JP2000058433A - 露光装置 - Google Patents

露光装置

Info

Publication number
JP2000058433A
JP2000058433A JP10236294A JP23629498A JP2000058433A JP 2000058433 A JP2000058433 A JP 2000058433A JP 10236294 A JP10236294 A JP 10236294A JP 23629498 A JP23629498 A JP 23629498A JP 2000058433 A JP2000058433 A JP 2000058433A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exposure
gas
chamber
exposed
exposure chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10236294A
Other languages
English (en)
Inventor
Kimikichi Deguchi
公吉 出口
Jiro Nakamura
二朗 中村
Makoto Fukuda
真 福田
Nobuyuki Takeuchi
信行 竹内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP10236294A priority Critical patent/JP2000058433A/ja
Publication of JP2000058433A publication Critical patent/JP2000058433A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 露光用室内に配される被露光体に、露光用室
内の気体が露光光によって照射されることによって発生
する不所望成分が侵入するのを有効に回避させる。 【解決手段】 露光用室内において、清浄な気体を、被
露光体の表面に沿った領域に効果的に流す。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光光を被露光体
に露光用マスクを通じて露光させるようにした露光装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、図4を伴って次に述べる露光装置
が提案されている。すなわち、例えば半導体ウエハ上に
フォトレジスト層が塗布されている構成の被露光体1を
その被露光面が例えば垂直に保つように載置する(その
載置手段は図示せず)被露光体載置用台2を支台3を用
いて内部に設置しているとともに、露光用マスク4を被
露光体載置台2上に載置される被露光体1と対向するよ
うに配置する(その配置手段は図示せず)露光用マスク
配置用台5を内部に設置(その設置手段は図示せず)し
ている露光用室6を有する。
【0003】また、露光用室6外に設置された例えばシ
ンクロトロン放射光源でなる光源からの例えば軟X線ビ
ームでなる露光光を、ビーム管7を介して露光用室6内
に導入し、その露光光を、被露光体載置台2上に載置さ
れる被露光体1に、矢8に示すように、露光用マスク配
置用台5上に配置される露光用マスク4を通じて露光さ
せる露光光照射手段9を有する。
【0004】さらに、露光用室6の上方位置にそれと連
通するように配され、且つ露光用室6内に、上方から、
露光用室6内の雰囲気を形成する、気体(例えば乾燥空
気)を、温度、湿度、流量などについて調整して、矢1
0で示すように、送出する空調装置11を有する。
【0005】また、露光用室6内に、その下部において
連通し、且つ露光用室6内に、空調装置11から送出さ
れる気体を、矢10で示すように、露光用室6の被露光
体載置台2及び露光用マスク配置用台5が設置されてい
る領域を含む内部を通って、露光用室6外に排出する排
気ポンプでなる排気手段12を有する。
【0006】そして、排気手段12から排出される露光
用室6からの気体を、矢21に示すように、送風用ポン
プ14に送り、その送風用ポンプ14からの気体を、矢
22に示すように、空調装置11に、それに用いる気体
として送出すようになされている。
【0007】以上が、従来提案されている露光装置の構
成である。このような構成を有する従来の露光装置によ
れば、露光用室6内において、その被露光体載置台2上
に被露光体1を載置するとともに、露光用マスク配置用
台5上に露光用マスク4を載置し、そして、空調装置1
1、排気手段12及び送風用ポンプ14を作動させるこ
とによって、気体(例えば乾燥空気)を露光用室6内に
その内部を通って循環させている状態を得、しかる後、
露光光照射手段9を作動させ、ビーム管7から、露光光
を出射させれば、被露光体1を、露光光によって、露光
用マスク4を介して照射させることができ、よって、露
光装置としての機能を得ることができる。
【0008】そして、この場合、被露光体1に露光光を
露光用マスクを通じて露光させている間、気体(例えば
乾燥空気)が露光用室6内の内部を通って循環している
ので、気体(例えば乾燥空気)中に被露光体1にとって
望ましくない不純物が混入されていても、それが影響を
回避させることができる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】図4に示す従来の露光
装置の場合、被露光体1に露光光を露光用マスク4を通
じて露光させている場合、露光用室6内のその内部を通
って循環させている気体(例えば乾燥空気)が、ビーム
管7と被露光体1との間の領域において、ビーム管7か
らの露光光の照射を受ける。
【0010】そして、この場合、被露光体1を露光光に
よって露光用マスク4を通じてそのパターンに応じた高
い解像度を有する露光パターンに露光させるために、露
光光を、超高圧水銀灯から得られるg線(波長:436
nm)や、i線(波長:365nm)、KrFエキシマ
レーザーから得られるレーザ光(波長:248nm)な
どに比し十分短い波長を有するArFエキシマレーザー
から得られるレーザ光(波長:193nm)や、上述し
たシンクロトロン放射光源から得られる軟X線(波長:
1nm)とする場合、それらの露光光が、6eV以上と
いうような高いエネルギーを有するため、ビーム管7と
被露光体1との間の領域で気体(例えば乾燥空気)及び
それに混入している不純物が励起またはイオン化され
て、励起物またはイオン化物が発生したり、また、それ
らの化学反応によって、硫酸、硝酸、塩酸などの酸が発
生したり、さらには、それら酸が水分によって解離して
酸イオンが発生したりする。
【0011】そして、それら励起物またはイオン化物;
硫酸、硝酸、塩酸などの酸;酸イオンなどが、被露光体
1のフォトレジスト層内に望ましくない不所望成分とし
て侵入し、そのフォトレジスト層に、余分な感光を引き
起こさせたりする。とくに、被露光体1のフォトレジス
ト層が化学増幅レジストであって、そのフォトレジスト
内に上述した酸イオンが侵入する場合、フォトレジスト
層において、露光光が露光された場合と同様の酸の触媒
反応が生ずるので、いわゆる「かぶり」が大きく生じ
る。
【0012】以上のことから、従来の露光装置の場合、
被露光体1を露光光によって露光用マスクを通じてその
パターンに応じた高い解像度を有する露光パターンに露
光させることができない、という欠点を有していた。
【0013】よって、本発明は、上述した欠点のない、
新規な露光装置を提案せんとするものである。
【0014】
【課題を解決するための手段】本願第1番目の発明によ
る露光装置は、図4に示す従来の露光装置の場合と同様
に、(a)被露光体を載置する被露光体載置用台と、露
光用マスクを上記被露光体載置台上に載置される上記被
露光体と対向するように配置する露光用マスク配置用台
とを内部に設置している露光用室と、(b)上記露光用
室外に設置された光源からの露光光を、上記露光用室内
に導入し、その露光光を、上記被露光体載置台上に設置
される上記被露光体に、上記露光用マスク配置用台上に
設置される上記露光用マスクを通じて露光させる露光光
照射手段と、(c)上記露光用室内に、上記露光用室内
の雰囲気を形成する気体を、温度、湿度、流量などにつ
いて調整して送出する空調装置と、(d)上記露光用室
内に上記空調装置から送出される気体を、上記露光用室
の内部を通って、上記露光用室外に排出する排気手段と
を有する。
【0015】しかしながら、本願第1番目の発明による
露光装置は、このような構成を有する露光装置におい
て、(a)上記露光用室内に上記空調装置から送出され
る気体が、上記被露光体載置台上に載置される上記被露
光体の表面に沿って流れて、上記露光用室外に排出させ
るようになされ、そして、(b)上記排気手段から排出
される上記露光用室からの気体を、それに混入される、
上記気体が上記露光光の照射を受けて発生する上記被露
光体にとって望ましくない不所望成分を除去する不所望
成分除去用手段と除湿手段とに通して、送風用ポンプに
送り、(c)その送風用ポンプからの気体を、上記空調
装置に、それに用いる気体として送出すようになされて
いる。
【0016】この場合、不所望成分除去用手段を、アル
カリ性ケミカルフイルタまたは水フイルタ、もしくは上
記アルカリ性ケミカルフイルタ及び水フイルタの従属構
成とし得る。
【0017】また、本願第2番目の発明による露光装置
は、本願第1番目の発明による露光装置の場合と同様
に、(a)被露光体を載置する被露光体載置用台と、露
光用マスクを上記被露光体載置台上に載置される上記被
露光体と対向するように配置する露光用マスク配置用台
とを内部に設置している露光用室と、(b)上記露光用
室外に設置された光源からの露光光を、上記露光用室内
に導入し、その露光光を、上記被露光体載置台上に載置
される上記被露光体に、上記露光用マスク配置用台上に
配置される上記露光用マスクを通じて露光させる露光光
照射手段と、(c)上記露光用室内に、上記露光用室内
の雰囲気を形成する気体を、温度、湿度、流量などにつ
いて調整して送出する空調装置と、(d)上記露光用室
内に上記空調装置から送出される気体を、上記露光用室
の内部を通って、上記露光用室外に排出する排気手段と
を有する。
【0018】しかしながら、本願第2番目の発明による
露光装置は、このような露光装置において、(a)上記
露光用室外に設置されたガス供給源からの清浄ガスを、
除湿手段を通って、送風用ポンプに送り、(b)その送
風用ポンプからの清浄ガスを、上記被露光体載置台上に
載置される上記被露光体の表面に沿って流すようになさ
れている。
【0019】この場合、(a)上記露光用室内に、上記
被露光体載置台上に載置される上記被露光体の表面に沿
った領域、またはその領域及びその周辺領域を含む領域
を他の領域から仕切る仕切手段が設けられ、(b)上記
送風用ポンプから、上記露光用室に、上記清浄ガスを送
給する清浄ガス送給管が、上記仕切手段が仕切っている
領域内に延長されているのを可とする。
【0020】また、(a)上記送風用ポンプから、上記
清浄ガスを送給する清浄ガス送給管が、上記露光用室内
に延長され、(b)その清浄ガス送給管の上記露光用室
内に延長している部の遊端が閉塞され、(c)上記清浄
ガス送給管に、上記露光用室内に延長している部におい
て、ノズルが設けられ、そして、(d)上記清浄ガス送
給管の上記ノズルが設けられている部が、上記露光用室
内に、上記ノズルから噴出する上記清浄ガスが上記被露
光体載置台上に載置される上記被露光体の表面に沿って
流れるように位置決めされているのも可とする。
【0021】さらに、上記ガス供給源として、ヘリウ
ム、窒素または乾燥空気が上記清浄ガスとして得られる
ガス供給源を用い得る。
【0022】
【発明の実施の形態1】次に、図1を伴って本発明によ
る露光装置の第1の実施の形態を述べよう。図1におい
て、図4との対応部分には同一符号を付して示し、詳細
説明を省略する。
【0023】図1に示す本発明による露光装置は、図4
に示す従来の露光装置の場合と同様に、(a)被露光体
1を載置する被露光体載置用台2と、露光用マスク4を
被露光体載置台2上に載置される被露光体1と対向する
ように配置する露光用マスク配置用台5とを内部に設置
している露光用室6と、(b)露光用室6外に設置され
た光源からの露光光を、ビーム管7を介して露光用室6
内に導入し、その露光光を、被露光体載置台2上に載置
される被露光体1に、露光用マスク配置用台5上に配置
される露光用マスク4を通じて露光させる露光光照射手
段9と、(c)露光用室6内に、露光用室6内の雰囲気
を形成する気体(例えば乾燥空気)を、温度、湿度、流
量などについて調整して、送出する空調装置11と、
(d)露光用室6内に空調装置11から送出される気体
を、露光用室6の内部を通って、露光用室6外に排出す
る排気手段12とを有する。
【0024】しかしながら、図1に示す本発明による露
光装置は、このような構成を有する露光装置において、
露光用室6内に空調装置11から送出される気体(例え
ば乾燥空気)が、矢13に示すように、被露光体載置台
2上に載置される被露光体1の表面に沿って流れて、露
光用室6外に排出させるように、空調装置11の露光用
室6との連通位置、排気手段12の露光用室6との連通
位置などが、位置決めされている。
【0025】また、排気手段12から排出される露光用
室6からの気体を、図4に示す従来の露光装置の場合の
ように直接的に送風用ポンプ14に送るようにしている
のに代え、その気体に混入される、気体が露光光の照射
を受けて発生する被露光体1にとって望ましくない不所
望成分を除去する不所望成分除去用手段15に矢21に
示すように送ってそれに通し、次で除湿手段17に矢2
3に示すように送ってそれに通して、送風用ポンプ14
に矢24に示すように送り、そして、その送風用ポンプ
14からの気体を、空調装置11に、それに用いる気体
として、矢22に示すように、送出するようになされて
いる。
【0026】この場合、気体が露光光の照射を受けて発
生する被露光体1にとって望ましくない不所望成分は、
[発明が解決しようとする課題]で上述した励起物また
はイオン化物、硫酸、硝酸、塩酸などの酸、酸イオンな
どでなる成分であり、このため、不所望成分除去用手段
15は、例えばポリアミド系樹脂を用いたアルカリ性ケ
ミカルフイルタ18と、水フイルタ19との従属構成で
なる。
【0027】以上が、本発明による露光装置の第1の実
施の形態の構成である。このような構成を有する本発明
による露光装置の第1の実施の形態は、(a)露光用室
6内に空調装置11から送出される気体が、被露光体載
置台2上に載置される被露光体1の表面に沿って流れ
て、露光用室6外に排出させるようになされ、また、
(b)排気手段12から排出される露光用室6からの気
体を、直接的に送風用ポンプ14に送るのに代え、気体
(例えば乾燥空気)に混入される、気体(例えば乾燥空
気)が露光光の照射を受けて発生する被露光体1にとっ
て望ましくない不所望成分を除去する不所望成分除去用
手段15と、除湿手段17とに通して、送風用ポンプ1
4に送り、そして、その送風用ポンプ14からの気体
を、空調装置11に、それに用いる気体として、矢12
に示すように、送出すようになされている、という事項
を除いて、図4に示す従来の露光装置と同様の構成を有
する。
【0028】このため、詳細説明は省略するが、図4に
示す従来の露光装置の場合で述べたように、露光用室6
内において、その被露光体載置台2上に被露光体1を載
置するとともに、露光用マスク配置用台5上に露光用マ
スク4を配置し、そして、空調装置11、排気手段12
及び送風用ポンプ14を作動させることによって、気体
(例えば乾燥空気)を露光用室6内にその内部を通って
循環させている状態を得、しかる後、露光光照射手段9
を作動させ、ビーム管7から、露光光を出射させれば、
被露光体1を、露光光によって、露光用マスク4を介し
て照射させることができ、よって、露光装置としての機
能を得ることができ、そして、この場合、被露光体1に
露光光を露光用マスクを通じて照射させている間、気体
(例えば乾燥空気)が露光用室6内の内部を通って循環
しているので、気体(例えば乾燥空気)中に被露光体1
にとって望ましくない不純物が混入されていても、それ
が影響を回避させることができる。
【0029】しかしながら、図1に示す本発明による露
光装置の場合、上述した(a)及び(b)事項を有する
ので、図4に示す従来の露光装置の場合で述べたよう
に、被露光体1に露光光を露光用マスク4を通じて露光
させている場合において、露光用室6内のその内部を通
って循環させている気体(例えば乾燥空気)が、ビーム
管7と被露光体1との間の領域において、ビーム管7か
らの露光光の照射を受けることによって、ビーム管7と
被露光体1との間の領域に、励起物またはイオン化物、
硫酸、硝酸、塩酸などの酸、酸イオンなどの、被露光体
1にとって望ましくない不所望成分が発生する、という
ことが生じても、そのような不所望成分を、不所望成分
除去用手段15によって、露光用室6内に空調装置11
から送出される気体(例えば乾燥空気)に、実質的に含
ませず、また、気体(例えば乾燥空気)を被露光体1の
表面に沿って効果的に流させ、しかも、除湿手段17に
よって気体(例えば乾燥空気)に水分をほとんど含ませ
ないので、不所望成分が、被露光体1のフォトレジスト
層内に侵入することによってそのフォトレジスト層に余
分な感光を引き起こさせたり、かぶりを生ぜしめたりす
る、ということを有効に回避させることができる。
【0030】このことは、不所望成分除去用手段15
が、アルカリ性ケミカルフイルタ18と水フィルタ19
との従属構成でなり、そのアルカリ性ケミカルフイルタ
18が、気体中の不所望成分をトラップするが、とくに
その不所望成分中の酸イオンを効果的にトラップし、ま
た、水フィルタ19が、その水中内に気体中の不所望成
分を溶け込ませるが、とくに、その不所望成分中の酸イ
オンを効果的に溶け込ませるので、なおさらである。
【0031】よって、図1に示す本発明による露光装置
によれば、被露光体1を露光光によって露光用マスクを
通じてそのパターンに応じた高い解像度を有する露光パ
ターンに露光させることができる。
【0032】
【発明の実施の形態2】次に、図2を伴って本発明によ
る露光装置の第2の実施の形態を述べよう。図2におい
て、図4との対応部分には同一符号を付して示す。
【0033】図2に示す本発明による露光装置は、次の
事項を除いて、図4に示す本発明による露光装置の場合
と同様の構成を有する。
【0034】すなわち、露光用室6外に設置されたガス
供給源30からの清浄ガスを、矢31に示すように除湿
手段32に送ってそれに通し、次で、他の送風用ポンプ
33に矢34に示すように送り、そして、その送風用ポ
ンプ33からの清浄ガスを、被露光体載置台2上に載置
される被露光体1の表面に沿って流すようになされてい
る。
【0035】この場合、ガス供給源30として、ヘリウ
ム、窒素または乾燥空気が清浄ガスとして得られるガス
供給源を用いる。また、露光用室6内に、その露光用室
6の被露光体載置台2上に載置される被露光体1の表面
に沿った領域、またはその領域及びその周辺領域を含む
領域を他の領域から仕切る、仕切室を形成するような仕
切手段35が設けられている。この場合、仕切手段35
は、露光用室6内に、その露光用室6の被露光体載置台
2上に載置される被露光体1の表面に沿った領域、また
はその領域及びその周辺領域を含む領域を、他の領域と
一部連通させてもよい。
【0036】さらに、送風用ポンプ33から、露光用室
6に、清浄ガスを送給する清浄ガス送給管36が、仕切
手段35によって仕切られている被露光体載置台2上に
設置される被露光体1の表面に沿った領域、またはその
領域及びその周辺領域を含む領域と連通するように延長
されている。
【0037】また、仕切手段35によって仕切られてい
る被露光体載置台2上に設置される被露光体1の表面に
沿った領域、またはその領域及びその周辺領域を含む領
域から、ガス管37が、露光用室6外に延長し、その延
長端に他の排気手段38が連結されている。
【0038】以上が、本発明による露光装置の第2の実
施の形態の構成である。このような構成を有する本発明
による露光装置の第2の実施の形態によれば、それが上
述した事項を除いて、図4に示す従来の露光装置と同様
の構成を有するので、詳細説明は省略するが、図4に示
す従来の露光装置の場合と同様の作用・効果を得ること
ができることは明らかである。
【0039】また、図2に示す本発明による露光装置に
よれば、排気手段38を作動させることによって、ガス
供給源30からの清浄ガスを、矢39に示すように、被
露光体1の表面に沿って効果的に流すことができるの
で、詳細説明は省略するが、図1に示す本発明による露
光装置の場合と同様の作用・効果を得ることができるこ
とは明らかである。
【0040】
【発明の実施の形態3】次に、図3を伴って本発明によ
る露光装置の第3の実施の形態を述べよう。図3におい
て、図2との対応部分には同一符号を付して示す。
【0041】図3に示す本発明による露光装置は、図2
に示す本発明による露光装置の第1の実施の形態におい
て、露光用室6内に設けられた仕切手段35が省略さ
れ、これに応じ、(a)送風用ポンプ33から、清浄ガ
スを送給する清浄ガス送給管36が、露光用室6内に延
長され、(b)その清浄ガス送給管36の露光用室6内
に延長している部の遊端が閉塞され、また、(c)清浄
ガス送給管36に、露光用室6内に延長している部にお
いて、ノズル42が設けられ、そして、(d)その清浄
ガス送給管36のノズル42が設けられいる部が、露光
用室6内に、ノズル42から噴出する清浄ガスが被露光
体載置台2上に載置される被露光体1の表面に沿って流
れるように位置決めされている、ということを除いて、
図2に示す本発明による露光装置の場合と同様の構成を
有する。
【0042】以上が、本発明による露光装置の第3の実
施の形態の構成である。このような構成を有する本発明
による露光装置の第3の実施の形態によれば、上述した
事項を除いて、図2に示す本発明による露光装置と同様
の構成を有し、そして、図2に示す本発明による露光装
置の場合と同様に、排気手段38を作動させることによ
って、ガス供給源30からの清浄ガスを、矢39に示す
ように、被露光体1の表面に沿って効果的に流すことが
できるので、詳細説明は省略するが、図2に示す本発明
による露光装置の場合で述べたと同様の作用・効果が得
られることは明らかである。
【0043】なお、上述においては、本発明による露光
装置の僅かな実施の形態を述べたに過ぎず、本発明の精
神を脱することなしに、種々の変型、変更をなし得るで
あろう。
【0044】
【発明の効果】本発明による露光装置によれば、被露光
体に露光光を露光用マスクを通じて露光させている場合
において、露光用室内のその内部を通って循環させてい
る気体が、被露光体の表面に沿った領域において、露光
光の照射を受けることによって、被露光体の表面に沿っ
た領域に、励起物またはイオン化物;硫酸、硝酸、塩酸
などの酸;酸イオンなどの、被露光体にとって望ましく
ない不所望成分が発生する、ということが生じても、そ
のような不所望成分を、不所望成分除去用手段によっ
て、露光用室内に空調装置から送出される気体に、実質
的に含ませず、また、気体を被露光体の表面に沿って効
果的に流させ、しかも、除湿手段によって気体に水分を
ほとんど含ませないので、不所望成分が、被露光体内に
侵入することによって被露光体にに余分な感光を引き起
こさせたり、かぶりを生ぜしめたりする、ということを
有効に回避させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による露光装置の第1の実施の形態を示
す略線図である。
【図2】本発明による露光装置の第2の実施の形態を示
す略線図である。
【図3】本発明による露光装置の第3の実施の形態を示
す略線図である。
【図4】従来の露光装置を示す略線図である。
【符号の説明】
1 被露光体 2 被露光体載置台 4 露光用マスク 5 露光用マスク配置用台 6 露光用室 7 ビーム管 9 露光光照射手段 11 空調装置 12 排気手段 14 送風用ポンプ 15 不所望成分除去用手段 18 アルカリ性ケミカルフイルタ 19 水フィルタ 30 ガス供給源 32 除湿手段 33 送風用ポンプ 38 排気手段 36 清浄ガス送給管 42 ノズル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福田 真 東京都新宿区西新宿3丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内 (72)発明者 竹内 信行 東京都新宿区西新宿3丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内 Fターム(参考) 5F046 AA22 DA04 GA08 GC04

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(A)(a)被露光体を載置する被露光体
    載置用台と、露光用マスクを上記被露光体載置台上に載
    置される上記被露光体と対向するように配置する露光用
    マスク配置用台とを内部に設置している露光用室と、 (b)上記露光用室外に設置された光源からの露光光
    を、上記露光用室内に導入し、その露光光を、上記被露
    光体載置台上に載置される上記被露光体に、上記露光用
    マスク配置用台上に配置される上記露光用マスクを通じ
    て露光させる露光光照射手段と、 (c)上記露光用室内に、上記露光用室内の雰囲気を形
    成する気体を、温度、湿度、流量などについて調整して
    送出する空調装置と、 (d)上記露光用室内に上記空調装置から送出される気
    体を、上記露光用室の内部を通って、上記露光用室外に
    排出する排気手段とを有する露光装置において、 (B)(a)上記露光用室内に上記空調装置から送出さ
    れる気体が、上記被露光体載置台上に載置される上記被
    露光体の表面に沿って流れて、上記露光用室外に排出さ
    せるようになされ、 (b)上記排気手段から排出される上記露光用室からの
    気体を、それに混入される、上記気体が上記露光光の照
    射を受けて発生する上記被露光体にとって望ましくない
    不所望成分を除去する不所望成分除去用手段と除湿手段
    とに通して、送風用ポンプに送り、 (c)上記送風用ポンプからの気体を、上記空調装置
    に、それに用いる気体ととして送出すようになされてい
    ることを特徴とする露光装置。
  2. 【請求項2】請求項1記載の露光装置において、 上記不所望成分除去用手段が、アルカリ性ケミカルフイ
    ルタまたは水フイルタ、もしくは上記アルカリ性ケミカ
    ルフイルタ及び水フイルタの従属構成でなることを特徴
    とする露光装置。
  3. 【請求項3】(A)(a)被露光体を載置する被露光体
    載置用台と、露光用マスクを上記被露光体載置台上に載
    置される上記被露光体と対向するように配置する露光用
    マスク配置用台とを内部に設置している露光用室と、 (b)上記露光用室外に設置された光源からの露光光
    を、上記露光用室内に導入し、その露光光を、上記被露
    光体載置台上に載置される上記被露光体に、上記露光用
    マスク配置用台上に配置される上記露光用マスクを通じ
    て露光させる露光光照射手段と、 (c)上記露光用室内に、上記露光用室内の雰囲気を形
    成する気体を、温度、湿度、流量などについて調整して
    送出する空調装置と、 (d)上記露光用室内に上記空調装置から送出される気
    体を、上記露光用室の内部を通って、上記露光用室外に
    排出する排気手段とを有する露光装置において、 (B)(a)上記露光用室外に設置されたガス供給源か
    らの清浄ガスを、除湿手段を通って、送風用ポンプに送
    り、 (b)上記送風用ポンプからの清浄ガスを、上記被露光
    体載置台上に載置される上記被露光体の表面に沿って流
    すようになされていることを特徴とする露光装置。
  4. 【請求項4】請求項3記載の露光装置において、 (a)上記露光用室内に、上記被露光体載置台上に載置
    される上記被露光体の表面に沿った領域、またはその領
    域及びその周辺領域を含む領域を他の領域から仕切る仕
    切手段が設けられ、 (b)上記送風用ポンプから、上記露光用室に、上記清
    浄ガスを送給する清浄ガス送給管が、上記仕切手段が仕
    切っている領域内に延長されていることを特徴とする露
    光装置。
  5. 【請求項5】請求項3記載の露光装置において、 (a)上記送風用ポンプから、上記清浄ガスを送給する
    清浄ガス送給管が、上記露光用室内に延長され、 (b)上記清浄ガス送給管の上記露光用室内に延長して
    いる部の遊端が閉塞され、 (c)上記清浄ガス送給管に、上記露光用室内に延長し
    ている部において、ノズルが設けられ、 (d)上記清浄ガス送給管の上記ノズルが設けられてい
    る部が、上記露光用室内に、上記ノズルから噴出する上
    記清浄ガスが上記被露光体載置台上に載置される上記被
    露光体の表面に沿って流れるように位置決めされている
    ことを特徴とする露光装置。
  6. 【請求項6】請求項3記載の露光装置において、 上記ガス供給源として、ヘリウム、窒素または乾燥空気
    が上記清浄ガスとして得られるガス供給源を用いること
    を特徴とする露光装置。
JP10236294A 1998-08-07 1998-08-07 露光装置 Pending JP2000058433A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10236294A JP2000058433A (ja) 1998-08-07 1998-08-07 露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10236294A JP2000058433A (ja) 1998-08-07 1998-08-07 露光装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000058433A true JP2000058433A (ja) 2000-02-25

Family

ID=16998668

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10236294A Pending JP2000058433A (ja) 1998-08-07 1998-08-07 露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000058433A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1681595A2 (en) * 2005-01-13 2006-07-19 NEC Electronics Corporation Exposure apparatus
WO2006075674A1 (en) * 2005-01-13 2006-07-20 Fujifilm Corporation Image exposing apparatus and microlens array unit

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1681595A2 (en) * 2005-01-13 2006-07-19 NEC Electronics Corporation Exposure apparatus
WO2006075674A1 (en) * 2005-01-13 2006-07-20 Fujifilm Corporation Image exposing apparatus and microlens array unit
JP2006196632A (ja) * 2005-01-13 2006-07-27 Nec Electronics Corp 露光装置
EP1681595A3 (en) * 2005-01-13 2007-11-28 NEC Electronics Corporation Exposure apparatus
US7440077B2 (en) 2005-01-13 2008-10-21 Nec Electronics Corporation Exposure apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100476584C (zh) 在光刻机中用于从主室气体隔离光源气体的方法和设备
JP3696156B2 (ja) 塗布膜の加熱装置、レジスト膜の処理方法
EP0676672B1 (en) Processing method and apparatus for a resist-coated substrate
KR100730675B1 (ko) 리소그래피 툴에서 사용되는 가스를 재생하기 위한 방법및 장치
JP2000353488A (ja) 準大気圧荷電粒子ビーム・リトグラフィ・システム内の炭素汚染を排除する方法と装置
JPH11329951A (ja) 光源装置及び露光装置
JP2002015970A (ja) 露光方法及び露光装置
US6704088B2 (en) Environmental-control method and apparatus for an exposure system
JPH09270385A (ja) 露光装置の環境制御装置
JP2000058433A (ja) 露光装置
JP2809038B2 (ja) 環境制御装置および環境制御方法
JP3241656B2 (ja) 露光装置
EP0197286A2 (en) A dry development method for a resist film
JP2005123651A (ja) レジスト膜の処理装置、およびレジストパターン形成方法
JP3097429B2 (ja) レ−ザ加工装置
JP2007096347A (ja) 被処理基板のローテーション補正装置、レジスト膜の処理装置、被処理基板のローテーション補正方法、レジスト膜の処理方法
JP2004014960A (ja) 露光装置および露光方法
JP2005345645A (ja) 露光装置
JP2001135702A (ja) 基板搬送装置および基板処理装置ならびにデバイス製造方法
US6819396B1 (en) Exposure apparatus, and device manufacturing method
JP3168113B2 (ja) 減圧チャンバおよびこれを用いた露光装置
JP3202842B2 (ja) 紫外線利用装置の冷却用気体清浄化の方法と装置
JP2632796B2 (ja) レジスト処理方法
JPH03146954A (ja) レジストパターン形成方法
JP2004080059A (ja) 投影露光装置及び投影露光方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees