JP2000063452A - Insulating die attach paste - Google Patents

Insulating die attach paste

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JP2000063452A
JP2000063452A JP23671298A JP23671298A JP2000063452A JP 2000063452 A JP2000063452 A JP 2000063452A JP 23671298 A JP23671298 A JP 23671298A JP 23671298 A JP23671298 A JP 23671298A JP 2000063452 A JP2000063452 A JP 2000063452A
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acrylate
meth
die attach
insulating
paste
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an insulating die attach paste excellent in quick curability, heat resistance, and moisture resistance of adhesion by compounding a specific urethane di(meth)acrylate, a di(meth)acrylate, a phosphoric acid group-contg. (meth)acrylate, an alicyclic epoxidized alkoxysilane, an org, peroxide and/or an azo compd., and an insulating filler. SOLUTION: This paste comprises (A) a urethane di(meth)acrylate obtd. by reacting a hydroxyalkyl(meth)acrylic acid, a polyalkylene glycol, and a diisocyanate, (B) a di(meth)acrylate of formula I, (C) a phosphoric-acid-group- contg. (meth)acrylate of formula II or III, (D) an alicyclic epoxidized alkoxysilane, (E) an org. peroxide and/or an azo compd., and (F) an insulating filler in such wt. ratios that: 0.1<=A/B<=5, 0.001<=(C+D)/(A+B)<=0.05, 0.1<=C/D<=10, 0.01<=E/(A+B)<=0.05 and 0.10<=F/(A+B+C+D)<=0.80.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する利用分野】本発明は、速硬化性及び耐湿
接着性に優れた半導体接着用絶縁性ダイアタッチペース
トに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an insulating die attach paste for adhering to a semiconductor, which is excellent in quick-curing property and moisture-resistant adhering property.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より半導体パッケージ組立工程にお
いて、半導体(ICチップ)をリードフレームに接着固
定しワイヤーボンディング時のチップのズレを防止する
ためにダイアタッチペーストが用いられている。ダイア
タッチペーストには半導体に蓄積する熱や静電気をリー
ドフレームに逃すための導電性ペースト特に銀ペースト
及び、それを必要としない絶縁性ペーストが存在する
が、本発明は後者に関するものである。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor package assembling process, a die attach paste has been used for fixing a semiconductor (IC chip) to a lead frame by adhesion so as to prevent chip displacement during wire bonding. The die attach paste includes a conductive paste, particularly a silver paste, for releasing heat and static electricity accumulated in the semiconductor to the lead frame, and an insulating paste that does not require it. The present invention relates to the latter.

【0003】従来より絶縁性ペーストはオーブンにて温
度150〜200℃で1〜2時間以上の時間をかけて熱
硬化させるのが常法となっており、エポキシ樹脂をベー
スレジンとした製品が多く市場に出されている。しかし
ながら、最近のコンピューター量産化や低コスト化に伴
い生産性の向上が要求されるようになりつつあり、絶縁
性ペーストにも速硬化性が要求されるようになった。こ
の場合、オーブン硬化では15分以内、熱盤硬化(イン
ラインキュア)では1〜2分がその開発ターゲットとな
っている。
Conventionally, it has been a common practice to heat-cure an insulating paste in an oven at a temperature of 150 to 200 ° C. for a time of 1 to 2 hours or more, and many products use an epoxy resin as a base resin. It is on the market. However, with the recent trend toward mass production of computers and cost reduction, it has been required to improve the productivity, and the insulating paste is also required to have a rapid curing property. In this case, the development target is within 15 minutes for oven curing and 1-2 minutes for hot plate curing (in-line cure).

【0004】更に従来より、リードフレームの材質とし
ては例えば42アロイや銅等(表面のメッキとして金、
銀、ニッケル/パラジウム等)の金属が主流となってい
るが、最近ではコンピューターの高性能化のため、BG
A(ボールグリッドアレイ)パッケージがさかんに用い
られるようになってきている。そのため、チップ(半導
体)とソルダーレジスト(有機基板)との接着性がかな
り重視されるようになってきている。この場合、おおよ
そ温度150℃〜175℃で15分以内の硬化が要求さ
れるため、新しい材料の開発が必要となっている。
Further, conventionally, as the material of the lead frame, for example, 42 alloy, copper or the like (gold as the surface plating,
Metals such as silver and nickel / palladium have become the mainstream, but recently due to the high performance of computers, BG
A (ball grid array) packages are being widely used. For this reason, the adhesiveness between the chip (semiconductor) and the solder resist (organic substrate) is becoming more important. In this case, it is necessary to cure the material at a temperature of 150 ° C. to 175 ° C. for 15 minutes or less, which requires the development of a new material.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、アクリレー
ト樹脂を用い、速硬化性、耐熱性、有機基板に対する耐
湿接着性に優れた絶縁性ダイアタッチペーストを提供す
るものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides an insulating die attach paste which uses an acrylate resin and is excellent in quick-curing properties, heat resistance, and moisture-resistant adhesiveness to organic substrates.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】即ち本発明は、下記
(A)〜(F)を必須成分とし、それぞれの重量比が
[a]〜[f]で表されるダイアタッチペーストであ
る。 (A)ヒドロキシアルキルアクリル酸又はメタクリル
酸、ポリアルキレングリコール、及びジイソシアネート
を反応させて得られるウレタンジアクリレートまたはメ
タクリレート、(B)一般式(1)で示されるジアクリ
レート及び/又はジメタクリレート (C)一般式(2)で示されるリン酸基含有アクリレー
ト及び/又は一般式(3)で示されるリン酸基含有メタ
クリレート、(D)脂環式エポキシ基を有するアルコキ
シシラン、(E)有機過酸化物及び/又はアゾ化合物、
及び(F)絶縁性フィラー。
Means for Solving the Problems That is, the present invention is a die attach paste in which the following (A) to (F) are essential components and the weight ratio of each is represented by [a] to [f]. (A) Hydroxyalkyl acrylic acid or methacrylic acid, polyalkylene glycol, and urethane diacrylate or methacrylate obtained by reacting diisocyanate, (B) Diacrylate and / or dimethacrylate (C) represented by the general formula (1) Phosphoric acid group-containing acrylate represented by general formula (2) and / or phosphoric acid group-containing methacrylate represented by general formula (3), (D) alicyclic epoxy group-containing alkoxysilane, (E) organic peroxide And / or an azo compound,
And (F) an insulating filler.

【0007】[0007]

【化1】 [Chemical 1]

【0008】[0008]

【化2】 [Chemical 2]

【0009】[0009]

【化3】 [Chemical 3]

【0010】 [a] 0.1≦A/B≦5 [b] 0.001≦(C+D)/(A+B)≦0.05 [c] 0.1≦C/D≦10 [d] 0.001≦E/(A+B)≦0.05 [e] 0.10≦F/(A+B+C+D+E+F)≦0.80[0010] [A] 0.1 ≦ A / B ≦ 5 [B] 0.001 ≦ (C + D) / (A + B) ≦ 0.05 [C] 0.1 ≦ C / D ≦ 10 [D] 0.001 ≦ E / (A + B) ≦ 0.05 [E] 0.10 ≦ F / (A + B + C + D + E + F) ≦ 0.80

【0011】[0011]

【発明の実態の形態】本発明に用いられるウレタンジア
クリレート又はウレタンジメタクリレート(成分A)は
常法によりヒドロキシアルキルアクリル酸又はメタクリ
ル酸、アルキレングリコール、ジイソシアネートの反応
により合成される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Urethane diacrylate or urethane dimethacrylate (component A) used in the present invention is synthesized by a reaction of hydroxyalkyl acrylic acid or methacrylic acid, alkylene glycol and diisocyanate by a conventional method.

【0012】ヒドロキシアルキルアクリル酸又はメタク
リル酸の例としては2−ヒドロキシエチルアクリレート
又はメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート又はメタクリレートがある。アルキレングリコール
の例としてはプロピレングリコールやテトラメチレング
リコール等がある。又、ジイソシアネートの例としては
ヘキサメチレンジイソシアネート、イソフォロンジイソ
シアネート、トルエンジイソシアネート及びその水素添
加物等がある。
Examples of hydroxyalkyl acrylic acid or methacrylic acid are 2-hydroxyethyl acrylate or methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate or methacrylate. Examples of alkylene glycols include propylene glycol and tetramethylene glycol. Examples of diisocyanates include hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, toluene diisocyanate and hydrogenated products thereof.

【0013】成分Bの一般式(1)で示されるジアクリ
レート及び/又はジメタクリレートの例としては、ジメ
チロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート等が
挙げられる。
Examples of the diacrylate and / or dimethacrylate represented by the general formula (1) of the component B include dimethylol tricyclodecane di (meth) acrylate.

【0014】成分Aと成分Bの配合比は0.1≦A/B
≦5であることが必要である。0.1を下回るとペース
トの硬化収縮が激しくなり、チップの反りや剥離を生じ
る。逆に5を上回ると接着強度が低下し、粘度が著しく
上昇する。
The mixing ratio of the components A and B is 0.1 ≦ A / B
It is necessary that ≦ 5. When it is less than 0.1, the curing shrinkage of the paste becomes severe and the chip warps or peels off. On the contrary, when it exceeds 5, the adhesive strength is lowered and the viscosity is remarkably increased.

【0015】次に、成分Cの一般式(2)で示されるリ
ン酸基含有アクリレート及び/又は一般式(3)で示さ
れるリン酸基含有メタクリレートは、カップリング剤と
して機能するものである。次に、脂環式エポキシ基を有
するアルコキシシランとは例えば、信越化学工業(株)・
製、KBM−303等が知られている。成分Cと成分D
の総添加量は成分A及び成分Bの総重量に対して0.0
01≦(C+D)/(A+B)≦0.05であることが
好ましい。0.001を下回ると接着性に効果を示さ
ず、0.05より多いと成分Cと成分Dの反応に伴い粘
度が著しく上昇するとともに接着性がかえって低下す
る。
Next, the phosphoric acid group-containing acrylate represented by the general formula (2) and / or the phosphoric acid group-containing methacrylate represented by the general formula (3) of the component C functions as a coupling agent. Next, the alkoxysilane having an alicyclic epoxy group is, for example, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Manufactured by KBM-303 and the like are known. Ingredient C and ingredient D
The total addition amount of 0.0 is 0.0 with respect to the total weight of component A and component B.
It is preferable that 01 ≦ (C + D) / (A + B) ≦ 0.05. If it is less than 0.001, it has no effect on the adhesiveness, and if it is more than 0.05, the viscosity is remarkably increased with the reaction between the components C and D and the adhesiveness is rather lowered.

【0016】本発明において成分Cと成分Dは必須成分
であり一方が欠けても本発明を具現する事はできない。
その構成比は0.1≦C/D≦10が好ましい。0.1
を下回るとアルコキシシランの濃度が低くなり接着界面
への効果が低下する。また10を越えるとリン酸基濃度
が高くなり必要以上に接着界面に作用し接着性を低下さ
せてしまう。
In the present invention, the components C and D are essential components, and the present invention cannot be embodied even if one of them is missing.
The composition ratio is preferably 0.1 ≦ C / D ≦ 10. 0.1
When it is below the range, the concentration of the alkoxysilane becomes low, and the effect on the adhesive interface decreases. On the other hand, when it exceeds 10, the phosphate group concentration becomes high and acts on the adhesive interface more than necessary, resulting in a decrease in adhesiveness.

【0017】成分C及び成分Dの作用としてはは両者が
混合することにより、脂環式エポキシが重合し、側鎖に
アルコキシシランがあるオリゴマーが生成し、界面への
接着が強固になると推定される。
It is presumed that the action of the components C and D is such that when they are mixed, the alicyclic epoxy is polymerized to form an oligomer having alkoxysilane in the side chain, and the adhesion to the interface is strengthened. It

【0018】次に有機過酸化物の例としては、キュミル
パーオキシネオデカネート、t−ブチルパーオキシネオ
デカネート、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパ
ーオキシネオデカネート、1,1,3,3−テトラメチ
ルブチルパーオキシネオデカネート、1,1,3,3−
テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネー
ト、ビス(4−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカ
ーボネート、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカ
ーボネート、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−
3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、t−ブチルパ
ーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシ3,5,
5−トリメチルヘキサネート、t−ブチルパーオキシ−
2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ヘキシルパ
ーオキシ−2−エチルヘキサネート等があり、アゾ化合
物の例としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリ
ル、1,1’−アゾビス(1−アセトキシ−1−フェニ
ルエタン)等がある。
Next, as examples of organic peroxides, cumyl peroxyneodecanate, t-butylperoxyneodecanate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxyneodecanate, 1,1,3 , 3-Tetramethylbutyl peroxyneodecanate, 1,1,3,3-
Tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanate, bis (4-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, 1,1-bis (t-butylperoxy)-
3,3,5-trimethylcyclohexane, t-butylperoxybenzoate, t-butylperoxy 3,5
5-trimethylhexanate, t-butylperoxy-
There are 2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexyl peroxy-2-ethylhexanate, and the like, and examples of azo compounds include 2,2′-azobisisobutyronitrile and 1,1′-azobis (1-acetoxy). -1-phenylethane) and the like.

【0019】これら有機過酸化物及び/又はアゾ化合物
は単独あるいは硬化性を制御するため2種類以上を混合
して用いることもできる。更に、樹脂の保存性を向上す
るために各種重合禁止剤を予め添加しておくことも可能
である。
These organic peroxides and / or azo compounds may be used alone or in admixture of two or more in order to control the curability. Further, various polymerization inhibitors may be added in advance in order to improve the storage stability of the resin.

【0020】これら有機過酸化物及び/又はアゾ化合物
の添加量としては0.001≦E/(A+B)≦0.0
5であることが好ましい。0.001より少ないと硬化
速度が遅くなり、0.05より多いと有機過酸化物及び
/又はアゾ化合物同士の反応等により接着強度が低下し
たり、ペーストのポットライフが悪くなり好ましくな
い。
The addition amount of these organic peroxides and / or azo compounds is 0.001 ≦ E / (A + B) ≦ 0.0.
It is preferably 5. If it is less than 0.001, the curing rate will be slow, and if it is more than 0.05, the adhesive strength will be reduced due to the reaction between organic peroxides and / or azo compounds, and the pot life of the paste will be unfavorable.

【0021】次に絶縁性フィラーの例としては、シリ
カ、アルミナ、窒化アルミ、ポリイミド等があり、一般
的にはシリカを使用する。平均粒径としては、30μm
以下のものが好ましい。平均粒径が30μmより大きい
と接着剤層の厚みが制御しにくく好ましくない。添加量
としては、全ペーストに対し10重量%から80重量%
の範囲であることが好ましい。10%に満たない場合や
80%を超える場合、塗布作業性において好ましくな
い。
Next, examples of the insulating filler include silica, alumina, aluminum nitride, polyimide and the like, and silica is generally used. The average particle size is 30 μm
The following are preferred. If the average particle size is larger than 30 μm, it is difficult to control the thickness of the adhesive layer, which is not preferable. The amount of addition is 10 to 80% by weight based on the total paste.
It is preferably in the range of. If it is less than 10% or exceeds 80%, it is not preferable in coating workability.

【0022】本発明における樹脂ペーストは必要により
反応性希釈剤、溶剤、消泡剤、界面活性剤、チキソ調製
剤、エラストマー等の添加剤を用いることができる。
If desired, the resin paste in the present invention may contain additives such as a reactive diluent, a solvent, an antifoaming agent, a surfactant, a thixotropic agent and an elastomer.

【0023】本発明者は、アクリレート樹脂を用いるこ
とにより、従来のエポキシ樹脂系に比較して硬化反応速
度を著しく速くすることに成功した。更に有機基板との
密着性及び有機基板との線膨張率差を低減するために柔
軟なウレタンアクリレート樹脂を混合した。またこのア
クリレート樹脂系において、絶縁ペーストは銀ペースト
に比較すると弾性率が著しく低下するため接着強度が得
られないという現象が観測されたが、反応性希釈剤とし
てかさ高い置換基を有する二官能(メタ)アクリレート
を用いることにより架橋密度を増すことでその現象を妨
げた(この場合、かさ高い置換基の役割は、耐熱性の向
上、硬化収縮の軽減等である)。カップリング剤として
はリン酸系カップリング剤(成分C)及び脂環式エポキ
シ基含有カップリング剤(成分D)を混合することが重
要となる。これはおそらく成分Cのリン酸基により成分
Dの脂環式エポキシ基が開環し、その際の生成物が接着
性向上に関与しているのではないかと考えられる。
The inventor has succeeded in significantly increasing the curing reaction rate by using an acrylate resin as compared with the conventional epoxy resin system. Further, a flexible urethane acrylate resin was mixed in order to reduce the adhesiveness to the organic substrate and the difference in linear expansion coefficient from the organic substrate. In addition, in this acrylate resin system, it was observed that the insulating paste had a significantly lower elastic modulus than that of the silver paste, and thus the adhesive strength could not be obtained, but as a reactive diluent, a difunctional compound having a bulky substituent group ( The phenomenon was prevented by increasing the crosslink density by using (meth) acrylate (in this case, the role of the bulky substituent group is to improve heat resistance, reduce curing shrinkage, etc.). As the coupling agent, it is important to mix the phosphoric acid type coupling agent (component C) and the alicyclic epoxy group-containing coupling agent (component D). This is presumably because the alicyclic epoxy group of component D is ring-opened by the phosphoric acid group of component C, and the product at that time may be involved in improving the adhesiveness.

【0024】以下本発明を実施例で具体的に説明する。The present invention will be specifically described below with reference to examples.

【0025】[0025]

【実施例】 実施例1 ヒドロキシエチルアクリレート、テトラメチレングリコール、イソフォロンジイ ソシアネートを反応させて得られるウレタンジアクリレート(東亞合成(株)・製 、アロニックスM−1600) 50重量部 ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート(共栄社化学(株)・製、DCP −A) 100重量部 リン酸基含有メタクリレート(日本化薬(株)、KAYAMER,PM−21) 1重量部 脂環式エポキシアルコキシシラン(信越化学工業(株)、KBM−303) 0.5重量部 有機過酸化物開始剤(日本油脂(株)、パーヘキサ3M) 1.1重量部【Example】 Example 1 Hydroxyethyl acrylate, tetramethylene glycol, isophorone diii Urethane diacrylate obtained by reacting a cyanate (manufactured by Toagosei Co., Ltd. , Aronix M-1600) 50 parts by weight Dimethylol tricyclodecane diacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd., DCP -A) 100 parts by weight Phosphate group-containing methacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYAMER, PM-21)                             1 part by weight Alicyclic epoxyalkoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM-303)                         0.5 parts by weight Organic peroxide initiator (NOF CORPORATION, Perhexa 3M)                         1.1 parts by weight

【0026】上記原料を全て添加後、直ちに再び3本ロ
ールにて混練、得られた溶液(ワニスという)40重量
部に対して、シリカフィラー(電気化学工業(株)・
製、FB−30、平均粒径6μm)40重量部及びシリ
カフィラー((株)アドマチックス・製、SO−25
R、平均粒径0.5μm)20重量部を混合し、再度3
本ロールにて分散混練する。続いて真空下脱泡処理をし
て絶縁性ダイアタッチペーストを得た。
Immediately after adding all of the above raw materials, the mixture was kneaded again by a three-roll mill, and 40 parts by weight of the resulting solution (called varnish) was added to silica filler (Denki Kagaku Kogyo KK).
FB-30, average particle size 6 μm) 40 parts by weight and silica filler (manufactured by Admatics Co., Ltd., SO-25)
R, average particle size 0.5 μm) 20 parts by weight and mixed again 3
Disperse and knead with this roll. Subsequently, defoaming treatment was performed under vacuum to obtain an insulating die attach paste.

【0027】得られたペーストの粘度は、E型回転粘度
計を用いて2.5rpmでの値を測定した。更に有機基
板上に得られた銀ペーストを塗布後6mm角のチップを
マウントし、熱盤上(170℃、120秒)及びオーブ
ン内(150℃15分)にて硬化させた。但し、この場
合有機基板としてビスマレイミド−トリアジン(BT)
レジン製基板上にソルダーレジスト(太陽インキ社・
製、PSR−4000/CA−40)を形成したものを
用いた。接着強度は常温(25℃)及び熱時(200
℃)にて自動せん断強度測定装置(DAGE社製,BT
−100)を用いて測定した。
The viscosity of the obtained paste was measured at 2.5 rpm using an E type rotational viscometer. Further, after applying the obtained silver paste on an organic substrate, a 6 mm square chip was mounted and cured on a heating plate (170 ° C., 120 seconds) and in an oven (150 ° C. 15 minutes). However, in this case, the organic substrate is bismaleimide-triazine (BT).
Solder resist (Taiyo Ink
Manufactured by PSR-4000 / CA-40) was used. Adhesive strength is room temperature (25 ° C) and heat (200
Automatic shear strength measuring device (made by DAGE, BT)
-100).

【0028】更に、オーブンにて硬化したサンプルを吸
湿処理(温度85℃/湿度85%/72時間)させた後
の接着(熱時)強度も併せて測定した。これは半導体パ
ッケージの長期信頼性の指標となるものであり、接着強
度の低下が少ないほど良好とされている。
Further, the adhesion (at the time of heating) after the sample cured in an oven was subjected to a moisture absorption treatment (temperature 85 ° C./humidity 85% / 72 hours) was also measured. This is an index of long-term reliability of the semiconductor package, and the smaller the decrease in adhesive strength, the better.

【0029】また、実際にワイヤーボンディングシミュ
レーションを行った後のチップの剥離状況を超音波探傷
機を用いて観測した。その剥離の有無を表中に示す。結
果として実施例に示す処方(配合比率)にて調製したペ
ーストはオーブン/熱盤硬化ともに充分な接着強度を示
し、ワイヤーボンディングによるチップの剥離は全く観
測されなかった。従って、半導体パッケージとしての信
頼性の高いものである。
The state of chip separation after the actual wire bonding simulation was observed using an ultrasonic flaw detector. The presence or absence of peeling is shown in the table. As a result, the paste prepared by the formulation (mixing ratio) shown in the examples showed sufficient adhesive strength in both oven / hot plate curing, and no chip separation due to wire bonding was observed. Therefore, the semiconductor package has high reliability.

【0030】実施例2〜5、比較例1〜6 表中に示した組成にした以外は実施例1と全く同様にし
て絶縁性ペーストの作製及び評価を行った。
Examples 2-5, Comparative Examples 1-6 An insulating paste was prepared and evaluated in exactly the same manner as in Example 1 except that the compositions shown in the table were used.

【0031】[0031]

【表1】 [Table 1]

【0032】[0032]

【表2】 [Table 2]

【0033】表中の化合物の説明 ウレタンアクリレート1:ヒドロキシエチルアクリレー
ト、テトラメチレングリコール、イソフォロンジイソシ
アネートから成るウレタンジアクリレート(東亞合成
(株)・製、アロニックスM−1600) ウレタンアクリレート2:ポリエステル構造を含有する
ウレタンジアクリレート(東亞合成(株)・製、アロニッ
クスM−1100) ジアクリレート1:ジメチロールトリシクロデカンジア
クリレート(共栄社化学(株)・製、ライトアクリレー
トDCP−A) ジアクリレート2:1,6−ヘキサンジオールジアクリ
レート(共栄社化学(株)・製、ライトアクリレート
1.6HX−A) 成分C:一般式(3)においてa=1,b=1,c=2 成分D:脂環式エポキシ基含有アルコキシシラン(信越
化学工業(株)・製、KBM−303) 重合開始剤1:1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)
3,3,5−トリメチルシクロヘキサン(日本油脂(株)
・製、パーヘキサ3M) 重合開始剤2:和光純薬工業(株)・製、2,2’−アゾ
ビスイソブチロニトリル シリカ1:FB−30( 電気化学工業(株)・製、平
均粒径6μm) シリカ2:SO−25R((株)アドマチックス・製、
平均粒径0.5μm)
Description of compounds in the table Urethane acrylate 1: Urethane diacrylate composed of hydroxyethyl acrylate, tetramethylene glycol and isophorone diisocyanate (Toagosei Co., Ltd.)
Aronix M-1600, manufactured by Co., Ltd. Urethane acrylate 2: Urethane diacrylate containing polyester structure (Aronix M-1100, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) Diacrylate 1: Dimethyloltricyclodecane diacrylate (Kyoeisha) Chemical Co., Ltd., light acrylate DCP-A) Diacrylate 2: 1,6-hexanediol diacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd., light acrylate 1.6HX-A) Component C: General formula (3) A = 1, b = 1, c = 2 Component D: Alicyclic epoxy group-containing alkoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM-303) Polymerization initiator 1: 1,1-bis (t- Butyl peroxy)
3,3,5-Trimethylcyclohexane (NOF Corporation)
-Made by Perhexa 3M) Polymerization initiator 2: Wako Pure Chemical Industries, Ltd.-Made by 2,2'-azobisisobutyronitrile silica 1: FB-30 (Denki Kagaku Kogyo, Ltd., average particle size) Diameter 6 μm) Silica 2: SO-25R (manufactured by Admatics Co., Ltd.,
(Average particle size 0.5 μm)

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明により、速硬化性、耐熱性、有機
基板に対する耐湿接着性に優れた絶縁性ダイアタッチペ
ーストを得ることができる。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, it is possible to obtain an insulating die attach paste excellent in quick-curing property, heat resistance, and moisture-proof adhesiveness to an organic substrate.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J027 AG04 AG09 AG12 AG14 AG23 AG24 AG27 BA02 BA16 BA19 CA10 CA14 CA15 CA18 CA29 CA36 CB03 CB09 CC02 CD09 4J040 FA151 FA152 FA161 FA162 FA212 FA291 FA292 GA02 HA306 HB14 HB41 HD35 JA05 KA03 KA42 LA05 LA07 NA20 4J100 AL08R AL09P AL66P AL66Q BA03Q BA15R BA39P BA64R BC02Q CA05 DA57 FA03 JA03 JA44 5F047 AA11 BA33 BB11    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 4J027 AG04 AG09 AG12 AG14 AG23                       AG24 AG27 BA02 BA16 BA19                       CA10 CA14 CA15 CA18 CA29                       CA36 CB03 CB09 CC02 CD09                 4J040 FA151 FA152 FA161 FA162                       FA212 FA291 FA292 GA02                       HA306 HB14 HB41 HD35                       JA05 KA03 KA42 LA05 LA07                       NA20                 4J100 AL08R AL09P AL66P AL66Q                       BA03Q BA15R BA39P BA64R                       BC02Q CA05 DA57 FA03                       JA03 JA44                 5F047 AA11 BA33 BB11

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記(A)〜(F)を必須成分とし、そ
れぞれの重量比が[a]〜[f]で表される絶縁性ダイ
アタッチペースト。 (A)ヒドロキシアルキルアクリル酸又はメタクリル
酸、ポリアルキレングリコール、及びジイソシアネート
を反応させて得られるウレタンジアクリレートまたはメ
タクリレート、(B)一般式(1)で示されるジアクリ
レート及び/又はジメタクリレート(C)一般式(2)
で示されるリン酸基含有アクリレート及び/又は一般式
(3)で示されるリン酸基含有メタクリレート、(D)
脂環式エポキシ基を有するアルコキシシラン、(E)有
機過酸化物及び/又はアゾ化合物、及び(F)絶縁性フ
ィラー。 【化1】 【化2】 【化3】 [a] 0.1≦A/B≦5 [b] 0.001≦(C+D)/(A+B)≦0.05 [c] 0.1≦C/D≦10 [d] 0.001≦E/(A+B)≦0.05 [e] 0.10≦F/(A+B+C+D+E+F)≦0.80
1. An insulating die attach paste having the following components (A) to (F) as essential components and represented by weight ratios [a] to [f]. (A) Hydroxyalkyl acrylic acid or methacrylic acid, polyalkylene glycol, and urethane diacrylate or methacrylate obtained by reacting diisocyanate, (B) Diacrylate and / or dimethacrylate (C) represented by the general formula (1) General formula (2)
And a phosphoric acid group-containing acrylate represented by the general formula (3), (D)
An alkoxysilane having an alicyclic epoxy group, (E) an organic peroxide and / or an azo compound, and (F) an insulating filler. [Chemical 1] [Chemical 2] [Chemical 3] [A] 0.1 ≦ A / B ≦ 5 [b] 0.001 ≦ (C + D) / (A + B) ≦ 0.05 [c] 0.1 ≦ C / D ≦ 10 [d] 0.001 ≦ E /(A+B)≦0.05 [e] 0.10 ≦ F / (A + B + C + D + E + F) ≦ 0.80
【請求項2】 成分Fが平均粒径30μm以下のシリカ
フィラーである請求項1記載のダイアタッチペースト。
2. The die attach paste according to claim 1, wherein the component F is a silica filler having an average particle size of 30 μm or less.
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