JP2000030298A - Information recording medium - Google Patents

Information recording medium

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JP2000030298A
JP2000030298A JP10200585A JP20058598A JP2000030298A JP 2000030298 A JP2000030298 A JP 2000030298A JP 10200585 A JP10200585 A JP 10200585A JP 20058598 A JP20058598 A JP 20058598A JP 2000030298 A JP2000030298 A JP 2000030298A
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JP
Japan
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recording
film
translucent
light
thickness
Prior art date
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Pending
Application number
JP10200585A
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Japanese (ja)
Inventor
Naomasa Nakamura
直正 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an information recording medium, capable of steadily executing focusing and tracking at reproducing and expanding a power margin of laser beam usable for recording and erasing. SOLUTION: This information recording medium 1 is equipped with a light- transmissive substrate 2, a semitransparent interference film 3 formed on the principal surface of one side of the substrate 2, a recording film 5 formed on the semitransparent interference film 3 and generating a change in an optical characteristic due to reversible phase transition through irradiation of a light beam, a semitransparent reflection layer 7 formed on the recording film 5, a first light-transmissive protective film 4 provided between the semitransparent interference film 3 and the recording film 5 and having a higher melting point than the recording film 5, and a second light-transmissive protective film 6 provided between the recording film 5 and the semitransparent reflection layer 7 and having a melting point higher than that of the recording film 5.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、所定の光を照射す
ることにより光学的特性の変化を生ずる記録膜を有する
情報記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an information recording medium having a recording film whose optical characteristics change when irradiated with predetermined light.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、大容量メモリとして光ディスクが
注目を浴びている。その中でも、相変化型光ディスク
は、情報の記録・消去を自由に行うことが可能であるた
め、特に注目を集めている。
2. Description of the Related Art In recent years, optical disks have attracted attention as large-capacity memories. Among them, the phase-change optical disk has attracted particular attention because it can freely record and erase information.

【0003】図7に、従来の相変化型光ディスクの断面
図を示す。図7において相変化型光ディスク51は、基
板52上に、第1の保護膜53、記録膜54、第2の保
護膜55、及び反射層56が順次積層された構造を有し
ている。
FIG. 7 shows a cross-sectional view of a conventional phase change optical disk. In FIG. 7, the phase-change optical disk 51 has a structure in which a first protective film 53, a recording film 54, a second protective film 55, and a reflective layer 56 are sequentially laminated on a substrate 52.

【0004】一般に、上記相変化型光ディスク51にお
いて、基板52は、ガラスやプラスチック材料からな
り、第1及び第2の保護膜53,55は、ZnS、Si
2 、Al23 及びこれらの混合物からなる。記録膜
54は、GeSbTeのようなカルコゲナイドを真空蒸
着法やスパッタリング法等により基板上に堆積すること
により形成される。また、反射層56は、Al或いはA
lにTi、Mo、Zr及びCr等を含有する合金からな
る。
In general, in the above-mentioned phase change optical disk 51, a substrate 52 is made of glass or plastic material, and first and second protective films 53 and 55 are made of ZnS, Si.
It consists of O 2 , Al 2 O 3 and mixtures thereof. The recording film 54 is formed by depositing a chalcogenide such as GeSbTe on a substrate by a vacuum evaporation method, a sputtering method, or the like. The reflection layer 56 is made of Al or A
1 is made of an alloy containing Ti, Mo, Zr, Cr and the like.

【0005】上記相変化型光ディスク51への情報の記
録・消去は、例えば、以下に示す方法により行われる。
まず、作製直後の光ディスク51の全面に光を照射す
る。これにより、記録膜54は加熱され、結晶性の高い
状態、すなわち原子が比較的規則正しく配列した状態
(以下、結晶質状態という)となる。次に、結晶質状態
とした記録膜54に高い強度のパルス光を照射して、記
録膜54を溶融・急冷する。それにより、記録膜54の
パルス光照射部は、結晶性が低下した状態、すなわち原
子配列が乱れた状態(以下、非晶質状態という)とな
り、情報が書き込まれる。
The recording and erasing of information on the phase-change type optical disk 51 is performed, for example, by the following method.
First, light is applied to the entire surface of the optical disk 51 immediately after fabrication. As a result, the recording film 54 is heated to a state of high crystallinity, that is, a state in which atoms are arranged relatively regularly (hereinafter, referred to as a crystalline state). Next, the recording film 54 in the crystalline state is irradiated with high-intensity pulsed light to melt and rapidly cool the recording film 54. Thereby, the pulsed light irradiating portion of the recording film 54 is in a state where the crystallinity is reduced, that is, a state where the atomic arrangement is disordered (hereinafter, referred to as an amorphous state), and information is written.

【0006】ここで、これら結晶質状態と非晶質状態と
では、原子の配列構造が異なることから光学的性質(透
過率や反射率等)が異なり、この光学的性質の違いを反
射光の強度から検出することにより、記録された情報の
再生が可能となる。また、記録された情報の消去は、記
録膜54の記録部を非晶質状態から結晶質状態へと変化
させることにより行う。これは、記録部に低い強度のパ
ルス光を照射して、記録部を結晶化温度以上、融点未満
に加熱することにより可能である。
Here, since the crystalline state and the amorphous state have different atomic arrangement structures, their optical properties (transmittance, reflectivity, etc.) are different. By detecting from the intensity, the recorded information can be reproduced. The erasure of the recorded information is performed by changing the recording portion of the recording film 54 from an amorphous state to a crystalline state. This can be achieved by irradiating the recording section with a low intensity pulse light to heat the recording section to a temperature higher than the crystallization temperature and lower than the melting point.

【0007】上述した記録・消去方法は、光ディスク5
1が作製直後である場合についてのものであるが、既に
情報を記録した光ディスク51に対しては、以下に示す
オーバーライト記録を行うことが可能である。
The above-described recording / erasing method uses the optical disk 5
1 is a case immediately after production, but the following overwrite recording can be performed on the optical disk 51 on which information has already been recorded.

【0008】図8に、オーバーライト記録に必要なレー
ザ光のパワーをグラフにして示す。なお、図中、横軸は
時間を示し、縦軸はレーザ光のパワーを示している。図
8に示すように、オーバーライト記録は、消去信号に記
録信号を重畳することにより行われる。すなわち、レー
ザー光のパワーを消去パワー(バイアスパワー)と記録
パワーとの間で制御することにより、記録された情報を
消去しつつ、新たな記録を行うことができる。
FIG. 8 is a graph showing the power of laser light required for overwrite recording. In the figure, the horizontal axis represents time, and the vertical axis represents the power of laser light. As shown in FIG. 8, overwrite recording is performed by superimposing a recording signal on an erase signal. That is, by controlling the power of the laser beam between the erasing power (bias power) and the recording power, new recording can be performed while erasing the recorded information.

【0009】また、従来、上記光ディスク51への記録
は、グルーブ部及びランド部のいずれか一方に対しての
み行われていた。しかしながら、近年、光ディスク51
の大容量化が求められており、図9(a),(b)に示
すように、ランド部とグルーブ部の双方に記録を行うラ
ンド/グルーブ記録法も提案されている。
Conventionally, recording on the optical disk 51 has been performed only on one of the groove portion and the land portion. However, in recent years, the optical disc 51
In addition, as shown in FIGS. 9A and 9B, a land / groove recording method in which recording is performed on both a land portion and a groove portion has been proposed.

【0010】図9(a),(b)に、ランド/グルーブ
記録法を概略的に示す。なお、図9(a)は光ディスク
51を示す斜視図であり、図9(b)は光ディスク51
を示す平面図である。図9(a),(b)に示す光ディ
スク51には、ランド部61とグルーブ部62とが形成
されている。また、ランド部61及びグルーブ部62に
は記録マーク63が形成されている。
FIGS. 9A and 9B schematically show a land / groove recording method. FIG. 9A is a perspective view showing the optical disk 51, and FIG.
FIG. On the optical disk 51 shown in FIGS. 9A and 9B, a land portion 61 and a groove portion 62 are formed. Further, recording marks 63 are formed on the land portions 61 and the groove portions 62.

【0011】ランド部61及びグルーブ部62の双方に
対して記録を行うには、例えば、N.Miyagawa et al. が
J.J.Appl.Phys.Vol.32(1993)pp5324-5328 に開示するよ
うに、ランド部61に対するグルーブ部62の深さを約
λ/6とする(λは記録に用いるレーザー光の波長)。
これにより、隣接するトラックからのクロストークを防
止することが可能である。
For recording on both the land portion 61 and the groove portion 62, for example, N. Miyagawa et al.
As disclosed in JJ Appl. Phys. Vol. 32 (1993) pp. 5324-5328, the depth of the groove portion 62 with respect to the land portion 61 is set to about λ / 6 (λ is the wavelength of the laser beam used for recording).
This makes it possible to prevent crosstalk from adjacent tracks.

【0012】以上説明した光ディスク51には、未記録
時に比べて記録時に反射率が低下するタイプと、未記録
時に比べて記録時に反射率が上昇するタイプとが存在す
る。以下に、それぞれのタイプについて説明する。
The optical disk 51 described above includes a type in which the reflectance is lower during recording than in the unrecorded state, and a type in which the reflectance is higher during recording than during the unrecorded state. Hereinafter, each type will be described.

【0013】上述したように、上記光ディスク51よる
と、反射光の強度を測定することにより記録された情報
の再生が行われる。この反射光強度には、各界面からの
反射光間の光学的干渉が大きく影響する。したがって、
各層に用いる材料の光学定数に応じて、反射光の強度変
化(反射率変化)を最大とすることが可能な膜厚は異な
る。
As described above, according to the optical disk 51, the recorded information is reproduced by measuring the intensity of the reflected light. The optical interference between the reflected light from each interface greatly affects the reflected light intensity. Therefore,
Depending on the optical constant of the material used for each layer, the film thickness that can maximize the change in reflected light intensity (change in reflectance) differs.

【0014】図10に、保護膜の厚さと反射率との関係
の一例をグラフにして示す。図10に示すグラフは、記
録膜54をGeSbTeで構成し、反射層56にAlを
用い、保護膜53,55にZnS・SiO2 混合物を用
いた場合に得られるデータの一例を示している。
FIG. 10 is a graph showing an example of the relationship between the thickness of the protective film and the reflectance. The graph shown in FIG. 10 shows an example of data obtained when the recording film 54 is made of GeSbTe, Al is used for the reflective layer 56, and ZnS / SiO 2 mixture is used for the protective films 53 and 55.

【0015】なお、図中、横軸は保護膜55の厚さを示
しており、縦軸は反射率及び反射率変化量を示してい
る。また、記録膜54が非晶質状態にある場合に得られ
るデータを曲線57で示し、結晶質状態にある場合に得
られるデータを曲線58で示し、さらに、これらデータ
間の差を曲線59で示している。
In the figure, the horizontal axis indicates the thickness of the protective film 55, and the vertical axis indicates the reflectance and the amount of change in the reflectance. Data obtained when the recording film 54 is in an amorphous state is indicated by a curve 57, data obtained when the recording film 54 is in a crystalline state is indicated by a curve 58, and a difference between these data is indicated by a curve 59. Is shown.

【0016】図10から明らかなように、保護膜55の
膜厚を10〜20nm程度とするか、或いは140〜1
50nm程度とした場合に、反射率の変化量を最大とす
ることができる。また、保護膜55の膜厚を10〜20
nm程度とした場合、反射率変化量は正となっている。
すなわち、この場合、情報の記録を行うことにより、反
射率は未記録時に比べて低下する。一方、保護膜55の
膜厚を140〜150nm程度とした場合、反射率変化
量は負となっている。すなわち、この場合、情報の記録
を行うことにより、反射率は未記録時に比べて上昇す
る。このように、保護膜55の厚さを制御することによ
り、異なるタイプの光ディスク51を実現することが可
能であると考えられる。
As is apparent from FIG. 10, the thickness of the protective film 55 is set to about 10 to 20 nm or 140 to 1 nm.
When the thickness is about 50 nm, the amount of change in reflectance can be maximized. Further, the thickness of the protective film 55 is set to 10 to 20.
When it is set to about nm, the reflectance change amount is positive.
That is, in this case, by recording the information, the reflectance is lower than that when no information is recorded. On the other hand, when the thickness of the protective film 55 is about 140 to 150 nm, the change in reflectance is negative. That is, in this case, by recording the information, the reflectance increases as compared with the case where the information is not recorded. By controlling the thickness of the protective film 55 in this way, it is considered that different types of optical disks 51 can be realized.

【0017】しかしながら、保護膜55を厚く形成した
場合、放熱性が低下してしまう。この場合、記録膜54
を急冷することができず、記録特性の低下を生ずる(T.
OHTAet al. JJAP.VOL 128(1989)SUPPLEMENT28-3,pp123-
128)。したがって、記録膜54がGeSbTe等の記
録材料で構成される光ディスクにおいては、通常、保護
膜55は10〜20nm程度の厚さに形成されている。
すなわち、従来、光ディスク51は、未記録時に比べて
記録時に反射率が低下するタイプに形成されていた。
However, when the protective film 55 is formed thick, the heat dissipation is reduced. In this case, the recording film 54
Cannot be quenched, resulting in a decrease in recording characteristics (T.
OHTAet al. JJAP.VOL 128 (1989) SUPPLEMENT28-3, pp123-
128). Therefore, in an optical disc in which the recording film 54 is made of a recording material such as GeSbTe, the protective film 55 is usually formed to a thickness of about 10 to 20 nm.
That is, conventionally, the optical disk 51 is formed in a type in which the reflectance is lower during recording than when not recording.

【0018】ところが、上記光ディスク51を未記録時
に比べて記録時に反射率が低下するタイプとした場合、
光ディスク51へデジタルデータを記録する際に、以下
に示す問題を生ずる。以下、記録方式としてマーク位置
記録方式及びマーク長記録方式を採用した場合につい
て、それぞれ説明する。
However, when the optical disk 51 is of a type whose reflectivity is lower during recording than when it is not recorded,
When recording digital data on the optical disk 51, the following problems occur. Hereinafter, the case where the mark position recording method and the mark length recording method are adopted as the recording method will be described.

【0019】図11(a),(b)に、それぞれ、マー
ク位置記録方式及びマーク長記録方式を概略的に示す。
図11(a)は、マーク長記録方式を概略的に示す図で
ある。この図に示すように、マーク長記録方式において
は、情報“0”及び“1”は、それぞれ長さの異なる記
録マーク61,62に対応している。
FIGS. 11A and 11B schematically show a mark position recording method and a mark length recording method, respectively.
FIG. 11A is a diagram schematically showing a mark length recording method. As shown in this figure, in the mark length recording method, information “0” and “1” correspond to recording marks 61 and 62 having different lengths, respectively.

【0020】上記光ディスク51が未記録時に比べて記
録時に反射率が低下するタイプである場合に、このマー
ク長記録方式を適用すると、記録部の光吸収率は未記録
部のそれに比べて大きくなる。そのため、同じパワーの
レーザー光を照射したとしても、未記録部においては記
録部ほどの到達温度を得ることができない。さらに、記
録膜54の未記録部を溶融するには潜熱を必要とする。
If this mark length recording method is applied to the optical disk 51 of a type in which the reflectivity during recording is lower than that during non-recording, the light absorptance of the recording part becomes larger than that of the unrecorded part. . Therefore, even if a laser beam of the same power is irradiated, it is not possible to obtain a temperature which is as high as that of a recorded portion in an unrecorded portion. Further, latent heat is required to melt the unrecorded portion of the recording film 54.

【0021】したがって、上記光ディスク51にオーバ
ーライト記録を行った場合、未記録部に形成される記録
マークは記録部に形成される記録マークよりも小さくな
る。ここで、マーク長記録方式は、記録マークの長さを
利用した記録方法である。したがって、マーク長記録方
式においては、オーバーライト記録により形成する記録
マークのサイズが一定しないため、記録の精度が低下す
るという問題を生ずる。
Therefore, when the overwrite recording is performed on the optical disk 51, the recording marks formed in the unrecorded area are smaller than the recording marks formed in the recording area. Here, the mark length recording method is a recording method using the length of a recording mark. Therefore, in the mark length recording method, the size of the recording mark formed by overwrite recording is not constant, so that there is a problem that the recording accuracy is reduced.

【0022】図11(b)は、マーク位置記録方式を概
略的に示す図である。この図に示すように、マーク位置
記録方式においては、記録膜54上に形成される記録マ
ーク60はそれぞれ同じ形状に形成され、隣り合う記録
マーク60間での中心位置の間隔から、情報“0”及び
“1”が区別される。
FIG. 11B schematically shows a mark position recording method. As shown in this figure, in the mark position recording method, the recording marks 60 formed on the recording film 54 are formed in the same shape, and the information “0” is determined based on the distance between the center positions between the adjacent recording marks 60. "And" 1 "are distinguished.

【0023】未記録時に比べて記録時に反射率が低下す
るタイプの光ディスク51にマーク位置記録方式を採用
した場合、以下の問題を生ずる。光ディスク51が、未
記録時に比べて記録時に反射率が低下するタイプである
場合、再生時における平均反射率は、未記録部(結晶質
部)に対する記録部(非晶質部)の面積比が大きいほど
低下する。一般的な光ディスクドライブにおいて、フォ
ーカシング及びトラッキングを十分に安定に行うために
は、再生時における平均反射率は少なくとも10%程度
以上である必要がある。
When the mark position recording method is adopted for an optical disk 51 of a type in which the reflectivity is lower at the time of recording than at the time of non-recording, the following problems occur. When the optical disc 51 is of a type in which the reflectivity during recording is lower than that during non-recording, the average reflectivity during reproduction is such that the area ratio of the recorded portion (amorphous portion) to the unrecorded portion (crystalline portion) is smaller. It decreases as the size increases. In a general optical disk drive, in order to perform focusing and tracking sufficiently stably, the average reflectance at the time of reproduction needs to be at least about 10% or more.

【0024】光ディスク51へのデジタルデータの記録
をマーク長記録方式により行う場合、光ディスク51の
記録部の面積は、未記録部の面積に比べて広くなる。一
方、上記記録をマーク位置記録方式により行う場合、光
ディスク51の記録部の面積は、未記録部の面積に比べ
て広くはない。例えば、マーク長記録方式では、記録マ
ークの幅を0.78μmとし、記録密度を同様とした場
合、未記録部に対する記録部の面積比は44%である。
それに対し、マーク位置記録方式では、記録マークの直
径を0.78μmとし、記録密度をある値とした場合、
未記録部に対する記録部の面積比は26%である。
When recording digital data on the optical disk 51 by the mark length recording method, the area of the recording portion of the optical disk 51 is larger than the area of the unrecorded portion. On the other hand, when the recording is performed by the mark position recording method, the area of the recording portion of the optical disk 51 is not large as compared with the area of the unrecorded portion. For example, in the mark length recording method, when the width of the recording mark is 0.78 μm and the recording density is the same, the area ratio of the recording portion to the unrecorded portion is 44%.
On the other hand, in the mark position recording method, when the diameter of the recording mark is 0.78 μm and the recording density is a certain value,
The area ratio of the recorded portion to the unrecorded portion is 26%.

【0025】このようにマーク位置記録方式によると、
マーク長記録方式に比べて再生時の平均反射率は高くな
る。したがって、従来のマーク位置記録方式において
は、再生時においても十分な平均反射率が得られ、フォ
ーカシング及びトラッキングを安定に行うことが可能で
あった。
As described above, according to the mark position recording method,
The average reflectance at the time of reproduction is higher than that of the mark length recording method. Therefore, in the conventional mark position recording method, a sufficient average reflectance was obtained even during reproduction, and focusing and tracking could be stably performed.

【0026】しかしながら、近年、記録の高密度化が求
められている。マーク位置記録方式において記録密度を
高めるには、記録マークの間隔を狭めることが必要であ
る。この場合、未記録部に対する記録部の面積比が増大
するため、平均反射率は、例えば、従来の60%程度ま
で低下することが考えられる。ここで、保護膜55の厚
さが図9のAに示す厚さであるとすると、再生時の平均
反射率は10%以下となってしまう。
However, in recent years, higher recording density has been demanded. To increase the recording density in the mark position recording method, it is necessary to narrow the interval between recording marks. In this case, since the area ratio of the recording portion to the unrecorded portion increases, the average reflectance may be reduced to, for example, about 60% of the related art. Here, assuming that the thickness of the protective film 55 is the thickness shown in FIG. 9A, the average reflectance during reproduction is 10% or less.

【0027】再生時の平均反射率を増加させるには、保
護膜55をより厚く形成すればよい。しかしながら、保
護膜55の膜厚をより厚くすると、反射率変化量を最大
とすることができない。
In order to increase the average reflectance at the time of reproduction, the protective film 55 may be formed thicker. However, if the thickness of the protective film 55 is increased, the amount of change in reflectance cannot be maximized.

【0028】このように、未記録時に比べて記録時に反
射率が低下するタイプの光ディスク51にマーク位置記
録方式を採用した場合、いずれの記録方式を用いたとし
ても、記録密度を高め、再生時にフォーカシング及びト
ラッキングを安定に行い、かつ十分な反射率変化量を得
ることは困難であった。
As described above, when the mark position recording method is used for the optical disk 51 of which the reflectivity is lower at the time of recording than at the time of non-recording, the recording density is increased and the reproducing It has been difficult to stably perform focusing and tracking and to obtain a sufficient amount of change in reflectance.

【0029】上述した問題を解決する方法として、上記
光ディスク51の基板52と保護膜53との間に、半透
明金属層(半透明干渉膜)や高屈折率層を介在させるこ
とが提案されている。この方法によると、半透明金属層
や高屈折率層が光学的干渉条件に影響するため、保護膜
55を薄く形成し、かつ記録時の反射率を未記録時に比
べて高めることができる。すなわち、記録密度を高めた
場合においても、再生時にフォーカシング及びトラッキ
ングを安定に行うことが可能である。
As a method for solving the above-mentioned problem, it has been proposed to interpose a semi-transparent metal layer (semi-transparent interference film) or a high refractive index layer between the substrate 52 and the protective film 53 of the optical disk 51. I have. According to this method, since the semi-transparent metal layer and the high refractive index layer affect the optical interference condition, the protective film 55 can be formed thin and the reflectance at the time of recording can be increased as compared with the time of non-recording. That is, even when the recording density is increased, focusing and tracking can be stably performed during reproduction.

【0030】しかしながら、基板52と保護膜53との
間に半透明金属層や高屈折率層を介在させた従来の光デ
ィスク51において、記録部と未記録部との光吸収率の
比、及び記録部と未記録部とでの反射率の差等を最適化
した場合、記録・消去に用いるレーザー光のパワーの許
容範囲が極めて少なかった。すなわち、従来の光ディス
ク51においては、記録密度を高めた場合に、再生時の
フォーカシング及びトラッキングを安定して行うこと、
及び記録・消去に用いるレーザー光のパワーマージンを
拡大することは困難であった。
However, in the conventional optical disk 51 in which a translucent metal layer or a high refractive index layer is interposed between the substrate 52 and the protective film 53, the ratio of the light absorptivity between the recorded portion and the unrecorded portion, When the difference in reflectivity between the portion and the unrecorded portion was optimized, the allowable range of the power of the laser beam used for recording / erasing was extremely small. That is, in the conventional optical disk 51, when the recording density is increased, focusing and tracking during reproduction are performed stably.
Also, it has been difficult to increase the power margin of the laser beam used for recording / erasing.

【0031】[0031]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題に
鑑みてなされたものであり、再生時のフォーカシング及
びトラッキングを安定して行うことができ、かつ記録・
消去に使用可能なレーザー光のパワーマージンを拡大す
ることが可能な情報記録媒体を提供することを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and enables stable focusing and tracking at the time of reproduction.
It is an object of the present invention to provide an information recording medium capable of expanding a power margin of a laser beam usable for erasing.

【0032】[0032]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、光透過性の基板、前記基板の一方の主面
上に形成された半透明干渉膜、前記半透明干渉膜上に形
成され、光ビームを照射することにより可逆的に相変化
して光学的特性に変化を生ずる記録膜、前記記録膜上に
形成された半透明反射層、前記半透明干渉膜と前記記録
膜との間に設けられ、前記記録膜よりも高い融点を有す
る光透過性の第1の保護膜、及び前記記録膜と前記半透
明反射層との間に設けられ、前記記録膜よりも高い融点
を有する光透過性の第2の保護膜を具備することを特徴
とする情報記録媒体を提供する。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a light-transmitting substrate, a translucent interference film formed on one main surface of the substrate, and a translucent interference film formed on the translucent interference film. A recording film that changes its optical characteristics by reversibly changing its phase by irradiating a light beam, a translucent reflective layer formed on the recording film, the translucent interference film and the recording film And a light-transmissive first protective film having a melting point higher than the recording film, and a melting point higher than the recording film provided between the recording film and the translucent reflective layer. An information recording medium provided with a light-transmitting second protective film having the following.

【0033】上記情報記録媒体において好ましい態様を
以下に示す。 ・前記基板側から前記記録膜へ向けて光ビームを照射す
ることにより観測される反射率は、前記記録膜がより安
定な相にある場合に比べ、前記記録膜がより不安定な相
にある場合においてより高いこと。
Preferred embodiments of the information recording medium are described below. The reflectance observed by irradiating the recording film with a light beam from the substrate side is such that the recording film is in a more unstable phase than when the recording film is in a more stable phase. Higher in the case.

【0034】・前記半透明反射層は、Au、Cu、A
g、及びこれらを主成分とする合金からなる群より選ば
れる材料から実質的になること。 ・前記記録膜はGeSbTe系合金から実質的になるこ
と。
The translucent reflective layer is made of Au, Cu, A
g and a material substantially selected from the group consisting of alloys containing these as a main component. -The recording film is substantially made of a GeSbTe-based alloy.

【0035】・前記第1及び第2の保護膜の少なくとも
一方は、ZnS・SiO2 混合物、SiO2 、TiO
2 、及びAl23 からなる群より選ばれる材料から実
質的になること。
At least one of the first and second protective films is made of a ZnS.SiO 2 mixture, SiO 2 , TiO
2 and a material selected from the group consisting of Al 2 O 3 .

【0036】・前記半透明干渉膜は、Au、Ag、C
u、Si、Ge及びこれらを主成分とする合金からなる
群より選ばれる材料から実質的になること。 ・前記記録膜はGeSbTe系合金から実質的になり、
前記第1及び第2の保護膜はそれぞれZnS・SiO2
混合物から実質的になり、前記半透明干渉膜及び前記半
透明反射層はそれぞれAu、Cu、Ag、及びこれらを
主成分とする合金からなる群より選ばれる材料から実質
的になること。
The translucent interference film is made of Au, Ag, C
u, Si, Ge, and a material selected from the group consisting of alloys containing these as main components. -The recording film is substantially made of a GeSbTe-based alloy;
The first and second protective films are made of ZnS.SiO 2 respectively.
The translucent interference film and the translucent reflective layer are each substantially made of a material selected from the group consisting of Au, Cu, Ag, and an alloy containing these as a main component.

【0037】・前記記録膜の厚さは35nm以下である
こと。 ・前記半透明干渉膜の厚さは80nm以下であること。 ・前記第1の保護膜の厚さd1 が下記不等式(1)また
は(2)に示す関係を満たし、前記第1の保護膜の厚さ
2 が下記不等式(3)または(4)に示す関係を満た
すこと。
The thickness of the recording film is 35 nm or less. -The thickness of the translucent interference film is 80 nm or less. The thickness d 1 of the first protective film satisfies the relationship shown in the following inequality (1) or (2), and the thickness d 2 of the first protective film satisfies the following inequality (3) or (4): Satisfy the relationship shown.

【0038】・前記半透明反射層の厚さは30nm以下
であること。 ・前記記録膜はGeSbTe系合金から実質的になり、
前記第1及び第2の保護膜はそれぞれZnS・SiO2
混合物から実質的になり、前記半透明干渉膜及び前記半
透明反射層はそれぞれAu、Cu、Ag、及びこれらを
主成分とする合金からなる群より選ばれる材料から実質
的になり、前記半透明干渉膜の厚さは80nm以下であ
り、前記第1の保護膜の厚さd1 は下記不等式(1)ま
たは(2)に示す関係を満たし、前記記録膜の厚さは3
5nm以下であり、前記第1の保護膜の厚さd2 は下記
不等式(3)または(4)に示す関係を満たし、前記半
透明反射層の厚さは30nm以下であること。
The thickness of the translucent reflection layer is 30 nm or less. -The recording film is substantially made of a GeSbTe-based alloy;
The first and second protective films are made of ZnS.SiO 2 respectively.
The translucent interference film and the translucent reflective layer are each substantially made of a material selected from the group consisting of Au, Cu, Ag and an alloy containing these as a main component, and The thickness of the interference film is 80 nm or less, the thickness d 1 of the first protective film satisfies the relationship represented by the following inequality (1) or (2), and the thickness of the recording film is 3
5 nm or less, the thickness d 2 of the first protective film satisfies the relationship represented by the following inequality (3) or (4), and the thickness of the translucent reflective layer is 30 nm or less.

【0039】・前記基板の一方の主面には、ランド部と
グルーブ部とが形成されたこと。 ・前記ランド部に対する前記グルーブ部の深さDは、下
記不等式(5)または(6)に示す関係を満たすこと。
A land and a groove are formed on one main surface of the substrate. -The depth D of the groove portion with respect to the land portion satisfies the following inequality (5) or (6).

【0040】・前記相変化は結晶質状態と非晶質状態と
の間の変化であること。 ・前記相変化は結晶質状態と非晶質状態との間の変化で
あり、前記記録膜の結晶質状態にある部分と、前記記録
膜の非晶質状態にある部分とで、前記光ビームの波長に
おける位相差が±45°以下であること。
The phase change is a change between a crystalline state and an amorphous state. The phase change is a change between a crystalline state and an amorphous state, and the light beam is applied to a portion of the recording film in a crystalline state and a portion of the recording film in an amorphous state. The phase difference at the wavelength of ± 45 ° or less.

【0041】 0.2・λ/n≦d1 ≦0.4・λ/n …(1) 0.7・λ/n≦d1 ≦0.9・λ/n …(2) 0.05・λ/n≦d2 ≦0.36・λ/n …(3) 0.54・λ/n≦d2 ≦0.86・λ/n …(4) 0.14・λ/n≦D≦0.2・λ/n …(5) 0.3・λ/n≦D≦0.4・λ/n …(5) なお、上記不等式(1)〜(6)において、λは前記光
ビームの波長を示し、nは前記第1及び第2の保護膜の
屈折率を示す。
0.2 · λ / n ≦ d 1 ≦ 0.4 · λ / n (1) 0.7 · λ / n ≦ d 1 ≦ 0.9 · λ / n (2) 0.05 · λ / n ≦ d 2 ≦ 0.36 · λ / n ... (3) 0.54 · λ / n ≦ d 2 ≦ 0.86 · λ / n ... (4) 0.14 · λ / n ≦ D ≦ 0.2 · λ / n (5) 0.3 · λ / n ≦ D ≦ 0.4 · λ / n (5) In the above inequalities (1) to (6), λ is the light It shows the wavelength of the beam, and n shows the refractive index of the first and second protective films.

【0042】[0042]

【発明の実施の形態】以下、本発明について図面を参照
しながらより詳細に説明する。図1に、本発明の実施形
態に係る情報記録媒体の断面図を示す。図1において、
情報記録媒体(光ディスク)1は、基板2上に、半透明
干渉膜3、第1の保護膜4、記録膜5、第2の保護膜
6、及び半透明反射層7が順次積層された構造を有して
いる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows a sectional view of an information recording medium according to an embodiment of the present invention. In FIG.
The information recording medium (optical disk) 1 has a structure in which a translucent interference film 3, a first protective film 4, a recording film 5, a second protective film 6, and a translucent reflective layer 7 are sequentially laminated on a substrate 2. have.

【0043】上記光ディスク1において、基板2は、ポ
リメチルメタクリレート樹脂やポリカーボネート樹脂等
のプラスチック材料やガラス等のように、光透過性の材
料からなる。
In the optical disc 1, the substrate 2 is made of a light-transmitting material such as a plastic material such as polymethyl methacrylate resin or polycarbonate resin, glass, or the like.

【0044】記録膜5は、光照射により非晶質状態と結
晶質状態との間で可逆的に相変化する材料で構成される
ことが必要である。この記録膜5は、通常、35nm以
下の厚さに形成される。記録膜5を構成する材料として
は、例えば、GeSbTe系合金のようなカルコゲナイ
ド等を挙げることができる。
The recording film 5 needs to be made of a material that undergoes a reversible phase change between an amorphous state and a crystalline state by light irradiation. This recording film 5 is usually formed to a thickness of 35 nm or less. Examples of the material forming the recording film 5 include chalcogenides such as GeSbTe-based alloys.

【0045】第1及び第2の保護膜4,6は、記録膜5
にレーザ光等を照射する際に記録膜5が蒸発するのを防
止するために設けられる。すなわち、第1及び第2の保
護膜4,6を設けることにより、記録膜5の穴明きを防
ぎ、記録膜5の耐熱保護を図ることができる。
The first and second protective films 4 and 6 correspond to the recording film 5
It is provided to prevent the recording film 5 from evaporating when irradiating the recording film 5 with laser light or the like. That is, by providing the first and second protective films 4 and 6, perforation of the recording film 5 can be prevented, and the heat resistance of the recording film 5 can be protected.

【0046】第1及び第2の保護膜4,6に用いられる
材料としては、例えば、ZnS・SiO2 混合物、Si
2 、TiO2 、及びAl23 等の光透過性の誘電体
を挙げることができる。なお、上記光ディスク1におい
て、保護膜4,6は、半透明干渉膜3及び半透明反射層
7との相乗効果により再生信号を光学的にエンハンスす
るように設計されている。
The material used for the first and second protective films 4 and 6 is, for example, a ZnS.SiO 2 mixture, Si
Light transmitting dielectrics such as O 2 , TiO 2 , and Al 2 O 3 can be mentioned. In the optical disc 1, the protective films 4 and 6 are designed so as to optically enhance the reproduced signal by a synergistic effect with the translucent interference film 3 and the translucent reflective layer 7.

【0047】半透明干渉膜4は、光ディスク1の光学的
干渉条件に影響を与え、保護膜6を薄く形成した場合に
おいても、記録時の反射率を未記録時に比べて高めるこ
とを可能とする。したがって、上記光ディスク1による
と、記録密度を高めた場合においても、再生時にフォー
カシング及びトラッキングを安定に行うことが可能であ
る。
The translucent interference film 4 affects the optical interference conditions of the optical disk 1 and makes it possible to increase the reflectivity during recording as compared with the unrecorded state even when the protective film 6 is formed thin. . Therefore, according to the optical disc 1, focusing and tracking can be stably performed during reproduction even when the recording density is increased.

【0048】半透明干渉膜3は、Au、Ag、Cu、S
i、Ge及びこれらを主成分とする合金等からなる。半
透明干渉膜3は、基板2側から照射されたレーザ光が記
録膜5へと到達可能である程度に薄い必要がある。ま
た、半透明干渉膜3は、半透明干渉膜3と半透明反射層
7との間で光の干渉を生じさせて再生信号をエンハンス
するために、ある程度の厚さを必要とする。したがっ
て、半透明干渉膜3は、通常、1〜30nm程度の厚さ
に形成される。
The translucent interference film 3 is made of Au, Ag, Cu, S
i, Ge and alloys containing these as main components. The translucent interference film 3 needs to be thin enough to allow the laser light irradiated from the substrate 2 side to reach the recording film 5. Further, the translucent interference film 3 needs a certain thickness in order to cause light interference between the translucent interference film 3 and the translucent reflection layer 7 to enhance the reproduction signal. Therefore, the translucent interference film 3 is usually formed to a thickness of about 1 to 30 nm.

【0049】また、上記光ディスク1において、半透明
反射層7は、基板2側から照射されるレーザー光の一部
を透過させ、残りを反射するように形成される。ここ
で、半透明反射層7がレーザー光の一部を透過させるた
めには、半透明反射層7の光透過率が10%以上である
ことが必要であると定義する。
In the optical disk 1, the translucent reflection layer 7 is formed so as to transmit a part of the laser beam irradiated from the substrate 2 side and reflect the rest. Here, in order for the translucent reflective layer 7 to transmit a part of the laser beam, it is defined that the light transmittance of the translucent reflective layer 7 needs to be 10% or more.

【0050】従来の光ディスクにおいては、上記半透明
反射層7の代わりに反射層が設けられていた。従来の光
ディスクにおける反射層は、基板2側から照射されるレ
ーザー光の全てを反射或いは吸収するものである。その
ため、従来の光ディスクにおいて所望の干渉条件を得る
ためには、基板と反射層との間に介在する層構成を制御
するより他はない。
In the conventional optical disk, a reflection layer was provided instead of the translucent reflection layer 7. The reflection layer in the conventional optical disk reflects or absorbs all of the laser light emitted from the substrate 2 side. Therefore, in order to obtain a desired interference condition in the conventional optical disk, there is no other choice but to control a layer structure interposed between the substrate and the reflective layer.

【0051】それに対し、上記光ディスク1によると、
干渉条件を半透明反射層7の反射率或いは光透過率等で
制御することができる。また、半透明反射層7の反射率
或いは光透過率等は、半透明反射層7に用いる材料或い
はその膜厚により容易に制御可能である。
On the other hand, according to the optical disk 1,
The interference condition can be controlled by the reflectance or light transmittance of the translucent reflective layer 7 or the like. The reflectance or light transmittance of the translucent reflective layer 7 can be easily controlled by the material used for the translucent reflective layer 7 or its thickness.

【0052】本発明者は、半透明反射層7の膜厚等と光
ディスク1の光学特性との関係を調べたところ、以下の
関係を見出した。すなわち、記録膜54の記録部と未記
録部との間の光吸収率の比は半透明反射層7の膜厚に殆
ど依存せず、それぞれの光吸収率は半透明反射層7の膜
厚に応じて変化するのである。
The present inventor has examined the relationship between the thickness of the translucent reflective layer 7 and the like and the optical characteristics of the optical disc 1, and has found the following relationship. That is, the ratio of the light absorptivity between the recorded portion and the unrecorded portion of the recording film 54 hardly depends on the film thickness of the translucent reflective layer 7. It changes according to.

【0053】したがって、例えば、基板2上に形成する
半透明反射層7以外の層構成を最適化することにより記
録膜54の記録部と未記録部との間の光吸収率の比を所
望値に設定し、半透明反射層7の厚さを最適化すること
により所望の記録感度等を得ることができる。すなわ
ち、記録部と未記録部との間の光吸収率の比に殆ど影響
を与えることなく、記録・消去に使用可能なレーザー光
のパワーマージンを拡大することが可能となる。
Therefore, for example, by optimizing the layer structure other than the translucent reflective layer 7 formed on the substrate 2, the ratio of the light absorptivity between the recorded portion and the unrecorded portion of the recording film 54 can be set to a desired value. By optimizing the thickness of the translucent reflective layer 7, a desired recording sensitivity or the like can be obtained. That is, the power margin of the laser beam usable for recording / erasing can be increased without substantially affecting the ratio of the light absorptivity between the recorded portion and the unrecorded portion.

【0054】上記光ディスク1において、半透明反射層
7に用いる材料は、複素屈折率n−ikの屈折率n及び
消衰係数kが下記不等式を満たすことが好ましい。 n≦0.5 k≧2 このような材料を用いた場合、半透明反射層7を均一な
厚さで形成し、かつ半透明反射層7の光透過率等を所望
値に制御することが可能となる。屈折率n及び消衰係数
kが上記不等式を満たす材料としては、例えば、Au、
Cu及びAg等の金属、或いはこれらを主成分とした合
金を挙げることができる。なお、上記材料を用いた場
合、半透明反射層7の厚さを30nm以下とすることに
より、上述した効果が顕著となる。
In the optical disc 1, it is preferable that the material used for the translucent reflective layer 7 has a refractive index n of complex refractive index n-ik and an extinction coefficient k satisfying the following inequality. n ≦ 0.5 k ≧ 2 When such a material is used, it is possible to form the translucent reflective layer 7 with a uniform thickness and control the light transmittance of the translucent reflective layer 7 to a desired value. It becomes possible. Examples of the material whose refractive index n and extinction coefficient k satisfy the above inequality include Au,
Metals such as Cu and Ag or alloys containing these as main components can be given. In addition, when the above-mentioned material is used, the above-mentioned effect becomes remarkable by setting the thickness of the translucent reflective layer 7 to 30 nm or less.

【0055】上記光ディスク1は、ランド部とグルーブ
部とに情報の記録を行うタイプであってもよい。この場
合、ランド部に対するグルーブ部の深さは、0.14λ
/n〜0.20λ/n或いは0.30λ/n〜0.40
λ/nであることが好ましい。ランド部に対するグルー
ブ部の深さを上記範囲内とした場合、隣接トラックから
の信号のもれ込み(クロストーク)量を少なくすること
ができる。なお、nは保護膜4,6の屈折率であり、λ
は記録・消去に用いるレーザー光の波長である。
The optical disc 1 may be of a type that records information on lands and grooves. In this case, the depth of the groove with respect to the land is 0.14λ.
/ N to 0.20λ / n or 0.30λ / n to 0.40
It is preferably λ / n. When the depth of the groove portion relative to the land portion is within the above range, the amount of signal leakage (crosstalk) from an adjacent track can be reduced. Here, n is the refractive index of the protective films 4 and 6, and λ
Is the wavelength of the laser light used for recording / erasing.

【0056】また、光ディスク1を上記タイプとした場
合、記録部と未記録部とでの反射光の位相差が±45°
以下となるように層構成を制御することが好ましい。位
相差を上記範囲内とすることにより、ランド部及びグル
ーブ部の信号振幅を揃えることが可能となる。
When the optical disk 1 is of the above type, the phase difference of the reflected light between the recorded portion and the unrecorded portion is ± 45 °.
It is preferable to control the layer configuration so as to be as follows. By setting the phase difference within the above range, it is possible to make the signal amplitudes of the land portion and the groove portion uniform.

【0057】[0057]

【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。 (実施例1)図1に示す光ディスク1について、その光
学的特性と各層の膜厚との関係を以下に示す方法により
調べた。
Embodiments of the present invention will be described below. (Example 1) The relationship between the optical characteristics of the optical disk 1 shown in FIG. 1 and the thickness of each layer was examined by the following method.

【0058】図2は、本発明の実施例に係る光ディスク
の保護膜の厚さと反射率変化量との関係を示すグラフで
ある。図中、横軸は第1の保護膜4の厚さにn/λを乗
じた数値を示し、縦軸は第2の保護膜6の厚さにn/λ
を乗じた数値を示し、等高線に付された数値は、未記録
時に対する記録時の反射率変化量を示している。なお、
nは保護膜4,6の屈折率であり、λは記録・消去に用
いるレーザー光の波長(660nm)である。
FIG. 2 is a graph showing the relationship between the thickness of the protective film of the optical disc according to the embodiment of the present invention and the amount of change in reflectance. In the figure, the abscissa represents a value obtained by multiplying the thickness of the first protective film 4 by n / λ, and the ordinate represents the thickness of the second protective film 6 by n / λ.
, And the numerical value attached to the contour line indicates the amount of change in reflectance at the time of recording with respect to the time of non-recording. In addition,
n is the refractive index of the protective films 4 and 6, and λ is the wavelength (660 nm) of the laser beam used for recording / erasing.

【0059】また、図2に示すデータは、半透明干渉膜
3を厚さ10nmのAu膜とし、記録膜5を厚さ10n
mのGeSbTe膜とし、半透明反射層7を厚さ30n
mのAu膜とした場合に得られたものである。
The data shown in FIG. 2 shows that the translucent interference film 3 is a 10 nm thick Au film and the recording film 5 is 10 nm thick.
m GeSbTe film, and the thickness of the translucent reflective layer 7 is 30 n.
This was obtained when the Au film was m in thickness.

【0060】図2から明らかなように、第1の保護膜4
の膜厚が0.2・λ/n〜0.4・λ/n及び0.7・
λ/n〜0.9・λ/nのいずれか一方の範囲内にあ
り、かつ第2の保護膜6の膜厚が0.05・λ/n〜
0.36・λ/n及び0.54・λ/n〜0.86・λ
/nのいずれか一方の範囲内にある場合に、大きな反射
率変化量を得ることができる。このように、保護膜4,
6の膜厚に応じて反射率変化量が変化する理由は、基板
2側から入射したレーザー光が各層界面で多重反射を起
こすためである。
As is apparent from FIG. 2, the first protective film 4
Has a film thickness of 0.2 · λ / n to 0.4 · λ / n and 0.7 · λ / n.
λ / n to 0.9 · λ / n, and the thickness of the second protective film 6 is 0.05 · λ / n to
0.36 · λ / n and 0.54 · λ / n to 0.86 · λ
/ N is within one of the ranges, a large change in reflectance can be obtained. Thus, the protective film 4
The reason why the reflectance change amount changes in accordance with the film thickness of No. 6 is that laser light incident from the substrate 2 side causes multiple reflection at the interface between the layers.

【0061】次に、図2に関して説明したのと同条件下
で、記録部の光吸収率に対する未記録部の光吸収率の比
を調べた。その結果を図3に示す。図3は、本発明の実
施例に係る光ディスクの保護膜の厚さと記録部に対する
未記録部の光吸収率の比との関係を示すグラフである。
図中、横軸は第1の保護膜4の厚さにn/λを乗じた数
値を示し、縦軸は第2の保護膜6の厚さにn/λを乗じ
た数値を示し、等高線に付された数値は、記録部に対す
る未記録部の光吸収率の比を示している。
Next, the ratio of the light absorptance of the unrecorded portion to the light absorptance of the recorded portion was examined under the same conditions as described with reference to FIG. The result is shown in FIG. FIG. 3 is a graph showing the relationship between the thickness of the protective film of the optical disc according to the embodiment of the present invention and the ratio of the light absorptivity of the unrecorded portion to the recorded portion.
In the figure, the abscissa indicates a value obtained by multiplying the thickness of the first protective film 4 by n / λ, and the ordinate indicates a value obtained by multiplying the thickness of the second protective film 6 by n / λ. The numeral attached to indicates the ratio of the light absorptivity of the unrecorded portion to the recorded portion.

【0062】図3から明らかなように、保護膜4,6の
厚さを図2において大きな反射率変化量が得られた範囲
内とした場合、記録部(非晶質部)に対する未記録部
(結晶質部)の光吸収率の比を1より大きくすることが
できる。上述したように、非晶質部に比べて、結晶質部
を溶融するにはより大きな熱量を必要とする。したがっ
て、非晶質部に対する結晶質部の光吸収率の比を1より
大きくした場合、それぞれをほぼ同じ速度で昇温するこ
とができる。すなわち、記録部及び未記録部間における
記録マークのサイズばらつきを低減することが可能とな
る。
As is apparent from FIG. 3, when the thicknesses of the protective films 4 and 6 are within the range where a large amount of change in reflectance is obtained in FIG. The ratio of the light absorptivity of the (crystalline part) can be made larger than 1. As described above, a larger amount of heat is required to melt a crystalline part than an amorphous part. Therefore, when the ratio of the light absorptivity of the crystalline portion to the amorphous portion is set to be larger than 1, the temperatures can be increased at substantially the same rate. That is, it is possible to reduce the size variation of the recording mark between the recorded portion and the unrecorded portion.

【0063】次に、図1に示す光ディスク1について、
半透明干渉膜3の膜厚と半透明反射層7の膜厚とが、記
録膜5の記録部に対する未記録部の光吸収率に与える影
響を調べた。また、半透明干渉膜3の膜厚と半透明反射
層7の膜厚とが、記録膜5の未記録部の光吸収率に与え
る影響を調べた。なお、ここでは、記録膜5を厚さ10
nmのGeSbTe膜とし、第1の保護膜4の厚さにn
/λを乗じた数値を0.1とし、第2の保護膜6の厚さ
にn/λを乗じた数値を0.3とした。図4及び図5に
その結果を示す。
Next, regarding the optical disc 1 shown in FIG.
The influence of the film thickness of the translucent interference film 3 and the film thickness of the translucent reflective layer 7 on the light absorptance of the unrecorded portion relative to the recorded portion of the recording film 5 was examined. Further, the influence of the thickness of the translucent interference film 3 and the thickness of the translucent reflective layer 7 on the light absorptance of the unrecorded portion of the recording film 5 was examined. Here, the recording film 5 has a thickness of 10
nm GeSbTe film, and the thickness of the first protective film 4 is n
The value obtained by multiplying the thickness of the second protective film 6 by n / λ was set to 0.1, and the value obtained by multiplying / λ was set to 0.3. 4 and 5 show the results.

【0064】図4は、本発明の実施例に係る光ディスク
の半透明干渉膜及び半透明反射層の厚さと、記録部に対
する未記録部の光吸収率の比との関係を示すグラフであ
る。図中、横軸は半透明干渉膜3の膜厚を示し、縦軸は
半透明反射層7の膜厚を示し、曲線に付された数値は、
記録部に対する未記録部の光吸収率の比を示している。
FIG. 4 is a graph showing the relationship between the thickness of the translucent interference film and the translucent reflective layer of the optical disc according to the embodiment of the present invention, and the ratio of the light absorptivity of the unrecorded portion to the recorded portion. In the figure, the abscissa indicates the thickness of the translucent interference film 3, the ordinate indicates the thickness of the translucent reflective layer 7, and the numerical value attached to the curve is
The ratio of the light absorptivity of the unrecorded portion to the recorded portion is shown.

【0065】図5は、本発明の実施例に係る光ディスク
の半透明干渉膜及び半透明反射層の厚さと、未記録部の
光吸収率との関係を示すグラフである。図中、横軸は半
透明干渉膜3の膜厚を示し、縦軸は半透明反射層7の膜
厚を示し、曲線に付された数値は未記録部の光吸収率を
示している。
FIG. 5 is a graph showing the relationship between the thickness of the translucent interference film and the translucent reflective layer of the optical disc according to the embodiment of the present invention and the light absorption of the unrecorded portion. In the figure, the abscissa indicates the thickness of the translucent interference film 3, the ordinate indicates the thickness of the translucent reflective layer 7, and the numerical value attached to the curve indicates the light absorptivity of the unrecorded portion.

【0066】図4から明らかなように、記録部に対する
未記録部の光吸収率の比は、半透明干渉膜3の膜厚に応
じて変化するが、半透明反射層7の膜厚には殆ど依存し
ていない。一方、図5から明らかなように、半透明反射
層7の膜厚を5〜30nmの間で変化させることによ
り、記録部の光吸収率を0.65〜0.9の間で変化さ
せることができる。
As is apparent from FIG. 4, the ratio of the light absorptivity of the unrecorded portion to the recorded portion changes according to the thickness of the translucent interference film 3. Little dependence. On the other hand, as is apparent from FIG. 5, by changing the film thickness of the translucent reflective layer 7 between 5 and 30 nm, the light absorption of the recording portion is changed between 0.65 and 0.9. Can be.

【0067】以上から、記録の線速度、記録パルスの時
間及びそのパワーに応じて半透明反射層7の膜厚を設定
することにより、記録部と未記録部との間の光吸収率の
比に殆ど影響を与えることなく、最適な記録感度を得る
ことができることが確認された。
As described above, by setting the film thickness of the translucent reflective layer 7 in accordance with the linear velocity of recording, the recording pulse time and the power thereof, the ratio of the light absorptivity between the recorded part and the unrecorded part is obtained. It was confirmed that the optimum recording sensitivity could be obtained with little effect on the recording quality.

【0068】(実施例2)以下に示す方法により、図1
に示す光ディスク1を以下に作製し、半透明反射層7の
厚さと記録・消去特性との関係を調べた。
(Embodiment 2) FIG.
The optical disk 1 shown in FIG. 1 was manufactured below, and the relationship between the thickness of the translucent reflective layer 7 and the recording / erasing characteristics was examined.

【0069】まず、表面に渦巻線状の溝が形成された直
径90mm、厚さ0.6mmのポリカーボネート製円盤
ディスク2上に、Auからなる厚さ10nmの半透明干
渉膜3を成膜した。次に、半透明干渉膜3上に、ZnS
とSiO2 との混合物からなる保護膜4を93nmの厚
さに形成した。なお、保護膜4の厚さ93nmは、0.
3・λ/n(λはレーザー光の波長、nは保護膜4の屈
折率)に相当する。
First, a translucent interference film 3 made of Au and having a thickness of 10 nm was formed on a polycarbonate disk disk 2 having a diameter of 90 mm and a thickness of 0.6 mm having a spiral groove formed on the surface thereof. Next, on the translucent interference film 3, ZnS
A protective film 4 made of a mixture of SiO 2 and SiO 2 was formed to a thickness of 93 nm. Note that the thickness 93 nm of the protective film 4 is set to 0.1.
3 · λ / n (where λ is the wavelength of the laser beam and n is the refractive index of the protective film 4).

【0070】次に、保護膜4上に、GeSbTeからな
る記録膜5を30nmの厚さに形成した。記録膜5中の
Ge、Sb、Teの原子比は、2:2:5とした。記録
膜5上に、ZnSとSiO2 との混合物からなる保護膜
6を31nm(0.1・λ/n)の厚さに形成し、保護
膜6上にAuからなる半透明反射層7を100nmの厚
さに形成した。なお、基板2上への成膜には全て真空ス
パッタリング法を用いた。
Next, a recording film 5 made of GeSbTe was formed on the protective film 4 to a thickness of 30 nm. The atomic ratio of Ge, Sb, and Te in the recording film 5 was 2: 2: 5. A protective film 6 made of a mixture of ZnS and SiO 2 is formed on the recording film 5 to a thickness of 31 nm (0.1 · λ / n), and a translucent reflective layer 7 made of Au is formed on the protective film 6. It was formed to a thickness of 100 nm. Note that a vacuum sputtering method was used for the film formation on the substrate 2.

【0071】さらに、半透明反射層7上に、基板2と同
様のポリカーボネート製円盤ディスクを紫外線硬化樹脂
を用いて接着することにより、光ディスク1を得た。以
上のようにして作製した光ディスク1をサンプル(1)
とする。
Further, the same disc made of polycarbonate as that of the substrate 2 was adhered to the translucent reflection layer 7 by using an ultraviolet curable resin, whereby the optical disc 1 was obtained. The optical disk 1 manufactured as described above was used as a sample (1).
And

【0072】次に、半透明反射層7を10nmの厚さに
形成したこと以外はサンプル(1)に関して説明したの
と同様にして光ディスク1を作製した。以上のようにし
て作製した光ディスク1をサンプル(2)とする。
Next, an optical disc 1 was manufactured in the same manner as described for the sample (1) except that the translucent reflection layer 7 was formed to a thickness of 10 nm. The optical disk 1 manufactured as described above is referred to as a sample (2).

【0073】上述した方法により作製したサンプル
(1),(2)の記録・消去特性を図6に示す装置を用
いて調べた。図6は、本発明の実施例において用いられ
る光ディスクドライブ装置を概略的に示す図である。
The recording / erasing characteristics of the samples (1) and (2) produced by the above-described method were examined by using the apparatus shown in FIG. FIG. 6 is a diagram schematically showing an optical disk drive device used in the embodiment of the present invention.

【0074】図6に示すように、光ディスク1は、スピ
ンドルモータ32の回転軸に保持される。光ディスク1
は、スピンドルモータ32の回転数を制御することによ
り、所定の回転数で回転される。
As shown in FIG. 6, the optical disk 1 is held on a rotating shaft of a spindle motor 32. Optical disk 1
Is rotated at a predetermined rotation speed by controlling the rotation speed of the spindle motor 32.

【0075】入力装置36から入力される信号は、変調
回路35において“1”または“0”の信号へとデジタ
ル化される。変調回路35からのデジタル信号はレーザ
ドライバ37へと送られ、光学ヘッド33から出射され
るレーザー光のON/OFFを制御する。これにより、
ディスク1上へのデータの書込みが行われる。
The signal input from the input device 36 is digitized by the modulation circuit 35 into a signal of “1” or “0”. The digital signal from the modulation circuit 35 is sent to the laser driver 37, and controls ON / OFF of the laser light emitted from the optical head 33. This allows
Data is written on the disk 1.

【0076】ディスク1に所定のパワーのレーザー光を
照射することにより得られる再生信号は、光学ヘッド3
3に接続されたプリアンプ38で増幅される。増幅され
た再生信号は、次に2値化回路39において、アナログ
信号からデジタル信号へとデジタル化される。デジタル
化された再生信号は、さらに復調回路40において復調
され、アナログ信号として出力装置41へと出力され
る。
A reproduction signal obtained by irradiating the disk 1 with laser light of a predetermined power is
The signal is amplified by a preamplifier 38 connected to the third amplifier 3. The amplified reproduced signal is then digitized from an analog signal to a digital signal in a binarization circuit 39. The digitized reproduction signal is further demodulated in the demodulation circuit 40 and output to the output device 41 as an analog signal.

【0077】なお、図6において、制御系43は、レー
ザドライバ37を介して光学ヘッド33から出射される
レーザ光強度を制御したり、例えば、リニアモータ駆動
制御系46を介してリニアモータ34を駆動することに
より光学ヘッド33を所望の位置に制御するのに用いら
れる。また、制御系43は、フォーカス駆動制御系44
やトラック駆動制御系45を介して、光学ヘッド33に
設けられた対物レンズアクチュエータを駆動することに
より、ディスク1の面振れやトラックの偏心に追従する
ように対物レンズの位置を制御するのに用いられる。
In FIG. 6, the control system 43 controls the intensity of laser light emitted from the optical head 33 via a laser driver 37, and controls the linear motor 34 via a linear motor drive control system 46, for example. It is used to drive the optical head 33 to a desired position by driving. The control system 43 includes a focus drive control system 44.
By driving the objective lens actuator provided in the optical head 33 via the optical disk drive and the track drive control system 45, the optical head 33 is used to control the position of the objective lens so as to follow the surface deflection of the disk 1 and the eccentricity of the track. Can be

【0078】以上のように構成される光ディスクドライ
ブ装置30を用いてサンプル(1),(2)の記録・消
去特性を測定するのに先立ち、サンプル(1),(2)
の記録膜を、それぞれアルゴンレーザーを用いて結晶化
させた。
Before measuring the recording / erasing characteristics of the samples (1) and (2) using the optical disk drive device 30 configured as described above, the samples (1) and (2) are measured.
Was crystallized using an argon laser.

【0079】次に、図6に示す光ディスクドライブ装置
30を用い、スピンドルモータ32の回転数を1800
rpmに制御して、サンプル(1),(2)に情報を記
録した。なお、この記録は、記録信号を単一信号とし、
記録マーク長が0.6μmとなるように行った。
Next, by using the optical disk drive 30 shown in FIG.
The information was recorded on Samples (1) and (2) while controlling at rpm. In this recording, the recording signal is a single signal,
The recording was performed so that the recording mark length became 0.6 μm.

【0080】上記サンプル(1),(2)は、未記録時
に比べて記録時に反射率が上昇するタイプであるので、
記録の前及び後のいずれにおいてもフォーカシング及び
トラッキングを安定して行うことができた。また、未記
録部の反射率は11%であり、記録部の反射率は35%
であった。
The above samples (1) and (2) are of the type in which the reflectivity increases during recording as compared with the unrecorded state.
Focusing and tracking could be performed stably both before and after recording. The reflectance of the unrecorded portion is 11%, and the reflectance of the recorded portion is 35%.
Met.

【0081】次に、上記サンプル(1),(2)につい
て、信号対雑音比(CNR値)と、記録に用いるレーザ
ー光のパワーとの関係を調べた。なお、この記録は、記
録信号を単一信号とし、レーザー光のパワーを12mW
とした場合に、長さ0.6μmの記録マークが形成され
るように行った。
Next, for the samples (1) and (2), the relationship between the signal-to-noise ratio (CNR value) and the power of the laser beam used for recording was examined. In this recording, the recording signal was a single signal, and the power of the laser beam was 12 mW.
Was performed such that a recording mark having a length of 0.6 μm was formed.

【0082】また、上記サンプル(1),(2)に、記
録マーク長が0.6μmとなるように12mWのレーザ
ー光を照射して記録を行い、この記録の消去に用いるレ
ーザー光のパワーと、記録の消去率との関係を調べた。
なお、消去率は、上記記録直後のCNR値を、記録を消
去した後のCNR値で減じることにより得られる値であ
る。これらの結果を、下記表1,2に示す。
The above samples (1) and (2) were irradiated with a 12 mW laser beam so that the recording mark length became 0.6 μm, and recording was performed. And the relationship with the erasure rate of the record was examined.
Note that the erasure rate is a value obtained by subtracting the CNR value immediately after recording from the CNR value after erasing the recording. The results are shown in Tables 1 and 2 below.

【0083】[0083]

【表1】 [Table 1]

【0084】[0084]

【表2】 [Table 2]

【0085】上記表1から明らかなように、サンプル
(1)においては、CNR値はレーザー光のパワーに応
じて変化した。それに対し、サンプル(2)において
は、レーザー光のパワーを12mW以上とすることによ
り、CNR値の変化は飽和に達した。すなわち、サンプ
ル(1)に比べてサンプル(2)の方が、レーザー光パ
ワーが記録特性に与える影響は少ないといえる。
As is clear from Table 1, in Sample (1), the CNR value changed according to the power of the laser beam. On the other hand, in the sample (2), when the power of the laser beam was set to 12 mW or more, the change in the CNR value reached saturation. That is, it can be said that the laser light power has less influence on the recording characteristics in the sample (2) than in the sample (1).

【0086】また、表2から明らかなように、サンプル
(1)に比べ、サンプル(2)において、より大きな消
去率を得ることができた。また、サンプル(2)におい
ては、消去を可能とするレーザー光のパワー範囲がサン
プル(1)に比べて拡大されている。
As is clear from Table 2, a higher erasing rate was obtained in sample (2) than in sample (1). Further, in the sample (2), the power range of the laser beam enabling erasing is expanded as compared with the sample (1).

【0087】以上から、本発明の実施例に係る光ディス
クによると、半透明反射層7の厚さを適切に設定するこ
とにより、記録・消去に使用可能なレーザー光のパワー
マージンを拡大することが可能となる。
As described above, according to the optical disk of the embodiment of the present invention, by appropriately setting the thickness of the translucent reflective layer 7, the power margin of the laser beam usable for recording / erasing can be expanded. It becomes possible.

【0088】(比較例)半透明反射層7の代わりに、A
lからなる反射層を100nmの厚さに形成したこと以
外は実施例2においてサンプル(1)に関して説明した
のと同様にして光ディスクを作製した。以上のようにし
て作製した光ディスクを比較用サンプル(2)とする。
(Comparative Example) Instead of the translucent reflection layer 7, A
An optical disc was manufactured in the same manner as described for the sample (1) in Example 2 except that the reflective layer made of l was formed to a thickness of 100 nm. The optical disk manufactured as described above is used as a comparative sample (2).

【0089】さらに、半透明反射層7の代わりに、Al
からなる反射層を10nmの厚さに形成したこと以外は
実施例2においてサンプル(1)に関して説明したのと
同様にして光ディスクを作製した。以上のようにして作
製した光ディスクを比較用サンプル(2)とする。
Further, instead of the translucent reflection layer 7, Al
An optical disk was manufactured in the same manner as described for the sample (1) in Example 2 except that the reflective layer made of was formed to a thickness of 10 nm. The optical disk manufactured as described above is used as a comparative sample (2).

【0090】なお、比較用サンプル(1),(2)の反
射層は、いずれも光透過性を有していない。Alを用い
て半透明反射層を形成しようと試みた場合、膜厚を極め
て薄く制御しなければならない。しかしながら、Alを
用いて、そのように極めて薄い半透明反射層を均一な厚
さに形成することは現実的には不可能である。
Incidentally, none of the reflection layers of the comparative samples (1) and (2) have light transmittance. When trying to form a translucent reflective layer using Al, the film thickness must be controlled to be extremely thin. However, it is practically impossible to form such an extremely thin translucent reflective layer to a uniform thickness using Al.

【0091】次に、比較用サンプル(1),(2)の記
録膜を、それぞれアルゴンレーザーを用いて結晶化させ
た後、図6に示す光ディスクドライブ装置30を用い、
スピンドルモータ32の回転数を1800rpmに制御
して、情報を記録した。なお、この記録は、記録信号を
単一信号とし、記録マーク長が0.6μmとなるように
行った。
Next, after the recording films of the comparative samples (1) and (2) were crystallized by using an argon laser, respectively, the optical disc drive device 30 shown in FIG.
Information was recorded by controlling the number of revolutions of the spindle motor 32 to 1800 rpm. The recording was performed such that the recording signal was a single signal and the recording mark length was 0.6 μm.

【0092】上記比較用サンプル(1),(2)は、未
記録時に比べて記録時に反射率が上昇するタイプである
ので、記録の前及び後のいずれにおいてもフォーカシン
グ及びトラッキングを安定して行うことができた。ま
た、未記録部の反射率は10%であり、記録部の反射率
は32%であった。
Since the comparative samples (1) and (2) are of a type in which the reflectance increases during recording compared to the non-recording state, focusing and tracking are performed stably both before and after recording. I was able to. The reflectance of the unrecorded portion was 10%, and the reflectance of the recorded portion was 32%.

【0093】次に、上記比較用サンプル(1),(2)
について、信号対雑音比(CNR値)と、記録に用いる
レーザー光のパワーとの関係を調べた。なお、この記録
は、記録信号を単一信号とし、レーザー光のパワーを1
2mWとした場合に、長さ0.6μmの記録マークが形
成されるように行った。
Next, the comparative samples (1) and (2)
For, the relationship between the signal-to-noise ratio (CNR value) and the power of the laser beam used for recording was examined. In this recording, the recording signal was a single signal, and the power of the laser beam was 1 unit.
The operation was performed so that a recording mark having a length of 0.6 μm was formed when the power was 2 mW.

【0094】また、上記比較用サンプル(1),(2)
に、記録マーク長が0.6μmとなるように12mWの
レーザー光を照射して記録を行い、この記録の消去に用
いるレーザー光のパワーと、記録の消去率との関係を調
べた。なお、消去率は、上記記録直後のCNR値を、記
録を消去した後のCNR値で減じることにより得られる
値である。これらの結果を、下記表3,4に示す。
The comparative samples (1) and (2)
Then, recording was performed by irradiating a laser beam of 12 mW so that the recording mark length became 0.6 μm, and the relationship between the power of the laser beam used for erasing the recording and the erasing rate of the recording was examined. Note that the erasure rate is a value obtained by subtracting the CNR value immediately after recording from the CNR value after erasing the recording. The results are shown in Tables 3 and 4 below.

【0095】[0095]

【表3】 [Table 3]

【0096】[0096]

【表4】 [Table 4]

【0097】上記表3から明らかなように、比較用サン
プル(1),(2)の双方において、CNR値はレーザ
ー光のパワーに応じて変化し、飽和に達することはなか
った。すなわち、比較用サンプル(1),(2)におい
ては、レーザー光パワーが記録特性に与える影響は大き
いといえる。
As is clear from Table 3, the CNR values of both the comparative samples (1) and (2) changed according to the power of the laser beam, and did not reach saturation. That is, in the comparative samples (1) and (2), it can be said that the laser light power has a large effect on the recording characteristics.

【0098】また、表4から明らかなように、比較用サ
ンプル(1),(2)においては、実施例2のサンプル
(2)程の大きな消去率を得ることができなかった。ま
た、比較用サンプル(1),(2)においては、消去を
可能とするレーザー光のパワー範囲が実施例2のサンプ
ル(2)に比べて狭いものであった。
Further, as is apparent from Table 4, in the comparative samples (1) and (2), it was not possible to obtain an erasing rate as large as that of the sample (2) in Example 2. Further, in the comparative samples (1) and (2), the power range of the laser beam enabling erasing was narrower than the sample (2) of the second embodiment.

【0099】さらに、表3及び表4から明らかなよう
に、比較用サンプル(1),(2)からは、ほぼ同じデ
ータが得られた。以上から、比較用サンプル(1),
(2)によると、例え、反射層の膜厚を変えたとして
も、記録・消去に使用可能なレーザー光のパワーマージ
ンを拡大することが困難であることが明らかになった。
Further, as is clear from Tables 3 and 4, almost the same data was obtained from the comparative samples (1) and (2). From the above, the comparative sample (1),
According to (2), even if the film thickness of the reflective layer is changed, it is clear that it is difficult to increase the power margin of the laser beam usable for recording / erasing.

【0100】[0100]

【発明の効果】以上示したように、本発明の情報記録媒
体は半透明干渉膜を有している。半透明干渉膜は、情報
記録媒体の光学的干渉条件に影響するため、保護膜を薄
く形成し、かつ記録時の反射率を未記録時に比べて高め
ることができる。すなわち、記録密度を高めた場合にお
いても、再生時にフォーカシング及びトラッキングを安
定に行うことが可能である。また、本発明の情報記録媒
体には、反射層の代わりに半透明反射層が設けられる。
半透明反射層を用いた場合、その反射率や透過率等を制
御することにより、記録膜の記録部と未記録部との間の
光吸収率の比に影響を与えることなく、記録・消去に使
用可能なレーザー光のパワーマージンを拡大することが
可能となる。
As described above, the information recording medium of the present invention has a translucent interference film. Since the translucent interference film affects the optical interference conditions of the information recording medium, the protective film can be formed thin and the reflectance at the time of recording can be higher than at the time of non-recording. That is, even when the recording density is increased, focusing and tracking can be stably performed during reproduction. Further, the information recording medium of the present invention is provided with a translucent reflective layer instead of the reflective layer.
When a translucent reflective layer is used, recording / erasing can be performed without affecting the ratio of the light absorptivity between the recorded portion and the unrecorded portion of the recording film by controlling the reflectance and transmittance. It is possible to expand the power margin of the laser beam that can be used for the laser beam.

【0101】すなわち、本発明によると、再生時のフォ
ーカシング及びトラッキングを安定して行うことがで
き、かつ記録・消去に使用可能なレーザー光のパワーマ
ージンを拡大することが可能な情報記録媒体が提供され
る。
That is, according to the present invention, there is provided an information recording medium capable of stably performing focusing and tracking during reproduction and expanding a power margin of laser light usable for recording / erasing. Is done.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態に係る情報記録媒体を示す断
面図。
FIG. 1 is a sectional view showing an information recording medium according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例に係る光ディスクの保護膜の厚
さと反射率変化量との関係を示すグラフ。
FIG. 2 is a graph showing the relationship between the thickness of the protective film of the optical disc and the amount of change in reflectance according to the embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例に係る光ディスクの保護膜の厚
さと記録部に対する未記録部の光吸収率の比との関係を
示すグラフ。
FIG. 3 is a graph showing a relationship between a thickness of a protective film of an optical disc according to an embodiment of the present invention and a ratio of a light absorptivity of an unrecorded portion to a recorded portion.

【図4】本発明の実施例に係る光ディスクの半透明干渉
膜及び半透明反射層の厚さと、記録部に対する未記録部
の光吸収率の比との関係を示すグラフ。
FIG. 4 is a graph showing the relationship between the thickness of the translucent interference film and the translucent reflective layer of the optical disc according to the embodiment of the present invention, and the ratio of the light absorptivity of the unrecorded portion to the recorded portion.

【図5】本発明の実施例に係る光ディスクの半透明干渉
膜及び半透明反射層の厚さと、未記録部の光吸収率との
関係を示すグラフ。
FIG. 5 is a graph showing the relationship between the thickness of the translucent interference film and the translucent reflective layer of the optical disc according to the embodiment of the present invention, and the light absorptivity of the unrecorded portion.

【図6】本発明の実施例において用いられる光ディスク
ドライブ装置を概略的に示す図。
FIG. 6 is a diagram schematically showing an optical disk drive used in the embodiment of the present invention.

【図7】従来の相変化型光ディスクを示す断面図。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a conventional phase change optical disk.

【図8】オーバーライト記録に必要なレーザ光のパワー
を示すグラフ。
FIG. 8 is a graph showing the power of laser light required for overwrite recording.

【図9】ランド/グルーブ記録法を概略的に示す図。FIG. 9 is a diagram schematically showing a land / groove recording method.

【図10】保護膜の厚さと反射率との関係の一例を示す
グラフ。
FIG. 10 is a graph showing an example of the relationship between the thickness of a protective film and the reflectance.

【図11】マーク長記録方式を概略的に示す図。FIG. 11 is a diagram schematically showing a mark length recording method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,51…光ディスク 2,52…基板 3…半透明干渉膜 4,6,53,55…保護膜 5,54…記録膜 7…半透明反射層 30…光ディスクドライブ装置 32…スピンドルモータ 33…光学ヘッド 34…リニアモータ 35…変調回路 36…入力装置 37…レーザドライバ 38…プリアンプ 39…2値化回路 40…復調回路 41…出力装置 43…制御系 44…フォーカス駆動制御系 45…トラック駆動制御系 46…リニアモータ駆動制御系 56…反射層 57〜59…曲線 60〜63…記録マーク 61…ランド部 62…グルーブ部 1, 51 optical disk 2, 52 substrate 3 translucent interference film 4, 6, 53, 55 protective film 5, 54 recording film 7 translucent reflective layer 30 optical disk drive 32 spindle motor 33 optical Head 34 Linear motor 35 Modulation circuit 36 Input device 37 Laser driver 38 Preamplifier 39 Binarization circuit 40 Demodulation circuit 41 Output device 43 Control system 44 Focus drive control system 45 Track drive control system 46 ... Linear motor drive control system 56 ... Reflection layer 57-59 ... Curve 60-63 ... Recording mark 61 ... Land part 62 ... Groove part

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光透過性の基板と、 前記基板の一方の主面上に形成された半透明干渉膜と、 前記半透明干渉膜上に形成され、光ビームを照射するこ
とにより可逆的に相変化して光学的特性に変化を生ずる
記録膜と、 前記記録膜上に形成された半透明反射層と、 前記半透明干渉膜と前記記録膜との間に設けられ、前記
記録膜よりも高い融点を有する光透過性の第1の保護膜
と、 前記記録膜と前記半透明反射層との間に設けられ、前記
記録膜よりも高い融点を有する光透過性の第2の保護膜
とを具備することを特徴とする情報記録媒体。
1. A light-transmissive substrate, a translucent interference film formed on one main surface of the substrate, and a reversibly formed by irradiating a light beam on the translucent interference film. A recording film that undergoes a phase change to change the optical characteristics, a translucent reflective layer formed on the recording film, provided between the translucent interference film and the recording film, and A light-transmissive first protective film having a high melting point; and a light-transmissive second protective film provided between the recording film and the translucent reflective layer and having a higher melting point than the recording film. An information recording medium comprising:
【請求項2】 前記基板側から前記記録膜へ向けて光ビ
ームを照射することにより観測される反射率は、前記記
録膜が安定な相にある場合に比べ、前記記録膜がより不
安定な相にある場合においてより高いことを特徴とする
請求項1に記載の情報記録媒体。
2. The reflectivity observed by irradiating a light beam from the substrate side to the recording film indicates that the recording film is more unstable than when the recording film is in a stable phase. 2. The information recording medium according to claim 1, wherein the information recording medium is higher when in phase.
【請求項3】 前記半透明反射層は、Au、Cu、A
g、及びこれらを主成分とする合金からなる群より選ば
れる材料から実質的になることを特徴とする請求項1ま
たは2に記載の情報記録媒体。
3. The translucent reflective layer is made of Au, Cu, A
3. The information recording medium according to claim 1, wherein the information recording medium is substantially made of a material selected from the group consisting of g and an alloy containing these as a main component.
【請求項4】 前記記録膜はGeSbTe系合金から実
質的になることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1
項に記載の情報記録媒体。
4. The recording film according to claim 1, wherein the recording film is substantially made of a GeSbTe-based alloy.
The information recording medium described in the section.
【請求項5】 前記第1及び第2の保護膜の少なくとも
一方は、ZnS・SiO2 混合物、SiO2 、TiO
2 、及びAl23 からなる群より選ばれる材料から実
質的になることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1
項に記載の情報記録媒体。
5. At least one of the first and second protective films is made of a ZnS.SiO 2 mixture, SiO 2 , TiO
2, and any one of materials selected from the group consisting of Al 2 O 3 of claims 1 to 4, characterized in that a substantially 1
The information recording medium described in the section.
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