JP2000033540A - Production system - Google Patents

Production system

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JP2000033540A
JP2000033540A JP10205228A JP20522898A JP2000033540A JP 2000033540 A JP2000033540 A JP 2000033540A JP 10205228 A JP10205228 A JP 10205228A JP 20522898 A JP20522898 A JP 20522898A JP 2000033540 A JP2000033540 A JP 2000033540A
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JP
Japan
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work
production system
buffer
robot
ultraviolet irradiation
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP10205228A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasunaga Satoi
庸修 里井
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
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Publication of JP2000033540A publication Critical patent/JP2000033540A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P90/00Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
    • Y02P90/02Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production system capable of resuming production easily even if a part of a line stops. SOLUTION: This production system is provided with conveyance lines 10, 11 for conveying a workpiece, machining devices 2, 7 arranged on sides of the conveyance lines 10, 11, buffer devices 4, 9 arranged so as to oppose across the machining devices 2, 7 and the conveyance lines 10, 11, and transfer robots 3, 8 which are arranged between the machining devices 2, 7 and the buffer devices 4, 9 and can transfer a workpiece to the machining devices 2, 7 and the buffer devices 4, 9.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ワークを搬送ライ
ンで搬送しながら順次加工装置で加工を行う生産システ
ムに関し、特に液晶表示装置に用いられるガラス基板に
所定の加工を施すための生産システムに関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a production system for sequentially processing a workpiece by a processing apparatus while transporting a work on a transport line, and more particularly to a production system for performing a predetermined processing on a glass substrate used in a liquid crystal display device. Things.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、搬送ラインによりワークを搬
送させながら、搬送ラインに沿って配置された加工装置
により加工を行う生産ラインが知られている。このよう
な生産ラインにおいては、途中の工程の加工装置が停止
した場合などに、その前工程の加工処理に支障をきたさ
ないように、バッファ装置を配置することが一般的に行
われている。
2. Description of the Related Art Conventionally, there has been known a production line in which a workpiece is transported by a transport line while processing is performed by a processing device arranged along the transport line. In such a production line, a buffer device is generally arranged so that when a processing device in an intermediate step is stopped, a processing process in a preceding step is not hindered.

【0003】そして、従来では、各加工装置とバッファ
装置とは、搬送ラインに沿って直列に接続されていた。
例えば液晶表示装置用のガラス基板を処理する生産ライ
ンで、紫外線照射の後にレジストを塗布するためのスピ
ナーが配置してある場合、バッファ装置は紫外線照射装
置の後に配置されている。バッファがない場合は、後工
程の装置が停止すれば、紫外線照射装置も直列に接続さ
れているため、ワークが数珠つなぎになって紫外線照射
装置での搬送も停止し、紫外線照射装置の中にワークが
滞留してしまう。このため、後工程が故障などで停止し
た場合に紫外線照射装置の中のワークをバッファ装置に
収納して、ワークが不良となるのを防止している。
[0003] Conventionally, each processing device and the buffer device are connected in series along a transport line.
For example, in a production line for processing a glass substrate for a liquid crystal display device, when a spinner for applying a resist after ultraviolet irradiation is arranged, the buffer device is arranged after the ultraviolet irradiation device. If there is no buffer, if the post-processing device stops, the ultraviolet irradiation device is also connected in series, so the work is connected in a daisy chain and the conveyance by the ultraviolet irradiation device also stops, and The work stays. Therefore, when the post-process is stopped due to a failure or the like, the work in the ultraviolet irradiation device is stored in the buffer device to prevent the work from becoming defective.

【0004】ここで、図2を参照して従来の生産ライン
の一例について説明する。図2に示した生産ラインで
は、紫外線洗浄装置102以降の下流工程の装置が停止
した場合、ワークはロボット103によりバッファ装置
104に収納される。バッファ装置がない場合は、下流
工程への搬出ができないのでワークは紫外線洗浄装置1
02の中で滞留してしまい、過剰に紫外線が照射され、
不良となってしまう。バッファ装置104はこのために
設けられており、下流工程が停止した場合、同時に洗浄
装置101へのワークの搬入を禁止し、洗浄装置10
1、紫外線洗浄装置102内のワーク全てをバッファ1
04に収納する。このことにより、紫外線洗浄装置10
2以降の装置が停止しても、ワークは不良となることな
く保管される。
Here, an example of a conventional production line will be described with reference to FIG. In the production line illustrated in FIG. 2, when a downstream process device after the ultraviolet cleaning device 102 stops, the work is stored in the buffer device 104 by the robot 103. If there is no buffer device, the work cannot be carried out to the downstream process.
02, stays in the room, and is exposed to excessive UV rays.
It will be bad. The buffer device 104 is provided for this purpose. When the downstream process is stopped, the loading of the work into the cleaning device 101 is prohibited at the same time.
1. Buffer 1 for all the workpieces in the ultraviolet cleaning device 102
04. As a result, the ultraviolet cleaning device 10
Even if the second and subsequent devices are stopped, the work is stored without becoming defective.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
にバッファ装置104にワークを退避させた場合でも、
紫外線照射の効果は、照射後長時間放置するとしだいに
弱くなり、次の塗布工程で不良となる場合がある。この
ため、バッファ装置104への収納後に一定時間経過し
た場合は、バッファ装置104からワークを取り出し、
人手により再び洗浄装置101から投入し直さなければ
ならず、手間がかかるという問題点があった。
However, even when the work is retracted to the buffer device 104 as described above,
The effect of the ultraviolet irradiation gradually weakens when left for a long time after the irradiation, and may be defective in the next coating step. For this reason, when a certain period of time has elapsed after storage in the buffer device 104, the work is taken out from the buffer device 104,
There is a problem that it is necessary to manually reload the cleaning device 101 from the cleaning device 101, which is troublesome.

【0006】従って、本発明は上述した課題に鑑みてな
されたものであり、その目的は、ラインの一部が停止し
た場合でも、容易に生産を再開することができる生産シ
ステムを提供することである。
Accordingly, the present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a production system capable of easily restarting production even when a part of a line is stopped. is there.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上述した課題を解決し、
目的を達成するために、本発明に係わる生産システム
は、ワークを搬送するための搬送ラインと、該搬送ライ
ンの脇に配置された加工装置と、該加工装置と前記搬送
ラインを挟んで対向するように配置されたバッファ装置
と、前記加工装置とバッファ装置の間に配置され、前記
ワークを前記加工装置と前記バッファ装置とに移載可能
な移載手段とを具備することを特徴としている。
Means for Solving the Problems The above-mentioned problems are solved,
In order to achieve the object, a production system according to the present invention includes a transfer line for transferring a workpiece, a processing device arranged beside the transfer line, and a processing device and the processing device, which face each other across the transfer line. And a transfer device that is disposed between the processing device and the buffer device and that can transfer the work to the processing device and the buffer device.

【0008】また、この発明に係わる生産システムにお
いて、前記搬送ラインは、前記ワークを載置して搬送す
る搬送コンベアから構成されていることを特徴としてい
る。また、この発明に係わる生産システムにおいて、前
記移載手段は、ロボットから構成されていることを特徴
としている。また、この発明に係わる生産システムにお
いて、前記加工装置は、紫外線照射装置であることを特
徴としている。
Further, in the production system according to the present invention, the transport line is configured by a transport conveyor that places and transports the work. Further, in the production system according to the present invention, the transfer means is constituted by a robot. Further, in the production system according to the present invention, the processing device is an ultraviolet irradiation device.

【0009】また、この発明に係わる生産システムにお
いて、前記加工装置は、温度炉であることを特徴として
いる。また、この発明に係わる生産システムにおいて、
前記バッファ装置において前記ワークの冷却を行うこと
を特徴としている。また、この発明に係わる生産システ
ムにおいて、前記ワークは、ガラス基板であることを特
徴としている。
Further, in the production system according to the present invention, the processing device is a temperature furnace. In the production system according to the present invention,
The work is cooled in the buffer device. Further, in the production system according to the present invention, the work is a glass substrate.

【0010】また、この発明に係わる生産システムにお
いて、前記ガラス基板は、液晶表示装置用のガラス基板
であることを特徴としている。
[0010] In the production system according to the present invention, the glass substrate is a glass substrate for a liquid crystal display device.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明を液晶表示装置用の
ガラス基板の加工に適用した場合の一実施形態につい
て、添付図面を参照して詳細に説明する。図1は、一実
施形態の液晶表示装置用のガラス基板の加工システムを
示す図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment in which the present invention is applied to processing of a glass substrate for a liquid crystal display device will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a diagram illustrating a system for processing a glass substrate for a liquid crystal display device according to an embodiment.

【0012】図1において、1は洗浄装置で、前工程か
らの、ワークとしてのガラス基板を一枚ずつ連続して洗
浄処理する。洗浄装置1の出口部にはワーク搬送用のコ
ンベア10が接続されている。コンベア10の中央部上
方には、ワーク移載用のロボット3が配置されており、
ロボット3はワークを移載するためのハンド(図示せ
ず)を備えている。ロボット3は、2つのハンドを持つ
ロボットとすることも可能である。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a cleaning apparatus, which continuously performs a cleaning process on a glass substrate as a workpiece one by one from a previous process. A conveyor 10 for transporting a work is connected to an outlet of the cleaning device 1. A robot 3 for transferring a workpiece is disposed above the center of the conveyor 10.
The robot 3 has a hand (not shown) for transferring a work. The robot 3 can be a robot having two hands.

【0013】ワークの流れ方向と直角方向に紫外線照射
装置2が配置されている。紫外線照射装置2は紫外線照
射の処理時間により、上下方向に多段に形成されてい
る。コンベア10を挟んで紫外線照射装置2と反対側に
はバッファ装置4が設置されている。バッファ装置4に
は、ワークを収納するための棚(図示せず)が配置され
ている。この棚は、ワークを収納するカセットを利用し
ている。バッファ装置4は洗浄装置1内、及び紫外線照
射装置2内のワーク全てを収納できる。
An ultraviolet irradiation device 2 is disposed in a direction perpendicular to the flow direction of the work. The ultraviolet irradiation devices 2 are formed in multiple stages in the vertical direction according to the processing time of the ultraviolet irradiation. A buffer device 4 is provided on the opposite side of the conveyor 10 from the ultraviolet irradiation device 2. A shelf (not shown) for storing a work is arranged in the buffer device 4. This shelf utilizes a cassette for storing works. The buffer device 4 can accommodate all the works in the cleaning device 1 and the ultraviolet irradiation device 2.

【0014】さらに生産ラインの下流には、ワークとし
てのガラス基板にレジストを塗布するための塗布装置
5、及び端面処理装置6が配置されている。端面処理装
置6の出口にはワーク搬送用のコンベア11が接続され
ている。コンベア11の中央部上方には、ワーク移載用
のロボット8が配置されており、ロボット8はワークを
移載するためのハンド(図示せず)を備えている。
Further, downstream of the production line, a coating device 5 for coating a resist on a glass substrate as a work, and an end face processing device 6 are arranged. A conveyor 11 for transporting the work is connected to the outlet of the end face processing device 6. A robot 8 for transferring a work is disposed above a central portion of the conveyor 11, and the robot 8 includes a hand (not shown) for transferring a work.

【0015】ワークの流れ方向と直角方向に、レジスト
を乾燥させるためのベーク装置7が配置されている。ベ
ーク装置7はベーク時間により、上下方向に多段に形成
されている。コンベア11を挟んでベーク装置7と反対
側にはバッファ装置9が設置されている。バッファ装置
9には、ワークを収納するための棚(図示せず)が配置
されている。この棚は、ワークを収納するカセットを利
用している。バッファ装置9には図示しない冷却装置
(フィルター付きのファンユニット)が設置されてお
り、ワークを冷却できるようになっている。
A baking device 7 for drying the resist is arranged in a direction perpendicular to the flow direction of the work. The baking devices 7 are formed in multiple stages in the vertical direction according to the baking time. A buffer device 9 is provided on the opposite side of the baking device 7 with respect to the conveyor 11. In the buffer device 9, a shelf (not shown) for storing a work is arranged. This shelf utilizes a cassette for storing works. The buffer device 9 is provided with a cooling device (fan unit with a filter) (not shown) so that the work can be cooled.

【0016】バッファ装置9は塗布装置5と端面処理装
置6内のワーク数と、ベーク装置7内のワーク数と、バ
ッファ9で冷却のため滞留するワーク数とを全て収納で
きるようになっている。次に、上記のように構成される
生産システムの動作について説明する。ワークは前工程
より順次洗浄装置1に搬送されてくる。通常の場合は、
洗浄装置1から排出されたワークは、ロボット3により
紫外線照射装置2へ移載される。
The buffer device 9 can store all of the number of works in the coating device 5 and the end face processing device 6, the number of works in the baking device 7, and the number of works remaining in the buffer 9 for cooling. . Next, the operation of the production system configured as described above will be described. The work is transported to the cleaning device 1 sequentially from the previous process. Usually,
The work discharged from the cleaning device 1 is transferred to the ultraviolet irradiation device 2 by the robot 3.

【0017】ロボット3は、その移載にかかる時間が紫
外線処理時間より長い場合は、ワークを紫外線照射装置
2に搬送した後、処理が終わるまで待機し、処理が終了
すれば紫外線照射装置2からワークを取り出す。一方、
紫外線処理時間がロボット3の移載時間よりも長い場合
は、ロボット3は1枚目のワークを紫外線照射装置2に
搬入した後、1枚目のワークの加工終了を待たずに次の
ワークを紫外線照射装置2に搬入する動作に入る。
If the time required for the transfer is longer than the ultraviolet ray processing time, the robot 3 transports the work to the ultraviolet ray irradiating apparatus 2 and waits until the processing is completed. Take out the work. on the other hand,
If the ultraviolet treatment time is longer than the transfer time of the robot 3, the robot 3 carries the first work into the ultraviolet irradiation device 2, and then waits for the end of the processing of the first work to process the next work. The operation for carrying into the ultraviolet irradiation device 2 is started.

【0018】また、ロボット3のサイクルタイムが長い
場合は、ハンドを2つ持つ構成にして時間短縮をはかる
こともできる。このようにロボット3の動作はさまざま
なパターンでの動作が可能である。紫外線処理が終了し
たワークは再びロボット3によりコンベア10に戻さ
れ、次の工程の塗布装置5に搬送される。後は同様に順
次処理され、ロボット8もロボット3と同様の動作を行
う。
When the cycle time of the robot 3 is long, the time can be reduced by adopting a configuration having two hands. As described above, the operation of the robot 3 can be performed in various patterns. The workpiece after the ultraviolet treatment is returned to the conveyor 10 by the robot 3 again, and is conveyed to the coating apparatus 5 in the next step. Thereafter, the same processing is sequentially performed, and the robot 8 performs the same operation as the robot 3.

【0019】次に後工程のトラブル時の動作について説
明する。順次処理されているときに、例えば塗布装置5
が停止した場合、ただちにライン全体を監視しているシ
ステム(図示せず)により洗浄装置1の前工程の装置
に、洗浄装置1へのワーク投入の禁止命令が出され、洗
浄装置1には前工程からワークが流れて来なくなる。
Next, the operation at the time of trouble in the post-process will be described. When sequentially processed, for example, the coating device 5
Is stopped, a system (not shown) that immediately monitors the entire line issues a command to prohibit the loading of a work into the cleaning device 1 to a device in a previous process of the cleaning device 1. Work does not flow from the process.

【0020】洗浄装置1と紫外線照射装置2にはまだワ
ークがあるので、それらは通常どおり処理される。即
ち、まず、紫外線照射装置2で処理が終了したワークは
搬送ロボット3により、バッファ装置4に収納される。
これで紫外線照射装置2には1枚分の処理個所ができた
ので、ここにはロボット3により洗浄装置1からのワー
クが投入される。再び紫外線照射の処理が終了したワー
クができるとロボット3によりバッファ装置4に収納す
る。
Since there are still workpieces in the cleaning device 1 and the ultraviolet irradiation device 2, they are processed as usual. That is, first, the work that has been processed by the ultraviolet irradiation device 2 is stored in the buffer device 4 by the transfer robot 3.
As a result, a processing portion for one sheet is formed in the ultraviolet irradiation device 2, and the work from the cleaning device 1 is put in the robot irradiation device 3 here. When the work that has been subjected to the ultraviolet irradiation processing is completed again, the work is stored in the buffer device 4 by the robot 3.

【0021】すなわち、塗布装置5が停止しても紫外線
照射装置2は停止することなく順次ワークを処理し、処
理されたワークはバッファ装置4に収納される。洗浄装
置1には前工程からワークが搬送されないから、結局の
ところ洗浄装置1と紫外線照射装置2の中にあったワー
クを処理すれば、処理すべきワークはなくなる。そして
紫外線処理されたワークはバッファ装置4に収納され
る。
That is, even if the coating device 5 is stopped, the work is sequentially processed without stopping the ultraviolet irradiation device 2, and the processed work is stored in the buffer device 4. Since the work is not transferred to the cleaning device 1 from the previous process, if the work existing in the cleaning device 1 and the ultraviolet irradiation device 2 is processed after all, there is no work to be processed. The work that has been subjected to the ultraviolet treatment is stored in the buffer device 4.

【0022】ここで塗布装置5の停止が解除されるまで
の時間により、この後の動作に2つのケースがある。そ
の1つは、塗布装置5の停止が解除されるまでの時間
が、紫外線照射の効果持続時間より短い場合である。こ
の場合は塗布装置5の停止が解除されたなら、ロボット
3はバッファ装置4からワークをとりだし、そのまま塗
布装置5に送り込む。そして、ロボット3がバッファ装
置4に収納されている最後のワークを塗布装置5に送り
込む時に前工程からのワークが洗浄装置1の出口に着く
ようなタイミングで前工程からのワークの投入が再開さ
れる。
There are two cases in the subsequent operation depending on the time until the stop of the coating device 5 is released. One of them is a case where the time until the stop of the application device 5 is released is shorter than the effect duration time of the ultraviolet irradiation. In this case, if the stop of the coating device 5 is released, the robot 3 takes out the work from the buffer device 4 and sends it to the coating device 5 as it is. Then, when the robot 3 sends the last work stored in the buffer device 4 to the coating device 5, the feeding of the work from the previous process is restarted at such a timing that the work from the previous process reaches the outlet of the cleaning device 1. You.

【0023】もう1つのケースは、塗布装置5の停止が
解除されるまでの時間が、紫外線照射の効果持続時間よ
り長い場合である。この場合は塗布装置5の停止が解除
されたなら、ロボット3はバッファ装置4からワークを
取り出し、紫外線照射装置2にワークを移載する。紫外
線照射装置2で処理が終了したなら塗布装置5へワーク
を搬送する。このように順次バッファ4に収納している
ワークを取り出して紫外線照射装置2へ送り込む。この
ときのロボット3の動作は、通常時に洗浄装置1からワ
ークを紫外線照射装置2へ送り込むのと同様に様々な動
作が可能である。そして、バッファ4に収納されていた
最後のワークを紫外線照射装置2から塗布装置5に送り
込む時に前工程からのワークが洗浄装置1の出口に着く
ようなタイミングで前工程からのワークの投入が再開さ
れる。
Another case is a case where the time until the stop of the application device 5 is released is longer than the effect duration of the ultraviolet irradiation. In this case, when the stop of the application device 5 is released, the robot 3 takes out the work from the buffer device 4 and transfers the work to the ultraviolet irradiation device 2. When the processing is completed by the ultraviolet irradiation device 2, the work is transported to the coating device 5. In this way, the workpieces stored in the buffer 4 are sequentially taken out and sent to the ultraviolet irradiation device 2. The operation of the robot 3 at this time can be various operations as in the case where the work is sent from the cleaning device 1 to the ultraviolet irradiation device 2 at the normal time. Then, when the last work stored in the buffer 4 is sent from the ultraviolet irradiation device 2 to the coating device 5, the input of the work from the previous process is restarted at a timing such that the work from the previous process reaches the outlet of the cleaning device 1. Is done.

【0024】次に、紫外線照射を必要としないワークの
場合について述べる。ワークの種類によっては、紫外線
照射が不要のものも有る。その場合は洗浄装置1から出
てくるワークはそのまま塗布装置5に送り込まれる。塗
布装置5が故障等で停止した場合は、ロボット3により
バッファ装置4にワークが収納される。その場合の動作
は、先に述べた紫外線照射装置2を使用する場合におけ
る、ロボット3が紫外線照射装置2へワークを搬送しな
い動作と同じである。
Next, a case of a work that does not require ultraviolet irradiation will be described. Some types of work do not require ultraviolet irradiation. In that case, the work coming out of the cleaning device 1 is sent to the coating device 5 as it is. When the application device 5 stops due to a failure or the like, the work is stored in the buffer device 4 by the robot 3. The operation in that case is the same as the above-described operation in which the robot 3 does not transport the work to the ultraviolet irradiation device 2 when using the ultraviolet irradiation device 2 described above.

【0025】次に、ワークがコンベア11及びロボット
8によりベーク装置7に搬送される。ベーク装置7で一
定時間処理された後、ワークはロボット8によりバッフ
ァ装置9に搬送される。ワークはバッファ装置9で一定
時間放置され、冷却された後、ロボット8により後工程
に搬送される。図1に示す後工程の装置が停止した場合
は、ロボット8による後工程への搬送が停止され、ロボ
ット8はベーク装置7からバッファ装置9への搬送のみ
を続ける。この時、ライン全体を監視しているシステム
(図示せず)によりロボット3へ塗布装置5への投入禁
止が命令され、ロボット3は先ほど述べた、後工程停止
時の動作を行う。
Next, the work is conveyed to the baking device 7 by the conveyor 11 and the robot 8. After being processed by the baking device 7 for a certain period of time, the work is transferred to the buffer device 9 by the robot 8. The work is left in the buffer device 9 for a certain period of time, cooled, and then transferred to a subsequent process by the robot 8. When the apparatus in the post-process shown in FIG. 1 is stopped, the transfer to the post-process by the robot 8 is stopped, and the robot 8 continues only the transfer from the baking device 7 to the buffer device 9. At this time, a system (not shown) that monitors the entire line instructs the robot 3 to prohibit charging the coating apparatus 5 and the robot 3 performs the above-described operation when the post-process is stopped.

【0026】後工程の停止が解除された場合、ロボット
8はバッファ装置9からワークを取り出し、後工程へ搬
送する。以上説明したように、本実施形態によれば、以
下のような効果が得られる。 (1)後工程の装置が停止した場合に、ワークがバッフ
ァ内に収納されて一定時間以上の時間が経過して紫外線
照射の有効性がなくなった場合でも、容易にワークを紫
外線照射装置に再投入することができる。 (2)インライン化するための搬送機構を設けなくて
も、基板の昇降機構を持つホットプレートを多段に重ね
るだけでベーク装置をインライン化でき、また一台のロ
ボットで全ての搬送(前工程→ベーク、ベーク→冷却、
冷却→後工程)ができるので搬送機構のコストが少なく
てすむ。 (3)ホットプレートすなわちベーク装置の後には冷却
装置が必要であるが、その場合、従来の方式ではホット
プレートと冷却用のコールドプレートを一直線に並べ、
一つの駆動機構で搬送していたため、装置が直列に配置
されてラインが長くなるが、本実施形態では冷却装置と
バッファを兼用でき、ラインが短くなる。 (3)ベーク装置の前後にバッファをつけたのと同じ効
果がある。
When the stop of the post-process is released, the robot 8 takes out the work from the buffer device 9 and transports the work to the post-process. As described above, according to the present embodiment, the following effects can be obtained. (1) When the post-processing apparatus is stopped, even if the work is stored in the buffer and a certain period of time or more has passed and the UV irradiation becomes ineffective, the work is easily returned to the UV irradiation apparatus. Can be put in. (2) The baking device can be in-lined simply by stacking hot plates having a substrate elevating mechanism in multiple stages without providing a transfer mechanism for in-line transfer, and all transfer (pre-process → Bake, bake → cooling,
(Cooling → post-process) can be performed, so that the cost of the transport mechanism is reduced. (3) A cooling device is required after the hot plate, that is, the baking device. In this case, in the conventional method, the hot plate and the cold plate for cooling are arranged in a straight line,
Since the apparatus is transported by one drive mechanism, the apparatuses are arranged in series and the line becomes longer. However, in the present embodiment, the cooling apparatus and the buffer can be used, and the line becomes shorter. (3) There is the same effect as providing a buffer before and after the baking device.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
後工程の装置のトラブルによりバッファリングをしてラ
インが停止した場合、トラブル回復後にラインを稼働さ
せるときにバッファリングしたワークを人手により前工
程に遡って投入する必要がなくなる。
As described above, according to the present invention,
In the case where the line is stopped due to buffering due to a trouble in a post-process device, there is no need to manually input the buffered work back to the previous process when operating the line after recovery from the trouble.

【0028】また、1台のバッファで加工装置前後のバ
ッファを兼用できる。また、その加工を実施しない製品
の場合、加工装置の搬送手段を使わずに後工程に搬送で
きる。
Further, one buffer can be used as a buffer before and after the processing apparatus. In the case of a product that does not perform the processing, the product can be transferred to a subsequent process without using the transfer means of the processing apparatus.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of the present invention.

【図2】従来例を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 洗浄装置 2 紫外線照射装置 3 ワーク搬送用ロボット 4 バッファ装置 7 ベーク装置 8 ワーク搬送用ロボット 9 バッファ装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cleaning device 2 Ultraviolet irradiation device 3 Work transfer robot 4 Buffer device 7 Bake device 8 Work transfer robot 9 Buffer device

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ワークを搬送するための搬送ラインと、 該搬送ラインの脇に配置された加工装置と、 該加工装置と前記搬送ラインを挟んで対向するように配
置されたバッファ装置と、 前記加工装置とバッファ装置の間に配置され、前記ワー
クを前記加工装置と前記バッファ装置とに移載可能な移
載手段とを具備することを特徴とする生産システム。
A transport line for transporting a workpiece, a processing device disposed beside the transport line, a buffer device disposed to face the processing device with the transport line interposed therebetween, A production system, comprising: a transfer unit that is disposed between a processing device and a buffer device and that can transfer the work to the processing device and the buffer device.
【請求項2】 前記搬送ラインは、前記ワークを載置し
て搬送する搬送コンベアから構成されていることを特徴
とする請求項1に記載の生産システム。
2. The production system according to claim 1, wherein the transfer line includes a transfer conveyor that mounts and transfers the work.
【請求項3】 前記移載手段は、ロボットから構成され
ていることを特徴とする請求項1に記載の生産システ
ム。
3. The production system according to claim 1, wherein said transfer means comprises a robot.
【請求項4】 前記加工装置は、紫外線照射装置である
ことを特徴とする請求項1に記載の生産システム。
4. The production system according to claim 1, wherein the processing device is an ultraviolet irradiation device.
【請求項5】 前記加工装置は、温度炉であることを特
徴とする請求項1に記載の生産システム。
5. The production system according to claim 1, wherein the processing device is a temperature furnace.
【請求項6】 前記バッファ装置において前記ワークの
冷却を行うことを特徴とする請求項5に記載の生産シス
テム。
6. The production system according to claim 5, wherein said work is cooled in said buffer device.
【請求項7】 前記ワークは、ガラス基板であることを
特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の生産
システム。
7. The production system according to claim 1, wherein the work is a glass substrate.
【請求項8】 前記ガラス基板は、液晶表示装置用のガ
ラス基板であることを特徴とする請求項7に記載の生産
システム。
8. The production system according to claim 7, wherein the glass substrate is a glass substrate for a liquid crystal display.
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