JP2000061590A

JP2000061590A - 金属薄帯製造装置

Info

Publication number: JP2000061590A
Application number: JP10240818A
Authority: JP
Inventors: Junichi Murakami; 潤一村上; Akinobu Kojima; 章伸小島; Yutaka Yamamoto; 豊山本; Teruhiro Makino; 彰宏牧野
Original assignee: Alps Electric Co Ltd
Current assignee: Alps Alpine Co Ltd
Priority date: 1998-08-26
Filing date: 1998-08-26
Publication date: 2000-02-29

Abstract

(57)【要約】【課題】チャンバのような大がかりで、かつ作業性に
劣る付帯設備を設けることなく、溶湯ノズル近傍の酸素
濃度を低減できる金属薄帯製造装置を提供する。【解決手段】冷却ロール１と、溶湯ノズル２と、溶湯
吹き出し部先端部分から金属薄帯が冷却面１ａから剥離
する位置１ｂまで冷却面１ａを覆う大気遮断手段６０
と,冷却ロール１の回転方向後方に位置するロール表面
大気遮断手段６１と、金属薄帯が冷却面１ａから剥離す
る位置からロール表面大気遮断手段６１の位置まで冷却
面１ａを覆い、かつ冷却面１ａから離間するロール外周
大気遮断手段６８と、溶湯ノズル２周囲に少なくとも２
種類の不活性ガスを供給する第１ガスフロー供給手段
と、金属薄帯が冷却面１ａから剥離する位置から大気遮
断手段６０が設けられている位置までの間にあって、冷
却面１ａに向けて不活性ガスを供給する第２ガスフロー
供給手段とを具備してなる金属薄帯製造装置を採用す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、非晶質金属等の金
属薄帯を製造する装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】金属薄帯を製造する方法として、単一の
冷却ロールを用いる単ロール法が現在最も普及してい
る。図１１には、単ロール法を実施するための従来の金
属薄帯製造装置の要部を示す。単ロール法は、冷却ロー
ル１０１を高速で回転させつつその冷却面頂部に近接し
た溶湯ノズル１０２から溶融金属１０３を噴出すること
により、溶融金属１０３を冷却ロール１０１の冷却面で
急冷凝固させつつ、冷却ロールの回転方向（矢印Ａ方
向）に引き出すというものである。

【０００３】溶湯ノズル１０２から噴出した溶融金属１
０３は、溶湯ノズル１０２の先端と冷却ロール１０１の
冷却面との間で溜まり、金属溜まり１０４を形成し、冷
却ロール１０１の回転に伴って金属溜まり１０４から、
逐次溶融金属１０３が引き出され、冷却ロール１０１の
表面上で急冷凝固し、薄帯１０５が連続的に形成され
る。

【０００４】単ロール法に供される材料が酸化されやす
い組成からなる場合には、材料の酸化により溶湯ノズル
１０２が詰まり、溶融金属の噴出が滞ることがあった。
この問題点を解消するために、従来の単ロール法におい
ては、金属薄帯製造装置全体をチャンバ内に配置し、こ
のチャンバ内を不活性ガス雰囲気とすることにより、溶
湯ノズル近傍の酸素濃度を低減して材料の酸化を防止す
る方法が提案されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、チャンバ内を
不活性ガス雰囲気とする方法は、溶湯ノズル詰まりを防
止する上では極めて有効な手段であるが、装置全体がチ
ャンバ内にあるため作業性の点で課題があった。例え
ば、従来の単ロール法では、１チャージ毎にチャンバを
開放して溶融母材を溶解炉またはるつぼに装填し、再度
チャンバを密閉した後に不活性ガス雰囲気に置換すると
いう煩雑な作業が必要であった。また、チャンバ内を不
活性ガス雰囲気に保持するための付帯設備のコストが大
きいという課題もあった。

【０００６】本発明は、上述の課題を解決するためにな
されたものであり、チャンバのような大がかりで、かつ
作業性に劣る付帯設備を設けることなく、溶湯ノズル近
傍雰囲気の酸素濃度を低減することが可能な金属薄帯の
製造装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】溶湯ノズルの詰まりを防
止するために、溶湯ノズル近傍のみを不活性ガス雰囲気
とすることにより酸素量を低減することができれば、従
来のように薄帯製造装置全体を不活性ガス雰囲気下に置
く必要はない。そして、溶湯ノズル近傍のみを不活性ガ
ス雰囲気とする設備であれば、従来のチャンバに比べて
作業性の向上、また、設備コスト低減を図ることが可能
となる。また、冷却ロールの冷却面に沿って冷却ロール
の回転により溶湯ノズル近傍に巻き込まれる大気を充分
に遮断することが可能であれば、溶湯ノズル近傍の酸素
濃度をより低減することができ、酸化されやすい材料で
あっても溶湯ノズルの詰まりを防止できると期待され
る。そこで本発明者等は、この点に着目して検討を行っ
たところ、冷却ロールの回転による大気の溶湯ノズル周
囲への巻き込みを防止する大気遮断手段およびロール表
面大気遮断手段を適所に設けるとともに、不活性ガスを
溶湯ノズル周囲に供給する第１のガスフロー手段と、不
活性ガスを冷却面に供給する第２のガスフロー供給手段
とを設けることにより、溶湯ノズル周囲の酸素量を効率
よく低減することができることを知見するにいたった。
また、不活性ガスとして、少なくとも２種類の不活性ガ
スを使用することで、より一層効率よく酸素量を低減す
ることができることを見い出した。

【０００８】本発明の金属薄帯製造装置は、以上の知見
に基づきなされたものであり、回転する冷却ロールの冷
却面に金属溶湯を噴出させ、該金属溶湯を前記冷却面で
冷却して金属薄帯を得る金属薄帯製造装置であって、前
記冷却ロールと、前記冷却ロールと離間して前記冷却面
に向けて金属溶湯を噴出する溶湯ノズルと、少なくとも
前記溶湯ノズルの溶湯吹き出し部先端部分から少なくと
も前記金属薄帯が前記冷却面から剥離する位置まで、前
記冷却ロールの回転方向に沿って前記冷却面を覆い、前
記冷却ロールの回転による大気の巻き込みを防止する大
気遮断手段と、前記溶湯ノズルと前記冷却ロールとが対
向する位置よりも前記冷却ロールの回転方向後方に位置
して前記冷却面に接し、前記冷却ロールの回転により前
記冷却面に沿って前記溶湯ノズル周囲に巻き込まれる大
気を遮断するロール表面大気遮断手段と、少なくとも前
記金属薄帯が前記冷却面から剥離する位置から前記ロー
ル表面大気遮断手段が設けられる位置まで、前記冷却ロ
ールの回転方向に沿って延在して、前記冷却ロールを取
り囲むようにして前記冷却面を覆い、かつ前記冷却面か
ら離間するロール外周大気遮断手段と、前記溶湯ノズル
周囲に少なくとも２種類の不活性ガスを供給する第１ガ
スフロー供給手段と、少なくとも前記金属薄帯が前記冷
却面から剥離する位置から、前記大気遮断手段が設けら
れている位置までの間にあって、前記冷却面と離間して
前記冷却面に向けて不活性ガスを供給する第２ガスフロ
ー供給手段とを具備してなることを特徴とする。

【０００９】本発明において、不活性ガスとは、Ｎ₂、
Ｈｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ、Ｒｎのことをいう。

【００１０】このような金属薄帯製造装置では、第１ガ
スフロー供給手段から供給された少なくとも２種類の不
活性ガスが、溶湯ノズルの近傍に流れ込み、前記２種類
の不活性ガスのうち重い方の不活性ガスが、大気遮断手
段６０内の軽い方の不活性ガスの下に重い不活性ガス層
を形成し、パドル付近の不活性ガスの濃度を上昇させる
ことにより、また、第２ガスフロー供給手段から供給さ
れた不活性ガスが、冷却ロールの冷却面上を冷却ロール
の回転方向に沿って流れ、ロール表面大気遮断手段を不
活性ガスが通過して溶湯ノズルの近傍に流れ込むことに
より、溶湯ノズル近傍の酸素濃度を低減することができ
る。

【００１１】また、本発明の金属薄帯製造装置は、先に
記載の金属薄帯製造装置であって、前記第１ガスフロー
供給手段が、前記溶湯ノズルと前記冷却ロールとが対向
する位置よりも前記冷却ロールの回転方向後方に位置す
る第１のガスフローノズルおよび第２のガスフローノズ
ルと、前記溶湯ノズルと前記冷却ロールとが対向する位
置よりも前記冷却ロールの回転方向前方に位置する第３
のガスフローノズルおよび第４のガスフローノズルと、
前記溶湯ノズルの先端を囲むように設置され、前記溶湯
ノズルの先端を囲むように不活性ガスを供給する中空環
状の第６のガスフローノズルとを備えてなることを特徴
とする。

【００１２】このような金属薄帯製造装置とした場合、
前記溶湯ノズルと前記冷却ロールとが対向する位置を基
準として、前記冷却ロールの回転方向前方および後方の
位置と、前記溶湯ノズルの先端を囲む位置とから不活性
ガスを供給することができ、溶湯ノズル近傍の酸素濃度
をより一層低減することができる。

【００１３】また、第６のガスフローノズルを溶湯ノズ
ルの先端を囲むように設置し、前記第６のガスフローノ
ズルの外周位置と内周位置との中心の位置よりも若干内
側の位置に設けられた多数の孔から、溶湯ノズルの先端
を囲むようにガスをフローするものとした場合、第６の
ガスフローノズルからの第６のガスフローによって、溶
湯ノズル近傍の酸素濃度を、より一層低減することがで
きる。また、第６のガスフローノズルは、その外径と内
径の中心の位置に複数の孔を環状に設けてなるものとす
ることや、孔に代えて、環状スリットを設けてなるもの
とすることもできる。また、渦巻状に形成してなるもの
とし、溶湯ノズルの先端を２重に取り囲むようにしても
よい。

【００１４】さらにまた、本発明の金属薄帯製造装置
は、先に記載の金属薄帯製造装置であって、前記第１の
ガスフローノズルは、前記冷却ロールの略接線方向から
前記溶湯ノズルの先端方向に向けて設置され、他のガス
フローノズルが供給する不活性ガスよりも重い不活性ガ
スをガスフローするようにされ、前記第２のガスフロー
ノズルは、前記溶湯ノズルと前記第１のガスフローノズ
ルとの間に設置され、前記第１のガスフローノズルから
のガスフロー上にガスフローするようにされていること
を特徴とする。

【００１５】このような金属薄帯製造装置とした場合、
前記第１のガスフローノズルから供給された重い方の不
活性ガスが、前記第２のガスフローノズルからのガスフ
ローによって、溶湯ノズル近傍の冷却ロール上に載置さ
れ、溶湯ノズル近傍の不活性ガスの濃度が上昇するの
で、溶湯ノズル近傍の酸素濃度をより一層低減すること
ができる。さらに、前記不活性ガスは、Ｎ₂とＡｒであ
ることが望ましい。

【００１６】また、本発明の金属薄帯製造装置は、先に
記載の金属薄帯製造装置であって、前記大気遮断手段
が、前記溶湯ノズルの位置よりも前記冷却ロールの回転
方向前方の正面に設けられたロール正面大気遮蔽板と、
前記溶湯ノズルの位置よりも前記冷却ロールの回転方向
前方の両側面に前記冷却ロールを挟むように設けられて
前記ロール正面大気遮蔽板と当接する一対のロール前方
大気遮蔽板と、前記冷却ロールの回転方向の前方から後
方に向けて延在し、前記ロール前方大気遮蔽板の上端縁
と当接して前記冷却ロールの上方に位置するロール上方
大気遮断板と、前記冷却ロールを挟んで前記ロール前方
大気遮断板及び前記ロール外周大気遮断手段と当接する
一対のロール側面大気遮断板とを少なくとも具備してな
り、前記ロール上方大気遮断板は、前記冷却ロールの
回転方向の後方に向けて進むに従って、前記冷却ロール
の前記冷却面に接近するように設けられ、前記溶湯ノズ
ルの前記溶湯吹き出し部先端部分は、前記ロール上方大
気遮断板に設けられたノズル取り付け孔を貫通して前記
冷却ロールの前記冷却面を望むように配置されたことを
特徴とする。

【００１７】このような金属薄帯製造装置とした場合、
大気遮断手段が、冷却ロールの回転方向前方及び後方に
設けられているので、冷却ロールの回転に伴って回転方
向前方及び後方から溶湯ノズル近傍に巻き込まれる大気
を遮断することができる。また、冷却ロールの回転方向
前方の上面に設けられてロール前方大気遮蔽板の上端縁
と当接するロール上方大気遮断板が設けられ、前記ロー
ル上方大気遮断板が、冷却ロールの回転方向前方から後
方に向けて延在し、冷却ロールの回転方向後方に進むに
従って冷却ロールの冷却面に接近するように設けられて
いるので、ロール外周大気遮断手段内部の溶湯ノズル近
傍の空間が狭くなって、溶湯ノズル近傍の雰囲気の組成
分布が影響を受けることがないので、均一な特性の金属
薄帯を製造できる。さらにまた、溶湯ノズルの溶湯吹き
出し部先端部分は、ノズル取り付け孔を貫通して冷却ロ
ールに望むように配置されており、溶湯ノズル本体とる
つぼと加熱コイルとは、ロール上方大気遮断板の外側に
位置しているので、大気遮断手段に対して溶湯ノズルの
着脱を容易にすることができる。また、大気遮断手段内
部の雰囲気を維持したまま、るつぼへの溶融母材のチャ
ージを容易に行うことができるものとなる。

【００１８】前記第１ガスフロー供給手段からのガス流
量は２００〜６００ｌ／ｍｉｎ．であることが好まし
い。それは、流量が２００l/min未満では、溶湯ノズル
２近傍雰囲気の酸素量低減に効果がなく、一方、６００
l/minを超えても、ガスフローによる周囲からの大気の
巻き込みが原因となり、酸素濃度低減効果が減じて供給
量に見合う効果が望めないからである。

【００１９】また、前記第２ガスフロー供給手段からの
ガス流量は１８０〜３８０ｌ／ｍｉｎ．であることが好
ましい。それは、流量が１８０l/min未満では、やはり
溶湯ノズル近傍雰囲気の酸素量低減に効果がなく、一
方、３８０l/minを超えても、上記第１のガスフロー供
給手段の場合と同様の理由により、供給量に見合う効果
が望めないからである。

【００２０】さらに、本発明の金属薄帯製造装置は、
先に記載の金属薄帯製造装置であって、前記溶湯ノズル
の位置よりも前記冷却ロールの回転方向前方に大気滞留
部が設けられたことを特徴とする。

【００２１】このような金属薄帯製造装置とした場合、
冷却ロールの回転方向前方に大気滞留部が設けられてい
るので、大気滞留効果により、ロール外周大気遮断手段
内部への大気の巻き込みを防止することができる。

【００２２】前記大気滞留部は、前記ロール外周大気遮
断手段の内部に設けられることもできるし、外部に設け
ることもできる。また、この大気滞留部は、前記大気遮
断手段の開口部面積より大の開口面積を有するようにす
ることが好ましい。さらに、前記大気滞留部は、その内
部を複数の仕切板により区切られたものであってもよ
い。

【００２３】したがって、本発明によれば、チャンバの
ような大がかりで、作業性に劣る付帯設備を設けること
なく、溶湯ノズル近傍雰囲気の酸素濃度を低減すること
ができ、また、連続生産することができる。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態である金
属薄帯製造装置を図面を参照して説明する。図１、図２
及び図３において、本実施の形態に係る金属薄帯製造装
置は、回転する冷却ロール１の冷却面１ａに金属溶湯を
噴出させ、この金属溶湯を冷却面１ａで冷却して金属薄
帯を得るものである。この金属薄帯製造装置は、冷却ロ
ール１と、溶湯を保持するるつぼ３の下端部に連接され
る溶湯ノズル２と、溶湯ノズル２及びるつぼ３の外周に
捲回・配置された加熱コイル４と、少なくとも溶湯ノズ
ル２の溶湯吹き出し部先端部分から少なくとも金属薄帯
が冷却面１ａから剥離する位置１ｂまで、冷却ロール１
の回転方向に沿って冷却面１ａを覆い、冷却ロール１の
回転による大気の巻き込みを防止する大気遮断手段６０
と、溶湯ノズル２と冷却ロール１とが対向する位置より
も冷却ロール１の回転方向の反対方向に位置して冷却面
１ａに接するロール表面大気遮断手段であるロール表面
大気遮断板６１と、ロール外周大気遮断手段であるロー
ル外周大気遮断板６８と、不活性ガスを溶湯ノズル２近
傍にフローするための第１ガスフロー供給手段である第
１〜第４および第６のガスフローノズル５１、５２、５
３、５４、５６と、冷却ロール１の冷却面１ａに向けて
不活性ガスをフローする第２ガスフロー供給手段である
第５のガスフローノズル５５と、大気滞留部８０とから
基本的に構成されている。

【００２５】冷却ロール１は、図示しないモータにより
矢印（反時計）方向へ回転駆動される。冷却ロール１の
冷却面１ａは、炭素鋼、例えばＪＩＳＳ４５Ｃなどの
Ｆｅ基合金、または真鍮（Ｃｕ−Ｚｎ合金）、あるいは
純Ｃｕで構成することが望ましい。冷却ロール１の冷却
面１ａが真鍮あるいは純Ｃｕであると、熱伝導性が高い
ことから、冷却効果が高く、溶湯の急冷に適している。
冷却効果を向上させるためには、内部に水冷構造を設け
ることが望ましい。

【００２６】図２において、るつぼ３内で溶解された溶
融金属は、下端部の溶湯ノズル２から冷却ロール１の冷
却面１ａに向けて噴出される。るつぼ３の上部は、供給
管７を介してＡｒガスなどのガス供給源８に接続される
と共に、供給管７には、圧力調整弁９と電磁弁１０とが
組み込まれ、供給管７において圧力調整弁９と電磁弁１
０との間には圧力計１１が組み込まれている。また、供
給管７には補助管１２が並列的に接続され、補助管１２
には圧力調整弁１３、流量調整弁１４、流量計１５が組
み込まれている。したがって、ガス供給源８からるつぼ
３内にＡｒガスなどのガスを供給して溶湯ノズル２から
溶湯を冷却ロール１に向けて噴出する。

【００２７】金属薄帯の製造時には、冷却ロール１を高
速で回転させつつ、その頂部付近、もしくは、頂部より
やや前方に近接配置した溶湯ノズル２から溶湯を噴出す
ることにより、冷却ロール１の表面で急速冷却して固化
させつつ冷却ロール１の回転方向に帯状となして引き出
す。溶湯ノズル２の溶湯吹き出し口は矩形状を有する
が、吹出し幅（冷却ロール１の回転方向の幅）は、０．
１〜０．８mm程度であることが望ましい。０．１mm未満
であると溶湯の組成によっては溶湯ノズル詰まりが生じ
やすくなり、また、０．８mmを超えると十分な冷却が困
難な場合があるからである。

【００２８】金属薄帯製造時の冷却ロール１と溶湯ノズ
ル２との間隔は、０．１〜０．８mmの範囲で選択すれば
よい。０．１mm未満では溶湯の噴出が困難となり、溶湯
ノズル２の破損を引き起こすおそれがあるからであり、
また、０．８mmを超えると良好な性状の薄帯製造が困難
となるからである。冷却ロール１と溶湯ノズル２との間
隔が調整できるように、るつぼ３は、図示しない昇降手
段により昇降可能である。冷却ロール１は、金属薄帯製
造開始後から、温度上昇により表面が熱膨張して径が拡
大するため、冷却ロール１と溶湯ノズル２との間隔を製
造開始後に徐々に大きくしていくことが板厚精度の高い
薄帯を製造するためには望ましい。

【００２９】また、図１に示すように、冷却ロール１の
回転方向前下方には、薄帯誘導板７０とスクレイパー７
２とが備えられている。冷却面１ａにおいて溶湯が冷却
されて形成された金属薄帯は、スクレイパー７２により
冷却ロール１から剥離されて薄帯誘導板７０に案内さ
れ、更に通過口６４１を通過して金属薄帯製造装置の外
部に放出される。従って、スクレイパー７２の近傍が、
冷却面１ａから金属薄帯が剥離する位置１ｂとなる。

【００３０】更に、ロール表面大気遮断板６１は、図
１、図２及び図３に示すように、溶湯ノズル２と冷却ロ
ール１とが対向する位置よりも、冷却ロール１の回転方
向後方に位置しており、鋭角の先端部を有する板状構造
を有し、その鋭角の先端部を冷却ロール１の表面に接触
するようにして配置されている。このロール表面大気遮
断板６１は、冷却ロール１の表面に付着してくる大気の
パドル付近への巻き込みを遮断することを目的として配
置するものであり、冷却ロール１を高速で回転する際
に、冷却ロール１の表面に付着して、パドル付近へ巻き
込まれようとする大気を掻き取るようにして遮断する。

【００３１】ロール外周大気遮断手段であるロール外周
大気遮断板６８は、前記金属薄帯が冷却面１ａから剥離
する位置１ｂから、ロール表面大気遮断板６１（ロール
表面大気遮断手段）が設けられる位置まで、冷却ロール
１の回転方向に沿って延在して冷却ロール１を取り囲ん
で冷却面１ａを覆い、冷却面１ａと離間して設けられて
いる。

【００３２】第１ガスフロー供給手段による不活性ガス
の供給は、溶湯ノズル２を基準として後方側に設置され
る第１および第２のガスフローノズル５１、５２、前方
側に設置される第３および第４のガスフローノズル５
３、５４、前記溶湯ノズル２の先端を囲むように設置さ
れる第６のガスフローノズル５６からのガスフローによ
って供給することが望ましい。

【００３３】図２において、第１のガスフローノズル５
１は、溶湯ノズル２を基準として後方側に設置されるガ
スフロー供給を行うための手段のうちの１つである。こ
の第１のガスフローノズル５１は、冷却ロール１の後方
のほぼ接線方向から溶湯ノズル２の先端近傍（以下、パ
ドル生成部）にガスをフローするためのものである。そ
して、第１のガスフローノズル５１は、図１０に示すよ
うに、幅５mmの比較的細いスリット５１０を有し、ある
程度速い流速でガスをフローする。

【００３４】第２のガスフローノズル５２は、後方側に
設置されるガスフロー供給を行うための手段のうちのも
う１つである。この第２のガスフローノズル５２は、第
１のガスフローノズル５１からのガスフロー上にガスフ
ローし、第１のガスフローノズル５１から供給されたガ
スフローを大気と遮断して、大気が巻き込まれるのを防
止するガスフローを供給するために、溶湯ノズル２と第
１のガスフローノズル５１との間に設置されている。そ
して、第２のガスフローノズル５２は、図９に示すよう
に、第１のガスフローノズル５１より広い２０mmのスリ
ット５２０を有し、第１のガスフローより遅い流速でガ
スフローを行う。

【００３５】また、図２に示すように、第１および第２
のガスフローノズル５１、５２を、ロール表面大気遮断
板６１と溶湯ノズル２との間に設置しているので、ロー
ル表面大気遮断板６１により大気を遮断した直後に、不
活性ガスフローが供給されることになり、パドル生成部
付近の酸素濃度低減効果を向上させる。なお、大気のパ
ドル生成部付近への巻き込みをさらに効果的に遮断する
ために、ロール表面大気遮断板６１を複数設けても良
い。

【００３６】第３のガスフローノズル５３は、溶湯ノズ
ル２を基準として前方側に設置されるガスフロー供給を
行うための手段のうちの１つである。この第３のガスフ
ローノズル５３は、冷却ロール１の回転方向前方からの
大気の巻き込みを防止することを目的とするものであ
る。第３のガスフローノズル５３の形状は、図９に示す
ように、第２のガスフローノズル５２と同様であるが、
スリット５４０の幅を２．５mmと狭くしている。

【００３７】第４のガスフローノズル５４は、図１に示
すように、溶湯ノズル２の前方側に設置されるガスフロ
ー供給を行うための手段のうちのもう１つである。ロー
ル外周大気遮断手段６０の先端上部に設置され、冷却ロ
ール１の前方正面方向にある開口部６４１からの大気の
巻き込みを防止することを目的とするものである。第４
のガスフローノズル５４の形状は、図９に示すように、
第２、第３のガスフローノズル５２、５３と同様である
が、スリット５５０の幅を３mmとしている。

【００３８】第６のガスフローノズル５６は、前記溶湯
ノズル２の先端を囲むように設置されるガスフロー供給
を行うための手段である。この第６のガスフローノズル
５６は、溶湯ノズル２の先端を囲むようにガスをフロー
するためのものである。そして、第６のガスフローノズ
ル５６は、図１２に示すように、外径６ｍｍのパイプ５
６１を外径５７ｍｍ内径４５ｍｍの環状に形成してなる
環状パイプからなるものである。前記第６のガスフロー
ノズル５６には、その外周位置と内周位置との中心の位
置よりも若干内側の位置に、外径１．５ｍｍの多数の孔
５６２が３．５ｍｍのピッチ５６３で環状に設けられて
いる。

【００３９】以上の第１〜第４および第６のガスフロー
ノズル５１、５２、５３、５４、５６は、単独で用いる
ことは勿論、複数を組み合わせて使用することができ
る。パドル生成部付近の酸素低減効果は、第１および第
２のガスフローノズルが最も大きい。

【００４０】第１〜第４および第６のガスフローノズル
５１、５２、５３、５４、５６には、図２の第１のガ
スフローノズル５１について例示するように、圧力調整
弁１６が接続された接続管１７を介してガス供給源１８
に接続される。

【００４１】また、第２ガスフロー供給手段による不活
性ガスの供給は、図１に示すように、冷却ロール１の
冷却面１ａに向けてなされるものであって、大気遮断手
段６０が設けられている位置から、より好ましくは冷却
面１ａから金属薄帯が剥離する位置１ｂから、ロール表
面大気遮断板６１が設けられている位置までの間で行う
ことが望ましい。

【００４２】図１において、第２ガスフロー供給手段で
ある第５のガスフローノズル５５は、冷却面１ａと離
間して冷却ロール１のほぼ真下に位置しており、ロール
外周大気遮断板６８の任意の位置に形成された孔６８ａ
から冷却面１ａを望むように設けられて、冷却面１ａに
向けてガスをフローできるようになっている。第５のガ
スフローノズル５５は、図１０に示すように、幅２．５
mmの比較的細いスリット５５０を有し、ある程度大きな
流量でガスをフローする。

【００４３】第５のガスフローノズルから供給された不
活性ガスは、冷却ロール１の回転により冷却面１ａ上を
冷却ロール１の回転方向に沿って流れ、ロール表面大気
遮断板６１の近傍に達する。ロール表面大気遮断板６１
は、冷却面１ａに接して配置されているが、前記ロール
表面大気遮断板６１と冷却面１ａとの間には微小な隙間
がある。この隙間を、冷却面１ａに沿って流れてきた不
活性ガスが通過して、溶湯ノズル２の近傍に流れ込み、
パドル生成部付近の酸素濃度を低減することが可能とな
る。また、ロール外周大気遮断板６８を設けることによ
り、パドル生成部付近の酸素濃度をより低減できる。こ
の理由は、冷却面１ａがロール外周大気遮断板６８に覆
われているため、第５のガスフローノズル５５から冷却
面１ａに沿ってロール表面大気遮断板６１に向けて流れ
る不活性ガスが、ロール表面大気遮断板６１に至るまで
の間に拡散することがなく、より多くの不活性ガスがロ
ール表面大気遮断板６１を通過してパドル生成部近傍に
流れ込むからである。

【００４４】このように、冷却ロール１のほぼ真下に
第５のガスフローノズル５５を設置し、溶湯ノズル２の
位置を基準として冷却ロール１の回転方向後方にロール
表面大気遮断板６１を設け、更に溶湯ノズル２の周囲
に、第１〜第４および第６のガスフローノズル５１、５
２、５３、５４、５６を設置することにより、パドル生
成部付近における酸素濃度の低減を行うことが可能にな
る。

【００４５】また、第５のガスフローノズルを設置する
位置は、冷却ロール１の真下に限られず、金属薄帯が冷
却面１ａから剥離する位置１ｂの近傍からロール表面大
気遮断板６１が設けられている位置の間にあればよい。
例えば、図４に示すように、金属溶湯が冷却ロール１か
ら剥離する位置１ｂの近傍であっても良い。この場合、
第５のガスフローノズル５５は、ロール前方大気遮断板
６３を貫通して冷却ロール１の側方から冷却面１ａを望
むように設置される。この場合の第５のガスフローノズ
ル５５からフローされた不活性ガスは、冷却ロール１の
回転方向に沿ってロール表面大気遮断板６１に向けて流
れると共に、冷却ロールの回転方向の反対方向に向けて
溶湯ノズル２の方向に流れる。

【００４６】また、第６のガスフローノズル５６は、図
１２に示すように、その外周位置と内周位置との中心の
位置よりも若干内側の位置に、複数の孔５６２を環状に
設けてなるものとすることができるが、図１３に示すよ
うに、外周位置と内周位置との中心の位置に複数の孔５
６４を環状に設けてなる第６のガスフローノズル５６６
とすることや、図１４に示すように、図１３に示す孔５
６４に代えて、環状スリット５６５を設けてなる第６の
ガスフローノズル５６７とすることもできる。また、図
２１に示すように、渦巻状に形成してなる第６のガスフ
ローノズル５６８とし、溶湯ノズル２の先端を２重に取
り囲むようにしてもよい。

【００４７】本発明の金属薄帯製造装置を用いて薄帯を
製造するにあたっては、冷却ロール１を回転させる前か
ら、第１〜第６のガスフローノズル５１〜５６により不
活性ガスを供給することが望ましい。これは、冷却ロー
ル１回転後に不活性ガスを供給する場合に比べて、冷却
ロール１回転前からガスフローを行った方が、酸素濃度
の低下が速くなるからである。したがって、溶湯ノズル
２近傍雰囲気の酸素濃度を測定し、所定の酸素濃度に達
した後に冷却ロール１の回転を行うようにすれば生産効
率上望ましい。

【００４８】本発明において、第１ガスフロー供給手段
による不活性ガスの供給条件としては、流量２００〜１
８００l/min.、より好ましくは１７６０l/min.の条件下
で行えばよい。それは、流量が２００l/min未満では、
溶湯ノズル２近傍雰囲気の酸素量低減に効果がなく、一
方、１８００l/minを超えても、ガスフローによる周囲
からの大気の巻き込みが原因となり、酸素濃度低減効果
が減じてしまい、供給量に見合う効果が望めないからで
ある。

【００４９】その場合、前記第１のガスフローノズル５
１からのガスフローである第１のガスフローは、流量３
３０〜５３０l/min、前記第２のガスフローノズル５２
からのガスフローである第２のガスフローは、流量１８
０〜３８０l/min、前記第３のガスフローノズル５３か
らのガスフローである第３のガスフローは、流量１５０
〜３５０l/min、前記第４のガスフローノズル５４から
のガスフローである第４のガスフローは、流量４００〜
６００l/min、前記第６のガスフローノズル５６からの
ガスフローである第６のガスフローは、流量２００〜４
００l/minとすることが望ましい。第１〜第４および第
６のガスフローのより望ましい範囲は、各々、第１のガ
スフロー；流量３８０〜４８０l/min、最も好ましくは
４３０l/min、第２のガスフロー；流量２３０〜３３０l
/min、最も好ましくは２８０l/min、第３のガスフロ
ー；流量１５０〜３５０l/min、最も好ましくは２５０l
/min、第４のガスフロー；流量４００〜６００l/min、
第６のガスフロー；流量２００〜４００l/min流速であ
る。特に、第４のガスフローの流量を４５０ｌ/min以
上、最も好ましくは５００l/minとすれば、パドル生成
部付近の酸素濃度をより低減することが可能になる。

【００５０】本発明において、第２ガスフロー供給手段
による不活性ガスの供給条件としては、流量２５０〜７
５０l/min.、より好ましくは５００l/min.の条件下で行
えばよい。それは、流量が２５０l/min未満では、やは
り溶湯ノズル近傍雰囲気の酸素量低減に効果がなく、一
方、７５０l/minを超えても供給量に見合う効果が望め
ないからである。従って、第５のガスフローノズル５５
からのガスフローである第５のガスフローは、流量２５
０〜７５０l/minとすることが望ましい。第５のガスフ
ローのより望ましい範囲は、流量４００〜６００l/mi
n、最も好ましくは５００l/minである。

【００５１】本発明の金属薄帯の製造方法に用いる不活
性ガスとしては、Ｎ₂、Ｈｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ、Ｒ
ｎから選ばれる少なくとも２種類の不活性ガスを使用す
ることができ、Ｎ₂とＡｒであることが望ましい。ま
た、不活性ガスは、第１のガスフローには、第２〜第６
のガスフローよりも重い不活性ガスを使用することが望
ましい。より望ましくは、第１のガスフローとして、空
気よりも重い不活性ガスを使用する。

【００５２】次に、大気遮断手段６０について説明す
る。図１、図２及び図４に示すように、本発明に係る大
気遮断手段６０は、溶湯ノズル２の位置を基準にして、
冷却ロール１の回転方向前方の正面に位置するように設
けられたロール正面大気遮断板６４と、冷却ロール１の
回転方向前方に位置して冷却ロール１を挟むように設け
られ、ロール正面大気遮断板６４と当接する一対のロー
ル前方大気遮断板６３、６３と、冷却ロール１の回転方
向前方の上方に位置してロール前方大気遮断板６３、６
３の上端縁と当接するように設けられたロール上方大気
遮断板６２と、冷却ロール１を挟んでロール前方大気遮
断板６３、６３及びロール外周大気遮断手段と当接する
一対のロール側面大気遮断板６７、６７とを少なくとも
具備してなるものである。

【００５３】前記ロール前方大気遮断板６３は、図１及
び図４に示すように、冷却ロール１の両側面前方からの
大気の巻き込みを遮断することを目的として設置するも
のである。また、ロール正面大気遮断板６４は、冷却ロ
ール１の冷却面に対向する前方からの大気の巻き込みを
遮断することを目的として設置するものである。本実施
の形態においては、ロール正面大気遮断板６４は、ロー
ル前方大気遮断板６３の前端および略中央部の２箇所に
設置しているが、必要に応じて１ヶ所でも３ヶ所以上設
けても良い（図１、図４参照）。この場合、溶湯ノズル
２近傍の雰囲気の酸素濃度を更に低減させることが期待
できる。なお、ロール正面大気遮断板６４の中央部に
は、薄帯通過口６４１が設けられており、薄帯製造時に
は、この薄帯通過口６４１を薄帯が通過する。

【００５４】また、ロール上方大気遮断板６２は、図１
及び図４に示すように、溶湯ノズル２の位置を基準にし
て、冷却ロール１の回転方向の前方から後方に向けて
延在し、ロール前方大気遮断板６３の上端縁に載置、固
定されて、冷却ロール１の上方に位置するものである。
このロール上方大気遮断板６２は、冷却ロール１の上方
からの大気の巻き込みを遮断することを目的として設置
されたものである。このロール上方大気遮断板６２は、
冷却ロール１の回転方向の後方に向けて進むに従って、
冷却ロール１の冷却面１ａの頂部に接近するように設
けられている。また、図３に示すように、ロール上方大
気遮断板６２には、ノズル取り付け孔６２１が設けられ
ている。溶湯ノズル２は、このノズル取り付け孔６２１
を貫通して、溶湯ノズル２の溶湯吹き出し部先端部分２
１が冷却ロール１の冷却面１ａを望むように配置され
る。るつぼ３は、図２に示すように、筒３ａに収納され
ている。この筒３ａは、ノズル取り付け孔６２１を塞い
で大気の流入を防止している。更に、ロール上方大気遮
断板６２には、図２及び図３に示すように、第３のガス
フローノズル５３が貫通するための孔６２２が設けられ
ている。第３のガスフローノズル５３は、この孔６２２
を貫通してノズルの先端が冷却ロール１の冷却面を望む
ように配置される。この第３のガスフローノズル５３に
より、不活性ガスフローをロール回転方向前方からパド
ル生成部付近に向けて供給する。

【００５５】ロール上方大気遮断板６２が、冷却ロール
１の冷却面１ａに接近するように設けられるので、パド
ル生成部付近の空間が狭くなる。このような狭い空間に
向けて、第１〜３および第６のガスフローノズル５１、
５２、５３、５４によって、常に多量の不活性ガスが供
給されるので、パドル生成部付近における不活性ガスの
濃度が非常に高くなり、逆に酸素濃度は著しく低減され
る。

【００５６】また、溶湯ノズル２は、溶湯吹き出し部先
端部分２１のみが、ロール上方大気遮断板６２を貫通し
ている。溶湯ノズル２の本体部分は、ロール上方大気遮
断板６２の上に、即ち大気遮断手段６０の外側に位置す
る。従って、溶湯ノズル２の本体と、るつぼ３と、これ
らに捲回された加熱コイル４は、大気遮断手段６０の外
側に位置することとなる。従って溶湯ノズル２は、大気
遮断手段６０に対して着脱が容易となる。

【００５７】図１及び図４に示すように、ロール上方大
気遮断板６２は、冷却ロール１の回転方向前方から前記
冷却面に向けて平坦に延びているが、これに限られず、
図５に示すように、冷却ロール１の回転方向前方から冷
却面１ａに向けて大気遮断手段６０の内側に湾曲しつつ
延びるロール上方大気遮断板６５であっても良い。この
ロール上方大気遮断板６５によれば、開口部６４１から
流入する大気を遮断して、パドル生成部付近の酸素濃度
を低減することが可能になる。更に、図６に示すよう
に、ロール上方大気遮断板６２に、大気遮断手段６０の
内側に向けて突出する少なくとも１以上の仕切板６６を
設けても良い。仕切板６６を形成することにより、開口
部６４１からの大気の流入を遮って、パドル生成部付近
の酸素濃度をより低減することが可能となる。また、こ
の仕切板６６は、図６に示すように冷却ロール１の回転
方向に向けて突出するのみでなく、垂直下側に向けて突
出させても酸素濃度の低減効果が得られる。

【００５８】ロール側面大気遮断板６７は、図１、図４
及び図７に示すように、冷却ロール１より大径の円板状
を有し、冷却ロール１の両側面に接触、配置される。ま
た、ロール側面大気遮断板６７は、ロール前方大気遮断
板６３から冷却ロール１の後方に向けて延設される。こ
のロール側面大気遮断板６７は、冷却ロール１の側面か
らの大気の巻き込みを遮断することを目的として設置す
るものである。尚、ロール側面大気遮断板６７とロール
前方大気遮断板６３は、一体であっても良い。

【００５９】前記冷却ロール１は、ロール外周大気遮断
板６８と一対のロール側面大気遮断板６７とにより区画
された空間に配置される。ロール外周大気遮断板６８
は、ロール表面大気遮断板６１による大気遮断効果をよ
り向上することができる。

【００６０】また、大気遮断手段６０として、図７に示
すように、ロール後方大気遮断板６９を設けても良い。
ロール後方大気遮断板６９は、冷却ロール１の幅より大
きい幅を有する平板状構造を有するものであり、冷却ロ
ール１の後方下部からの大気の巻き込みを遮断すること
を目的として設置される。

【００６１】以上の各大気遮断板６１〜６５、６７〜６
９は、単独で用いることは勿論、複数で用いることもで
きる。全ての大気遮断板６１〜６５、６７〜６９を設置
すると冷却ロール１をほぼ取り囲むことになり、前記第
１〜第６のガスフローノズル５１〜５６からのガスフロ
ーによって、パドル生成部付近の酸素濃度低減効果を最
も向上することができる。

【００６２】また、図１及び図４〜図６に示す金属薄帯
製造装置には、ロール正面大気遮断板６４が２ヶ所に設
置されており、この間の空間が大気滞留部８０となる。
図１及び図４〜図７においては、大気滞留部８０は、大
気遮断手段６０の外側に設けられているが、大気遮断手
段６０の内部に設けることもできる。また、大気滞留部
８０は、大気遮断手段６０の開口部面積より大の開口面
積を有するようにすれば、大気滞留効果を向上させるこ
とができる。さらに、大気滞留部８０は、複数の仕切
板により区切ることによっても大気滞留効果を向上させ
ることができる。

【００６３】図１及び図４〜図６に示す金属薄帯製造装
置は、小容量のるつぼ３を用いているので、大量の金属
薄帯を連続的に製造する場合には、図８に示す基本構成
からなる金属薄帯製造装置に、本発明のガスフロー、大
気遮断手段、大気滞留部を適用することができる。すな
わち、図８に示す金属薄帯製造装置は、溶融金属１９
は、溶解炉２０に保持されており、この溶解炉２０の底
部流出口から流出管２１を経由してタンディッシュ２２
に供給される。タンディッシュ２２の底部には、溶湯ノ
ズル２が設けられており、この溶湯ノズル２から高速回
転する冷却ロール１の表面に噴出され、凝固し、薄帯が
形成される。この装置によると、タンディッシュ２２内
の溶融金属が減少した場合に、逐次溶解炉２０から溶湯
をタンディッシュ２２に補充することができるので、連
続生産に適する。

【００６４】本発明に適用して有効な材料としては、以
下が掲げられる。Ｆｅ_bＢ_xＭ_y ただし、Ｍは、Ｔｉ,Ｚｒ,Ｈｆ,Ｖ,Ｎｂ,Ｔａ,Ｍｏ, Ｗ
から選ばれた１種または２種以上の元素（Ｚｒ,Ｈｆ,Ｎ
ｂのいずれかを必ず含む）であり、ｂは７５原子％以上
９３原子％以下、ｘは０．５原子％以上１８原子％以
下、ｙは４原子％以上９原子％以下。（Ｆｅ_1-aＺ_a）_bＢ_xＭ_y ただし、Ｚは、Ｎｉ,Ｃｏのうち１種または２種、Ｍ
は、Ｔｉ,Ｚｒ,Ｈｆ,Ｖ,Ｎｂ,Ｔａ,Ｍｏ,Ｗから選ばれ
た１種または２種以上の元素（Ｚｒ,Ｈｆ,Ｎｂのいずれ
かを必ず含む）であり、ａは０．２以下、ｂは７５原子
％以上９３原子％以下、ｘは０．５原子％以上１８原子
％以下、ｙは４原子％以上９原子％以下。

【００６５】Ｆｅ_bＢ_xＭ_yＸ_z ただし、Ｍは、Ｔｉ,Ｚｒ,Ｈｆ,Ｖ,Ｎｂ,Ｔａ,Ｍｏ, Ｗ
から選ばれた１種または２種以上の元素（Ｚｒ,Ｈｆ,Ｎ
ｂのいずれかを必ず含む）、ＸはＣｕ,Ａｇ,Ｃｒ,Ｒｕ,
Ｒｈ,Ｉｒから選ばれた１種または２種以上の元素であ
り、ｂは７５原子％以上９３原子％以下、ｘは０．５
原子％以上１８原子％以下、ｙは４原子％以上９原子％
以下、Ｚは５原子％以下。

【００６６】（Ｆｅ_1-aＺ_a）_bＢ_xＭ_yＸ_z ただし、Ｚは、Ｎｉ,Ｃｏのうち１種または２種、Ｍ
は、Ｔｉ,Ｚｒ,Ｈｆ,Ｖ,Ｎｂ,Ｔａ,Ｍｏ,Ｗから選ばれ
た１種または２種以上の元素（Ｚｒ,Ｈｆ,Ｎｂのいずれ
かを必ず含む）、ＸはＣｕ,Ａｇ,Ｃｒ,Ｒｕ,Ｒｈ,Ｉｒ
から選ばれた１種または２種以上の元素であり、ａは
０．２以下、ｂは７５原子％以上９３原子％以下、ｘは
０．５原子％以上１８原子％以下、ｙは４原子％以上９
原子％以下、Ｚは５原子％以下。

【００６７】Ｆｅ_bＢ_xＭ_yＸ'_t ただし、Ｍは、Ｔｉ,Ｚｒ,Ｈｆ,Ｖ,Ｎｂ,Ｔａ,Ｍｏ, Ｗ
から選ばれた１種または２種以上の元素（Ｚｒ,Ｈｆ,Ｎ
ｂのいずれかを必ず含む）、Ｘ'はＳｉ,Ａｌ,Ｇｅ,Ｇａ
から選ばれた１種または２種以上の元素であり、ｂは７
５原子％以上９３原子％以下、ｘは０．５原子％以上１
８原子％以下、ｙは４原子％以上９原子％以下、ｔは４
原子％以下。

【００６８】（Ｆｅ_1-aＺ_a）_bＢ_xＭ_yＸ'_t ただし、Ｚは、Ｎｉ,Ｃｏのうち１種または２種、Ｍ
は、Ｔｉ,Ｚｒ,Ｈｆ,Ｖ,Ｎｂ,Ｔａ,Ｍｏ,Ｗから選ばれ
た１種または２種以上の元素（Ｚｒ,Ｈｆ,Ｎｂのいずれ
かを必ず含む）、Ｘ'はＳｉ,Ａｌ,Ｇｅ,Ｇａから選ばれ
た１種または２種以上の元素であり、ａは０．２以下、
ｂは７５原子％以上９３原子％以下、ｘは０．５原子％
以上１８原子％以下、ｙは４原子％以上９原子％以下、
ｔは４原子％以下。

【００６９】Ｆｅ_bＢ_xＭ_yＸ_zＸ'_t ただし、Ｍは、Ｔｉ,Ｚｒ,Ｈｆ,Ｖ,Ｎｂ,Ｔａ,Ｍｏ, Ｗ
から選ばれた１種または２種以上の元素（Ｚｒ,Ｈｆ,Ｎ
ｂのいずれかを必ず含む）、ＸはＣｕ,Ａｇ,Ｃｒ,Ｒｕ,
Ｒｈ,Ｉｒから選ばれた１種または２種以上の元素、Ｘ'
はＳｉ,Ａｌ,Ｇｅ,Ｇａから選ばれた１種または２種以
上の元素であり、ｂは７５原子％以上９３原子％以下、
ｘは０．５原子％以上１８原子％以下、ｙは４原子％以
上９原子％以下、Ｚは５原子％以下、ｔは４原子％以
下。

【００７０】（Ｆｅ_1-aＺ_a）_bＢ_xＭ_yＸ_zＸ'_t ただし、Ｚは、Ｎｉ,Ｃｏのうち１種または２種、Ｍ
は、Ｔｉ,Ｚｒ,Ｈｆ,Ｖ,Ｎｂ,Ｔａ,Ｍｏ,Ｗから選ばれ
た１種または２種以上の元素（Ｚｒ,Ｈｆ,Ｎｂのいずれ
かを必ず含む）、ＸはＣｕ,Ａｇ,Ｃｒ,Ｒｕ,Ｒｈ,Ｉｒ
から選ばれた１種または２種以上の元素、Ｘ'はＳｉ,Ａ
ｌ,Ｇｅ,Ｇａから選ばれた１種または２種以上の元素で
あり、ａは０．２以下、ｂは７５原子％以上９３原子％
以下、ｘは０．５原子％以上１８原子％以下、ｙは４原
子％以上９原子％以下、Ｚは５原子％以下、ｔは４原子
％以下。

【００７１】本発明により以上の組成を有する非晶質の
合金薄帯を得た後に、その結晶化温度以上（例えば、５
００〜６００℃）に加熱して徐冷する熱処理を行えば、
１００〜２００オングストロームの結晶からなる微細結
晶組織を有する軟磁性合金薄帯を得ることができる。

【００７２】上述の金属薄帯製造装置は、大気遮断手段
６０と、ロール表面大気遮断手段６１と、ロール外周大
気遮断手段６８と、第１ガスフロー供給手段と、第２ガ
スフロー供給手段とを備えているので、第１ガスフロー
供給手段から供給された少なくとも２種類の不活性ガス
が、溶湯ノズル２の近傍に流れ込み、前記２種類の不活
性ガスのうち重い方の不活性ガスが、大気遮断手段６０
内の軽い方の不活性ガスの下に重い不活性ガス層を形成
し、パドル生成部付近の不活性ガスの濃度を上昇させる
ことにより、また、第２ガスフロー供給手段から供給さ
れた不活性ガスが、冷却ロール１の冷却面１ａ上を冷却
ロール１の回転方向に沿って流れ、ロール表面大気遮断
手段６１を不活性ガスが通過してパドル生成部付近に流
れ込むことにより、パドル生成部付近の酸素濃度を低減
することができる。

【００７３】また、第１ガスフロー供給手段が、溶湯ノ
ズル２と冷却ロール１とが対向する位置よりも前記冷却
ロール１の回転方向後方に位置する第１のガスフローノ
ズル５１および第２のガスフローノズル５２と、前記冷
却ロール１の回転方向前方に位置する第３のガスフロー
ノズル５３および第４のガスフローノズル５４と、溶湯
ノズル２の先端を囲むように設置され、前記溶湯ノズル
の先端を囲むように不活性ガスを供給する中空環状の第
６のガスフローノズル５６、５６６、５６７、５６８と
を備えてなるものであるので、冷却ロール１の回転方向
前方および後方の位置と、溶湯ノズル２の先端を囲む位
置とから不活性ガスを供給することができ、パドル生成
部付近の酸素濃度をより一層低減することができる。

【００７４】さらに、第１のガスフローノズル５１を、
冷却ロール１の接線方向から溶湯ノズル２の先端方向に
向けて設置し、他のガスフローノズルが供給する不活性
ガスよりも重い不活性ガスをガスフローするようにし
て、前記第２のガスフローノズル５２を、溶湯ノズル２
と第１のガスフローノズル５１との間に設置し、前記第
１のガスフローノズル５１からのガスフロー上にガス
フローするようにしたので、第１のガスフローノズル５
１から供給された重い方の不活性ガスが、第２のガスフ
ローノズル５２からの第２のガスフローによって、パド
ル生成部付近の冷却ロール上に載置され、パドル生成部
付近の不活性ガスの濃度が上昇するので、パドル生成部
付近の酸素濃度をより一層低減することができる。

【００７５】さらにまた、第６のガスフローノズル５６
が、中空環状であり、溶湯ノズル２の先端を囲むように
設置され、前記第６のガスフローノズル５６の外周位置
と内周位置との中心の位置よりも若干内側の位置に設け
られた多数の孔から、溶湯ノズル２の先端を囲むように
ガスをフローするものであるので、第６のガスフローノ
ズル５６からの第６のガスフローによって、パドル生成
部付近の酸素濃度を、より一層低減することができる。

【００７６】また、上述の金属薄帯製造装置には、冷却
ロール１を取り囲んで冷却面１ａを覆うロール外周大気
遮断手段であるロール外周大気遮断板６８が設けられ
て、このロール外周大気遮断板６８の任意の位置から冷
却面１ａに望むように第５のガスフローノズル５５が設
置されているので、第５のガスフローノズル５５から冷
却面１ａに沿ってロール表面大気遮断板６１に向けて流
れる不活性ガスが、ロール表面大気遮断板６１に至るま
での間に拡散することがなく、より多くの不活性ガスが
ロール表面大気遮断板６１を通過することによりパドル
生成部近傍に流れ込んで、パドル生成部付近の酸素濃度
をより低減することができる。

【００７７】また、上述の金属薄帯製造装置において
は、溶湯ノズル２の溶湯吹き出し部先端部分２１が大気
遮断手段６０により覆われ、溶湯ノズル２の本体及びる
つぼ３が大気遮断手段６０の外側に配置されているの
で、大気遮断手段６０内部の雰囲気を維持したまま、る
つぼ３への溶融母材のチャージを容易に行うことがで
きる。

【００７８】また、上述の金属薄帯製造装置には、大気
遮断手段６０が冷却ロール１の回転方向前方及び後方に
設けられているので、冷却ロール１の回転に伴って回転
方向前方及び後方からパドル生成部付近に巻き込まれ
る大気を遮断することができる。更に、冷却ロールの回
転方向前方には、大気滞留部８０が設けられているの
で、大気滞留効果により、大気遮断手段６０内部への大
気の巻き込みを防止することができる。

【００７９】上述の金属薄帯製造装置には、冷却ロール
１の回転方向前方の上面に設けられて、ロール前方大気
遮断板６３の上端縁と当接するロール上方大気遮断板６
２が設けられており、このロール上方大気遮断板６２
は、冷却ロール１の回転方向前方から後方に向けて延在
し、冷却ロール１の回転方向後方に進むに従って冷却ロ
ール１の冷却面１ａに接近するように設けられているの
で、大気遮断手段６０内部のパドル生成部付近の空間が
狭くなって、パドル生成部付近の雰囲気の組成分布の影
響を受けることがなく、均一な特性の金属薄帯を製造で
きる。また、溶湯ノズル２の溶湯吹き出し部先端部分２
１は、ノズル取り付け孔６２１を貫通して冷却ロール１
に望むように配置されており、溶湯ノズル２本体とるつ
ぼ３と加熱コイル４とは大気遮断手段６０の外側に位置
しているので、溶湯ノズル２は、大気遮断手段６０に対
して着脱が容易にすることができると共に、溶湯ノズル
２は、大気遮断手段６０に対して位置を自在に変更でき
るので、冷却ロール１と溶湯ノズル２との間隔を調整す
ることにより、常に均一な板厚の薄帯を製造できる。

【００８０】上述の金属薄帯製造装置においては、ロー
ル上方大気遮断板６２が、冷却ロール１の回転方向後方
に向けて大気遮断手段６０の内側に湾曲しつつ延びてい
るので、パドル生成部付近への大気の巻き込みを遮断す
ることができる。また、上述の金属薄帯製造装置におい
ては、ロール上方大気遮断板６２に、大気遮断手段６０
の内側に向けて突出する仕切板６６が設けられているの
で、パドル生成部付近への大気の巻き込みを遮断するこ
とができる。

【００８１】上述の金属薄帯製造装置には、冷却ロール
１の回転方向前下方に、薄帯誘導板７０とスクレイパー
７２とが備えられ、更に、ロール正面大気遮断板６４に
は、金属薄帯が通過する通過口６４１が設けられている
ので、金属薄帯は、スクレイパー７２により冷却ロール
１から剥離されて薄帯誘導板７０に案内され、更に通過
口６４１を通過して、金属薄帯製造装置の外部に円滑に
放出させることができる。

【００８２】

【実施例】

【試験例１】上述した金属薄帯製造装置に、図１２〜図
１４に示す第６のガスフローノズル５６、５６６、５６
７のいずれかを備え、第６のガスフローの流量と酸素濃
度との関係を調べた。なお、試験例１において、冷却ロ
ール１には、直径３００ｍｍのものを用い、溶湯ノズル
２の位置は、冷却ロール１の頂部の前方４ｍｍの位置に
設置した。

【００８３】第１〜第６のガスフローノズル５１〜５６
からのガスフローである第１〜第６のガスフローおよび
大気遮断板を下記の条件とし、大気滞留部を図１に示す
形態とした場合の酸素濃度測定を行った。フローガスと
しては、ＡｒとＮ₂を用いた。Ａｒガスをフローするに
当たっては、スケールファクターを使用して流量を揃え
た。酸素濃度の測定には、東レ（株）製のＬＣ−７００
Ｈを用い、溶湯ノズル２の前方側の冷却ロール１の表面
から０.３mmの位置にて行った。なお、冷却ロール１は
停止状態とし、溶湯ノズル２からの溶湯の噴出は行わず
に酸素濃度を測定した。また、ガスフロー流量は、
（株）ユタカ製流量用パネル付型流量計Ｆ−７を使用し
て測定した。

【００８４】［ガスフロー条件］第１のガスフロー（流量：４３２l/min、不活性ガス：
Ａｒ）第２のガスフロー（流量：２８０l/min、不活性ガス：
Ｎ₂）第３のガスフロー（流量：２５０l/min、不活性ガス：
Ｎ₂）第４のガスフロー（流量：５００l/min、不活性ガス：
Ｎ₂）第５のガスフロー（流量：５００l/min、不活性ガス：
Ｎ₂）第６のガスフロー（流量：１００〜６００l/min、不活
性ガス：Ｎ₂）［大気遮断板条件］ロール表面大気遮断板、ロール前方大気遮断板、ロール
上方遮断板ロール正面大気遮断板、ロール側面大気遮断板、ロール
外周大気遮断板

【００８５】その結果を、図１５に示す。図１５におい
て、符号５６Ａは、図１２に示す第６のガスフローノ
ズル５６を、符号５６Ｂは、図１３に示す第６のガスフ
ローノズル５６６を、符号５６Ｃは、図１４に示す第６
のガスフローノズル５６７を示している。図１５より、
図１２示す外周位置と内周位置との中心の位置よりも若
干内側の位置に、孔５６２を設けてなる第６のガスフロ
ーノズル５６を使用した場合、図１３に示す外周位置と
内周位置との中心の位置に、孔５６４を設けてなる第６
のガスフローノズル５６６よりも酸素濃度が低くなるこ
とが確認できた。また、図１４に示す第６のガスフロー
ノズル５６７は、流量を５００l/min以上とした場合、
図１２に示す第６のガスフローノズル５６よりも酸素濃
度が低くなることが確認できた。

【００８６】

【試験例２】試験例１と同様の金属薄帯製造装置に、第
６のガスフローノズルを備えていない場合と、図１２に
示す第６のガスフローノズル５６を備え、第６のガスフ
ローの流量を１００l/min、２００l/min、３００l/mi
n、４００l/min、５００l/min、６００l/minとした場合
における不活性ガスフロー時間と酸素濃度との関係を
調べた。

【００８７】第１〜第６のガスフローおよび大気遮断板
の条件を試験例１と同様とし、ガスフロー開始後５分経
過してから冷却ロール１を１００rpmで回転し、２分経
過後に冷却ロール回転の回転数を２０００rpmにあげて
３分間回転し、さらに、冷却ロールを２０００rpmにし
てから１分後に、溶湯ノズル２を冷却ロール１の冷却面
１ａに接近させて、試験例１と同様にして酸素濃度測定
を行った。

【００８８】その結果を、図１６に示す。図１６より、
第６のガスフローノズル５６からの第６のガスフローを
供給することで、酸素濃度を低下させることができるこ
とが確認できた。また、図１２に示す第６のガスフロー
ノズル５６は、冷却ロール１が低回転（１００rpm）の
時は、流量を２００l/minとした場合に、最も低い酸素
濃度を得ることができるが、不活性ガスを供給して１０
分経過した後においては、流量を３００l/minとした場
合に、最も低い酸素濃度が得られることが確認できた。
さらにまた、不活性ガスを供給して１０分経過した後、
すなわち冷却ロール１を高回転（２０００rpm）で回転
させて３分経過した後の酸素濃度は、流量を２００l/m
inとした場合、０．０３７％であった。また、流量を３
００l/minとした場合、０．０３５％であった。

【００８９】

【試験例３】試験例２と同様の金属薄帯製造装置に、図
１３に示す第６のガスフローノズル５６６を備え、第６
のガスフローの流量を１００l/min、２００l/min、３０
０l/min、４００l/min、５００l/min、６００l/minとし
た場合における不活性ガスフロー時間と酸素濃度との関
係を試験例２と同様にして調べた。

【００９０】その結果を、図１７に示す。図１７より、
図１３に示す第６のガスフローノズル５６６は、流量を
３００l/minとした場合に、最も低い酸素濃度を得るこ
とができることが確認できた。また、流量を３００l/mi
nとした場合、不活性ガスを供給して１０分経過した後
の酸素濃度は、０．２１％であった。

【００９１】

【試験例４】試験例２と同様の金属薄帯製造装置に、図
１４に示す第６のガスフローノズル５６７を備え、第６
のガスフローの流量を１００l/min、２００l/min、３０
０l/min、４００l/min、５００l/min、６００l/minとし
た場合における不活性ガスフロー時間と酸素濃度との関
係を試験例２と同様にして調べた。

【００９２】その結果を、図１８に示す。図１８より、
図１４に示す第６のガスフローノズル５６７は、冷却ロ
ール１が低回転（１００rpm）の時は、流量を３００l/m
inとした場合に、最も低い酸素濃度を得ることができる
が、不活性ガスを供給して１０分経過した後において
は、流量を６００l/minとした場合に、最も低い酸素濃
度を得ることができることが確認できた。また、不活性
ガスを供給して１０分経過した後の酸素濃度は、流量を
３００l/minとした場合、０．２１９％であった。ま
た、流量を６００l/minとした場合、０．０２１９％で
あった。

【００９３】試験例２〜試験例４の結果から、図１２
に示す第６のガスフローノズル５６は、図１３に示す第
６のガスフローノズル５６６よりも、酸素濃度を低下さ
せることができ、図１４に示す第６のガスフローノズル
５６７よりも、少ないガス供給量で酸素濃度を０．１％
以下とすることができ、優れた効果が得られることを確
認できた。このことから、ガス供給量と酸素濃度を低下
させる効果とを考慮した場合、図１２示す第６のガスフ
ローノズル５６を使用し、流量を３００l/minとするの
が好ましいことがあきらかとなった。

【００９４】

【試験例６】試験例２と同様の金属薄帯製造装置に、図
２１に示す第６のガスフローノズル５６８を備え、試験
例１のガスフロー条件のうち、第６のガスフローを下記
の条件とした場合における不活性ガスフロー時間と酸素
濃度との関係を試験例２と同様にして調べた。［ガスフロー条件］第６のガスフロー（流量：６００l/min、不活性ガス：
Ｎ₂）

【００９５】

【試験例７】試験例２と同様の金属薄帯製造装置に、図
２１に示す第６のガスフローノズル５６８を備え、試験
例６のガスフロー条件のうち、第１、第２のガスフロー
を下記の条件とした場合における不活性ガスフロー時間
と酸素濃度との関係を試験例２と同様にして調べた。

【００９６】［ガスフロー条件］第１のガスフロー（流量：３００l/min、不活性ガス：
Ｎ₂）第２のガスフロー（流量：２８０l/min、不活性ガス：
Ｎ₂）

【００９７】

【試験例８】試験例２と同様の金属薄帯製造装置に、図
２１に示す第６のガスフローノズル５６８を備え、試験
例６のガスフロー条件のうち、第１、第２のガスフロー
ノズル５１、５２からのガスフローである第１、第２の
ガスフローを下記の条件とした場合における不活性ガス
フロー時間と酸素濃度との関係を試験例２と同様にして
調べた。

【００９８】［ガスフロー条件］第１のガスフロー（流量：４３２l/min、不活性ガス：
Ａｒ）第２のガスフロー（流量：２８０l/min、不活性ガス：
Ａｒ）

【００９９】試験例６〜試験例８において、試験例６
は、本発明の実施例であり、試験例７および試験例８
は、従来例である。試験例６〜試験例８の結果を、図１
９に示す。図１９において、符号Ｄは、試験例６の結果
を、符号Ｅは、試験例７の結果を、符号Ｆは、試験例
８の結果を示している。

【０１００】図１９より、不活性ガスの種類をＡｒとＮ
₂の２種類とした試験例６では、１種類である試験例６
および試験例７と比較して、低い酸素濃度が得られるこ
とが確認できた。

【０１０１】

【試験例９】試験例２と同様の金属薄帯製造装置に、図
１２に示す第６のガスフローノズル５６を備え、試験例
１のガスフロー条件のうち、第６のガスフローを下記の
条件としたガスフロー条件で、第１〜第６のガスフロー
の中から選ばれる１つのガスフローのみとした場合にお
ける不活性ガスフロー時間と酸素濃度との関係を試験例
２と同様にして調べた。

【０１０２】［ガスフロー条件］第６のガスフロー（流量：３００l/min、不活性ガス：
Ａｒ）

【０１０３】その結果を、図２０に示す。図２０より、
第１〜第６のガスフローの中で、酸素濃度を低下させ
るためには、第６のガスフローがとくに重要であること
が確認できた。

【０１０４】

【発明の効果】本発明の金属薄帯製造装置には、大気遮
断手段と、ロール表面大気遮断手段と、ロール外周大
気遮断手段と、第１ガスフロー供給手段と、第２ガスフ
ロー供給手段とを少なくとも具備しているので、第１ガ
スフロー供給手段から供給された少なくとも２種類の不
活性ガスが、溶湯ノズルの近傍に流れ込み、前記２種類
の不活性ガスのうち重い方の不活性ガスが、大気遮断手
段内の軽い方の不活性ガスの下に重い不活性ガス層を形
成し、パドル生成部付近の不活性ガスの濃度を上昇させ
ることにより、また、第２ガスフロー供給手段から供給
された不活性ガスが、冷却ロールの冷却面上を冷却ロー
ルの回転方向に沿って流れ、ロール表面大気遮断手段を
不活性ガスが通過して溶湯ノズルの近傍に流れ込み、パ
ドル生成部付近の酸素濃度を低減することができる。

【０１０５】また、第１ガスフロー供給手段が、溶湯ノ
ズルと冷却ロールとが対向する位置よりも前記冷却ロー
ルの回転方向後方に位置する第１のガスフローノズルお
よび第２のガスフローノズルと、前記冷却ロールの回転
方向前方に位置する第３のガスフローノズルおよび第４
のガスフローノズルと、溶湯ノズルの先端を囲むように
設置され、前記溶湯ノズルの先端を囲むように不活性ガ
スを供給する中空環状の第６のガスフローノズルとを備
えてなるものであるので、冷却ロールの回転方向前方お
よび後方の位置と、溶湯ノズルの先端を囲む位置とから
不活性ガスを供給することができ、パドル生成部付近の
酸素濃度をより一層低減することができる。

【０１０６】さらに、第１のガスフローノズルを、冷却
ロールの接線方向から溶湯ノズルの先端方向に向けて設
置し、他のガスフローノズルが供給する不活性ガスより
も重い不活性ガスをガスフローするようにして、前記第
２のガスフローノズルを、溶湯ノズル２と第１のガスフ
ローノズルとの間に設置し、前記第１のガスフローノズ
ルからのガスフロー上にガスフローするようにしたの
で、第１のガスフローノズルから供給された重い方の不
活性ガスが、第２のガスフローノズルからの第２のガス
フローによって、パドル生成部付近の冷却ロール上に載
置され、パドル生成部付近の不活性ガスの濃度が上昇す
るので、パドル生成部付近の酸素濃度をより一層低減す
ることができる。

【０１０７】さらにまた、第６のガスフローノズルが、
中空環状であり、溶湯ノズルの先端を囲むように設置さ
れ、前記第６のガスフローノズルの外周位置と内周位置
との中心の位置よりも若干内側の位置に設けられた多数
の孔から、溶湯ノズルの先端を囲むようにガスをフロー
するものであるので、第６のガスフローノズルからの第
６のガスフローによって、パドル生成部付近の酸素濃度
を、より一層低減することができる。

【０１０８】また、冷却ロールを取り囲んで冷却面を覆
うロール外周大気遮断手段が設けられているので、第２
ガスフロー供給手段から冷却面に沿ってロール表面大気
遮断手段に向けて流れる不活性ガスが、ロール表面大気
遮断手段に至るまでの間に拡散することがなく、より多
くの不活性ガスがロール表面大気遮断手段を通過するこ
とによりパドル生成部近傍に流れ込んで、パドル生成部
付近の酸素濃度をより低減することができる。

【０１０９】本発明の金属薄帯製造装置においては、溶
湯ノズルの溶湯吹き出し部先端部分が大気遮断手段によ
り覆われ、溶湯ノズルの本体及びるつぼが大気遮断手段
の外側に配置されているので、大気遮断手段内部の雰囲
気を維持したまま、るつぼへの溶融母材のチャージを容
易に行うことができる。

【０１１０】また、本発明の金属薄帯製造装置には、大
気遮断手段が冷却ロールの回転方向前方及び後方に設け
られているので、冷却ロールの回転に伴って回転方向前
方及び後方からパドル生成部付近に巻き込まれる大気を
遮断することができる。

【０１１１】本発明の金属薄帯製造装置には、冷却ロー
ルの回転方向前方の上面に設けられてロール前方大気遮
蔽板の上端縁と当接するロール上方大気遮断板が設けら
れており、このロール上方大気遮断板は、冷却ロールの
回転方向前方から後方に向けて延在し、冷却ロールの回
転方向後方に進むに従って冷却ロールの冷却面に接近す
るように設けられているので、ロール外周大気遮断手段
内部のパドル生成部付近の空間が狭くなって、パドル生
成部付近の雰囲気の組成分布の影響を受けることがない
ので、均一な特性の金属薄帯を製造できる。また、溶湯
ノズルの溶湯吹き出し部先端部分は、ノズル取り付け孔
を貫通して冷却ロールに望むように配置されており、溶
湯ノズル本体と、るつぼと、加熱コイルはロール外周大
気遮断手段の外側に位置しているので、大気遮断手段に
対して溶湯ノズルの着脱を容易にすることができる。

【０１１２】更に、冷却ロールの回転方向前方には大気
滞留部が設けられているので、大気滞留効果により、ロ
ール外周大気遮断手段内部への大気の巻き込みを防止す
ることができる。

【０１１３】本発明によると、チャンバのような大がか
りで、かつ作業性に劣る付帯設備を設けることなく溶湯
ノズル近傍雰囲気の酸素濃度を低減し、連続生産をする
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の金属薄帯製造装置の１実施の形態を
示す図であって、Ａは金属薄帯製造装置の側面図であ
り、Ｂは金属薄帯製造装置の正面図である。

【図２】図１に示す金属薄帯製造装置の要部を示す構
成図である。

【図３】図１に示す金属薄帯製造装置の要部を示す斜
視図である。

【図４】本発明の他の実施の形態である金属薄帯製造
装置を示す図であって、Ａは側面図であり、Ｂは正面図
である。

【図５】本発明のその他の実施の形態である金属薄帯
製造装置を示す図であって、Ａは側面断面図であり、Ｂ
は正面図である。

【図６】本発明の別の実施の形態である金属薄帯製造
装置を示す図であって、Ａは側面断面図であり、Ｂは正
面図である。

【図７】ロール後方大気遮蔽板を示す図であって、Ａ
は側面図であり、Ｂは正面図である。

【図８】連続生産に適した金属薄帯装置の形態を示す
図である。

【図９】第２、第３、第４のガスフローノズルを示す
図であって、Ａは平面図であり、Ｂは第２のガスフロー
ノズルの正面図であり、Ｃは第３のガスフローノズルの
正面図であり、Ｄは第４のガスフローノズルの正面図で
ある。

【図１０】第１、第５のガスフローノズルを示す図で
あって、Ａは第１のガスフローノズルの平面図であり、
Ｂは第１のガスフローノズルの正面図であり、Ｃは第
５のガスフローノズルの正面図であり、Ｄは第１、第５
のガスフローノズルの側面図である。

【図１１】単ロール法による薄帯製造を示す図であ
る。

【図１２】第６のガスフローノズルの一例を示す図で
あって、Ａは平面図であり、Ｂは断面図である。

【図１３】第６のガスフローノズルの第２の例を示す
図であって、Ａは平面図であり、Ｂは断面図である。

【図１４】第６のガスフローノズルの第３の例を示す
図であって、Ａは平面図であり、Ｂは断面図である。

【図１５】図１２〜図１４に示した第６のガスフロー
ノズルを使用した場合のパドル生成部近傍における酸素
濃度と、第６のガスフローの流量との関係を示すグラフ
である。

【図１６】図１２に示した第６のガスフローノズルを
使用した場合および第６のガスフローノズルを用いない
場合のパドル生成部近傍における酸素濃度と、冷却ロ
ールの回転速度との関係を示すグラフである。

【図１７】図１３に示した第６のガスフローノズルを
使用した場合のパドル生成部近傍における酸素濃度と、
冷却ロールの回転速度との関係を示すグラフである。

【図１８】図１４に示した第６のガスフローノズルを
使用した場合のパドル生成部近傍における酸素濃度と、
冷却ロールの回転速度との関係を示すグラフである。

【図１９】不活性ガスを１種類使用した場合および２
種類使用した場合のパドル生成部近傍における酸素濃度
と、冷却ロールの回転速度との関係を示すグラフであ
る。

【図２０】第１〜第６のガスフローノズルから選ばれ
る１つのみを使用した場合のパドル生成部近傍における
酸素濃度と、冷却ロールの回転速度との関係を示すグラ
フである。

【図２１】試験例６〜試験例８に使用した第６のガス
フローノズルを示す図であって、Ａは平面図であり、Ｂ
は断面図である。

【符号の説明】

１冷却ロール１ａ冷却面１ｂ金属薄帯が剥離する位置２溶湯ノズル３るつぼ４加熱コイル５１第１のガスフローノズル（第１ガスフロー供給手
段）５２第２のガスフローノズル（第１ガスフロー供給手
段）５３第３のガスフローノズル（第１ガスフロー供給手
段）５４第４のガスフローノズル（第１ガスフロー供給手
段）５５第５のガスフローノズル（第２ガスフロー供給手
段）５６、５６６、５６７、５６８第６のガスフローノズ
ル（第１ガスフロー供給手段）６０大気遮断手段６１ロール表面大気遮断板（ロール表面大気遮断手
段）６２ロール上方大気遮断板６３ロール前方大気遮断板６４ロール正面大気遮断板６５ロール上方大気遮断板６６仕切板６７ロール側面大気遮断板６８ロール外周大気遮断板（ロール外周大気遮断手
段）６９ロール後方大気遮断板７０薄帯誘導板７２スクレイパー８０大気滞留部６４１開口部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者山本豊東京都大田区雪谷大塚町１番７号アルプス電気株式会社内 (72)発明者牧野彰宏東京都大田区雪谷大塚町１番７号アルプス電気株式会社内Ｆターム(参考） 4E004 DB02 HA03 TA01 TA03 TB01 TB04 TB05 TB07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】回転する冷却ロールの冷却面に金属溶湯
を噴出させ、該金属溶湯を前記冷却面で冷却して金属薄
帯を得る金属薄帯製造装置であって、前記冷却ロールと、前記冷却ロールと離間して前記冷却面に向けて金属溶湯
を噴出する溶湯ノズルと、少なくとも前記溶湯ノズルの溶湯吹き出し部先端部分か
ら少なくとも前記金属薄帯が前記冷却面から剥離する位
置まで、前記冷却ロールの回転方向に沿って前記冷却面
を覆い、前記冷却ロールの回転による大気の巻き込みを
防止する大気遮断手段と、前記溶湯ノズルと前記冷却ロールとが対向する位置より
も前記冷却ロールの回転方向後方に位置して前記冷却面
に接し、前記冷却ロールの回転により前記冷却面に沿っ
て前記溶湯ノズル周囲に巻き込まれる大気を遮断するロ
ール表面大気遮断手段と、少なくとも前記金属薄帯が前記冷却面から剥離する位置
から前記ロール表面大気遮断手段が設けられる位置ま
で、前記冷却ロールの回転方向に沿って延在して、前
記冷却ロールを取り囲むようにして前記冷却面を覆い、
かつ前記冷却面から離間するロール外周大気遮断手段
と、前記溶湯ノズル周囲に少なくとも２種類の不活性ガスを
供給する第１ガスフロー供給手段と、少なくとも前記金属薄帯が前記冷却面から剥離する位置
から、前記大気遮断手段が設けられている位置までの間
にあって、前記冷却面と離間して前記冷却面に向けて不
活性ガスを供給する第２ガスフロー供給手段とを具備し
てなることを特徴とする金属薄帯製造装置。
【請求項２】前記第１ガスフロー供給手段は、前記溶湯ノズルと前記冷却ロールとが対向する位置より
も前記冷却ロールの回転方向後方に位置する第１のガ
スフローノズルおよび第２のガスフローノズルと、前記溶湯ノズルと前記冷却ロールとが対向する位置より
も前記冷却ロールの回転方向前方に位置する第３のガ
スフローノズルおよび第４のガスフローノズルと、前記溶湯ノズルの先端を囲むように設置され、前記溶湯
ノズルの先端を囲むように不活性ガスを供給する中空環
状の第６のガスフローノズルとを備えてなることを特徴
とする請求項１記載の金属薄帯製造装置。
【請求項３】前記第１のガスフローノズルは、前記冷却ロールの略接線方向から前記溶湯ノズルの先
端方向に向けて設置され、他のガスフローノズルが供給
する不活性ガスよりも重い不活性ガスをガスフローする
ようにされ、前記第２のガスフローノズルは、前記溶湯ノズルと前記
第１のガスフローノズルとの間に設置され、前記第１の
ガスフローノズルからのガスフロー上にガスフローする
ようにされていることを特徴とする請求項１または請求
項２に記載の金属薄帯製造装置。
【請求項４】前記不活性ガスは、Ｎ₂とＡｒであることを特徴とする請求項１〜３のいず
れかに記載の金属薄帯製造装置。
【請求項５】前記大気遮断手段は、前記溶湯ノズルの位置よりも前記冷却ロールの回転方向
前方の正面に設けられたロール正面大気遮蔽板と、前記溶湯ノズルの位置よりも前記冷却ロールの回転方向
前方の両側面に前記冷却ロールを挟むように設けられて
前記ロール正面大気遮蔽板と当接する一対のロール前方
大気遮蔽板と、前記冷却ロールの回転方向の前方から後方に向けて延在
し、前記ロール前方大気遮蔽板の上端縁と当接して前記
冷却ロールの上方に位置するロール上方大気遮断板と、前記冷却ロールを挟んで前記ロール前方大気遮断板及び
前記ロール外周大気遮断手段と当接する一対のロール側
面大気遮断板とを少なくとも具備してなり、前記ロール上方大気遮断板は、前記冷却ロールの回転方
向の後方に向けて進むに従って、前記冷却ロールの前記
冷却面に接近するように設けられ、前記溶湯ノズルの前記溶湯吹き出し部先端部分は、前記
ロール上方大気遮断板に設けられたノズル取り付け孔を
貫通して前記冷却ロールの前記冷却面を望むように配置
されたことを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか
に記載の金属薄帯製造装置。
【請求項６】前記第１ガスフロー供給手段からのガス
流量は２００〜６００ｌ／ｍｉｎ．であることを特徴と
する請求項１〜５のいずれかに記載の金属薄帯製造装
置。
【請求項７】前記第２ガスフロー供給手段からのガス
流量は１８０〜３８０ｌ／ｍｉｎ．であることを特徴と
する請求項１〜６のいずれかに記載の金属薄帯製造装
置。
【請求項８】前記溶湯ノズルの位置よりも前記冷却ロ
ールの回転方向前方に大気滞留部が設けられたことを特
徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の金属薄帯製造
装置。