JP2000056915A - 座標入力装置 - Google Patents

座標入力装置

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JP2000056915A
JP2000056915A JP22089598A JP22089598A JP2000056915A JP 2000056915 A JP2000056915 A JP 2000056915A JP 22089598 A JP22089598 A JP 22089598A JP 22089598 A JP22089598 A JP 22089598A JP 2000056915 A JP2000056915 A JP 2000056915A
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electrode portion
input device
coordinate input
thin film
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JP22089598A
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Takeshi Watanabe
武 渡辺
Takashi Nishiyama
貴志 西山
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Alps Alpine Co Ltd
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Alps Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光の透過率の高い座標入力装置を提供する。 【解決手段】 下電極部2よりも小さな屈折率を有する
材料からなり、複数個の透孔3aを有する薄膜3を下電
極部2上に設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、操作領域を入力ペ
ン等によって操作してデータ入力を行う座標入力装置に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】図4は、従来の座標入力装置の説明図で
あり、同図Aは従来の座標入力装置の要部断面図であ
り、同図Bは同図Aの4B−4B線における断面図であ
る。
【0003】従来における座標入力装置は、図4A及び
図4Bに示すように、矩形状の透明な板状のガラスから
なる基板21の上面全面に、ITO膜(酸化インジウム
からなる抵抗膜)からなる透明な下電極部22が設けら
れており、下電極部22の上面には、間隔を置いて複数
個の透明な絶縁材料からなるスペーサ23が設けられて
いる。
【0004】また、ポリエチレンテレフタレート等の透
明な合成樹脂からなるフィルム24は、その下面全面に
ITO膜からなる透明な上電極部25が設けられ、そし
て、上電極部25を下電極部22に対向させ、スペーサ
23上に載置して、下電極部22と上電極部25とを絶
縁した状態で組み合わされた構成となっている。
【0005】そして、このような座標入力装置は、液晶
表示装置等の上に載置されて使用される。この際、使用
者は液晶表示装置に表示される内容が、座標入力装置を
透過して視認され、これに対応して入力ペン等の入力部
材(図示せず)を押し当ててフィルム24を変形させ、
上電極部25を下電極部22に接触・離間させて、所望
の座標を入力する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
座標入力装置は透明な材料により構成されているもの
の、様々な屈折率の材料が積層されてなるため、座標入
力装置を透過する光は減衰或いは反射等されて、その透
過率は100%にはならない。座標入力装置に液晶表示
装置等が組み合わされた際には、表示内容は減衰等され
て、液晶表示装置単体と比べて視認性が低下する。その
ため、座標入力装置における光の透過率を上昇させる手
段が望まれていた。本発明が解決しようとする課題は、
光の透過率の高い座標入力装置を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の第1の解決手段として、本発明の座標入力装置は、可
撓性を有する透明なフィルムの下面に形成された、透明
な抵抗層からなる上電極部と、透明なガラスからなる基
板の上面に形成された、透明な抵抗層からなる下電極部
と、該下電極部よりも小さな屈折率を有する透明な絶縁
材料からなり、複数の透孔が設けられた薄膜と、該薄膜
の上に設けられ、絶縁材料からなるスペーサとを備え、
前記上電極部と前記下電極部とがスペーサを介して対向
された状態で配設され、前記透孔を介して前記上電極部
と前記下電極部とが接離して導通可能である構成とし
た。これにより、座標入力装置の入力性を維持しつつ、
透過する光の反射率が減少し光の透過率が上昇する。
【0008】また、第2の解決手段として、本発明の座
標入力装置は、前記透孔が間隔を置いて格子状に形成さ
れてなる構成とした。これにより、座標入力装置の全面
に渡って座標入力時の入力荷重が均一となると共に、同
等に光の透過率の向上がなされる。
【0009】また、第3の解決手段として、本発明の座
標入力装置は、前記下電極部が酸化インジウムからな
り、前記薄膜が、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シ
リコン系樹脂、フッ素樹脂、フッ化マグネシウム及び二
酸化シリコンからなる群から選ばれた一つからなる構成
とした。
【0010】また、第4の解決手段として、本発明の座
標入力装置は、前記薄膜の膜厚が50nm以上1000
nm以下であり、前記透孔の径が30μm以上200μ
m以下であり、前記透孔の間隔が30μm以上200μ
m以下である構成とした。
【0011】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の座標入力装置の
実施の形態について説明する。図1は、本発明の座標入
力装置の説明図であり、同図Aは本発明の座標入力装置
の断面図であり、同図Bは同図Aの1B−1B線におけ
る断面図である。また、図2は、本発明の座標入力装置
の要部説明図であり、同図Aは本発明の座標入力装置の
要部断面図であり、同図Bは同図Aの2B−2B線にお
ける断面図である。また、図3は、本発明の座標入力装
置を説明するためのグラフ図であり、薄膜の屈折率と反
射率との関係を示したグラフ図である。
【0012】本発明の座標入力装置は、図1A及び図1
Bに示すように、矩形状の透明な板状のガラスからなる
基板1の上面全面に、ITO膜(酸化インジウムからな
る抵抗膜)からなる透明な下電極部2が設けられてい
る。
【0013】また、下電極部2の上面には、アクリル系
樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂、フッ素樹脂等
の樹脂や、フッ化マグネシウム、二酸化シリコン等の透
明な材料からなる薄膜3が配設され、図2A及び図2B
に示すように、複数個の四角形状の透孔3aが間隔を置
いて格子状に配置されている。また、薄膜3を構成する
各材料の屈折率は、下電極部2を構成する材料よりも低
いものが形成されている。具体的には、下電極部2を構
成するITO膜の屈折率よりも低いものである。尚、薄
膜3に用いられる材料の屈折率は、固体又は液体である
ため、空気の屈折率1.0よりも高い。また、透孔3a
を有する薄膜3は、上記各材料をスクリーン印刷や凹版
印刷、凸版印刷、フォトリソグラフィ等により形成され
てなる。
【0014】また、下電極部2の上面には、間隔を置い
て複数個の透明な絶縁材料からなるスペーサ4が配設さ
れている。このスペーサ4は、下電極部2及び薄膜3上
に印刷により形成されている。また、各スペーサ4の外
径は50〜100μm、高さは2.5〜10μm、配置
間隔は0.5〜5mmの範囲内で任意に設定されてい
る。
【0015】また、ポリエチレンテレフタレート等の透
明な合成樹脂からなるフィルム5は、その下面全面にI
TO膜からなる透明な上電極部6が設けられ、そして、
上電極部6を下電極部2に対向させ、スペーサ4上に載
置して、下電極部2と上電極部6とを絶縁した状態で組
み合わされた構成となっている。
【0016】そして、このような座標入力装置は、液晶
表示装置等の上に載置されて使用される。この際、使用
者は液晶表示装置に表示される内容を、座標入力装置を
透過して視認され、これに対応して入力ペン等の入力部
材(図示せず)を押し当ててフィルム5を変形させ、薄
膜3の透孔3aを介して上電極部6を下電極部2に接触
・離間させて、所望の座標を入力する。
【0017】本発明の座標入力装置は、薄膜3を設ける
ことにより、従来の座標入力装置よりも光の透過率が上
昇する。以下に例を挙げて説明する。尚、以下の説明に
おいては、本発明の座標入力装置の基板1から薄膜3間
での透過率と、従来の座標入力装置の基板21から下電
極部22までの透過率をそれぞれ算出し、比較してい
る。
【0018】一般に、異なる屈折率(nA及びnB)を有
する、隣接した2つの透明な部材A及びBにおいて、光
が屈折率nAを有する部材Aから、屈折率nBを有する部
材Bへ透過する時、光の反射率Rは、光の波長λが40
0〜700(nm)の範囲内においては、式(1)に示
すように、 (反射率R)={(nA−nB)/(nA+nB)}2 (1) の関係が成り立つ。また、透過率Tは、 (透過率T)≒1−(反射率R) (2) ≒1−{(nA−nB)/(nA+nB)}2 の関係が成り立つ(ガラス、ポリエチレンテレフタレー
ト等における光の吸収Aは、R>>Aの関係が成り立ち
無視できるので式(2)に示した近似式を導いた)。
【0019】複数の部材が積層された場合の透過率T
は、全ての反射率Rの総和より求める。本発明の座標入
力装置に適用されている各部材の屈折率は、基板1を構
成するガラスの屈折率n1=1.52、下電極部2を構
成するITO膜の屈折率n2=1.8、薄膜3を構成す
る材料の屈折率n3=1.6、基板1の下方の空気や、
下電極部2及び薄膜3の上方の空気の屈折率nair=1
とすると、本発明の座標入力装置の基板1の下方から光
が入射された場合、薄膜3を透過する光の反射率Rは、
式(1)より、 R1={(nair−n1)/(nair+n1)}2 +{(n1−n2)/(n1+n2)}2 +{(n2−n3)/(n2+n3)}2 +{(n3−nair)/(n3+nair)}2 (3) となる。よって、透過率T1は、式(2)、(3)よ
り、 T1=1−R1 =1−[{(1−1.52)/(1+1.52)}2 +{(1.52−1.8)/(1.52+1.8)}2 +{(1.8−1.6)/(1.8+1.6)}2 +{(1.6−1)/(1.6+1)}2] ≒0.894 となり、光の透過率は約89.4%となる。
【0020】一方、従来の座標入力装置においては、基
板21を構成するガラスの屈折率n21=1.52、下電
極部22を構成するITO膜の屈折率n22=1.8、基
板21の下方及び下電極部22の上方の空気の屈折率n
air=1とすると、従来の座標入力装置の基板21の下
方から光が入射された場合、下電極部22を透過する光
の反射率R2は、式(1)より、 R2={(nair−n21)/(nair+n21)}2 +{(n21−n22)/(n21+n22)}2 +{(n22−nair)/(n22+nair)}2 (4) となる。よって、透過率T2は、式(2)、(4)よ
り、 T2=1−R2 1−[{(1−1.52)/(1+1.52)}2
{(1.52−1.8)/(1.52+1.8)}2
{(1.8−1)/(1.8+1)}2]≒0.870 となり、光の透過率は約87.0%となる。
【0021】以上からわかるように、本発明の座標入力
装置の基板1から薄膜3への光の透過率T1は、薄膜3
を設けない従来の座標入力装置の基板21から下電極部
22への光の透過率T2と比べて、約2.4%上昇する
ことがわかる。
【0022】下電極部2を構成するITO膜の屈折率
1.8よりも低い屈折率を有する材料により薄膜3を構
成することで、反射率が減少して透過率が上昇するの
は、式(3)に代入する薄膜3を構成する材料の屈折率
3の値を1以上の値で変化させることにより裏付けら
れる。即ち、基板1の屈折率n1=1.52、下電極部
2の屈折率n2=1.8、空気の屈折率nair=1と固定
して、薄膜3を構成する材料の屈折率n3を変化させた
とき、式(3)より得られる反射率R1は、図3に示し
たように、下電極部2よりも低い屈折率の範囲、即ちn
3=1〜1.8の範囲では、従来の座標入力装置におけ
る反射率(n3=1及びn3=1.8の時の値)よりも小
さくなり、下電極部2よりも越える屈折率の範囲、即ち
3>1.8の範囲では、従来の座標入力装置における
反射率(n3=1及びn3=1.8の時の値)よりも大き
くなる。
【0023】また、薄膜3を構成するアクリル系樹脂、
エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂、フッ素樹脂等の樹脂
や、フッ化マグネシウム、二酸化シリコン等の透明な材
料は、それぞれの屈折率が、下電極部2を構成するIT
O膜の屈折率1.8よりも低く、空気の屈折率1.0よ
りも高いものである。このような範囲の屈折率を有する
薄膜3を形成することにより、座標入力装置の光の透過
率が上昇する。また、光の透過率が上昇幅が大きくなる
薄膜3のより好ましい屈折率の範囲は、式(3)から算
出した図3の曲線の底部である、およそ1.2以上1.
5以下となり、このような屈折率を有する材料を薄膜3
を形成することにより光の透過率を効果的に上昇させる
ことができる。また、各材料は屈折率や形成方法がそれ
ぞれ異なるため、適した材料を任意に選ぶことができ
る。
【0024】尚、上述した光の透過率の比較は下方から
上方へ透過する光を比較したものであり、例えば透過型
の液晶表示装置に適用した場合の例である。本発明の座
標入力装置を反射型の液晶表示装置を反射型の液晶表示
装置に適用した場合には、座標入力装置の上方からの光
が、反射型の液晶表示装置が設けられた下方に透過し、
この透過光が反射型の液晶表示装置に設けられた反射板
により反射され、さらに下方から上方に透過されるの
で、薄膜3を二度透過することとなり、従来の座標入力
装置を用いた場合と比べて、光の透過率がより向上す
る。そのため、液晶表示装置等の表示内容の視認性がさ
らに良くなる。
【0025】薄膜3を設けることによって光の透過率は
上昇するものの、それらを構成する上記各材料は絶縁材
料であるため、下電極部2上の全面に形成すると、座標
入力時に上電極部6と下電極部2とが接触しなくなり、
座標入力がされなくなる。そこで、上電極部6と下電極
部2との接触・離間が行われる状態を維持しつつ、座標
入力装置の全面に渡って同等の光の透過率の上昇効果を
得るために、透孔3aを間隔を置いて格子状に配置し
た。また、透孔3aを等しい間隔に設けることにより、
座標入力時の入力荷重が均一になる。
【0026】各透孔3aの間隔Pが30μm未満である
と、薄膜3aが残存する面積が少なくなり座標入力装置
の全面に渡って同等に光の透過率を上昇することができ
なくなるため、30μm以上とすることが好ましい。ま
た、各透孔3aの間隔Pが200μmを越えると、座標
入力時に上電極部6と下電極部2との接触性が低下する
ので、200μm以下とすることが好ましい。
【0027】また、透孔3aの大きさ、即ち透孔3aの
径Kが30μm未満であると、上電極部6を下電極部2
に接触させるための入力荷重が高くなって、座標入力が
されにくくなるので、30μm以上とすることが好まし
い。また、透孔3aの径Kが200μmを越えると視認
されやすくなり、異物や汚れとして誤認されやすくなる
ので、200μm以下とすることが好ましい。
【0028】また、薄膜3の膜厚Dが50nm未満であ
ると、印刷による薄膜3の形成が難しくなるため、50
nm以上とすることが好ましい。また、薄膜3の膜厚D
が1000nmを越えると、透孔3aを介して上電極部
6を下電極部2に接触させるための入力荷重が高くなる
ため、1000nm以下とすることが好ましい。そし
て、より好ましくは、用いる材料の屈折率から最適膜厚
を決定する。薄膜3の最適膜厚を求める式(5)は、膜
厚D(nm)、屈折率n、光の波長λ(nm)とする
と、 D=λ/4/n (5) である。例えば、屈折率がn=1.6の材料を用い、光
の波長がλ=500〜550(nm)とすると、薄膜3
のλ=500(nm)の時の最適膜厚D500及びλ=5
50(nm)の時の最適膜厚D550は、 D500=500/4/1.6=78(nm) D550=550/4/1.6=86(nm) となり、薄膜3の最適膜厚は78nm以上86nm以下
となる。
【0029】本発明の座標入力装置においては、透孔3
aを四角形状としたが、このような形状に限られるもの
ではなく、正六角形等の多角形や円形であっても良い。
また、下電極部2をITO膜としたが、その他の透明な
電極(例えば二酸化スズSnO2)を適用した場合に
も、その透明な電極を構成する材料の屈折率よりも低い
透過率を有する材料で、透明な電極上に薄膜3を形成す
ることにより、同様に光の透過率を上昇させることがで
きる。
【0030】
【発明の効果】本発明の座標入力装置によれば、可撓性
を有する透明なフィルムの下面に形成された、透明な抵
抗層からなる上電極部と、透明なガラスからなる基板の
上面に形成された、透明な抵抗層からなる下電極部と、
下電極部よりも小さな屈折率を有する透明な絶縁材料か
らなり、複数の透孔が設けられた薄膜と、薄膜の上に設
けられ、絶縁材料からなるスペーサとを備え、上電極部
と下電極部とがスペーサを介して対向された状態で配設
され、透孔を介して上電極部と下電極部とが接離して導
通可能であることにより、座標入力装置の入力性を維持
しつつ、座標入力装置の下方からの光の透過率を上昇す
ることができ、座標入力装置の下方に配設された液晶表
示装置等の表示内容の視認性が向上される。
【0031】また、本発明の座標入力装置によれば、透
孔が間隔を置いて格子状に形成されてなることにより、
光の透過率の向上を全面に渡って同等に実現しつつ、座
標入力時の入力荷重が均一となり、入力性が維持され
る。
【0032】また、本発明の座標入力装置によれば、下
電極部が酸化インジウム(ITO)からなり、薄膜が、
アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂、フ
ッ素樹脂、フッ化マグネシウム及び二酸化シリコンから
なる群から選ばれた一つからなることにより、薄膜が下
電極部を構成するITO膜の屈折率よりも小さな屈折率
を有するため、光の反射率が減少し透過率の向上が実現
される。
【0033】また、本発明の座標入力装置によれば、薄
膜の膜厚が50nm以上1000nm以下であり、透孔
の径が30μm以上200μm以下であり、透孔の間隔
が30μm以上200μm以下であることにより、座標
入力装置の入力動作が適切になされると共に、効果的に
光の透過率の向上がなされる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の座標入力装置の説明図である。
【図2】本発明の座標入力装置の要部説明図である。
【図3】本発明の座標入力装置を説明するためのグラフ
図である。
【図4】従来の座標入力装置の説明図である。
【符号の説明】
1 基板 2 下電極部 3 薄膜 3a 透孔 4 スペーサ 5 フィルム 6 上電極部

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 可撓性を有する透明なフィルムの下面に
    形成された、透明な抵抗層からなる上電極部と、透明な
    ガラスからなる基板の上面に形成された、透明な抵抗層
    からなる下電極部と、該下電極部上に設けられ、複数の
    透孔が設けられた透明な絶縁材料からなる薄膜と、該薄
    膜の上に設けられ、絶縁材料からなるスペーサとを備
    え、前記上電極部と前記下電極部とがスペーサを介して
    対向された状態で配設され、前記透孔を介して前記上電
    極部と前記下電極部とが接離して導通可能であって、前
    記薄膜が前記下電極部よりも小さな屈折率を有すること
    を特徴とする座標入力装置。
  2. 【請求項2】 前記透孔が間隔を置いて格子状に形成さ
    れてなることを特徴とする請求項1に記載の座標入力装
    置。
  3. 【請求項3】 前記下電極部が酸化インジウムからな
    り、前記薄膜が、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シ
    リコン系樹脂、フッ素樹脂、フッ化マグネシウム及び二
    酸化シリコンからなる群から選ばれた一つからなること
    を特徴とする請求項1〜請求項2のいずれかに記載の座
    標入力装置。
  4. 【請求項4】 前記薄膜の膜厚が50nm以上1000
    nm以下であり、前記透孔の径が30μm以上200μ
    m以下であり、前記透孔の間隔が30μm以上200μ
    m以下であることを特徴とする請求項1〜請求項3のい
    ずれかに記載の座標入力装置。
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