JP2000031374A - Integrated circuit device - Google Patents

Integrated circuit device

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JP2000031374A
JP2000031374A JP19758598A JP19758598A JP2000031374A JP 2000031374 A JP2000031374 A JP 2000031374A JP 19758598 A JP19758598 A JP 19758598A JP 19758598 A JP19758598 A JP 19758598A JP 2000031374 A JP2000031374 A JP 2000031374A
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substrate
semiconductor chip
integrated circuit
circuit device
metal layer
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JP19758598A
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Japanese (ja)
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Takayuki Hirabayashi
崇之 平林
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item

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  • Wire Bonding (AREA)
  • Junction Field-Effect Transistors (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an integrated circuit device that can effectively radiate heat from a semiconductor element being heated such as a high-frequency semiconductor element, etc., and can be packaged or mounted in a compact size. SOLUTION: There are provided a semiconductor chip 15 on the surface of which a semiconductor element 21 and a plurality of bumps 16A, 16B are formed, a first substrate 11 and a second substrate 12 wherein a passive element 18 is formed on one main surface and a metal layer for heat radiation is formed on the other main surface. The rear surface of the semiconductor chip 15 is connected with one main surface of the first substrate 11 via the metal layer 14, and the surface of the semiconductor chip 15 is connected with the passive element 18 and the metal layer 13 for heat radiation via the bumps 16 to constitute a integrated circuit device 10.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばMESFE
T(MEtal Semiconductor FET )やHEMT(高電子移
動度トランジスタ)等の半導体素子が形成された半導体
チップを有して成る集積回路装置、いわゆる半導体素子
の実装構造に係わる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention
The present invention relates to an integrated circuit device having a semiconductor chip on which a semiconductor element such as T (MEtal Semiconductor FET) or HEMT (high electron mobility transistor) is formed, that is, a so-called semiconductor element mounting structure.

【0002】[0002]

【従来の技術】携帯電話端末や、無線LAN(ローカル
エリアネットワーク)の端末等の送信に使われるパワー
アンプ素子には、例えばガリウム砒素(GaAs)を用
いたMMIC(モノリシックマイクロ波IC)が形成さ
れている。このMMIC等のデバイスのパッケージング
や実装において、放熱が大きな課題となっている。
2. Description of the Related Art For example, an MMIC (monolithic microwave IC) using gallium arsenide (GaAs) is formed as a power amplifier element used for transmission of a mobile phone terminal, a wireless LAN (local area network) terminal, or the like. ing. In packaging and mounting devices such as MMICs, heat dissipation is a major issue.

【0003】従来は、一般的に、図7に示すように、M
MICチップ51を金属板52にダイボンディングし
て、この金属板52をヒートシンクとして、これにより
熱を逃がす構造等が用いられている。尚、図7中53は
MMICチップ51の電極パッド、54は基板、55は
MMICチップ51上の電極パッド53と基板54上の
端子56とを電気的に接続するワイヤである。
Conventionally, generally, as shown in FIG.
A structure is used in which the MIC chip 51 is die-bonded to a metal plate 52, and the metal plate 52 is used as a heat sink to release heat. In FIG. 7, 53 is an electrode pad of the MMIC chip 51, 54 is a substrate, and 55 is a wire for electrically connecting the electrode pad 53 on the MMIC chip 51 and the terminal 56 on the substrate 54.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、GaA
sは熱伝導が悪く、裏面からの冷却効率が良くないた
め、充分放熱させるために、金属板52を用いたヒート
シンク構造が大がかりに即ち平面的にMMICチップ5
1に対して大面積になってしまうことがあり、このとき
デバイスのパッケージの小型化、ひいてはこれらMMI
C等のデバイスを有する集積回路装置の小型化を妨げて
しまう。
SUMMARY OF THE INVENTION However, GaAs
s has poor heat conduction and poor cooling efficiency from the back surface, so that the heat sink structure using the metal plate 52 is large-scale, ie, planar, to sufficiently dissipate heat.
In some cases, the area of the MMI becomes larger than that of the MMI.
This hinders miniaturization of an integrated circuit device having a device such as C.

【0005】上述した問題の解決のために、本発明にお
いては、例えば高周波半導体素子等の発熱を伴う半導体
素子を効率よく放熱させることができ、かつコンパクト
にパッケージや実装を行うことができる集積回路装置を
提供するものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides an integrated circuit that can efficiently radiate a heat-generating semiconductor element such as a high-frequency semiconductor element and can be compactly packaged or mounted. An apparatus is provided.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の集積回路装置
は、表面に半導体素子と複数のバンプが形成された半導
体チップと、第1の基板と、一方の主面にパッシブ素
子、他方の主面に放熱用金属層が形成された第2の基板
とを有し、半導体チップの裏面が第1の基板の一方の主
面に金属層を介して接続され、半導体チップの表面がバ
ンプを介して第2の基板のパッシブ素子及び放熱用金属
層に接続されて成るものである。
An integrated circuit device according to the present invention comprises a semiconductor chip having a surface on which a semiconductor element and a plurality of bumps are formed, a first substrate, a passive element on one main surface, and a main element on the other side. A second substrate having a heat-dissipating metal layer formed on a surface thereof, the back surface of the semiconductor chip being connected to one main surface of the first substrate via a metal layer, and the front surface of the semiconductor chip being connected via a bump. And connected to the passive element and the heat dissipation metal layer of the second substrate.

【0007】また、本発明の集積回路装置は、半導体チ
ップ及び第1の基板及び第2の基板の全体が樹脂モール
ドされて成るものである。
Further, the integrated circuit device of the present invention is such that the entirety of the semiconductor chip, the first substrate and the second substrate are molded with resin.

【0008】上述の本発明の構成によれば、半導体チッ
プの裏面が第1の基板の主面の金属層に接続され、半導
体チップの表面がバンプを介して第2の基板の放熱用金
属層に接続されていることにより、これら第1の基板の
主面の金属層と第2の基板の放熱用金属層とから半導体
チップの半導体素子で発生した熱を放熱させることがで
きる。従って、半導体チップの表面及び裏面から放熱す
ることができ、効率よく放熱を行うことができる。
According to the configuration of the present invention described above, the back surface of the semiconductor chip is connected to the metal layer on the main surface of the first substrate, and the surface of the semiconductor chip is connected to the metal layer for heat radiation of the second substrate via the bump. The heat generated in the semiconductor element of the semiconductor chip can be radiated from the metal layer on the main surface of the first substrate and the metal layer for heat radiation of the second substrate. Therefore, heat can be radiated from the front and back surfaces of the semiconductor chip, and heat can be efficiently radiated.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明は、表面に半導体素子と複
数のバンプが形成された半導体チップと、第1の基板
と、一方の主面にパッシブ素子、他方の主面に放熱用金
属層が形成された第2の基板とを有し、半導体チップの
裏面が第1の基板の一方の主面に金属層を介して接続さ
れ、半導体チップの表面がバンプを介して第2の基板の
パッシブ素子及び放熱用金属層に接続されて成る集積回
路装置である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor chip having a semiconductor element and a plurality of bumps formed on a surface, a first substrate, a passive element on one main surface, and a heat radiation metal layer on the other main surface. Formed on the second substrate, the back surface of the semiconductor chip is connected to one main surface of the first substrate via a metal layer, and the surface of the semiconductor chip is connected to the second substrate via bumps. An integrated circuit device connected to a passive element and a metal layer for heat dissipation.

【0010】また本発明は、上記集積回路装置におい
て、バンプとパッシブ素子との間が、第2の基板を貫通
する配線層により接続された構成とする。
Further, according to the present invention, in the above integrated circuit device, the bump and the passive element are connected by a wiring layer penetrating the second substrate.

【0011】また本発明は、上記集積回路装置におい
て、半導体チップに高周波で動作する半導体素子が1素
子以上形成されてなる構成とする。
Further, the present invention provides the above-mentioned integrated circuit device, wherein one or more semiconductor elements operating at a high frequency are formed on a semiconductor chip.

【0012】また本発明は、上記集積回路装置におい
て、複数の半導体チップが第1の基板及び第2の基板に
接続されている構成とする。
Further, the present invention is configured such that, in the above-mentioned integrated circuit device, a plurality of semiconductor chips are connected to the first substrate and the second substrate.

【0013】また本発明は、上記集積回路装置におい
て、半導体チップの裏面にバンプが形成され、第1の基
板の他方の主面に配線層が形成され、半導体素子と半導
体チップの裏面のバンプとの間が半導体チップを貫通す
る配線層で接続され、半導体チップの裏面のバンプと第
1の基板の他方の主面の配線層との間が第1の基板を貫
通する配線層で接続されて成る構成とする。
According to the present invention, in the above integrated circuit device, a bump is formed on the back surface of the semiconductor chip, a wiring layer is formed on the other main surface of the first substrate, and the semiconductor element and the bump on the back surface of the semiconductor chip are formed. Are connected by a wiring layer penetrating the semiconductor chip, and the bump on the back surface of the semiconductor chip and the wiring layer on the other main surface of the first substrate are connected by a wiring layer penetrating the first substrate. Configuration.

【0014】本発明は、表面に半導体素子と複数のバン
プが形成された半導体チップと、第1の基板と、一方の
主面にパッシブ素子、他方の主面に放熱用金属層が形成
された第2の基板とを有し、半導体チップの裏面が第1
の基板の一方の主面に金属層を介して接続され、半導体
チップの表面がバンプを介して第2の基板のパッシブ素
子及び放熱用金属層に接続され、半導体チップ及び第1
の基板及び第2の基板の全体が樹脂モールドされて成る
集積回路装置である。
According to the present invention, a semiconductor chip having a semiconductor element and a plurality of bumps formed on a surface thereof, a first substrate, a passive element on one main surface, and a heat-dissipating metal layer on the other main surface are formed. A second substrate, and the back surface of the semiconductor chip is the first substrate.
The semiconductor chip is connected to one main surface of the substrate via a metal layer, and the surface of the semiconductor chip is connected to the passive element and the heat dissipation metal layer of the second substrate via bumps.
This is an integrated circuit device in which the entire substrate and the second substrate are resin-molded.

【0015】本発明の集積回路装置の一実施の形態とし
て高周波集積回路装置の概略構成図(断面図)を図1に
示す。
FIG. 1 shows a schematic configuration diagram (cross-sectional view) of a high-frequency integrated circuit device as one embodiment of the integrated circuit device of the present invention.

【0016】この高周波集積回路装置10は、高周波半
導体素子例えばMESFETやHEMT等の能動素子が
形成された半導体チップ15と、第1の基板として例え
ばセラミック基板或いはプリント基板等から成るダイボ
ンド基板11と、第2の基板として例えばセラミック基
板或いはプリント基板等から成るヒートシンク基板12
とを有して成る。そして、これらダイボンド基板11と
ヒートシンク基板12が、半導体チップ15の両面を挟
み込むように配置されている。
The high-frequency integrated circuit device 10 includes a semiconductor chip 15 on which high-frequency semiconductor elements such as MESFETs and HEMTs are formed, and a die-bond substrate 11 made of, for example, a ceramic substrate or a printed substrate as a first substrate. A heat sink substrate 12 made of, for example, a ceramic substrate or a printed substrate as the second substrate
And The die bond substrate 11 and the heat sink substrate 12 are arranged so as to sandwich both surfaces of the semiconductor chip 15.

【0017】半導体チップ15の裏面は、ダイボンド基
板11上に形成された例えば銅或いはアルミニウム等か
ら成るダイボンド金属層14を介してダイボンド基板1
1に取り付けられている。一方、半導体チップ15の表
面には複数のバンプ、即ち信号入出力用端子接続用バン
プ16Aと放熱金属接続用バンプ16Bが形成され、こ
の放熱金属接続用バンプ16Bがヒートシンク基板12
の裏面に形成された例えば銅或いはアルミニウム等から
成るヒートシンク金属層13に接続されている。
The back surface of the semiconductor chip 15 is formed on the die bonding substrate 1 via a die bonding metal layer 14 made of, for example, copper or aluminum formed on the die bonding substrate 11.
It is attached to 1. On the other hand, a plurality of bumps, that is, signal input / output terminal connection bumps 16A and heat radiation metal connection bumps 16B are formed on the surface of the semiconductor chip 15, and the heat radiation metal connection bumps 16B are
Is connected to a heat sink metal layer 13 made of, for example, copper or aluminum or the like formed on the back surface of the heat sink.

【0018】また、ダイボンド基板11とヒートシンク
基板12の外側にも同様のヒートシンク金属層13が配
置形成され、ダイボンド基板11の表面のダイボンド金
属層14及びヒートシンク基板12の裏面のヒートシン
ク金属層13と接続されている。
A similar heat sink metal layer 13 is also formed outside the die bond substrate 11 and the heat sink substrate 12, and is connected to the die bond metal layer 14 on the front surface of the die bond substrate 11 and the heat sink metal layer 13 on the back surface of the heat sink substrate 12. Have been.

【0019】これらヒートシンク基板12の裏面及び外
側のヒートシンク金属層13により、半導体チップ15
内の能動素子で発生した熱を放熱金属接続用バンプ16
Bを通じて半導体チップ15の表面から逃がすことがで
きる。また、これらの金属層13,14は、半導体チッ
プ15の高周波半導体素子に対する接地用のグランド金
属層としての役割も有する。
The semiconductor chip 15 is formed by the heat sink metal layer 13 on the back and outside of the heat sink substrate 12.
The heat generated by the active elements in the device
B can escape from the surface of the semiconductor chip 15. Further, these metal layers 13 and 14 also have a role as a ground metal layer for grounding the high frequency semiconductor element of the semiconductor chip 15.

【0020】そして、ヒートシンク基板12の表面即ち
半導体チップ15とは反対の側には整合回路やフィルタ
などのパッシブ素子18が形成されている。このパッシ
ブ素子18は、コネクタ19を介して外部との接続がな
される。また、このパッシブ素子18と半導体チップ1
5とは、ヒートシンク基板12内に穿設されたビヤホー
ル17内に形成された導電体から成る配線層と半導体チ
ップ15の表面の信号入出力用端子接続用バンプ16A
とを通じ電気的に接続される。
On the surface of the heat sink substrate 12, that is, on the side opposite to the semiconductor chip 15, a passive element 18 such as a matching circuit or a filter is formed. This passive element 18 is connected to the outside via a connector 19. The passive element 18 and the semiconductor chip 1
Reference numeral 5 denotes a wiring layer made of a conductor formed in a via hole 17 formed in the heat sink substrate 12 and a signal input / output terminal connection bump 16A on the surface of the semiconductor chip 15.
And are electrically connected through.

【0021】このビヤホール17内の配線層と信号入出
力用端子接続用バンプ16Aにより、整合回路や帯域フ
ィルタ等のパッシブ素子18と半導体チップ15内のH
EMT等の能動素子とが接続されて、高周波回路ICと
しての動作を機能させることができる。
By the wiring layer in the via hole 17 and the signal input / output terminal connection bump 16A, the passive element 18 such as a matching circuit or a bandpass filter and the H in the semiconductor chip 15 are formed.
An active element such as an EMT is connected, and can operate as a high-frequency circuit IC.

【0022】尚、ダイボンド基板11とヒートシンク基
板12とは、異なる基板で構成することも可能である
が、2つの基板11,12の熱膨張率の差によって生じ
る問題、例えば外側のヒートシンク金属13の剥がれ等
を防ぐため、好ましくは同一の基板材料又は互いに熱膨
張率の差が少ない基板材料とする。
Although the die bond substrate 11 and the heat sink substrate 12 can be composed of different substrates, a problem caused by a difference in the coefficient of thermal expansion between the two substrates 11 and 12, for example, of the outer heat sink metal 13. In order to prevent peeling or the like, it is preferable to use the same substrate material or a substrate material having a small difference in thermal expansion coefficient from each other.

【0023】ここで、この半導体チップ15の表面のパ
ターンの一形態を、模式的な平面図として図2Aに示
す。尚、比較のために従来のMMICチップ51の表面
のパターンを同様に図2Bに示す。
Here, one form of the pattern of the surface of the semiconductor chip 15 is shown in FIG. 2A as a schematic plan view. For comparison, a pattern on the surface of the conventional MMIC chip 51 is also shown in FIG. 2B.

【0024】図2Aより、半導体チップ15の表面にお
いて、HEMT等の能動素子21(図中斜線を付した素
子)に接続された信号入出力用端子接続用バンプ16A
と、放熱金属接続用バンプ16Bを含む多数のバンプが
形成されている。
Referring to FIG. 2A, on the surface of the semiconductor chip 15, signal input / output terminal connection bumps 16A connected to active elements 21 (elements hatched in the figure) such as HEMTs are shown.
And a large number of bumps including the heat radiation metal connection bumps 16B.

【0025】一方、図2Bに示す従来のMMICチップ
51では、HEMT等の能動素子58(図中右上がりの
斜線を付した素子)が形成された部分以外の部分に整合
回路・帯域フィルタ等のパッシブ素子59(図中斜線を
付さない素子)が金属パターンで形成されている。尚、
57(図中右下がりの斜線を付した素子)は、後述する
能動素子58の接地部分を示す。
On the other hand, in the conventional MMIC chip 51 shown in FIG. 2B, a matching circuit, a band-pass filter, etc. Passive elements 59 (elements not hatched in the figure) are formed by a metal pattern. still,
Numeral 57 (element hatched in the figure with a downward slant line) indicates a ground portion of an active element 58 described later.

【0026】そして、本実施の形態の高周波集積回路装
置10では、これらのパッシブ素子が半導体チップ15
上には無いので、この半導体チップ15単独では当然な
がらICとしての回路動作はできないが、これを図1に
示したように、整合回路等のパッシブ素子18を形成し
たヒートシンク基板12に信号入出力用端子接続用バン
プ16Aを介して接続することにより、ICの回路動作
をさせることが可能になる。
In the high-frequency integrated circuit device 10 according to the present embodiment, these passive elements are
Since the semiconductor chip 15 alone is not provided above, the circuit operation as an IC cannot be performed with the semiconductor chip 15 alone. However, as shown in FIG. 1, the semiconductor chip 15 is connected to the heat sink substrate 12 on which the passive element 18 such as a matching circuit is formed. It is possible to operate the circuit of the IC by connecting via the terminal connection bump 16A.

【0027】そして、図7に示した従来のMMICチッ
プ51では、HEMT等の能動素子で発生した熱を、前
述のようにMMICチップ51の裏面から逃がすしかな
く、放熱効率が悪い。
In the conventional MMIC chip 51 shown in FIG. 7, heat generated by an active element such as a HEMT must be released from the back surface of the MMIC chip 51 as described above, and the heat radiation efficiency is poor.

【0028】これに対して、本実施の形態の高周波集積
回路装置10では、図1及び図2Aに示した構造を採る
ことにより、能動素子21で発生した熱を半導体チップ
15の表面から直接逃がし、かつICとしての回路動作
は従来と同様に実現することができる。
On the other hand, in the high-frequency integrated circuit device 10 of the present embodiment, the heat generated in the active element 21 is directly released from the surface of the semiconductor chip 15 by employing the structure shown in FIGS. The circuit operation as an IC can be realized in the same manner as in the prior art.

【0029】また、パッシブ素子18をヒートシンク基
板12の表面に形成したので、表面にバンプ16(16
A,16B)を形成しても、半導体チップ15の面積は
従来のレイアウトのMMICチップ51と同程度に小型
化することができる。さらに、半導体チップ15の表面
には能動素子21とバンプ16のみとなるので、配置の
設計の自由度が大きくなる。尚、半導体チップ15に放
熱金属接続用バンプ16Bを多く形成するほど、放熱効
率が上がるとともに、グランド電位への定常化が速くな
る。図2においては、ソース電極を接地する回路構成の
場合について示しているが、ソース電極のごく近傍に放
熱金属接続用バンプ16Bを形成し、また能動素子21
以外の部分をできるだけ全てグランドとすることによ
り、放熱効率及びグランディングを良好にすることがで
きる。
Since the passive element 18 is formed on the surface of the heat sink substrate 12, the bump 16 (16
A, 16B), the area of the semiconductor chip 15 can be reduced to about the same size as the MMIC chip 51 of the conventional layout. Further, since only the active elements 21 and the bumps 16 are provided on the surface of the semiconductor chip 15, the degree of freedom in layout design is increased. It should be noted that the more the heat-dissipating metal connection bumps 16B are formed on the semiconductor chip 15, the higher the heat-dissipation efficiency and the faster the steady state to the ground potential. FIG. 2 shows the case of a circuit configuration in which the source electrode is grounded. However, a radiating metal connection bump 16B is formed very close to the source electrode, and the active element 21 is formed.
By setting all other parts to ground as much as possible, heat radiation efficiency and grounding can be improved.

【0030】そして、ダイボンド基板11及びヒートシ
ンク基板12は、半導体チップ15より若干大きい程度
の面積であるため、高周波集積回路装置10も従来のM
MICチップ51と面積的に大きく差がない程度まで小
型化を図ることができる。
Since the die bond substrate 11 and the heat sink substrate 12 have areas slightly larger than the semiconductor chip 15, the high-frequency integrated circuit device
The size can be reduced to such an extent that the area does not largely differ from that of the MIC chip 51.

【0031】上述のように、本実施の形態の高周波集積
回路装置10によれば、半導体チップ15内の能動素子
21で発生した熱をバンプ放熱金属接続用16Bを通じ
て半導体チップ15の表面からも逃がすことにより、半
導体チップ15の冷却・放熱の効率を向上させることが
できる。また、放熱効率を向上すると共にコンパクトな
構造に高周波集積回路装置10を形成することができ
る。
As described above, according to the high-frequency integrated circuit device 10 of the present embodiment, the heat generated in the active element 21 in the semiconductor chip 15 is released from the surface of the semiconductor chip 15 through the bump radiating metal connection 16B. Thereby, the efficiency of cooling and heat radiation of the semiconductor chip 15 can be improved. Further, the high-frequency integrated circuit device 10 can be formed with a compact structure while improving the heat radiation efficiency.

【0032】さらに、本実施の形態の高周波集積回路装
置10を、例えばGaAs等の高価な半導体チップ15
を用いる集積回路装置に適用した場合には、高価な半導
体チップ15上に形成するのは能動素子21の部分だけ
となり、整合回路等のパッシブ素子18は有機基板等か
ら成る安価なヒートシンク基板12上に形成するので、
全体として材料コストの低減が図られる。
Further, the high-frequency integrated circuit device 10 of the present embodiment is replaced with an expensive semiconductor chip 15 such as GaAs.
In the case where the present invention is applied to an integrated circuit device using only the active element 21, only the active element 21 is formed on the expensive semiconductor chip 15, and the passive element 18 such as a matching circuit is mounted on the inexpensive heat sink substrate 12 made of an organic substrate or the like. So that
As a whole, material costs can be reduced.

【0033】また、整合回路等のパッシブ素子18は、
半導体チップ15とは別のヒートシンク基板12上に形
成されているので、半導体チップ15を実装した後にも
これら回路の調整・改修を自由に行うことができる。
The passive element 18 such as a matching circuit is
Since the semiconductor chip 15 is formed on the heat sink substrate 12 different from the semiconductor chip 15, it is possible to freely adjust and repair these circuits even after the semiconductor chip 15 is mounted.

【0034】次に、本発明の集積回路装置の他の実施の
形態として高周波集積回路装置の概略構成図(断面図)
を図3に示す。図3に示すように、本実施の形態の高周
波集積回路装置20は、ダイボンド基板11及びヒート
シンク基板12に夫々高周波半導体素子を有する複数の
半導体チップ15A,15Bを接続して構成する。その
他の構成は、先に図1に示した高周波集積回路装置10
の構成と同様であるので、同一符号を付して重複説明を
省略する。
Next, a schematic configuration diagram (cross-sectional view) of a high-frequency integrated circuit device as another embodiment of the integrated circuit device of the present invention.
Is shown in FIG. As shown in FIG. 3, the high-frequency integrated circuit device 20 according to the present embodiment is configured by connecting a plurality of semiconductor chips 15A and 15B each having a high-frequency semiconductor element to a die bond substrate 11 and a heat sink substrate 12. Other configurations are similar to those of the high-frequency integrated circuit device 10 shown in FIG.
The same reference numerals are given and duplicate explanations are omitted.

【0035】このように、基板11及び12に対して、
複数の半導体チップ15A,15Bを接続する構成とす
ることにより、いわゆるMCM(マルチ・チップ・モジ
ュール)を構成することができる。
Thus, with respect to the substrates 11 and 12,
By connecting a plurality of semiconductor chips 15A and 15B, a so-called MCM (multi-chip module) can be formed.

【0036】次に、本発明の集積回路装置さらに他の実
施の形態として高周波集積回路装置の概略構成図(断面
図)を図4に示す。図4に示すように、本実施の形態の
高周波集積回路装置30は、半導体チップ15内及びダ
イボンド基板11内にもそれぞれビヤホール17を形成
し、この半導体チップ15内及びダイボンド基板11内
に形成したビヤホール17内の導体から成る配線層を通
じて、ダイボンド基板11の裏面側に設けられた配線3
1にも電気的に接続されるように構成する。
Next, FIG. 4 shows a schematic configuration diagram (cross-sectional view) of a high-frequency integrated circuit device as still another embodiment of the integrated circuit device of the present invention. As shown in FIG. 4, in the high-frequency integrated circuit device 30 of the present embodiment, via holes 17 are formed in the semiconductor chip 15 and the die bond substrate 11, respectively, and are formed in the semiconductor chip 15 and the die bond substrate 11. The wiring 3 provided on the back side of the die bond substrate 11 through a wiring layer made of a conductor in the via hole 17.
1 is also electrically connected.

【0037】このダイボンド基板11の裏面側に設けら
れた配線31は、入出力端子I/O等と電気的に接続さ
れるようにして、この配線31を通じて外部からの電源
電圧等の供給を行うようにされる。
The wiring 31 provided on the back side of the die bond substrate 11 is electrically connected to the input / output terminals I / O and the like, and external power supply voltage and the like are supplied through the wiring 31. To be.

【0038】その他の構成は、先に図1に示した高周波
集積回路装置10の構成と同様であるので、同一符号を
付して重複説明を省略する。
The other configuration is the same as the configuration of the high-frequency integrated circuit device 10 shown in FIG. 1 previously.

【0039】そして、例えば高周波信号は半導体チップ
15の表面側即ちヒートシンク基板12側から半導体チ
ップ15に供給し、電源電圧や制御信号等は半導体チッ
プ15の裏面側即ちダイボンド基板11側から供給する
ことにより、電源等で生じるノイズから高周波信号を更
に厳重に分離することができる。
For example, a high-frequency signal is supplied to the semiconductor chip 15 from the front side of the semiconductor chip 15, that is, the heat sink substrate 12, and a power supply voltage and control signals are supplied to the back side of the semiconductor chip 15, that is, the die bond substrate 11. Accordingly, a high-frequency signal can be more strictly separated from noise generated by a power supply or the like.

【0040】さらに、本発明の集積回路装置を一体にモ
ールドで封じたパッケージとすることもできる。この場
合のパッケージの概略構成を図5の断面図に示す。
Further, a package in which the integrated circuit device of the present invention is integrally sealed by a mold can be provided. The schematic configuration of the package in this case is shown in the cross-sectional view of FIG.

【0041】図5に示すように、ダイボンド基板11、
半導体チップ15、ヒートシンク基板12が図1と同様
に一体に形成され、さらにこれらが一体に例えば樹脂か
ら成るモールド41で封止されている。ヒートシンク基
板12に形成されたパッシブ素子18から延びるコネク
タ19には、モールド41から突出するリード42が接
続されて、パッケージ構造60を形成している。
As shown in FIG. 5, the die bonding substrate 11,
The semiconductor chip 15 and the heat sink substrate 12 are integrally formed as in FIG. 1, and these are integrally sealed with a mold 41 made of, for example, resin. A lead 42 projecting from a mold 41 is connected to a connector 19 extending from the passive element 18 formed on the heat sink substrate 12 to form a package structure 60.

【0042】このようにして、本発明の集積回路装置を
モールド形パッケージにすることができる。そして、例
えばいわゆるCSP(チップ・スケール・パッケージ)
即ち半導体チップ15の大きさに近いコンパクトなパッ
ケージを形成することができる。
Thus, the integrated circuit device of the present invention can be made into a mold type package. And, for example, the so-called CSP (chip scale package)
That is, a compact package close to the size of the semiconductor chip 15 can be formed.

【0043】次に、本発明の集積回路装置の別の実施の
形態として高周波集積回路装置におけるヒートシンク基
板の概略構成図(断面図)を図6Aに示す。この高周波
集積回路装置では、ヒートシンク基板12を、下層のヒ
ートシンク基板12Aと上層のヒートシンク基板12B
の2層の基板とした構成である。
Next, as another embodiment of the integrated circuit device of the present invention, FIG. 6A shows a schematic configuration diagram (cross-sectional view) of a heat sink substrate in a high frequency integrated circuit device. In this high-frequency integrated circuit device, the heat sink substrate 12 is composed of a lower heat sink substrate 12A and an upper heat sink substrate 12B.
This is a configuration in which a two-layer substrate is used.

【0044】2層のヒートシンク基板12A,12Bの
間には、伝送線路22や、渦巻き状に伝送線路を巻いた
スパイラルインダクタ25や、容量素子として形成され
るMIM(金属−絶縁体−金属)キャパシタ24の下側
の金属電極22Aが形成されている。また、MIMキャ
パシタ24は、上層のヒートシンク基板12B内に形成
され、その上側の金属電極22Bが誘電体膜23を挟ん
でヒートシンク基板12B内に埋め込まれて形成されて
いる。スパイラルインダクタ25は、図6Bに平面図を
示すように、渦巻き状の伝送線路により構成され、その
両端部25A,25Bがそれぞれ図6Aに示すビヤホー
ル17内の導電体に接続される。尚、図6A中22は伝
送線路、26は抵抗膜を示す。
A transmission line 22, a spiral inductor 25 having a spirally wound transmission line, and a MIM (metal-insulator-metal) capacitor formed as a capacitive element are disposed between the two heat sink substrates 12A and 12B. 24, a lower metal electrode 22A is formed. The MIM capacitor 24 is formed in the upper heat sink substrate 12B, and the upper metal electrode 22B is embedded in the heat sink substrate 12B with the dielectric film 23 interposed therebetween. As shown in the plan view of FIG. 6B, the spiral inductor 25 is formed by a spiral transmission line, and both ends 25A and 25B are respectively connected to conductors in the via hole 17 shown in FIG. 6A. In FIG. 6A, 22 indicates a transmission line, and 26 indicates a resistive film.

【0045】この2層のヒートシンク基板12A,12
Bは、予めそれぞれ表面や裏面にヒートシンク金属層1
3やビヤホール17とその内部の導電体、伝送線路2
2、スパイラルインダクタ25、MIMキャパシタ24
の下側の金属電極22A等を形成する。また、上層のヒ
ートシンク基板12Bには、2つの基板12Aと12B
を接合する前にMIMキャパシタ24を形成するための
穴を開けておき、接合した後に誘電体膜23を形成し、
誘電体膜23上に穴を埋めるように上側の金属電極22
Bを形成する。このように素子や金属層を形成してお
き、2つのヒートシンク基板12A,12Bを接合し、
積層ヒートシンク基板12を形成する。
The two heat sink substrates 12A, 12A
B is a heat sink metal layer 1 on the front and back surfaces, respectively.
3 and via hole 17 and the conductor inside thereof, transmission line 2
2. Spiral inductor 25, MIM capacitor 24
Is formed on the lower metal electrode 22A. The upper heat sink substrate 12B has two substrates 12A and 12B.
Before bonding, a hole for forming an MIM capacitor 24 is formed, and after bonding, a dielectric film 23 is formed.
The upper metal electrode 22 is formed so as to fill the hole on the dielectric film 23.
Form B. After forming the element and the metal layer in this way, the two heat sink substrates 12A and 12B are joined,
The laminated heat sink substrate 12 is formed.

【0046】その他の構成は図1に示した高周波集積回
路10に準ずるので同一符号を付して重複説明を省略す
る。また、半導体チップやダイボンド基板の構成は図1
と同様であるので、図示を省略する。
The other components are the same as those of the high-frequency integrated circuit 10 shown in FIG. The configuration of the semiconductor chip and the die bond substrate is shown in FIG.
Since it is the same as that of FIG.

【0047】本実施の形態によれば、前述の実施の形態
と同様に、半導体チップの放熱効率を向上させ、かつコ
ンパクトな構造に高周波集積回路装置を形成することが
できる。
According to the present embodiment, similarly to the above-described embodiment, the radiation efficiency of the semiconductor chip can be improved and the high-frequency integrated circuit device can be formed in a compact structure.

【0048】そして、さらに2層以上の多層構造でヒー
トシンク基板12を構成することにより、平面の同一面
積当たりの半導体素子の数を増やすことができる。
Further, by forming the heat sink substrate 12 with a multilayer structure of two or more layers, the number of semiconductor elements per one plane area can be increased.

【0049】尚、上述の実施の形態では、半導体チップ
15を高周波デバイス例えばMESFETやHEMT等
の素子を有する構成とした高周波集積回路装置について
説明したが、その他の消費電力が大きく発熱を生じる素
子を有する半導体チップ15を有する集積回路装置にお
いても、本発明を適用することによって、冷却の効率化
を図る効果を得ることができる。
In the above-described embodiment, the high-frequency integrated circuit device in which the semiconductor chip 15 has a high-frequency device, for example, a device such as a MESFET or a HEMT, has been described. By applying the present invention also to an integrated circuit device having the semiconductor chip 15 having the same, an effect of increasing cooling efficiency can be obtained.

【0050】本発明の集積回路装置は、上述の実施の形
態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しな
い範囲でその他様々な構成が取り得る。
The integrated circuit device of the present invention is not limited to the above-described embodiment, but may take various other configurations without departing from the gist of the present invention.

【0051】[0051]

【発明の効果】上述の本発明によれば、半導体チップの
表面から直接放熱させることができるため、放熱効率が
向上する。
According to the present invention, since heat can be radiated directly from the surface of the semiconductor chip, the heat radiation efficiency is improved.

【0052】また、同一の基板に同じ構造で複数のチッ
プを自由に複合したときには、いわゆるマルチ・チップ
・モジュールを形成することができる。
When a plurality of chips having the same structure are freely combined on the same substrate, a so-called multi-chip module can be formed.

【0053】例えば、GaAs等の高価な半導体チップ
を用いる集積回路装置に適用した場合には、高価な半導
体チップ上に形成するのは能動素子部分だけとなり、整
合回路等のパッシブ素子は有機基板等の安価な第2の基
板上に形成するので、全体としてコストダウンが図られ
る。
For example, when the present invention is applied to an integrated circuit device using an expensive semiconductor chip such as GaAs, only an active element portion is formed on the expensive semiconductor chip, and a passive element such as a matching circuit is an organic substrate or the like. Since it is formed on the inexpensive second substrate, the cost can be reduced as a whole.

【0054】また、半導体チップを実装した後にも整合
回路パターン等は別の第2の基板上に形成されているの
で、これら回路の調整・改修を自由に行うことができ
る。
Since the matching circuit pattern and the like are formed on another second substrate even after the semiconductor chip is mounted, the adjustment and repair of these circuits can be performed freely.

【0055】また、本発明の集積回路装置において、さ
らに第1の基板及び第2の基板と半導体チップとを一体
にモールドで封止し、リードを形成することにより、容
易にパッケージ構造を形成することができる。
Further, in the integrated circuit device of the present invention, the package structure is easily formed by sealing the first substrate and the second substrate and the semiconductor chip integrally with each other by molding and forming leads. be able to.

【0056】また、半導体チップを貫通した配線層を形
成して半導体チップの裏面側からも電気信号を供給する
ように構成したときには、高周波信号の経路と電源供給
線とを半導体チップのそれぞれ表側と裏側に分離できる
ので、さらに高周波信号と電源系信号の干渉をより厳重
に抑制・防止することができる。
When a wiring layer penetrating the semiconductor chip is formed to supply an electric signal also from the back side of the semiconductor chip, a high-frequency signal path and a power supply line are connected to the front side of the semiconductor chip, respectively. Since it can be separated on the back side, the interference between the high frequency signal and the power supply system signal can be more strictly suppressed and prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態の高周波集積回路装置の
概略構成図(断面図)である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram (cross-sectional view) of a high-frequency integrated circuit device according to an embodiment of the present invention.

【図2】半導体チップの表面のパターンを比較した平面
図である。 A 図1の高周波集積回路装置の場合である。 B 従来のMMICチップの場合である。
FIG. 2 is a plan view comparing patterns on the surface of a semiconductor chip. A This is the case of the high-frequency integrated circuit device of FIG. B This is the case of a conventional MMIC chip.

【図3】本発明の他の実施の形態の高周波集積回路装置
の概略構成図(断面図)である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram (cross-sectional view) of a high-frequency integrated circuit device according to another embodiment of the present invention.

【図4】本発明のさらに他の実施の形態の高周波集積回
路装置の概略構成図(断面図)である。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram (cross-sectional view) of a high-frequency integrated circuit device according to still another embodiment of the present invention.

【図5】高周波集積回路装置を一体にモールドしたパッ
ケージの概略構成図(断面図)である。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram (cross-sectional view) of a package obtained by integrally molding a high-frequency integrated circuit device.

【図6】本発明の別の実施の形態の高周波集積回路装置
を示す図である。 A 高周波集積回路装置のヒートシンク基板の断面図で
ある。 B 図6Aにおけるスパイラルインダクタの平面図であ
る。
FIG. 6 is a diagram showing a high-frequency integrated circuit device according to another embodiment of the present invention. A is a cross-sectional view of a heat sink substrate of the high-frequency integrated circuit device. B is a plan view of the spiral inductor in FIG. 6A.

【図7】従来のMMICの実装状態を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a mounting state of a conventional MMIC.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,20,30…高周波集積回路装置、11…ダイボン
ド基板、12,12A,12B…ヒートシンク基板、1
3…ヒートシンク金属層、14…ダイボンド金属層、1
5,15A,15B…半導体チップ、16…バンプ、1
6A…信号入出力用端子接続用バンプ、16B…放熱金
属接続用バンプ、17…ビヤホール、18…パッシブ素
子、19…コネクタ、21…能動素子、22…伝送線
路、22A…下側の金属電極、22B…上側の金属電
極、23…誘電体膜、24…MIMキャパシタ、25…
スパイラルインダクタ、26…抵抗膜、31…配線、4
1…モールド、42…リード、51…MMICチップ、
52…ヒートシンク金属、53…電極パッド、54…基
板、55…ワイヤ、56…端子、58…能動素子、59
…パッシブ素子、60…パッケージ構造
1, 20, 30: High frequency integrated circuit device, 11: Die bond substrate, 12, 12A, 12B: Heat sink substrate, 1
3: heat sink metal layer, 14: die bond metal layer, 1
5, 15A, 15B: semiconductor chip, 16: bump, 1
6A: bump for connecting a signal input / output terminal, 16B: bump for connecting a heat dissipating metal, 17: via hole, 18: passive element, 19: connector, 21: active element, 22: transmission line, 22A: lower metal electrode, 22B: Upper metal electrode, 23: Dielectric film, 24: MIM capacitor, 25:
Spiral inductor, 26 ... resistive film, 31 ... wiring, 4
1 ... mold, 42 ... lead, 51 ... MMIC chip,
52: heat sink metal, 53: electrode pad, 54: substrate, 55: wire, 56: terminal, 58: active element, 59
... Passive element, 60 ... Package structure

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表面に半導体素子と複数のバンプが形成
された半導体チップと、 第1の基板と、 一方の主面にパッシブ素子、他方の主面に放熱用金属層
が形成された第2の基板とを有し、 上記半導体チップの裏面が、上記第1の基板の一方の主
面に金属層を介して接続され、 上記半導体チップの表面が、上記バンプを介して上記第
2の基板の上記パッシブ素子及び上記放熱用金属層に接
続されて成ることを特徴とする集積回路装置。
1. A semiconductor chip having a surface on which a semiconductor element and a plurality of bumps are formed, a first substrate, a passive element on one main surface, and a second substrate having a heat dissipation metal layer formed on the other main surface. A back surface of the semiconductor chip is connected to one main surface of the first substrate via a metal layer, and a front surface of the semiconductor chip is connected to the second substrate via the bumps An integrated circuit device connected to the passive element and the heat dissipating metal layer.
【請求項2】 上記バンプと上記パッシブ素子との間
が、上記第2の基板を貫通する配線層により接続された
ことを特徴とする請求項1に記載の集積回路装置。
2. The integrated circuit device according to claim 1, wherein the bump and the passive element are connected by a wiring layer penetrating the second substrate.
【請求項3】 上記半導体チップに高周波で動作する半
導体素子が1素子以上形成されてなることを特徴とする
請求項1に記載の集積回路装置。
3. The integrated circuit device according to claim 1, wherein one or more semiconductor elements operating at a high frequency are formed on said semiconductor chip.
【請求項4】 複数の半導体チップが上記第1の基板及
び上記第2の基板に接続されていることを特徴とする請
求項1に記載の集積回路装置。
4. The integrated circuit device according to claim 1, wherein a plurality of semiconductor chips are connected to said first substrate and said second substrate.
【請求項5】 上記半導体チップの裏面にもバンプが形
成され、上記第1の基板の他方の主面に配線層が形成さ
れ、上記半導体素子と上記半導体チップの裏面のバンプ
との間が上記半導体チップを貫通する配線層で接続さ
れ、上記半導体チップの裏面のバンプと上記第1の基板
の上記他方の主面の配線層との間が上記第1の基板を貫
通する配線層で接続されて成ることを特徴とする請求項
1に記載の集積回路装置。
5. A bump is also formed on the back surface of the semiconductor chip, a wiring layer is formed on the other main surface of the first substrate, and a gap is formed between the semiconductor element and the bump on the back surface of the semiconductor chip. A wiring layer penetrating the semiconductor chip is connected, and a bump on the back surface of the semiconductor chip and the wiring layer on the other main surface of the first substrate are connected by a wiring layer penetrating the first substrate. The integrated circuit device according to claim 1, wherein the integrated circuit device comprises:
【請求項6】 表面に半導体素子と複数のバンプが形成
された半導体チップと、 第1の基板と、 一方の主面にパッシブ素子、他方の主面に放熱用金属層
が形成された第2の基板とを有し、 上記半導体チップの裏面が、上記第1の基板の一方の主
面に金属層を介して接続され、 上記半導体チップの表面が、上記バンプを介して上記第
2の基板の上記パッシブ素子及び上記放熱用金属層に接
続され、 上記半導体チップ及び上記第1の基板及び上記第2の基
板の全体が樹脂モールドされて成ることを特徴とする集
積回路装置。
6. A semiconductor chip having a semiconductor element and a plurality of bumps formed on a surface thereof, a first substrate, a passive element on one main surface, and a second substrate having a heat dissipation metal layer formed on the other main surface. A back surface of the semiconductor chip is connected to one main surface of the first substrate via a metal layer, and a front surface of the semiconductor chip is connected to the second substrate via the bumps An integrated circuit device connected to the passive element and the heat-dissipating metal layer, wherein the semiconductor chip, the first substrate, and the second substrate are entirely resin-molded.
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