JPH11176853A - Semiconductor sealing and forming method, and semiconductor sealing and forming die - Google Patents

Semiconductor sealing and forming method, and semiconductor sealing and forming die

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JPH11176853A
JPH11176853A JP34553097A JP34553097A JPH11176853A JP H11176853 A JPH11176853 A JP H11176853A JP 34553097 A JP34553097 A JP 34553097A JP 34553097 A JP34553097 A JP 34553097A JP H11176853 A JPH11176853 A JP H11176853A
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JP
Japan
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pressure
molding
thermoplastic resin
filling
mpa
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Withdrawn
Application number
JP34553097A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoichi Hashimoto
羊一 橋本
Tsutomu Ohira
勉 大平
Takahide Suzuki
貴英 鈴木
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide good semiconductor package characteristics by controlling at least one of the filling peak pressure and pressure-holding peak pressure to a particular pressure when performing semiconductor sealed molding for a thermoplastic resin. SOLUTION: In performing semiconductor sealed molding, a semiconductor element such as IC or the like is set and in a cavity 5, thermosetting resin melt from a injection molding machine is injected to dies, and thermoplastic resin is injected and filled from a spool 2 to cavity 5 through a runner 3 and further a gate 4. Injection pressure of the thermoplastic resin in the middle of injection is detected by a pressure sensor 7 which is located at least one of the gate 4 and cavity 5. And the injection molding is performed while controlling the peak pressure of the filling pressure in the middle of injection or the peak pressure after completion of filling to a range of 10 MPa to 60 MPa. Also for the thermoplastic resin, it is desired to have the polyphenylene sulphide as the main component.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、熱可塑性樹脂の射
出成形による半導体封止成形方法及び半導体封止成形金
型に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor encapsulation molding method and a semiconductor encapsulation molding die by injection molding of a thermoplastic resin.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体パッケージは、IC等の半導体素
子を封止樹脂によって封止して作製されるが、半導体素
子を封止成形するにあたっては、従来から、熱硬化性樹
脂であるエポキシ樹脂成形材料等を用い、これをトラン
スファー成形することによって行なわれている。
2. Description of the Related Art A semiconductor package is manufactured by encapsulating a semiconductor element such as an IC with an encapsulating resin. However, when encapsulating and molding a semiconductor element, conventionally, a thermosetting resin such as an epoxy resin is used. It is performed by transfer molding using a material or the like.

【0003】一方、このような熱硬化性樹脂を用いたト
ランスファー成形の他に、ポリフェニレンサルファイド
や液晶ポリマーなどの熱可塑性樹脂を用いた射出成形に
よって半導体封止成形を行なうことも報告されている。
On the other hand, in addition to the transfer molding using such a thermosetting resin, it has been reported that semiconductor encapsulation molding is performed by injection molding using a thermoplastic resin such as polyphenylene sulfide or a liquid crystal polymer.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、射出成形で半
導体封止成形を行なう場合、金型内にセットされた半導
体素子には射出成形の際に高圧が作用し、半導体素子に
ダメージを与えて、半導体素子の特性が低下したり、と
きには半導体素子にクラックを引き起こす場合があると
いう問題があった。特に、半導体パッケージの不良は成
形直後ではわからず、PCTなどの加速度試験でないと
成形の不良を判断することができないので、不良品を出
荷してしまう危険が大きくなるものである。
However, when semiconductor encapsulation is performed by injection molding, a high pressure acts on the semiconductor element set in the mold during the injection molding to damage the semiconductor element. In addition, there has been a problem that the characteristics of the semiconductor element are deteriorated, and sometimes the semiconductor element may be cracked. In particular, the defect of the semiconductor package is not known immediately after molding, and the defect of molding cannot be determined unless an acceleration test such as PCT is performed. Therefore, the risk of shipping a defective product increases.

【0005】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、特性の良好な半導体パッケージを得ることができ
る半導体封止成形方法及び半導体封止成形金型を提供す
ることを目的とするものである。
The present invention has been made in view of the above points, and has as its object to provide a semiconductor encapsulation molding method and a semiconductor encapsulation molding die capable of obtaining a semiconductor package having good characteristics. It is.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
半導体封止成形方法は、熱可塑性樹脂の射出成形によっ
て半導体封止成形を行なうにあたって、充填ピーク圧と
保圧ピーク圧の少なくとも一方を10〜60MPaに制
御することを特徴とするものである。また請求項2の発
明は、熱可塑性樹脂としてポリフェニレンサルファイド
を主成分とする成形材料を用いることを特徴とするもの
である。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor encapsulation molding method for performing semiconductor encapsulation molding by injection molding of a thermoplastic resin. Is controlled to 10 to 60 MPa. The invention of claim 2 is characterized in that a molding material containing polyphenylene sulfide as a main component is used as the thermoplastic resin.

【0007】また請求項3の発明は、熱可塑性樹脂とし
てポリフェニレンサルファイドとシンジオタクチックポ
リスチレンのポリマーアロイを主成分とする成形材料を
用いることを特徴とするものである。本発明の請求項4
に係る半導体封止成形金型は、充填ピーク圧と保圧圧力
の少なくとも一方を10〜60MPaに制御して、熱可
塑性樹脂の射出成形によって半導体封止成形を行なう金
型であって、キャビティに圧力センサーを設けて成るこ
とを特徴とするものである。
According to a third aspect of the present invention, a molding material containing a polymer alloy of polyphenylene sulfide and syndiotactic polystyrene as a main component is used as the thermoplastic resin. Claim 4 of the present invention
Is a mold for performing semiconductor encapsulation molding by injection molding of a thermoplastic resin by controlling at least one of the filling peak pressure and the holding pressure to 10 to 60 MPa. It is characterized by comprising a pressure sensor.

【0008】また本発明の請求項5に係る半導体封止成
形金型は、充填ピーク圧と保圧圧力の少なくとも一方を
10〜60MPaに制御して、熱可塑性樹脂の射出成形
によって半導体封止成形を行なう金型であって、ゲート
に圧力センサーを設けて成ることを特徴とするものであ
る。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor encapsulation mold by controlling at least one of a filling peak pressure and a holding pressure to 10 to 60 MPa and injection molding a thermoplastic resin. Wherein the pressure sensor is provided at the gate.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。本発明において熱可塑性樹脂としては、特に制限
されるものではないが、ポリフェニレンサルファイド
(PPS)を主成分とする成形材料や、ポリフェニレン
サルファイド(PPS)とシンジオタクチックポリスチ
レン(SPS)のポリマーアロイを主成分とする成形材
料を用いることができる。本発明ではこれらの熱可塑性
樹脂を用いて特に効果が大きい。
Embodiments of the present invention will be described below. In the present invention, the thermoplastic resin is not particularly limited, but is mainly a molding material containing polyphenylene sulfide (PPS) as a main component, or a polymer alloy of polyphenylene sulfide (PPS) and syndiotactic polystyrene (SPS). A molding material as a component can be used. In the present invention, these thermoplastic resins are particularly effective.

【0010】また本発明において射出成形に用いる成形
機としては、一般に汎用される熱可塑性樹脂用射出成形
機を使用することができる。図1は本発明において射出
成形に用いる金型の一例を示すものであり、固定型1を
通してスプルー2が形成してある。このスプルー2はラ
ンナー3を介して複数のゲート4に連通させてあり、さ
らに各ゲート4を介してキャビティ5に連通させてあ
る。ランナー3やゲート4は可動型6側に形成してあ
り、キャビティ5は固定型1と可動型2の間に形成する
ようにしてある。図1(b)において8及び9はノック
アウトピンであり、ノックアウトピン8,9は可動型6
に設けてある。
In addition, as a molding machine used for injection molding in the present invention, a commonly used injection molding machine for thermoplastic resin can be used. FIG. 1 shows an example of a mold used for injection molding in the present invention, in which a sprue 2 is formed through a fixed mold 1. The sprue 2 communicates with a plurality of gates 4 via a runner 3 and further communicates with a cavity 5 via each gate 4. The runner 3 and the gate 4 are formed on the movable mold 6 side, and the cavity 5 is formed between the fixed mold 1 and the movable mold 2. In FIG. 1B, reference numerals 8 and 9 denote knockout pins, and the knockout pins 8 and 9 are movable molds 6.
It is provided in.

【0011】そしてキャビティ5の直後のゲート4に面
して固定型1に圧力センサー7が設けてある。この圧力
センサー7はキャビティ5に面して固定型1に設けるよ
うにしてもよい。勿論、ゲート4とキャビティ5の両方
に圧力センサー7を設けるようにしてもよい。ゲート4
とキャビティ5以外の箇所に圧力センサー7を設けて圧
力を測定しても、この測定圧力と半導体パッケージの品
質との間に相関関係を見いだすことはできない。この圧
力センサー7としては、水晶圧力変換機など、一般に市
販されているプラスチック成形機用圧力センサーを使用
することが可能である。圧力センサー7はCPU等を内
蔵する制御装置に接続してあり、圧力センサー7によっ
て検出される圧力に応じて制御装置で射出機を制御する
ことができるようにしてある。
A pressure sensor 7 is provided on the fixed mold 1 facing the gate 4 immediately after the cavity 5. The pressure sensor 7 may be provided on the fixed mold 1 so as to face the cavity 5. Of course, the pressure sensor 7 may be provided in both the gate 4 and the cavity 5. Gate 4
Even if the pressure is measured by providing the pressure sensor 7 at a position other than the cavity 5 and the cavity 5, no correlation can be found between the measured pressure and the quality of the semiconductor package. As the pressure sensor 7, a commercially available pressure sensor for a plastic molding machine such as a quartz pressure converter can be used. The pressure sensor 7 is connected to a control device having a built-in CPU and the like, so that the injection device can be controlled by the control device according to the pressure detected by the pressure sensor 7.

【0012】上記のような金型を用いて半導体封止成形
を行なうにあたっては、キャビティ5内にICなどの半
導体素子をセットし、射出成形機から溶融した熱可塑性
樹脂を金型に射出し、熱可塑性樹脂をスプルー2からラ
ンナー3を介し、さらにゲート4を通してキャビティ5
に注入充填する。この射出途中の熱可塑性樹脂の充填圧
力はゲート4とキャビティ5の少なくとも一方に設けた
圧力センサー7で検出されている。このように熱可塑性
樹脂をキャビティ5に注入充填を完了した後に、熱可塑
性樹脂がキャビティ5に充填された状態を保持するため
に射出成形機からの射出圧力を保圧しながら冷却してキ
ャビティ5内の熱可塑性樹脂を固化させる。このときの
熱可塑性樹脂の充填状態を保持する保圧圧力はゲート4
とキャビティ5の少なくとも一方に設けた圧力センサー
7で検出されている。そして可動型6を下動させて型開
きをした後、キャビティ5内で成形された半導体パッケ
ージをノックアウトピン8,9で突き出して脱型するこ
とによって、成形を完了する。
When performing semiconductor encapsulation molding using the above-described mold, a semiconductor element such as an IC is set in the cavity 5, and a molten thermoplastic resin is injected into the mold from an injection molding machine. A thermoplastic resin is injected from the sprue 2 through the runner 3 and further through the gate 4 into the cavity 5.
And filling. The filling pressure of the thermoplastic resin during injection is detected by a pressure sensor 7 provided in at least one of the gate 4 and the cavity 5. After the injection of the thermoplastic resin into the cavity 5 is completed, the cavity 5 is cooled while maintaining the injection pressure from the injection molding machine in order to maintain the state in which the thermoplastic resin is filled in the cavity 5. Solidifies the thermoplastic resin. At this time, the holding pressure for maintaining the filling state of the thermoplastic resin is applied to the gate 4.
And the pressure sensor 7 provided in at least one of the cavities 5. Then, after the movable mold 6 is moved downward to open the mold, the semiconductor package formed in the cavity 5 is protruded by the knockout pins 8 and 9 and removed to complete the molding.

【0013】ここで本発明では、射出途中の充填圧力の
ピーク圧や、充填完了後の保圧圧力のピーク圧が、10
MPa〜60MPaの範囲になるように制御しながら、
射出成形を行なうものである。すなわち、射出途中の充
填圧力や充填完了後の保圧圧力を圧力センサー7で測定
し、充填圧力のピーク圧や保圧圧力のピーク圧が10M
Pa〜60MPaの範囲で設定された圧力の上限になる
と、射出成形機による射出圧力を下げるようにフィード
バック制御すると共に、充填圧力のピーク圧や保圧圧力
のピーク圧が10MPa〜60MPaの範囲で設定され
た圧力の下限になると、射出成形機による射出圧力を上
げるようにフィードバック制御することによって、充填
圧力のピーク圧や保圧圧力のピーク圧が10MPa〜6
0MPaの範囲から外れないように制御しながら、射出
成形を行なうようにしてある。
Here, in the present invention, the peak pressure of the filling pressure during injection and the peak pressure of the holding pressure after the completion of filling are reduced by 10%.
While controlling to be in the range of MPa to 60 MPa,
Injection molding is performed. That is, the filling pressure during injection and the holding pressure after completion of filling are measured by the pressure sensor 7, and the peak pressure of the filling pressure and the peak pressure of the holding pressure are 10M.
When the pressure reaches the upper limit set in the range of Pa to 60 MPa, feedback control is performed so as to lower the injection pressure by the injection molding machine, and the peak pressure of the filling pressure or the holding pressure is set in the range of 10 MPa to 60 MPa. When the pressure reaches the lower limit, the peak pressure of the filling pressure and the peak pressure of the holding pressure are controlled to 10 MPa to 6 by performing feedback control so as to increase the injection pressure by the injection molding machine.
Injection molding is performed while controlling so as not to deviate from the range of 0 MPa.

【0014】このピーク圧の管理は、充填圧力のピーク
圧と保圧圧力のピーク圧の両方について行なってもよい
が、充填圧力のピーク圧と保圧圧力のピーク圧の一方の
みについて行なうようにしてもよい。充填圧力のピーク
圧と保圧圧力のピーク圧の両方を管理する場合には、い
ずれか高いほうのピーク圧に基づいて射出成形機を制御
するようにしてもよい。そしてこのように、射出途中の
充填圧力のピーク圧や、充填完了後の保圧圧力のピーク
圧が、10MPa〜60MPaの範囲になるように制御
しながら、射出成形を行なうことによって、特性の良好
な半導体パッケージを成形することができるものであ
る。充填圧力のピーク圧や保圧圧力のピーク圧が60M
Paを超えると、このような圧力で成形された半導体パ
ッケージはPCTなどの加熱処理をした場合に、半導体
素子の特性が低下したり、半導体素子自身にクラックが
発生したりするおそれがある。また充填圧力のピーク圧
や保圧圧力のピーク圧が10MPa未満になると、キャ
ビティ5内の熱可塑性樹脂に十分な圧力がかからず、充
填不良による不良品が発生するおそれがある。
The management of the peak pressure may be performed for both the peak pressure of the filling pressure and the peak pressure of the holding pressure. However, the management of the peak pressure is performed only for one of the peak pressure of the filling pressure and the peak pressure of the holding pressure. You may. When managing both the peak pressure of the filling pressure and the peak pressure of the holding pressure, the injection molding machine may be controlled based on the higher peak pressure. In this way, by performing injection molding while controlling the peak pressure of the filling pressure during the injection and the peak pressure of the holding pressure after the filling is in the range of 10 MPa to 60 MPa, good characteristics can be obtained. It is possible to form a simple semiconductor package. Peak pressure of filling pressure and peak pressure of holding pressure are 60M
If the pressure exceeds Pa, the semiconductor package formed under such a pressure may be deteriorated in the characteristics of the semiconductor element or cracked in the semiconductor element itself when subjected to heat treatment such as PCT. If the peak pressure of the filling pressure or the peak pressure of the holding pressure is less than 10 MPa, sufficient pressure is not applied to the thermoplastic resin in the cavity 5, and a defective product due to poor filling may be generated.

【0015】[0015]

【実施例】次に、本発明を実施例によって具体的に説明
する。射出成形機として、日精樹脂(株)製「PS40
/5TM」を用い、金型は図1のような、TO220F
パッケージ4個取り用のものを用い、KISTLER社
製の圧力センサー「TYPE6159A」をゲートに取
り付けた。
Next, the present invention will be described specifically with reference to examples. As an injection molding machine, "PS40" manufactured by Nissei Plastics Co., Ltd.
/ 5TM "and the mold is TO220F as shown in FIG.
A pressure sensor “TYPE6159A” manufactured by KISTLER was attached to the gate using a package for taking four packages.

【0016】また熱可塑性樹脂としては次の組成で調製
した成形材料を用いた。すなわち、直鎖型PPS樹脂
(呉羽化学工業社製「W−202A」:23Pa・s/
パラレルプレート法、300℃、100rad/sec
で測定、イオン性不純物:ナトリウム2ppm、塩素1
ppm:電気伝導度5μS/cm)を100重量部、エ
チレン/グリシジルメタクリレート共重合体へのアクリ
ロニトリルスチレン共重合体のグラフト共重合体(日本
油脂社製「A4400」:EGMA/ASの割合70/
30、GMA10.5、330℃、重量減少−2.3
%)を5重量部、無機充填材としてミルドファイバー
(日本板硝子社製「REV8」、アミノシラン処理、繊
維径13μm、平均繊維長70μm、アルペクト比5.
6)を72重量部、カップリング剤としてアミノシラン
系カップリング剤(γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、日本ユニカー社製「A1100」を0.7重量
部、無機イオン交換体(Sb2 Bi1.4 6.4 (OH)
0.9 (NO3 0.4 ・0.6H2 O)を1重量部、ヘン
シェルミキサーで均一に混合した後、スクリュー径40
mmの二軸混練押出機を用いて、シリンダー温度300
℃の条件で押出混練し、ペレット化して成形材料を調製
した。
As the thermoplastic resin, a molding material prepared with the following composition was used. That is, a linear PPS resin (“W-202A” manufactured by Kureha Chemical Industry Co., Ltd .: 23 Pa · s /
Parallel plate method, 300 ° C, 100 rad / sec
Ionic impurities: sodium 2 ppm, chlorine 1
ppm: electric conductivity 5 μS / cm), 100 parts by weight, graft copolymer of acrylonitrile styrene copolymer onto ethylene / glycidyl methacrylate copolymer (“A4400” manufactured by NOF Corporation: EGMA / AS ratio 70 /
30, GMA 10.5, 330 ° C., weight loss -2.3
%), Milled fiber as inorganic filler ("REV8" manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd., aminosilane treatment, fiber diameter 13 m, average fiber length 70 m, arpect ratio 5.
6), 0.7 parts by weight of an aminosilane coupling agent (γ-aminopropyltriethoxysilane, “A1100” manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) as a coupling agent, and an inorganic ion exchanger (Sb 2 Bi 1.4 O 6.4) (OH)
0.9 (NO 3 ) 0.4 · 0.6 H 2 O) was uniformly mixed with 1 part by weight using a Henschel mixer, and then a screw diameter of 40
mm using a twin screw extruder with a cylinder temperature of 300 mm.
The mixture was extruded and kneaded under the condition of ° C, and pelletized to prepare a molding material.

【0017】そして半導体素子としてSiサイリスタ素
子を用い、金型温度130℃あるいは180℃、シリン
ダー温度300℃、充填時間1秒、保圧時間5秒、冷却
時間30秒の条件で射出成形を行ない、評価用半導体パ
ッケージを作製した。このとき、充填完了後の保圧圧力
のピーク圧が200kg/cm2 (約20MPa)、3
00kg/cm2 (約30MPa)、400kg/cm
2 (約40MPa)、500kg/cm2 (約50MP
a)、600kg/cm2 (約60MPa)、700k
g/cm2 (約70MPa)、800kg/cm2 (約
80MPa)、900kg/cm2 (約90MPa)、
1000kg/cm2 (約100MPa)になるよう
に、圧力センサーで測定しながら射出成形機を制御して
成形を行なった。
Using a Si thyristor element as a semiconductor element, injection molding is performed under the conditions of a mold temperature of 130 ° C. or 180 ° C., a cylinder temperature of 300 ° C., a filling time of 1 second, a dwell time of 5 seconds, and a cooling time of 30 seconds. An evaluation semiconductor package was manufactured. At this time, the peak pressure of the holding pressure after the completion of filling is 200 kg / cm 2 (about 20 MPa),
00 kg / cm 2 (about 30 MPa), 400 kg / cm
2 (about 40MPa), 500kg / cm 2 (about 50MP
a), 600 kg / cm 2 (about 60 MPa), 700 k
g / cm 2 (about 70 MPa), 800 kg / cm 2 (about 80 MPa), 900 kg / cm 2 (about 90 MPa),
The molding was performed by controlling the injection molding machine while measuring with a pressure sensor so that the pressure became 1000 kg / cm 2 (about 100 MPa).

【0018】このようにして得られた半導体パッケージ
について、121℃/85%RH/2atm/24hr
の条件でPCT処理し、このPCT処理した半導体パッ
ケージを発煙硫酸70%、濃硫酸30%の混合溶液中で
10分間煮沸して樹脂を除去し、内部の半導体素子にク
ラックが発生しているか否かを拡大鏡で目視観察した。
クラックが発生しているものを不良として、不良発生率
を図2及び図3に示す。図2は金型温度130℃で成形
したもの、図3は金型温度180℃で成形したものであ
る。
With respect to the semiconductor package thus obtained, 121 ° C./85% RH / 2 atm / 24 hr
The PCT treatment was performed under the conditions described above, and the PCT-treated semiconductor package was boiled for 10 minutes in a mixed solution of fuming sulfuric acid 70% and concentrated sulfuric acid 30% to remove the resin. Was visually observed with a magnifying glass.
The defect occurrence rate is shown in FIG. 2 and FIG. FIG. 2 shows a molding at a mold temperature of 130 ° C., and FIG. 3 shows a molding at a mold temperature of 180 ° C.

【0019】図2や図3にみられるように、充填完了後
の保圧圧力のピーク圧が600kg/cm2 (約60M
Pa)以下の場合には、不良発生はないが、充填完了後
の保圧圧力のピーク圧が600kg/cm2 (約60M
Pa)を超えると、不良が発生するものであった。尚、
PCTの未処理のものでは、充填完了後の保圧圧力のピ
ーク圧が600kg/cm2 (約60MPa)を超える
ものでもクラックの発生は観測されない。
As shown in FIGS. 2 and 3, the peak pressure of the holding pressure after the completion of filling is 600 kg / cm 2 (about 60M).
In the case of Pa) or less, no defect occurs, but the peak pressure of the holding pressure after completion of filling is 600 kg / cm 2 (about 60 M
When it exceeded Pa), a defect occurred. still,
In the case of untreated PCT, no crack is observed even if the peak pressure of the holding pressure after filling is over 600 kg / cm 2 (about 60 MPa).

【0020】また、上記のようにPCT処理した半導体
パッケージについて、ソニー社製「tektronix
370A」を用い、オン電圧(VON)、もれ電流(I
AKS)、ゲート漏れ電流(IKGO)を測定した。結
果を表1、表2に示す。表1は金型温度180℃で成形
したもの、表2は金型温度130℃で成形したものであ
る。尚、測定値未記入の欄はクラックが発生したもので
ある。
Further, regarding the semiconductor package subjected to the PCT processing as described above, “tektronix” manufactured by Sony Corporation is used.
370A ”, the ON voltage (VON) and the leakage current (I
AKS) and gate leakage current (IKGO). The results are shown in Tables 1 and 2. Table 1 shows the molding at a mold temperature of 180 ° C., and Table 2 shows the molding at a mold temperature of 130 ° C. In addition, the column where no measurement value is entered indicates that a crack has occurred.

【0021】[0021]

【表1】 [Table 1]

【0022】[0022]

【表2】 [Table 2]

【0023】[0023]

【発明の効果】上記のように本発明の請求項1に係る半
導体封止成形方法は、熱可塑性樹脂の射出成形によって
半導体封止成形を行なうにあたって、充填ピーク圧と保
圧ピーク圧の少なくとも一方を10〜60MPaに制御
するようにしたので、半導体素子にダメージを与えるこ
となく封止成形を行なうことができ、特性の良好な半導
体パッケージを得ることができるものである。
As described above, in the semiconductor encapsulation molding method according to the first aspect of the present invention, when performing semiconductor encapsulation molding by injection molding of a thermoplastic resin, at least one of the filling peak pressure and the holding pressure peak pressure. Is controlled to 10 to 60 MPa, it is possible to perform sealing molding without damaging the semiconductor element, and to obtain a semiconductor package having good characteristics.

【0024】また請求項2の発明は、熱可塑性樹脂とし
てポリフェニレンサルファイドを主成分とする成形材料
を用いることを特徴とするものであり、請求項3の発明
は、熱可塑性樹脂としてポリフェニレンサルファイドと
シンジオタクチックポリスチレンのポリマーアロイを主
成分とする成形材料を用いることを特徴とするものであ
り、このような熱可塑性樹脂を用いる場合に、上記のよ
うな圧力制御をして特に良好な結果を得ることができる
ものである。
The invention of claim 2 is characterized in that a molding material containing polyphenylene sulfide as a main component is used as the thermoplastic resin, and the invention of claim 3 is characterized in that polyphenylene sulfide and syndigo are used as the thermoplastic resin. It is characterized by using a molding material comprising a polymer alloy of tactic polystyrene as a main component, and when using such a thermoplastic resin, particularly good results are obtained by controlling the pressure as described above. Is what you can do.

【0025】また、充填ピーク圧と保圧圧力の少なくと
も一方を10〜60MPaに制御して、熱可塑性樹脂の
射出成形によって半導体封止成形を行なう金型におい
て、請求項4に係る半導体封止成形金型は、キャビティ
に圧力センサーを設けて成ることを特徴とするものであ
り、請求項5に係る半導体封止成形金型は、ゲートに圧
力センサーを設けて成ることを特徴とするものであり、
キャビティやゲートにおいて充填ピーク圧と保圧ピーク
圧を測定することができ、充填ピーク圧や保圧ピーク圧
を正確に測定して、10〜60MPaの範囲に圧力制御
を正確に行なうことができるものである。
In a mold for performing semiconductor encapsulation by injection molding of a thermoplastic resin by controlling at least one of the filling peak pressure and the holding pressure to 10 to 60 MPa, The mold is provided with a pressure sensor in the cavity, and the semiconductor encapsulation mold according to claim 5 is provided with a pressure sensor in the gate. ,
Capable of measuring filling peak pressure and holding pressure peak pressure in cavities and gates, accurately measuring filling peak pressure and holding pressure peak pressure, and accurately controlling pressure in the range of 10 to 60 MPa. It is.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の半導体封止成形金型の実施の形態の一
例を示すものであり、(a)は断面図、(b)は可動型
の平面図である。
FIG. 1 shows an example of an embodiment of a semiconductor encapsulation molding die according to the present invention, wherein (a) is a cross-sectional view and (b) is a plan view of a movable die.

【図2】金型温度130℃でのキャビティ内の保圧ピー
ク圧と不良率の関係を示すグラフである。
FIG. 2 is a graph showing a relationship between a holding pressure peak pressure in a cavity at a mold temperature of 130 ° C. and a defective rate.

【図3】金型温度180℃でのキャビティ内の保圧ピー
ク圧と不良率の関係を示すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing a relationship between a holding pressure peak pressure in a cavity at a mold temperature of 180 ° C. and a defective rate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

4 ゲート 5 キャビティ 7 圧力センサー 4 Gate 5 Cavity 7 Pressure sensor

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI B29C 45/77 B29C 45/77 H01L 23/29 H01L 23/30 R 23/31 // B29K 25:00 81:00 B29L 31:34 Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI B29C 45/77 B29C 45/77 H01L 23/29 H01L 23/30 R 23/31 // B29K 25:00 81:00 B29L 31:34

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 熱可塑性樹脂の射出成形によって半導体
封止成形を行なうにあたって、充填ピーク圧と保圧ピー
ク圧の少なくとも一方を10〜60MPaに制御するこ
とを特徴とする半導体封止成形方法。
1. A semiconductor encapsulation molding method, wherein at least one of a filling peak pressure and a holding pressure peak pressure is controlled to 10 to 60 MPa when performing semiconductor encapsulation molding by injection molding of a thermoplastic resin.
【請求項2】 熱可塑性樹脂としてポリフェニレンサル
ファイドを主成分とする成形材料を用いることを特徴と
する請求項1に記載の半導体封止成形方法。
2. The method according to claim 1, wherein a molding material containing polyphenylene sulfide as a main component is used as the thermoplastic resin.
【請求項3】 熱可塑性樹脂としてポリフェニレンサル
ファイドとシンジオタクチックポリスチレンのポリマー
アロイを主成分とする成形材料を用いることを特徴とす
る請求項1に記載の半導体封止成形方法。
3. The method according to claim 1, wherein a molding material mainly containing a polymer alloy of polyphenylene sulfide and syndiotactic polystyrene is used as the thermoplastic resin.
【請求項4】 充填ピーク圧と保圧圧力の少なくとも一
方を10〜60MPaに制御して、熱可塑性樹脂の射出
成形によって半導体封止成形を行なう金型であって、キ
ャビティに圧力センサーを設けて成ることを特徴とする
半導体封止成形金型。
4. A mold for performing semiconductor sealing molding by injection molding of a thermoplastic resin by controlling at least one of a filling peak pressure and a holding pressure to 10 to 60 MPa, wherein a pressure sensor is provided in a cavity. A semiconductor encapsulation molding die comprising:
【請求項5】 充填ピーク圧と保圧圧力の少なくとも一
方を10〜60MPaに制御して、熱可塑性樹脂の射出
成形によって半導体封止成形を行なう金型であって、ゲ
ートに圧力センサーを設けて成ることを特徴とする半導
体封止成形金型。
5. A mold for performing semiconductor encapsulation molding by injection molding of a thermoplastic resin by controlling at least one of a filling peak pressure and a holding pressure to 10 to 60 MPa, wherein a pressure sensor is provided at a gate. A semiconductor encapsulation molding die comprising:
JP34553097A 1997-12-15 1997-12-15 Semiconductor sealing and forming method, and semiconductor sealing and forming die Withdrawn JPH11176853A (en)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7144239B2 (en) * 2003-10-24 2006-12-05 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Molding apparatus with a molding flowability sensor for packaging semiconductor device
WO2012038769A1 (en) * 2010-09-23 2012-03-29 Kecskeméti Főiskola Measuring apparatus for determining flowing properties of polymeric melts
JP2012156149A (en) * 2011-01-21 2012-08-16 Daiichi Seiko Co Ltd Resin sealing apparatus and method for sealing resin
TWI667121B (en) * 2018-09-11 2019-08-01 國立高雄科技大學 A methodology to estimate suitable packing time and a process for multi-stage packing pressure settings

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