JP2000036280A - Ionization device - Google Patents

Ionization device

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JP2000036280A
JP2000036280A JP10203082A JP20308298A JP2000036280A JP 2000036280 A JP2000036280 A JP 2000036280A JP 10203082 A JP10203082 A JP 10203082A JP 20308298 A JP20308298 A JP 20308298A JP 2000036280 A JP2000036280 A JP 2000036280A
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reaction gas
flow rate
split
flow path
pressure
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JP10203082A
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Takashi Uchida
剛史 内田
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Shimadzu Corp
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Shimadzu Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily execute adjustment of a reaction gas introduction quantity of a small flow rate. SOLUTION: A split passage 28 is formed by branching on the upper stream of a resistor tube 22, and flow control valves 27, 29 are installed on the upstream and the split passage 28 respectively. The second flow control valve 29 controls a split flow rate so that a detected gas pressure of a pressure gauge 24 will agree with a target pressure P1 calculated corresponding to a reaction gas introduction quantity into an ionization chamber 11. On the other hand, the first flow control valve 27 sends the reaction gas of a flow rate determined by adding a sufficient split flow rate with the reaction gas introduction quantity. As a result, the reaction gas of a desired introduction quantity f1 flows in the resistor tube 22 and the reaction gas of a most residual flow rate f2 flows in the split passage 28, and as soon as the target pressure P1 is modified, the introduction quantity is changed followingly.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は質量分析装置などに
利用されるイオン化装置に関し、更に詳しくは、化学イ
オン化の際にイオン化室に反応ガスを導入するための反
応ガス導入部に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ionization apparatus used in a mass spectrometer and the like, and more particularly, to a reaction gas introduction section for introducing a reaction gas into an ionization chamber during chemical ionization.

【0002】[0002]

【従来の技術】質量分析装置は、イオン源にて気体状の
試料分子をイオン化し、そのイオンを質量数(質量m/
電荷数z)に応じて分離して検出する構成を有する。試
料分子をイオン化する方法としては、電子衝撃法、表面
電離法等種々のものが用いられている。
2. Description of the Related Art In a mass spectrometer, gaseous sample molecules are ionized by an ion source, and the ions are converted into a mass number (mass m / m).
It has a configuration in which detection is performed separately according to the number of charges z). Various methods, such as an electron impact method and a surface ionization method, are used for ionizing a sample molecule.

【0003】図2は、イオン化の一手法である化学イオ
ン化法(以下「CI=Chemical Ionization」と称す)
による従来のイオン化装置を用いた質量分析装置の構成
図である。イオン化室11、イオンレンズ12、四重極
フィルタ13、検出器14等は真空ハウジング10中に
配置されており、真空ハウジング10は真空排気ポンプ
15により高真空状態に維持される。イオン化室11に
は試料ガスを導入する試料ガス流路20とメタン、イソ
ブタン等の反応ガスを導入するための反応ガス流路21
とが接続されている。
FIG. 2 shows a chemical ionization method (hereinafter referred to as “CI = Chemical Ionization”) which is one method of ionization.
FIG. 1 is a configuration diagram of a mass spectrometer using a conventional ionization device according to the present invention. The ionization chamber 11, the ion lens 12, the quadrupole filter 13, the detector 14, and the like are arranged in a vacuum housing 10, and the vacuum housing 10 is maintained in a high vacuum state by a vacuum pump 15. A sample gas flow path 20 for introducing a sample gas and a reaction gas flow path 21 for introducing a reaction gas such as methane and isobutane are introduced into the ionization chamber 11.
And are connected.

【0004】上記質量分析装置では、試料分子を含む試
料ガスが試料ガス流路20を通して、上記反応ガスが反
応ガス流路21を通してイオン化室11へ導入される。
反応ガスに含まれる反応ガス分子はイオン化室11内で
電子流(図2中ではeで示している)と衝突し、電子が
叩き出されて特定のイオン(例えばCH 、(CH )
等)が発生する。こうした反応イオンは試料分子
と化学反応し、その結果、試料分子はイオン化される。
イオン化室11内で生成した試料イオンはイオン化室1
1から飛び出て、適当な電圧が印加されているイオンレ
ンズ12により収束及び加速された後に四重極フィルタ
13に導入される。四重極フィルタ13には直流電圧と
交流電圧とを重畳した電圧が印加されており、その電圧
に応じた特定の質量数を有するイオンのみが四重極フィ
ルタ13を通り抜けて検出器14に到達する。
[0004] In the above-mentioned mass spectrometer, a sample containing sample molecules is used.
The source gas passes through the sample gas flow path 20 and the reaction gas
The gas is introduced into the ionization chamber 11 through the reaction gas channel 21.
The reaction gas molecules contained in the reaction gas in the ionization chamber 11
Collision with the electron flow (indicated by e in FIG. 2) causes the electrons to
When a specific ion (eg, CH5 +, (CH 3)
3C+Etc.) occur. These reaction ions are sample molecules
And the sample molecules are ionized as a result.
The sample ions generated in the ionization chamber 11 are
1 and the ion voltage to which an appropriate voltage is applied
Quadrupole filter after being converged and accelerated by lens 12
13 is introduced. DC voltage is applied to the quadrupole filter 13.
A voltage superimposed on the AC voltage is applied, and the voltage
Only ions with a specific mass number depending on the
The light passes through the filter 13 and reaches the detector 14.

【0005】このようなCIでは、発生した試料イオン
が過剰な内部エネルギをもたないので開裂を生じにく
い。そのため、元の試料分子の質量にきわめて近いイオ
ンを検出器14で検出することができ、試料分子の分子
量を推定するのに極めて有用である。
[0005] In such CI, the generated sample ions do not have excessive internal energy, and thus are less likely to be cleaved. Therefore, an ion very close to the mass of the original sample molecule can be detected by the detector 14, which is extremely useful for estimating the molecular weight of the sample molecule.

【0006】ところで一般に、イオン化室11に導入さ
れる反応ガスの流量は1cc/min以下とかなり少量であ
る。そのため、図2に示すように、従来の反応ガス流路
21は、下流側より順に、流路抵抗の大きな抵抗管22
(例えば数十μm径で長さ数mの細管)、電磁弁23、
圧力計24、調圧弁25が配設された構成となってい
る。電磁弁23を開放して抵抗管22に反応ガスを流す
とき、その反応ガスの流量は抵抗管22の入口側圧力P
1と、出口側圧力P2と、抵抗管22の流路抵抗と、反応
ガスの粘性係数などによって決まる。これらのパラメー
タのうち入口側圧力P1を除いて他のパラメータは決ま
った値であるので、調圧弁25により入口側圧力P1
(圧力計24での検出ガス圧)を調節することで、イオ
ン化室11への反応ガスの導入流量を制御することがで
きる。
Generally, the flow rate of the reaction gas introduced into the ionization chamber 11 is as small as 1 cc / min or less. For this reason, as shown in FIG. 2, the conventional reaction gas flow path 21 has a resistance pipe 22 having a large flow resistance in order from the downstream side.
(For example, a thin tube having a diameter of several tens μm and a length of several meters), a solenoid valve 23,
The pressure gauge 24 and the pressure regulating valve 25 are provided. When the reaction gas flows through the resistance tube 22 by opening the solenoid valve 23, the flow rate of the reaction gas depends on the pressure P on the inlet side of the resistance tube 22.
1, the outlet side pressure P2, the flow path resistance of the resistance tube 22, the viscosity coefficient of the reaction gas, and the like. Of these parameters, other parameters except the inlet pressure P1 are determined values.
By adjusting the (detected gas pressure at the pressure gauge 24), the flow rate of the reaction gas introduced into the ionization chamber 11 can be controlled.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の構成には次のような問題点がある。まず第1に、調
圧弁25と抵抗管22出口との間に大きな流路抵抗が存
在するため、入口側圧力P1を下げて流量を減少させよ
うとしてもガス圧がすぐには下がらず、流量が一定に安
定する迄に比較的長い時間を要する。第2に、上述のよ
うに反応ガス導入量が極めて少量であるため、比較的ラ
フな制御しか行えない電気的開閉制御式の弁を調圧弁2
5に用いることが困難である。更に第3に、反応ガスの
流量が少量であるため、反応ガス流路21の配管内の汚
れの影響が相対的に大きくなり、高精度な分析を行うに
は配管内を常に清浄に維持しておかなけばならない。本
発明は、このような種々の課題を解決することを目的と
して成されたものである。
However, this conventional configuration has the following problems. First, since there is a large flow resistance between the pressure regulating valve 25 and the outlet of the resistance pipe 22, the gas pressure does not immediately decrease even if an attempt is made to decrease the flow rate by lowering the inlet pressure P1. It takes a comparatively long time for the constant to stabilize. Secondly, as described above, since the amount of introduced reactant gas is extremely small, an electric open / close control type valve which can perform only relatively rough control is used as the pressure regulating valve 2.
5 is difficult to use. Third, since the flow rate of the reaction gas is small, the influence of contamination in the pipe of the reaction gas flow path 21 becomes relatively large, and the pipe is always kept clean for high-precision analysis. I have to keep it. The present invention has been made for the purpose of solving such various problems.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に成された本発明は、イオン化室に反応ガスを導入して
イオン化を行うイオン化装置において、 a)イオン化室に出口端が接続された抵抗管と、 b)該抵抗管の入口端側において、その上流から流れてく
る反応ガスを分岐するスプリット流路と、 c)スプリット流路と抵抗管との分岐点より上流側に設け
られた圧力検出手段と、 d)該圧力検出手段より上流側に設けられ、抵抗管及びス
プリット流路の両者に流れる反応ガスの総流量を所定流
量に調節する第1流量調節手段と、 e)前記スプリット流路上に設けられ、前記圧力検出手段
による検出値が所定値になるようにスプリット流量を調
節する第2流量調節手段と、を備えることを特徴として
いる。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention is directed to an ionization apparatus for introducing a reaction gas into an ionization chamber to perform ionization, wherein: a) an outlet end is connected to the ionization chamber; A resistance pipe; b) a split flow path at an inlet end side of the resistance pipe for branching a reaction gas flowing from the upstream thereof; and c) a split flow path provided upstream of a branch point between the split flow path and the resistance pipe. Pressure detecting means; d) first flow rate adjusting means provided upstream of the pressure detecting means and adjusting the total flow rate of the reaction gas flowing through both the resistance tube and the split flow path to a predetermined flow rate; e) the split And a second flow rate adjusting means provided on the flow path and adjusting the split flow rate so that the value detected by the pressure detecting means becomes a predetermined value.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】抵抗管を介してイオン化室へ導入
される反応ガスの導入量は、抵抗管の出口側であるイオ
ン化室内のガス圧、抵抗管の寸法、反応ガスの粘性係数
などが既知であれば、抵抗管入口側すなわち圧力検出手
段が設けられた位置でのガス圧に依存している。従っ
て、所望の反応ガス導入量が決まると、抵抗管入口側の
目標圧力値を計算により求めることができる。そこで、
第2流量調節手段に対しこの目標圧力値を与えると、第
2流量調節手段は圧力検出手段による検出値がその目標
圧力値に一致するようにスプリット流量を調節する。一
方、第1流量調節手段は、少なくとも上記所望の反応ガ
ス導入量と第2流量調節手段の制御が可能である程度の
スプリット流量との合計以上の総流量になるように通過
流量を調節する。これにより、第1流量調節手段を通過
した反応ガスのうち、上記所望の反応ガス導入量分が抵
抗管側に流れ、残りはスプリット流路を通して排出され
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The amount of a reaction gas introduced into an ionization chamber through a resistance tube depends on the gas pressure in the ionization chamber on the outlet side of the resistance tube, the size of the resistance tube, the viscosity coefficient of the reaction gas, and the like. If known, it depends on the gas pressure at the resistance tube inlet side, that is, at the position where the pressure detecting means is provided. Therefore, when the desired reaction gas introduction amount is determined, the target pressure value on the resistance tube inlet side can be obtained by calculation. Therefore,
When this target pressure value is given to the second flow rate adjusting means, the second flow rate adjusting means adjusts the split flow rate so that the value detected by the pressure detecting means matches the target pressure value. On the other hand, the first flow rate adjusting means adjusts the passing flow rate so that the total flow rate is at least equal to the sum of at least the desired reaction gas introduction amount and a certain split flow rate that can be controlled by the second flow rate adjusting means. As a result, of the reaction gas that has passed through the first flow rate adjusting means, the desired reaction gas introduction amount flows toward the resistance tube side, and the remainder is discharged through the split flow path.

【0010】[0010]

【発明の効果】この発明に係るイオン化装置では、反応
ガス導入量を減少させたい場合には、目標圧力値を下方
修正すれば、それに応じて第2流量調節手段の開度が大
きくなってスプリット流量が増加する。それにより、抵
抗管側へ流れる反応ガスの流量は速やかに減少する。従
って、従来の構成と異なり、反応ガスの流量変化の応答
性が極めて良好である。
In the ionization apparatus according to the present invention, when it is desired to reduce the reaction gas introduction amount, if the target pressure value is corrected downward, the degree of opening of the second flow rate adjusting means is increased and the split is increased. The flow rate increases. As a result, the flow rate of the reaction gas flowing to the resistance tube side quickly decreases. Therefore, unlike the conventional configuration, the response to the change in the flow rate of the reaction gas is extremely good.

【0011】また、反応ガス導入量自体はごく少量であ
っても、第1、第2流量調節手段を通過する反応ガスの
流量は反応ガス導入量よりもずっと多くすることができ
るので、比較的なラフな制御しかできないような電気的
制御による弁を第1、第2流量調節手段に用いることが
できる。更に、スプリット流路の分岐点から上流側では
反応ガス流量が多く、そのうちの一部がイオン化室へ導
入されるので、その分岐点より上流側の配管中の汚れに
よる影響が相対的に軽減されることになり、分析の精度
の改善に寄与する。
In addition, even if the amount of the reaction gas introduced is very small, the flow rate of the reaction gas passing through the first and second flow rate adjusting means can be made much larger than the amount of the reaction gas introduced. Electrically controlled valves that can perform only rough control can be used for the first and second flow rate adjusting means. Furthermore, the flow rate of the reactant gas is large upstream from the branch point of the split flow path, and a part of the reactant gas flow is introduced into the ionization chamber. This contributes to improving the accuracy of the analysis.

【0012】[0012]

【実施例】以下、本発明に係るイオン化装置の一実施例
を図1を参照して説明する。図1は本実施例のイオン化
装置における反応ガス流路21の構成図である。反応ガ
ス流路21の上流側より、調圧弁25、流量計26、第
1流量制御弁27、圧力計24が配置され、流路は圧力
計24下流の分岐点でスプリット流路28と抵抗管22
とに分岐されている。スプリット流路28上には第2流
量制御弁29が配設され、該流路の末端は排気ダクト3
1に接続されている。一方、抵抗管22の出口端は三方
バルブ(3ポート2ポジションバルブ)30を介してイ
オン化室11に接続されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the ionization apparatus according to the present invention will be described below with reference to FIG. FIG. 1 is a configuration diagram of the reaction gas flow path 21 in the ionization apparatus of the present embodiment. A pressure regulating valve 25, a flow meter 26, a first flow control valve 27, and a pressure gauge 24 are arranged from the upstream side of the reaction gas flow path 21. The flow path is a split flow path 28 and a resistance pipe at a branch point downstream of the pressure gauge 24. 22
And it is forked. A second flow control valve 29 is provided on the split flow path 28, and the end of the flow path is
1 connected. On the other hand, the outlet end of the resistance tube 22 is connected to the ionization chamber 11 via a three-way valve (3 port 2 position valve) 30.

【0013】第1流量制御弁27は、外部より与えられ
た目標流量値に流量計26の検出値が一致するように弁
の開度を自動的に調整する構成となっている。一方、第
2流量制御弁29は、外部より与えられた目標圧力値に
圧力計24の検出値が一致するように弁の開度を自動的
に調整する構成となっている。制御部32はマイクロコ
ンピュータ等を内蔵して構成されており、第1流量制御
弁27に対し目標流量値を、第2流量制御弁29に対し
目標圧力値を送出する。
The first flow control valve 27 is configured to automatically adjust the opening of the first flow control valve 27 so that the detection value of the flow meter 26 coincides with a target flow value given from the outside. On the other hand, the second flow control valve 29 is configured to automatically adjust the opening degree of the valve so that the detection value of the pressure gauge 24 matches a target pressure value given from outside. The control unit 32 includes a microcomputer and the like, and sends a target flow value to the first flow control valve 27 and a target pressure value to the second flow control valve 29.

【0014】まず、上記構成においてイオン化室11に
反応ガスを導入する際の動作を説明する。この場合、制
御部32は三方バルブ30を図1中の点線の接続状態に
切り替えて、抵抗管22の出口端とイオン化室11とを
連通させる。
First, the operation when introducing a reaction gas into the ionization chamber 11 in the above configuration will be described. In this case, the control unit 32 switches the three-way valve 30 to the connection state indicated by the dotted line in FIG. 1 to make the outlet end of the resistance tube 22 communicate with the ionization chamber 11.

【0015】例えば、図示しない入力部を介して使用者
が所望の反応ガス導入量を入力設定すると、制御部32
は、予め設定されている抵抗管22の寸法(内径及び長
さ)、反応ガスの粘性係数、抵抗管22の周囲温度(こ
れは実測値でも設定値でもよい)、イオン化室11内の
真空度(つまりガス圧P2)等の既知のパラメータを利
用して所定の計算を行い、その所望の反応ガス導入量に
対する抵抗管22の入口圧P1を算出する。そして、そ
の入口圧P1を目標圧力値として第2流量制御弁29へ
指示する。第2流量制御弁29は圧力計24の検出値が
このP1になるように、スプリット流路28に流れる反
応ガス流量を調節する。
For example, when a user inputs and sets a desired reaction gas introduction amount via an input unit (not shown), the control unit 32
Are the preset dimensions (inner diameter and length) of the resistance tube 22, the viscosity coefficient of the reaction gas, the ambient temperature of the resistance tube 22 (this may be an actually measured value or a set value), and the degree of vacuum in the ionization chamber 11. A predetermined calculation is performed using a known parameter such as (ie, gas pressure P2), and the inlet pressure P1 of the resistance tube 22 with respect to the desired reaction gas introduction amount is calculated. Then, it instructs the second flow control valve 29 using the inlet pressure P1 as a target pressure value. The second flow control valve 29 adjusts the flow rate of the reaction gas flowing through the split flow path 28 so that the detection value of the pressure gauge 24 becomes P1.

【0016】一般に電気的な開閉制御が可能な流量制御
弁では、流量が最低限界流量(例えば1cc/min)以下に
なると正確な制御が行えなくなる。そこで、制御部32
は、少なくとも上記反応ガス導入量にその最低限界流量
を加えた流量以上(例えば数cc/min)の値を目標流量値
として第1流量制御弁27に指示する。この目標流量値
は制御部32が算出してもよいが、使用者が上記入力部
を介して入力設定するようにしてもよい。第1流量制御
弁27は流量計26により検出される流量がこの目標流
量値になるように弁の開度を調節する。なお、調圧弁2
5は第1流量制御弁27に充分な流量の反応ガスが流れ
るように予め適度に開放しておく。
In general, in a flow control valve capable of electric opening and closing control, accurate control cannot be performed when the flow rate becomes lower than a minimum limit flow rate (for example, 1 cc / min). Therefore, the control unit 32
Instructs the first flow control valve 27 to set a value equal to or more than the flow rate obtained by adding the minimum limit flow rate to the above-described reaction gas introduction rate (for example, several cc / min) as the target flow rate value. The target flow rate value may be calculated by the control unit 32, or may be set by the user through the input unit. The first flow control valve 27 adjusts the opening of the valve so that the flow rate detected by the flow meter 26 becomes the target flow value. In addition, pressure regulating valve 2
Reference numeral 5 denotes an appropriate opening in advance so that a sufficient flow rate of the reaction gas flows through the first flow control valve 27.

【0017】こうして上記目標流量値付近の流量の反応
ガスが流れると、上述のように抵抗管22の入口圧がP
1になるように第2流量制御弁29はスプリット流量を
常に調整しているので、抵抗管22には所望導入量f1
の反応ガスが流れ、残りの大部分の反応ガスは流量f2
でもってスプリット流路28を通って排気ダクト31か
ら外部へ排出される。抵抗管22を通った反応ガスは三
方バルブ30を介してイオン化室11内へと導入され、
化学イオン化に利用される。
When the reactant gas flows at a flow rate near the target flow rate, the inlet pressure of the resistance tube 22 becomes P as described above.
Since the second flow control valve 29 constantly adjusts the split flow rate so as to be 1, the desired introduction amount f1
Of the reaction gas flows, and most of the remaining
Thus, the gas is discharged from the exhaust duct 31 to the outside through the split flow path 28. The reaction gas passing through the resistance tube 22 is introduced into the ionization chamber 11 through the three-way valve 30,
Used for chemical ionization.

【0018】イオン化室11への反応ガスの導入が不要
である場合には、制御部32は、上述の反応ガスの流通
状態のまま三方バルブ30を図1の実線の接続状態に切
り替える。すると、抵抗管22に流れた反応ガスもスプ
リット流路28に流れた反応ガスと合流し、まとめて排
気ダクト31から外部へと排出される。この状態では抵
抗管22に所定流量の反応ガスが流れ続けているので、
三方バルブ30を点線で示す接続状態に切り換えさえす
れば、すぐにイオン化室11に反応ガスが導入される。
従って、この構成では、イオン化室11に反応ガスを導
入しない電子衝撃法によるイオン化と、反応ガスを必要
とする化学イオン化又は負化学イオン化とを短時間で相
互に切り替えることができるという効果も奏する。
When it is not necessary to introduce the reaction gas into the ionization chamber 11, the control unit 32 switches the three-way valve 30 to the connection state indicated by the solid line in FIG. Then, the reactant gas flowing through the resistance tube 22 also merges with the reactant gas flowing through the split flow path 28 and is collectively discharged from the exhaust duct 31 to the outside. In this state, a predetermined flow rate of the reaction gas continues to flow through the resistance tube 22.
As long as the three-way valve 30 is switched to the connection state shown by the dotted line, the reaction gas is immediately introduced into the ionization chamber 11.
Therefore, this configuration also has an effect that the ionization by the electron impact method without introducing the reaction gas into the ionization chamber 11 and the chemical ionization or the negative chemical ionization that requires the reaction gas can be switched in a short time.

【0019】上述のように化学イオン化又は負化学イオ
ン化を行う必要がない場合には、第1、第2流量制御弁
27、29を完全に閉鎖し、しかも三方バルブ30を図
1に実線で示す接続状態としておけばよい。これによ
り、反応ガスは停止する。
When it is not necessary to perform chemical ionization or negative chemical ionization as described above, the first and second flow control valves 27 and 29 are completely closed, and the three-way valve 30 is shown by a solid line in FIG. What is necessary is just to be in a connection state. Thereby, the reaction gas stops.

【0020】なお、上記実施例は一例であって、本発明
の趣旨の範囲で適宜修正や変更を行なえることは明らか
である。
The above embodiment is merely an example, and it is apparent that modifications and changes can be made within the spirit of the present invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明のイオン化装置における反応ガス流路
の構成図。
FIG. 1 is a configuration diagram of a reaction gas flow path in an ionization device of the present invention.

【図2】 従来の化学イオン化装置の構成図。FIG. 2 is a configuration diagram of a conventional chemical ionization apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…イオン化室 21…反応ガス流路 22…抵抗管 24…圧力計 26…流量計 27…第1流量制御弁 28…スプリット流路 29…第2流量制御弁 30…三方バルブ 32…制御部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Ionization chamber 21 ... Reaction gas flow path 22 ... Resistance pipe 24 ... Pressure gauge 26 ... Flow meter 27 ... 1st flow control valve 28 ... Split flow path 29 ... 2nd flow control valve 30 ... Three way valve 32 ... Control part

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 イオン化室に反応ガスを導入してイオン
化を行うイオン化装置において、 a)イオン化室に出口端が接続された抵抗管と、 b)該抵抗管の入口端側において、その上流から流れてく
る反応ガスを分岐するスプリット流路と、 c)スプリット流路と抵抗管との分岐点より上流側に設け
られた圧力検出手段と、 d)該圧力検出手段より上流側に設けられ、抵抗管及びス
プリット流路の両者に流れる反応ガスの総流量を所定流
量に調節する第1流量調節手段と、 e)前記スプリット流路上に設けられ、前記圧力検出手段
による検出値が所定値になるようにスプリット流量を調
節する第2流量調節手段と、を備えることを特徴とする
イオン化装置。
1. An ionization apparatus for introducing a reaction gas into an ionization chamber to perform ionization, comprising: a) a resistance tube having an outlet end connected to the ionization chamber; and b) an upstream end of the resistance tube at an inlet end side thereof. A split flow path for branching the flowing reaction gas, c) a pressure detection means provided upstream from a branch point between the split flow path and the resistance tube, and d) a pressure detection means provided upstream from the pressure detection means, First flow rate adjusting means for adjusting the total flow rate of the reaction gas flowing through both the resistance tube and the split flow path to a predetermined flow rate; e) provided on the split flow path, and a value detected by the pressure detecting means becomes a predetermined value. A second flow rate adjusting means for adjusting the split flow rate as described above.
JP10203082A 1998-07-17 1998-07-17 Ionization device Pending JP2000036280A (en)

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