JP2000039562A - Scanning laser microscope - Google Patents

Scanning laser microscope

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JP2000039562A
JP2000039562A JP10207834A JP20783498A JP2000039562A JP 2000039562 A JP2000039562 A JP 2000039562A JP 10207834 A JP10207834 A JP 10207834A JP 20783498 A JP20783498 A JP 20783498A JP 2000039562 A JP2000039562 A JP 2000039562A
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light
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laser
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Akihiro Fujii
章弘 藤井
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To perform automatic focusing operation at an optional part within a visual field by controlling the deflection angle of a light deflecting member so that a part designated by an operation part may be irradiated with a laser beam, moving either of an objective lens or a sample so that the luminance information of light from the sample may be maximum and controlling focusing. SOLUTION: When a part pixel position (i, j)} where a focused image on the surface of a sample 13 is desired to be obtained, is indicated for an operation part 31, an luminance information acquiring part 32 of a control part 30 controls to fix the deflection angles of 1st and 2nd galvano mirrors 3 and 9 so that the part where the focused image on the surface of the sample 13 is desired to be obtained may be irradiated with a light beam 2. Then, the control part 30 fetches the luminance information outputted from a detector 17, decides a position Z where the intensity of a reflected beam is maximum and displays the image 21 focused in the center of a visual field on a monitor 22 by moving a Z stage 19 to a focusing position, that is, focused for the target part pixel position (i, j)} where the focused image on the surface 13b of the sample 13 is desired to be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、走査型レーザ顕微
鏡に関する。
[0001] The present invention relates to a scanning laser microscope.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば半導体のラインパターンや磁気ヘ
ッドなどのような微小部分の寸法を精度高く測定、観察
する顕微鏡としては走査型レーザ顕微鏡が知られてい
る。又、微小寸法の計測の際には、測定者の違いによる
測定値のヒューマンエラー等を無くすために自動合焦機
能が使用されている。
2. Description of the Related Art A scanning laser microscope is known as a microscope for measuring and observing the dimensions of a minute portion such as a line pattern of a semiconductor or a magnetic head with high accuracy. Further, when measuring minute dimensions, an automatic focusing function is used in order to eliminate a human error or the like of a measured value due to a difference in a measurer.

【0003】図6はかかる自動合焦機能付きの走査型レ
ーザ顕微鏡の光学系の構成図である。ビームスプリッタ
1には、レーザ光源(図示せず)から出力された等価的
に点光源と考えられるレーザ光(光ビーム)2が入射さ
れる。この光ビーム2は、ビームスプリッタ1で透過及
び反射されるが、このうちの透過した光ビーム2は第1
の光偏向器(例えばガルバノミラー)3に入射する。
FIG. 6 is a configuration diagram of an optical system of a scanning laser microscope having such an automatic focusing function. The beam splitter 1 receives a laser beam (light beam) 2 that is equivalently considered to be a point light source and is output from a laser light source (not shown). The light beam 2 is transmitted and reflected by the beam splitter 1, and the transmitted light beam 2 is the first light beam.
(For example, a galvanometer mirror) 3.

【0004】第1のガルバノミラー3は、光ビーム2を
例えばX方向に走査するもので、対物レンズ4の瞳12
と共役な位置に配置され、偏向を行っていない場合には
光ビーム2を光軸5に沿って進行させ、偏向を行ってい
る場合、すなわち光ビーム2を走査する場合には光ビー
ム2の進行方向及びその中心を軸外主光軸6を通るよう
に進行させる。
The first galvanomirror 3 scans the light beam 2 in, for example, the X direction.
When the beam is not deflected, the light beam 2 is advanced along the optical axis 5. When the beam is deflected, that is, when the light beam 2 is scanned, the light beam 2 is scanned. The traveling direction and the center are made to pass through the off-axis main optical axis 6.

【0005】第1のガルバノミラー3で走査された光ビ
ーム2は、2つの瞳伝送レンズ7、8を通って瞳位置に
配置された第2の偏向器(例えばガルバノミラー)9に
入射する。この第2のガルバノミラー9は、光ビーム2
を例えばY方向に走査する。
[0005] The light beam 2 scanned by the first galvanomirror 3 passes through two pupil transmission lenses 7 and 8 and enters a second deflector (eg, a galvanomirror) 9 arranged at the pupil position. This second galvanometer mirror 9 is used to
Is scanned in the Y direction, for example.

【0006】しかるに、これら第1及び第2のガルバノ
ミラー3、9によりXY方向の二次元に走査された光ビ
ーム2は、瞳投影レンズ10、結像レンズ11を通って
対物レンズ4の瞳12に入射し、この対物レンズ4によ
って試料13面上に回折によって制限される点状光が生
じ、かつこの点状光が試料13面上を二次元走査する。
However, the light beam 2 scanned two-dimensionally in the X and Y directions by the first and second galvanometer mirrors 3 and 9 passes through a pupil projection lens 10 and an imaging lens 11 and a pupil 12 of the objective lens 4. And the objective lens 4 generates point-like light limited by diffraction on the surface of the sample 13, and the point-like light two-dimensionally scans the surface of the sample 13.

【0007】この二次元走査による試料13面から反射
された光ビーム(反射ビーム)は、対物レンズ4とその
瞳12を通り、結像レンズ11を通って一旦結像し、さ
らに瞳投影レンズ10を通って第2のガルバノミラー9
に入射する。この反射ビームは、試料13面に照射した
光ビーム2と同じ経路を逆に進行してビームスプリッタ
1に戻り、このビームスプリッタ1で反射された反射ビ
ームは検出ビーム14となる。
The light beam (reflected beam) reflected from the surface of the sample 13 by the two-dimensional scanning passes through the objective lens 4 and its pupil 12, forms an image once through the imaging lens 11, and further forms an image on the pupil projection lens 10. Through the second galvanometer mirror 9
Incident on. This reflected beam travels in the reverse direction along the same path as the light beam 2 irradiating the surface of the sample 13 and returns to the beam splitter 1. The reflected beam reflected by the beam splitter 1 becomes a detection beam 14.

【0008】検出ビーム14は、反射ビームが第2及び
第1のガルバノミラー9、3を通って戻ってきているの
で、軸外を走査しても動かない。この検出ビーム14
は、集光レンズ15によって点状に絞られ、この点状に
絞られる位置に配置されたピンホール16を通過して検
出器17に入射する。しかるに、この検出器17で検出
ビーム14を検出することにより通常の顕微鏡よりも高
解像度の画像が得られる。なお、ピンホール16を配置
しなくても通常の画像を得ることはできる。
The detection beam 14 does not move even when scanning off axis because the reflected beam is returning through the second and first galvanometer mirrors 9 and 3. This detection beam 14
Is focused by a condenser lens 15 into a point, passes through a pinhole 16 disposed at a position where the point is focused, and enters a detector 17. However, by detecting the detection beam 14 with the detector 17, an image with a higher resolution than a normal microscope can be obtained. A normal image can be obtained without disposing the pinhole 16.

【0009】次に、かかる走査型レーザ顕微鏡の自動合
焦機能について図7を参照して説明する。なお、図6と
同一部分には同一符号を付してある。自動合焦を行う場
合、第1及び第2のガルバノミラー3、9は、共に偏向
動作を行わないようにする。これにより光ビーム2は、
試料13面上に走査しないので、光軸5に沿って進行す
る。
Next, the automatic focusing function of the scanning laser microscope will be described with reference to FIG. The same parts as those in FIG. 6 are denoted by the same reference numerals. When performing automatic focusing, both the first and second galvanometer mirrors 3 and 9 are configured not to perform a deflection operation. Thus, the light beam 2 is
Since scanning is not performed on the surface of the sample 13, the light travels along the optical axis 5.

【0010】以下、上記同様に光ビーム2は、瞳投影レ
ンズ10、結像レンズ11を通って対物レンズ4の瞳1
2に入射し、この対物レンズ4によって試料13面上の
光軸5上の位置すなわち顕微鏡の視野中心に照射され
る。そして、この試料13面からの反射ビームは、試料
13面に入射した光ビーム2と同じ経路を逆に進行して
ビームスプリッタ1に戻り、このビームスプリッタ1に
より反射された反射ビームが取り出されて検出ビーム1
4となる。そして、この検出ビーム14は、集光レンズ
15、ピンホール16を通過して検出器17により検出
される。
Hereinafter, the light beam 2 passes through the pupil projection lens 10 and the imaging lens 11 in the same manner as described above, and the pupil 1 of the objective lens 4
The objective lens 4 irradiates a position on the optical axis 5 on the surface of the sample 13, that is, a center of the visual field of the microscope. The reflected beam from the surface of the sample 13 travels in the same path as the light beam 2 incident on the surface of the sample 13 and returns to the beam splitter 1, and the reflected beam reflected by the beam splitter 1 is extracted. Detection beam 1
It becomes 4. The detection beam 14 passes through the condenser lens 15 and the pinhole 16 and is detected by the detector 17.

【0011】試料13はXYステージ18及びZステー
ジ19に載置されているが、自動合焦の際には、Zステ
ージ19によりレーザ走査光学系と試料13とを相対的
に光軸方向(Z方向)に移動させることで、図8に示す
ようなZ位置と反射ビームの強度との関係が得られる。
この関係から反射ビームの強度が最も大きくなるZ位置
m が合焦位置となる。
The sample 13 is placed on the XY stage 18 and the Z stage 19, and at the time of automatic focusing, the Z stage 19 relatively moves the laser scanning optical system and the sample 13 in the optical axis direction (Z direction). (Direction), a relationship between the Z position and the intensity of the reflected beam as shown in FIG. 8 is obtained.
Becomes largest Z position Z m is the intensity of the reflected beam from this relationship is the focus position.

【0012】従って、制御部20は、検出器17から出
力される輝度情報を取り込んで反射ビームの強度が最大
となるZ位置を判定し、合焦位置までZステージ19を
移動させて視野中心において合焦、すなわち試料13の
表面13aに対して合焦した画像21をモニタ22に表
示する。
Accordingly, the control unit 20 takes in the luminance information output from the detector 17, determines the Z position where the intensity of the reflected beam is maximum, moves the Z stage 19 to the in-focus position, and moves the Z stage 19 to the center of the visual field. An image 21 focused on the surface 13a of the sample 13 is displayed on the monitor 22.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記自
動合焦機能では、試料13上の光軸5上の位置、すなわ
ち視野中心での試料13の表面13aに対する合焦画像
を得ているが、合焦画像を得たいところが視野中心でな
く、視野中心の周辺部の例えば試料13の表面13aと
は段差の違う表面13bであれば、XYステージ18を
駆動して試料13の表面13bの部位が視野中心にくる
ように移動させて自動合焦を行わなければならなかっ
た。
However, in the automatic focusing function, a focused image on the surface 13a of the sample 13 at the position on the optical axis 5 on the sample 13, that is, at the center of the visual field is obtained. If it is not the center of the visual field that is desired to obtain a focused image, but the surface 13b of the peripheral portion of the center of the visual field is different from the surface 13a of the sample 13, for example, by driving the XY stage 18, the portion of the surface 13b of the sample 13 is visualized. It had to be moved to the center for automatic focusing.

【0014】このように、試料13の表面13bの部位
が視野中心にくるように移動させる場合、試料13の表
面13a、13bの移動距離は微小なために調整するの
が困難、かつ面倒であり、その操作に手間が掛かってい
た。特に半導体の三次元ラインパターンのように1つの
視野内で高さの違う様々な線幅を測定する場合には、そ
の都度試料13を移動させなくてはならないことが予測
される。又、測定対象領域が視野内で小さくなると、試
料13の位置合わせのために微小送りができる高価で高
精度なXYテーブルが必要となっていた。そこで本発明
は、視野内の任意の部位で自動合焦の動作ができる走査
型レーザ顕微鏡を提供することを目的とする。
In the case where the surface 13b of the sample 13 is moved so as to be at the center of the visual field, the movement distance of the surfaces 13a and 13b of the sample 13 is very small and difficult to adjust. , The operation was troublesome. In particular, when measuring various line widths having different heights within one field of view, such as a three-dimensional line pattern of a semiconductor, it is expected that the sample 13 must be moved each time. In addition, when the measurement target area becomes small in the field of view, an expensive and high-precision XY table capable of performing minute feed for the alignment of the sample 13 is required. Accordingly, an object of the present invention is to provide a scanning laser microscope capable of performing an automatic focusing operation at an arbitrary part in a visual field.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】請求項1によれば、レー
ザ光源と、このレーザ光源からのレーザ光を試料面上に
集光する対物レンズと、この対物レンズの瞳位置と共役
な位置に配置され対物レンズに入るレーザ光を偏向する
ことで試料面上を走査する光偏向部材と、試料からの光
を検出する検出器と、この検出器で検出された画像信号
を基に画像を表示するモニタとを備えた走査型レーザ顕
微鏡において、試料面上で合焦画像を得たい部位を指示
する操作部と、この操作部で指示した部位にレーザ光が
照射されるように光偏向部材の偏向角を制御し、試料か
らの光の輝度情報が最大となるように対物レンズと試料
の少なくとも一方を移動させ合焦制御を行う制御手段
と、を備えた走査型レーザ顕微鏡である。
According to the present invention, a laser light source, an objective lens for condensing laser light from the laser light source on a sample surface, and a conjugate position with a pupil position of the objective lens are provided. A light deflecting member that scans the sample surface by deflecting the laser light entering the objective lens, a detector that detects light from the sample, and displays an image based on the image signal detected by this detector In a scanning laser microscope equipped with a monitor for performing the operation, an operation section for instructing a portion on the sample surface where a focused image is to be obtained, and an optical deflecting member for irradiating a laser beam to the portion designated by the operation section. A scanning laser microscope comprising: a control unit that controls a deflection angle and moves at least one of an objective lens and a sample to perform focusing control so that luminance information of light from the sample is maximized.

【0016】請求項2によれば、請求項1記載の走査型
レーザ顕微鏡において、光偏向部材には、操作部で指示
した部位にレーザ光が照射される偏向角に光偏向部材を
固定制御する機能を備えている。
According to a second aspect of the present invention, in the scanning laser microscope according to the first aspect, the light deflecting member is fixedly controlled to a deflection angle at which a laser beam is applied to a portion designated by the operation unit. Has functions.

【0017】請求項3によれば、請求項1記載の走査型
レーザ顕微鏡において、制御手段には、光偏向部材の偏
向制御中にレーザ光が操作部で指示した部位に照射され
たときに同期して試料からの光の輝度情報をサンプリン
グする機能を備えている。
According to a third aspect of the present invention, in the scanning laser microscope according to the first aspect, the control means synchronizes when a laser beam is applied to a portion designated by the operation unit during the deflection control of the light deflecting member. And a function of sampling the luminance information of the light from the sample.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】(1) 以下、本発明の第1の実施の
形態について図面を参照して説明する。なお、図7と同
一部分には同一符号を付してその詳しい説明は省略す
る。図1は走査型レーザ顕微鏡の構成図である。
(1) Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The same parts as those in FIG. 7 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. FIG. 1 is a configuration diagram of a scanning laser microscope.

【0019】制御部30は、第1のガルバノミラー3を
偏向駆動して光ビーム2を例えばX方向に走査するとと
もに第2のガルバノミラー9を偏向駆動して光ビーム2
を例えばY方向に走査し、かつ自動合焦の際には、Zス
テージ19を駆動して対物レンズ4に対して試料13面
とを相対的に光軸方向(Z方向)に移動させ、このとき
に検出器17から出力される輝度情報を取り込んで上記
図8に示すように反射ビームの強度が最大となるZ位置
を判定し、Zステージ19にAFステージ動作情報を発
して合焦位置までZステージ19をZ方向で移動制御す
る機能を有している。
The controller 30 deflects the first galvanometer mirror 3 to scan the light beam 2 in, for example, the X direction, and deflects the second galvanometer mirror 9 to drive the light beam 2.
Is scanned in the Y direction, for example, and at the time of automatic focusing, the Z stage 19 is driven to move the surface of the sample 13 relative to the objective lens 4 in the optical axis direction (Z direction). When the luminance information output from the detector 17 is taken in, the Z position at which the intensity of the reflected beam is maximized is determined as shown in FIG. 8, and AF stage operation information is issued to the Z stage 19 to reach the in-focus position. It has a function of controlling the movement of the Z stage 19 in the Z direction.

【0020】又、制御部30には、試料13面上の合焦
画像を得たい部位に指示するための操作部31が接続さ
れ、かつこの操作部31で指示された試料13面上の合
焦画像を得たい部位の情報を受け、この指示部位に対応
する画像データ上の輝度情報を取得する輝度情報取得部
32の機能が備えられている。
The control unit 30 is connected to an operation unit 31 for instructing a region on the sample 13 where a focused image is desired to be obtained. A function of a luminance information acquisition unit 32 that receives information on a part where a focused image is to be obtained and acquires luminance information on image data corresponding to the designated part is provided.

【0021】この輝度情報取得部32は、試料13面上
の指示部位に照射する光ビーム2の偏向角の制御を第1
及び第2のガルバノミラー3、9の固定制御によって行
う機能を有している。詳述すると、第1及び第2のガル
バノミラー3、9の各偏向角は、それぞれ図2に示すよ
うに印加される正弦波状の交流電圧の電圧値に対応して
おり、これら交流電圧のゼロクロス点でモニター22の
視野中心に走査されるようになっている。しかるに、操
作部31で指示された試料13面上の合焦画像を得たい
部位の画素位置が例えば(i,j)であれば、輝度情報
取得部32は、この画素位置(i,j)に対応する第1
及び第2のガルバノミラー3、9のサンプリングクロッ
ク数(I、J)を求め、第1のガルバノミラー3に対し
て交流電圧におけるI番目のサンプリングクロック数の
電圧値の印加を指示し、かつ第2のガルバノミラー9に
対して交流電圧におけるJ番目のサンプリングクロック
数の電圧値の印加を指示して、第1及び第2のガルバノ
ミラー3、9の各偏向角を固定制御する機能を有してい
る。
The luminance information acquisition section 32 controls the deflection angle of the light beam 2 to be irradiated on the designated portion on the surface of the sample 13 by a first angle.
And a function of performing the fixed control of the second galvanometer mirrors 3 and 9. More specifically, each deflection angle of the first and second galvanometer mirrors 3 and 9 corresponds to a voltage value of a sinusoidal AC voltage applied as shown in FIG. The point is scanned at the center of the visual field of the monitor 22. However, if the pixel position of the portion where it is desired to obtain a focused image on the surface of the sample 13 specified by the operation unit 31 is, for example, (i, j), the luminance information acquisition unit 32 sets the pixel position (i, j) The first corresponding to
And the number of sampling clocks (I, J) of the second galvanometer mirrors 3 and 9 are obtained, and the application of the voltage value of the I-th sampling clock number in the AC voltage to the first galvanometer mirror 3 is instructed. The second galvanomirror 9 has a function of instructing the application of the voltage value of the J-th sampling clock number in the AC voltage to fix and control each deflection angle of the first and second galvanomirrors 3 and 9. ing.

【0022】次に上記の如く構成された顕微鏡の作用に
ついて説明する。操作部31に対して顕微鏡視野内の合
焦画像を得たい目的の部位例えば試料13の表面13b
上の画素位置(i,j)が指示されると、制御部30の
輝度情報取得部32は、操作部31で指示された試料1
3面上の合焦画像を得たい部位の画素位置(i,j)に
対応する第1及び第2のガルバノミラー3、9のサンプ
リングクロック数(I、J)を求める。
Next, the operation of the microscope configured as described above will be described. A target portion for obtaining a focused image in the microscope field of view with respect to the operation unit 31, for example, the surface 13b of the sample 13
When the upper pixel position (i, j) is specified, the luminance information acquisition unit 32 of the control unit 30 transmits the sample 1 specified by the operation unit 31.
The number of sampling clocks (I, J) of the first and second galvanomirrors 3, 9 corresponding to the pixel position (i, j) of the part where the in-focus image is desired to be obtained on the three surfaces is obtained.

【0023】この後、輝度情報取得部32は、第1のガ
ルバノミラー3に対して交流電圧におけるI番目のサン
プリングクロック数の電圧値の印加を指示し、かつ第2
のガルバノミラー9に対して交流電圧におけるJ番目の
サンプリングクロック数の電圧値の印加を指示する。
Thereafter, the luminance information acquisition unit 32 instructs the first galvanomirror 3 to apply the voltage value of the I-th sampling clock number in the AC voltage, and
Is instructed to apply the voltage value of the J-th sampling clock number in the AC voltage to the galvanomirror 9.

【0024】これにより、第1のガルバノミラー3は、
I番目のサンプリングクロック数の電圧値に対応する偏
向角に固定制御されて、合焦画像を得たい部位のX座標
に光ビーム2を照射する方向に傾き、第2のガルバノミ
ラー3は、J番目のサンプリングクロック数の電圧値に
対応する偏向角に固定制御されて、合焦画像を得たい部
位のY座標に光ビーム2を照射する方向に傾く。
Thus, the first galvanomirror 3 is
The deflection angle corresponding to the voltage value of the I-th sampling clock is fixedly controlled and tilted in the direction of irradiating the light beam 2 to the X-coordinate of the part where the in-focus image is to be obtained. The light beam 2 is tilted in the direction of irradiating the light beam 2 to the Y coordinate of the part where the in-focus image is desired to be obtained, being fixedly controlled to the deflection angle corresponding to the voltage value of the number of sampling clocks.

【0025】この状態で、ビームスプリッタ1には、レ
ーザ光源(図示せず)から出力された等価的に点光源と
考えられる光ビーム2が入射される。この光ビーム2
は、ビームスプリッタ1で透過及び反射されるが、この
うちの透過した光ビーム2は第1のガルバノミラー3に
入射する。
In this state, the light beam 2 output from a laser light source (not shown), which is equivalently regarded as a point light source, enters the beam splitter 1. This light beam 2
Is transmitted and reflected by the beam splitter 1, and the transmitted light beam 2 is incident on the first galvano mirror 3.

【0026】第1のガルバノミラー3は、光ビーム2を
試料13面の合焦画像を得たい目的の部位の画素位置
(i,j)と同一のX座標を照明する方向に固定偏向す
る。この走査された光ビーム2は、2つの瞳伝送レンズ
7、8を通って瞳位置に配置された第2のガルバノミラ
ー9に入射する。この第2のガルバノミラー9は、光ビ
ーム2を試料13面の合焦画像を得たい目的の部位の画
素位置(i,j)と同一のY座標を照明する方向に固定
偏向する。
The first galvanometer mirror 3 deflects the light beam 2 in the direction of illuminating the same X coordinate as the pixel position (i, j) of the target portion where a focused image of the surface of the sample 13 is to be obtained. The scanned light beam 2 passes through the two pupil transmission lenses 7 and 8 and enters the second galvanometer mirror 9 arranged at the pupil position. The second galvanometer mirror 9 deflects the light beam 2 in the direction of illuminating the same Y coordinate as the pixel position (i, j) of the target portion where a focused image of the sample 13 is desired to be obtained.

【0027】しかるに、これら第1及び第2のガルバノ
ミラー3、9によりXY方向に固定偏光された光ビーム
2は、瞳投影レンズ10、結像レンズ11を通って対物
レンズ4の瞳12に入射し、この対物レンズ4によって
試料13面上に回折によって制限される点状光を生さ
せ、かつこの点状光を試料13面上の目的の部位のみに
照射させる。
However, the light beam 2 fixedly polarized in the X and Y directions by the first and second galvanometer mirrors 3 and 9 passes through the pupil projection lens 10 and the imaging lens 11 and enters the pupil 12 of the objective lens 4. Then, the objective lens 4 generates point-like light limited by diffraction on the surface of the sample 13 and irradiates the point-like light only to a target portion on the surface of the sample 13.

【0028】この試料13面からの反射ビームは、試料
13面に入射した光ビーム2と同じ経路を逆に進行して
ビームスプリッタ1に戻り、このビームスプリッタ1で
反射された反射ビームは検出ビーム14となる。そし
て、この検出ビーム14は、集光レンズ15、ピンホー
ル16を介して検出器17により検出される。
The reflected beam from the sample 13 surface travels in the same path as the light beam 2 incident on the sample 13 surface and returns to the beam splitter 1, and the reflected beam reflected by the beam splitter 1 is a detection beam. It becomes 14. The detection beam 14 is detected by the detector 17 via the condenser lens 15 and the pinhole 16.

【0029】制御部30は、検出器17から出力される
輝度情報を取り込んで反射ビームの強度が最大となるZ
位置を判定し、合焦位置までZステージ19を移動させ
て視野中心において合焦、すなわち試料13の表面13
b上の合焦画像を得たい目的の部位{画素位置(i,
j)}に対して合焦した画像21をモニタ22に表示す
る。
The control section 30 takes in the luminance information output from the detector 17 and sets the Z value at which the intensity of the reflected beam becomes maximum.
The position is determined, and the Z stage 19 is moved to the in-focus position to focus on the center of the visual field, that is, the surface 13 of the sample 13.
b where a desired part to obtain a focused image / pixel position (i,
j) An image 21 focused on} is displayed on the monitor 22.

【0030】このように上記第1の実施の形態において
は、操作部31に対して試料13面上の合焦画像を得た
い部位が指示されると、制御部30の輝度情報取得部3
2は、かかる試料13面上の合焦画像を得たい部位に光
ビーム2が照射されるように第1及び第2のガルバノミ
ラー3、9の偏向角を固定制御するので、顕微鏡の任意
に指示した試料13の表面13b上の部位{画素位置
(i,j)}において合焦した画像を簡単に得ることが
できる。このように試料13の表面13b上の部位を指
示すれば、この部位の合焦した画像を簡単に得ることが
できるので、測定領域対象が顕微鏡の視野内で小さくな
っても試料13面の中心に位置合わせをする必要がな
く、高価な高精度XYステージは必要なく安価な粗動用
のXYステージがあれば十分である。
As described above, in the first embodiment, when the operation unit 31 is instructed to obtain a focused image on the surface of the sample 13, the brightness information acquisition unit 3 of the control unit 30
In the microscope 2, the deflection angles of the first and second galvanometer mirrors 3 and 9 are fixedly controlled so that the light beam 2 is irradiated to a portion on the surface of the sample 13 where a focused image is to be obtained. It is possible to easily obtain a focused image at the specified portion {pixel position (i, j)} on the surface 13b of the sample 13. In this way, if a site on the surface 13b of the sample 13 is indicated, a focused image of this site can be easily obtained, so that the center of the surface of the sample 13 can be obtained even if the measurement target is small in the field of view of the microscope. There is no need for high-precision XY stage, and there is no need for expensive high-precision XY stage.

【0031】又、上記第1の実施の形態を応用して試料
の段差を素早く測定することができる。例えば図3(a)
は段差を有する試料40の外観図であり、同図(b) は同
試料40を顕微鏡で観察したときの顕微鏡視野内の画像
を示す。この試料40を観察したときの顕微鏡視野41
の中にある任意の2点A、Bでの合焦したときのそれぞ
れのZステージ19の位置の差により、これらA、B点
間の段差を素早く求めることができる。
Further, the step of the sample can be quickly measured by applying the first embodiment. For example, FIG.
Is an external view of the sample 40 having a step, and FIG. 2B shows an image in the visual field of the microscope when the sample 40 is observed with a microscope. Microscope visual field 41 when observing this sample 40
The step between these A and B points can be quickly obtained from the difference between the positions of the respective Z stages 19 at the time of focusing at arbitrary two points A and B in the above.

【0032】又、顕微鏡視野内の像面湾曲収差の大きさ
が無視できないほどの微小な段差を測定する場合には、
予め各対物レンズ毎の像面湾曲量のデータにより段差測
定値を補正することでさらに正確な段差測定ができる。
Further, when measuring a very small step in which the magnitude of the field curvature aberration in the microscope field of view cannot be ignored,
By correcting the step measurement value in advance with the data of the field curvature amount for each objective lens, more accurate step measurement can be performed.

【0033】従って、顕微鏡視野内の任意の2点間の段
差をXYステージを動かすことなく簡単に測定できる。 (2) 次に、本発明の第2の実施の形態について説明す
る。この第2の実施の形態は、図1に示す走査型レーザ
顕微鏡における第1及び第2のガルバノミラー3、9を
それぞれ図4に示す光偏向機構(X方向走査用とY方向
走査用)に代えたものである。なお、走査型レーザ顕微
鏡全体の構成は、図1と同様であり、その詳しい説明は
省略する。
Therefore, the step between any two points in the visual field of the microscope can be easily measured without moving the XY stage. (2) Next, a second embodiment of the present invention will be described. In the second embodiment, the first and second galvanometer mirrors 3 and 9 in the scanning laser microscope shown in FIG. 1 are respectively replaced with light deflection mechanisms (for X-direction scanning and Y-direction scanning) shown in FIG. It has been replaced. The configuration of the entire scanning laser microscope is the same as that of FIG. 1, and a detailed description thereof will be omitted.

【0034】これらXとY方向走査用の各光偏向機構
は、第1又は第2のガルバノミラー3、9自体の向きを
変えるものであり、パルスモータ50の回転軸に動力伝
達機構51を介してガルバノミラー保持部品52が連結
されている。このうち動力伝達機構51は、パルスモー
タ50の回転軸に連結されたプーリ56と、ガルバノミ
ラー保持部品52に連結されたプーリ53と、これらプ
ーリ56、53との間に掛けられたベルト54と、パル
スモータ50を固定するとともにガルバノミラー保持部
品52を回動自在に支持するベース55とから構成され
ている。又、ガルバノミラー保持部品52は、上記の如
くベース55に対して第1又は第2のガルバノミラー
3、9のミラー3a、9aの回転軸を中心に回動自在に
指示され、かつこれらガルバノミラー3、9自体を保持
するものとなっている。
Each of these light deflection mechanisms for scanning in the X and Y directions changes the direction of the first or second galvanometer mirrors 3 and 9 itself, and is connected to the rotation shaft of the pulse motor 50 via a power transmission mechanism 51. The galvanomirror holding part 52 is connected. The power transmission mechanism 51 includes a pulley 56 connected to the rotation shaft of the pulse motor 50, a pulley 53 connected to the galvanomirror holding component 52, and a belt 54 hung between the pulleys 56 and 53. And a base 55 for fixing the pulse motor 50 and rotatably supporting the galvanomirror holding component 52. Further, the galvanomirror holding component 52 is instructed relative to the base 55 so as to be rotatable about the rotation axes of the mirrors 3a, 9a of the first or second galvanomirrors 3, 9, and these galvanomirrors. 3, 9 themselves are held.

【0035】一方、制御部30は、上記同様に第1及び
第2のガルバノミラー3、9をそれぞれ偏向駆動して光
ビーム2をXY方向に走査し、自動合焦の際には、検出
器17から出力される輝度情報を取り込んで試料13か
らの反射ビームの強度が最大となるようにZステージ1
9をZ方向に移動制御し、そのときの合焦した画像をモ
ニタ22に表示する機能を有している。
On the other hand, the control unit 30 scans the light beam 2 in the X and Y directions by deflecting and driving the first and second galvanometer mirrors 3 and 9 as described above. The luminance information output from the sample 17 is taken in, and the Z stage 1 is set so that the intensity of the reflected beam from the sample 13 is maximized.
9 is controlled to move in the Z direction, and a function of displaying a focused image at that time on the monitor 22 is provided.

【0036】又、制御部30は、操作部31で指示され
た試料13面上の合焦画像を得たい部位の情報を受ける
と、この試料13面上の合焦画像を得たい指示部位に光
ビーム2を照射する偏向角となるように第1及び第2の
ガルバノミラー3、9を停止制御させる機能を有してい
る。
When the control unit 30 receives information on a part on the sample 13 surface on which the user wants to obtain a focused image specified by the operation unit 31, the control unit 30 sends the information to the designated part on the sample 13 surface on which the focused image is to be obtained. It has a function of stopping and controlling the first and second galvanometer mirrors 3 and 9 so as to have a deflection angle for irradiating the light beam 2.

【0037】さらに、制御部30は、第1及び第2のガ
ルバノミラー3、9に対する各サンプリングクロック数
に基づいてこれらガルバノミラー3、9の現在の偏向角
と試料13面上の合焦画像を得たい部位を照明するため
の偏向角とのオフセット角を求め、このオフセット角分
だけ第1又は第2のガルバノミラー3、9自体を回動さ
せるための指令をパルスモータ50に発する機能を有し
ている。
Further, the control unit 30 calculates the current deflection angles of the galvanomirrors 3 and 9 and the focused image on the surface of the sample 13 based on the number of sampling clocks for the first and second galvanomirrors 3 and 9. It has a function of obtaining an offset angle with respect to a deflection angle for illuminating a desired portion, and issuing a command to the pulse motor 50 to rotate the first or second galvanometer mirror 3 or 9 itself by the offset angle. are doing.

【0038】このような光偏向機構を用いれば、操作部
31に対して顕微鏡視野内の合焦画像を得たい目的の部
位、例えば画素位置(i,j)を指示すると、制御部3
0は、第1及び第2のガルバノミラー3、9に対する各
サンプリングクロック数に基づいてこれらガルバノミラ
ー3、9の現在の偏向角と合焦画像を得たい画素位置
(i,j)を照明するための偏向角とのオフセット角を
求め、このオフセット角分だけ第1又は第2のガルバノ
ミラー3、9自体を回動させるための指令をパルスモー
タ50に発する。
When such a light deflecting mechanism is used, when the operation unit 31 is instructed to specify a target portion within the visual field of the microscope, for example, a pixel position (i, j), the control unit 3
0 illuminates the current deflection angle of these galvanomirrors 3 and 9 and the pixel position (i, j) where it is desired to obtain a focused image based on the respective sampling clock numbers for the first and second galvanomirrors 3 and 9. And an instruction to rotate the first or second galvanomirrors 3 and 9 by the offset angle is issued to the pulse motor 50.

【0039】このパルスモータ50が回動すると、この
回動が動力伝達機構を通してガルバノミラー保持部品5
2に伝達され、このガルバノミラー保持部品52に一体
になっている第1又は第2のガルバノミラー3、9を所
定の偏向角となるように回動させる。なお、このときガ
ルバノミラーには、電圧が印加されていないので、ニュ
ートラル位置(正面)を向いている。そして、第1又は
第2のガルバノミラー3、9の偏向角が合焦画像を得た
い画素位置(i,j)を照明するための角度になると、
制御部30からパルスモータ50に対して停止指令が発
せられ、これらガルバノミラー保持部品52と第1又は
第2のガルバノミラー3、9との一体的な回動は停止す
る。
When the pulse motor 50 rotates, the rotation is transmitted through the power transmission mechanism to the galvanomirror holding component 5.
The first and second galvanometer mirrors 3 and 9 integrated with the galvanometer mirror holding component 52 are rotated to a predetermined deflection angle. At this time, since no voltage is applied to the galvanometer mirror, the mirror faces the neutral position (front). When the deflection angle of the first or second galvanometer mirror 3 or 9 becomes an angle for illuminating the pixel position (i, j) for which a focused image is to be obtained,
A stop command is issued from the control unit 30 to the pulse motor 50, and the integral rotation of the galvanomirror holding component 52 and the first or second galvanomirrors 3, 9 stops.

【0040】以下、上記同様に、第1のガルバノミラー
3は、光ビーム2を試料13面の合焦画像を得たい目的
の部位の画素位置iと同一のX座標を照明する方向に固
定偏向し、第2のガルバノミラー9は、光ビーム2を試
料13面の合焦画像を得たい目的の部位の画素位置jと
同一のY座標を照明する方向に固定偏向する。
In the same manner as above, the first galvanomirror 3 fixedly deflects the light beam 2 in the direction of illuminating the same X coordinate as the pixel position i of the target portion where the in-focus image of the sample 13 is desired to be obtained. Then, the second galvanometer mirror 9 deflects the light beam 2 in the direction of illuminating the same Y coordinate as the pixel position j of the target portion where the in-focus image of the sample 13 is desired to be obtained.

【0041】これら第1及び第2のガルバノミラー3、
9によりXY方向に固定偏向された光ビーム2は、瞳投
影レンズ10、結像レンズ11を通って対物レンズ4の
瞳12に入射し、試料13面上の任意の部位{画素位置
(i,j)}にのみ照射される。
The first and second galvanomirrors 3,
The light beam 2 fixedly deflected in the X and Y directions by 9 passes through the pupil projection lens 10 and the imaging lens 11 to enter the pupil 12 of the objective lens 4, and arbitrarily divides the pixel position (i, j) Irradiated only on}.

【0042】この試料13面からの反射ビームは、試料
13面に入射した光ビーム2と同じ経路を逆に進行して
ビームスプリッタ1で反射されて検出ビーム14とな
り、その検出ビーム14は、集光レンズ15、ピンホー
ル16を介して検出器17で検出される。
The reflected beam from the surface of the sample 13 travels in the same path as the light beam 2 incident on the surface of the sample 13 and is reflected by the beam splitter 1 to become a detection beam 14, and the detection beam 14 is collected. The light is detected by the detector 17 via the optical lens 15 and the pinhole 16.

【0043】制御部30は、検出器17から出力される
輝度情報を取り込んで反射ビームの強度が最大となるZ
位置を判定する。次いで、制御部30は、し、合焦位置
までZステージ19を移動させて視野中心において合
焦、すなわち試料13の表面13b上の合焦画像を得た
い目的の部位{画素位置(i,j)}に対して合焦した
画像21をモニタ22に表示させる。
The control unit 30 takes in the luminance information output from the detector 17 and sets the Z value at which the intensity of the reflected beam becomes maximum.
Determine the position. Next, the control unit 30 moves the Z stage 19 to the in-focus position and focuses at the center of the visual field, that is, a target part to obtain a focused image on the surface 13 b of the sample 13 {pixel position (i, j) ) Display on the monitor 22 the image 21 focused on}.

【0044】このように上記第2の実施の形態によれ
ば、上記第1の実施の形態と同様な効果を奏することは
言うまでもない。 (3) 次に、本発明の第3の実施の形態について説明す
る。この第3の実施の形態は、図1に示す走査型レーザ
顕微鏡での検出器17からの輝度情報の取り込み方法を
変えたものである。なお、走査型レーザ顕微鏡全体の構
成は、図1と同様であり、その詳しい説明は省略する。
As described above, according to the second embodiment, it goes without saying that the same effects as in the first embodiment can be obtained. (3) Next, a third embodiment of the present invention will be described. In the third embodiment, the method of taking in luminance information from the detector 17 in the scanning laser microscope shown in FIG. 1 is changed. The configuration of the entire scanning laser microscope is the same as that of FIG. 1, and a detailed description thereof will be omitted.

【0045】この制御部30の輝度情報取得部32は、
第1及び第2のガルバノミラー3、9による走査制御中
に光ビーム2が操作部31で指示された部位に照射され
たときに同期して検出器17で検出される輝度情報をサ
ンプリングする機能を有している。すなわち、図5は輝
度情報のサンプリングタイミングを示す図であって、第
1及び第2のガルバノミラー3、9に対する走査中の電
圧値変化を示している。これらガルバノミラー3、9
は、期間Tで1画面の全走査を行うもので、この走査を
繰り返すようにする。
The brightness information acquisition unit 32 of the control unit 30
A function of sampling the luminance information detected by the detector 17 in synchronization with the light beam 2 being irradiated on the part specified by the operation unit 31 during the scanning control by the first and second galvanometer mirrors 3 and 9. have. That is, FIG. 5 is a diagram showing the sampling timing of the luminance information, and shows a voltage value change during scanning of the first and second galvanometer mirrors 3 and 9. These galvanometer mirrors 3, 9
Performs a full scan of one screen in a period T, and repeats this scan.

【0046】しかるに、操作部31から指示された顕微
鏡視野内の合焦画像を得たい目的の部位が例えば画素位
置(i,j)であれば、この部位に照明を行うときの第
1及び第2のガルバノミラー3、9の各偏向角は、第1
のガルバノミラー(X方向)3に対してサンプリングク
ロック数Iの電圧値、第2のガルバノミラー(Y方向)
9に対してサンプリングクロック数Jの電圧値のときと
なる。
However, if the target portion in the microscope visual field designated by the operation section 31 for which a focused image is to be obtained is, for example, the pixel position (i, j), the first and second positions for illuminating this portion are to be obtained. Each deflection angle of the two galvanometer mirrors 3 and 9 is the first
The voltage value of the sampling clock number I with respect to the galvanomirror 3 (X direction), the second galvanomirror (Y direction)
9 corresponds to the voltage value of the sampling clock number J.

【0047】従って、制御部30は、第1のガルバノミ
ラー3に対してサンプリングクロック数I、第2のガル
バノミラー9に対してサンプリングクロック数Jのとき
の検出器17からの輝度情報の取り込み、反射ビームの
強度が最大となるZ位置を判定、合焦位置までZステー
ジ19を移動させて視野中心において合焦、すなわち試
料13面上の合焦画像を得たい目的の部位{画素位置
(i,j)}に対して合焦した画像21のモニタ22へ
の表示といった機能を有する。
Accordingly, the control unit 30 fetches the luminance information from the detector 17 when the number of sampling clocks is I for the first galvano mirror 3 and the number of sampling clocks J is for the second galvanomirror 9. The Z position at which the intensity of the reflected beam is maximized is determined, and the Z stage 19 is moved to the in-focus position to focus at the center of the field of view, that is, the target site on the surface of the sample 13 {the pixel position (i. , J)} on the monitor 22 to display the image 21 focused on.

【0048】このような構成にすることで、第1のガル
バノミラー3により光ビーム2をX方向に走査し、第2
のガルバノミラー9により光ビーム2をY方向に走査し
ているときに、操作部31から顕微鏡視野内の合焦画像
を得たい目的の部位例えば画素位置(i,j)が指示さ
れると、制御部30は、第1のガルバノミラー3に対す
るサンプリングクロック数がI、第2のガルバノミラー
9に対するサンプリングクロック数がJになると、検出
器17からの輝度情報を取り込み、反射ビームの強度が
最大となるZ位置を判定し、合焦位置までZステージ1
9を移動させて視野中心において合焦、すなわち試料1
3上の合焦画像を得たい目的の部位{画素位置(i,
j)}に対して合焦した画像21をモニタ22に表示す
る。
With such a configuration, the light beam 2 is scanned in the X direction by the first galvanometer mirror 3, and the second
When the light beam 2 is scanned in the Y direction by the galvanomirror 9, when the operation unit 31 designates a target part, such as a pixel position (i, j), in which the in-focus image is to be obtained in the microscope field of view, When the number of sampling clocks for the first galvanomirror 3 becomes I and the number of sampling clocks for the second galvanomirror 9 becomes J, the control unit 30 takes in luminance information from the detector 17 and determines that the intensity of the reflected beam is maximum. Is determined, and the Z stage 1 is moved to the in-focus position.
9 is moved to focus on the center of the visual field, ie, the sample 1
3 where the in-focus image is desired to be obtained / pixel position (i,
j) An image 21 focused on} is displayed on the monitor 22.

【0049】このように上記第3の実施の形態よれば、
第1及び第2のガルバノミラー3、9によるXY方向の
走査中に、任意の部位の合焦画像を得ることができ、こ
れにより任意の偏向角で停止することのできない共振型
のガルバノミラーを用いるときにも有効である。
As described above, according to the third embodiment,
During scanning in the X and Y directions by the first and second galvanometer mirrors 3 and 9, an in-focus image of an arbitrary part can be obtained, whereby a resonance type galvanometer mirror that cannot be stopped at an arbitrary deflection angle can be obtained. It is also effective when used.

【0050】なお、本発明は、上記第1乃至第3の実施
の形態に限定されるものでなく次の通り変形してもよ
い。例えば、上記第1乃至第3の実施の形態では反射型
のレーザ顕微鏡に適用した例について説明したが、試料
13の透過光を検出する透過型のレーザ顕微鏡に適用す
ることもできる。
The present invention is not limited to the first to third embodiments, but may be modified as follows. For example, in the first to third embodiments, an example in which the present invention is applied to a reflection type laser microscope has been described. However, the present invention can also be applied to a transmission type laser microscope which detects transmitted light of the sample 13.

【0051】[0051]

【発明の効果】以上詳記したように本発明の請求項1〜
3によれば、視野内の任意の部位で自動合焦の動作がで
きる走査型レーザ顕微鏡を提供できる。又、本発明の請
求項3によれば、任意の偏向角で停止することのできな
い共振型のガルバノミラーを用いたときにも視野内の任
意の部位で自動合焦の動作ができる走査型レーザ顕微鏡
を提供できる。
As described in detail above, claims 1 to 5 of the present invention.
According to 3, it is possible to provide a scanning laser microscope capable of performing an automatic focusing operation at an arbitrary part in the visual field. According to a third aspect of the present invention, there is provided a scanning laser capable of performing an automatic focusing operation at an arbitrary position in a field of view even when a resonance type galvanometer mirror which cannot be stopped at an arbitrary deflection angle is used. A microscope can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係わる走査型レーザ顕微鏡の第1の実
施の形態を示す構成図。
FIG. 1 is a configuration diagram showing a first embodiment of a scanning laser microscope according to the present invention.

【図2】同顕微鏡における試料面上での合焦画像を得た
い指示部位にレーザ光を照射するときの各ガルバノミラ
ーの停止制御を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing stop control of each galvanomirror when irradiating a laser beam on a designated portion where a focused image on a sample surface is desired to be obtained on the microscope.

【図3】同顕微鏡を応用した試料の段差測定を説明する
ための図。
FIG. 3 is a view for explaining step measurement of a sample using the microscope.

【図4】本発明に係わる走査型レーザ顕微鏡の第2の実
施の形態を示す光偏向機構の構成図。
FIG. 4 is a configuration diagram of a light deflection mechanism showing a second embodiment of the scanning laser microscope according to the present invention.

【図5】本発明に係わる走査型レーザ顕微鏡の第3の実
施の形態を示す制御部での輝度情報のサンプリングタイ
ミングを示す図。
FIG. 5 is a diagram illustrating a sampling timing of luminance information in a control unit according to a third embodiment of the scanning laser microscope according to the present invention.

【図6】従来の自動合焦機能付きの走査型レーザ顕微鏡
の光学系の構成図。
FIG. 6 is a configuration diagram of an optical system of a conventional scanning laser microscope with an automatic focusing function.

【図7】自動合焦機能を示す機能ブロック図。FIG. 7 is a functional block diagram showing an automatic focusing function.

【図8】Z位置(光軸方向)と試料面からの反射ビーム
の強度との関係を示す図。
FIG. 8 is a diagram showing the relationship between the Z position (in the direction of the optical axis) and the intensity of the reflected beam from the sample surface.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:ビームスプリッタ、 3:第1の光偏向器、 4:対物レンズ、 7,8:瞳伝送レンズ、 9:第2の偏向器、 10:瞳投影レンズ、 11:結像レンズ、 13:試料、 15:集光レンズ、 16:ピンホール、 17:検出器、 18:XYステージ、 19:Zステージ、 22:モニタ、 30:制御部、 31:操作部、 32:輝度情報取得部。 1: beam splitter, 3: first optical deflector, 4: objective lens, 7, 8: pupil transmission lens, 9: second deflector, 10: pupil projection lens, 11: imaging lens, 13: sample Reference numeral 15: condenser lens, 16: pinhole, 17: detector, 18: XY stage, 19: Z stage, 22: monitor, 30: control unit, 31: operation unit, 32: luminance information acquisition unit.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザ光源と、 このレーザ光源からのレーザ光を試料面上に集光する対
物レンズと、 この対物レンズの瞳位置と共役な位置に配置され前記対
物レンズに入るレーザ光を偏向することで前記試料面上
を走査する光偏向部材と、 前記試料からの光を検出する検出器と、 この検出器で検出された画像信号を基に画像を表示する
モニタとを備えた走査型レーザ顕微鏡において、 前記試料面上で合焦画像を得たい部位を指示する操作部
と、 この操作部で指示した部位に前記レーザ光が照射される
ように前記光偏向部材の偏向角を制御し、前記試料から
の光の輝度情報が最大となるように前記対物レンズと前
記試料の少なくとも一方を移動させ合焦制御を行う制御
手段と、を具備したことを特徴とする走査型レーザ顕微
鏡。
1. A laser light source, an objective lens for condensing laser light from the laser light source on a sample surface, and a laser light which is arranged at a position conjugate with a pupil position of the objective lens and deflects the laser light entering the objective lens A light deflecting member that scans the sample surface by scanning, a detector that detects light from the sample, and a monitor that displays an image based on an image signal detected by the detector. In a laser microscope, an operation unit for instructing a site on the sample surface where a focused image is desired to be obtained, and a deflection angle of the light deflecting member is controlled so that the laser beam is applied to the site instructed by the operation unit. A scanning laser microscope comprising: a control unit that controls focusing by moving at least one of the objective lens and the sample so that luminance information of light from the sample is maximized.
【請求項2】 前記光偏向部材には、前記操作部で指示
した部位に前記レーザ光が照射される偏向角に前記光偏
向部材を固定制御する機能を備えていることを特徴とす
る請求項1記載の走査型レーザ顕微鏡。
2. The light deflecting member has a function of fixing and controlling the light deflecting member at a deflection angle at which a portion specified by the operation unit is irradiated with the laser light. 2. The scanning laser microscope according to 1.
【請求項3】 前記制御手段には、前記光偏向部材の偏
向制御中に前記レーザ光が前記操作部で指示した部位に
照射されたときに同期して前記試料からの光の輝度情報
をサンプリングする機能を備えていることを特徴とする
請求項1記載の走査型レーザ顕微鏡。
3. The method according to claim 1, wherein the control unit is configured to sample luminance information of the light from the sample in synchronization with the irradiation of the laser beam on a portion designated by the operation unit during the deflection control of the light deflecting member. 2. The scanning laser microscope according to claim 1, wherein the scanning laser microscope has a function of performing the following operations.
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