JP2000046254A - ホース及びその製造方法 - Google Patents
ホース及びその製造方法Info
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Abstract
に優れたホース及びその製造方法を提供すること。 【解決手段】 管状の中間ゴム層12と,その内外に1
又は複数の層を積層してなるホースにおいて,中間ゴム
層12は,ゴムよりなるマトリックス20中に充填材2
2を混入させてなり,かつ,充填材22は,中間ゴム層
12の内面側に偏在させてある。
Description
に用いられるホースに関する。
れるホースとしては,後述する図1に示すごとく,複数
の管状の層を積層してなるホースが用いられている。こ
のホースにおいては,内穴を通過する冷媒の透過を抑制
する性質,即ち耐透過性に優れた性質が要求される。
としては,ホース内部の中間に位置する中間ゴム層内に
充填材を混入させることが提案されている。この方法に
よれば,冷媒が中間ゴム層内部を透過しようとする際に
充填材が妨げとなり,冷媒は充填材を迂回して進むこと
が必要となる。そのため,この迂回効果により耐透過性
が向上する。
観点からフロンガスの代替として炭酸ガス(CO 2)等
が採用されるようになってきた。これに伴って,ホース
に要求される耐透過性が一層厳しくなってきた。このよ
うな状況下においては,上記従来のホースにおける耐透
過性は,未だ十分であるとは言えない。
上記充填材の混入割合を高めることが考えられる。しか
し,充填材の混入割合を高めた場合には,中間ゴム層を
成形する際の成形性,加工性等に大きな問題が生じ,ホ
ースとしての機能が低下してしまう。
されたもので,成形性,加工性等を維持し,かつ,耐透
過性に優れたホース及びその製造方法を提供しようとす
るものである。
間ゴム層と,その内外に1又は複数の層を積層してなる
ホースにおいて,上記中間ゴム層は,ゴムよりなるマト
リックス中に充填材を混入させてなり,かつ,上記充填
材は,上記中間ゴム層の内面側に偏在させてあることを
特徴とするホースにある。
記中間ゴム層のマトリックス中に混入させた充填材を,
上記中間ゴム層の内面側に偏在させてあることである。
種々の合成ゴムを使用することができる。例えば,II
R(ブチルゴム),Cl−IIR(塩素化ブチルゴ
ム),Br−IIR(臭素化ブチルゴム),EPDM
(エチレン−プロピレン−ジエンゴム)NBR(ニトリ
ルゴム),H−NBR(水素添加ニトリルゴム)および
それらを主成分とするもの等を使用することができる。
また,上記中間ゴム層における充填材としては,ホース
穴を通過させる流体を透過させない材料を用いる。例え
ば,金属,金属酸化物,タルク,マイカ,雲母,クレー
等を用いることができる。
れ1又は2以上の層を積層する。例えば,中間ゴム層の
内層としては,流体の耐透過性に優れた樹脂材料等を用
いることが好ましい。また,中間ゴム層の外層として
は,ホースの強度,耐久性を向上させるための補強材,
保護部材等を用いることが好ましい。
本発明のホースの中間ゴム層においては,上記のごと
く,ゴムよりなるマトリックス中に充填材を混入させて
あると共に,この充填材を内面側に偏在させてある。そ
のため,中間ゴム層の内面側における充填材の間隔は,
充填材を単に混入させた従来の場合と比べて小さくな
る。即ち,上記中間ゴム層内部には,その内面側におい
て,上記充填材を高密度に充填させた,いわば高密度充
填層が形成される。
填材を散りばめた場合よりも,透過しようとする流体が
進行する際に充填材を迂回する割合が増加し,その進行
の妨げが大きくなる。それ故,上記高密度充填層は,従
来の中間ゴム層全体よりも迂回効果を大きくすることが
でき,中間ゴム層の耐透過性を従来よりも向上させるこ
とができる。一方,このような耐透過性向上効果は,従
来と同程度の充填材の混入量により実現することができ
る。そのため,充填材の増加による成形性,加工性の悪
化を防ぐことができる。
工性等を維持し,かつ,耐透過性に優れたホース及びそ
の製造方法を提供することができる。
記充填材は,偏平状の粒子であり,かつ,その偏平面を
周方向に沿って配置してあることが好ましい。この場合
には,透過しようとする流体が迂回して進む割合が増加
し,上記の迂回効果をさらに向上させることができ,耐
透過性を一層向上させることができる。
記充填材は,金属酸化物であることが好ましい。この場
合には,充填材の凝集を抑制することができ,中間ゴム
層内での充填材の配置を均一にすることができる。な
お,上記金属酸化物としては,例えば,酸化亜鉛,酸化
鉄,酸化ケイ素,酸化マグネシウム,酸化アルミニウ
ム,酸化カルシウム,酸化カリウム,酸化ナトリウム,
酸化リン等がある。
記充填材の外径は1〜100μmであることが好まし
い。充填材の外径が1μm未満の場合には,充填材が凝
集を起こしやすくなり,中間ゴム層内部での均一な分散
が困難となるという問題がある。また,100μmを超
える場合には,中間ゴム層の加工性が悪化するという問
題がある。
記中間ゴム層の内側には合成樹脂よりなる内面樹脂層
を,上記中間ゴム層の外側には補強糸層及び外面ゴム層
を積層してなることが好ましい。これにより,上記内面
樹脂層による耐透過性の向上,補強糸層,外面ゴム層に
よる強度,耐久性の向上等が得られる。
は,例えば,ナイロン等のポリアミドを用いる。ナイロ
ンの具体例としては,ナイロン6,ナイロン66,ナイ
ロン12,芳香族ナイロン,変性ナイロン(衝撃性改良
のためゴムを混ぜたもの)の単独または2以上の混合物
等を用いることができる。また,上記外面ゴム層として
は,例えば,通常用いるEPDMの他に,Cl−II
R,Br−IIR,NBR,H−NBR,およびこれら
を主成分とするもの等を用いることができる。
としては,次の発明がある。即ち,請求項6に記載の発
明のように,管状の中間ゴム層と,その内外に1又は複
数の層を積層してなるホースを製造する方法であって,
上記中間ゴム層を成形するに当たっては,管状の上記内
面樹脂層の上にマトリックス用のゴムと充填材とを混練
した材料を押出成形してマトリックス中に充填材を混入
させた中間ゴム層を押出成形し,かつ,この押出成形中
又はその後において,上記マトリックス中の上記充填材
を内面側に偏在させるための偏在処理を行うことを特徴
とするホースの製造方法にある。
記中間ゴム層を成形するに当たっては,マトリックス中
に充填材を混入させた中間ゴム層を押出成形すると共
に,上記偏在処理を行うことである。
種々の方法を採ることができる。この偏在処理は,少な
くとも,中間ゴム層内部に分散している充填材を,内面
側に移動させて偏在させる処理である。この偏在処理
は,上記押出成形中,その直後,あるいは,その後の加
硫工程等において行う。なお,この偏在処理は,中間ゴ
ム層が軟らかい高温時において行うことが好ましい。こ
れにより,効率よく,かつ,確実に偏在処理を行うこと
ができる。
る場合には,予めその内層を成形しておき,その上に上
記中間ゴム層を押出成形することが好ましい。これによ
り,内層と中間ゴム層との密着性を向上させることがで
きる。また,上記中間ゴム層の外側に層を設ける場合
に,その層がゴムである場合には,全体をまとめて加硫
処理することが好ましい。これにより,製造工程の合理
化を図ることができる。
発明の製造方法においては,中間ゴム層を成形するに当
たり,上記ゴムと充填材とを混練した材料を押出成形す
る。これにより,ゴムよりなるマトリックス中に充填材
が略均一に分散した状態の中間ゴム層が得られる。次
に,上記中間ゴム層に対して上記偏在処理を行う。これ
により,中間ゴム層内部の充填材を内面側に移動させて
偏在させることができる。
処理を行うことによって,マトリックス中の充填材を内
面側に偏在させる。そのため,上記押出成形までは従来
と全く同様の方法を利用することができ,優れた成形性
を維持しつつ,上記の優れたホースを得ることができ
る。
記偏在処理は,上記中間ゴム層の内面側から磁界を発生
させて,上記磁性体である充填材を磁力により内面側に
引き寄せることにより行うことができる。この場合に
は,上記磁力を用いることにより,容易に非接触状態で
上記偏在処理を行うことができる。
記偏在処理は,上記中間ゴム層内の上記充填材を帯電さ
せ,次いで,上記中間ゴム層の内面側から上記充填材と
異符号の電荷を付与することにより,上記充填材を内面
側に引き寄せることにより行うこともできる。この場合
にも上記の磁力の場合と同様に,容易に非接触状態で上
記偏在処理を行うことができる。
記偏在処理は,上記中間ゴム層内の上記充填材を帯電さ
せ,次いで,上記中間ゴム層の外面側から上記充填材と
同符号の電荷を付与することにより,上記充填材を内面
側に引き寄せることにより行うこともできる。この場合
には,上記中間ゴム層の内径が小さくて内面からの電荷
付与が困難である場合に有利である。
つき,図1〜図5を用いて説明する。本例のホース1
は,図1に示すごとく,合成樹脂よりなる内面樹脂層1
1と,中間ゴム層12と,補強糸層13と,外面ゴム層
14とを積層してなるホースである。上記中間ゴム層1
2は,ゴムよりなるマトリックス20中に充填材22を
混入させてなり,かつ,上記充填材22は,上記中間ゴ
ム層12の内面側に偏在させてある。
て詳説する。ホース1を製造するに当たっては,図3に
示すごとく,まず,ステップS1において,一番内側の
層である内面樹脂層11を形成する。この内面樹脂層1
1は,材料を内径約14mm,厚み約0.15mmのサ
イズに押出成形することにより形成する。なお,この押
出成形時には内径形状を確保するためにマンドレル7
(図4)を差し込んだ状態で成形する。
っては,まず,ステップS2において上記内面樹脂層1
1の表面に接着剤を塗布し,その後,ステップS3にお
いて,内面樹脂層11の上に管状の中間ゴム層12を押
出成形する。この中間ゴム層12の押出成形は,ステッ
プS30において予めマトリックス20用のゴムと充填
材22とを混合練した混合原料を用いる。そして,押出
成形の結果,図2(a)に示すごとく,マトリックス2
0中に充填材22を混入させた中間ゴム層12を得る。
なるゴム材料としては,IIR(ブチルゴム)を用い
た。また,充填材22としては,金属酸化物である酸化
鉄よりなり,外径が1〜100μmの偏平状粒子を用い
た。また,これらの混合割合は,ゴム100重量部に対
して,充填材が10〜60重量部となるようにした。
プS4において,中間ゴム層12の外表面に補強糸層1
3を形成する編組工程を行った。次いで,ステップS5
において,補強糸層13の上にさらに厚み約1.5mm
の外面ゴム層14を押出成形した。この外面ゴム層14
としては,EPDMを用いた。この外面ゴム層14の形
成により,内面樹脂層11,中間ゴム層12,補強糸層
13,外面ゴム層14を順次積層してなる中間材が得ら
れた。
全体に対して加硫処理を行うと共に,上記中間ゴム層1
2のマトリックス20中の上記充填材22を内面側に偏
在させるための偏在処理を行った。上記加硫処理は,温
度約180℃,約1時間という条件により行った。
行して以下のように行った。即ち,上記偏在処理は,図
4に示すごとく,中間ゴム層12の内面側に配置した磁
界発生装置7から磁界を発生させて,上記充填材22を
磁力により内面側に引き寄せることにより行った。
すごとく,その内部に複数のコイル71,72を導線7
0により結んで配設してなる。各コイル71,72は,
電流の流れ方向に対する巻回方向を逆方向にして,磁界
の発生方向を揃えてある。なお,本例の磁界発生装置7
は,内面樹脂層11の押出成形時からその内面に配置し
てあるマンドレルと兼用させてある。ただし,マンドレ
ルと磁界発生装置70を別個に設けることも可能であ
る。
装置7を用いて磁界を発生させることにより,略均一に
分散していた充填材22(a)がマトリックス20内を
移動して内面側に偏在する(b)。これにより,内面側
に充填材22を偏在させてなる中間ゴム層12を有する
ホース1が得られた。
例において得られるホース1の中間ゴム層12において
は,上記のごとく,ゴムよりなるマトリックス20中に
充填材22を混入させてあると共に,この充填材22を
内面側に偏在させてある。そのため,中間ゴム層12の
内面側における充填材22の間隔は,充填材を単に混入
させた従来の場合と比べて小さくなる。即ち,中間ゴム
層12内部には,その内面側において,充填材22を高
密度に充填させた,いわば高密度充填層が形成される。
填材22を散りばめた場合の中間ゴム層全体よりも,透
過しようとする流体が充填材22を避けて進む際の迂回
効果を大きくすることができ,中間ゴム層12の耐透過
性を従来よりも向上させることができる。
2(a)(b)に示すごとく,押出成形によってマトリ
ックス20内に略均一に充填材22を分散配置させた
後,上記偏在処理により充填材を偏在させる。そのた
め,充填材22の充填量は従来と同様とすることがで
き,それ故,従来と同様の成形性,加工性を維持するこ
とができる。
を用いるので,非接触状態で非常に容易に充填材22を
移動,偏在させることができる。このように,本例によ
れば,成形性,加工性等を維持し,かつ,耐透過性に優
れたホース1を容易に得ることができる。
在処理に代えて,電荷を利用した偏在処理を行った。具
体的には,まず,上述した図1,図3にに示すごとく,
実施形態例1と同様に内面樹脂層11と,中間ゴム層1
2と,補強糸層13と,外面ゴム層14とを積層してな
る中間材を作製する。
間ゴム層12内の充填材22をマイナス(−)に帯電さ
せる。次いで,図7に示すごとく,加硫工程(S6)に
おいて,内面樹脂層11の内径内に,プラス(+)に帯
電させた帯電体81を挿入配置する。また,上記帯電体
81としては,プラス(+)に帯電させた棒状のもの用
いた。
挿入配置によって,図6(b)に示すごとく,中間ゴム
層12のマトリックス20中の充填材22は,異符号の
電荷の吸引力によって徐々に内面側に移動し,偏在す
る。その他は,実施形態例1と同様である。
して行うことができる。そのため,上記の磁力の場合と
同様に,容易に非接触状態で上記偏在処理を行うことが
できる。その他は実施形態例1と同様の効果が得られ
る。
て,ホース1の外径よりも大きな径の筒状の帯電体82
を用いて偏在処理を行った例である。帯電体82は,マ
イナス(−)に帯電させたものである。そして,偏在処
理においては,図8(a)に示すごとく,予め実施形態
例2と同様に充填材22をマイナス(−)に帯電させて
おき,次いで,図9に示すごとく,ホース1全体を帯電
体82内に挿入配置する。その他は,実施形態例1と同
様である。
間ゴム層12のマトリックス20中の充填材22は,同
符号の電荷の反発力により徐々に内面側に移動し,偏在
する。その他は,実施形態例1,2と同様の作用効果が
得られる。
明図。
(b)偏在処理後,における中間ゴム層の内部構造を示
す説明図。
す説明図。
示す説明図。
(b)長手方向,における磁界発生装置の構造を示す説
明図。
(b)偏在処理後,における中間ゴム層の内部構造を示
す説明図。
示す説明図。
(b)偏在処理後,における中間ゴム層の内部構造を示
す説明図。
示す説明図。
Claims (9)
- 【請求項1】 管状の中間ゴム層と,その内外に1又は
複数の層を積層してなるホースにおいて,上記中間ゴム
層は,ゴムよりなるマトリックス中に充填材を混入させ
てなり,かつ,上記充填材は,上記中間ゴム層の内面側
に偏在させてあることを特徴とするホース。 - 【請求項2】 請求項1において,上記充填材は,偏平
状の粒子であり,かつ,その偏平面を周方向に沿って配
置してあることを特徴とするホース。 - 【請求項3】 請求項1又は2において,上記充填材
は,金属酸化物であることを特徴とするホース。 - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれか1項において,
上記充填材の外径は1〜100μmであることを特徴と
するホース。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれか1項において,
上記中間ゴム層の内側には合成樹脂よりなる内面樹脂層
を,上記中間ゴム層の外側には補強糸層及び外面ゴム層
を積層してなることを特徴とするホース。 - 【請求項6】 管状の中間ゴム層と,その内外に1又は
複数の層を積層してなるホースを製造する方法であっ
て,上記中間ゴム層を成形するに当たっては,管状の上
記内面樹脂層の上にマトリックス用のゴムと充填材とを
混練した材料を押出成形してマトリックス中に充填材を
混入させた中間ゴム層を押出成形し,かつ,この押出成
形中又はその後において,上記マトリックス中の上記充
填材を内面側に偏在させるための偏在処理を行うことを
特徴とするホースの製造方法。 - 【請求項7】 請求項6において,上記充填材は磁性体
であり,上記偏在処理は,上記中間ゴム層の内面側から
磁界を発生させて,上記充填材を磁力により内面側に引
き寄せることにより行うことを特徴とするホースの製造
方法。 - 【請求項8】 請求項6において,上記偏在処理は,上
記中間ゴム層内の上記充填材を帯電させ,次いで,上記
中間ゴム層の内面側から上記充填材と異符号の電荷を付
与することにより,上記充填材を内面側に引き寄せるこ
とにより行うことを特徴とするホースの製造方法。 - 【請求項9】 請求項6において,上記偏在処理は,上
記中間ゴム層内の上記充填材を帯電させ,次いで,上記
中間ゴム層の外面側から上記充填材と同符号の電荷を付
与することにより,上記充填材を内面側に引き寄せるこ
とにより行うことを特徴とするホースの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10211045A JP2000046254A (ja) | 1998-07-27 | 1998-07-27 | ホース及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10211045A JP2000046254A (ja) | 1998-07-27 | 1998-07-27 | ホース及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000046254A true JP2000046254A (ja) | 2000-02-18 |
Family
ID=16599476
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10211045A Pending JP2000046254A (ja) | 1998-07-27 | 1998-07-27 | ホース及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000046254A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015199219A (ja) * | 2014-04-04 | 2015-11-12 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 防かび性樹脂成形体の製造方法 |
-
1998
- 1998-07-27 JP JP10211045A patent/JP2000046254A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015199219A (ja) * | 2014-04-04 | 2015-11-12 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 防かび性樹脂成形体の製造方法 |
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