝕樹脂層のエッチング耐性を
高くするには、耐蝕樹脂組成物の樹脂の高分子量化、或
いは樹脂分子間架橋の高密度化等を行う方法がある。そ
の場合、分子量的に大きく高粘度となり易いため、エッ
チング耐蝕樹脂層を形成する際のコーティング適性等か
ら25℃における耐蝕樹脂組成物の粘度は5000cp
s以下であることが好ましい。また、ガラス転移温度
(Tg)としては、エッチング工程で使用するエッチン
グ液の液温以上であればよく、特に60℃以上であるこ
とが好ましい。
In order to increase the etching resistance of the corrosion-resistant resin layer, there is a method of increasing the molecular weight of the resin of the corrosion-resistant resin composition or increasing the density of cross-linking between the resin molecules. In that case, the viscosity of the corrosion-resistant resin composition at 25 ° C. is 5000 cp at 25 ° C. in view of suitability for coating when forming the etching corrosion-resistant resin layer because the molecular weight is large and the viscosity is easily increased.
It is preferably at most s. Further, the glass transition temperature (Tg) may be at least the temperature of the etchant used in the etching step, and is particularly preferably at least 60 ° C.

【0019】次に、光重合開始剤の作用としては、紫外
線や電子線等が照射されると励起しラジカルが発生、こ
れが反応性不飽和オリゴマー及びモノマーの二重結合を
励起しラジカル重合が進行、次々と連鎖が生長して3次
元網目構造の樹脂被膜が得られる。光重合開始剤はベン
ゾインアルキルエーテル類、ベンゾフェノン類及びアセ
トフェノン類が好ましく、例えば、2、2―ジメトキシ
ー1、2―ジフェニルエタノン、1―ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。光重合開始剤
は全体の合計量の1〜10重量%が好適である。
Next, the action of the photopolymerization initiator is that when it is irradiated with ultraviolet rays, electron beams, or the like, it is excited to generate radicals, which excite the double bonds of the reactive unsaturated oligomers and monomers, and radical polymerization proceeds. The chains grow one after another, and a resin coating having a three-dimensional network structure is obtained. As the photopolymerization initiator, benzoin alkyl ethers, benzophenones and acetophenones are preferable, and examples thereof include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethanone and 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone. The photopolymerization initiator is preferably used in an amount of 1 to 10% by weight of the total amount of the entirety.

【0020】ここで、特に長孔タイプ(アパチャーグリ
ルタイプ)のシャドウマスクの場合、2次エッチング時
に金属薄板にひずみやねじれ現象が見られ、スリットパ
ターンの変形不良が生じていた。これはエッチング耐蝕
樹脂が硬質で脆く、可撓性(たわみ性)が低いことが原
因であり、エッチング液に対する物理的強度が不足して
いると考えられる。
Here, in particular, in the case of a long hole type (aperture grill type) shadow mask, a distortion or a twisting phenomenon was observed in the metal thin plate at the time of the second etching, and a deformation defect of the slit pattern occurred. This is because the etching and corrosion resistant resin is hard and brittle, and has low flexibility (flexibility), and is considered to have insufficient physical strength with respect to the etching solution.

【0021】アクリル系樹脂は硬化後の体積収縮率が大
きく、エチルメタクリレートで約17〜18%、メチル
メタクリレートで約20〜21%あることが知られてい
る。塗膜を形成した後、内部応力を蓄積したまま残留応
力として存在し、その後のエッチング液などの熱的・力
学的ストレス等が繰り返し加わることにより、残留応力
が増大し塗膜の凝集力を越えるようになると、ワレ(ク
ラック)が発生し、剥離や反り(カール)といった現象
を引き起こす。収縮ひずみを緩和する方法として、可塑
剤を配合することにより低減を計ることが可能であると
の結論を得た。
It is known that the acrylic resin has a large volume shrinkage after curing, about 17 to 18% for ethyl methacrylate and about 20 to 21% for methyl methacrylate. After forming the coating film, it exists as a residual stress while accumulating internal stress, and the thermal and mechanical stresses of the subsequent etching solution etc. are repeatedly applied, the residual stress increases and exceeds the cohesive force of the coating film When this occurs, cracks occur, causing phenomena such as peeling and warping. It was concluded that it is possible to reduce the shrinkage strain by adding a plasticizer as a method of alleviating the shrinkage strain.

【0022】耐蝕樹脂組成物に可塑剤を配合することに
より、エッチング耐蝕樹脂層の分子間に入り込み、樹脂
の硬い網状構造の原因であるファンデルワールス結合を
弱める効果があり、その結果、広い温度範囲にわたって
硬質で柔軟な被膜特性が得られると考えられる。また、
可塑剤を配合することにより、同時に架橋性が上がるた
めかエッチング耐性の向上も見られる。しかし、可塑化
効率の悪い可塑剤を使用すればより早い時点で固化点を
迎えてしまい収縮ひずみは余計に大きくなり、かえって
悪い結果をもたらすことになり、可塑化効率の高い可塑
剤を使う必要がある。
The addition of a plasticizer to the corrosion-resistant resin composition has the effect of penetrating into the molecules of the etching-corrosion-resistant resin layer and weakening van der Waals bonds that cause the hard network structure of the resin. It is believed that hard and flexible coating properties are obtained over a range. Also,
The addition of the plasticizer also improves the etching resistance, probably because the crosslinkability is increased at the same time. However, if a plasticizer with a low plasticizing efficiency is used, the solidification point will be reached earlier and the shrinkage strain will be excessively large, resulting in a bad result. There is.

【0023】その中で、トリメリット酸系、アジピン酸
系及びマレイン酸系のエステル可塑剤を使用した場合が
効果的であり、最も可塑化効果が高かったのは、トリメ
リット酸エステル可塑剤である。具体的な成分として、
トリブチールトリメリテート(TBTM)、トリ・n−
ヘキシルトリメリテート(NHTM)、トリ・2−エチ
ルヘキシルトリメリテート(TOTM)、トリ・n−オ
クチルトリメリテート(TnOTM)、トリ・イソオク
チルトリメリテート(TIOTM)、トリ・イソデシル
トリメリテート(TIDTM)、トリ・Alphano
lC7-9トリメリテート、トリ・AlfolC6-10トリメ
リテート等が挙げられる。可塑剤は全体の合計量の1〜
5重量%が好ましい。5重量%以上ではTgが下がり、
エッチング耐性等の物性に悪影響を与え好ましくなかっ
た。
Among them, it is effective to use trimellitic acid-based, adipic acid-based and maleic acid-based ester plasticizers, and the trimellitic acid ester plasticizer has the highest plasticizing effect. is there. As a specific ingredient,
Tributyl trimellitate (TBTM), tri-n-
Hexyl trimellitate (NHTM), tri-2-ethylhexyl trimellitate (TOTM), tri-n-octyl trimellitate (TnOTM), tri-isooctyl trimellitate (TIOTM), tri-isodecyl trimellitate (TIDTM), Tori Alphano
lC 7-9 trimellitate, birds · AlfolC 6-10 trimellitate, and the like. Plasticizer is 1 to 1
5% by weight is preferred. At 5% by weight or more, Tg decreases,
Physical properties such as etching resistance were adversely affected, which was not preferable.

【0024】上記樹脂と光重合開始剤と可塑剤とで耐蝕
樹脂組成物を作成するには、前記アクリロイル基または
メタアクリロイル基をもつ反応性不飽和オリゴマー及び
モノマーと、ベンゾインアルキルエーテル類、ベンゾフ
ェノン類及びアセトフェノン類からなる群から選択され
た光重合開始剤と、トリメリット酸系、アジピン酸系及
びマレイン酸系からなる群から選択されたエステル可塑
剤とを一定の加温下で、塊状重合や溶液重合や懸濁重合
等の方法にて混合すればよい。
In order to prepare a corrosion resistant resin composition from the above resin, photopolymerization initiator and plasticizer, the reactive unsaturated oligomer or monomer having the acryloyl group or methacryloyl group, benzoin alkyl ethers, benzophenones And a photopolymerization initiator selected from the group consisting of acetophenones and trimellitic acid, adipic acid and an ester plasticizer selected from the group consisting of maleic acid under a constant heating, bulk polymerization and It may be mixed by a method such as solution polymerization or suspension polymerization.

【0025】さらに、耐蝕樹脂組成物の25℃における
粘度は、塗布適性及び塗布後の塗膜性から5000cp
s以下であることが好ましい。
Further, the viscosity of the corrosion-resistant resin composition at 25 ° C. is determined to be 5,000 cp from the suitability for coating and the coating property after coating.
It is preferably at most s.

【0026】以下、上記の耐蝕樹脂組成物を用いてエッ
チング耐蝕樹脂層を形成してシャドウマスクを作製する
シャドウマスクの作製法について図1を用いて説明す
る。まず、鉄又は鉄合金よりなる長尺帯状の金属薄板1
の両面にポリビニールアルコール又はカゼイン等を主成
分とする感光性樹脂溶液を塗布、乾燥して感光層2を形
成する(図1(a)参照)。
Hereinafter, a method of manufacturing a shadow mask by forming an etching and corrosion resistant resin layer using the above-described corrosion resistant resin composition to form a shadow mask will be described with reference to FIG. First, a long strip-shaped metal sheet 1 made of iron or iron alloy
A photosensitive resin solution containing polyvinyl alcohol, casein or the like as a main component is applied to both surfaces and dried to form a photosensitive layer 2 (see FIG. 1A).

【0027】次に、所定の遮光パターンを有する露光用
マスクを金属薄板1の両面の感光層2に位置合わせ、密
着してパターン露光を行う。次に、所定の薬液で現像、
硬膜処理して、金属薄板1の両面に小孔パターン3及び
大孔パターン4を有するレジストパターン2a及び2b
を形成する(図1(b)参照)。
Next, an exposure mask having a predetermined light-shielding pattern is positioned on the photosensitive layers 2 on both surfaces of the metal thin plate 1 and pattern exposure is performed in close contact therewith. Next, develop with a predetermined chemical solution,
After hardening, resist patterns 2a and 2b having a small hole pattern 3 and a large hole pattern 4 on both surfaces of the metal sheet 1
Is formed (see FIG. 1B).

【0028】次に、レジストパターン2a及び2bが形
成された金属薄板1の両面から塩化第2鉄からなるエッ
チング液を用いて1次エッチング(ハーフエッチング)
を行い、金属薄板1の両面に小孔開口パターン5及び大
孔開口パターン6を形成する(図1(c)参照)。
Next, primary etching (half-etching) is performed on both surfaces of the metal sheet 1 on which the resist patterns 2a and 2b are formed using an etching solution composed of ferric chloride.
To form a small hole opening pattern 5 and a large hole opening pattern 6 on both surfaces of the metal thin plate 1 (see FIG. 1C).

【0029】次に、上記耐蝕樹脂組成物からなる樹脂溶
液をローラーコーティングやスプレーコーティングなど
の方法により塗布し、乾燥・硬化して金属薄板1の小孔
開口パターン5側にエッチング耐蝕樹脂層7を形成する
(図1(d)参照)。
Next, a resin solution comprising the above-described corrosion-resistant resin composition is applied by a method such as roller coating or spray coating, and then dried and cured to form an etching-resistant corrosion-resistant resin layer 7 on the small hole opening pattern 5 side of the thin metal plate 1. It is formed (see FIG. 1D).

【0030】次に、金属薄板1のもう一方の面の大孔開
口パターン6を塩化第2鉄からなるエッチング液を用い
て金属薄板1が貫通するまで2次エッチングを行い、大
孔開口パターン6aを形成する(図1(e)参照)。
Next, the large hole opening pattern 6a on the other surface of the metal thin plate 1 is subjected to secondary etching using an etching solution made of ferric chloride until the metal thin plate 1 penetrates. Is formed (see FIG. 1E).

【0031】次に、エッチング耐蝕樹脂層7、レジスト
パターン2a及び2bをアルカリ剥離剤を用いて剥離処
理して、金属薄板1に小孔開口パターン5及び大孔開口
パターン6aが形成されたシャドウマスクを作製する
(図1(f)参照)。
Next, the etching and corrosion-resistant resin layer 7 and the resist patterns 2a and 2b are stripped using an alkali stripping agent to form a shadow mask in which the small-hole opening pattern 5 and the large-hole opening pattern 6a are formed on the thin metal plate 1. (See FIG. 1 (f)).

【0032】ここで、上記耐蝕樹脂組成物で形成したエ
ッチング耐蝕樹脂層7を使用した場合、従来に比べエッ
チング耐性が向上し、且つ可撓性(たわみ性)に優れた
ものが得られ、短時間エッチングのためのエッチング条
件(エッチング液の高比重化・高温度化・スプレー高圧
力化等)の設定が可能となり、生産性や作業性が大きく
向上する。
Here, when the etching and corrosion resistant resin layer 7 formed of the above corrosion resistant resin composition is used, the etching resistance is improved as compared with the conventional one, and a material having excellent flexibility (flexibility) is obtained. It is possible to set etching conditions (higher specific gravity, higher temperature, higher spray pressure, etc. of the etching solution) for time etching, and productivity and workability are greatly improved.

【0033】[0033]

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明す
る。
The present invention will be described below in detail with reference to examples.

【0034】まず、板厚0.1mmのFe−Ni合金よ
りなる金属薄板1の両面にポリビニールアルコールと重
クロム酸アンモニウムからなる感光性樹脂溶液をコーテ
ィングして感光層2を形成した。
First, a photosensitive resin solution containing polyvinyl alcohol and ammonium dichromate was coated on both surfaces of a thin metal plate 1 made of an Fe—Ni alloy having a thickness of 0.1 mm to form a photosensitive layer 2.

【0035】次に、所定のパターンを有する露光マスク
で感光層2に密着露光し、現像、硬膜処理して金属薄板
1の両面に小孔パターン3及び大孔パターン4を有する
レジストパターン2a及び2bを形成した。
Next, the photosensitive layer 2 is exposed in close contact with an exposure mask having a predetermined pattern, developed and hardened, and a resist pattern 2a having a small hole pattern 3 and a large hole pattern 4 on both sides of the thin metal plate 1 is formed. 2b was formed.

【0036】次に、レジストパターン2a及び2bが形
成された金属薄板1の両面から60℃に加熱された塩化
第2鉄からなるエッチング液を用いて3kg/cm2
圧力でスプレーエッチング(1次エッチング)を行い金
属薄板1の両面に小孔開口パターン5及び大孔開口パタ
ーン6を形成した。
Next, the resist pattern 2a and 2b spray etching (1 at a pressure of 3 kg / cm 2 by using an etching solution composed of heated ferric chloride from both surfaces of the metal thin plate 1 formed 60 ° C. Next Etching) was performed to form a small hole opening pattern 5 and a large hole opening pattern 6 on both surfaces of the metal thin plate 1.

【0037】次に、金属薄板1の小孔開口パターン5側
に下記耐蝕樹脂組成物Aをロールコーターを用いて塗布
し、乾燥・硬化して30μm厚のエッチング耐蝕樹脂層
7を形成した。
Next, the following corrosion-resistant resin composition A was applied to the small hole opening pattern 5 side of the thin metal plate 1 by using a roll coater, dried and cured to form an etched corrosion-resistant resin layer 7 having a thickness of 30 μm.

【0038】 耐蝕樹脂組成物Aの組成 ポリプロピレングリコールジアクリレート…………………………40重量% ペンタエリスリトールトリアクリレート……………………………25重量% テトラヒドロフタル酸−1、6ヘキサンジオールアクリレート…30重量% 1―ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン…………………… 3重量% トリ・2−エチルヘキシルトリメリテート………………………… 2重量%Composition of Corrosion Resistant Resin Composition A Polypropylene glycol diacrylate 40% by weight Pentaerythritol triacrylate 25% by weight Tetrahydrophthalic acid-1 6-hexanediol acrylate 30% by weight 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 3% by weight tri-2-ethylhexyl trimellitate 2% by weight

【0039】次に、金属薄板1の大孔開口パターン6側
から60℃に加熱された塩化第2鉄からなるエッチング
液を用いて3kg/cm2の圧力でスプレーエッチング
(2次エッチング)を行い大孔開口パターン6aを形成
した。
[0039] Next, the spray etching (second etching) at a pressure of 3 kg / cm 2 by using an etching solution comprising ferric chloride which is heated from the large hole opening pattern 6 side 60 ° C. of the sheet metal 1 The large hole opening pattern 6a was formed.

【0040】次に、エッチング耐蝕樹脂層7、レジスト
パターン2a及び2bをアルカリ水溶液を用いて剥離処
理し、金属薄板1に小孔開口パターン5及び大孔開口パ
ターン6aが形成されたシャドウマスクを作製した。
Next, the etching corrosion-resistant resin layer 7 and the resist patterns 2a and 2b are peeled off using an alkaline aqueous solution to produce a shadow mask in which the small hole opening pattern 5 and the large hole opening pattern 6a are formed on the metal sheet 1. did.

【0041】<比較例>実施例と同様な工程で、金属薄
板1の両面に小孔パターン3及び大孔パターン4を有す
るレジストパターン2a及び2bを形成し、1次エッチ
ングを行って小孔開口パターン5、大孔開口パターン
6、レジストパターン2a及び2bを形成した。
<Comparative Example> In the same process as in the embodiment, resist patterns 2a and 2b having a small hole pattern 3 and a large hole pattern 4 are formed on both surfaces of the thin metal plate 1, and primary etching is performed to perform opening of the small hole. The pattern 5, the large hole opening pattern 6, and the resist patterns 2a and 2b were formed.

【0042】次に、金属薄板1の小孔開口パターン5側
に下記の耐蝕樹脂組成物Bをロールコーターを用いて塗
布し、乾燥・硬化して30μm厚のエッチング耐蝕樹脂
層7を形成した。
Next, the following corrosion-resistant resin composition B was applied to the small hole opening pattern 5 side of the metal thin plate 1 using a roll coater, dried and cured to form an etched corrosion-resistant resin layer 7 having a thickness of 30 μm.

【0043】 耐蝕樹脂組成物Bの組成 ポリプロピレングリコールジアクリレート…………………………42重量% ペンタエリスリトールトリアクリレート……………………………25重量% テトラヒドロフタル酸−1、6ヘキサンジオールアクリレート…30重量% 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン…………………… 3重量%Composition of Corrosion Resistant Resin Composition B Polypropylene Glycol Diacrylate 42% by weight Pentaerythritol triacrylate 25% by weight Tetrahydrophthalic acid-1 6 hexanediol acrylate 30% by weight 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 3% by weight

【0044】次に、実施例と同様な工程で2次エッチン
グし、アルカリ剥離剤を用いて、剥離処理を行ってシャ
ドウマスクを作製した
Next, secondary etching was performed in the same steps as in the example, and a release treatment was performed using an alkali release agent to produce a shadow mask.

【0045】上記実施例及び比較例で得られたエッチン
グ耐蝕樹脂層及びシャドウマスクについて以下の評価を
行った。 密着性試験:実施例及び比較例で得られたエッチング
耐蝕樹脂層が形成された工程途中サンプルを70℃塩化
第二鉄液からなるエッチング液に20分間浸漬処理した
後、エッチング耐蝕樹脂層表面を1mm角ブロック、計
100個をナイフでクロスカットしその上に粘着テープ
によるごばん目剥離を行い、残っているエッチング耐蝕
樹脂層のブロック個数を目視及び光学顕微鏡にて観察し
密着力を調べた。 90°屈曲試験:実施例及び比較例で得られたエッチ
ング耐蝕樹脂層を形成した工程途中サンプルを70℃塩
化第二鉄液からなるエッチング液に20分間浸漬処理し
た後、90°折り曲げてエッチング耐蝕樹脂層表面のク
ラック発生数を光学顕微鏡にて観察し可撓性を調べた。 シャドウマスク評価:実施例及び比較例で得られた長
孔タイプのシャドウマスクを目視及び光学顕微鏡にて観
察し、アルカリ腐蝕や変色箇所の有無を外観検査仕様に
もとずいて良品、不良品を判定した。 〜の評価結果を表1に示す。
The following evaluations were performed on the etched corrosion-resistant resin layers and shadow masks obtained in the above Examples and Comparative Examples. Adhesion test: A sample in the process of forming the etching and corrosion resistant resin layer obtained in Examples and Comparative Examples was immersed in an etching solution comprising a ferric chloride solution at 70 ° C. for 20 minutes. A 1 mm square block, a total of 100 pieces, was cross-cut with a knife, and then the particles were peeled off with an adhesive tape, and the number of blocks of the etched corrosion-resistant resin layer was visually observed and observed with an optical microscope to check the adhesion. . 90 ° bending test: A sample in the process of forming the etching and corrosion resistant resin layers obtained in Examples and Comparative Examples was immersed in an etching solution composed of a ferric chloride solution at 70 ° C. for 20 minutes, and then bent at 90 ° to perform etching and corrosion resistance. The number of cracks generated on the surface of the resin layer was observed with an optical microscope to examine the flexibility. Shadow mask evaluation: Observing the long hole type shadow masks obtained in the examples and comparative examples visually and with an optical microscope to determine whether there is any alkali corrosion or discoloration, based on the appearance inspection specification, and determine whether the product is good or defective. Judged. Table 1 shows the results of the evaluation.

【0046】[0046]

【表1】 [Table 1]

【0047】表1の結果からも分かるように、本発明の
耐蝕樹脂組成物Aで形成した実施例のエッチング耐蝕樹
脂層は所定の被膜強度を有し、柔軟性及び可撓性(たわ
み性)に優れており、シャドウマスクを作製した場合、
従来に比べエッチング耐性が向上し、且つ孔径寸法及び
孔形状不良のないシャドウマスクが得られた。
As can be seen from the results shown in Table 1, the etched corrosion-resistant resin layer of the embodiment formed of the corrosion-resistant resin composition A of the present invention has a predetermined film strength, flexibility and flexibility (flexibility). When a shadow mask is made,
As a result, a shadow mask having improved etching resistance and free from defective hole diameter and hole shape was obtained.

【0048】[0048]

【発明の効果】本発明の耐蝕樹脂組成物でエッチング耐
蝕樹脂層を形成し、シャドウマスクを製造することによ
り、エッチング耐蝕樹脂層形成後の2次エッチングにお
いて、スプレーエッチングによる加熱や応力を受けても
エッチング耐蝕樹脂層にひび割れや剥離等が生じず、従
来に比べより多くの良品シャドウマスクを得ることがで
きる。従って、シャドウマスク製造工程でのエッチング
時間の短縮、生産安定性が計れ、且つシャドウマスクの
品質が向上し、優れた実用上の効果を発揮する。
According to the present invention, the corrosion-resistant resin composition of the present invention is used to form an etching-corrosion-resistant resin layer, and a shadow mask is manufactured. Also, cracks and peeling do not occur in the etching and corrosion resistant resin layer, so that more non-defective shadow masks can be obtained than in the past. Therefore, the etching time in the shadow mask manufacturing process can be shortened, the production stability can be measured, and the quality of the shadow mask can be improved, thereby exhibiting excellent practical effects.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)〜(f)は、本発明のエッチング耐蝕樹
脂層を用いてシャドウマスクを作製する際の製造工程を
工程順に示す部分断面図である。
1 (a) to 1 (f) are partial cross-sectional views showing the steps of manufacturing a shadow mask using an etching and corrosion resistant resin layer of the present invention in the order of steps.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……金属薄板 2……感光層 2a、2b……レジストパターン 3……小孔パターン 4……大孔パターン 5……小孔開口パターン 6……大孔開口パターン 6a……2次エッチング後の大孔開口パターン 7……エッチング耐蝕樹脂層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Metal thin plate 2 ... Photosensitive layer 2a, 2b ... Resist pattern 3 ... Small hole pattern 4 ... Large hole pattern 5 ... Small hole opening pattern 6 ... Large hole opening pattern 6a ... After secondary etching Large hole opening pattern 7: Etching corrosion resistant resin layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08F 290/06 C08F 290/06 Fターム(参考) 2H025 AA00 AB17 AC01 AD01 BC14 BC34 BC43 BC53 BJ06 CA02 CA03 CA04 CC05 DA18 DA20 EA04 FA07 FA40 FA48 2H096 AA27 BA05 CA12 EA02 HA13 HA17 JA01 4J011 QB03 QB13 QB16 QB24 SA01 SA21 SA31 TA05 TA10 VA01 WA01 WA02 4J027 AB03 AB06 AB08 AB10 AB15 AB17 AB18 AB19 AB23 AB24 AB25 AC03 AC04 AC06 AJ03 BA07 BA19 BA20 BA21 BA24 BA26 CA24 CB10 CC05 CC06 CD10 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C08F 290/06 C08F 290/06 F term (Reference) 2H025 AA00 AB17 AC01 AD01 BC14 BC34 BC43 BC53 BJ06 CA02 CA03 CA04 CC05 DA18 DA20 EA04 FA07 FA40 FA48 2H096 AA27 BA05 CA12 EA02 HA13 HA17 JA01 4J011 QB03 QB13 QB16 QB24 SA01 SA21 SA31 TA05 TA10 VA01 WA01 WA02 4J027 AB03 AB06 AB08 AB10 AB15 AB17 AB18 AB19 AB23 AB24 AB25 AC03 BA04 BA06 A CB10 CC05 CC06 CD10

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】金属薄板の両面に所望のレジストパターン
を形成し、前記金属薄板の両面から1次エッチング(ハ
ーフエッチング)をして前記金属薄板の両面に小孔開口
パターン及び大孔開口パターンを形成した後、前記小孔
開口パターン側の前記金属薄板の片面にエッチング耐蝕
樹脂層を形成し、前記金属薄板のもう一方の面の大孔開
口パターンを2次エッチングして貫通させた後、前記エ
ッチング耐蝕樹脂層及び前記レジストパターンを剥離し
てシャドウマスクを作製するシャドウマスクの製造方法
において、 前記エッチング耐蝕樹脂層を形成している耐蝕樹脂組成
物が、分子構造中の末端または側鎖にアクリロイル基ま
たはメタアクリロイル基をもつ反応性不飽和オリゴマー
及びモノマーと、ベンゾインアルキルエーテル類、ベン
ゾフェノン類及びアセトフェノン類からなる群から選択
された光重合開始剤と、トリメリット酸系、アジピン酸
系及びマレイン酸系からなる群から選択されたエステル
可塑剤とからなることを特徴とする耐蝕樹脂組成物。
1. A desired resist pattern is formed on both sides of a thin metal plate, and primary etching (half etching) is performed on both sides of the thin metal plate to form a small hole opening pattern and a large hole opening pattern on both surfaces of the thin metal plate. After the formation, an etching and corrosion resistant resin layer is formed on one surface of the thin metal plate on the side of the small hole opening pattern, and the large hole opening pattern on the other surface of the thin metal plate is secondarily etched and penetrated. A method of manufacturing a shadow mask, wherein an etching corrosion-resistant resin layer and the resist pattern are peeled to form a shadow mask, wherein the corrosion-resistant resin composition forming the etching corrosion-resistant resin layer has acryloyl at a terminal or a side chain in a molecular structure. Unsaturated oligomers and monomers having a methacryloyl group or a benzoin alkyl ether, A corrosion-resistant resin comprising a photopolymerization initiator selected from the group consisting of nonones and acetophenones, and an ester plasticizer selected from the group consisting of trimellitic acid, adipic acid, and maleic acid. Composition.
【請求項2】25℃における粘度が5000cps以下
であることを特徴とする請求項1に記載の耐蝕樹脂組成
物。
2. The corrosion-resistant resin composition according to claim 1, wherein the viscosity at 25 ° C. is 5000 cps or less.
【請求項3】請求項1又は2記載の耐蝕樹脂組成物を用
いて前記小孔開口パターン側の前記金属薄板上に耐蝕樹
脂層を形成することを特徴とするエッチング耐蝕樹脂
層。
3. An etching and corrosion resistant resin layer, wherein a corrosion resistant resin layer is formed on the thin metal plate on the side of the small hole opening pattern using the corrosion resistant resin composition according to claim 1.
【請求項4】請求項1又は2記載の耐蝕樹脂組成物を用
いて前記エッチング耐蝕樹脂層を形成して2次エッチン
グすることを特徴とするシャドウマスクの製造方法。
4. A method of manufacturing a shadow mask, comprising forming the etching corrosion-resistant resin layer using the corrosion-resistant resin composition according to claim 1 and performing secondary etching.
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