JP2000053232A - Roller hearth kiln - Google Patents

Roller hearth kiln

Info

Publication number
JP2000053232A
JP2000053232A JP10228789A JP22878998A JP2000053232A JP 2000053232 A JP2000053232 A JP 2000053232A JP 10228789 A JP10228789 A JP 10228789A JP 22878998 A JP22878998 A JP 22878998A JP 2000053232 A JP2000053232 A JP 2000053232A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
roller
rotation
detection
heated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10228789A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuzo Takanami
鉄三 高浪
Yoshiyuki Inaba
善幸 稲葉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Noritake Co Ltd
Noritake Electronics Ltd
Original Assignee
Noritake Co Ltd
Noritake Electronics Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Noritake Co Ltd, Noritake Electronics Ltd filed Critical Noritake Co Ltd
Priority to JP10228789A priority Critical patent/JP2000053232A/en
Publication of JP2000053232A publication Critical patent/JP2000053232A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide RHK having a position judgment device for a material to be heated high in stability and easy in repairing and adjustment. SOLUTION: RHK is provided with a detection roller 30s which is rotationally supported about an axial center with one end positioned outside a kiln body 14 in a prescribed position of a plurality of rollers 30 and driven and rotated by the fractional force with carried base board 10, a sensor sleeve 78 and a sensor 82 which are functioned as rotation detectors for detecting the rotation of one end of the detection roller 30s outside the kiln body 14, and a controller 84 which judges the board 10 as reaching the detection position based on the detected rotation. The detection roller 30s provided between a plurality of the rollers 30 for carrying the board 10 is driven and rotated by the frictional force generated by brought in contact with the board 10 so that the position of the board 10 can be judged by detecting the rotation one end of the detection roller 30s positioned outside the kiln body 14 by the sensor 82.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ローラ・ハース・
キルンに関し、特に、炉内における被加熱物の移動を検
出する技術に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a roller hearth
The present invention relates to a kiln, and more particularly to a technique for detecting a movement of an object to be heated in a furnace.

【0002】[0002]

【従来の技術】複数の被加熱物を支持して一方向に順次
搬送する過程で、それら複数の被加熱物に熱処理を施す
形式のトンネル状の加熱装置の一つとして、互いに平行
に配置されてそれぞれ軸心回りに回転駆動される複数本
のローラによって複数の被加熱物を支持して順次搬送す
る所謂ローラ・ハース・キルン(以下、RHKという)
が知られている。このようなRHKにおいては、メッシ
ュ・ベルトで搬送する場合のような炉体内部における摺
動がなくそれに伴う塵埃が発生し得ないため、被加熱物
の汚染が生じ難いという利点がある。特に、ローラがセ
ラミックスから構成される場合には、炉体内において被
加熱物が金属と接触させられないことから、一層汚染が
抑制される。そのため、特に、高いクリーン度の下で熱
処理することが望まれる被加熱物の焼成炉として好適に
用いられている。
2. Description of the Related Art In the process of supporting a plurality of objects to be heated and sequentially transporting the objects in one direction, the plurality of objects to be heated are arranged in parallel with each other as one of tunnel-type heating devices in which heat treatment is performed. A so-called roller hearth kiln (hereinafter referred to as RHK) that supports a plurality of objects to be heated and sequentially conveys the plurality of objects to be heated by a plurality of rollers each of which is driven to rotate around an axis.
It has been known. Such an RHK has the advantage that the object to be heated is less likely to be contaminated because there is no sliding inside the furnace body as in the case of conveying by a mesh belt, and no dust can be generated therewith. In particular, when the roller is made of ceramics, the object to be heated is not brought into contact with the metal in the furnace, so that the contamination is further suppressed. Therefore, it is particularly suitably used as a firing furnace for a heated object which is desired to be heat-treated under a high degree of cleanliness.

【0003】例えば、ソーダ・ライム・ガラスに代表さ
れるガラス製基板やアルミナに代表されるセラミックス
基板の上に、金属或いは無機材料をガラス・ボンド成分
の溶融や、材料自体の軟化、溶融、或いは焼結により、
所定の機能を生じる膜が固着されたりするような、膜形
成素材を含む基板が知られている。蛍光表示管(VF
D)の陽極基板、プラズマ・ディスプレイ・パネル(P
DP)用基板、プラズマ・アドレス液晶表示装置(PA
LC)のプラズマ・スイッチング基板、フィールド・エ
ミッション表示装置(FED)用基板などの表示デバイ
ス用基板、厚膜配線基板、或いはサーマル・プリンタ・
ヘッドやイメージ・センサ等の電子デバイス用基板がそ
れである。このような電子デバイス用基板には、一般
に、基板自体のアニールのためやガラス素材を結合剤と
して応用した機能材料の膜形成のために、500 乃至650
(℃) 程度の熱処理が施され、セラミック基板において
はガラス素材を結合剤として応用した機能材料の膜形
成、或いは金属材料自体の界面の溶融を応用した機能材
料の膜形成のために例えば500 乃至900(℃) 程度の熱処
理が施される。これらの熱処理の過程で汚染が生じると
形成される膜の所望の機能が得られないため、焼成炉に
高いクリーン度が要求されるのである。
For example, on a glass substrate represented by soda lime glass or a ceramic substrate represented by alumina, a metal or inorganic material is melted by a glass bond component, or the material itself is softened or melted, or By sintering
There is known a substrate including a film forming material to which a film having a predetermined function is fixed. Fluorescent display tube (VF
D) Anode substrate, plasma display panel (P
DP) substrate, plasma addressed liquid crystal display (PA)
LC) plasma switching substrate, display device substrate such as field emission display (FED) substrate, thick film wiring substrate, or thermal printer.
This is a substrate for an electronic device such as a head or an image sensor. Such electronic device substrates generally have a thickness of 500 to 650 to anneal the substrate itself or to form a film of a functional material using a glass material as a binder.
(° C.) heat treatment is performed, and on a ceramic substrate, for example, 500 to 500 to form a film of a functional material using a glass material as a binder, or to form a film of a functional material using melting of an interface of a metal material itself. Heat treatment of about 900 (℃) is performed. If contamination occurs in the course of these heat treatments, the desired function of the formed film cannot be obtained, so that a high degree of cleanliness is required for the firing furnace.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、RHKに
は、炉室を複数の加熱室に区分するためのシャッタ装
置、炉室内の雰囲気を調節するための排気或いは給気装
置、および被加熱物の搬送速度を変化させる(或いは一
時的に停止させる)ための速度変更装置等が備えられて
おり、これらが順次搬送される被加熱物の位置に応じて
作動させられることによって被加熱物に所望の熱処理が
施される。一方、ローラ上に載置された被加熱物を前記
一方向に搬送するための搬送力は、そのローラの回転力
がそれらローラおよび被加熱物間の摩擦によってその被
加熱物に伝達されることで発生させられる。そのため、
複数本のローラ相互の周速度の相違等に起因して、それ
らローラと被加熱物との間の滑りに起因する搬送ムラが
生じることを避け難い。これらのことから、RHKでは
投入時点からの時間経過で被加熱物の熱処理を管理する
のは困難であるため、予め定められた位置に被加熱物が
到達したときに確実に上記の各装置が作動させられるよ
うに、その位置を検出するための検出装置が必須であ
る。特に、非常停止や停電等によって加熱処理中に制御
が停止した場合には、被加熱物の位置を検出できないと
その後の経過時間による管理が一層困難である。また、
上記の搬送ムラが著しい場合には、順次搬送される被加
熱物が相互に干渉することによる損傷も生じ得るため、
搬送状態を検出して被加熱物の投入間隔を調節するため
にも上記のような検出装置が必要となる。
By the way, the RHK includes a shutter device for dividing the furnace chamber into a plurality of heating chambers, an exhaust or air supply device for adjusting the atmosphere in the furnace chamber, and an RHK for heating the object to be heated. A speed changing device or the like for changing (or temporarily stopping) the conveying speed is provided, and these are operated according to the position of the object to be conveyed sequentially so that a desired object can be provided to the object to be heated. Heat treatment is performed. On the other hand, the transport force for transporting the object to be heated placed on the roller in the one direction is such that the rotational force of the roller is transmitted to the object to be heated by friction between the roller and the object to be heated. Generated by for that reason,
It is difficult to avoid the occurrence of transport unevenness due to a slip between the rollers and the object to be heated due to a difference in peripheral speed between the plurality of rollers. From these facts, it is difficult for RHK to manage the heat treatment of the object to be heated with the lapse of time from the time of injection, so that when the object to be heated arrives at a predetermined position, the above-described devices are surely operated. To be activated, a detection device for detecting its position is essential. In particular, when the control is stopped during the heating process due to an emergency stop, a power failure, or the like, if the position of the object to be heated cannot be detected, the management based on the elapsed time after that is more difficult. Also,
If the above-mentioned transport unevenness is remarkable, damage may occur due to interference between sequentially heated objects to be heated.
The above-described detection device is also required to detect the transport state and adjust the interval between the objects to be heated.

【0005】従来、上記の被加熱物位置の検出装置とし
ては、例えば、光学式センサや接触式センサ等が用いら
れていた。しかしながら、光学式センサでは、炉壁に設
けられている検出穴から射出される光を炉室外で受光す
ることにより、その光が被加熱物によって遮られること
を以てその被加熱物が予め定められた停止位置に到達し
たことを検出する。そのため、被加熱物とセンサとの間
の距離が長いことから、センサの調整が困難であると共
に経時的な安定性に欠けるという問題がある。しかも、
加熱に伴って発生させられる赤乃至赤外線を受光するこ
とによって被加熱物の検出ができなくなり、或いは、有
機化合物が被加熱物の内部や表面等に含まれる場合に
は、加熱により生成される分解ガスによってセンサの感
度が変化させられ或いはガラス等で閉塞している検出穴
が曇って誤動作させられる可能性もあった。一方、接触
式センサの場合には、炉室内に被加熱物に接触させられ
る接触部が配置されて、その接触が炉室外に設けられた
検出機構で検出される。そのため、高温となる炉室内に
接触部が備えられることから、これを耐熱性の高いセラ
ミックス等で構成する必要があってその加工が困難であ
ると共に、接触部が破損した場合等の補修や復旧に多大
な時間を必要とするという問題があった。しかも、接触
部は被加熱物に局部的に接触させられることとなるた
め、被加熱物にその接触痕や磨耗跡が顕著に現れるとい
う問題もある。
Conventionally, as the above-mentioned device for detecting the position of the object to be heated, for example, an optical sensor or a contact sensor has been used. However, in the optical sensor, when the light emitted from the detection hole provided in the furnace wall is received outside the furnace chamber, the light is blocked by the heated object. It detects that it has reached the stop position. Therefore, since the distance between the object to be heated and the sensor is long, there is a problem that it is difficult to adjust the sensor and lack stability over time. Moreover,
The object to be heated cannot be detected by receiving red or infrared light generated by heating, or when an organic compound is contained in the inside or surface of the object to be heated, decomposition generated by heating The sensitivity of the sensor may be changed by the gas, or the detection hole closed by glass or the like may become cloudy and malfunction. On the other hand, in the case of a contact-type sensor, a contact portion that is brought into contact with an object to be heated is arranged in the furnace chamber, and the contact is detected by a detection mechanism provided outside the furnace chamber. For this reason, since the contact part is provided in the furnace chamber where the temperature is high, it is necessary to form the contact part with ceramics having high heat resistance, so that the processing is difficult, and at the same time, the repair or recovery when the contact part is damaged is performed. Requires a lot of time. In addition, since the contact portion is locally brought into contact with the object to be heated, there is a problem that the contact mark and the wear mark are remarkably shown on the object to be heated.

【0006】本発明は以上の事情を背景として為された
ものであり、その目的とするところは、安定性が高く且
つ補修や調節が容易な被加熱物の位置判定装置を備えた
RHKを提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an RHK provided with a device for determining a position of a heated object which has high stability and is easy to repair and adjust. Is to do.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】斯かる目的を達成するた
め、本発明の要旨とするところは、前述のような複数本
のローラによって被加熱物を支持して炉室内を一方向に
搬送する過程で熱処理を施す形式のRHKであって、
(a) 前記複数本のローラ間の所定位置において一端が前
記炉室外に位置した状態で軸心回りの回転可能に支持さ
れ、搬送される前記被加熱物との間の摩擦力に従って従
動回転させられる検出用ローラと、(b) 前記炉室外にお
いて前記検出用ローラの一端の回転を検出する回転検出
装置と、(c) その回転検出装置によって検出された前記
検出用ローラの回転に基づいて前記被加熱物が予め定め
られた所定位置に到達したことを判定する位置判定手段
とを、含むことにある。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the gist of the present invention is to transport an object to be heated in one direction while supporting an object to be heated by a plurality of rollers as described above. RHK of the type that performs heat treatment in the process,
(a) at a predetermined position between the plurality of rollers, one end is rotatably supported around an axis with the one end located outside the furnace chamber, and is driven to rotate according to a frictional force between the conveyed object and the object to be heated. A detection roller, (b) a rotation detection device that detects rotation of one end of the detection roller outside the furnace chamber, and (c) the rotation detection device based on the rotation of the detection roller detected by the rotation detection device. Position determining means for determining that the object to be heated has reached a predetermined position.

【0008】[0008]

【発明の効果】このようにすれば、RHKには、複数本
のローラ間の所定位置において一端が炉室外に位置した
状態で軸心回りの回動可能に支持され、搬送される被加
熱物との間の摩擦力に従って従動回転させられる検出用
ローラと、炉室外においてその検出用ローラの一端の回
転を検出する回転検出装置と、その回転検出装置によっ
て検出された検出用ローラの回転に基づいて被加熱物が
予め定められた所定位置に到達したことを判定する位置
判定手段とが備えられる。そのため、被加熱物を搬送す
るための複数本のローラ間に備えられた検出用ローラ
は、搬送される被加熱物と接触させられると、それらの
間の摩擦力に従って従動回転させられることから、炉室
外に設けられた回転検出装置によってその炉室外に位置
させられた検出用ローラの一端の回転が検出され、位置
判定手段によって、その検出用ローラの回転に基づいて
被加熱物がその検出用ローラに接触する位置まで到達し
たことが判定される。このとき、回転検出装置は炉室外
に設けられてその炉室外に位置する検出用ローラの一端
の回転を検出するものであるため、炉室内の熱等に起因
して測定精度が低下させられることや、故障時に補修が
困難になることがない。また、検出用ローラは、一端が
炉室外に位置するように複数本のローラの間に設けられ
るため、その破損時には、その一端側等から抜き取るこ
とで炉室外から容易に交換可能である。したがって、安
定性が高く且つ補修や調節が容易な被加熱物の位置判定
装置を備えたRHKが得られる。
In this manner, the object to be heated to be conveyed to the RHK is supported at a predetermined position between the plurality of rollers so as to be rotatable around the axis with one end positioned outside the furnace chamber. A detection roller that is driven to rotate according to a frictional force between the detection roller, a rotation detection device that detects the rotation of one end of the detection roller outside the furnace chamber, and a rotation of the detection roller that is detected by the rotation detection device. Position determining means for determining that the object to be heated has reached a predetermined position. Therefore, the detection roller provided between the plurality of rollers for transporting the object to be heated, when brought into contact with the object to be conveyed, since it is driven and rotated according to the frictional force therebetween, The rotation of one end of the detecting roller positioned outside the furnace chamber is detected by a rotation detecting device provided outside the furnace chamber, and the object to be heated is detected by the position determining means based on the rotation of the detecting roller. It is determined that it has reached the position where it contacts the roller. At this time, since the rotation detecting device is provided outside the furnace chamber and detects the rotation of one end of the detection roller located outside the furnace chamber, measurement accuracy may be reduced due to heat inside the furnace chamber. In addition, repairs do not become difficult in the event of a failure. Further, since the detection roller is provided between the plurality of rollers such that one end is located outside the furnace chamber, when the roller is damaged, it can be easily replaced from outside the furnace chamber by pulling out from one end side or the like. Therefore, it is possible to obtain the RHK including the device for determining the position of the object to be heated, which has high stability and is easy to repair and adjust.

【0009】なお、上記の回転検出装置は、検出用ロー
ラの回転開始、回転終了、および回転量の何れを検出す
るものであってもよい。回転開始を検出する場合には、
被加熱物の搬送方向における先端が検出用ローラ上まで
進んだときに、位置判定手段によって前記予め定められ
た所定位置に到達したことが判定され、回転終了を検出
する場合には、被加熱物の後端が検出用ローラ上を通り
過ぎたときに、位置判定手段によってその所定位置に到
達したことが判定される。また、回転量を検出する場合
には、予め定められた回転量に応じた距離だけ被加熱物
の搬送方向における先端が検出用ローラよりも先に進ん
だときに、位置判定手段によってその所定位置に到達し
たことが判定される。
The above-mentioned rotation detecting device may detect any one of rotation start, rotation end, and rotation amount of the detection roller. When detecting rotation start,
When the leading end of the object to be heated in the transport direction has reached above the detection roller, it is determined by the position determining means that the object has reached the predetermined position. When the rear end passes over the detection roller, the position determining means determines that the predetermined position has been reached. Further, when the rotation amount is detected, when the leading end in the transport direction of the object to be heated advances ahead of the detection roller by a distance corresponding to a predetermined rotation amount, the predetermined position is determined by the position determination means. Is reached.

【0010】[0010]

【発明の他の態様】ここで、好適には、(a-1) 前記の検
出用ローラは、前記所定位置における前記被加熱物の搬
送方向の前端よりも後方側に備えられる。このようにす
れば、被加熱物の到達を検出すべき所定位置は、被加熱
物の重量が検出用ローラに十分に作用する位置に設けら
れるため、その検出用ローラが確実に回転させられて検
出漏れが生じることが抑制される。
In another preferred embodiment of the present invention, (a-1) the detection roller is provided at a position rearward of a front end of the object to be heated at the predetermined position in the conveying direction. With this configuration, the predetermined position at which the arrival of the object to be heated is to be detected is provided at a position where the weight of the object to be heated sufficiently acts on the roller for detection, so that the roller for detection is reliably rotated. Occurrence of detection omission is suppressed.

【0011】また、好適には、前記の検出用ローラは、
前記所定位置に位置する被加熱物によって同時に従動回
転させられる位置に複数本備えられ、各々に対応して回
転検出装置および位置判定手段が設けられる。このよう
にすれば、被加熱物が予め定められた所定位置に到達し
たときに同時に従動回転させられる複数本の検出用ロー
ラがその所定位置毎に設けられることから、検出用ロー
ラが一つだけ備えられる場合に比較してその破損や回転
検出装置の故障等に起因する検出漏れの発生が抑制され
る。
[0011] Preferably, the detection roller includes:
A plurality of rotation detection devices and a position determination unit are provided corresponding to each of the plurality of positions to be simultaneously driven and rotated by the object to be heated positioned at the predetermined position. With this configuration, since a plurality of detection rollers that are simultaneously driven and rotated when the object to be heated reaches a predetermined position are provided for each of the predetermined positions, only one detection roller is provided. Occurrence of detection omission due to damage or a failure of the rotation detection device is suppressed as compared with the case where it is provided.

【0012】また、好適には、前記のRHKは、(d) 前
記検出用ローラの軸心方向の一方の端部を他方に向かっ
て押圧する押圧装置と、(e) 前記検出用ローラが破損し
た際にその押圧装置の押圧力に従って前記一方の端部が
他方に向かって移動させられたことを検出することによ
り、その破損を検出する破損検出装置とを、含むもので
ある。このようにすれば、RHKには、検出用ローラの
軸心方向の一方の端部を他方に向かって押圧する押圧装
置と、その検出用ローラが破損した際にその押圧装置の
押圧力に従ってその一方の端部が他方に向かって移動さ
せられたことを検出することにより、その破損を検出す
る破損検出装置とが備えられる。そのため、検出用ロー
ラは、常には押圧装置によって一方の端部が他方の端部
に向かって押圧されていることから、破損した際には、
その押圧力に従って一方の端部が他方の端部側に移動さ
せられ、その移動が破損検出装置によって検出されるこ
とでその破損が検出される。したがって、検出用ローラ
の破損が好適に検出されることから、直ちに補修するこ
とができるため、その破損によって被加熱物の位置検出
が不可能な状態のまま加熱処理をすることを未然に防止
できる。
Preferably, the RHK includes: (d) a pressing device for pressing one end of the detection roller in the axial direction toward the other, and (e) the detection roller is damaged. And a damage detecting device that detects the damage by detecting that the one end is moved toward the other according to the pressing force of the pressing device. With this configuration, the RHK includes a pressing device that presses one end of the detection roller in the axial direction toward the other, and a pressing device that presses the detection roller according to the pressing force of the pressing device when the detection roller is broken. A breakage detecting device is provided for detecting breakage by detecting that one end has been moved toward the other end. Therefore, when the detection roller is damaged, since one end is always pressed toward the other end by the pressing device,
One end is moved to the other end according to the pressing force, and the movement is detected by the damage detection device, whereby the damage is detected. Therefore, since the damage of the detection roller is suitably detected, the roller can be repaired immediately, so that it is possible to prevent the heating process from being performed in a state where the position of the object to be heated cannot be detected due to the damage. .

【0013】ここで、好適には、前記のRHKは、(f)
前記検出用ローラを、前記複数本のローラのうちそれに
隣接して位置するものとは異なる周速度で独立してその
軸心回りに回転させる検出用ローラ回転駆動装置を含む
ものである。このようにすれば、RHKには、検出用ロ
ーラを被加熱物を搬送するための複数本のローラとは異
なる周速度で独立してその軸心回りに回転させる検出用
ローラ回転駆動装置が備えられる。そのため、検出用ロ
ーラは、常には検出用ローラ回転駆動装置によって複数
本のローラとは異なる周速度で回転させられるが、被加
熱物との間に摩擦力が作用させられる際には、その搬送
速度に応じた周速度すなわちその搬送方向の前方または
後方に隣接して位置する複数本のローラと同様の周速度
で回転させられる。したがって、検出用ローラは、被加
熱物との間に摩擦力が作用させられない期間内において
も回転させられているため、高温の炉室内において周方
向において温度分布が生じ、延いては反りや破損が生じ
ることが好適に抑制される。このとき、検出用ローラ駆
動装置による検出用ローラの周速度は、複数本のローラ
のうち隣接して位置するものとは異なる値に設定されて
いることから、被加熱物との間に摩擦力が作用させられ
る際にはその周速度が変化させられるため、その摩擦力
の非作用時における回転方向が何れに設定されているか
に拘わらず、検出用ローラが被加熱物との間の摩擦力の
作用によって回転させられたことが容易に認識される。
すなわち、前記の「回転を検出」は、このような回転速
度の変化を含むものである。
Here, preferably, the RHK is (f)
The apparatus further includes a detection roller rotation driving device that rotates the detection roller around its axis independently at a peripheral speed different from that of the plurality of rollers positioned adjacent thereto. With this configuration, the RHK is provided with a detection roller rotation driving device that rotates the detection roller around its axis independently at a different peripheral speed from the plurality of rollers for transporting the object to be heated. Can be Therefore, the detection roller is always rotated at a peripheral speed different from that of the plurality of rollers by the detection roller rotation driving device, but when a frictional force is applied to the object to be heated, the transport of the roller is performed. The roller is rotated at a peripheral speed corresponding to the speed, that is, at a peripheral speed similar to that of a plurality of rollers positioned adjacent to the front or rear in the transport direction. Therefore, since the detection roller is rotated even during a period in which no frictional force acts between the detection roller and the object to be heated, a temperature distribution occurs in the circumferential direction in the high-temperature furnace chamber, and thus, the warping and The occurrence of breakage is suitably suppressed. At this time, since the peripheral speed of the detecting roller by the detecting roller driving device is set to a value different from that of the plurality of rollers located adjacent to each other, frictional force between the roller and the object to be heated is set. Is applied, the peripheral speed is changed. Therefore, regardless of which rotation direction is set when the frictional force is not applied, the detecting roller is driven by the frictional force between the detection roller and the object to be heated. It is easily recognized that the rotation has been performed by the action of.
That is, the above-mentioned “detection of rotation” includes such a change in rotation speed.

【0014】また、好適には、前記のRHKは、(g) 複
数の前記被加熱物の各々に順次均熱処理を施すために前
記一方向に並んで熱的に分割して設けられてそれぞれ均
熱制御される複数の加熱区分と、(h) 前記被加熱物を該
加熱区分毎に設けられた複数の停止位置に順次搬送する
搬送装置とを更に含み、前記検出用ローラは、それら複
数の停止位置の各々に設けられたものである。このよう
にすれば、RHKには、複数の被加熱物の各々に順次熱
処理を施すために一方向に並んで熱的に分割して設けら
れてそれぞれ均熱制御される複数の加熱区分と、被加熱
物をそれら複数の加熱区分毎に設けられた複数の停止位
置に順次搬送する搬送装置とが備えられ、前記検出用ロ
ーラは、それら複数の停止位置の各々に設けられる。そ
のため、複数の被加熱物は、熱処理の過程において一方
向に順次搬送される過程で複数の加熱区分の各々におい
て順次均熱されるが、このとき、複数の加熱区分の各々
において、各々の停止位置に設けられた検出用ローラが
その被加熱物との間の摩擦力の作用によって回転させら
れる。したがって、その回転に基づき、被加熱物がその
停止位置に到達したことが前記の検出装置によって検出
されるため、被加熱物をそれら各々設定された停止位置
に停止させることができる。これにより、被加熱物内の
温度ばらつきを可及的に小さくするために複数の加熱区
分毎に均熱されつつその被加熱物が熱処理される場合に
おいて、可及的に高い均熱状態が得られるように設定さ
れる停止位置に被加熱物を停止させることができるた
め、被加熱物内の温度ばらつきが一層抑制される。
Preferably, the RHK is (g) provided so as to be thermally divided and arranged in the one direction so as to sequentially heat-treat each of the plurality of objects to be heated. A plurality of heating sections that are thermally controlled, and (h) a transport device that sequentially transports the object to be heated to a plurality of stop positions provided for each of the heating sections, wherein the detection roller includes a plurality of the detection rollers. It is provided at each of the stop positions. With this configuration, the RHK includes a plurality of heating sections which are provided in a line in one direction and are thermally divided so as to sequentially perform heat treatment on each of the plurality of objects to be heated, and each of the heating sections is soaked and controlled. A transport device for sequentially transporting the object to be heated to a plurality of stop positions provided for each of the plurality of heating sections; and the detection roller is provided at each of the plurality of stop positions. Therefore, the plurality of objects to be heated are uniformly heated in each of the plurality of heating sections in the process of being sequentially conveyed in one direction in the course of the heat treatment. At this time, in each of the plurality of heating sections, each stop position is set. Is rotated by the action of frictional force between the detection roller and the object to be heated. Accordingly, based on the rotation, the detection device detects that the object to be heated has reached the stop position, so that the object to be heated can be stopped at the set stop position. Thereby, in the case where the object to be heated is heat-treated while being soaked for each of the plurality of heating sections in order to minimize the temperature variation in the object to be heated, as high a soaking state as possible is obtained. The object to be heated can be stopped at the stop position set so that the temperature of the object to be heated can be further reduced.

【0015】上記により、例えば、膜形成素材を含む基
板等を熱処理する場合においては、基板内の温度のばら
つきが可及的に小さくされることから、基板がガラス製
である場合にあってその歪点以上の温度で熱処理される
場合にも、基板内の寸法の局部的変化すなわち形成パタ
ーンのゆがみが可及的に小さくされるので、次工程以降
のパターンとの位置ずれが防止されて、精細なパターン
や大型基板であっても製造歩留まりが飛躍的に高められ
る。また、基板の表面に厚膜誘電体層、隔壁状誘電体
層、厚膜抵抗層、電極層、無機着色顔料層が設けられる
場合にあっては、それら厚膜内のボンド成分として機能
するガラスの溶融、軟化の程度が一様となって、また金
属−金属酸化物系の溶融、焼結の程度が一様となって、
それぞれ耐電圧品質、隔壁の高さおよび幅寸法、抵抗
値、放電品質、光学的フィルター特性のばらつきなどが
好適に小さくされ、大型基板であっても製造歩留まりが
飛躍的に高められる。さらに、上記のように抵抗値のば
らつきが小さくされる結果、工程の管理負荷や、トリミ
ングなどの工程が削減され或いは負荷が軽減される。
As described above, for example, in the case of heat-treating a substrate or the like containing a film forming material, the temperature variation in the substrate is reduced as much as possible. Even when heat treatment is performed at a temperature equal to or higher than the strain point, local changes in dimensions within the substrate, that is, distortion of the formed pattern are reduced as much as possible. Even with a fine pattern or a large substrate, the production yield can be dramatically improved. When a thick-film dielectric layer, a partition-like dielectric layer, a thick-film resistance layer, an electrode layer, and an inorganic coloring pigment layer are provided on the surface of the substrate, glass that functions as a bond component in those thick films The degree of melting and softening becomes uniform, and the degree of melting and sintering of the metal-metal oxide system becomes uniform,
Variations in withstand voltage quality, height and width dimensions of barrier ribs, resistance values, discharge quality, optical filter characteristics, and the like are suitably reduced, and the production yield is dramatically increased even for large substrates. Furthermore, as described above, as a result of reducing the variation in the resistance value, the management load of the process and the process such as trimming are reduced or the load is reduced.

【0016】因みに、近年では、上記のような膜形成素
材を含む基板は、その表面にパターニング形成される導
体、抵抗、誘電体などの多層化および細密化が図られる
とともに、特に、前記表示デバイス用基板では表示面積
の大型化に伴って比較的大きな寸法のものを製造するこ
とが必要となっている。そのため、表示デバイス用基板
では大きな寸法に亘って細密にパターン形成することが
要求されるとともに、前記電子デバイス用基板では、機
能を発生させる膜に与えられるパターン空間が細密化す
ることによって品質の確保のために膜の均一性が一層要
求される。しかしながら、基板の焼成によってもたらさ
れる品質への影響は、上記のように大型となるほど大き
くなるため、それらのばらつきが製品設計上の制約とな
り、或いは、製品の歩留まりを低下させる一因となって
いた。
Incidentally, in recent years, a substrate including the above-mentioned film forming material has been designed to be multilayered and miniaturized, such as conductors, resistors, and dielectrics, formed on the surface thereof. It is necessary to manufacture substrates having relatively large dimensions as the display area becomes larger. Therefore, a display device substrate is required to form a fine pattern over a large dimension, and in the electronic device substrate, quality is secured by reducing a pattern space given to a film for generating a function. Therefore, uniformity of the film is further required. However, since the effect on the quality brought by the firing of the substrate becomes larger as the size becomes larger as described above, the variation thereof becomes a constraint on the product design, or has been a factor that reduces the product yield. .

【0017】例えば、熱処理に伴って基板素材そのもの
の膨張或いは収縮による寸法変動がある場合は、機能を
有する膜のパターニング後に行われる焼成毎のパターン
間の位置合わせが困難となる。また、抵抗層においては
抵抗値のばらつき、誘電体層においては耐電圧のばらつ
きや残存率の不均一による厚み寸法のばらつき、導体層
においては導通抵抗およびワイヤ・ボンディング性やス
パッタリング性などのばらつきが大きくなる。これらパ
ターン間の位置合わせの一致性および層品質の均一性
は、パターンが精細になるほど或いは基板が大型となる
ほど、維持することが困難となり、製品歩留まりが加速
度的に低下するという不都合があった。したがって、例
えば40インチ以上の大型表示装置を構成するためのPD
P用基板を例にとると、次のような歩留まり低下要因が
ある。すなわち、多数のセルを形成する多層構造の各層
の寸法精度が確保できない、障壁の高さおよび幅の寸法
のばらつきが生じる、抵抗付セルにおいては抵抗値のば
らつきを生じる、誘電体層においては耐電圧にばらつき
を生じる、全体的な寸法ばらつきはフロント板とリヤ板
とを組み合わせて放電セルを形成するときにズレを生じ
る、などである。このような問題は厚膜に含まれる金
属、無機材料の溶融或いは焼結状態、機能成分を固着さ
せるために低下されるガラス・ボンド成分、或いは誘電
体にあってはガラス成分そのものの軟化或いは溶融状態
が基板内において局部的に相違することによって生じる
と考えられているため、熱処理の過程においては、基板
内の温度分布が可及的に均一となることが望まれるので
ある。
For example, if there is a dimensional change due to expansion or contraction of the substrate material itself due to the heat treatment, it becomes difficult to align the patterns between firings performed after patterning the film having a function. In the resistance layer, variations in the resistance value, in the dielectric layer, variations in the withstand voltage and variations in the thickness due to non-uniformity of the residual ratio, and in the conductor layer, variations in conduction resistance, wire bonding properties, sputtering properties, etc. growing. As the pattern becomes finer or the substrate becomes larger, it becomes more difficult to maintain the coincidence of alignment between the patterns and the uniformity of the layer quality, and there is a disadvantage that the product yield is reduced at an accelerated rate. Therefore, for example, a PD for forming a large display device of 40 inches or more.
Taking the P substrate as an example, there are the following factors that lower the yield. That is, the dimensional accuracy of each layer of the multilayer structure forming a large number of cells cannot be ensured, the height and width of the barrier vary, the resistance of the resistive cell varies, and the dielectric layer has resistance. Variations in voltage and overall dimensional variations include deviations when the front and rear plates are combined to form discharge cells. Such problems include the melting or sintering of metals and inorganic materials contained in thick films, glass bond components which are reduced to fix functional components, or softening or melting of glass components themselves in dielectrics. Since it is considered that the state is caused by a local difference in the substrate, it is desired that the temperature distribution in the substrate be as uniform as possible during the heat treatment.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例を図面に
基づいて詳細に説明する。なお、以下の説明において、
各部の寸法比等は必ずしも正確に描かれていない。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In the following description,
The dimensional ratios and the like of each part are not necessarily drawn accurately.

【0019】図1は、本発明の一実施例の基板10を一
方向へ順次搬送する過程で焼成を施す連続炉形式のRH
K12の構成を示す図である。図において、RHK12
は、基板10がその内部を順次搬送されるトンネル状の
炉体14aおよび14b(以下、特に区別しないときは
単に炉体14という)を備えている。炉体14aには、
その長手方向に沿って順に、基板10を最高処理温度ま
で加熱すると共にその過程で基板10上に印刷形成され
た膜に含まれているバインダ(樹脂)を燃焼除去するた
めの予熱ゾーン(予熱部)16、基板10をその最高処
理温度で所定時間保持するための加熱ゾーン(加熱部)
18、および基板10を徐々に冷却するための徐冷ゾー
ン(徐冷部)20が備えられる。また、炉体14bに
は、上記の予熱ゾーン16乃至徐冷ゾーン20内で順次
に熱処理され且つ一定温度まで冷却された基板10を、
更に常温付近まで冷却するための冷却ゾーン(冷却部)
22が備えられる。なお、炉体14は、図示しない内壁
が例えばβ−スポジュメン系結晶化ガラス等の耐熱ガラ
スから構成されたものである。
FIG. 1 shows a continuous furnace type RH in which baking is performed in the process of sequentially transporting a substrate 10 in one direction according to an embodiment of the present invention.
It is a figure showing composition of K12. In the figure, RHK12
Is provided with tunnel-shaped furnace bodies 14a and 14b through which the substrate 10 is sequentially transferred (hereinafter, simply referred to as furnace body 14 when not particularly distinguished). In the furnace body 14a,
Along the longitudinal direction, the substrate 10 is heated to the highest processing temperature, and in the process, a preheating zone (preheating section) for burning and removing a binder (resin) contained in a film formed on the substrate 10 in the process. 16, heating zone (heating unit) for holding substrate 10 at its maximum processing temperature for a predetermined time
And a slow cooling zone (slow cooling section) 20 for gradually cooling the substrate 10. Further, the substrate 10 that has been sequentially heat-treated in the preheating zone 16 to the annealing zone 20 and cooled to a certain temperature is placed in the furnace body 14b.
Cooling zone (cooling section) for further cooling to around normal temperature
22 are provided. The furnace body 14 has an inner wall (not shown) made of, for example, heat-resistant glass such as β-spodumene crystallized glass.

【0020】また、RHK12には、炉体14に沿って
その外側に、それぞれ独立に駆動される第一搬送装置2
4、複数の第二搬送装置26a、26b、〜26f(以
下、特に区別しないときは単に第二搬送装置26とい
う)、および第三搬送装置28が、上記炉体14内で基
板10を搬送するために直列に配置されている。また、
図2に、炉体14の長手方向に沿い且つその幅方向中央
を通る断面を、図3(a)〜(e) に、その図2におけるa
−a乃至e−e視断面をそれぞれ示すように、RHK1
2には、水平方向に伸びる一平面上に互いに平行且つ略
等間隔で並ぶ複数本のローラ30が炉体14を幅方向に
貫通して設けられている。これら複数本のローラ30
は、各々の軸心回りの回転可能に支持されており、予め
定められた回転方向および回転速度を以て上記第一乃至
第三搬送装置24、26、および28で回転駆動され
る。焼成処理が施される基板10は、図2に示されるよ
うに炉体14内において複数本のローラ30上に載置さ
れており、それら複数本のローラ30が図における右回
りに回転駆動されることによって、図1に矢印Fで示す
右方向に搬送されてその炉体14内を通過させられる。
The RHK 12 has a first transfer device 2 which is independently driven along the furnace body 14 and outside thereof.
4. A plurality of second transfer devices 26a, 26b, to 26f (hereinafter, simply referred to as a second transfer device 26 unless otherwise specified), and a third transfer device 28 transfer the substrate 10 in the furnace body 14. Are arranged in series. Also,
FIG. 2 is a sectional view taken along the longitudinal direction of the furnace body 14 and passing through the center in the width direction of the furnace body 14, and FIGS.
RHK1 as shown in sections -a to ee, respectively.
2, a plurality of rollers 30 that are parallel to each other and are arranged at substantially equal intervals on one plane extending in the horizontal direction are provided to pass through the furnace body 14 in the width direction. These plural rollers 30
Are rotatably supported around their respective axes, and are rotationally driven by the first to third transfer devices 24, 26, and 28 in a predetermined rotation direction and rotation speed. The substrate 10 to be subjected to the baking treatment is placed on a plurality of rollers 30 in the furnace body 14 as shown in FIG. 2, and the plurality of rollers 30 are driven to rotate clockwise in the figure. As a result, it is conveyed rightward as shown by arrow F in FIG.

【0021】上記の複数本のローラ30は、基板10の
焼成処理温度においても、その基板10の搬送に支障が
出る程度まではクリープ等の軟化変形が生じ難い十分な
耐熱性を有するものであって、例えば円筒状のアルミナ
・セラミックスから成るセラミック製ローラである。図
3(a) に示すように、炉体14を構成する側壁の外側に
は、ローラ30毎に一対の軸受け32、32が設けられ
ており、それらにローラ30と同軸的に設けられた回転
軸34a、34bがそれぞれ回転自在に支持されてい
る。これら複数対の回転軸34a、34bは、炉体14
の長手方向に垂直且つ水平方向に軸心方向が一致するよ
うに互いに平行に配列されている。また、一方の回転軸
34aには、後述するようにチェーン36或いはタイミ
ング・ベルト等(以下、単にチェーン36という)が掛
けられており、そのチェーン36によって回転させられ
るようになっている。複数本のローラ30の各々は、こ
れら一対の回転軸34a、34bに両側から挟まれた状
態で相対回転不能に支持されており、上記一方の回転軸
34aの回転に伴って回転させられる。なお、ローラ3
0は、十分な耐熱性を有して長寿命ではあるものの、徐
々に変形し或いは機械的強度が低下する消耗品であり、
例えば、上記の軸受け32の一方を取り外すこと等によ
って図3における左右方向へ引き抜いて、炉体14外か
ら交換することが容易となるように備えられている。
The plurality of rollers 30 have sufficient heat resistance so that softening deformation such as creep is unlikely to occur even at the firing temperature of the substrate 10 to such an extent that the transfer of the substrate 10 is not hindered. And a ceramic roller made of, for example, a cylindrical alumina ceramic. As shown in FIG. 3 (a), a pair of bearings 32, 32 is provided for each roller 30 outside the side wall constituting the furnace body 14, and a rotatable member provided coaxially with the roller 30 is provided on the pair of bearings. The shafts 34a and 34b are rotatably supported, respectively. The plurality of pairs of rotating shafts 34a and 34b
Are arranged in parallel with each other such that the axial direction coincides with the longitudinal direction and the horizontal direction. As will be described later, a chain 36 or a timing belt (hereinafter simply referred to as a chain 36) is hung on one of the rotating shafts 34a, and is rotated by the chain 36. Each of the plurality of rollers 30 is supported by the pair of rotating shafts 34a and 34b so as to be relatively non-rotatable while being sandwiched from both sides, and is rotated with the rotation of the one rotating shaft 34a. The roller 3
0 is a consumable that has sufficient heat resistance and a long life, but is gradually deformed or has reduced mechanical strength;
For example, by removing one of the bearings 32, the bearing 32 is pulled out in the left-right direction in FIG.

【0022】図1に戻って、前記第一搬送装置24は、
前記予熱ゾーン16および加熱ゾーン18に対応する位
置に設けられている。予熱ゾーン16は、基板10の搬
送方向に並ぶ例えば4つの駆動区分38a、38b、3
8c、38d(以下、特に区別しないときは単に駆動区
分38という)に区分されており、加熱ゾーン18は、
同様に搬送方向に並ぶ例えば2つの駆動区分40a、4
0b(以下、特に区別しないときは単に駆動区分40と
いう)に区分されている。各駆動区分38、40には、
一軸線上に設けられた複数本のライン・シャフト42
a、42b、〜42e(以下、特に区別しないときは単
にライン・シャフト42という)で相互に連結された複
数のマイタ・ギア44a、44b、〜44f(以下、特
に区別しないときは単にマイタ・ギア44という)の各
々が、炉体14aの長手方向に沿って一定間隔で備えら
れる。また、駆動区分38aの近傍には、連続的に駆動
される減速機付モータ46が炉体14aの下方に備えら
れており、その回転がチェーン48を介してマイタ・ギ
ア44aに伝達され、更に、ライン・シャフト42を介
して他のマイタ・ギア44に伝達されるようになってい
る。したがって、第一搬送装置24は、モータ46の回
転が全駆動区分38および40に伝達されることによっ
て、全体が一体的に駆動される。
Returning to FIG. 1, the first transfer device 24
It is provided at a position corresponding to the preheating zone 16 and the heating zone 18. The preheating zone 16 includes, for example, four drive sections 38a, 38b, 3 arranged in the transport direction of the substrate 10.
8c and 38d (hereinafter simply referred to as a drive section 38 unless otherwise specified), and the heating zone 18
Similarly, for example, two drive sections 40a, 4
0b (hereinafter simply referred to as a drive section 40 unless otherwise specified). In each drive section 38, 40,
A plurality of line shafts 42 provided on one axis
a, 42b, to 42e (hereinafter simply referred to as a line shaft 42 when not particularly distinguished) and a plurality of miter gears 44a, 44b, to 44f (hereinafter simply referred to as miter gears unless otherwise distinguished). 44) are provided at regular intervals along the longitudinal direction of the furnace body 14a. A continuously driven motor 46 with a speed reducer is provided below the furnace body 14a in the vicinity of the drive section 38a, and its rotation is transmitted to a miter gear 44a via a chain 48, and Is transmitted to another miter gear 44 via the line shaft 42. Therefore, the entire first transport device 24 is integrally driven by the rotation of the motor 46 being transmitted to all the drive sections 38 and 40.

【0023】図4は、第一搬送装置24および第二搬送
装置26の要部を、中間を省略した状態で上下方向に配
して拡大して示す図であり、図1に示される駆動区分3
8a、40bに対応する部分が上段および中段にそれぞ
れ示されている。駆動区分38aに対応する第一搬送装
置24のマイタ・ギア44aには、軸心方向が炉体14
の長手方向に沿って設けられている原動軸50aと、軸
心方向が炉体14の長手方向に垂直(紙面に垂直)な従
動軸52aとが備えられている。そのため、図1におい
て駆動区分38aの近傍に備えられているモータ46の
回転が、チェーン48によってマイタ・ギア44aに伝
達されて原動軸50aが矢印の方向に回転させられる
と、その原動軸50aにカップリング54を介して接続
されているライン・シャフト42aが原動軸50aと同
方向に回転させられると共に、従動軸52aが例えば図
の矢印の方向に回転させられる。そして、図において省
略されている駆動区分38b、38c、〜40aでは、
ライン・シャフト42a、42b、〜42eがカップリ
ング54と同様な図示しないカップリングを介してマイ
タ・ギア44b、44c、〜44eの原動軸50に接続
されており、その原動軸50の回転に伴ってそれぞれに
備えられている従動軸52が回転させられる。
FIG. 4 is an enlarged view showing the essential parts of the first transport device 24 and the second transport device 26 arranged vertically in a state where the intermediate portion is omitted. The drive section shown in FIG. 3
Parts corresponding to 8a and 40b are shown in the upper and middle rows, respectively. The miter gear 44a of the first transfer device 24 corresponding to the drive section 38a has the axial direction
And a driven shaft 52a whose axis is perpendicular to the longitudinal direction of the furnace body 14 (perpendicular to the plane of the drawing). Therefore, when the rotation of the motor 46 provided in the vicinity of the drive section 38a in FIG. 1 is transmitted to the miter gear 44a by the chain 48 and the driving shaft 50a is rotated in the direction of the arrow, the driving shaft 50a The line shaft 42a connected via the coupling 54 is rotated in the same direction as the driving shaft 50a, and the driven shaft 52a is rotated, for example, in the direction of the arrow in the figure. In the drive sections 38b, 38c, to 40a which are omitted in the drawing,
The line shafts 42a, 42b, to 42e are connected to the driving shafts 50 of the miter gears 44b, 44c, to 44e through couplings (not shown) similar to the coupling 54, and the rotation of the driving shaft 50 Accordingly, the driven shafts 52 provided for each of them are rotated.

【0024】一方、図4の中段に示されている駆動区分
40bに対応するマイタ・ギア44f、すなわち第一搬
送装置24の右端部に設けられているマイタ・ギア44
fは、原動軸50fの一端がワンウェイ・カップリング
56を介してライン・シャフト42eに接続されてい
る。また、その原動軸50fの他端部側には減速機付モ
ータ58が備えられており、その他端部にワンウェイ・
カップリング60を介して接続されている。これらのワ
ンウェイ・カップリング56、60は、それぞれライン
・シャフト42eおよびモータ58の図の矢印方向の回
転だけをマイタ・ギア44fに伝達するものであり、モ
ータ58は、後述するように第二搬送装置26の駆動タ
イミングに同期して、ライン・シャフト42よりも速い
回転速度で間歇的に駆動される。そのため、モータ58
の停止中はライン・シャフト42eの回転がワンウェイ
・カップリング56を介して原動軸50fに伝達され、
ワンウェイ・カップリング60は滑らされる一方、モー
タ58の駆動中はワンウェイ・カップリング60を介し
てその回転が原動軸50fに伝達され、ワンウェイ・カ
ップリング56が滑らされることとなる。
On the other hand, a miter gear 44f corresponding to the drive section 40b shown in the middle part of FIG. 4, that is, a miter gear 44 provided at the right end of the first transfer device 24.
As for f, one end of a driving shaft 50f is connected to the line shaft 42e via a one-way coupling 56. A motor 58 with a reduction gear is provided at the other end of the driving shaft 50f, and a one-way motor is provided at the other end.
They are connected via a coupling 60. These one-way couplings 56 and 60 transmit only the rotation of the line shaft 42e and the motor 58 in the direction of the arrow in the figure to the miter gear 44f, respectively. In synchronization with the drive timing of the device 26, the device 26 is intermittently driven at a rotation speed higher than that of the line shaft 42. Therefore, the motor 58
Is stopped, the rotation of the line shaft 42e is transmitted to the driving shaft 50f via the one-way coupling 56,
While the one-way coupling 60 is slid, the rotation thereof is transmitted to the driving shaft 50f via the one-way coupling 60 while the motor 58 is being driven, so that the one-way coupling 56 is slid.

【0025】炉体20の側方に備えられている前述した
複数対の回転軸34a、34bのうち、ローラ30の各
々に対応する各対のうちの一方の回転軸34aは、上記
複数のマイタ・ギア44の各々の下方に位置させられて
おり、駆動区分38および40毎にそれぞれ複数本が備
えられている。これら複数本の回転軸34は、相対回転
不能に嵌め合わされた例えばスプロケット62或いはプ
ーリ等(以下、単にスプロケット62という)を各々の
一端に備えている。但し、駆動区分38および40の各
々において、例えば基板10の搬送方向の前方側端部の
近傍に位置する1本の回転軸34sには、スプロケット
62が取り付けられていない。
Of the plurality of pairs of rotating shafts 34a and 34b provided on the side of the furnace body 20, one of the rotating shafts 34a corresponding to each of the rollers 30 is provided with one of the plurality of miter shafts. A plurality of gears 44 are provided below each of the gears 44 and are provided for each of the drive sections 38 and 40; Each of the plurality of rotary shafts 34 has, for example, a sprocket 62 or a pulley (hereinafter, simply referred to as a sprocket 62) fitted at one end thereof so as to be relatively non-rotatable. However, in each of the drive sections 38 and 40, the sprocket 62 is not attached to one rotating shaft 34s located, for example, near the front end of the substrate 10 in the transport direction.

【0026】上記の複数のスプロケット62と従動軸5
2との間には、駆動区分38および40毎に例えばチェ
ーン36或いはタイミング・ベルト等(以下、単にチェ
ーン36という)が掛け渡されている。そのため、モー
タ46が回転駆動されると、チェーン36およびスプロ
ケット62を介して従動軸52の回転が伝達されること
により、複数の回転軸34の各々は図に矢印で示される
方向に同様な回転速度および方向を以て同時に回転させ
られ、延いてはそれらに相対回転不能に支持されている
複数本のローラ30が一方向に回転駆動される。このよ
うに複数本のローラ30が同様な方向に回転させられる
ことにより、その上に載置されている基板10がその回
転速度に応じた速度で搬送される。そして、複数のマイ
タ・ギア44の従動軸52は、前述のようにライン・シ
ャフト42によって実質的に相互に接続されていること
から、複数の駆動区分38、40の各々に備えられる複
数本のローラ30が同時に回転させられる。これによ
り、そのローラ30上に乗せられた基板10が、第一搬
送装置24によって例えば300(mm/min) 程度の第一の搬
送速度で一方向に連続的に搬送される。
The plurality of sprockets 62 and the driven shaft 5
For example, a chain 36 or a timing belt or the like (hereinafter, simply referred to as a chain 36) extends between the drive sections 38 and 40 for each of the drive sections 38 and 40. Therefore, when the motor 46 is driven to rotate, the rotation of the driven shaft 52 is transmitted via the chain 36 and the sprocket 62, and each of the plurality of rotation shafts 34 has a similar rotation in the direction indicated by the arrow in the drawing. A plurality of rollers 30 which are simultaneously rotated with a speed and a direction, and which are supported so as to be relatively non-rotatable, are driven to rotate in one direction. By rotating the plurality of rollers 30 in the same direction as described above, the substrate 10 placed thereon is transported at a speed corresponding to the rotation speed. Further, since the driven shafts 52 of the plurality of miter gears 44 are substantially interconnected by the line shaft 42 as described above, a plurality of driven shafts 52 provided in each of the plurality of drive sections 38 and 40 are provided. The rollers 30 are rotated simultaneously. Thus, the substrate 10 placed on the roller 30 is continuously transported in one direction by the first transport device 24 at a first transport speed of, for example, about 300 (mm / min).

【0027】このとき、スプロケット62を備えていな
い回転軸34sには従動軸52の回転が伝達されないた
め、その回転軸34sによって支持されているローラ3
0sからは基板10に搬送方向の力が作用しない。しか
しながら、ローラ30の相互間隔はRHK12全体に亘
って例えば150(mm) 程度であって、基板10の搬送方向
における長さ寸法よりも十分に短いため、各駆動区分3
8毎に一部のローラ30が搬送に寄与し得なくとも基板
10の搬送には何ら支障はない。なお、駆動区分40b
内においても、モータ58が駆動されていない間はその
第一の搬送速度で基板10が搬送されるが、モータ58
の駆動中には、それよりも速い例えば5000(mm/min)程度
の第二の搬送速度(すなわち、後述する徐冷ゾーン20
と同様な搬送速度)で搬送される。
At this time, since the rotation of the driven shaft 52 is not transmitted to the rotating shaft 34s without the sprocket 62, the rollers 3 supported by the rotating shaft 34s are not transmitted.
From 0 s, a force in the transport direction does not act on the substrate 10. However, the distance between the rollers 30 is, for example, about 150 (mm) over the entire RHK 12, and is sufficiently shorter than the length of the substrate 10 in the transport direction.
Even if some of the rollers 30 cannot contribute to the conveyance for every 8, there is no problem in the conveyance of the substrate 10. The drive section 40b
Also, the substrate 10 is transported at the first transport speed while the motor 58 is not driven.
During the driving of the second transport speed (for example, the slow cooling zone 20 described later) of about 5000 (mm / min),
(The same transport speed as described above).

【0028】図1に戻って、前記の複数の第二搬送装置
26は、徐冷ゾーン20に対応する位置に設けられてお
り、その徐冷ゾーン20は、基板10の搬送方向に並ぶ
例えば6つの駆動区分64a、64b、〜64f(以
下、特に区別しないときは単に駆動区分64という)に
区分される。第二搬送装置26は、その駆動区分64毎
に設けられており、図4の下段に駆動区分64bについ
て示すように、それぞれ独立して間歇的に駆動される減
速機付モータ66a、66b、〜66f(以下、特に区
別しないときは単にモータ66という)を備えている。
前記複数本の回動軸34は、そのモータ66の下方にも
第一搬送装置24と同様に備えられており、モータ66
の出力軸68の回転がチェーン36およびスプロケット
62を介して伝達されることにより同一方向に回転させ
られる。なお、駆動区分64の各々にも、前記の各駆動
区分38、40と同様に基板10の搬送方向における前
方側端部の近傍の位置に、スプロケット62が嵌められ
ておらずモータ66によって回転駆動されない回転軸3
4sが備えられる。また、モータ66は、出力軸68を
図に矢印で示される正転方向に正転駆動させるだけでは
なく、交互に正転方向および逆転方向に回転駆動させら
れるように反転駆動可能に構成されている。正転駆動時
にはローラ30が図における右方向に回転させられ、例
えば5000(mm/min)程度の第二の搬送速度で基板10が冷
却ゾーン22に向かって搬送される一方、反転駆動時に
はローラ30が左右方向に交互に回転させられ、それよ
りも遅い例えば1300(mm/min)程度の第三の搬送速度で基
板10が搬送方向およびその反対方向に往復移動させら
れる。
Returning to FIG. 1, the plurality of second transfer devices 26 are provided at positions corresponding to the slow cooling zone 20, and the slow cooling zone 20 is, for example, 6 lines arranged in the transfer direction of the substrate 10. Drive sections 64a, 64b, to 64f (hereinafter, simply referred to as drive sections 64 unless otherwise distinguished). The second transfer device 26 is provided for each drive section 64, and as shown in the lower section of FIG. 4 for the drive section 64b, the motors 66a, 66b,... 66f (hereinafter simply referred to as a motor 66 unless otherwise specified).
The plurality of rotation shafts 34 are provided below the motor 66 in the same manner as the first transport device 24.
The rotation of the output shaft 68 is transmitted through the chain 36 and the sprocket 62 to rotate in the same direction. In each of the drive sections 64, similarly to the drive sections 38 and 40 described above, the sprocket 62 is not fitted at a position near the front end in the transport direction of the substrate 10 and is driven by the motor 66 to rotate. Rotating shaft 3
4s are provided. Further, the motor 66 is configured to be capable of not only driving the output shaft 68 to rotate in the normal direction shown by the arrow in the drawing, but also to rotate in the reverse direction so as to be alternately driven to rotate in the normal direction and the reverse direction. I have. At the time of forward rotation, the roller 30 is rotated rightward in the drawing, and the substrate 10 is transported toward the cooling zone 22 at a second transport speed of, for example, about 5000 (mm / min). Are alternately rotated in the left-right direction, and the substrate 10 is reciprocated in the transport direction and the opposite direction at a lower third transport speed of, for example, about 1300 (mm / min).

【0029】図1に戻って、図4には示していない第三
搬送装置28は、炉体14bの長さに合わせて第一搬送
装置24においてマイタ・ギア44の個数を減じ、炉体
14の長手方向の前後が反転された構成とされている。
すなわち、駆動区分40bと同様な構成の駆動区分70
a、駆動区分38b等と同様な構成の駆動区分70b、
および駆動区分38aと同様な構成の駆動区分70cか
ら構成されている。そのため、炉体14bの下方に備え
られた減速機付モータ72の回転がチェーン74、ライ
ン・シャフト42g、および42fを介してマイタ・ギ
ア44i、44h、および44gに伝達されることによ
り、それぞれの駆動区分70に備えられているローラ3
0が回転させられる。また、徐冷ゾーン20に隣接する
駆動区分70aでは、駆動区分40bと同様に、減速機
付モータ76の回転がワンウェイ・カップリングを介し
て伝達されることにより、それに属するローラ30が間
歇的に他のローラ30よりも速い速度すなわち第二搬送
装置26に同期した速度で駆動される。したがって、第
一搬送装置24および第三搬送装置28が設けられてい
る予熱ゾーン16、加熱ゾーン18、冷却ゾーン22に
おいてはローラ30が連続的に回転させられて基板10
が連続的に搬送される一方、第二搬送装置26が設けら
れている徐冷ゾーン20においてはローラ30が間歇的
に回転させられて基板10が間歇的に搬送されることと
なる。
Returning to FIG. 1, the third transfer device 28, not shown in FIG. 4, reduces the number of miter gears 44 in the first transfer device 24 in accordance with the length of the furnace body 14b. Is inverted in the longitudinal direction.
That is, the drive section 70 having the same configuration as the drive section 40b
a, a drive section 70b having the same configuration as the drive section 38b,
And a drive section 70c having the same configuration as the drive section 38a. Therefore, the rotation of the motor with reduction gear 72 provided below the furnace body 14b is transmitted to the miter gears 44i, 44h, and 44g via the chain 74, the line shafts 42g, and 42f, so that the respective Roller 3 provided in drive section 70
0 is rotated. Further, in the drive section 70a adjacent to the slow cooling zone 20, similarly to the drive section 40b, the rotation of the motor 76 with the speed reducer is transmitted via the one-way coupling, so that the roller 30 belonging thereto is intermittently driven. It is driven at a speed higher than the other rollers 30, that is, at a speed synchronized with the second transport device 26. Therefore, in the preheating zone 16, the heating zone 18, and the cooling zone 22 in which the first transport device 24 and the third transport device 28 are provided, the roller 30 is continuously rotated to
Are transported continuously, while the rollers 30 are rotated intermittently in the slow cooling zone 20 in which the second transporting device 26 is provided, and the substrate 10 is transported intermittently.

【0030】図5は、前記のスプロケット62を備えて
いない回転軸34sの機能を、駆動区分64を例にして
説明する図である。図において、回転軸34sは、スプ
ロケット62を備えた他の回転軸34よりもその軸心方
向に突き出して位置させられており、炉体14の外側に
位置するその端部にはセンサ・スリーブ78が回転軸3
4sに対して相対回転不能に取り付けられている。セン
サ・スリーブ78は、例えば、鉄、アルミニウム等の加
工が容易な金属から成るものであって、円筒状を成す基
体の外周面に、例えば反射板等として機能する平板状の
複数枚の羽根80が30°程度の一定角度毎に溶接等で径
方向に突設されて構成される。また、そのセンサ・スリ
ーブ78の近傍には、例えば投光器および受光器が一体
的に構成された反射型光電スイッチ等から成るセンサ8
2が備えられており、投光器からセンサ・スリーブ78
に向かって赤外線等の光が定常的に射出されるようにな
っている。このため、センサ・スリーブ78がその軸心
回りに回転させられると、投光器から射出された光の羽
根80に対する入射角がその回転に伴って変化すること
から、その入射角が一定の角度になる毎に反射光がセン
サ82の受光器に向かい且つこれに断続的に入射させら
れる。センサ82の受光信号は制御装置84に入力され
るようになっており、例えばON信号(受光時)とOFF 信
号(非受光時)の繰り返しで発生させられるその受光信
号が、後述するように予め定められた手順に従って処理
されることによって、その反射光の入射開始で回転軸3
4sが回転させられたことが検出され、或いは、断続的
な入射の回数や入射開始からの時間経過等で回転軸34
sの回転数が検出されることとなる。
FIG. 5 is a diagram for explaining the function of the rotary shaft 34s without the above-mentioned sprocket 62 by taking the drive section 64 as an example. In the figure, the rotating shaft 34s is positioned so as to protrude in the axial direction from the other rotating shaft 34 having the sprocket 62, and a sensor sleeve 78 is provided at an end located outside the furnace body 14. Is the rotating shaft 3
It is attached so that it cannot rotate relative to 4s. The sensor sleeve 78 is made of, for example, an easily processed metal such as iron or aluminum. A plurality of flat blades 80 functioning as, for example, a reflector are provided on the outer peripheral surface of a cylindrical base. Are provided in the radial direction by welding or the like at regular intervals of about 30 °. Further, in the vicinity of the sensor sleeve 78, for example, a sensor 8 comprising a reflection type photoelectric switch or the like in which a light emitter and a light receiver are integrally formed.
2 are provided and the sensor sleeve 78
Light such as infrared rays is constantly emitted toward the camera. For this reason, when the sensor sleeve 78 is rotated around its axis, the incident angle of the light emitted from the light projector to the blade 80 changes with the rotation, so that the incident angle becomes constant. Each time, the reflected light is directed toward and intermittently incident on the light receiver of the sensor 82. The light receiving signal of the sensor 82 is input to the control device 84. For example, the light receiving signal generated by the repetition of the ON signal (at the time of light reception) and the OFF signal (at the time of non-light reception) is set in advance as described later. By being processed in accordance with a predetermined procedure, the rotation axis 3
4s is detected to be rotated, or the rotation axis 34 is determined by the number of intermittent incidences or the lapse of time from the start of incidence.
The number of rotations of s will be detected.

【0031】このようにして回転が検出される回転軸3
4sは、前述のようにスプロケット62等を備えていな
いことから、基板10を搬送するために他の複数本の回
転軸34延いてはそれらに接続されているローラ30が
モータ66によって図の矢印Aに示すように回転させら
れる際にも、その回転軸34sは回転させられず、それ
に接続されているローラ30sも回転させられない。し
かしながら、基板10が矢印Fで示す搬送方向に送られ
て図に一点鎖線で示すようにそのローラ30sに接触す
る位置に達すると、それらの間に作用する摩擦力に従っ
てそのローラ30sが図に一点鎖線Bで示すように回転
させられる。このとき、ローラ30sの回転速度は、そ
の外周面における周速度が近傍に位置する他のローラ3
0の周速度と一致する速度である。すなわち、図に示さ
れるようにローラ30sの外径が他のローラ30のそれ
と略等しい場合には、回転速度も略等しくなる。これに
より、ローラ30sに接続されているセンサ・スリーブ
78が回転させられることから、前述のようにして反射
光の受光信号がセンサ82から制御装置84に送られ、
その制御装置84がローラ30sの回転開始や回転量等
に基づいて基板10の先端10aの位置(すなわち基板
位置)を判断する。ローラ30sは、このように基板位
置を検出するために設けられた検出用ローラであって、
炉体14外に備えられているセンサ・スリーブ78、セ
ンサ82等でその回転の開始や回転数が検出されること
によって基板10の位置が判定される。したがって、本
実施例においては、検出用ローラ30sと基板10との
直接的な接触に基づいて基板位置が検出されるが、ロー
ラ30sは基板10の下面全体を受けることとなると共
に、従動回転させられることによってそれらの間の摺動
も殆ど生じないため、基板10には局部的接触や摺動に
起因する接触痕は生じない。また、センサ・スリーブ7
8やセンサ82等は、炉体14外に備えられていること
から、これらにそれほど高い耐熱性は要求されないので
ある。
The rotation shaft 3 whose rotation is detected in this manner is
4s does not include the sprocket 62 or the like as described above, so that a plurality of other rotating shafts 34 and the rollers 30 connected thereto are transported by the motor 66 in order to transport the substrate 10 as shown by arrows in the figure. When rotated as shown in A, the rotation shaft 34s is not rotated, and the roller 30s connected thereto is not rotated. However, when the substrate 10 is fed in the transport direction shown by the arrow F and reaches a position where it comes into contact with the rollers 30s as shown by the dashed line in the figure, the rollers 30s are moved to one point in the figure according to the frictional force acting between them. It is rotated as shown by the dashed line B. At this time, the rotation speed of the roller 30s is the same as that of the other roller 3 whose peripheral speed on the outer peripheral surface is in the vicinity.
This is a speed that matches the peripheral speed of zero. That is, as shown in the figure, when the outer diameter of the roller 30s is substantially equal to that of the other rollers 30, the rotation speed is also substantially equal. As a result, the sensor sleeve 78 connected to the roller 30s is rotated, so that the light receiving signal of the reflected light is sent from the sensor 82 to the control device 84 as described above,
The control device 84 determines the position of the tip 10a of the substrate 10 (that is, the substrate position) based on the start of rotation and the amount of rotation of the roller 30s. The roller 30s is a detection roller provided for detecting the substrate position in this manner,
The start of rotation and the number of rotations are detected by a sensor sleeve 78, a sensor 82, and the like provided outside the furnace body 14, and the position of the substrate 10 is determined. Therefore, in the present embodiment, the substrate position is detected based on the direct contact between the detection roller 30s and the substrate 10, but the roller 30s receives the entire lower surface of the substrate 10 and is rotated by the driven rotation. As a result, there is almost no sliding between them, so that there is no contact mark on the substrate 10 due to local contact or sliding. Also, the sensor sleeve 7
Since the sensor 8 and the sensor 82 are provided outside the furnace body 14, they are not required to have such high heat resistance.

【0032】なお、前記図4に示されるように、基板位
置検出用ローラ30sは、それぞれ複数区分から構成さ
れる駆動区分38、40、64、70の各々毎に備えら
れているため、搬送される基板10は、例えば、全ての
区分においてその位置を検出される。図2に示すよう
に、各駆動区分38等には、例えば基板10の先端或い
は後端の位置に対応する検出位置SA 或いは停止位置S
B 、SC が設定されている。一方、前述のように、ロー
ラ30sは、基板10の搬送方向における各駆動区分前
端の近傍に位置しているが、図に示されるように、その
位置は検出位置S A および停止位置SB よりも後方側で
ある。例えば、ローラ30sの軸心と検出位置SA 或い
は停止位置SB との距離△xは、そのローラ30sの円
周に等しい値に設定される。そのため、本実施例におい
ては、距離△x/円周で定められる量(例えば1回)だ
け回転させられたことがセンサ82によって検出される
ことに基づき、基板10がそれら位置SA 或いはSB
到達したことが判定される。但し、停止位置SC は、後
述するように駆動区分64内において基板10を搬送方
向の前後に往復移動させるために設けられているもので
あって、停止位置SBとの距離と基板10の搬送方向に
おける長さ寸法との差に応じた量だけローラ30sが逆
回転させられたときに、基板後端がその停止位置SC
到達したことが判定される。
Note that, as shown in FIG.
The position detection roller 30s is composed of a plurality of sections.
Provided for each of the drive sections 38, 40, 64, 70
The substrate 10 to be transported is, for example,
The position is detected in the section. As shown in FIG.
In addition, for example, the tip of the substrate 10 or
Is the detection position S corresponding to the position of the rear end.AOr stop position S
B, SCIs set. On the other hand, as mentioned earlier,
30 s before each drive section in the transport direction of the substrate 10.
Although it is located near the edge, as shown in the figure,
The position is the detection position S AAnd stop position SBBehind
is there. For example, the axis of the roller 30s and the detection position SASome
Is the stop position SBIs the circle of the roller 30s
Set to a value equal to the circumference. Therefore, in this embodiment,
Is the amount determined by the distance △ x / circumference (for example, once)
Is detected by the sensor 82.
Based on this, the substrate 10AOr SBTo
It is determined that it has been reached. However, the stop position SCAfter
As described above, the method of transporting the substrate 10 in the drive section 64
Is provided to reciprocate back and forth
Stop position SBAnd the transport direction of the substrate 10
Roller 30s reverses by an amount corresponding to the difference from the length dimension
When rotated, the rear end of the substrate moves to its stop position SCTo
It is determined that it has been reached.

【0033】このようにして、基板10が予め定められ
た位置に到達したことが判断されると、後述するよう
に、制御装置84は、例えばモータ66の回転を制御し
て基板10を停止させ或いは個々の駆動区分64内で往
復移動させ、電磁弁102を開閉して加熱室R内の雰囲
気を調節し、更には、駆動区分38aからの基板10の
搬入間隔を調節する。なお、図5においては、説明の便
宜上、モータ66をローラ30の下側に位置させた場合
を示しているが、前記図4等に示されるように上側に位
置させる場合も基板10の搬送やローラ30sの回転検
出には何ら支障はなく、同様な機能が得られる。また、
駆動区分38、40、および70等に備えられている回
転軸34sおよびローラ32sも同様に構成されてお
り、同様にして回転が検出され且つ基板10の位置が判
定される。本実施例においては、上記のローラ30sが
検出用ローラに相当し、センサ・スリーブ78およびセ
ンサ82で回転検出装置が構成される。
When it is determined that the substrate 10 has reached the predetermined position in this way, the control device 84 controls the rotation of the motor 66 to stop the substrate 10, for example, as described later. Alternatively, reciprocating movement is performed in each drive section 64, the electromagnetic valve 102 is opened and closed to adjust the atmosphere in the heating chamber R, and furthermore, the carry-in interval of the substrate 10 from the drive section 38a is adjusted. 5 shows a case where the motor 66 is positioned below the roller 30 for the sake of convenience of description, but when the motor 66 is positioned above as shown in FIG. There is no problem in detecting the rotation of the roller 30s, and a similar function can be obtained. Also,
The rotating shaft 34s and the roller 32s provided in the drive sections 38, 40, 70, etc. are similarly configured, and the rotation is detected and the position of the substrate 10 is similarly determined. In the present embodiment, the roller 30 s corresponds to a detection roller, and the sensor sleeve 78 and the sensor 82 constitute a rotation detecting device.

【0034】図1、図2、図3に戻って、例えばこれら
の図に示されるように、前記の予熱ゾーン16には、予
熱ゾーン16内の温度を検出するための複数の温度検出
器TCが、前記の駆動区分38毎に長手方向中央の幅方
向の3位置において上下に設けられると共に、炉体14
の上側および下側に複数のゾーンを形成し且つそのゾー
ン毎に独立して制御されるヒータHが、それぞれの駆動
区分38毎に炉体14の長手方向および幅方向にそれぞ
れ4ゾーンずつ設けられている。図6(a) に駆動区分3
8aについて模式的に示すように、各駆動区分38毎に
基板10の送り方向Fおよびそれに直交する図示しない
ローラ30の長手方向にそれぞれ4分割された合計16
組のヒータH1111、H1112、〜H1144(駆動区分38
b、38c、38dにはそれぞれH1211〜H1244、H
1311〜H1344、H1411〜H1444が備えられる)が炉体1
4の上下において各一対として配設され、ヒータH1121
とH11 31の間の位置、ヒータH1122、H1123、H1132
およびH1133の間の位置、ヒータH1124とH1134の間の
位置にそれぞれ温度検出器TC111 、TC112 、TC11
3 (駆動区分38b、38c、38dにはそれぞれTC
121 〜TC123 、TC13 1 〜TC133 、TC141 〜TC
143 )が配設されている。図2に駆動区分38aの上側
に一部について例示するように、各々の温度検出器TC
およびヒータHは前記の制御装置84に接続されてお
り、温度検出器TCで検出された温度信号に従ってヒー
タHの出力が制御される。
Returning to FIGS. 1, 2 and 3, for example, as shown in these figures, the preheating zone 16 includes a plurality of temperature detectors TC for detecting the temperature in the preheating zone 16. Are provided vertically at three positions in the width direction at the center in the longitudinal direction for each of the drive sections 38, and the furnace body 14 is provided.
A plurality of heaters H are formed on the upper and lower sides of the furnace 14 and independently controlled for each of the zones. Four heaters H are provided for each drive section 38 in the longitudinal direction and the width direction of the furnace body 14, respectively. ing. Fig. 6 (a) shows drive section 3
As schematically shown in FIG. 8a, a total of 16 divided into four in the feed direction F of the substrate 10 and the longitudinal direction of the roller 30 (not shown) orthogonal to the feed direction F for each drive section 38
Set of heaters H 1111 , H 1112 , to H 1144 (drive section 38
b, 38c and 38d respectively have H 1211 to H 1244 and H
1311 to H 1344 and H 1411 to H 1444 are provided.
4 and a heater H 1121
A position between H 11 31, the heater H 1122, H 1123, H 1132 ,
And position between H 1133, a heater H 1124 and at positions between the H 1134 temperature detector TC 111, TC 112, TC 11
3 (Each drive section 38b, 38c, 38d has TC
121 ~TC 123, TC 13 1 ~TC 133, TC 141 ~TC
143 ). As illustrated in FIG. 2 with a portion above drive section 38a, each temperature detector TC
The heater H is connected to the control device 84, and the output of the heater H is controlled according to the temperature signal detected by the temperature detector TC.

【0035】また、図2に示されるように、予熱ゾーン
16には、炉体14aの入口側の駆動区分38aの入口
上部に給気管86が設けられると共に、続く駆動区分3
8b、38c、38dの基板10の搬送方向前方側に排
気管88が設けられている。これら給気管86および排
気管88は、例えばローラ30と同様なアルミナ・セラ
ミックスから構成されて何れも炉体14の幅方向に貫通
するように設けられている。給気管86は、その両端部
において炉体14側面に備えられている給気用配管90
に接続されており、図示しない気体供給源から導かれた
気体(例えば空気)を炉体14内に供給する。また、排
気管88は、その両端部において炉体14側面に備えら
れている排気用配管92に接続されており、炉体14内
に供給された気体はその内部を流れる過程で複数の排気
管88から吸い込まれ、排出口94から排出される。こ
れら給気管86および排気管88は、それぞれ図7(a)
、(b) に示されるように丸穴状のノズル96或いは長
穴状のノズル98を複数箇所に備えたものである。
As shown in FIG. 2, the preheating zone 16 is provided with an air supply pipe 86 above the inlet of a drive section 38a on the inlet side of the furnace body 14a,
An exhaust pipe 88 is provided on the front side in the transport direction of the substrate 10 of 8b, 38c, 38d. The air supply pipe 86 and the exhaust pipe 88 are made of, for example, the same alumina ceramic as the roller 30, and are provided so as to penetrate in the width direction of the furnace body 14. The air supply pipe 86 has an air supply pipe 90 provided on the side of the furnace body 14 at both ends.
And supplies a gas (for example, air) guided from a gas supply source (not shown) into the furnace body 14. The exhaust pipe 88 is connected at both ends to exhaust pipes 92 provided on the side of the furnace body 14, and the gas supplied into the furnace body 14 is subjected to a plurality of exhaust pipes in the process of flowing through the inside. It is sucked in from 88 and discharged from the outlet 94. These air supply pipes 86 and exhaust pipes 88 are respectively shown in FIG.
(B), a round nozzle 96 or a long nozzle 98 is provided at a plurality of positions.

【0036】また、前記加熱ゾーン18には、加熱ゾー
ン18内の温度を検出するための複数の温度検出器TC
が、駆動区分40毎に炉体14の長手方向および幅方向
のそれぞれ3位置において上下に設けられると共に、炉
体14の上側、下側および両側面上部に複数のゾーンを
形成し且つそのゾーン毎に独立して制御されるヒータH
が、それぞれの駆動区分40毎に炉体14の長手方向に
4ゾーン、幅方向に両側面上部の各1ゾーンを含む6ゾ
ーンずつ設けられている。すなわち、図6(b)に示され
るように、各駆動区分40毎に基板10の送り方向Fお
よびそれに直交する図示しないローラ30の長手方向に
それぞれ4分割された合計16組のヒータH2111、H
2112、〜H2144が炉体14の上下において各一対として
配設されると共に、炉体14の幅方向両側の上部側面に
おいて送り方向Fにそれぞれ4分割された(すなわち4
組の)ヒータH2115、H2125、〜H2146(駆動区分40
bにはH2211〜H2246)が両側面で一対として配設され
ている。また、ヒータH2111内、H2112とH2113との
間、H2114内、H2121とH2131との間、H2122
2123、H2132、H2133の間、H2124とH2134との間、
2141内、H2142とH2143との間、H2144内の位置にそ
れぞれ9組の温度検出器TC2111、TC2112、T
2113、TC2121、TC2122、TC2123、TC2131、T
2132、TC2133(駆動区分40bにはTC2211〜TC
2233)が上下に配設されている。
The heating zone 18 has a plurality of temperature detectors TC for detecting the temperature in the heating zone 18.
Are provided vertically at three positions in the longitudinal direction and the width direction of the furnace body 14 for each drive section 40, and form a plurality of zones on the upper side, the lower side, and the upper side of the furnace body 14; H that is controlled independently
In each of the drive sections 40, four zones are provided in the longitudinal direction of the furnace body 14 and six zones including one zone in the upper part on both sides in the width direction. That is, as shown in FIG. 6B, a total of 16 heaters H 2111 divided into four in the feed direction F of the substrate 10 and in the longitudinal direction of the roller 30 (not shown) orthogonal to the drive direction 40 for each drive section 40, H
2112 , to H 2144 are arranged as a pair on the upper and lower sides of the furnace body 14, and are divided into four in the feed direction F on upper side surfaces on both sides in the width direction of the furnace body 14 (ie, 4
Set) heaters H2115 , H2125 , ~ H2146 (drive section 40
In b, H 2211 to H 2246 ) are arranged as a pair on both sides. Further, inside the heater H 2111 , between H 2112 and H 2113 , inside H 2114 , between H 2121 and H 2131 , H 2122 ,
Between H 2123 , H 2132 , H 2133 , between H 2124 and H 2134 ,
Nine sets of temperature detectors TC 2111 , TC 2112 , T 21 are located at positions in H 2141 , between H 2142 and H 2143, and in H 2144 , respectively.
C 2113 , TC 2121 , TC 2122 , TC 2123 , TC 2131 , T
C 2132 , TC 2133 (TC 2211 -TC
2233 ) are arranged vertically.

【0037】また、前記の徐冷ゾーン20には、図2に
駆動区分64aについて示されるように、炉体14の長
手方向に沿って等間隔で複数のシャッタ装置S1
2 、〜S7 (S1 、S2 のみ図示。以下、特に区別し
ないときは単にシャッタ装置Sという)が設けられてお
り、徐冷ゾーン20が駆動区分64a、64b、〜64
fにそれぞれ対応する相互に熱的に区分された複数例え
ば6つの第1加熱室R1 、第2加熱室R2 、〜第6加熱
室R6 (すなわち複数の加熱区分。以下、特に区別しな
いときは単に加熱室Rという)に分割されている。な
お、図に示されるように、シャッタ装置S1 は駆動区分
40bと64aとの間に、S2 は駆動区分64aと64
bとの間にそれぞれ設けられており、図示しない他のシ
ャッタ装置は、S3 乃至S6 が駆動区分64b乃至64
f相互の間に、S7 が駆動区分64fと70aとの間に
それぞれ設けられている。
The slow cooling zone 20 includes a plurality of shutter devices S 1 , at regular intervals along the longitudinal direction of the furnace body 14, as shown for the drive section 64 a in FIG.
S 2 , to S 7 (only S 1 and S 2 are shown; hereinafter, simply referred to as a shutter device S unless otherwise specified), and the slow cooling zone 20 is divided into drive sections 64 a, 64 b, to 64.
a plurality of, for example, six first heating chambers R 1 , second heating chambers R 2 , to sixth heating chambers R 6 (that is, a plurality of heating sections R 6 corresponding to f). Is sometimes simply referred to as a heating chamber R). Incidentally, as shown in FIG, the shutter device S 1 between the drive segment 40b and 64a, S 2 is a driving segment 64a 64
b are respectively provided between the, other of the shutter device (not shown), S 3 to S 6 are driven classification 64b to 64
between f inter, S 7 are respectively provided between the drive segment 64f and 70a.

【0038】上記のシャッタ装置Sは、図2に断面構造
を、図3(d) にシャッタ装置S2 を通る断面(図2にお
けるd−d視断面)をそれぞれ簡単に示すように、例え
ば炉体14の長手方向に垂直な面内において上側内壁面
から下方に伸びる上側固定シャッタ100と、下側内壁
面から上方に伸びる下側固定シャッタ102と、平板状
を成してそれらに平行に設けられ、ローラ30に平行な
回動軸104の軸心回りに回動させられる回動シャッタ
106とを備えたものである。回動軸104の炉外に突
き出した部分の近傍には、その回動軸104を軸心回り
に回動させるためのエア・シリンダ108が設けられて
いる。このため、シャッタ装置Sは、エア・シリンダ1
08の作動に従ってその回動軸104が回動させられる
ことにより、上下の固定シャッタ100、102間に形
成された開口部110が回動シャッタ106によって開
放され或いは閉鎖され、加熱室R間を相互に連通させ或
いは遮蔽させる。なお、上側固定シャッタ100、下側
固定シャッタ102、回動シャッタ106は、例えば、
何れも内壁と同様な材質の耐熱ガラス製板等から構成さ
れている。
The shutter device S described above, the cross-sectional structure in FIG. 2, as respectively shown easily (d-d sectional view in FIG. 2) cross-section through a shutter system S 2 in FIG. 3 (d), for example a furnace An upper fixed shutter 100 extending downward from the upper inner wall surface in a plane perpendicular to the longitudinal direction of the body 14, a lower fixed shutter 102 extending upward from the lower inner wall surface, and are formed in a flat plate shape and provided in parallel thereto. And a rotation shutter 106 that is rotated around the axis of a rotation shaft 104 parallel to the roller 30. An air cylinder 108 for rotating the rotating shaft 104 about its axis is provided near the portion of the rotating shaft 104 protruding outside the furnace. For this reason, the shutter device S includes the air cylinder 1
08, the rotation shaft 104 is rotated, whereby the opening 110 formed between the upper and lower fixed shutters 100 and 102 is opened or closed by the rotation shutter 106, and the heating chambers R are interconnected. Communication or shielding. The upper fixed shutter 100, the lower fixed shutter 102, and the rotating shutter 106 are, for example,
Each is made of a heat-resistant glass plate made of the same material as the inner wall.

【0039】上側固定シャッタ100および下側固定シ
ャッタ102は、それぞれ互いに平行且つ相互に異なる
高さの一対のガラス板から構成されており、上記回動軸
104は、上側固定シャッタ100の下端位置において
それら一対のガラス板の間の位置に設けられ、回動シャ
ッタ106はその回動軸104から伸びて設けられてい
る。なお、上側固定シャッタ100は、複数本のローラ
30によって形成される基板10の搬送面から例えば80
(mm)程度の距離だけ離隔して位置させられており、一
方、下側固定シャッタ102は、搬送面から数(mm)乃至
十数(mm)程度の距離だけ離隔して位置させられている。
例えばPDP用のフロント・プレートやリヤ・プレート
においては、基板10の厚さは、基板10を載せて炉内
を搬送するために通常用いられている図示しないセッタ
の厚さを含めても10(mm)程度以下であって、上記の上側
固定シャッタ100と搬送面との距離に比較して十分に
薄いことから、基板10は、上側固定シャッタ100お
よび回動シャッタ106に干渉することなく加熱室R間
に設けられている開口部110を通過させられる。ま
た、ローラ30相互の中心間隔gは、図に示されるよう
に各加熱室R内およびそれらの境界部において、150(m
m) 程度の一様な寸法に設定されている。
The upper fixed shutter 100 and the lower fixed shutter 102 are each composed of a pair of glass plates which are parallel to each other and have different heights. The rotating shutter 106 is provided at a position between the pair of glass plates, and extends from the rotating shaft 104. The upper fixed shutter 100 is, for example, 80 mm from the transport surface of the substrate 10 formed by the plurality of rollers 30.
(mm), and the lower fixed shutter 102 is located at a distance of about several (mm) to several tens (mm) from the transport surface. .
For example, in the case of a front plate or a rear plate for a PDP, the thickness of the substrate 10 is 10 (including the thickness of a setter (not shown) generally used for carrying the substrate 10 and transporting the inside of the furnace). mm) or less, and is sufficiently thin compared to the distance between the upper fixed shutter 100 and the transport surface, the substrate 10 can be heated without interfering with the upper fixed shutter 100 and the rotating shutter 106. It is made to pass through the opening 110 provided between R. As shown in the figure, the center distance g between the rollers 30 is 150 (m
m) The dimensions are set to be uniform.

【0040】また、徐冷ゾーン20の各駆動区分64に
は、それぞれ前記制御装置84に制御されて各加熱室R
の温度を検出するための複数の温度検出器TCおよび各
加熱室Rを加熱するための複数のヒータHが、前記図6
(b) に示される前記加熱ゾーン18と同様な配設パター
ン(駆動区分64aにはTC3111〜TC3133およびH
3111〜H3146、駆動区分64bにはTC3211〜TC3233
およびH3211〜H3246、駆動区分64cにはTC3311
TC3333およびH3311〜H3346、駆動区分64dにはT
3411〜TC3433およびH3411〜H3446、駆動区分64
eにはTC3511〜TC3533およびH3511〜H3546、駆動
区分64fにはTC3611〜TC3633およびH3611〜H
3646)で設けられている。
Each drive section 64 of the slow cooling zone 20
Are controlled by the control device 84, and each heating chamber R
Temperature detectors TC for detecting the temperature of
A plurality of heaters H for heating the heating chamber R are provided in FIG.
(b) The same arrangement pattern as the heating zone 18 shown in FIG.
(The drive section 64a has a TC3111~ TC3133And H
3111~ H3146, Drive section 64b has TC3211~ TC3233
And H3211~ H3246, The drive section 64c has TC3311~
TC3333And H3311~ H3346, The driving section 64d has T
C3411~ TC3433And H3411~ H3446, Drive section 64
e is TC3511~ TC3533And H3511~ H3546, Drive
TC in section 64f3611~ TC3633And H3611~ H
3646).

【0041】また、各加熱室R内には、基板10の搬送
方向後方側(上流側)に上部および下部から冷却用空気
を供給するための給気管112、112が備えられると
共に、その冷却用空気を搬送方向前方側(下流側)の上
部から排出するための排気管114とが設けられてい
る。これら給気管112および排気管114は、それぞ
れ予熱ゾーン16に設けられている給気管86、排気管
88と同様なものであり、丸穴状のノズル96或いは長
穴状のノズル98が設けられたアルミナ・セラミックス
製のチューブから構成されている。また、給気管112
および排気管114は、炉体14の外部に設けられた給
気用配管116および排気用配管118にそれぞれ接続
されており、給気管112に図示しない気体供給源から
個々の加熱室Rの給気用配管116毎に設けられた送気
管120a、120b、〜120f(送気管120aの
み図示。以下、特に区別しないときは単に送気管120
という)を介して冷却用気体(例えば空気)が導かれる
と共に、排気管114から吸い込まれた各加熱室R内の
気体が排出口122から排出される。個々の送気管12
0には電磁弁124a、124b、〜124f(電磁弁
124aのみ図示。以下、特に区別しないときは単に電
磁弁124という)が設けられており、制御装置84に
よって加熱室R内への給気が開始および停止させられる
と共に給気量が調節される。なお、図においては、加熱
室Rの上下にそれぞれ設けられた給気管112、112
が共通の送気管120に接続されているが、それぞれ電
磁弁124を備えた別々の送気管120に接続されて独
立に制御されてもよい。
In each of the heating chambers R, air supply pipes 112 for supplying cooling air from the upper and lower portions are provided on the rear side (upstream side) of the substrate 10 in the transport direction, and the cooling tubes for cooling the air are provided. An exhaust pipe 114 for discharging air from the upper portion on the front side (downstream side) in the transport direction is provided. The air supply pipe 112 and the exhaust pipe 114 are similar to the air supply pipe 86 and the exhaust pipe 88 provided in the preheating zone 16, respectively, and a round-hole nozzle 96 or a long-hole nozzle 98 is provided. It is composed of a tube made of alumina ceramics. In addition, the air supply pipe 112
The exhaust pipe 114 is connected to an air supply pipe 116 and an exhaust pipe 118 provided outside the furnace body 14, respectively. Air supply pipes 120a, 120b, to 120f provided for each of the pipes 116 (only the air supply pipes 120a are shown.
), And the gas in each heating chamber R sucked from the exhaust pipe 114 is discharged from the outlet 122. Individual air lines 12
0 is provided with solenoid valves 124a, 124b, to 124f (only the solenoid valve 124a is shown; hereinafter, simply referred to as the solenoid valve 124 unless otherwise specified), and the control device 84 supplies air into the heating chamber R. It is started and stopped and the charge is adjusted. In the drawing, air supply pipes 112, 112 provided above and below the heating chamber R, respectively.
Are connected to a common air supply pipe 120, but may be connected to separate air supply pipes 120 each having an electromagnetic valve 124 and controlled independently.

【0042】また、前記の冷却ゾーン22には、冷却ゾ
ーン22内の温度を検出するための温度検出器TC41
TC42、T43が、駆動区分70毎に炉体14長手方向中
央の幅方向中央位置において上側に設けられると共に、
炉体14の上側および下側にその幅寸法に略等しい長さ
を有する複数の冷却ジャケットCが、それぞれの駆動区
分70毎に炉体14の長手方向に3列ずつ設けられてい
る。冷却ジャケットCは、その内部に図1に示される冷
却水配管126から枝管128を介して供給される冷却
水が流通させられるものである。上下に配されたそれぞ
れ3つの冷却ジャケットCは相互に連結されており、そ
れら3つの冷却ジャケットC内を順次流通させられた冷
却水は、図1に示される反対側の側面に設けられた図示
しない排水管から排出される。冷却ジャケットCに供給
される冷却水の流量は駆動区分70毎に枝管128に設
けられている電磁弁130a、130b、130cによ
って調節される。この冷却ゾーン22に設けられている
温度検出器TCおよび電磁弁130も前記の制御装置8
4に接続されており、温度検出器TCによって検出され
た温度信号に基づいて冷却ジャケットCに流通される冷
却水量が制御される。
The cooling zone 22 has a temperature detector TC 41 for detecting the temperature in the cooling zone 22,
TC 42 and T 43 are provided on the upper side at the center position in the width direction of the longitudinal center of the furnace body 14 for each drive section 70,
A plurality of cooling jackets C having a length substantially equal to the width of the furnace body 14 are provided on the upper and lower sides of the furnace body 14 in three rows in the longitudinal direction of the furnace body 14 for each drive section 70. The cooling jacket C allows the cooling water supplied from the cooling water pipe 126 shown in FIG. 1 to flow through the branch pipe 128. The upper and lower three cooling jackets C are connected to each other, and the cooling water sequentially circulated in the three cooling jackets C is shown on the opposite side surface shown in FIG. Not drained from drains. The flow rate of the cooling water supplied to the cooling jacket C is adjusted by solenoid valves 130a, 130b, 130c provided in the branch pipe 128 for each drive section 70. The temperature detector TC and the solenoid valve 130 provided in the cooling zone 22 are also provided by the control device 8.
4, the amount of cooling water flowing through the cooling jacket C is controlled based on the temperature signal detected by the temperature detector TC.

【0043】図8は前記制御装置84の構成を示す図で
ある。予熱ゾーン16、加熱ゾーン18、徐冷ゾーン2
0、および冷却ゾーン22の駆動区分38、40、6
4、70(或いは加熱室R)毎に所定数ずつ炉体14内
の温度を検出するために設けられた温度検出器T
111 、TC112 、〜TC43により検出された温度を示
す各信号、および、各駆動区分毎に回転軸34sの近傍
に設けられたセンサ82(一つだけを図示)により基板
10が検出されることにより発生させられる基板検出信
号は、マルチプレクサ132によって所定の周期で時分
割され、且つA/D変換器134においてデジタル信号
に変換された後、演算制御回路136へ入力される。こ
の演算制御回路136は、例えばマイクロコンピュータ
により構成されており、設定器138によって設定され
ている種々の制御データに基づき、RAMの一時記憶機
能を利用しつつ予めROMに記憶されたプログラムに従
って入力信号を処理し、出力インターフェース140を
介して、モータ駆動回路MD1 へ第一搬送装置24を連
続駆動させるための信号を、モータ駆動回路MD2 へ第
一搬送装置24の駆動区分38bを第二搬送装置26の
駆動速度に同期して駆動させるための信号をそれぞれ供
給し、また、各ヒータ駆動回路D1111、D1112、〜D
3646へ、ヒータH1111、H1112、〜H3646を駆動させる
ための信号を供給し、また、モータ駆動回路MD31、M
32、〜MD36へ第二搬送装置26a、26b、〜26
fを間歇駆動するための信号を供給し、また、シリンダ
駆動回路CDS1、CDS2、〜CDS7へ回動シャッタ10
6を駆動するためのエア・シリンダ108a、108
b、〜108gを駆動させるための信号を供給し、ま
た、モータ駆動回路MD41へ第三搬送装置28を連続駆
動させるための信号を、モータ駆動回路MD42へ第三搬
送装置28の駆動区分70aを第二搬送装置26の駆動
速度に同期して駆動させるための信号をそれぞれ供給
し、更に、電磁弁駆動回路SD1 、SD2 、SD3 、S
a1、SDa2、〜SDa6へ電磁弁130a、130b、
130c、124a、124b、〜124fを駆動させ
るための信号を供給する。
FIG. 8 shows the structure of the control device 84.
is there. Preheating zone 16, heating zone 18, slow cooling zone 2
0, and drive sections 38, 40, 6 of the cooling zone 22
4, 70 (or heating chamber R) every predetermined number in furnace body 14
Temperature detector T provided for detecting the temperature of
C111, TC112, ~ TC43Indicates the temperature detected by
Signal and the vicinity of the rotating shaft 34s for each drive section
The sensor 82 (only one is shown) provided in the
Substrate detection signal generated when 10 is detected
The signal is converted by the multiplexer 132 at a predetermined cycle.
Divided by the A / D converter 134
After that, it is input to the arithmetic and control circuit 136. This
The arithmetic control circuit 136 is, for example, a microcomputer.
Are set by the setting unit 138.
RAM temporary storage based on various control data
While using the functions stored in the ROM in advance.
To process the input signal and output interface 140
Via the motor drive circuit MD1To the first transfer device 24
A signal for continuous drive is supplied to a motor drive circuit MD.TwoFirst
The drive section 38b of the one transfer device 24 is
Provide signals for driving in synchronization with the driving speed.
And each heater drive circuit D1111, D1112, ~ D
3646To heater H1111, H1112, ~ H3646Drive
And a motor drive circuit MD31, M
D32, ~ MD36To the second transfer devices 26a, 26b, to 26
supply a signal for intermittently driving the f
Drive circuit CDS1, CDS2, ~ CDS7Rotating shutter 10
6 for driving air cylinders 108a, 108
b, supply a signal for driving ~ 108 g,
Motor drive circuit MD41Continuously drive the third transfer device 28
The signal for operating the motor drive circuit MD42To third
The driving section 70a of the feeding device 28 is driven to drive the second conveying device 26.
Supply signals for driving in synchronization with speed
And a solenoid valve drive circuit SD1, SDTwo, SDThree, S
Da1, SDa2, ~ SDa6Solenoid valves 130a, 130b,
Drive 130c, 124a, 124b, ~ 124f
To provide a signal for

【0044】図9は、上記演算制御回路136における
処理の一例であって、基板10の位置を検出する場合の
処理手順を示すフロー・チャートである。ステップS1
においては、予め前記設定器138によって、検出位置
A 、停止位置SB 或いはS C と検出用ローラ30sと
の距離△x、ローラ30sの直径d、およびセンサ・ス
リーブ78に等間隔で備えられている羽根80の数n等
が設定される。続くステップS2においては、羽根80
による反射光の受光信号がセンサ82から入力されたか
否かが判断される。受光信号が入力されるまでは待機さ
せられるが、搬送されてきた基板10がローラ30sに
接触してこれを回転させると、ローラ30sに一体的に
備えられたセンサ・スリーブ78が回転させられて羽根
80によってセンサ82の受光器に向かって光が反射さ
れるため、この判断が肯定されてステップS3に進む。
ステップS3においては、受光信号入力数Srに基づい
て、例えば、式[△R=Sr・π・d/n]に従ってロ
ーラ30sの回転量△R、すなわちローラ30sの外周
面上に位置する任意の一点の周方向における移動長さが
算出される。続くステップS4においては、このように
して算出された回転量△Rが上記距離△x以上であるか
否かが判断される。この判断が否定される間はステップ
S2に戻って受光信号の入力を待機させられるが、肯定
されるとステップS5に進む。ステップS5において
は、基板10の前端部(往復移動の後退時においては後
端部)が検出位置SA 等に到達したことを表す到達信号
が出力され、一連の処理が終了させられる。したがっ
て、本実施例においては、制御装置84が位置判定手段
を兼ねている。
FIG. 9 shows the operation control circuit 136.
This is an example of processing, and is performed when the position of the substrate 10 is detected.
5 is a flowchart showing a processing procedure. Step S1
, The detection position is set in advance by the setting unit 138.
SA, Stop position SBOr S CAnd the detection roller 30s
△ x, the diameter d of the roller 30s, and the sensor spacing
Number n of blades 80 provided at equal intervals in leave 78
Is set. In the following step S2, the blade 80
Whether the light receiving signal of the reflected light from the sensor is input from the sensor 82
It is determined whether or not. Wait until the received light signal is input.
However, the transported substrate 10 is transferred to the rollers 30s.
When this is contacted and rotated, it is integrated with the roller 30s.
The provided sensor sleeve 78 is rotated to
80 reflects light towards the receiver of sensor 82
Therefore, this determination is affirmed and the process proceeds to step S3.
In step S3, based on the number Sr of received light signal inputs,
For example, according to the equation [△ R = Sr · π · d / n],
The amount of rotation ΔR of the roller 30s, that is, the outer circumference of the roller 30s
The movement length in the circumferential direction of any one point located on the surface is
Is calculated. In the following step S4,
Is the rotation amount △ R calculated as above equal to or greater than the distance △ x?
It is determined whether or not. While this judgment is denied, step
The process returns to S2 to wait for the input of the light receiving signal.
Then, the process proceeds to step S5. In step S5
Is the front end of the substrate 10 (when the reciprocation moves backward,
(End) is the detection position SAArrival signal indicating that the vehicle has reached
Is output, and the series of processes is terminated. Accordingly
Therefore, in the present embodiment, the control device 84
Also serves as.

【0045】前述したように、ローラ30sは基板10
に接触させられてそれらの間に摩擦力が作用する間だけ
回転させられる。そのため、検出用ローラ30sと基板
10との間の滑りがないものとすれば、上記の処理過程
において、ローラ30sの回転量△Rはその接触中にお
ける基板10の搬送方向の前方或いは後方への移動量に
一致する。したがって、ローラ30sは基板10の前端
がその上に到達したときから回転させられるため、検出
位置SA 等とローラ30sとの距離△xと回転量△Rと
を比較することにより、基板10の前端等がその検出位
置SA 等に到達したことが判定されるのである。
As described above, the roller 30s is connected to the substrate 10
And rotated only while frictional force acts between them. Therefore, assuming that there is no slippage between the detection roller 30s and the substrate 10, in the above process, the rotation amount ΔR of the roller 30s becomes forward or backward in the transport direction of the substrate 10 during the contact. Matches the amount of movement. Therefore, since the roller 30s is rotated from the time when the front end of the substrate 10 reaches the top thereof, the distance △ x between the detection position S A or the like and the roller 30s and the rotation amount △ R are compared to determine the rotation of the substrate 10. It is determined that the front end or the like has reached the detection position S A or the like.

【0046】なお、前記の各ヒータH1111、H1112、〜
2246は、予熱ゾーン16および加熱ゾーン18内で炉
体14の温度が幅方向において均等且つ長手方向(基板
10の搬送方向)で所定の温度勾配が形成されるよう
に、また、ヒータH3111、H31 12、〜H3646は、徐冷ゾ
ーン20の各加熱室R内の温度がそれぞれ予め設定され
た温度で均等となるように、それぞれ予め設定された各
部位の目標温度比或いは相互の出力比に従って制御され
るようになっている。例えば、炉体14の幅方向中央に
位置するヒータH1112、H1113、H1122、H1123、〜H
3642に比較して、幅方向端部に位置するヒータH1111
1114、H1121、H1124、〜H3644の出力が高められ
る。また、炉体14の長手方向において低温側(予熱ゾ
ーン16および加熱ゾーン18の駆動区分40aにおい
ては基板10の搬送方向後方側、加熱ゾーン18の駆動
区分40bおよび徐冷ゾーン20においては搬送方向前
方側)に位置するヒータH1111、H1112、H1113、H
1114、H1211、H1212、H1213、H1214、〜H2116、お
よびH2241、H2242、H2243、H2244、H2245
2246、H3141、H3142、H3143、H3144、H3145、H
3146、〜H3646は、各ゾーン22、128、130の高
温側(上記と反対側位置)に位置するヒータH1141、H
11 42、H1143、H1144、H1241、H1242、H1243、H
1244、〜H2146、およびH22 11、H2212、H2213、H
2214、H2215、H2216、H3111、H3112、H3113、H31
14、H3115、H3116、〜H3616に比較して出力が高めら
れる。
The heaters H 1111 , H 1112,.
H 2246, as the temperature of the furnace body 14 in the preheating zone 16 and the heating zone 18 is the predetermined temperature gradient is formed (conveying direction of the substrate 10) uniformly and longitudinally in the width direction, a heater H 3111 , H 31 12, to H 3646, the temperature of the heating chamber R of the slow cooling zone 20 is such that even at a preset temperature, respectively, the target temperature ratio or mutual each region set in advance, respectively It is controlled according to the output ratio. For example, heaters H 1112 , H 1113 , H 1122 , H 1123 , to H located at the center in the width direction of the furnace body 14.
Compared to 3642 , the heater H 1111 located at the width direction end,
The output of H 1114 , H 1121 , H 1124 , to H 3644 is increased. Further, in the longitudinal direction of the furnace body 14, the low temperature side (the rear side in the transport direction of the substrate 10 in the drive section 40 a of the preheating zone 16 and the heating zone 18, and the front side in the transport direction in the drive section 40 b and the slow cooling zone 20 of the heating zone 18). Side) heaters H 1111 , H 1112 , H 1113 , H
1114, H 1211, H 1212, H 1213, H 1214, ~H 2116, and H 2241, H 2242, H 2243 , H 2244, H 2245,
H 2246 , H 3141 , H 3142 , H 3143 , H 3144 , H 3145 , H
3146 to H 3646 are heaters H 1141 , H located on the high temperature side (opposite side of the above) of each zone 22, 128, 130.
11 42 , H 1143 , H 1144 , H 1241 , H 1242 , H 1243 , H
1244, to H 2146, and H 22 11, H 2212, H 2213, H
2214 , H 2215 , H 2216 , H 3111 , H 3112 , H 3113 , H 31
14 , H 3115 , H 3116 , to H 3616 , the output is increased.

【0047】図10は、RHK12を用いて膜形成素材
を含む基板10を焼成する場合において、各基板10毎
の位置を示すタイミング・チャートであり、図11は、
図10において時刻t0 に搬入された基板10の昇降温
カーブを示す図である。なお、図10において一点鎖線
は、各駆動区分38等の境界を示し、図に示されるよう
に徐冷ゾーン20においては各加熱室Rすなわち加熱区
分の境界に等しい。すなわち、縦軸は炉体14内の長手
方向(基板10の搬送方向)における位置を表す。ま
た、右上がりに描かれた複数本の実曲線はそれぞれ各基
板10の動きに対応し、その傾きの大きさが搬送速度の
速さを表す。以下、これらのタイミング・チャートを参
照して基板10の焼成方法を説明する。
FIG. 10 is a timing chart showing the position of each substrate 10 when the substrate 10 containing the film forming material is baked using the RHK 12. FIG.
FIG. 11 is a diagram showing a temperature rise / fall curve of the substrate 10 carried at time t 0 in FIG. 10. In FIG. 10, a dashed line indicates a boundary of each drive section 38 and the like. That is, the vertical axis represents the position in the longitudinal direction (the transport direction of the substrate 10) in the furnace body 14. A plurality of real curves drawn upward to the right each correspond to the movement of each substrate 10, and the magnitude of the inclination represents the speed of the transport speed. Hereinafter, the firing method of the substrate 10 will be described with reference to these timing charts.

【0048】まず、時刻t0 において、未焼成の基板1
0が図1に示される搬入方向Fに従って予熱ゾーン16
の駆動区分38側から搬入される。このとき、徐冷ゾー
ン20に設けられたシャッタ装置Sは全て閉じられて、
各加熱室Rが相互に分離されており、基板10が搬送過
程において図11に示される温度カーブで昇降温させら
れるように、炉体14の各ゾーン16、18、20に設
けられたヒータHがフィード・バック制御で駆動されて
炉体14a内が加熱されると共に、冷却ゾーン22に設
けられた電磁弁130が駆動されて冷却ジャケットCに
冷却水が流されることにより、それぞれのゾーンの各部
位が予め設定された目標温度に保持されている。また、
モータ46およびモータ72が駆動されて第一搬送装置
24および第三搬送装置28内のローラ30が図2にお
ける右回り方向に回転させられている。このため、搬入
された基板10は、前記の第一の搬送速度で加熱ゾーン
18に向かって搬送される。
First, at time t 0 , the unfired substrate 1
0 is a preheating zone 16 according to the loading direction F shown in FIG.
Is carried in from the drive section 38 side. At this time, all the shutter devices S provided in the slow cooling zone 20 are closed,
The heating chambers R are separated from each other, and the heaters H provided in the respective zones 16, 18, and 20 of the furnace body 14 so that the substrate 10 is heated and lowered according to the temperature curve shown in FIG. Is driven by the feedback control to heat the inside of the furnace body 14a, and the electromagnetic valve 130 provided in the cooling zone 22 is driven to flow the cooling water through the cooling jacket C. The part is maintained at a preset target temperature. Also,
The motors 46 and 72 are driven to rotate the rollers 30 in the first transport device 24 and the third transport device 28 in the clockwise direction in FIG. Therefore, the loaded substrate 10 is transported toward the heating zone 18 at the first transport speed.

【0049】次いで、時刻t0 から例えば300 秒程度経
過した時刻t1 においては、次の基板10が予熱ゾーン
16に搬入され、更に300 秒程度経過した時刻t2 にお
いては、更に次の基板10が予熱ゾーン16に搬入され
る。すなわち、予熱ゾーン16には、例えば300 秒程度
毎に基板10が順次搬入され、基板10の前端部136
の間隔は1500(mm)程度となることから、基板10の搬送
方向の長さを1000(mm)とすれば、相互の間隔が500(mm)
程度で搬入されることとなる。このように順次搬入され
た基板10は、回転駆動されているローラ30に支持さ
れた状態で予熱ゾーン16をその終端まで搬送される過
程で、例えば1100秒程度の時間で例えば500(℃) 程度の
最高焼成温度MTまで昇温させられる。図10、図11
のt3 時点は、この状態を示す。
[0049] Then, at time t 1 has elapsed from the time t 0, for example, about 300 seconds, the next substrate 10 is carried into the preheating zone 16, at time t 2 has elapsed further about 300 seconds, the substrate 10 further in the following Is carried into the preheating zone 16. That is, the substrates 10 are sequentially carried into the preheating zone 16 every about 300 seconds, for example, and the front end 136 of the substrate 10 is
Is about 1500 (mm), so if the length of the substrate 10 in the transport direction is 1000 (mm), the mutual distance is 500 (mm).
It will be carried in by about. The substrate 10 sequentially loaded in this manner is transported to the end of the preheating zone 16 while being supported by the roller 30 that is being rotationally driven. Is raised to the maximum firing temperature MT. 10 and 11
This state is shown at t 3 .

【0050】このとき、予熱ゾーン16の駆動区分38
の各々に設けられた検出用ローラ30sの回転がセンサ
82によって検出され、その回転量に基づいて、順次搬
入される基板10が各検出位置SA に到達したことが制
御装置84において順次判定される。更に、その制御装
置84に備えられる前記演算制御回路136は、この検
出時間間隔が搬入間隔と等しい値に保持されているか否
かを判断し、例えば検出時間間隔が搬入間隔の4/5 程度
に短くなっている場合には、搬入を一時的に停止させて
予熱ゾーン16に搬入される基板10の搬入時間間隔を
調節し、或いは、第一搬送装置24を一時的に停止させ
ることにより、加熱ゾーン18に続く徐冷ゾーン20へ
の基板10の搬入時間間隔を調節する。すなわち、基板
10の搬送速度を調節する。因みに、RHK12のよう
に複数本のローラ30によって基板10を搬送する焼成
装置においては、ローラ30と基板10との滑りに起因
する搬送速度ムラが生じ得る。そのため、基板10の搬
送時間間隔は必ずしも搬入時間間隔に保持されないこと
から、時として前後に続く基板10が相互に接触して破
損するという問題があるため、上記のように搬送時間間
隔を炉体14内において検出して調節することが必要と
なるのである。
At this time, the driving section 38 of the preheating zone 16
The rotation of the detection roller 30s provided in each of the sensors is detected by the sensor 82, and based on the amount of rotation, the controller 84 sequentially determines that the sequentially loaded substrates 10 have reached the respective detection positions S A. You. Further, the arithmetic and control circuit 136 provided in the control device 84 determines whether or not the detection time interval is maintained at a value equal to the carry-in interval, and for example, the detection time interval becomes about 4/5 of the carry-in interval. If it is shorter, the heating is stopped by temporarily stopping the loading and adjusting the loading time interval of the substrate 10 loaded into the preheating zone 16 or by temporarily stopping the first transporting device 24. The time interval for carrying the substrate 10 into the slow cooling zone 20 following the zone 18 is adjusted. That is, the transfer speed of the substrate 10 is adjusted. Incidentally, in a baking apparatus such as the RHK 12 in which the substrate 10 is transported by a plurality of rollers 30, transport speed unevenness due to slippage between the roller 30 and the substrate 10 may occur. For this reason, the transfer time interval of the substrate 10 is not always kept at the carry-in time interval, and there is a problem that the substrates 10 that follow one another sometimes come into contact with each other and are damaged. It is necessary to detect and adjust within 14.

【0051】続く加熱ゾーン18においては、基板10
が最高焼成温度MTに保持された状態で第一搬送装置2
4によって予熱ゾーン16から連続して搬送される。但
し、加熱ゾーン18内での搬送速度は、当初は予熱ゾー
ン16と同様に第一の搬送速度とされるが、基板10が
駆動区分40bに入って予め定められた位置(例えば検
出位置SA )に到達すると、モータ44が駆動されるこ
とによって第二の搬送速度に高められる。このとき、加
熱ゾーン18と徐冷ゾーン20との間に設けられている
シャッタ装置S1 が開けられると共に、加熱室R1 内の
ローラ30を駆動する第二搬送装置26aが所定の第二
の搬送速度(すなわち駆動区分40bと同様な搬送速
度)で駆動される。そのため、基板10は加熱ゾーン1
8から徐冷ゾーン20の加熱室R1 すなわち第一の均熱
温度KT1 に保持されている加熱室R1 内に速やかに搬
送され、センサ82によって検出される検出用ローラ3
0sの回転に基づいてその端部10aが往復移動範囲の
前方側端となる停止位置SBに到達したことが制御装置
84で判定されることにより、その制御装置84から出
力される制御信号に従って加熱室R毎に定められたその
停止位置SB に停止させられる。t4 時点はこの状態を
示している。本実施例においては、最高焼成温度MTに
達してから加熱室R1 内に搬入されるまでの加熱時間
(所謂キープ時間)は例えば400 秒程度である。このよ
うにして徐冷ゾーン20に搬入された基板10は、各加
熱室R内で予め設定されている所定温度(すなわち第一
乃至第六の均熱温度)KT1 、KT2 、〜KT6 で所定
時間保持されて均熱され、続く加熱室Rに速やかに搬送
される過程を繰り返しつつ、図11に示される階段状の
降温カーブに従って徐冷される。なお、第一の均熱温度
KT1 は最高焼成温度MTよりも数 (℃) 乃至十数
(℃) 程度の所定値ΔKTだけ低い温度であり、第二の
均熱温度KT2 、第三の均熱温度KT3 、〜第六の均熱
温度KT6 は、それぞれ更に所定値ΔKTずつ低くされ
た温度である。
In the subsequent heating zone 18, the substrate 10
Is maintained at the maximum firing temperature MT, and the first transport device 2
4 conveys continuously from the preheating zone 16. However, the transport speed in the heating zone 18, initially is the first transport speed in the same manner as the preheating zone 16, a position where the substrate 10 has a predetermined entering the drive segment 40b (e.g. the detection position S A ), The motor 44 is driven to increase the speed to the second transport speed. At this time, the shutter device S 1 is provided is opened between the heating zone 18 and the slow cooling zone 20, the second feeding section 26a for driving the roller 30 in the heating chamber R 1 is in a predetermined second It is driven at the transport speed (that is, the transport speed similar to that of the drive section 40b). Therefore, the substrate 10 is placed in the heating zone 1
8 to the heating chamber R 1 of the annealing zone 20, that is, the heating roller R 1 , which is maintained at the first soaking temperature KT 1 , and is detected by the sensor 82.
By that the ends 10a based on rotation of 0s has reached the stop position S B as the front end of the reciprocal movement range is determined by the controller 84 in accordance with a control signal output from the controller 84 heating chamber defined for each R is the stopped at the stop position S B. t 4 time shows this state. In the present embodiment, the heating time from reaching the maximum firing temperature MT until transferred into the heating chamber R 1 (so-called keep-time), for example, about 400 seconds. Thus the substrate 10 carried in the slow cooling zone 20 is at a predetermined temperature (i.e. first to sixth soaking temperature) which has been previously set in the heating chamber R KT 1, KT 2, ~KT 6 , And is gradually cooled according to a step-like temperature-falling curve shown in FIG. Note that the first soaking temperature KT 1 is several (° C.) to ten-odd more than the maximum firing temperature MT.
(° C.), which is lower by a predetermined value ΔKT, and the second soaking temperature KT 2 , the third soaking temperature KT 3 , to the sixth soaking temperature KT 6 are each further lowered by a predetermined value ΔKT. Temperature.

【0052】このとき、基板10が加熱室R1 内に搬入
されると、開けられていたシャッタ装置S1 が閉じられ
ると共に、駆動区分64aの第二搬送装置26aのモー
タ66aが反転駆動されて、基板10が搬送方向に沿っ
て加熱室R1 内で図2に破線で示される範囲(SB 〜S
C )で往復移動させられつつ均熱される。この往復移動
時においては、ローラ30sの回転に基づいて、基板1
0の搬送方向前端が停止位置SB に到達したことが検出
されたときにモータ66が逆転駆動に切り換えられ、搬
送方向後端が停止位置SC に到達したことが検出された
ときにモータ66が正転駆動に切り換えられる。このよ
うにして、予め定められた例えば180 秒程度の保持時間
が経過すると、基板10の往復移動が終了させられてシ
ャッタ装置S2 が開けられ、基板10が続く加熱室R2
内に搬送される。図10、11のt5 時点はこの状態を
示している。基板10が加熱室R2 内に完全に入るとシ
ャッタ装置S2 が閉じられ、その加熱室R2 内において
加熱室R1 内と同様に均熱処理が施される一方、空室と
なった加熱室R1 内に必要に応じて給気管112から冷
却用空気が供給された後、同様にして続く基板10が搬
入されて均熱処理が施される。なお、基板10の搬入出
に要する時間すなわちシャッタ装置Sが開けられてから
再び閉じられるまでの時間は例えば30秒程度である。ま
た、各加熱室R内における熱処理の1サイクル、すなわ
ち順次基板10を搬入するために搬送方向後方側のシャ
ッタ装置Sが開けられる間隔は、予熱ゾーンへの基板1
0の搬入間隔に等しい300 秒程度である。
[0052] At this time, when the substrate 10 is carried into the heating chamber R 1, the shutter device S 1 which has been opened is closed, the motor 66a of the second feeding section 26a of the drive segment 64a is inverted driven , ranges substrate 10 is shown in FIG. 2 by a broken line in the heating chamber R 1 along the transport direction (S B to S
The heat is soaked while being reciprocated in C ). During this reciprocation, the substrate 1 is moved based on the rotation of the roller 30s.
0 is detected to reach the stop position S B in the transport direction, the motor 66 is switched to the reverse drive, and when it is detected that the rear end in the transport direction has reached the stop position S C , Is switched to the forward drive. In this way, when a predetermined holding time of, for example, about 180 seconds elapses, the reciprocating movement of the substrate 10 is terminated, the shutter device S 2 is opened, and the heating chamber R 2 where the substrate 10 continues
Conveyed inside. T 5 time points 10 and 11 shows this state. While the substrate 10 falls completely within the heating chamber R 2 shutter device S 2 is closed, the similarly soaking and heating chamber R 1 in the heating chamber R 2 is performed, heated it became Check after cooling air is supplied from the supply pipe 112 as required in the chamber R 1, the same way soaked substrate 10 is transported followed by is performed. The time required for loading and unloading the substrate 10, that is, the time from when the shutter device S is opened to when it is closed again is, for example, about 30 seconds. Further, one cycle of the heat treatment in each heating chamber R, that is, the interval at which the shutter device S on the rear side in the transport direction is opened in order to carry in the substrate 10 sequentially, is determined by setting the substrate 1 to the preheating zone.
It is about 300 seconds which is equal to the carry-in interval of 0.

【0053】なお、加熱ゾーン18内においてもローラ
30s、センサ・スリーブ78、センサ82、および制
御装置84から構成される基板10の位置判定装置は、
予熱ゾーン16と同様に搬送時間間隔を維持するために
機能させられるが、徐冷ゾーン20内においては、上記
のように各加熱室R内において、基板10が均熱性の可
及的に高い往復移動範囲に位置し、且つその範囲内で往
復移動させられることが望まれるため、位置判定装置
は、専ら基板10を前記停止位置SB 、SC でそれぞれ
停止させるために機能させられる。更に、徐冷ゾーン2
0においては、上記のようにシャッタ装置Sによって加
熱室Rが相互に遮蔽されることから、確実に停止位置S
B で停止させられないとシャッタ装置Sと基板10との
干渉が生じることにもなるため、基板位置判定(或いは
位置検出)の必要性が一層高いのである。因みに、図2
の下部に搬送方向における温度分布を加熱室R1 につい
て例示するように、搬送方向の前後においては隣接する
加熱室R等の設定温度の影響を受けて所望の温度が得ら
れないため、加熱室R内での均熱処理中において基板1
0全体を所望の温度に保持するためには、グラフの水平
部分に対応する位置に基板10を位置させることが必要
となる。停止位置SB 、SC は、このような範囲内に設
定されている。
In the heating zone 18, the position judging device for the substrate 10, which is composed of the roller 30s, the sensor sleeve 78, the sensor 82, and the control device 84,
Like the preheating zone 16, the substrate 10 is made to function to maintain the transfer time interval. Since it is desired to be located in the movement range and to be reciprocated within the range, the position determination device is made to function exclusively to stop the substrate 10 at the stop positions S B and S C , respectively. Furthermore, slow cooling zone 2
At 0, since the heating chambers R are mutually shielded by the shutter device S as described above, the stop position S
If not stopped at B , interference between the shutter device S and the substrate 10 may occur, so that the necessity of substrate position determination (or position detection) is further increased. By the way, FIG.
As shown in the lower part of FIG. 1 , the desired temperature cannot be obtained due to the influence of the set temperature of the adjacent heating chamber R before and after in the transport direction. Substrate 1 during soaking in R
In order to maintain the entire temperature at a desired temperature, it is necessary to position the substrate 10 at a position corresponding to the horizontal portion of the graph. The stop positions S B and S C are set within such a range.

【0054】また、因に、図11に示される昇温カーブ
の例えば500(℃) 程度以上の最高焼成温度MTに続く所
定の冷却期間における冷却条件は、膜形成素材を含む基
板10の熱処理の上で重要な要素である。たとえば、V
FD、PDP、PALCやFEDに用いられる基板10
がソーダ・ライム・ガラスに代表される低歪点のガラス
製である場合には、基板10内の温度が不均一となって
各部の冷却速度が相互に相違すると、これに起因してそ
の寸法の局所的変化を発生させることから、多層厚膜印
刷の位置合わせを困難としたり、あるいはフロント・プ
レートとリヤ・プレートとの厚膜印刷面を組合わせるこ
とにより多数のセルを形成するPDPやFEDに用いる
ときに両者のずれによってセルを構成できない部分を生
じるので、たとえば40インチというような大型となるほ
ど製造歩留まりを加速度的に低下させる。図12は、搬
送方向前端側の冷却速度が搬送方向後端側の冷却速度よ
りも高い従来の焼成法における基板10の寸法(実線)
を焼成前の寸法(一点鎖線)に比較して示している。ま
た、基板10上に多数個の厚膜印刷抵抗体や厚膜ボンデ
ィング・パッドなどが設けられる場合には、基板10内
の温度が不均一となって各部の冷却速度が相互に相違す
ることに起因して、機能を有する厚膜層に結合材として
含まれるガラス成分の溶融、軟化の程度によって、ま
た、厚膜に含まれる金属、無機材料粒子の溶融、焼結の
程度によって抵抗値やボンディング適性が左右されるこ
とから、印刷抵抗体の抵抗値やボンディング適性のばら
つきによって基板10が大型となるほど製造歩留まりを
加速度的に低下させる。更に、厚膜印刷による誘電体層
の積層によって基板10に所定高さのリブ壁を形成する
場合でも、基板10内の温度が不均一となって各部の冷
却速度が相互に相違することに起因して厚膜に含まれる
ガラス成分の溶融、軟化の程度によって焼成収縮率すな
わち厚膜の膜厚や幅寸法が左右されることから、基板1
0が大型となるほど製造歩留まりを加速度的に低下させ
る。
In addition, the cooling condition in a predetermined cooling period following the maximum firing temperature MT of, for example, about 500 (° C.) or more in the temperature rise curve shown in FIG. Is an important factor above. For example, V
Substrate 10 used for FD, PDP, PALC and FED
Is made of glass having a low strain point represented by soda-lime glass, when the temperature in the substrate 10 becomes uneven and the cooling rates of the respective parts are different from each other, the size of PDPs and FEDs that make it difficult to align multi-layer thick film printing due to local changes in the thickness, or form a large number of cells by combining the thick film printing surfaces of the front plate and the rear plate In the case of using the semiconductor device, there is a portion where a cell cannot be formed due to a difference between the two, so that the larger the size is, for example, 40 inches, the lower the manufacturing yield is. FIG. 12 shows the dimensions (solid line) of the substrate 10 in the conventional firing method in which the cooling rate on the front end side in the transport direction is higher than the cooling rate on the rear end side in the transport direction.
Is shown in comparison with the dimension before firing (dashed line). Also, when a large number of thick-film printed resistors and thick-film bonding pads are provided on the substrate 10, the temperature inside the substrate 10 becomes non-uniform and the cooling rates of the respective parts are different from each other. Due to the degree of melting and softening of the glass component contained as a binder in the thick film layer having a function, and the degree of melting and sintering of the metal and inorganic material particles contained in the thick film, the resistance value and the bonding are determined. Since the suitability is affected, the manufacturing yield is acceleratedly reduced as the size of the substrate 10 increases due to variations in the resistance value of the printed resistor and the bonding suitability. Furthermore, even when a rib wall having a predetermined height is formed on the substrate 10 by laminating the dielectric layers by the thick film printing, the temperature inside the substrate 10 becomes uneven and the cooling rates of the respective parts are different from each other. Since the firing shrinkage, that is, the thickness and width of the thick film, depend on the degree of melting and softening of the glass component contained in the thick film, the substrate 1
The larger 0 is, the lower the manufacturing yield is accelerated.

【0055】図10に戻って、加熱室R1 、R2 、〜R
6 内で順次保持されることにより徐冷ゾーンでの熱処理
が終了すると、シャッタ装置S7 が開けられると共に、
モータ66fとモータ76とが駆動されることにより、
駆動区分64fおよび70aが同期して駆動され、基板
10が加熱室R6 から冷却ゾーン22に搬出される。図
10および図11のt10時点はこの状態を示している。
その後、第三搬送装置28のモータ76が停止させられ
て基板10が冷却ゾーン22内を第一の搬送速度で搬送
されてその右端部から搬出され、その過程で図11に示
されるように昇温速度と略同様な降温速度で急速に冷却
される。図10のt11時点はこの状態を示している。こ
の冷却過程に要する時間は、例えば700 秒程度であり、
基板10が予熱ゾーン16に搬入されてから冷却が終了
するまでの時間(t0 〜t11)は、例えば3500秒程度
(1時間程度)である。なお、前述のように、基板10
は例えば300 秒程度の所定の時間間隔で予熱ゾーン16
に順次搬入されていることから、図10から明らかなよ
うに、搬入時と等しい300 秒程度の所定時間間隔で順次
冷却ゾーン22から搬出されていくこととなる。この冷
却ゾーン22においても、ローラ30sの回転を検出す
ることによって前記予熱ゾーン16等と同様に基板10
が検出位置SA に到達したことが判定され、基板間隔が
所期の値に保持されるように、第三搬送装置28が制御
される。
Returning to FIG. 10, the heating chambers R 1 , R 2 ,.
When the heat treatment in the slow cooling zone is terminated by inside 6 are sequentially held, the shutter device S 7 is opened,
When the motor 66f and the motor 76 are driven,
Drive segment 64f and 70a are synchronously driven, the substrate 10 is unloaded from the heating chamber R 6 in the cooling zone 22. T 10 time points 10 and 11 shows this state.
Thereafter, the motor 76 of the third transfer device 28 is stopped, and the substrate 10 is transferred in the cooling zone 22 at the first transfer speed and is unloaded from the right end thereof. It is cooled rapidly at a rate of temperature decrease substantially similar to the temperature rate. T 11 the time of FIG. 10 shows this state. The time required for this cooling process is, for example, about 700 seconds.
The time (t 0 to t 11 ) from when the substrate 10 is carried into the preheating zone 16 to when the cooling is completed is, for example, about 3500 seconds (about 1 hour). As described above, the substrate 10
At a predetermined time interval of, for example, about 300 seconds.
As is apparent from FIG. 10, they are sequentially carried out of the cooling zone 22 at a predetermined time interval of about 300 seconds, which is the same as the time of carrying in. In the cooling zone 22, the rotation of the roller 30s is detected to detect the rotation of the roller 30s.
Is determined to have reached the detection position S A , and the third transfer device 28 is controlled such that the substrate interval is maintained at an expected value.

【0056】上述のように、本実施例によれば、RHK
12には、複数本のローラ30間の所定位置において一
端が炉体14外に位置した状態で軸心回りの回動可能に
支持され、搬送される基板10との間の摩擦力に従って
従動回転させられる検出用ローラ30sと、炉体14外
においてその検出用ローラ30sの一端の回転を検出す
るセンサ・スリーブ78およびセンサ82と、そのセン
サ82によって検出されたローラ30sの回転に基づい
て基板10が検出位置SA 等に到達したことを判定する
制御装置84とが備えられる。そのため、基板10を搬
送するための複数本のローラ30間に備えられた検出用
ローラ30sは、搬送される基板10と接触させられる
と、それらの間の摩擦力に従って従動回転させられるこ
とから、炉体14外に設けられたセンサ82によってそ
の炉体14外に位置させられた検出用ローラ30sの一
端の回転が検出され、その検出信号に基づいて制御装置
84によって基板10がその検出用ローラ30sに接触
する位置まで到達したことが判定される。このとき、セ
ンサ・スリーブ78およびセンサ82は炉体14外に設
けられてその炉体14外に位置する検出用ローラ30s
の一端の回転を検出するものであるため、炉体14内の
熱等に起因して測定精度が低下させられることや、故障
時に補修が困難になることがない。また、検出用ローラ
30sは、一端が炉体14外に位置するように複数本の
ローラ30の間に設けられるため、その破損時には、そ
の一端側等から抜き取ることで炉体14外から容易に交
換可能である。したがって、安定性が高く且つ補修や調
節が容易な基板10の位置判定装置を備えたRHK10
が得られる。
As described above, according to the present embodiment, RHK
12 is rotatably supported around the axis with one end positioned outside the furnace body 14 at a predetermined position between the plurality of rollers 30, and is driven and rotated according to the frictional force with the substrate 10 being conveyed. The detection roller 30 s, a sensor sleeve 78 and a sensor 82 for detecting the rotation of one end of the detection roller 30 s outside the furnace body 14, and the substrate 10 based on the rotation of the roller 30 s detected by the sensor 82. And a control device 84 for determining that has reached the detection position S A or the like. Therefore, when the detection roller 30s provided between the plurality of rollers 30 for transporting the substrate 10 is brought into contact with the substrate 10 to be transported, the detection roller 30s is driven and rotated according to the frictional force therebetween, The rotation of one end of the detection roller 30 s positioned outside the furnace body 14 is detected by a sensor 82 provided outside the furnace body 14, and based on the detection signal, the control device 84 causes the substrate 10 to rotate the detection roller 30 s. It is determined that it has reached the position where it contacts 30s. At this time, the sensor sleeve 78 and the sensor 82 are provided outside the furnace body 14 and the detection roller 30s located outside the furnace body 14
Since rotation of one end of the furnace body 14 is detected, measurement accuracy is not reduced due to heat or the like in the furnace body 14 and repair is not difficult when trouble occurs. In addition, since the detection roller 30s is provided between the plurality of rollers 30 so that one end is located outside the furnace body 14, when the roller is damaged, the detection roller 30s is easily removed from the outside of the furnace body 14 by extracting from one end side or the like. Exchangeable. Therefore, the RHK 10 provided with the position determining device for the substrate 10 which has high stability and is easy to repair and adjust.
Is obtained.

【0057】しかも、センサ・スリーブ78およびセン
サ82が共に炉体14外において近接した位置に設けら
れていることから、配設位置が低温であると共に炉内で
発生するガスや赤熱光線の影響がなく、しかも、光学式
センサ82の感知距離が十分に短くなっているため、セ
ンサ82の故障および誤動作や反射光の検出ミスが少な
くなって基板位置を安定して検出することができる。
Further, since both the sensor sleeve 78 and the sensor 82 are provided at positions close to each other outside the furnace body 14, the arrangement position is low and the influence of gas and red light generated in the furnace is low. In addition, since the sensing distance of the optical sensor 82 is sufficiently short, the failure and malfunction of the sensor 82 and the detection error of reflected light are reduced, and the substrate position can be stably detected.

【0058】また、本実施例においては、検出用ローラ
30sは、検出位置SA 等における基板10の搬送方向
の前端よりも後方側に備えられる。そのため、検出位置
A等に基板10が到達したときには、その基板10の
重量が検出用ローラ30sに十分に作用するため、その
検出用ローラ30sが確実に回転させられて検出漏れが
生じることが抑制される。
[0058] In the present embodiment, the detection roller 30s is provided in the rear side from the front end in the conveying direction of the substrate 10 at the detection position S A or the like. Therefore, when the substrate 10 arrives at the detection position S A or the like, the weight of the substrate 10 sufficiently acts on the detection roller 30s, so that the detection roller 30s is surely rotated, which may cause detection leakage. Be suppressed.

【0059】また、本実施例においては、RHK12に
は、複数の基板10の各々に順次均熱処理を施すために
一方向に並んで熱的に分割して設けられてそれぞれ均熱
制御される複数の加熱室R1 、R2 、〜R6 と、基板1
0をそれら複数の加熱室R毎に設けられた複数の停止位
置SB に順次搬送する第二搬送装置26とが備えられ、
前記検出用ローラ30sは、それら複数の停止位置SB
の各々(厳密にはそのやや後方)に設けられる。そのた
め、複数の基板10は、熱処理の過程において一方向に
順次搬送される過程で複数の加熱室Rの各々において順
次均熱されるが、このとき、複数の加熱室Rの各々にお
いて、各々の停止位置SB に設けられた検出用ローラ3
0sがその基板10との間の摩擦力の作用によって回転
させられる。したがって、センサ・スリーブ78および
センサ82から構成される回転検出装置によって検出さ
れるその回転に基づき、基板10がその停止位置SB
到達したことが制御装置84で判定されるため、基板1
0をそれら各々設定された停止位置SB に停止させるこ
とができる。これにより、基板10内の温度ばらつきを
可及的に小さくするために複数の加熱室R毎に均熱され
つつその基板10が熱処理される場合において、可及的
に高い均熱状態が得られるように設定される停止位置S
B に基板10を停止させることができるため、基板10
内の温度ばらつきが一層抑制される。
Further, in this embodiment, the RHK 12 is provided with a plurality of substrates 10 which are thermally divided so as to be sequentially arranged in one direction in order to perform a soaking process sequentially on each of the plurality of substrates 10, and each of which is soaked. Heating chambers R 1 , R 2 , to R 6 and substrate 1
0 and the second transport device 26 for sequentially conveying a plurality of stop positions S B provided for each plurality of heating chambers R is provided,
The detection roller 30s is provided with the plurality of stop positions S B
(Strictly, slightly behind). Therefore, the plurality of substrates 10 are uniformly heated in each of the plurality of heating chambers R in the process of being sequentially transported in one direction during the heat treatment process. detection roller 3 provided in a position S B
Os is rotated by the action of frictional force with the substrate 10. Accordingly, since the basis of the rotation detected by the configured rotation detector from the sensor sleeve 78 and sensor 82, the substrate 10 has reached its stop position S B is determined by the control device 84, the substrate 1
0 can be stopped at the stop position S B which are their respective set. Thereby, in the case where the substrate 10 is heat-treated while being uniformly heated for each of the plurality of heating chambers R in order to minimize the temperature variation in the substrate 10, as high a uniform temperature state as possible can be obtained. Stop position S set as follows
Since the substrate 10 can be stopped at B ,
The temperature variation in the inside is further suppressed.

【0060】また、本実施例においては、基板10は、
各加熱室R内における均熱中において搬送方向に沿って
往復移動させられ、各加熱室R内において搬送方向後方
側にも往復移動の停止位置SC が設けられる。そのた
め、基板10内の温度ばらつきを一層抑制するために各
加熱室Rにおける均熱中に基板10が予め設定された往
復移動範囲(SB 〜SC 間)で確実に往復移動させられ
る。
In this embodiment, the substrate 10 is
Allowed to reciprocate along the conveying direction in the equalizing heat stroke in each heating chamber R, the stop position S C reciprocation is also provided in the transport direction rear side in the heating chamber R. Therefore, it is reliably moved back and forth in a reciprocating movement range of the substrate 10 is set in advance to heat stroke average in each heating chamber R (between S B to S C) in order to further suppress the temperature fluctuation of the substrate 10.

【0061】次に、本発明の他の実施例を説明する。な
お、以下の実施例において前述の実施例と共通する部分
は同一の符号を付して説明を省略する。
Next, another embodiment of the present invention will be described. In the following embodiments, portions common to the above-described embodiments will be denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

【0062】図13は、一つの駆動区分64内に2本の
検出用ローラ30sが設けられた構成例を説明する図で
ある。図において、停止位置SB の近傍には、前述の実
施例と同様にセンサ・スリーブ78が同軸的に取り付け
られた検出用ローラ30sが備えられると共に、それよ
りも基板10の搬送方向Fの後方位置に、同様なセンサ
・スリーブ78bが取り付けられて基板10の移動に伴
って従動させられる検出用ローラ30sbが備えられて
いる。停止位置SB と検出用ローラ30sおよび30s
bとの間隔は、それぞれ△x1 、△x2 である。また、
例えば、上記のセンサ・スリーブ78の下方にはセンサ
82が備えられ、また、センサ・スリーブ78bの下方
にはセンサ82bが備えられており、何れも受光信号が
制御装置84に送られる。なお、センサ・スリーブ78
bおよびセンサ82bは、センサ・スリーブ78および
センサ82と同様に炉体14外の十分に低温な領域に備
えられている。これらセンサ82、82bの受光信号
は、それぞれ前記図9に示されるフロー・チャートに従
って独立して処理される。
FIG. 13 is a view for explaining an example of a configuration in which two detection rollers 30 s are provided in one drive section 64. In the figure, in the vicinity of the stop position S B, behind the conveying direction F of Example as well as with the sensor sleeve 78 is detecting roller 30s mounted coaxially provided, the substrate 10 than that of the aforementioned At the position, a similar detection sleeve 30b is provided, and a detection roller 30sb which is driven by the movement of the substrate 10 is provided. Detection and stop position S B rollers 30s and 30s
The intervals with b are Δx 1 and Δx 2 , respectively. Also,
For example, a sensor 82 is provided below the sensor sleeve 78, and a sensor 82b is provided below the sensor sleeve 78b. The sensor sleeve 78
The sensor b and the sensor 82b are provided in a sufficiently cold region outside the furnace body 14 similarly to the sensor sleeve 78 and the sensor 82. The light receiving signals of these sensors 82 and 82b are independently processed according to the flowchart shown in FIG.

【0063】すなわち、前記の図9において、ステップ
S1では、設定器138によって前記△xに代えて上記
の△x1 および△x2 がそれぞれ設定される。そして、
ステップS3において回転量△Rがそれぞれ算出される
と、ステップS4においては、それぞれ算出された回転
量△Rが、センサ82の受光信号においては距離△x 1
以上の値に、センサ82bの受光信号においては距離△
2 以上の値になったか否かがそれぞれ判断される。換
言すれば、検出用ローラ30s、30sbがその配設位
置に応じた量だけ回転させられたか否かが判断される。
各々においてこの判断が否定される間はステップS2に
戻るが、肯定されるとステップS5に進んで処理を終了
する。このとき、本実施例においては、2つのセンサ8
2、82bのそれぞれの受光信号の処理ルーチンの一方
から基板到達信号が出力されたことを以て基板10の前
端が停止位置SB に到達したと判定し、制御装置84が
その後の処理、例えばモータ66の回転制御等を行う。
That is, in FIG.
In S1, the setting unit 138 replaces the above-mentioned Δx with the above-mentioned value.
△ x1And △ xTwoAre set respectively. And
In step S3, the rotation amount ΔR is calculated respectively.
In step S4, the calculated rotation
The amount ΔR is the distance Δx in the light receiving signal of the sensor 82. 1
In the above value, the distance △
xTwoIt is determined whether or not the above values are obtained. Exchange
In other words, the detection rollers 30s and 30sb are arranged in their positions.
It is determined whether the rotation has been performed by an amount corresponding to the position.
In each case, while this determination is denied, the process proceeds to step S2.
Return, but if affirmative, proceed to step S5 to end the process
I do. At this time, in the present embodiment, two sensors 8
One of the processing routines for the light receiving signals of the light receiving signals 2 and 82b
In front of the substrate 10 because the substrate arrival signal is output from the
End is stop position SBIs reached, and the control device 84 determines
Subsequent processing, such as rotation control of the motor 66, is performed.

【0064】そのため、検出用ローラ30s、センサ・
スリーブ78およびセンサ82に加えて、その検出用ロ
ーラ30sから搬送方向Fの後方に停止位置SB から距
離△x2 だけ隔てた位置において同様に従動回転させら
れるように軸支された検出用ローラ30sbと、炉体1
4外においてその検出用ローラ30sbの一端に取り付
けられたセンサ・スリーブ78bの回転を検出するセン
サ82bとが備えられ、何れか一方の受光信号に基づい
てステップS4の判断が肯定されれば基板到達が判定さ
れることから、検出用ローラ30s、30sbの何れか
一方が破損し、或いはセンサ82、82bの何れか一方
が故障した場合等にも、基板10が停止位置SB に到達
したことの判定漏れが好適に回避される。
Therefore, the detection roller 30s, the sensor
In addition to the sleeve 78 and the sensor 82, the detection roller is pivotally supported so as to be allowed to Similarly rotated at a location spaced from the stop position S B by a distance △ x 2 in the rear of the conveying direction F from the detected roller 30s 30 sb and furnace body 1
And a sensor 82b for detecting the rotation of the sensor sleeve 78b attached to one end of the detecting roller 30sb outside the detecting roller 30sb. If the judgment in step S4 is affirmative based on one of the light receiving signals, the sensor reaches the substrate. since but is determined, the detection roller 30s, and one is damaged 30Sb, or sensors in such cases either where one fails the 82,82B, of the substrate 10 has reached the stop position S B Misjudgment is suitably avoided.

【0065】図14は、本発明の更に他の実施例を説明
する図である。図において、検出用ローラ30sを回転
させるための回転軸34sには、センサ・スリーブ78
が取り付けられている一端に、トルク・リミッタ142
を介してモータ144の出力軸が接続されている。モー
タ144の出力軸は、図に示されるように駆動用ローラ
として機能するローラ30の回転方向Aとは反対向きの
回転方向Rに、それよりも低速で回転させられる。すな
わち、検出用ローラ30sは、隣接して位置する同じ駆
動区分内の駆動用ローラ30とは異なる速度で回転させ
られる。そのため、基板10が検出用ローラ30sに接
触させられていない間は、その検出用ローラ30sがモ
ータ144の出力軸の回転方向Rに回転させられるが、
図に一点鎖線で示されるように基板10が検出用ローラ
30s上に到達してこれを図に一点鎖線で示されるB方
向に回転させると、トルク・リミッタ142に過大なト
ルクが作用することによってモータ144の出力軸の回
転が回転軸34sには伝達されなくなる。これにより、
検出用ローラ30sは、前述の図5に示される実施例の
ように常には回転させられない場合と同様に、基板10
との間の摩擦力の作用だけに従って駆動用のローラ30
と同様な回転速度で回転させられる。したがって、セン
サ82の受光信号のON-OFFの繰り返し周波数が高められ
る変化によって基板10によって検出用ローラ30sが
回転させられ始めたことが検出できるため、このように
回転開始を検出した後に前記図9に示されるようなフロ
ー・チャートに従って信号処理が進められることで同様
に基板位置を判定できることとなる。本実施例において
は、上記のトルク・リミッタ142およびモータ144
が検出用ローラ回転駆動装置に相当する。
FIG. 14 is a view for explaining still another embodiment of the present invention. In the figure, a sensor sleeve 78 is provided on a rotation shaft 34s for rotating the detection roller 30s.
The torque limiter 142
The output shaft of the motor 144 is connected via the. As shown in the drawing, the output shaft of the motor 144 is rotated at a lower speed in a rotation direction R opposite to the rotation direction A of the roller 30 functioning as a driving roller. That is, the detecting roller 30s is rotated at a different speed from the driving roller 30 in the same driving section located adjacent thereto. Therefore, while the substrate 10 is not in contact with the detection roller 30s, the detection roller 30s is rotated in the rotation direction R of the output shaft of the motor 144,
When the substrate 10 reaches the detection roller 30s as shown by the dashed line in the figure and rotates it in the direction B shown by the dashed line in the figure, an excessive torque acts on the torque limiter 142. The rotation of the output shaft of the motor 144 is not transmitted to the rotation shaft 34s. This allows
The detection roller 30s is used for the substrate 10 as in the case where the detection roller 30s is not always rotated as in the embodiment shown in FIG.
Roller 30 for driving only according to the action of the frictional force between
It is rotated at the same rotation speed as. Therefore, it is possible to detect that the detection roller 30s has started to be rotated by the substrate 10 due to a change in which the ON / OFF repetition frequency of the light receiving signal of the sensor 82 is increased. By performing the signal processing in accordance with the flow chart shown in FIG. 7, the substrate position can be similarly determined. In the present embodiment, the torque limiter 142 and the motor 144 are used.
Corresponds to a detection roller rotation driving device.

【0066】そのため、検出用ローラ30sが、基板1
0との間に摩擦力が作用させられない期間内において
も、それに隣接して位置するローラ30とは異なる周速
度で独立してモータ144によってその軸心回りに回転
させられることから、高温の炉体14内においてその周
方向において温度分布が生じ、延いては反りや破損が生
じることが好適に抑制される。このとき、検出用ローラ
30sの周速度は、複数本のローラ30のうち隣接して
位置するものとは異なる値に設定されていることから、
基板10との間に摩擦力が作用させられる際にはその周
速度が変化させられるため、検出用ローラ30sが基板
10との間の摩擦力の作用によって回転させられたこと
が容易に認識される。なお、回転方向Rを回転方向Bと
同方向且つそれよりも低速に設定する場合には、上記の
トルク・リミッタ142に代えてクラッチ或いはワンウ
ェイ・カップリング等を設けることで、基板10から回
転力が作用する間は実質的にモータ144を無効にして
基板位置判定を可能とすることができる。
For this reason, the detection roller 30 s is
Even during the period in which the frictional force is not applied between the roller 30 and the roller 30, the roller 144 is rotated around its axis independently by the motor 144 at a peripheral speed different from that of the roller 30 located adjacent to the roller 30. The temperature distribution is generated in the circumferential direction in the furnace body 14, and the occurrence of warpage and breakage is preferably suppressed. At this time, since the peripheral speed of the detection roller 30s is set to a value different from that of the plurality of rollers 30 that are adjacent to each other,
When a frictional force is applied to the substrate 10, the peripheral speed is changed, so that it is easily recognized that the detection roller 30s has been rotated by the effect of the frictional force with the substrate 10. You. When the rotation direction R is set to the same direction as the rotation direction B and at a lower speed, a clutch or a one-way coupling is provided in place of the torque limiter 142 so that the rotation force from the substrate 10 is reduced. During the operation of, the motor 144 can be substantially disabled and the substrate position can be determined.

【0067】図15は、検出用ローラ30sの破損を容
易に検出し得る支持方法の一例を説明する図である。図
15(a) は破損前の状態を、(b) は破損後の状態をそれ
ぞれ示している。図において、検出用ローラ30sは、
一対の回転軸34sa、34sbの先端部にそれぞれ備
えられているコーン部146a、146bによってその
軸心がそれら回転軸34sa、34sbのそれと一致し
た状態で支持されている。一方のコーン部146aは回
転軸34saの先端に固定的に或いは一体的に設けられ
ているが、他方のコーン部146bは、その軸心方向に
貫通する貫通穴148を備えて、回転軸34sbにその
先端側から嵌め込まれている。また、回転軸34sbの
中間部には、他の部分よりも大径の鍔部150が備えら
れており、その鍔部150とコーン部146bとの間に
圧縮バネ152が介挿されて、コーン部146bが鍔部
150から離隔する方向に付勢されている。そのため、
検出用ローラ30sは、一端側に位置するそのコーン部
146bが圧縮バネ152の付勢力に従って他端側に位
置するコーン部146aに向かわされることによって、
それらコーン部146a、146b間で両端から押圧さ
れている。
FIG. 15 is a view for explaining an example of a supporting method capable of easily detecting breakage of the detecting roller 30s. FIG. 15A shows the state before the breakage, and FIG. 15B shows the state after the breakage. In the figure, the detection roller 30s is
Cone portions 146a and 146b provided at the distal ends of the pair of rotating shafts 34sa and 34sb respectively support the shafts in a state where their axes coincide with those of the rotating shafts 34sa and 34sb. One cone portion 146a is fixedly or integrally provided at the tip of the rotation shaft 34sa, while the other cone portion 146b has a through hole 148 that penetrates in the axial direction, and is connected to the rotation shaft 34sb. It is fitted from the tip side. A flange 150 having a larger diameter than other portions is provided at an intermediate portion of the rotating shaft 34sb, and a compression spring 152 is inserted between the flange 150 and the cone portion 146b to form a cone. The portion 146b is urged in a direction away from the flange 150. for that reason,
The detection roller 30s is configured such that the cone portion 146b located at one end side is directed to the cone portion 146a located at the other end side according to the urging force of the compression spring 152.
It is pressed from both ends between the cone portions 146a and 146b.

【0068】上記の支持構成において、図15(b) に示
されるように検出用ローラ30sが破断すると、コーン
部146bからの押圧力が他端側のコーン部146aに
伝達されなくなるため、圧縮バネ152の付勢力に従っ
てコーン部146bが炉体14側に移動する。そのた
め、先端側よりも大径になっているコーン部146bの
基部によって、その側方に備えられているリミット・ス
イッチ154が作動させられることとなる。そのため、
そのリミット・スイッチ154の作動時にランプやアラ
ーム等で警報が発せられるように設定しておくことによ
り、検出用ローラ30sの破損によって基板位置検出が
不能となったことを容易に知ることができる。したがっ
て、基板検出不能な状態でRHK12を運転する危険を
容易に回避し得る。本実施例においては、圧縮バネ15
2が押圧装置に、コーン部146bおよびリミット・ス
イッチ154が破損検出装置にそれぞれ相当する。
In the above supporting structure, when the detecting roller 30s breaks as shown in FIG. 15B, the pressing force from the cone 146b is not transmitted to the cone 146a on the other end, so that the compression spring The cone portion 146b moves toward the furnace body 14 according to the biasing force of 152. Therefore, the limit switch 154 provided on the side of the cone 146b is operated by the base of the cone 146b having a larger diameter than the tip side. for that reason,
By setting so that an alarm is issued by a lamp, an alarm, or the like when the limit switch 154 is operated, it is possible to easily know that the substrate position cannot be detected due to the damage of the detection roller 30s. Therefore, the danger of operating the RHK 12 in a state where the substrate cannot be detected can be easily avoided. In this embodiment, the compression spring 15
2 corresponds to a pressing device, and the cone 146b and the limit switch 154 correspond to a breakage detecting device.

【0069】図16は、検出用ローラ30sの回転検出
機構の他の例を説明する図である。図において、検出用
ローラ30sの回転軸34sには、前述の実施例と同様
な羽根80を有するセンサ・スリーブ78が嵌め合わさ
れているが、そのセンサ・スリーブ78の近傍には、光
電スイッチから成るセンサ82に代えて、リミット・ス
イッチ156が備えられている。リミット・スイッチ1
56は、センサ・スリーブ78が軸心回りに回転させら
れると羽根80によってON-OFF動作させられ、その動作
信号が制御装置84に送られるようになっている。その
ため、センサ82が備えられる場合の受光信号と同様に
動作信号を図9に示されるフロー・チャート等に従って
処理することにより、検出用ローラ30sの回転に基づ
いて基板10の位置を判定することができる。このよう
に構成する場合にも、センサ・スリーブ78およびリミ
ット・スイッチ156が図5に示される場合と同様に炉
体14外に備えられることから、熱等に起因する誤動作
や故障が好適に抑制されると共に、それらを耐熱性を特
に考慮することなく加工性の高い金属部品で構成するこ
とができる。なお、上記の説明から明らかなように、こ
の実施例では羽根80は光を反射するものである必要は
ない一方、リミット・スイッチ156に断続的に接触さ
せられるものであるため、剛性が高く且つ磨耗し難い材
料で構成することが好ましい。
FIG. 16 is a view for explaining another example of the rotation detecting mechanism of the detecting roller 30s. In the figure, a sensor sleeve 78 having a blade 80 similar to that of the above-described embodiment is fitted on the rotation shaft 34s of the detection roller 30s, but a photoelectric switch is provided near the sensor sleeve 78. A limit switch 156 is provided instead of the sensor 82. Limit switch 1
When the sensor sleeve 78 is rotated around the axis, the blade 56 is turned on and off by the blade 80, and the operation signal is sent to the control device 84. Therefore, the position of the substrate 10 can be determined based on the rotation of the detection roller 30s by processing the operation signal in the same manner as the light reception signal when the sensor 82 is provided according to the flowchart shown in FIG. it can. Also in this configuration, since the sensor sleeve 78 and the limit switch 156 are provided outside the furnace body 14 as in the case shown in FIG. 5, malfunctions and failures due to heat or the like are preferably suppressed. At the same time, they can be composed of metal parts having high workability without particularly considering heat resistance. Note that, as is clear from the above description, in this embodiment, the blade 80 does not need to reflect light, but can be intermittently brought into contact with the limit switch 156. It is preferable to use a material that does not easily wear.

【0070】以上、本発明の一実施例を図面を参照して
詳細に説明したが、本発明は、更に別の態様でも実施さ
れる。
While the embodiment of the present invention has been described in detail with reference to the drawings, the present invention can be embodied in still another embodiment.

【0071】例えば、前述の実施例においては、検出用
ローラ30sの炉体14外に位置する一端の回転を検出
する目的で、羽根80を備えたセンサ・スリーブ78が
その一端(厳密にはその一端を支持する回転軸34s)
に取り付けられると共に、その羽根80によって断続的
に反射光がセンサ82に入射し、或いはリミット・スイ
ッチ156が断続的に動作させられるように構成されて
いたが、検出用ローラ30s或いはそれを支持する回転
軸34sの回転を炉体14外で検出し得る方法であれ
ば、他の種々の回転検出方法を用い得る。例えば、羽根
80の回転を超音波センサ、ロータリ・エンコーダや磁
気センサ等で非接触に、或いはカム等で接触して検出し
てもよく、回転軸34sやローラ30sの端部に穴や突
起を設けてこれらを光学的手段や機械的手段等で検出す
ることで、その検出信号に基づいて基板位置を判定して
もよい。
For example, in the above-described embodiment, the sensor sleeve 78 provided with the blade 80 is provided at one end (strictly speaking, at the other end) for the purpose of detecting the rotation of one end of the detection roller 30s located outside the furnace body 14. Rotating shaft 34s supporting one end)
And the blade 80 intermittently causes reflected light to enter the sensor 82, or the limit switch 156 is operated intermittently. However, the detection roller 30s or the supporting roller 30s is supported. Various other rotation detection methods may be used as long as the rotation of the rotation shaft 34s can be detected outside the furnace body 14. For example, the rotation of the blade 80 may be detected in a non-contact manner by an ultrasonic sensor, a rotary encoder, a magnetic sensor, or the like, or may be detected by contact with a cam or the like. The position of the substrate may be determined based on the detection signal by detecting these by optical means or mechanical means.

【0072】また、実施例においては、検出用ローラ3
0sが基板検出位置SA や停止位置SB の近傍に設けら
れていたが、基板10がそれらの位置に到達したときに
確実にその基板10によって回転させられる位置であれ
ば、検出用ローラ30sの位置は適宜変更され、例え
ば、検出位置SA に位置する基板10の後端部近傍に設
けられていてもよい。
In the embodiment, the detection roller 3
0s While there has been provided in the vicinity of the substrate detection position S A and the stop position S B, as long as the position which is rotated reliably by the substrate 10 when the substrate 10 has reached their position, detecting roller 30s May be appropriately changed, and may be provided, for example, near the rear end of the substrate 10 located at the detection position S A.

【0073】また、実施例においては、検出用ローラ3
0sは、搬送用として実際に機能するローラ(搬送用ロ
ーラ或いは駆動ローラ)30との間隔がそれらの相互間
隔と同様な大きさとなるように設けられていたが、等間
隔で配置された搬送用ローラ30の間に追加される形で
設けられてもよい。
In the embodiment, the detection roller 3
0s is provided so that the interval between the rollers (transport rollers or drive rollers) 30 actually functioning as the transport has the same size as the mutual interval between them, but the transport It may be provided in a form added between the rollers 30.

【0074】また、実施例においては、検出用ローラ3
0sの直径が搬送用ローラ30と同様にされていたが、
その直径は適宜変更できる。例えば、直径をそれらより
も大きくすれば、基板10と接触させられたときに容易
に回転させられて反応性が高められ、反対に小さくすれ
ば、基板10と接触させられている間の回転数が高めら
れることから検出用ローラ30sと検出位置SA 等との
距離△xが小さい場合にも位置検出精度が高められると
いう利点がある。何れの場合にも、搬送用ローラ30に
よる基板10の搬送を妨げず、且つその基板10によっ
て確実に回転させられるように、搬送用ローラ30によ
り構成される基板搬送面と同位置或いはそれよりも僅か
に上側に検出用ローラ30sの外周面の一点が位置する
ように高さ位置を設定することが好ましい。
In the embodiment, the detection roller 3
Although the diameter of 0 s was the same as that of the transport roller 30,
Its diameter can be changed as appropriate. For example, if the diameter is larger than them, they are easily rotated when contacted with the substrate 10 to increase the reactivity, and conversely, if the diameter is smaller, the number of rotations during contact with the substrate 10 is increased. Therefore, there is an advantage that the position detection accuracy can be improved even when the distance Δx between the detection roller 30s and the detection position S A or the like is small. In either case, the transfer of the substrate 10 by the transfer roller 30 is not hindered, and the substrate 10 is rotated by the substrate 10 so as to be surely rotated. It is preferable to set the height position such that one point on the outer peripheral surface of the detection roller 30s is located slightly above.

【0075】また、基板10を往復移動させる加熱室R
内においては、停止位置SC の近傍にも検出用ローラ3
0sを設けて、往復移動の後退時の後端位置をその検出
用ローラ30sの回転で検出してもよい。
The heating chamber R for reciprocating the substrate 10
In inner, detection roller 3 in the vicinity of the stop position S C
0s may be provided to detect the rear end position of the reciprocating movement at the time of retreat by rotation of the detection roller 30s.

【0076】また、実施例においては、複数の加熱室R
が相互に回動シャッタ106を備えたシャッタ装置Sに
よって遮蔽されるように構成されていたが、各加熱室R
における均熱範囲が基板10の大きさに対して十分に大
きく設定できる場合には、シャッタ装置Sは必ずしも備
えられなくともよい。この場合には、基板位置を判定し
なくともシャッタ装置Sと基板10との干渉は生じない
が、可及的に均熱性の高い範囲に基板10を送り込むた
めには基板位置を判定することが望まれるため、実施例
と同様に基板10の位置判定装置を設ける効果は十分に
得られる。
In the embodiment, a plurality of heating chambers R
Are configured to be shielded from each other by a shutter device S provided with a rotary shutter 106.
If the heat equalizing range in can be set to be sufficiently large with respect to the size of the substrate 10, the shutter device S may not necessarily be provided. In this case, interference between the shutter device S and the substrate 10 does not occur even if the substrate position is not determined. Since it is desired, the effect of providing the position determination device for the substrate 10 as in the embodiment can be sufficiently obtained.

【0077】また、実施例においては、本発明が基板焼
成用のRHK12に適用された場合について説明した
が、本発明は、被加熱物の位置検出が必要なRHKであ
れば、基板10の熱処理用に限られず種々の材料や部品
等から成る被加熱物の熱処理用のRHKに同様に適用さ
れる。
In the embodiment, the case where the present invention is applied to the RHK 12 for sintering the substrate has been described. The present invention is similarly applied to RHK for heat treatment of an object to be heated made of various materials and parts without being limited thereto.

【0078】また、実施例においては、検出用ローラ3
0sが例えば1回転したとき、すなわち所定量だけ回転
させられたとき、或いは予め回転させられている場合に
はその回転速度が変化させられてから所定量だけ回転さ
せられたときに基板10が定位置に到達したことを判断
していたが、定位置到達を判断する回転量は検出位置と
ローラ30sの配設位置との関係で適宜定められる。例
えば、検出位置SA 、停止位置SB およびSC 等が検出
用ローラ30s上に設定される場合には、その回転開始
或いは回転速度変化が生じたことを以てその位置に到達
したことが判定され、検出用ローラ30sが検出位置S
A 等から基板10等の被加熱物の搬送方向長さだけ後方
の位置に設けられる場合には、その回転終了或いは回転
速度が元の値に戻ったことを以て位置到達が判定され
る。
In the embodiment, the detection roller 3
For example, when the substrate 10 is rotated by a predetermined amount, that is, when the substrate 10 is rotated by a predetermined amount, that is, when the substrate 10 is rotated by a predetermined amount, or when the substrate is previously rotated, the rotation speed is changed and then the substrate 10 is rotated by a predetermined amount. Although it has been determined that the position has been reached, the amount of rotation for determining the arrival at the fixed position is appropriately determined by the relationship between the detected position and the position where the roller 30s is disposed. For example, when the detection position S A , the stop positions S B and S C, and the like are set on the detection roller 30 s, it is determined that the position has been reached due to the start of rotation or a change in rotation speed. , The detection roller 30s is at the detection position S
In the case where it is provided at a position behind the object A or the like by a length in the transport direction of the object to be heated such as the substrate 10 or the like, it is determined that the rotation has been completed or the rotation speed has returned to the original value, thereby reaching the position.

【0079】また、実施例においては、ローラ30はア
ルミナ・セラミックスで構成されていたが、その材質は
必要な耐熱性や機械的強度等に応じて適宜定められ、例
えばムライト・セラミックス等も好適に用いられる。
In the embodiment, the roller 30 is made of alumina ceramics. However, the material is appropriately determined according to the required heat resistance and mechanical strength. For example, mullite ceramics is also suitable. Used.

【0080】その他一々例示はしないが、本発明は当業
者の知識に基づいて種々の変更、改良を加えた態様で実
施することができる。
Although not specifically exemplified, the present invention can be embodied with various modifications and improvements based on the knowledge of those skilled in the art.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例の基板焼成用のRHKの全体
構成を説明する図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating an overall configuration of an RHK for firing a substrate according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1のRHKの炉体の長手方向に沿った断面を
一部省略して示す図である。
FIG. 2 is a view partially showing a cross section along a longitudinal direction of a furnace body of the RHK shown in FIG. 1;

【図3】(a) 〜(e) は、図2におけるa−a乃至e−e
視断面にそれぞれ相当する図である。
FIGS. 3A to 3E are aa to ee in FIG.
It is a figure each corresponding to a viewing cross section.

【図4】図1のRHKの駆動機構を説明する図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a driving mechanism of the RHK of FIG. 1;

【図5】図1のRHKの基板位置検出機構を説明する図
である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a substrate position detection mechanism of the RHK of FIG. 1;

【図6】(a) 、(b) は、図1のRHKの複数のヒータ配
置を説明する図である。
FIGS. 6A and 6B are diagrams for explaining the arrangement of a plurality of heaters of the RHK of FIG. 1;

【図7】(a) 、(b) は図1のRHKの給気管および排気
管をそれぞれ示す図である。
FIGS. 7 (a) and 7 (b) are diagrams showing an air supply pipe and an exhaust pipe of the RHK of FIG. 1, respectively.

【図8】図1のRHKの制御構成を説明するブロック線
図である。
FIG. 8 is a block diagram illustrating a control configuration of the RHK of FIG. 1;

【図9】図9の制御構成における基板位置検出方法を説
明するフロー・チャートである。
FIG. 9 is a flowchart illustrating a method of detecting a substrate position in the control configuration of FIG. 9;

【図10】図1のRHKの基板の搬送位置を示すタイミ
ング・チャートである。
FIG. 10 is a timing chart showing a transfer position of the RHK substrate of FIG. 1;

【図11】図1のRHKの各ゾーンの設定温度すなわち
基板の焼成温度曲線を示す図である。
11 is a diagram showing a set temperature of each zone of RHK of FIG. 1, that is, a firing temperature curve of a substrate.

【図12】従来のRHKにおける基板の局所的な寸法変
形を説明する図である。
FIG. 12 is a diagram illustrating local dimensional deformation of a substrate in a conventional RHK.

【図13】本発明の他の実施例の基板位置検出機構を説
明する図である。
FIG. 13 is a diagram illustrating a substrate position detecting mechanism according to another embodiment of the present invention.

【図14】本発明の他の実施例の基板位置検出機構を説
明する図である。
FIG. 14 is a diagram illustrating a substrate position detecting mechanism according to another embodiment of the present invention.

【図15】(a) は、本発明の検出用ローラの支持機構の
一例を説明する図であり、(b) は、(a) の支持機構にお
いて検出用ローラが破断した状態を示す図である。
15A is a diagram illustrating an example of a detection roller support mechanism of the present invention, and FIG. 15B is a diagram illustrating a state in which the detection roller is broken in the support mechanism of FIG. is there.

【図16】検出用ローラの回転検出機構の他の例を説明
する図である。
FIG. 16 is a diagram illustrating another example of the rotation detection mechanism of the detection roller.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10:基板(被加熱物) 12:RHK R1 、R2 、〜R6 :複数の加熱室(加熱区分) SA 、SB 、SC :検出位置(停止位置) 30:ローラ(駆動用ローラ) 30s:検出用ローラ 84:制御装置(位置判定装置) {78:センサ・スリーブ、82:センサ}(回転検出
装置)
10: substrate (object to be heated) 12: RHK R1, R2, ~R6: a plurality of heating chambers (heating segment) S A, S B, S C: detection position (stop position) 30: roller (driving roller) 30s : Detection roller 84: control device (position determination device) {78: sensor sleeve, 82: sensor} (rotation detection device)

フロントページの続き (72)発明者 稲葉 善幸 福岡県朝倉郡夜須町大字三並字八ツ並2160 番地九州ノリタケ株式会社内 Fターム(参考) 3F027 AA03 CA02 DA01 DA02 DA08 DA14 EA01 FA03 FA12 4K034 AA01 BA05 CA05 DA02 DB02 DB03 DB04 EA12 4K050 AA02 AA04 AA09 BA05 BA16 CA13 CC07 CC10 CD05 CD13 CF06 CF16 CG04 EA02 Continued on the front page (72) Inventor Yoshiyuki Inaba Fukuoka Prefecture Asakura-gun, Yasu-cho, Yatsu-cho, Sanzen-cho, Yatsunami 2160 No. Kyushu Noritake Co., Ltd. F term (reference) 3F027 AA03 CA02 DA01 DA02 DA08 DA14 EA01 FA03 FA12 4K034 AA01 BA05 CA05 DA02 DB02 DB03 DB04 EA12 4K050 AA02 AA04 AA09 BA05 BA16 CA13 CC07 CC10 CD05 CD13 CF06 CF16 CG04 EA02

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 互いに平行に配置されてそれぞれ軸心回
りに回転駆動される複数本のローラによって被加熱物を
支持して炉室内を一方向に搬送し、その搬送過程で該被
加熱物に熱処理を施す形式のローラ・ハース・キルンで
あって、 前記複数本のローラ間の所定位置において一端が前記炉
室外に位置した状態で軸心回りの回転可能に支持され、
搬送される前記被加熱物との間の摩擦力に従って従動回
転させられる検出用ローラと、 前記炉室外において前記検出用ローラの一端の回転を検
出する回転検出装置と、 該回転検出装置によって検出された前記検出用ローラの
回転に基づいて前記被加熱物が予め定められた所定位置
に到達したことを判定する位置判定手段とを、含むこと
を特徴とするローラ・ハース・キルン。
An object to be heated is supported by a plurality of rollers arranged in parallel with each other and each of which is driven to rotate around an axis, and is conveyed in one direction in a furnace chamber. A roller hearth kiln of a type that performs heat treatment, and is rotatably supported around an axis in a state where one end is located outside the furnace chamber at a predetermined position between the plurality of rollers,
A detection roller that is driven and rotated according to a frictional force between the conveyed object to be heated, a rotation detection device that detects rotation of one end of the detection roller outside the furnace chamber, and a rotation detection device that detects the rotation. And a position determining means for determining that the object to be heated has reached a predetermined position based on the rotation of the detection roller.
【請求項2】 前記検出用ローラを、前記複数本のロー
ラのうちそれに隣接して位置するものとは異なる周速度
で独立してその軸心回りに回転させる検出用ローラ回転
駆動装置を含むものである請求項1のローラ・ハース・
キルン。
2. The apparatus according to claim 1, further comprising a detection roller rotation driving device for independently rotating the detection roller around its axis at a peripheral speed different from that of the plurality of rollers adjacent thereto. The roller hearth of claim 1
Kiln.
JP10228789A 1998-08-13 1998-08-13 Roller hearth kiln Pending JP2000053232A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10228789A JP2000053232A (en) 1998-08-13 1998-08-13 Roller hearth kiln

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10228789A JP2000053232A (en) 1998-08-13 1998-08-13 Roller hearth kiln

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000053232A true JP2000053232A (en) 2000-02-22

Family

ID=16881886

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10228789A Pending JP2000053232A (en) 1998-08-13 1998-08-13 Roller hearth kiln

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000053232A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014120622A (en) * 2012-12-17 2014-06-30 Samsung Techwin Co Ltd Tape feeder
CN109708467A (en) * 2019-01-16 2019-05-03 广东邦普循环科技有限公司 A kind of full-automatic overlength roller kilns of positive electrode sintering
CN111928646A (en) * 2020-08-21 2020-11-13 黄冈市劲马窑炉机械有限公司 Automatic correcting device for combined module
CN112284128A (en) * 2019-07-23 2021-01-29 潮州市东升窑炉设备有限公司 Single-layer sintering multi-layer cooling roller kiln
CN115287439A (en) * 2022-07-16 2022-11-04 熊凤兰 Bearing heat treatment movable furnace body heating device
CN112284128B (en) * 2019-07-23 2024-04-30 潮州市东升窑炉设备有限公司 Single-layer sintering multi-layer cooling roller kiln

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014120622A (en) * 2012-12-17 2014-06-30 Samsung Techwin Co Ltd Tape feeder
KR101758682B1 (en) 2012-12-17 2017-07-14 한화테크윈 주식회사 Tape feeder
CN109708467A (en) * 2019-01-16 2019-05-03 广东邦普循环科技有限公司 A kind of full-automatic overlength roller kilns of positive electrode sintering
CN109708467B (en) * 2019-01-16 2024-01-05 广东邦普循环科技有限公司 Full-automatic overlength roller kiln for sintering anode material
CN112284128A (en) * 2019-07-23 2021-01-29 潮州市东升窑炉设备有限公司 Single-layer sintering multi-layer cooling roller kiln
CN112284128B (en) * 2019-07-23 2024-04-30 潮州市东升窑炉设备有限公司 Single-layer sintering multi-layer cooling roller kiln
CN111928646A (en) * 2020-08-21 2020-11-13 黄冈市劲马窑炉机械有限公司 Automatic correcting device for combined module
CN115287439A (en) * 2022-07-16 2022-11-04 熊凤兰 Bearing heat treatment movable furnace body heating device
CN115287439B (en) * 2022-07-16 2023-08-25 索罗克电子科技有限公司 Movable furnace body heating device for bearing heat treatment

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3011366B2 (en) Method and apparatus for firing a substrate containing a film forming material
KR100822328B1 (en) Apparatus for conveying a board and method thereof
JP2011146565A (en) Thin film forming device system and thin film forming method
JP2013211137A6 (en) Vacuum deposition method and apparatus
EP0593137B1 (en) Method of heating glass sheet for laminated glass
JP2000053232A (en) Roller hearth kiln
WO2006027420A1 (en) Method and apparatus for heating sheets of glass
JP2012009527A (en) Heat processing apparatus and heat processing method
JP4896776B2 (en) Reflow device
JP3445733B2 (en) Heat treatment equipment
JP3625599B2 (en) Substrate firing device
JP2003218187A (en) Glass substrate transfer device
JP2001241855A (en) Continuous heating oven
JP5226037B2 (en) Heat treatment apparatus and heat treatment method
JP2003292154A (en) Heat-treating apparatus for thick-film printed circuit board, and carrier roller
WO2019138886A1 (en) Heat treatment furnace
JP3157108B2 (en) Method and apparatus for firing a substrate containing a film forming material
JP3607443B2 (en) Substrate baking apparatus including film forming material
JP5125059B2 (en) Glass substrate transfer method
KR200318436Y1 (en) Roller Hearth kiln for forming paste film in PDP
JP3157109B2 (en) Method and apparatus for firing a substrate containing a film forming material
JP3662893B2 (en) Heat treatment equipment
KR100371352B1 (en) The burning method by Rapid Temperature Process for the burning of the Flat Color Display and the Rapid Temperature Process system for the same
JP2004150660A (en) Continuous baking furnace for plasma display panel
JP4338936B2 (en) Sealing and heating device for FPD

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050407

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071211

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080408