JP2000043107A - Method for molding thermoplastic resin - Google Patents

Method for molding thermoplastic resin

Info

Publication number
JP2000043107A
JP2000043107A JP21240198A JP21240198A JP2000043107A JP 2000043107 A JP2000043107 A JP 2000043107A JP 21240198 A JP21240198 A JP 21240198A JP 21240198 A JP21240198 A JP 21240198A JP 2000043107 A JP2000043107 A JP 2000043107A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thermoplastic resin
gate
cavity
mold
filled
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP21240198A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoichi Hashimoto
羊一 橋本
Tsutomu Ohira
勉 大平
Takahide Suzuki
貴英 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
Priority to JP21240198A priority Critical patent/JP2000043107A/en
Publication of JP2000043107A publication Critical patent/JP2000043107A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for molding thermoplastic resin in which generation of a sink and a void in moldings is decreased. SOLUTION: In relation to the method for molding thermoplastic resin, thermoplastic resin 4 is filled into the cavity 2 of a die 1 through a gate 3. The gate 3 is closed. Coefficient of gate is set-up to >=0.023. After the gate 3 is closed, thermoplastic resin 4 filled in the cavity 2 is compressed. Fluidity of thermoplastic resin 4 filled in the cavity 2 is enhanced and also uniformity of the filling state of thermoplastic resin 4 in the cavity 2 can be contrived.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体封止成形を
行なって半導体パッケージ(TO220など)を得る際
に用いられる熱可塑性樹脂の成形方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for molding a thermoplastic resin used for obtaining a semiconductor package (TO220 or the like) by performing semiconductor encapsulation molding.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、ダイオードやトランジスター
集積回路などの半導体に代表される電気・電子部品、及
びこれら電気・電子部品を基板に実装した半導体装置を
封止する半導体封止成形の方法としては、エポキシ樹脂
やシリコーン樹脂を用いたトランスファー成形法や、ガ
ラスや金属やセラミックを用いたハーメチックシール法
などが採用されているが、近年では、半導体パッケージ
の動作信頼性の向上と共に大量生産やコストメリットに
優れる、エポキシ樹脂を用いた低圧トランスファー成形
が主流となっている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of semiconductor encapsulation molding for encapsulating electric and electronic parts typified by semiconductors such as diodes and transistor integrated circuits, and semiconductor devices having these electric and electronic parts mounted on a substrate. The transfer molding method using epoxy resin or silicone resin, the hermetic sealing method using glass, metal, or ceramic has been adopted. Low-pressure transfer molding using epoxy resin, which is excellent in quality, has become mainstream.

【0003】しかしながら、エポキシ樹脂等の熱硬化性
樹脂を用いた半導体封止成形では、成形時にカルやラン
ナー等で多量にロスが生じたり、バリが発生するために
バリ取りなどの後処理が必要であり、しかも熱硬化性樹
脂の硬化物はリサイクルが不可能であるためにバリ等を
再利用することができなかった。そこで最近では、熱可
塑性樹脂の射出成形によって半導体封止成形を行なうこ
とが検討されている。
However, in semiconductor encapsulation molding using a thermosetting resin such as an epoxy resin, a large amount of loss occurs on a cull or a runner during molding, and burrs are generated. In addition, since the cured product of the thermosetting resin cannot be recycled, burrs and the like cannot be reused. Therefore, recently, it has been studied to perform semiconductor encapsulation molding by injection molding of a thermoplastic resin.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、熱硬化
性樹脂の成形用の金型と同様の構造を有する金型を用い
て熱可塑性樹脂による半導体封止成形を行なっても、成
形品の表面に引けが発生したり成形品の内部にボイドが
発生したりするという問題があった。
However, even if semiconductor encapsulation is performed with a thermoplastic resin using a mold having a structure similar to that of a mold for molding a thermosetting resin, the surface of the molded product still remains. There is a problem that shrinkage occurs or voids are formed inside the molded product.

【0005】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、引けやボイドの発生を低減することができる熱可
塑性樹脂の成形方法を提供することを目的とするもので
ある。
The present invention has been made in view of the above points, and has as its object to provide a method of molding a thermoplastic resin which can reduce the occurrence of shrinkage and voids.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
熱可塑性樹脂の成形方法は、金型1のキャビティ2にゲ
ート3を通して熱可塑性樹脂4を充填した後、ゲート3
を閉塞する熱可塑性樹脂の成形方法において、ゲート係
数を0.023以上に設定し、ゲート3を閉塞した後、
キャビティ2に充填された熱可塑性樹脂4を圧縮するこ
とを特徴とするものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of molding a thermoplastic resin, comprising: filling a cavity of a mold with a thermoplastic resin through a gate;
In the thermoplastic resin molding method for closing the gate, after setting the gate coefficient to 0.023 or more and closing the gate 3,
It is characterized in that the thermoplastic resin 4 filled in the cavity 2 is compressed.

【0007】また本発明の請求項2に係る熱可塑性樹脂
の成形方法は、請求項1の構成に加えて、キャビティ2
に熱可塑性樹脂4を充填した後、ゲート3を閉塞する前
に、キャビティ2に充填された熱可塑性樹脂4を圧縮す
ることを特徴とするものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a method for molding a thermoplastic resin.
After the thermoplastic resin 4 is filled into the cavity 2 and before the gate 3 is closed, the thermoplastic resin 4 filled in the cavity 2 is compressed.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below.

【0009】図2に金型1の一例を示す。この金型1は
上側の固定型10と下側の可動型11とで構成されてお
り、固定型10に対して可動型11が上下動自在に形成
されている。固定型10には下面に開口する上型収納凹
部12が設けられており、上型収納凹部12には上型1
3が収納されている。また可動型11には上面に開口す
る下型収納凹部16が設けられており、下型収納凹部1
6には下型17が収納されている。そして上型13の下
面と下型17の上面とを合わせるように型締めすること
により、上型13と下型17の間にキャビティ2とゲー
ト3とランナー5が形成される。
FIG. 2 shows an example of the mold 1. The mold 1 includes an upper fixed mold 10 and a lower movable mold 11, and the movable mold 11 is formed to be vertically movable with respect to the fixed mold 10. The fixed die 10 is provided with an upper die receiving recess 12 which is opened on the lower surface.
3 are stored. The movable mold 11 is provided with a lower mold storage recess 16 which is opened on the upper surface.
A lower mold 17 is housed in 6. Then, the cavity 2, the gate 3, and the runner 5 are formed between the upper mold 13 and the lower mold 17 by clamping the lower mold 17 so that the lower surface of the upper mold 13 and the upper surface of the lower mold 17 match.

【0010】固定型10には上下に長いスプルブッシュ
14が設けられており、スプルブッシュ14には上記ラ
ンナー5と連通するスプル15が形成されている。また
可動型11には上下に長いゲートカット治具18が上下
動自在に設けられている。ゲートカット治具18の上端
は鋭角に尖らせてあり、その先端は当接部18aとして
形成されている。またゲートカット治具18の下側には
可動型11を上下動させる成形機などで上下動する治具
動作プレート19が設けられており、治具動作プレート
19の上下動に応動してゲートカット治具18が上下動
するようになっている。そしてゲートカット治具18の
上端は下型17に設けた挿入孔22を通ってゲート3及
びランナー5に挿入されており、この状態からさらにゲ
ートカット治具18を上動させて当接部18aを上型1
3の下面に当接させることによって、ゲート3が閉塞さ
れてキャビティ2とランナー5の導通が遮断されるよう
になっている。尚、ゲート3が閉塞されることをゲート
カットという。さらに可動型11には上下に長い一対の
圧縮ピン21が上下動自在に設けられている。圧縮ピン
21の下側には油圧シリンダやエアシリンダなどの駆動
機で上下動するピン動作プレート20が設けられてお
り、ピン動作プレート20の上下動に応動して圧縮ピン
21が上下動するようになっている。そして圧縮ピン2
1の上端は下型17に設けた導入孔23を通ってキャビ
ティ2に挿入自在に形成されている。
The fixed die 10 is provided with a vertically long sprue bush 14, and the sprue bush 14 is formed with a sprue 15 communicating with the runner 5. In addition, the movable die 11 is provided with a vertically long gate cut jig 18 so as to be vertically movable. The upper end of the gate cut jig 18 is sharpened at an acute angle, and the tip is formed as a contact portion 18a. A jig operation plate 19 that moves up and down by a molding machine or the like that moves the movable mold 11 up and down is provided below the gate cut jig 18, and the gate cuts in response to the up and down movement of the jig operation plate 19. The jig 18 moves up and down. The upper end of the gate cutting jig 18 is inserted into the gate 3 and the runner 5 through an insertion hole 22 provided in the lower die 17, and from this state, the gate cutting jig 18 is further moved upward to contact the contact portion 18a. The upper mold 1
By making contact with the lower surface of the gate 3, the gate 3 is closed and the conduction between the cavity 2 and the runner 5 is cut off. The closing of the gate 3 is called gate cut. Further, the movable die 11 is provided with a pair of vertically long compression pins 21 movably up and down. A pin operation plate 20 that moves up and down by a driving device such as a hydraulic cylinder or an air cylinder is provided below the compression pin 21 so that the compression pin 21 moves up and down in response to the up and down movement of the pin operation plate 20. It has become. And compression pin 2
The upper end of 1 is formed so as to be freely inserted into cavity 2 through introduction hole 23 provided in lower mold 17.

【0011】上記のような金型1において、熱可塑性樹
脂4がランナー5からゲート3を通ってキャビティ2に
流入する際のゲート3の大きさを示すゲート係数が、
0.023以上となるように設定されている。ゲート係
数はこの金型1で成形される成形品(パッケージ)に対
するゲート3の断面積(ゲートカット治具18の当接部
18aと上型13の下面との間の断面積)で規定される
のであって、次式(A)の ゲート係数=ゲート3の断面積(mm2)/成形品の体積(mm3)…(A) で表わされるものである。そしてこのゲート係数が0.
023以上であるので、キャビティ2に充填される熱可
塑性樹脂4の流動性を向上させることができ、成形品に
引けやボイドが発生するのを低減することができるもの
である。また成形品の内部応力を少なくすることがで
き、内部応力による半導体へのダメージや剥離を少なく
することができる。ゲート係数は0.035以上である
と上記効果が顕著に表れる。また成形品の形状にもよる
が、ゲート係数の上限は0.08であって、これ以上に
なるとゲート3の断面積が成形品の断面積よりも大きく
なって成形することができなくなる恐れがある。ちなみ
に通常のエポキシ樹脂の半導体封止成形に用いられる金
型のゲート係数は0.001以下である。
In the mold 1 as described above, the gate coefficient indicating the size of the gate 3 when the thermoplastic resin 4 flows into the cavity 2 from the runner 5 through the gate 3 is given by:
It is set to be 0.023 or more. The gate coefficient is defined by the cross-sectional area of the gate 3 (the cross-sectional area between the contact portion 18a of the gate cutting jig 18 and the lower surface of the upper die 13) with respect to the molded product (package) formed by the die 1. In the following equation (A), gate coefficient = cross-sectional area of gate 3 (mm 2 ) / volume of molded product (mm 3 ) (A). And this gate coefficient is 0.
Since it is 023 or more, the fluidity of the thermoplastic resin 4 filled in the cavity 2 can be improved, and the occurrence of shrinkage and voids in the molded product can be reduced. In addition, the internal stress of the molded product can be reduced, and damage and peeling of the semiconductor due to the internal stress can be reduced. When the gate coefficient is 0.035 or more, the above-described effect is remarkably exhibited. The upper limit of the gate coefficient is 0.08, depending on the shape of the molded product. is there. Incidentally, the gate coefficient of the mold used for the usual semiconductor encapsulation molding of epoxy resin is 0.001 or less.

【0012】そして上記金型1を用いて成形品を射出成
形するにあたっては、以下のようにして行なうことがで
きる。まず可動型11を固定型10に近づくように上動
させて上型13の下面に下型17の上面を合わせて型締
めする。この時、ゲート係数が0.023以上となるよ
うにゲートカット治具18の上端はゲート3及びランナ
ー5に突出している。また圧縮ピン21の上端は導入孔
23よりも下側に位置するようになっており、導入孔2
3と圧縮ピン21の上端の間には、上下長さBの圧縮代
24が形成されている。また封止される半導体等は型締
めする前にキャビティ2となるべき箇所に配置されてい
る。
The injection molding of a molded article using the mold 1 can be performed as follows. First, the movable mold 11 is moved upward so as to approach the fixed mold 10, and the upper surface of the lower mold 17 is aligned with the lower surface of the upper mold 13 to clamp the mold. At this time, the upper end of the gate cutting jig 18 projects to the gate 3 and the runner 5 so that the gate coefficient becomes 0.023 or more. The upper end of the compression pin 21 is located below the introduction hole 23, and
A compression margin 24 having a vertical length B is formed between the compression pin 3 and the upper end of the compression pin 21. Further, the semiconductor or the like to be sealed is arranged at a position to be the cavity 2 before clamping.

【0013】次に射出機のノズル(図示省略)をスプル
ブッシュ14に押し当てると共に、図1(a)に矢印イ
で示すように射出機から加熱溶融した熱可塑性樹脂4を
スプル15に射出注入する。この時の射出圧力は100
〜1000kg/cm2、好ましくは300〜700k
g/cm2に設定される。また熱可塑性樹脂4として
は、ポリフェニレンサルファイド樹脂(PPS樹脂)な
どの任意のものを用いることができ、複数種の熱可塑性
樹脂4を組み合わせて用いたり、ガラス繊維などの充填
剤を配合してもよい。
Next, a nozzle (not shown) of the injection machine is pressed against the sprue bush 14, and the thermoplastic resin 4 heated and melted from the injection machine is injected into the sprue 15 as shown by an arrow a in FIG. I do. The injection pressure at this time is 100
10001000 kg / cm 2 , preferably 300-700 k
g / cm 2 . Further, as the thermoplastic resin 4, an arbitrary resin such as polyphenylene sulfide resin (PPS resin) can be used. Even if a plurality of kinds of thermoplastic resins 4 are used in combination or a filler such as glass fiber is compounded. Good.

【0014】上記のように射出注入された熱可塑性樹脂
4はスプル15からランナー5に導入された後、ランナ
ー5からゲート3を通ってキャビティ2に注入充填され
ていくが、熱可塑性樹脂4のスプル15への射出注入及
びキャビティ2への充填の間に、図1(b)に矢印ロで
示すように圧縮ピン21を圧縮代24の長さBの分だけ
上動させて、キャビティ2に充填された熱可塑性樹脂4
を圧縮ピン21で圧縮する。この時の圧力は100〜1
000kg/cm2、好ましくは300〜700kg/
cm2に設定される。圧縮ピン21による圧縮が100
kg/cm2未満であれば、キャビティ2に均一に熱可
塑性樹脂4を充填しにくくなって、成形品にボイドや引
けが発生する恐れがあり、また圧縮ピン21による圧縮
が1000kg/cm2を超えると、封止される半導体
等にかかる圧力が強くなり過ぎて破損する恐れがある。
そしてこのようにキャビティ2に充填された熱可塑性樹
脂4を圧縮することによって、キャビティ2に均一に熱
可塑性樹脂4を充填することができ、成形品にボイドや
引けが発生するのを低減することができるものである。
The thermoplastic resin 4 injected and injected as described above is introduced into the runner 5 from the sprue 15 and then injected and filled into the cavity 2 from the runner 5 through the gate 3. Between the injection injection into the sprue 15 and the filling into the cavity 2, the compression pin 21 is moved upward by the length B of the compression allowance 24 as shown by an arrow B in FIG. Filled thermoplastic resin 4
Is compressed by the compression pin 21. The pressure at this time is 100 to 1
000 kg / cm 2 , preferably 300-700 kg /
It is set to cm 2. Compression by compression pin 21 is 100
If it is less than kg / cm 2, less likely to fill uniformly the thermoplastic resin 4 into the cavity 2, there is a possibility that voids or shrinkage occurs in the molded article, also compressed by the compression pin 21 to 1000 kg / cm 2 If it exceeds, the pressure applied to the semiconductor or the like to be sealed becomes too strong, and may be damaged.
By compressing the thermoplastic resin 4 filled in the cavity 2 in this manner, the thermoplastic resin 4 can be uniformly filled in the cavity 2 and the occurrence of voids and shrinkage in the molded product can be reduced. Can be done.

【0015】上記のようにしてキャビティ2に熱可塑性
樹脂4を充填した後、熱可塑性樹脂4の射出を停止する
と共に、図1(c)に矢印ハで示すように当接部18a
が上型13の下面に当接するまでゲートカット治具18
を上動させることによってゲート3を閉塞する。この後
さらに、図1(d)に矢印ニで示すように圧縮ピン21
を上動させて、キャビティ2に充填された熱可塑性樹脂
4を圧縮ピン21で圧縮する。この時の圧力は100〜
1000kg/cm2、好ましくは300〜700kg
/cm2に設定される。圧縮ピン21による圧縮が10
0kg/cm2未満であれば、キャビティ2に均一に熱
可塑性樹脂4を充填しにくくなって、成形品にボイドや
引けが発生する恐れがあり、また圧縮ピン21による圧
縮が1000kg/cm2を超えると、封止される半導
体等にかかる圧力が強くなり過ぎて破損する恐れがあ
る。そしてこのようにゲート3を閉塞した後、さらにキ
ャビティ2に充填された熱可塑性樹脂4を圧縮すること
によって、キャビティ2における熱可塑性樹脂4の充填
の均一性がさらに高くなり、成形品にボイドや引けが発
生するのをさらに低減することができるものである。
After filling the cavity 2 with the thermoplastic resin 4 as described above, the injection of the thermoplastic resin 4 is stopped, and the contact portion 18a as shown by the arrow C in FIG.
Until the abutment comes into contact with the lower surface of the upper die 13.
Is moved upward to close the gate 3. Thereafter, as shown by an arrow d in FIG.
Is moved upward, and the thermoplastic resin 4 filled in the cavity 2 is compressed by the compression pin 21. The pressure at this time is 100 ~
1000 kg / cm 2 , preferably 300 to 700 kg
/ Cm 2 . Compression by compression pin 21 is 10
If it is less than 0 kg / cm 2, less likely to fill uniformly the thermoplastic resin 4 into the cavity 2, there is a possibility that voids or shrinkage occurs in the molded article, also compressed by the compression pin 21 to 1000 kg / cm 2 If it exceeds, the pressure applied to the semiconductor or the like to be sealed becomes too strong, and may be damaged. After the gate 3 is closed in this manner, the thermoplastic resin 4 filled in the cavity 2 is further compressed, so that the uniformity of the filling of the thermoplastic resin 4 in the cavity 2 is further increased, and voids and voids are formed in the molded product. The occurrence of shrinkage can be further reduced.

【0016】この後、熱可塑性樹脂4を冷却して固化さ
せると共に可動型11を下動させて型開きし、成形品を
脱型することによって成形品を製造することができる。
Thereafter, the thermoplastic resin 4 is cooled and solidified, and at the same time, the movable mold 11 is moved downward to open the mold, and the molded article is removed from the molded article, thereby producing a molded article.

【0017】[0017]

【実施例】以下本発明を実施例によって具体的に説明す
る。
The present invention will be described below in detail with reference to examples.

【0018】(実施例1乃至24及び比較例1乃至1
2)表1に示すゲート係数に設定された金型1を用いて
半導体パッケージ(TO220フィン付き)を成形し
た。熱可塑性樹脂4は直鎖型PPS樹脂(呉羽化学工業
社製の品番W−202A)100重量部に対して、エチ
レン/グリシジルメタクリレート共重合体へのアクリロ
ニトリルスチレン共重合体のグラフト共重合体(日本油
脂社製の品番A4400)5重量部と、ミルドファイバ
ー(日本板硝子製の品番REV8)72重量部と、無機
イオン交換体(組成:Sb2Bi1.46. 4(OH)
0.9(NO30.4・0.6H2O)1重量部とを配合して
調製した。
(Examples 1 to 24 and Comparative Examples 1 to 1)
2) A semiconductor package (with a TO220 fin) was molded using the mold 1 set to the gate coefficient shown in Table 1. The thermoplastic resin 4 is a graft copolymer of an acrylonitrile styrene copolymer and an ethylene / glycidyl methacrylate copolymer (Japan, based on 100 parts by weight of a linear PPS resin (product number W-202A manufactured by Kureha Chemical Industry Co., Ltd.)). and fat Co. No. A4400) 5 parts by weight, a milled fiber (Nippon Sheet Glass Co. of No. REV8) and 72 parts by weight, the inorganic ion exchanger (composition: Sb 2 Bi 1.4 O 6. 4 (OH)
0.9 (NO 3) 0.4 · 0.6H 2 O) was prepared by blending 1 part by weight.

【0019】そして上記の実施の形態で説明した手順に
したがって、シリンダー温度300℃の射出機で熱可塑
性樹脂4を加熱溶融した後、温度180℃の金型1に射
出し、キャビティ2に熱可塑性樹脂4を充填した。この
時の射出圧(充填圧)は600kg/cm2、充填時間
は1秒に設定した。また図1(b)及び図1(d)のよ
うに圧縮ピン21でキャビティ2に充填された熱可塑性
樹脂4を圧縮する際の圧力は、表1のように設定した。
そして図1(d)の工程の後、キャビティ2に充填され
た熱可塑性樹脂4を30秒間冷却することによって、成
形品(半導体パッケージ)を形成した。
According to the procedure described in the above embodiment, the thermoplastic resin 4 is heated and melted by an injection machine having a cylinder temperature of 300 ° C., then injected into a mold 1 having a temperature of 180 ° C. Resin 4 was charged. At this time, the injection pressure (filling pressure) was set to 600 kg / cm 2 , and the filling time was set to 1 second. Further, as shown in FIGS. 1B and 1D, the pressure at which the thermoplastic resin 4 filled in the cavity 2 was compressed by the compression pin 21 was set as shown in Table 1.
After the step of FIG. 1D, the molded article (semiconductor package) was formed by cooling the thermoplastic resin 4 filled in the cavity 2 for 30 seconds.

【0020】尚、実施例1乃至12ではゲート3の断面
積を9mm2とし、成形品の体積を257mm3としてゲ
ート係数を0.035とした。実施例13乃至24では
ゲート3の断面積を5.9mm2とし、成形品の体積を
257mm3としてゲート係数を0.023とした。比
較例1乃至12ではゲート3の断面積を2.57mm 2
とし、成形品の体積を257mm3としてゲート係数を
0.01とした。また射出成形機としては日精樹脂工業
株式会社製のPS40/5TMを使用した。
In the first to twelfth embodiments, the cross section of the gate 3 is shown.
9 mm productTwoAnd the volume of the molded product is 257 mmThreeAs
The sheet coefficient was 0.035. In Examples 13 to 24
The cross-sectional area of the gate 3 is 5.9 mmTwoAnd the volume of the molded product
257mmThreeAnd the gate coefficient was set to 0.023. ratio
In Comparative Examples 1 to 12, the sectional area of the gate 3 was 2.57 mm. Two
And the volume of the molded product is 257 mmThreeThe gate factor as
It was set to 0.01. As an injection molding machine, Nissei Plastic Industry
PS40 / 5TM manufactured by Co., Ltd. was used.

【0021】上記実施例1乃至24及び比較例1乃至1
2で得られた成形品について、ボイド評価を行なった。
このボイド評価は成形品の内部を超音波探査装置により
観察して0.2mm以上のボイドの有無を調べ、ボイド
が全く無いものに○を付し、ボイドが多少あるものの実
用上全く問題が無いものに△を付し、ボイドが多数あり
実用上問題があるものに×を付した。
Examples 1 to 24 and Comparative Examples 1 to 1
The molded article obtained in 2 was evaluated for voids.
In this void evaluation, the inside of the molded product was observed with an ultrasonic probe to check for the presence of voids of 0.2 mm or more, and those having no voids were marked with a circle. Although there were some voids, there was no practical problem at all. The samples were marked with a triangle, and those having many voids and having practical problems were marked with a cross.

【0022】また上記実施例1乃至24及び比較例1乃
至12で得られた成形品について、引け評価を行なっ
た。この引け評価は成形品の表面を目視で確認し、引け
が全く無いものに○を付し、引けが多少あるものの実用
上全く問題が無いものに△を付し、引けが大きく発生し
実用上問題があるものに×を付した。
The molded products obtained in Examples 1 to 24 and Comparative Examples 1 to 12 were evaluated for shrinkage. In the evaluation of shrinkage, the surface of the molded product was visually checked, and a mark indicating no shrinkage was marked with a circle, and a mark indicating a slight shrinkage but having no practical problem was marked with a mark. Crosses were given to those with problems.

【0023】また上記実施例1乃至24及び比較例1乃
至12で得られた成形品について、チップダメージ評価
を行なった。このチップダメージ評価は成形品の内部の
半導体の様子を確認し、半導体の破損や剥がれが全く無
いものに○を付し、半導体の破損や剥がれが多少あるも
のの実用上全く問題が無いものに△を付し、半導体の破
損や剥がれが多数発生し実用上問題があるものに×を付
した。
The molded products obtained in Examples 1 to 24 and Comparative Examples 1 to 12 were evaluated for chip damage. In this chip damage evaluation, the state of the semiconductor inside the molded product was confirmed, and a circle was given to a semiconductor without any breakage or peeling of the semiconductor, and to a semiconductor with some damage or peeling but having no practical problem at all. In addition, those having a practical problem due to a large number of breakage and peeling of the semiconductor were marked with a cross.

【0024】結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

【0025】[0025]

【表1】 表1に示すように、実施例1乃至24では比較例1乃至
12に比べてボイド評価や引け評価が全体的に高くなっ
た。また実施例1乃至24では所定の圧力により圧縮ピ
ン21で圧縮することによって、チップダメージも少な
くすることができる。
[Table 1] As shown in Table 1, void evaluation and shrinkage evaluation were higher in Examples 1 to 24 than in Comparative Examples 1 to 12. In Examples 1 to 24, chip damage can be reduced by compressing with the compression pin 21 at a predetermined pressure.

【0026】[0026]

【発明の効果】上記のように本発明の請求項1の発明
は、金型のキャビティにゲートを通して熱可塑性樹脂を
充填した後、ゲートを閉塞する熱可塑性樹脂の成形方法
において、ゲート係数を0.023以上に設定し、ゲー
トを閉塞した後、キャビティに充填された熱可塑性樹脂
を圧縮するので、キャビティに充填される熱可塑性樹脂
の流動性を向上させることができると共にキャビティに
おける熱可塑性樹脂の充填具合の均一化を図ることがで
き、成形品に引けやボイドが発生するのを低減すること
ができるものである。
As described above, according to the first aspect of the present invention, in a method for molding a thermoplastic resin in which a cavity is filled with a thermoplastic resin through a gate and then the gate is closed, a gate coefficient is set to 0. After the gate is closed and the thermoplastic resin filled in the cavity is compressed, the fluidity of the thermoplastic resin filled in the cavity can be improved and the thermoplastic resin in the cavity can be improved. The filling degree can be made uniform, and the occurrence of shrinkage and voids in the molded product can be reduced.

【0027】また本発明の請求項2の発明は、キャビテ
ィに熱可塑性樹脂を充填した後、ゲートを閉塞する前
に、キャビティに充填された熱可塑性樹脂を圧縮するの
で、キャビティにおける熱可塑性樹脂の充填具合の均一
化をさらに向上させることができ、成形品に引けやボイ
ドが発生するのをさらに低減することができるものであ
る。
According to the invention of claim 2 of the present invention, after filling the cavity with the thermoplastic resin and before closing the gate, the thermoplastic resin filled in the cavity is compressed. The uniformity of the filling condition can be further improved, and the occurrence of shrinkage and voids in the molded product can be further reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態の一例を示し、(a)乃至
(d)は断面図である。
FIG. 1 illustrates an example of an embodiment of the present invention, and (a) to (d) are cross-sectional views.

【図2】同上の金型の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the above-mentioned mold.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 金型 2 キャビティ 3 ゲート 4 熱可塑性樹脂 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Mold 2 Cavity 3 Gate 4 Thermoplastic resin

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 貴英 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 Fターム(参考) 4F206 AA34 AH37 AM32 AM34 JA07 JB17 JN15 JN22 JN25 JQ81 5F061 AA01 BA01 CA21 CB02 DA05 DA06  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Takahide Suzuki 1048 Odakadoma, Kadoma, Osaka Pref. DA06

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 金型のキャビティにゲートを通して熱可
塑性樹脂を充填した後、ゲートを閉塞する熱可塑性樹脂
の成形方法において、ゲート係数を0.023以上に設
定し、ゲートを閉塞した後、キャビティに充填された熱
可塑性樹脂を圧縮することを特徴とする熱可塑性樹脂の
成形方法。
1. A method for molding a thermoplastic resin in which a mold is filled with a thermoplastic resin through a gate and then closing the gate, wherein the gate coefficient is set to 0.023 or more, and the gate is closed. A method of molding a thermoplastic resin, comprising compressing a thermoplastic resin filled in a thermoplastic resin.
【請求項2】 キャビティに熱可塑性樹脂を充填した
後、ゲートを閉塞する前に、キャビティに充填された熱
可塑性樹脂を圧縮することを特徴とする請求項1に記載
の熱可塑性樹脂の成形方法。
2. The method of molding a thermoplastic resin according to claim 1, wherein the thermoplastic resin filled in the cavity is compressed after filling the cavity with the thermoplastic resin and before closing the gate. .
JP21240198A 1998-07-28 1998-07-28 Method for molding thermoplastic resin Withdrawn JP2000043107A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21240198A JP2000043107A (en) 1998-07-28 1998-07-28 Method for molding thermoplastic resin

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21240198A JP2000043107A (en) 1998-07-28 1998-07-28 Method for molding thermoplastic resin

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000043107A true JP2000043107A (en) 2000-02-15

Family

ID=16621984

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21240198A Withdrawn JP2000043107A (en) 1998-07-28 1998-07-28 Method for molding thermoplastic resin

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000043107A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012107703A (en) * 2010-11-17 2012-06-07 Nsk Ltd Cage for rolling bearing, method of manufacturing the same, and rolling bearing

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012107703A (en) * 2010-11-17 2012-06-07 Nsk Ltd Cage for rolling bearing, method of manufacturing the same, and rolling bearing

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3956335B2 (en) Semiconductor device manufacturing method using resin casting mold
KR100929054B1 (en) Method of Resin Encapsulation, Apparatus for Resin Encapsulation, Method of Manufacturing Semiconductor Device, Semiconductor Device and Resin Material
JP3282988B2 (en) Resin molding method and resin molding apparatus
US8394308B2 (en) Mold method
JPH04147814A (en) Mold for resin seal molding
US6428300B2 (en) Ultra mold for encapsulating very thin packages
US5254501A (en) Same-side gated process for encapsulating semiconductor devices
JP5065747B2 (en) Semiconductor package manufacturing method and manufacturing apparatus
JP2000043107A (en) Method for molding thermoplastic resin
JP2009152507A (en) Resin mold and method for resin molding of semiconductor package
JP2003324116A (en) Resin sealing metal mold and resin sealing device
JPH05111931A (en) Equipment for molding resin
JP2017087453A (en) Resin molding die and resin molding method
JP3195840B2 (en) Resin molding device and control method therefor
JP3139860B2 (en) Resin molding equipment
JP3280634B2 (en) Semiconductor package manufacturing method, mold for manufacturing semiconductor package, and semiconductor package
JP3543742B2 (en) Resin sealing molding equipment
JP2001024016A (en) Resin-sealing device for semiconductor package
JPH05237864A (en) Production of resin sealing-type semiconductor device and jig used therefor
JPS61292926A (en) Molding method and molding equipment
JPH11176853A (en) Semiconductor sealing and forming method, and semiconductor sealing and forming die
JP4548966B2 (en) Resin sealing device for electronic parts
JP2000334781A (en) Preparation of semiconductor package and mold for preparing semiconductor package
JP2694293B2 (en) High compression molding resin tablet molding method
JP3293105B2 (en) Semiconductor intermediate structure and resin molding device therefor

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20051004