JP2000059029A - Buildup multilayer wiring board and manufacture thereof - Google Patents

Buildup multilayer wiring board and manufacture thereof

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JP2000059029A
JP2000059029A JP22125198A JP22125198A JP2000059029A JP 2000059029 A JP2000059029 A JP 2000059029A JP 22125198 A JP22125198 A JP 22125198A JP 22125198 A JP22125198 A JP 22125198A JP 2000059029 A JP2000059029 A JP 2000059029A
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JP
Japan
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copper plating
hole
plating layer
build
wiring board
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JP22125198A
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Japanese (ja)
Inventor
Etsuo Kato
悦夫 加藤
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Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent through-hole losses which bring about defective electrical connections failures by providing a builtup multilayer wiring board with builtup insulating resin layers, first copper plated layers, second copper plated layers, via holes and a through-hole. SOLUTION: A double sided printed wiring board 11 is prepared by forming inner layer conductive patterns 13 on the front and back surfaces of a core substrate 12, and builtup resin layers 14 are laminated on the front and back surfaces of the board 11. Next, via holes 15 are formed by boring the layers 14 partly. Successively, the front surface 14a of each layer 14 and the inside 15a of each hole 15 are subjected to a roughening step that serves also as a desmearing step. The resulting board is thereafter subjected to a first copper plating step, thereby forming first copper plated layers 16. Furthermore, after a through-hole 17 is formed using a drill or the like, the resultant board is subjected to a second copper plating step, thereby forming second copper plated layers 18.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、小形、軽量化が必
要とされる携帯端末機器等に使用される高密度配線が可
能なビルドアップ多層配線板及びその製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a build-up multi-layer wiring board capable of high-density wiring used in portable terminal equipment and the like that require small size and light weight, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来例の典型的なビルドアップ多層配線
板及びその製造方法について、図3、図4を用いて説明
する。
2. Description of the Related Art A typical conventional build-up multilayer wiring board and a method of manufacturing the same will be described with reference to FIGS.

【0003】[従来技術の製造工程] (1)両面プリント配線板準備工程 図3(a)において、例えば、エポキシ樹脂またはポリ
イミド樹脂等による芯基板102の表面及び裏面に、導
体パターン101が形成された両面プリント配線板10
0を用意する。この両面プリント配線板は内層回路を含
む多層板であってもよい。
[Manufacturing Process of Prior Art] (1) Step of Preparing Double-Sided Printed Wiring Board In FIG. Double-sided printed wiring board 10
Prepare 0. This double-sided printed wiring board may be a multilayer board including an inner layer circuit.

【0004】(2)ビルドアップ樹脂層形成工程 図3(b)において、この両面プリント配線板の表面及
び裏面に、ビルドアップ樹脂層103を積層する。ビル
ドアップ樹脂の積層は、カーテンコート、ラミネート、
あるいはプレスによる積層法等が用いられる。
(2) Build-up resin layer forming step In FIG. 3B, a build-up resin layer 103 is laminated on the front and back surfaces of the double-sided printed wiring board. Lamination of build-up resin, curtain coat, lamination,
Alternatively, a lamination method using a press or the like is used.

【0005】(3)バイアホール形成工程 図3(c)において、ビルドアップ樹脂層103の一部
に穿孔を施し、バイアホール104を形成する。このバ
イアホール形成方法は、フォトリソグラフィ法、やレー
ザ照射法等を用いて、ビルドアップ樹脂層103を穿孔
するなどにより形成されている。
(3) Via Hole Forming Step In FIG. 3C, a part of the build-up resin layer 103 is perforated to form a via hole 104. This via hole forming method is formed by perforating the build-up resin layer 103 by using a photolithography method, a laser irradiation method, or the like.

【0006】(4)貫通スルーホール穴形成工程 図3(d)において、ドリル等を用いて、貫通スルーホ
ール穴106を穿孔する。この時、ガラスエポキシまた
はポリイミド(内層の樹脂)102が貫通スルーホール
穴106の内壁106aに露出する状態となる。
(4) Step of forming through-hole hole In FIG. 3D, a through-hole hole 106 is formed by using a drill or the like. At this time, glass epoxy or polyimide (resin of the inner layer) 102 is exposed on the inner wall 106 a of the through-hole 106.

【0007】(5)粗化処理工程 図3(e)において、ビルドアップ樹脂表面103a、
バイアホール内104a及びスルーホール内にデスミア
処理を兼ねた粗化処理を施す。
(5) Roughening treatment step In FIG. 3E, the build-up resin surface 103a,
A roughening process also serving as a desmear process is performed on the via hole 104a and the through hole.

【0008】(6)銅メッキ層形成工程 図3(f)において、銅メッキを施し、銅メッキ層10
5を形成する。これにより、内層パターン101との電
気的接続が行われるとともに、スルーホール内にも銅メ
ッキ層105が形成され、同時に上下パターンの接続が
行われる。
(6) Step of forming copper plating layer In FIG.
5 is formed. As a result, the electrical connection with the inner layer pattern 101 is made, the copper plating layer 105 is formed also in the through hole, and the upper and lower patterns are simultaneously connected.

【0009】(7)銅メッキ層に所定のパターン形成工
程 図3(g)において、銅メッキ105を所定のパターン
に形成することにより、ビルドアップ多層配線板を製造
することができる。
(7) Step of Forming Predetermined Pattern on Copper Plating Layer In FIG. 3 (g), by forming the copper plating 105 into a predetermined pattern, a build-up multilayer wiring board can be manufactured.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来例
のビルドアップ工法で製造される多層配線板の材質は、
熱硬化型あるいは紫外線硬化型であろうと、主としてエ
ポキシ樹脂を主体とする単一の成分材料から構成されて
いる。
However, the material of the multilayer wiring board manufactured by the conventional build-up method is as follows.
Whether it is a thermosetting type or an ultraviolet curing type, it is mainly composed of a single component material mainly composed of an epoxy resin.

【0011】従来例の製造工程では、ビルドアップ樹脂
103上に銅メッキ層105を析出させて、一つ下の層
との電気的接続を取るために、樹脂に穿孔したバイアホ
ール内106a及び全層間に電気的接続をとるため、貫
通スルーホール穴内にも銅メッキを同時に析出させて、
各層間の電気的接続を行っている。この銅メッキを析出
させる前工程として、ビルドアップ樹脂表面の銅メッキ
の密着強度を得るための樹脂粗化、バイアホール内の樹
脂残渣除去、及び貫通スルーホール内のスミア除去等を
すべて兼ね備えた条件を持つ過マンガン酸等の薬品によ
り、処理を行っている。これは各層を構成する材質がす
べて同じエポキシ系樹脂(単一の成分材料)からの構成
であるために可能となった加工方法である。
In the manufacturing process of the conventional example, a copper plating layer 105 is deposited on the build-up resin 103, and in order to make an electrical connection with a layer below, a via hole 106a formed in the resin and the entirety thereof are formed. In order to make electrical connection between layers, copper plating is simultaneously deposited in the through-hole hole,
Electrical connection is made between the layers. As a pre-process for depositing this copper plating, conditions that combine all of resin roughening to obtain the adhesion strength of copper plating on the build-up resin surface, removal of resin residue in via holes, and removal of smear in through-holes, etc. The treatment is performed with a chemical such as permanganic acid having This is a processing method that has become possible because the materials constituting each layer are all made of the same epoxy resin (single component material).

【0012】しかしながら、この多層配線板の各層の構
成において、エポキシ系樹脂以外の層が存在する場合、
たとえばポリイミド樹脂層が存在し、貫通スルーホール
穴の穿孔によりその層に銅メッキを施す必要がある場
合、メッキ前処理工程において、従来例の単一薬品処理
条件で処理を行うと、異種材料層のスミア除去を最適な
条件で行うことが難かしく、貫通スルーホール穴の表面
にスルーホール欠損110を引き起こす場合があり、こ
れを図4に示す。
However, in the structure of each layer of the multilayer wiring board, when a layer other than the epoxy resin is present,
For example, when a polyimide resin layer is present and it is necessary to apply copper plating to the layer by drilling through-holes, in the pre-plating process, if the treatment is performed under the conventional single-chemical treatment condition, a different material layer is formed. It is difficult to remove the smear under the optimal conditions, and a through-hole defect 110 may be caused on the surface of the through-hole. This is shown in FIG.

【0013】ここで、「レジンスミア」、「スルーホー
ル欠損」という言葉について、簡単に説明する。「レジ
ンスミア」とは、Resin smearのことであ
り、ML−PWB(プリント基板)の高速ドリリング時
に発生する摩擦熱の放熱が不十分だと、ドリルピットに
蓄熱が発生する。この発熱によって、樹脂つまりレジン
の切粉が軟化溶融し、汚れ、つまり、スミアとしてスル
ーホール内壁の内外層銅箔断面や樹脂および基材断面に
再付着した状態をいう。次に、「スルーホール欠損」と
は、スルーホールの目的である多層配線板表面上の一方
の面の銅メッキ層(銅箔層)と他面の銅メッキ層(銅箔
層)とのスルーホールメッキを介しての電気的な接続不
良を意味する。スルーホール内壁にスミアが存在する場
合、銅メッキ層がこのスミアを被膜できず、電気的な接
続不良となり、スルーホール欠損が発生する。
Here, the terms “resistivity smear” and “through-hole loss” will be briefly described. “Resin smear” means Resin smear. If the heat of frictional heat generated during high-speed drilling of an ML-PWB (printed circuit board) is insufficient, heat is generated in a drill pit. Due to this heat generation, resin or resin chips are softened and melted, and stains, that is, a state in which they are reattached as smear to the cross section of the inner and outer layer copper foils of the inner wall of the through hole, the resin and the base material. Next, "through-hole loss" refers to the through-hole between the copper plating layer (copper foil layer) on one surface and the copper plating layer (copper foil layer) on the other surface on the surface of the multilayer wiring board, which is the purpose of the through hole. It means an electrical connection failure via hole plating. If smear exists on the inner wall of the through hole, the copper plating layer cannot cover the smear, resulting in poor electrical connection and loss of the through hole.

【0014】特に、従来のエポキシ系樹脂のメッキ前処
理条件において、異種材料層にとってアタック(攻撃)
が強すぎる場合、異種材料が過剰に溶出し、逆にスミア
(前処理によるスミア)が多量発生し、電気的な接続不
良というスルーホール欠損を引き起こす。また逆に異種
材料に適性な条件で、ビルドアップ樹脂にとっては弱い
メッキ前処理を行った場合においては、ビルドアップ樹
脂表面の銅メッキ密着強度が十分に得られない。このよ
うに、ビルドアップ工法において異種材料層が存在する
場合、貫通スルーホール内にも銅メッキ工程の前処理を
一度で同一条件で行うことは、極めて難しいことであ
る。
In particular, under the conventional conditions of pre-plating of an epoxy resin, an attack (attack) occurs on a different material layer.
Is too strong, dissimilar materials are excessively eluted, and conversely, a large amount of smear (smear due to pretreatment) is generated, which causes through-hole defects such as poor electrical connection. Conversely, when a plating pretreatment that is weak for the build-up resin is performed under conditions suitable for different materials, the copper plating adhesion strength on the surface of the build-up resin cannot be sufficiently obtained. As described above, when a different kind of material layer exists in the build-up method, it is extremely difficult to perform the pre-treatment of the copper plating step in the through-hole at once under the same conditions.

【0015】本発明は異なる銅メッキ前処理条件をそれ
ぞれの材質に合った条件で処理することにより、異種材
料の芯基板によるビルドアップ多層配線板およびその製
造方法を提供することにある。
It is an object of the present invention to provide a build-up multilayer wiring board using a core substrate of a different material and a method of manufacturing the same by performing different copper plating pretreatment conditions under conditions suitable for each material.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1記載の
ビルドアップ多層配線板は、異種材料で構成された芯基
板より成るビルドアップ多層配線板であり、少なくと
も、ビルドアップ絶縁樹脂層、第1銅メッキ層、第2銅
メッキ層、バイアホール穴、貫通スルーホール穴、を有
することを特徴とするものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a build-up multilayer wiring board comprising a core substrate made of a different material, comprising at least a build-up insulating resin layer; It has a first copper plating layer, a second copper plating layer, a via hole hole, and a through-hole hole.

【0017】また、本発明の請求項2記載のビルドアッ
プ多層配線板は、第1銅メッキ層の膜厚と、第2銅メッ
キ層の膜厚とは異なることを特徴とするものである。
Further, the build-up multilayer wiring board according to claim 2 of the present invention is characterized in that the thickness of the first copper plating layer is different from the thickness of the second copper plating layer.

【0018】また、本発明の請求項3記載のビルドアッ
プ多層配線板は、貫通スルーホール穴の内壁に形成され
ている第1銅メッキ層または第2銅メッキ層が、前記異
種材料で構成された芯基板の内壁面に当接または密着し
てなることを特徴とするものである。
Further, in the build-up multilayer wiring board according to a third aspect of the present invention, the first copper plating layer or the second copper plating layer formed on the inner wall of the through-hole is made of the different material. Characterized in that it is in contact with or in close contact with the inner wall surface of the core substrate.

【0019】また、本発明の請求項4記載のビルドアッ
プ多層配線板の製造方法は、ビルドアップ樹脂層形成工
程、バイアホール穴形成工程、第1回目の銅メッキ層形
成工程、貫通スルーホール穴形成工程、第2回目の銅メ
ッキ層形成工程、を含むことを特徴とするものである。
Further, according to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a build-up multilayer wiring board, comprising the steps of forming a build-up resin layer, forming a via hole, forming a first copper plating layer, and forming a through-hole. And a second step of forming a copper plating layer.

【0020】また、本発明の請求項5記載のビルドアッ
プ多層配線板の製造方法は、(1)プリント配線板準備
工程、(2)ビルドアップ樹脂層形成工程、(3)バイ
アホール穴形成工程、(4)粗化処理工程、(5)第1
回目の銅メッキ層形成工程、(6)貫通スルーホール穴
形成工程、(7)第2回目の銅メッキ層形成工程、
(8)第2回目の銅メッキ層または、第2回目及び第1
回目の銅メッキ層に所定のパターン形成工程、の工程順
に製造することを特徴とするものである。
The method for manufacturing a build-up multilayer wiring board according to claim 5 of the present invention comprises: (1) a step of preparing a printed wiring board; (2) a step of forming a build-up resin layer; and (3) a step of forming a via hole. (4) roughening process, (5) first
A second copper plating layer forming step, (6) a through-hole hole forming step, (7) a second copper plating layer forming step,
(8) Second copper plating layer or second and first copper plating layers
It is characterized in that it is manufactured in the order of a predetermined pattern forming step on the second copper plating layer.

【0021】また、本発明の請求項6記載のビルドアッ
プ多層配線板の製造方法は、(1)プリント配線板準備
工程、(2)ビルドアップ樹脂層形成工程、(3)貫通
スルーホール穴形成工程、(4)粗化処理及び第1回目
の銅メッキ層形成工程、(5)貫通スルーホール穴の内
壁に第1銅メッキ層を残存する工程、(6)バイアホー
ル穴形成工程、(7)粗化処理及び第2回目の銅メッキ
層形成工程、(8)第2回目の銅メッキ層または、第2
回目及び第1回目の銅メッキ層に所定のパターン形成工
程、の工程順に製造することを特徴とするものである。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a build-up multilayer wiring board, comprising: (1) a step of preparing a printed wiring board; (2) a step of forming a build-up resin layer; Step (4) Roughening treatment and first copper plating layer forming step, (5) Step of leaving first copper plating layer on the inner wall of through-hole hole, (6) Via hole forming step, (7) ) Roughening treatment and second copper plating layer forming step, (8) second copper plating layer or second copper plating layer
The second and first copper plating layers are manufactured in the order of a predetermined pattern forming step.

【0022】さらに、本発明の請求項7記載のビルドア
ップ多層配線板の製造方法は、前記(5)貫通スルーホ
ール穴の内壁に第1銅メッキ層を残存する工程は、エッ
チングレジストの被覆により第1銅メッキ層を残存する
工程、または、貫通スルーホール穴への樹脂の充填また
は被覆により第1銅メッキ層を残存する工程、より成る
ことを特徴とするものである。
Further, in the method for manufacturing a build-up multilayer wiring board according to claim 7 of the present invention, the step (5) of leaving the first copper plating layer on the inner wall of the through-hole hole is performed by coating an etching resist. A step of leaving the first copper plating layer, or a step of leaving the first copper plating layer by filling or covering the through-hole hole with a resin.

【0023】上記課題を解決するための手段についてさ
らに述べると、まず、異種材料を含む多層配線板を準備
する。この多層板は通常の積層工程により製造される多
層配線板であり、全層に回路形成された多層配線板の上
下にビルドアップ樹脂層を形成後、以下の方法で製造さ
れる。
The means for solving the above problems will be further described. First, a multilayer wiring board containing different materials is prepared. This multilayer board is a multilayer wiring board manufactured by a normal laminating process, and is manufactured by the following method after forming a build-up resin layer above and below a multilayer wiring board in which circuits are formed in all layers.

【0024】異種材料からなる多層配線板、たとえばポ
リイミド樹脂層を内層にもつ複合多層配線板を用いる場
合、先ずビルドアップ樹脂層を形成し、バイアホール穿
孔後、ビルドアップ樹脂への銅メッキ前処理として適し
た粗化処理を施し、その後、1回目の銅メッキ層の形
成、貫通スルーホール穿孔を行い、貫通スルーホール内
に露出する異種材料、たとえばポリイミド樹脂に適した
デスミア処理(スミアを取り除く処理)を行い、2回目
の銅メッキ層の形成により、それぞれの樹脂に適した銅
メッキを行うことによる高品質のビルドアップ多層配線
板を製造することが可能となる。
When a multilayer wiring board made of a different material, for example, a composite multilayer wiring board having a polyimide resin layer as an inner layer is used, a build-up resin layer is first formed, a via hole is drilled, and a pre-treatment of copper plating on the build-up resin is performed. Roughening treatment suitable for the following, and then forming the first copper plating layer, drilling through holes, and desmearing treatment (smear removal processing) suitable for dissimilar materials exposed in the through holes, for example, polyimide resin ), And the formation of the second copper plating layer makes it possible to manufacture a high-quality build-up multilayer wiring board by performing copper plating suitable for each resin.

【0025】また、この方法では、第1回目の銅メッキ
層と第2回目の銅メッキ層の層厚を変化させることも出
来る。銅メッキの厚みを変えることによって、例えば、
(A)2回目の銅メッキ層厚を1回目の銅メッキ層厚よ
り厚くすることによって、バイアホ−ルのスルホ−ルの
信頼性を向上させ、半田耐熱性を上げることが出来る。
In this method, the thickness of the first copper plating layer and the thickness of the second copper plating layer can be changed. By changing the thickness of the copper plating, for example,
(A) By increasing the thickness of the second copper plating layer from the thickness of the first copper plating layer, the reliability of the via hole can be improved and the solder heat resistance can be increased.

【0026】(B)2回目の銅メッキ層厚を1回目の銅
メッキ層厚より薄くすることによって、最外層にファイ
ンなパタ−ンを形成出来る様になる。
(B) By making the thickness of the second copper plating layer thinner than the thickness of the first copper plating layer, a fine pattern can be formed on the outermost layer.

【0027】(A)と(B)とは方法が異なり、互いに
長所及び欠点を持つが、本発明によれば、従来技術に比
べて2回行う銅メッキの層厚をそれぞれ自由に選択出来
るため、目的に応じて、銅メッキの層厚を設定出来る。
全体の板厚が薄く、スルホ−ル信頼性をあまり高く要求
されず、ビルドアップ層にファインパタ−ンを形成する
要求がある場合などは、(B)方法が適している。
Although the methods (A) and (B) are different from each other and have advantages and disadvantages, according to the present invention, the thickness of the copper plating performed twice can be freely selected as compared with the prior art. The thickness of the copper plating layer can be set according to the purpose.
The method (B) is suitable when the overall thickness is small, the reliability of the sulfol is not required to be very high, and there is a need to form a fine pattern in the build-up layer.

【0028】あるいは、ビルドアップ樹脂層形成後、貫
通スルーホールを穿孔し、穴内部に露出する異種材料に
適したデスミア処理を行い、銅メッキを施す。その後、
エッチングレジストあるいは穴埋め用のインクの充填に
より貫通スルーホール内を保護し、その他の領域の銅メ
ッキをエッチングにより除去し、露出したビルドアップ
樹脂にバイアホールを穿孔、最後に、ビルドアップ樹脂
及びバイアホールに適した粗化処理を行い、銅メッキを
施すことによっても高品質なビルドアップ多層配線板を
製造することが可能となる。
Alternatively, after the build-up resin layer is formed, a through-hole is formed, a desmear process suitable for a different material exposed inside the hole is performed, and copper plating is performed. afterwards,
The inside of the through-hole is protected by filling with etching resist or ink for filling holes, copper plating in other areas is removed by etching, and via holes are drilled in the exposed build-up resin, and finally, build-up resin and via holes It is also possible to manufacture a high-quality build-up multilayer wiring board by performing a roughening treatment suitable for the above and copper plating.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】図1及び図2は本発明の一実施の
形態に係わる図面であり、以下に実施例により本発明を
具体的に説明する。
1 and 2 are drawings according to an embodiment of the present invention, and the present invention will be specifically described below with reference to examples.

【0030】[本発明の製造工程1](実施の形態1) 本発明の一実施の形態1に係わるビルドアップ多層配線
板及びその製造方法を図1を参照しながら具体的に説明
する。製造方法の各工程は以下の通りである。
[Manufacturing Step 1 of the Present Invention] (Embodiment 1) A build-up multilayer wiring board according to Embodiment 1 of the present invention and a manufacturing method thereof will be specifically described with reference to FIG. Each step of the manufacturing method is as follows.

【0031】(1)プリント配線板準備工程 図1(a)において、例えば、エポキシ樹脂またはポリ
イミド樹脂等による異種材料で構成された芯基板12の
表面及び裏面に、内層導体パターン13が形成された両
面プリント配線板11を準備する。この両面プリント配
線板は内層回路を含む多層配線板であってもよいことは
当然である。
(1) Step of Preparing Printed Wiring Board In FIG. 1A, an inner conductor pattern 13 is formed on the front and back surfaces of a core substrate 12 made of a different material such as an epoxy resin or a polyimide resin. A double-sided printed wiring board 11 is prepared. Naturally, this double-sided printed wiring board may be a multilayer wiring board including an inner layer circuit.

【0032】(2)ビルドアップ樹脂層形成工程 図1(b)において、この両面プリント配線板11の表
面及び裏面に、ビルドアップ樹脂層14を積層する。ビ
ルドアップ樹脂の積層は、カーテンコート、ラミネー
ト、あるいはプレスによる積層法等が用いられる。
(2) Build-up resin layer forming step In FIG. 1B, a build-up resin layer 14 is laminated on the front and back surfaces of the double-sided printed wiring board 11. For lamination of the build-up resin, curtain coating, lamination, a lamination method using a press, or the like is used.

【0033】(3)バイアホール穴形成工程 図1(c)において、ビルドアップ樹脂層14の一部に
穿孔を施し、バイアホール15を形成する。このバイア
ホール形成方法は、フォトリソグラフィ法、やレーザ照
射法等を用いて、ビルドアップ樹脂層14を穿孔するな
どにより形成されてる。
(3) Via Hole Hole Forming Step In FIG. 1C, a part of the build-up resin layer 14 is perforated to form a via hole 15. This via hole forming method is formed by perforating the build-up resin layer 14 using a photolithography method, a laser irradiation method, or the like.

【0034】(4)粗化処理工程 図1(d)において、ビルドアップ樹脂表面14a、バ
イアホール内15aにデスミア処理を兼ねた粗化処理
(または、粗面化処理とも言う)を施す。
(4) Roughening Process In FIG. 1D, a roughening process (also referred to as a roughening process) also serving as a desmear process is performed on the build-up resin surface 14a and the inside 15a of the via hole.

【0035】(5)第1回目の銅メッキ層形成工程 図1(e)において、第1回目の銅メッキを施し、第1
銅メッキ層16を形成する。
(5) First Step of Forming Copper Plating Layer In FIG. 1E, a first copper plating is performed,
A copper plating layer 16 is formed.

【0036】(6)貫通スルーホール穴形成工程 図1(f)において、ドリル等を用いて、貫通スルーホ
ール穴17を穿孔する。この時、ガラスエポキシまたは
ポリイミド(内層の樹脂)12が貫通スルーホール穴1
7の内壁17aに露出する状態となる。
(6) Step of Forming Through-Through Hole In FIG. 1F, a through-hole 17 is formed by using a drill or the like. At this time, the glass epoxy or polyimide (resin of the inner layer) 12 is inserted into the through hole 1.
7 is exposed on the inner wall 17a.

【0037】(7)第2回目の銅メッキ層形成工程 図1(g)において、内層のポリイミド樹脂に適したデ
スミア処理を施し、その後、第2回目の銅メッキを施し
て、第2銅メッキ層18を形成する。これにより、内層
導体パターン13との電気的接続が行われるとともに、
スルーホール内にも銅メッキ層18aが形成され、同時
に上下パターンの電気的接続が行われる。
(7) Second Copper Plating Layer Forming Step In FIG. 1 (g), a desmear treatment suitable for the polyimide resin of the inner layer is performed, and then a second copper plating is performed to form a second copper plating. The layer 18 is formed. Thereby, the electrical connection with the inner layer conductor pattern 13 is performed, and
A copper plating layer 18a is also formed in the through hole, and at the same time, electrical connection of the upper and lower patterns is performed.

【0038】(8)銅メッキ層に所定のパターン形成工
程 図1(h)において、第1銅メッキ層16及び第2銅メ
ッキ層18を所定のパターンに形成することにより、異
種材料で構成されたビルドアップ多層配線板10を製造
することができる。この時、第2銅メッキ層18の厚み
を先述の第1銅メッキ層16のそれと変えることも可能
である。
(8) Step of Forming a Predetermined Pattern on the Copper Plating Layer In FIG. 1H, the first copper plating layer 16 and the second copper plating layer 18 are formed in a predetermined pattern to be formed of different materials. The build-up multilayer wiring board 10 can be manufactured. At this time, the thickness of the second copper plating layer 18 can be changed from that of the first copper plating layer 16 described above.

【0039】第2銅メッキ層18の層厚を第1銅メッキ
層16の層厚より厚くすることにより、スルーホールの
銅メッキ層を介しての上下パターン(外層)の電気的接
続や内層の導体層と外層の導体層との電気的接続の信頼
性を高めることができる。また、逆に、第2銅メッキ層
18の層厚を第1銅メッキ層16の層厚より薄くするこ
とにより、ビルドアップ樹脂表面上に第2銅メッキ層1
8によるファインパターンを形成することができる。
By making the layer thickness of the second copper plating layer 18 larger than the layer thickness of the first copper plating layer 16, electrical connection of upper and lower patterns (outer layers) via the copper plating layer of through holes and the inner layer can be formed. The reliability of the electrical connection between the conductor layer and the outer conductor layer can be improved. Conversely, by making the layer thickness of the second copper plating layer 18 thinner than the layer thickness of the first copper plating layer 16, the second copper plating layer 1
8 can form a fine pattern.

【0040】[本発明の製造工程2](実施の形態2) 本発明の一実施の形態2に係わるビルドアップ多層配線
板及びその製造方法を図2を参照しながら具体的に説明
する。製造方法の各工程は以下の通りである。
[Manufacturing Step 2 of the Present Invention] (Embodiment 2) A build-up multilayer wiring board according to Embodiment 2 of the present invention and a manufacturing method thereof will be specifically described with reference to FIG. Each step of the manufacturing method is as follows.

【0041】(1)プリント配線板準備工程 図2(a)において、例えば、エポキシ樹脂またはポリ
イミド樹脂等による異種材料で構成された芯基板12の
表面及び裏面に、内層導体パターン13が形成された両
面プリント配線板11を準備する。この両面プリント配
線板は内層回路を含む多層配線板であってもよいことは
当然である。
(1) Step of Preparing Printed Wiring Board In FIG. 2A, an inner conductor pattern 13 is formed on the front and back surfaces of a core substrate 12 made of, for example, a different material such as an epoxy resin or a polyimide resin. A double-sided printed wiring board 11 is prepared. Naturally, this double-sided printed wiring board may be a multilayer wiring board including an inner layer circuit.

【0042】(2)ビルドアップ樹脂層形成工程 図2(a)において、この両面プリント配線板11の表
面及び裏面に、ビルドアップ樹脂層14を積層する。ビ
ルドアップ樹脂の積層は、カーテンコート、ラミネー
ト、あるいはプレスによる積層法等が用いられる。
(2) Build-up Resin Layer Forming Step In FIG. 2A, a build-up resin layer 14 is laminated on the front and back surfaces of the double-sided printed wiring board 11. For lamination of the build-up resin, curtain coating, lamination, a lamination method using a press, or the like is used.

【0043】(3)貫通スルーホール穴形成工程 図2(b)において、ドリル等を用いて、貫通スルーホ
ール穴17を穿孔する。この時、ガラスエポキシまたは
ポリイミド(内層の樹脂)12が貫通スルーホール穴1
7の内壁17aに露出する状態となる。
(3) Step of forming through-hole hole In FIG. 2B, a through-hole hole 17 is formed by using a drill or the like. At this time, the glass epoxy or polyimide (resin of the inner layer) 12 is inserted into the through hole 1.
7 is exposed on the inner wall 17a.

【0044】(4)粗化処理(粗面化処理)及び第1回
目の銅メッキ層形成工程 図2(c)において、ビルドアップ樹脂表面14a及び
貫通スルーホール17の内面17aに露出するポリイミ
ド樹脂(内層樹脂)に適したデスミア処理を施し、その
後、第1回目の銅メッキを施し、第1銅メッキ層16を
形成する。
(4) Roughening Treatment (Roughening Treatment) and First Step of Forming Copper Plating Layer In FIG. 2C, the polyimide resin exposed on the build-up resin surface 14a and the inner surface 17a of the through-hole 17 is shown. A desmear process suitable for the (inner layer resin) is performed, and then a first copper plating is performed to form a first copper plating layer 16.

【0045】(5A)貫通スルーホール穴の内壁に第1
銅メッキ層を残存する工程 次に、図2(d)において、エッチングレジストを第1
銅メッキ層16上に形成し、露光、現像により、貫通ス
ルーホール17にのみ、エッチングレジスト21を残
し、不要な第1銅メッキ層をエッチングにより除去す
る。この結果、貫通スルーホール穴17の内壁17aに
必要な第1銅メッキ層16aがエッチングレジスト21
により保護・被覆された形で残存される。
(5A) The first wall is formed on the inner wall of the through hole.
Step of Remaining Copper Plating Layer Next, in FIG.
An unnecessary portion of the first copper plating layer is formed on the copper plating layer 16 by exposure and development, leaving the etching resist 21 only in the through-hole 17 and removing the unnecessary first copper plating layer by etching. As a result, the first copper plating layer 16a necessary for the inner wall 17a of the through hole 17 is
In a protected and coated form.

【0046】(5B)貫通スルーホール穴の内壁に第1
銅メッキ層を残存する工程 次に、図2(e)において、貫通スルーホール17内に
樹脂22を印刷等により充填し、貫通スルーホール以外
に形成された第1銅メッキ層16を除去する。この結
果、貫通スルーホール穴17の内壁17aに必要な第1
銅メッキ層16aが充填樹脂22により保護・被覆され
た形で残存される。
(5B) First inner wall of the through hole
Step of Remaining Copper Plating Layer Next, in FIG. 2E, the resin 22 is filled in the through-hole 17 by printing or the like, and the first copper plating layer 16 formed other than the through-hole is removed. As a result, the first wall necessary for the inner wall 17a of the through hole 17 is formed.
The copper plating layer 16a is left protected and covered by the filling resin 22.

【0047】本発明の製造工程2として、工程(5A)
または(5B)のどちらかを取ることができるが、図2
(f)〜図2(h)は、工程(5A)を取った場合の工
程図が示してある。
As the production step 2 of the present invention, the step (5A)
Or (5B) can be taken, but FIG.
(F) to FIG. 2 (h) show process diagrams when the process (5A) is taken.

【0048】(6)バイアホール穴形成工程 図2(f)において、エッチングにより外装表面の第1
銅メッキ層16を除去したビルドアップ樹脂層14の一
部にレーザ照射等により穿孔を施し、バイアホール15
を形成する。このバイアホール形成方法は、フォトリソ
グラフィ法等を用いて、ビルドアップ樹脂層14を穿孔
するなどにより形成してもよい。
(6) Via Hole Forming Step In FIG. 2 (f), the first of the exterior surface is etched by etching.
A part of the build-up resin layer 14 from which the copper plating layer 16 has been removed is perforated by laser irradiation or the like to form a via hole 15.
To form This via hole forming method may be formed by perforating the build-up resin layer 14 using a photolithography method or the like.

【0049】(7)粗化処理(粗面化処理)と第2回目
の銅メッキ層形成工程 図2(g)において、ビルドアップ樹脂表面14aにビ
ルドアップ樹脂に適したデスミア処理を施し、その後、
第2回目の銅メッキを施し、第2銅メッキ層23を形成
する。これにより、内層導体パターン13との電気的接
続が行われるとともに、スルーホール内にも銅メッキ層
23aが形成され、同時に上下パターンの接続が行われ
る。
(7) Roughening treatment (roughening treatment) and second copper plating layer forming step In FIG. 2 (g), a desmear treatment suitable for the build-up resin is performed on the build-up resin surface 14a, and thereafter, ,
A second copper plating is performed to form a second copper plating layer 23. As a result, the electrical connection with the inner conductor pattern 13 is made, the copper plating layer 23a is formed in the through hole, and the upper and lower patterns are simultaneously connected.

【0050】(8)銅メッキ層に所定のパターン形成工
程 図2(h)において、第2銅メッキ層23を所定のパタ
ーンに形成することにより、異種材料で構成されたビル
ドアップ多層配線板20を製造することができる。
(8) Step of Forming Predetermined Pattern on Copper Plating Layer In FIG. 2 (h), by forming the second copper plating layer 23 in a predetermined pattern, the build-up multilayer wiring board 20 made of a dissimilar material is formed. Can be manufactured.

【0051】本発明の製造工程2の特徴は、特に、第2
銅メッキ層23の層厚を第1銅メッキ層16の層厚より
厚くすることにより、スルーホールの銅メッキ層を介し
ての上下パターンの電気的接続の信頼性を高めることが
できる。また、逆に、第2銅メッキ層23の層厚を第1
銅メッキ層16の層厚より薄くすることにより、ビルド
アップ樹脂表面上に第2銅メッキ層23によるファイン
パターンを形成することができる。
The feature of the manufacturing process 2 of the present invention is,
By making the layer thickness of the copper plating layer 23 larger than the layer thickness of the first copper plating layer 16, the reliability of the electrical connection of the upper and lower patterns via the copper plating layer of the through hole can be improved. Conversely, the thickness of the second copper plating layer 23 is set to the first thickness.
By making the thickness smaller than the thickness of the copper plating layer 16, a fine pattern by the second copper plating layer 23 can be formed on the surface of the build-up resin.

【0052】[0052]

【発明の効果】以上のように、本発明の請求項1記載の
ビルドアップ多層配線板によれば、異種材料で構成され
た芯基板より成るビルドアップ多層配線板であり、少な
くとも、ビルドアップ絶縁樹脂層、第1銅メッキ層、第
2銅メッキ層、バイアホール穴、貫通スルーホール穴、
を有することを特徴とするものである。従って、本発明
によれば、異種材料で構成された芯基板を用いてビルド
アップ多層配線板を作ることができるため、芯基板の選
択の自由度が高く、例えば、「寸法変化率」、「誘電特
性」、「電気絶縁性」、「曲げ特性」、などのそれぞれ
の製品の使用目的に応じて、芯基板の材料を選択するこ
とができる。さらに、従来例の単一材料で構成された芯
基板を用いたビルドアップ多層配線板に比べて、その付
加価値を高めることが容易である。
As described above, according to the build-up multilayer wiring board of the first aspect of the present invention, it is a build-up multilayer wiring board composed of a core substrate made of a different material, and at least the build-up insulation. Resin layer, first copper plating layer, second copper plating layer, via hole hole, through-hole hole,
It is characterized by having. Therefore, according to the present invention, since a build-up multilayer wiring board can be manufactured using a core substrate made of a different material, the degree of freedom in selecting the core substrate is high, for example, “dimensional change rate”, “ The material of the core substrate can be selected according to the purpose of use of each product such as “dielectric properties”, “electrical insulation”, and “bending properties”. Further, compared to the conventional build-up multilayer wiring board using a core substrate made of a single material, it is easy to increase the added value.

【0053】また、本発明の請求項2記載のビルドアッ
プ多層配線板によれば、第1銅メッキ層の膜厚と、第2
銅メッキ層の膜厚とは異なることを特徴とするものであ
る。従って、例えば、 (A)2回目の銅メッキ層厚を1回目の銅メッキ層厚よ
り厚くすることによって、バイアホ−ルのスルホ−ルの
信頼性を向上させ、半田耐熱性を上げることが出来る。
Further, according to the build-up multilayer wiring board of the second aspect of the present invention, the thickness of the first copper plating layer and the second
The thickness is different from that of the copper plating layer. Therefore, for example, (A) By increasing the thickness of the second copper plating layer from the first copper plating layer, it is possible to improve the reliability of the via hole and improve the solder heat resistance. .

【0054】(B)2回目の銅メッキ層厚を1回目の銅
メッキ層厚より薄くすることによって、最外層にファイ
ンなパタ−ンを形成出来る様になる。
(B) By making the thickness of the second copper plating layer smaller than that of the first copper plating layer, a fine pattern can be formed on the outermost layer.

【0055】(A)と(B)とは方法が異なり、互いに
長所及び欠点を持つが、本発明によれば、従来技術に比
べて2回行う銅メッキの層厚をそれぞれ自由に選択出来
るため、目的に応じて、銅メッキの層厚を設定出来る。
全体の板厚が薄く、スルホ−ル信頼性をあまり高く要求
されず、ビルドアップ層にファインパタ−ンを形成する
要求がある場合などは、(B)方法が適している。
Although the methods (A) and (B) are different from each other and have advantages and disadvantages to each other, according to the present invention, the thickness of the copper plating performed twice can be freely selected as compared with the prior art. The thickness of the copper plating layer can be set according to the purpose.
The method (B) is suitable when the overall thickness is small, the reliability of the sulfol is not required to be very high, and there is a need to form a fine pattern in the build-up layer.

【0056】また、本発明の請求項3記載のビルドアッ
プ多層配線板によれば、貫通スルーホール穴の内壁に形
成されている第1銅メッキ層または第2銅メッキ層が、
前記異種材料で構成された芯基板の内壁面に当接または
密着してなることを特徴とするものである。従って、ス
ルーホール内壁にスミアが残存しないため、スルーホー
ルの本来の目的であるスルーホールの銅メッキ層を介し
ての上下パターン(外層)の電気的接続や内層と外層と
の電気的接続の信頼性を高めることができる。また、ス
ルーホール内壁にスミアが残存しないため、銅メッキ層
と芯基板のスルーホール内壁面との密着性を高めること
ができる。
According to the build-up multilayer wiring board of the third aspect of the present invention, the first copper plating layer or the second copper plating layer formed on the inner wall of the through-hole is
It is characterized by being brought into contact with or in close contact with the inner wall surface of the core substrate made of the different material. Therefore, since no smear remains on the inner wall of the through hole, the reliability of the electrical connection of the upper and lower patterns (outer layer) and the electrical connection between the inner layer and the outer layer via the copper plating layer of the through hole, which is the original purpose of the through hole, is reduced. Can be enhanced. Further, since no smear remains on the inner wall of the through hole, the adhesion between the copper plating layer and the inner wall surface of the through hole of the core substrate can be improved.

【0057】また、本発明の請求項4記載のビルドアッ
プ多層配線板の製造方法によれば、ビルドアップ樹脂層
形成工程、バイアホール穴形成工程、第1回目の銅メッ
キ層形成工程、貫通スルーホール穴形成工程、第2回目
の銅メッキ層形成工程、を含むことを特徴とするもので
ある。従って、本発明によれば、異種材料で構成された
芯基板を用いてビルドアップ多層配線板を作るビルドア
ップ多層配線板の製造方法を得ることができる。さら
に、例えば、 (A)2回目の銅メッキ層厚を1回目の銅メッキ層厚よ
り厚くすることによって、バイアホ−ルのスルホ−ルの
信頼性を向上させ、半田耐熱性を上げることが出来る。
According to the method of manufacturing a build-up multilayer wiring board of the present invention, a build-up resin layer forming step, a via hole forming step, a first copper plating layer forming step, The method is characterized by including a hole hole forming step and a second copper plating layer forming step. Therefore, according to the present invention, it is possible to obtain a method for manufacturing a build-up multilayer wiring board in which a build-up multilayer wiring board is formed using a core substrate made of a different material. Further, for example, (A) By increasing the thickness of the second copper plating layer from the thickness of the first copper plating layer, it is possible to improve the reliability of the via hole and improve the solder heat resistance. .

【0058】(B)2回目の銅メッキ層厚を1回目の銅
メッキ層厚より薄くすることによって、最外層にファイ
ンなパタ−ンを形成出来る様になる。
(B) By making the thickness of the second copper plating layer thinner than the thickness of the first copper plating layer, a fine pattern can be formed on the outermost layer.

【0059】目的に応じて、(A)または(B)を選択
することができるビルドアップ多層配線板の製造方法を
得ることができる。
According to the present invention, it is possible to obtain a method for manufacturing a build-up multilayer wiring board in which (A) or (B) can be selected according to the purpose.

【0060】また、本発明の請求項5記載のビルドアッ
プ多層配線板の製造方法によれば、(1)プリント配線
板準備工程、(2)ビルドアップ樹脂層形成工程、
(3)バイアホール穴形成工程、(4)粗化処理工程、
(5)第1回目の銅メッキ層形成工程、(6)貫通スル
ーホール穴形成工程、(7)第2回目の銅メッキ層形成
工程、(8)第2回目の銅メッキ層または、第2回目及
び第1回目の銅メッキ層に所定のパターン形成工程、の
工程順に製造することを特徴とするものである。従っ
て、ビルドアップ樹脂層を粗化処理後に、第1回目の銅
メッキ層を形成するため、ビルドアップ樹脂層と第1回
目及び第2回目の銅メッキ層との密着性を高めることが
できるビルドアップ多層配線板の製造方法を得ることが
できる。
Further, according to the method of manufacturing a build-up multilayer wiring board according to claim 5 of the present invention, (1) a step of preparing a printed wiring board, (2) a step of forming a build-up resin layer,
(3) via-hole forming step, (4) roughening step,
(5) first copper plating layer forming step, (6) through-hole forming step, (7) second copper plating layer forming step, (8) second copper plating layer or second step. The second and first copper plating layers are manufactured in the order of a predetermined pattern forming step. Therefore, since the first copper plating layer is formed after the roughening treatment of the build-up resin layer, the build-up that can increase the adhesion between the build-up resin layer and the first and second copper plating layers can be achieved. A method for manufacturing an up multilayer wiring board can be obtained.

【0061】また、本発明の請求項6記載のビルドアッ
プ多層配線板の製造方法によれば、(1)プリント配線
板準備工程、(2)ビルドアップ樹脂層形成工程、
(3)貫通スルーホール穴形成工程、(4)粗化処理及
び第1回目の銅メッキ層形成工程、(5)貫通スルーホ
ール穴の内壁に第1銅メッキ層を残存する工程、(6)
バイアホール穴形成工程、(7)粗化処理及び第2回目
の銅メッキ層形成工程、(8)第2回目の銅メッキ層ま
たは、第2回目及び第1回目の銅メッキ層に所定のパタ
ーン形成工程、の工程順に製造することを特徴とするも
のである。従って、貫通スルーホール穴の内壁に第1銅
メッキ層を厚く残存させ、それ以外の領域の第1銅メッ
キ層をすべて除去し、第2銅メッキ層の層厚を薄くする
ことにより、スルーホールの電気的接続の信頼性を高め
ると共に、ビルドアップ樹脂表面上に第2銅メッキ層に
よるファインパターンを形成することができるビルドア
ップ多層配線板の製造方法を得ることができる。
Further, according to the method of manufacturing a build-up multilayer wiring board according to claim 6 of the present invention, (1) a printed wiring board preparation step, (2) a build-up resin layer forming step,
(3) a through-hole-hole forming step, (4) a roughening treatment and a first copper-plated layer forming step, (5) a step of leaving the first copper-plated layer on the inner wall of the through-hole hole, (6).
Via hole hole forming step, (7) roughening treatment and second copper plating layer forming step, (8) second copper plating layer or a predetermined pattern on the second and first copper plating layers It is characterized by being manufactured in the order of the forming step. Accordingly, the first copper plating layer is left thick on the inner wall of the through-hole, the first copper plating layer in all other areas is removed, and the thickness of the second copper plating layer is reduced. And a method of manufacturing a build-up multilayer wiring board capable of forming a fine pattern by a second copper plating layer on the surface of a build-up resin.

【0062】さらに、本発明の請求項7記載のビルドア
ップ多層配線板の製造方法によれば、前記(5)貫通ス
ルーホール穴の内壁に第1銅メッキ層を残存する工程
は、エッチングレジストの被覆により第1銅メッキ層を
残存する工程、または、貫通スルーホール穴への樹脂の
充填または被覆により第1銅メッキ層を残存する工程、
より成ることを特徴とするものである。従って、容易
に、確実に、且つ簡便な方法により、貫通スルーホール
穴の内壁に第1銅メッキ層を残存させることができるビ
ルドアップ多層配線板の製造方法を得ることができる。
Further, according to the method of manufacturing a build-up multilayer wiring board according to claim 7 of the present invention, the step (5) of leaving the first copper plating layer on the inner wall of the through-hole hole includes: A step of leaving a first copper plating layer by coating, or a step of leaving the first copper plating layer by filling or coating a resin in a through-hole hole;
It is characterized by comprising. Accordingly, it is possible to obtain a method for manufacturing a build-up multilayer wiring board in which the first copper plating layer can be left on the inner wall of the through-hole hole easily, reliably and simply.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態に係わる異種材料で構成
されるビルドアップ多層配線板及びその製造方法の一例
を示す断面工程図であり、(a)は工程(1)両面プリ
ント配線板の用意を説明する図であり、(b)は工程
(2)ビルドアップ樹脂層の形成を説明する図であり、
(c)は(3)バイアホールの形成を説明する図であ
り、(d)は(4)粗化処理を説明する図であり、
(e)は(5)第1回目の銅メッキを説明する図であ
り、(f)は(6)貫通スルーホール穴の形成を説明す
る図であり、(g)は(7)第2回目の銅メッキを説明
する図であり、(h)は(8)銅メッキ層に所定のパタ
ーン形成を説明する図である。
FIG. 1 is a cross-sectional process diagram showing an example of a build-up multilayer wiring board composed of dissimilar materials and a method for manufacturing the same according to an embodiment of the present invention, in which (a) shows a process (1) double-sided printed wiring board (B) is a diagram for explaining the step (2) formation of a build-up resin layer,
(C) is a diagram illustrating (3) formation of a via hole, (d) is a diagram illustrating (4) a roughening process,
(E) is a view for explaining (5) first copper plating, (f) is a view for explaining (6) formation of a through-hole, and (g) is a view (7) for the second time. It is a figure explaining copper plating of (h), (h) is a figure explaining formation of a predetermined pattern in a copper plating layer.

【図2】本発明の他の一実施の形態に係わる異種材料で
構成されるビルドアップ多層配線板及びその製造方法の
一例を示す断面工程図であり、(a)は工程(1)両面
プリント配線板の用意及びビルドアップ樹脂層の形成を
説明する図であり、(b)は(2)貫通スルーホール穴
の形成を説明する図であり、(c)は(3)粗化処理及
び第1回目の銅メッキを説明する図であり、(d)は
(4A)貫通スルーホール穴の内壁に第1銅メッキ層を
残存を説明する図であり、(e)は(4B)貫通スルー
ホール穴の内壁に第1銅メッキ層を残存を説明する図で
あり、(f)は(5)バイアホールの形成を説明する図
であり、(g)は(6)粗化処理と第2回目の銅メッキ
を説明する図であり、(h)は(7)銅メッキ層に所定
のパターン形成を説明する図である。
FIGS. 2A and 2B are cross-sectional process diagrams showing an example of a build-up multilayer wiring board composed of different materials and a method for manufacturing the same according to another embodiment of the present invention, and FIG. It is a figure explaining preparation of a wiring board and formation of a build-up resin layer, (b) is a figure explaining (2) formation of a through-hole hole, (c) is (3) roughening processing and the It is a figure explaining the 1st copper plating, (d) is a figure explaining the (4A) 1st copper plating layer remaining on the inner wall of a through-hole hole, (e) is (4B) a through-hole. It is a figure explaining the 1st copper plating layer remaining on the inner wall of a hole, (f) is a figure explaining (5) formation of a via hole, (g) is (6) roughening processing and the 2nd time FIG. 7H is a view for explaining copper plating, and FIG. 7H illustrates formation of a predetermined pattern on the copper plating layer. It is a diagram.

【図3】従来例のビルドアップ多層配線板及びその製造
方法の一例を示す断面工程図であり、(a)は(1)両
面プリント配線板の用意を説明する図であり、(b)は
(2)ビルドアップ樹脂層の形成を説明する図であり、
(c)は(3)バイアホールの形成を説明する図であ
り、(d)は(4)貫通スルーホール穴の形成を説明す
る図であり、(e)は(5)粗化処理を説明する図であ
り、(f)は(6)銅メッキを説明する図であり、
(g)は(7)銅メッキ層に所定のパターン形成を説明
する図である。
3A and 3B are cross-sectional process diagrams illustrating an example of a conventional build-up multilayer wiring board and a method for manufacturing the same, wherein FIG. 3A is a diagram illustrating (1) preparation of a double-sided printed wiring board, and FIG. (2) is a diagram illustrating the formation of a build-up resin layer,
(C) is a diagram illustrating (3) formation of a via hole, (d) is a diagram illustrating (4) formation of a through-hole hole, and (e) is a diagram (5) illustrating a roughening process. (F) is a diagram illustrating (6) copper plating,
(G) is a figure explaining a predetermined pattern formation in a (7) copper plating layer.

【図4】従来例のビルドアップ多層配線板及びその製造
方法の問題点を説明する断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a problem of a conventional build-up multilayer wiring board and a method of manufacturing the same.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ビルドアップ多層配線板 11 両面プリント配線板 12 異種材料で構成された芯基板 13 内層導体パターン 14 ビルドアップ樹脂層 14a ビルドアップ樹脂表面 15 バイアホール 15a バイアホール内 16 第1銅メッキ層 16a 貫通スルーホール穴の内壁にある第1銅メッキ
層 17 貫通スルーホール穴 17a 貫通スルーホール穴の内壁 18 第2銅メッキ層 18a スルーホール穴の内壁面の第2銅メッキ層 20 異種材料で構成されたビルドアップ多層配線板 21 エッチングレジスト 22 貫通スルーホール内に充填された樹脂 23 第2銅メッキ層 23a スルーホール穴の内壁面の第2銅メッキ層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Build-up multilayer wiring board 11 Double-sided printed wiring board 12 Core substrate composed of different materials 13 Inner-layer conductor pattern 14 Build-up resin layer 14a Build-up resin surface 15 Via hole 15a Via hole 16 First copper plating layer 16a Penetration through First copper plating layer on inner wall of hole hole 17 Through-hole hole 17a Inner wall of through-hole hole 18 Second copper plating layer 18a Second copper plating layer on inner wall of through-hole hole 20 Build made of different materials Up multilayer wiring board 21 Etching resist 22 Resin filled in through-hole 23 Second copper plating layer 23a Second copper plating layer on inner wall surface of through-hole

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 異種材料で構成された芯基板より成るビ
ルドアップ多層配線板において、少なくとも、ビルドア
ップ絶縁樹脂層、第1銅メッキ層、第2銅メッキ層、バ
イアホール穴、貫通スルーホール穴、を有することを特
徴とするビルドアップ多層配線板。
In a build-up multilayer wiring board comprising a core substrate made of a different material, at least a build-up insulating resin layer, a first copper plating layer, a second copper plating layer, a via hole hole, a through-hole hole. A build-up multilayer wiring board comprising:
【請求項2】 請求項1記載のビルドアップ多層配線板
において、 第1銅メッキ層の膜厚と、第2銅メッキ層の膜厚とは異
なることを特徴とするビルドアップ多層配線板。
2. The build-up multilayer wiring board according to claim 1, wherein the thickness of the first copper plating layer is different from the thickness of the second copper plating layer.
【請求項3】 請求項1記載のビルドアップ多層配線板
において、貫通スルーホール穴の内壁に形成されている
第1銅メッキ層または第2銅メッキ層が、前記異種材料
で構成された芯基板の内壁面に当接または密着してなる
ことを特徴とするビルドアップ多層配線板。
3. The core substrate according to claim 1, wherein the first copper plating layer or the second copper plating layer formed on the inner wall of the through-hole is made of the different material. A build-up multilayer wiring board characterized by being in contact with or in close contact with an inner wall surface of a multi-layer wiring board.
【請求項4】 異種材料で構成された芯基板より成るビ
ルドアップ多層配線板の製造方法において、 ビルドアップ樹脂層形成工程、 バイアホール穴形成工程、 第1回目の銅メッキ層形成工程、 貫通スルーホール穴形成工程、 第2回目の銅メッキ層形成工程、を含むことを特徴とす
るビルドアップ多層配線板の製造方法。
4. A method for manufacturing a build-up multilayer wiring board comprising a core substrate made of a dissimilar material, comprising: a build-up resin layer forming step; a via hole forming step; a first copper plating layer forming step; A method for manufacturing a build-up multilayer wiring board, comprising: a hole hole forming step; and a second copper plating layer forming step.
【請求項5】 請求項4記載のビルドアップ多層配線板
の製造方法において、 (1)プリント配線板準備工程、 (2)ビルドアップ樹脂層形成工程、 (3)バイアホール穴形成工程、 (4)粗化処理工程、 (5)第1回目の銅メッキ層形成工程、 (6)貫通スルーホール穴形成工程、 (7)第2回目の銅メッキ層形成工程、 (8)第2回目の銅メッキ層または、第2回目及び第1
回目の銅メッキ層に所定のパターン形成工程、の工程順
に製造することを特徴とするビルドアップ多層配線板の
製造方法。
5. The method for manufacturing a build-up multilayer wiring board according to claim 4, wherein (1) a printed wiring board preparation step, (2) a build-up resin layer forming step, (3) a via hole hole forming step, (4) ) Roughening treatment step, (5) First copper plating layer forming step, (6) Through-hole hole forming step, (7) Second copper plating layer forming step, (8) Second copper Plating layer or second and first
A method for manufacturing a build-up multilayer wiring board, comprising: manufacturing in the order of a predetermined pattern forming step on a second copper plating layer.
【請求項6】 請求項4記載のビルドアップ多層配線板
の製造方法において、 (1)プリント配線板準備工程、 (2)ビルドアップ樹脂層形成工程、 (3)貫通スルーホール穴形成工程、 (4)粗化処理及び第1回目の銅メッキ層形成工程、 (5)貫通スルーホール穴の内壁に第1銅メッキ層を残
存する工程、 (6)バイアホール穴形成工程、 (7)粗化処理及び第2回目の銅メッキ層形成工程、 (8)第2回目の銅メッキ層または、第2回目及び第1
回目の銅メッキ層に所定のパターン形成工程、の工程順
に製造することを特徴とするビルドアップ多層配線板の
製造方法。
6. The method for manufacturing a build-up multilayer wiring board according to claim 4, wherein (1) a printed wiring board preparation step, (2) a build-up resin layer forming step, (3) a through-hole hole forming step, 4) Roughening treatment and first copper plating layer forming step, (5) Step of leaving first copper plating layer on inner wall of through-hole hole, (6) Via hole hole forming step, (7) Roughening Processing and second copper plating layer forming step, (8) second copper plating layer or second and first copper plating layers
A method for manufacturing a build-up multilayer wiring board, comprising: manufacturing in the order of a predetermined pattern forming step on a second copper plating layer.
【請求項7】 請求項6記載のビルドアップ多層配線板
の製造方法において、 前記(5)貫通スルーホール穴の内壁に第1銅メッキ層
を残存する工程は、エッチングレジストの被覆により第
1銅メッキ層を残存する工程、または、貫通スルーホー
ル穴への樹脂の充填または被覆により第1銅メッキ層を
残存する工程、より成ることを特徴とするビルドアップ
多層配線板の製造方法。
7. The method for manufacturing a build-up multilayer wiring board according to claim 6, wherein the step (5) of leaving the first copper plating layer on the inner wall of the through hole has a first copper plating layer covered with an etching resist. A method for manufacturing a build-up multilayer wiring board, comprising: a step of leaving a plating layer; or a step of leaving a first copper plating layer by filling or covering a through-hole hole with a resin.
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