JP2000021335A - Panel type vacuum sealing container - Google Patents

Panel type vacuum sealing container

Info

Publication number
JP2000021335A
JP2000021335A JP10199510A JP19951098A JP2000021335A JP 2000021335 A JP2000021335 A JP 2000021335A JP 10199510 A JP10199510 A JP 10199510A JP 19951098 A JP19951098 A JP 19951098A JP 2000021335 A JP2000021335 A JP 2000021335A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
panel
substrate
plate
support
type vacuum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10199510A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsuko Iida
田 敦 子 飯
Shigeki Nishimura
村 茂 樹 西
Sen Ishikawa
川 宣 石
Masayuki Nakamoto
本 正 幸 中
Hitoshi Kobayashi
林 等 小
Hiroshi Yamada
田 浩 山
Yumi Fukuda
田 由 美 福
Yasuaki Yasumoto
本 恭 章 安
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP10199510A priority Critical patent/JP2000021335A/en
Publication of JP2000021335A publication Critical patent/JP2000021335A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a panel type vacuum sealing container provided with a supporter having a sufficient supporting strength with respect to the board of a large area and being capable of coping with the structure of a high electric field type. SOLUTION: A back surface panel 1 having a cathode board formed thereon and a front face panel 2 having an anode electrode facing to the back surface panel 1 are air-tightly connected to each other with a predetermined interval via a sealing frame 3. The inside of the sealing frame 3 is partitioned into a plurality of chambers R by a plurality of first plate-like members 6. Among them, a plurality of second plate-like members 7 formed in a direction perpendicular to the first plate-like member 6 are further partly fixed in the first plate- like members 6 disposed at most flexible portions in the vicinity of the center of the panel, thus forming a supporter S having a high aspect ratio.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば電界放出デ
ィスプレイ(FED)を構成する真空気密容器のよう
な、電界放出型のカソード基板を封入したパネル型真空
気密容器に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a panel type vacuum hermetic container enclosing a field emission type cathode substrate, such as a vacuum hermetic container constituting a field emission display (FED).

【0002】[0002]

【従来の技術】図106に、電界放出ディスプレイを構
成する従来のパネル型真空気密容器の要部が示されてい
る(特開平6−310054号公報)。図106に示す
真空気密容器においては、アノード基板100とカソー
ド基板103との間に複数の柱状支持体109が形成さ
れている。カソード基板103には、カソードライン1
04、絶縁層105、ゲートライン106、及びエミッ
タ107が形成されている。また、アノード基板100
上に、陽極導体101と蛍光体層102が形成されてお
り、これらの領域をさけて各柱状支持体109が設けら
れる。
2. Description of the Related Art FIG. 106 shows a main part of a conventional panel-type vacuum hermetic container constituting a field emission display (Japanese Patent Laid-Open No. 6-310054). In the vacuum-tight container shown in FIG. 106, a plurality of columnar supports 109 are formed between an anode substrate 100 and a cathode substrate 103. The cathode line 1 is provided on the cathode substrate 103.
04, an insulating layer 105, a gate line 106, and an emitter 107 are formed. Also, the anode substrate 100
An anode conductor 101 and a phosphor layer 102 are formed thereon, and each columnar support 109 is provided so as to avoid these regions.

【0003】次に、図107および図108には、この
ようなパネル型真空気密容器の製造行程の一部が示され
ている。まず、図107に示すように、固めたガラス繊
維の束111を所定の長さにスライスし(図107(a)
)、各ガラス繊維109の一端にNi 112をつける
(図107(b),(c) )。次に、ガラス基板114に所望
のパターンで形成した凹み中に磁石粉末を含むペースト
113を詰め、ガラス繊維からなる支持柱109の一端
を磁力で保持し(図107(d) )、他端には、紫外線硬
化型接着剤115をコートしたガラス基板116から接
着剤115を転写する(図107(e) )。
Next, FIGS. 107 and 108 show a part of a manufacturing process of such a panel-type vacuum hermetic container. First, as shown in FIG. 107, a bundle 111 of hardened glass fibers is sliced to a predetermined length (FIG. 107 (a)
), Ni 112 is attached to one end of each glass fiber 109 (FIGS. 107 (b), (c)). Next, a paste 113 containing magnet powder is filled in a recess formed in a desired pattern on a glass substrate 114, and one end of a support pillar 109 made of glass fiber is held by a magnetic force (FIG. 107 (d)), and the other end is held at the other end. Transfers the adhesive 115 from the glass substrate 116 coated with the ultraviolet curable adhesive 115 (FIG. 107 (e)).

【0004】一方、図108に示すように、アノード基
板100上の陽極導体101と蛍光体層102の領域を
さけて低融点ガラスパターン108を設け、周辺枠部に
シールガラスペースド110を被着形成する(図108
(a) )。次に、上記支持柱109を、アノード基板10
0の低融点ガラスパターン108に位置合わせし、支持
柱109の他端をつけ、紫外線で接着剤115を硬化さ
せた後、低軟化点ガラスパターン108を焼成し、支持
柱109を固着する(図108(b),(c) )。
On the other hand, as shown in FIG. 108, a low-melting glass pattern 108 is provided so as to avoid the area of the anode conductor 101 and the phosphor layer 102 on the anode substrate 100, and a seal glass paste 110 is attached to the peripheral frame. Forming (FIG. 108)
(a)). Next, the support column 109 is attached to the anode substrate 10.
The low-melting glass pattern 108 is aligned with the low-melting glass pattern 108, the other end of the support pillar 109 is attached, and the adhesive 115 is cured with ultraviolet rays. 108 (b), (c)).

【0005】これらの工程により、φ50μm 、高さ2
00μm の柱状の支持柱109が360μm ピッチで形
成された蛍光体パターンニング基板が得られる。その
後、ガラス繊維109のNi 被着端部に低融点ガラス1
08を被着させ、電界放出型カソード基板103を取り
付けて、気密に封止する事により、図106に示すよう
なパネル型真空気密容器を得る。
[0005] By these steps, φ50 μm, height 2
A phosphor patterning substrate having the columnar support columns 109 of 00 μm formed at a pitch of 360 μm is obtained. Then, a low-melting glass 1 was added to the Ni-coated end of the glass fiber 109.
08, the field emission type cathode substrate 103 is attached, and hermetically sealed to obtain a panel-type vacuum hermetic container as shown in FIG.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来のパネル型真空気密容器では、アノード基板
100とカソード基板103の間隔を点在した微小径の
支持柱109で保持している為、大面積の表示素子に応
用する場合には、大気圧を支えるのに十分な支持強度を
得る事が出来ないという欠点がある。また、ガラス繊維
からなる支柱体109は、アスペクト比(直径に対する
高さの比)が4であり、例えば高電界で電子放出する場
合には両基板100, 103間でより大きな距離で間隔
を保持する事が必要となり、アスペクト比は30以上が
求められ、柱状の構造体ではたわみ易く、十分な支持強
度が得られないという欠点もある。
However, in the conventional panel-type vacuum hermetic container as described above, since the distance between the anode substrate 100 and the cathode substrate 103 is held by the support columns 109 having minute diameters interspersed with each other, When applied to a display element having a large area, there is a disadvantage that sufficient supporting strength to support the atmospheric pressure cannot be obtained. The column 109 made of glass fiber has an aspect ratio (ratio of height to diameter) of 4. For example, when electrons are emitted in a high electric field, the distance between the substrates 100 and 103 is maintained at a larger distance. The aspect ratio is required to be 30 or more, and the columnar structure has a disadvantage that it is easily bent and a sufficient supporting strength cannot be obtained.

【0007】本発明は、このような点を考慮してなされ
たものであり、大面積の基板に対しても十分な支持強度
を持ち、また、高電界型の構造にも対応可能な支持体を
備えたパネル型真空気密容器を提供する事を目的とす
る。
The present invention has been made in view of the above points, and has a sufficient support strength even for a large-area substrate, and can support a high electric field type structure. An object of the present invention is to provide a panel-type vacuum hermetic container provided with:

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】第1の手段は、片面に電
界放出型のカソード基板が設けられた第1基板と、前記
第1基板のカソード基板側の面に対向して配置され、前
記第1基板との対向面にアノード電極が設けられた第2
基板と、前記第1基板と前記第2基板との間を、所定間
隔を置いて気密に連結する密封枠と、この密封枠内にお
いて、前記第1基板と前記第2基板との間に介設される
支持体とを備え、前記支持体は、1又は2以上の第1板
状部材および第2板状部材を有し、これらの第1板状部
材および第2板状部材は、前記第1基板および前記第2
基板に対して略垂直に且つ互いに略直交して配置されて
いる事を特徴とするパネル型真空気密容器である。
The first means comprises a first substrate having a field emission type cathode substrate provided on one surface thereof, and a first substrate disposed opposite to a surface of the first substrate on the cathode substrate side, A second substrate having an anode electrode provided on a surface facing the first substrate;
A substrate, a sealing frame that air-tightly connects the first substrate and the second substrate at a predetermined interval, and an intervening portion between the first substrate and the second substrate in the sealing frame. Provided, wherein the support has one or more first and second plate-shaped members, and the first and second plate-shaped members are A first substrate and the second substrate
A panel-type vacuum hermetic container characterized by being disposed substantially perpendicular to a substrate and substantially perpendicular to each other.

【0009】この第1の手段によれば、支持体の第1板
状部材および第2板状部材が、第1基板および第2基板
に対して略垂直に且つ互いに略直交して配置されている
ので、第1基板および第2基板の面積が大きい場合で
も、支持体によって第1基板と第2基板との間を十分な
強度で支持することが可能となる。
According to the first means, the first plate-like member and the second plate-like member of the support are arranged substantially perpendicular to the first substrate and the second substrate and substantially perpendicular to each other. Therefore, even when the areas of the first substrate and the second substrate are large, the support can support the first substrate and the second substrate with sufficient strength.

【0010】また、上記のような支持体の第1板状部材
および第2板状部材の構成によって、これらの第1板状
部材および第2板状部材にアスペクト比(厚みに対する
高さの比)の大きいものを用いても、第1基板と第2基
板との間の十分な支持強度を得ることができる。
[0010] Further, with the above-described configuration of the first and second plate members of the support, the first and second plate members have an aspect ratio (ratio of height to thickness). ), A sufficient supporting strength between the first substrate and the second substrate can be obtained.

【0011】この第1の手段において更に、上記支持体
の第1板状部材または第2板状部材に、上記アノード電
極と電気的に接触する導電性パターンを形成することに
より、支持体の帯電を防いで、カソード基板からの電子
放出効率の低下を抑制することができる。
In the first means, further, a conductive pattern is formed on the first plate-like member or the second plate-like member of the support so as to make electrical contact with the anode electrode. , And a decrease in electron emission efficiency from the cathode substrate can be suppressed.

【0012】第2の手段は、第1の手段において、前記
支持体は、前記密閉枠内において、前記第1板状部材お
よび第2板状部材によって通気可能に囲まれた複数の室
を区画形成しているものである。
[0012] A second means is the first means, wherein the support defines a plurality of chambers in the closed frame that are permeable by the first plate-shaped member and the second plate-shaped member. It is forming.

【0013】この第2の手段によれば、支持体の支持面
積を大きくし、支持体に加わる圧力を各室を区画する第
1板状部材および第2板状部材に分散することができる
ので、支持体による第1基板と第2基板との間の支持強
度を更に高めることができる。
According to the second means, the support area of the support can be increased, and the pressure applied to the support can be distributed to the first and second plate-like members that define each chamber. In addition, the supporting strength between the first substrate and the second substrate by the support can be further increased.

【0014】また、支持体によって区画された複数の室
は、第1板状部材および第2板状部材によって通気可能
に囲まれているので、第1基板と第2基板とを密閉枠に
よって気密に連結した後で容器内の排気を行うことが可
能となる。このため、容器内の排気行程を簡略化するこ
とができる。
Further, since the plurality of chambers defined by the support are surrounded by the first plate-shaped member and the second plate-shaped member so that they can be ventilated, the first substrate and the second substrate are hermetically sealed by the closed frame. After connecting to the container, the inside of the container can be evacuated. For this reason, the exhaust stroke in the container can be simplified.

【0015】この第2の手段において更に、上記支持体
の第1板状部材または第2板状部材のいずれか一方が第
1基板と第2基板との間を連結し、他方が第1基板また
は第2基板のいずれかと離間した構造としてもよい。
In the second means, one of the first plate member and the second plate member of the support member connects the first substrate and the second substrate, and the other is the first substrate member. Alternatively, the structure may be separated from any one of the second substrates.

【0016】第3の手段は、第2の手段において、前記
密閉枠内を、前記カソード基板に対応する主室と、この
主室の外側に設けられる排気室とに通気可能に区画する
隔壁と、前記排気室から真空気密容器の外部へ排気する
ための排気部材とを更に備えたものである。
The third means is the second means, wherein the inside of the closed frame is permeable to a main chamber corresponding to the cathode substrate and an exhaust chamber provided outside the main chamber. And an exhaust member for exhausting air from the exhaust chamber to the outside of the vacuum airtight container.

【0017】この第3の手段によれば、支持体によって
複数の室に区画された主室からの排気を一旦、排気室に
集めてから、排気部材によって外部へ排気することによ
り、真空気密容器からの排気効率を高めることができ
る。
According to the third means, the exhaust from the main chamber divided into a plurality of chambers by the support is once collected in the exhaust chamber, and then exhausted to the outside by the exhaust member, whereby the vacuum-tight container is provided. The exhaust efficiency from the exhaust can be increased.

【0018】この第3の手段において更に、上記排気室
または上記排気部材の内部にゲッター材を配設し、真空
気密容器からの排気後にゲッター材を加熱することによ
り、真空気密容器内の真空度を高めることができる。
In the third means, further, a getter material is disposed inside the exhaust chamber or the exhaust member, and the getter material is heated after exhausting from the vacuum hermetic container, whereby the degree of vacuum in the vacuum hermetic container is increased. Can be increased.

【0019】第4の手段は、第1乃至第3のいずれかの
手段において、前記支持体は、前記第1板状部材または
前記第2板状部材と前記第1基板または前記第2基板と
の間に介在される複数の突起部を有するものである。
A fourth means is the device according to any one of the first to third means, wherein the supporting member comprises the first plate member or the second plate member and the first substrate or the second substrate. It has a plurality of projections interposed between them.

【0020】この第4の手段によれば、上記支持体の複
数の突起部によって、支持体の高さむらや第1基板と第
2基板との間の間隔の微細な調整をすることが可能とな
る。また、これらの突起部によって、支持体の第1板状
部材または第2板状部材と第1基板または第2基板との
間に隙間ができるため、当該板状部材を通気可能とする
ことができる。
According to the fourth means, it is possible to finely adjust the unevenness of the height of the support and the distance between the first substrate and the second substrate by the plurality of projections of the support. Becomes In addition, a gap is formed between the first plate member or the second plate member of the support and the first substrate or the second substrate by these projections, so that the plate member can be ventilated. it can.

【0021】この第4の手段において更に、上記支持体
の突起部を、カソード基板と電気的に接触する導体部分
を含むように構成することにより、当該突起部をカソー
ド基板の電気端子として使用することが可能となる。
[0021] In the fourth means, furthermore, the projecting portion of the support is formed to include a conductor portion which is in electrical contact with the cathode substrate, so that the projecting portion is used as an electric terminal of the cathode substrate. It becomes possible.

【0022】第5の手段は、第1乃至第4のいずれかの
手段において、前記支持体の第1板状部材または第2板
状部材は、前記第1基板および前記第2基板に対して略
垂直に配置された複数のガラス繊維を含む構造を有する
ものである。
A fifth means is that in any one of the first to fourth means, the first plate-like member or the second plate-like member of the support is provided with respect to the first substrate and the second substrate. It has a structure including a plurality of glass fibers arranged substantially vertically.

【0023】この第5の手段によれば、ガラス繊維は軸
線方向の圧縮強度に特に優れているため、支持体による
第1基板と第2基板との間の支持強度を維持しつつ、支
持体の第1板状部材および第2板状部材のアスペクト比
をより大きくすることができる。
According to the fifth means, since the glass fiber is particularly excellent in the compressive strength in the axial direction, the supporting strength between the first substrate and the second substrate by the supporting body is maintained while the supporting strength is maintained. It is possible to further increase the aspect ratio of the first plate-shaped member and the second plate-shaped member.

【0024】この第5の手段において更に、上記ガラス
繊維は、軟化点の異なる複数のガラス材料の層が同心円
筒状に組み合わされた構造を有することが好ましい。こ
のことにより、加熱によりガラス繊維の軟化点の低い方
のガラス材料の層を軟化させて、ガラス繊維を第1基板
および第2基板に対して接着することができるため、別
途接着材を塗布する必要がなくなる。
In the fifth means, the glass fiber preferably has a structure in which a plurality of layers of glass materials having different softening points are combined in a concentric cylindrical shape. With this, the layer of the glass material having the lower softening point of the glass fiber can be softened by heating, and the glass fiber can be bonded to the first substrate and the second substrate. Therefore, an adhesive is separately applied. Eliminates the need.

【0025】この場合、上記ガラス繊維の内側の層のガ
ラス材料を、外側の層のガラス材料より軟化点の低いも
のとすることで、加熱によりガラス繊維の内側の層のガ
ラス材料のみを軟化させてガラス繊維を接着し、接着剤
(この場合は、軟化したガラス材料)のカソード基板や
アノード電極へのはみ出しを防止することができる。な
お、上記第1乃至第5の手段において、上記アノード電
極として透明電極を用いると共に、この透明電極の上に
蛍光体を設けることにより、パネル型真空気密容器によ
って電界放出ディスプレイを構成することができる。
In this case, by setting the glass material of the inner layer of the glass fiber to have a lower softening point than that of the outer layer, only the glass material of the inner layer of the glass fiber is softened by heating. Thus, the glass fiber can be bonded to prevent the adhesive (in this case, the softened glass material) from protruding to the cathode substrate and the anode electrode. In the first to fifth means, a transparent electrode is used as the anode electrode, and a phosphor is provided on the transparent electrode, whereby a field emission display can be constituted by a panel-type vacuum hermetic container. .

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図1乃至図105は、本発
明によるパネル型真空気密容器によって電界放出ディス
プレイ(FED)を構成した場合の実施の形態を示す図
である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIGS. 1 to 105 are views showing an embodiment in which a field emission display (FED) is constituted by a panel-type vacuum hermetic container according to the present invention.

【0027】[第1の実施形態]まず、図1乃至図8を
参照して、本発明によるパネル型真空気密容器の第1の
実施形態について説明する。
[First Embodiment] First, a first embodiment of a panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIGS.

【0028】図1および図2において、パネル型真空気
密容器は、背面パネル(第1基板)1と前面パネル(第
2基板)2との間が、密封枠3によって、所定間隔を置
いて気密に連結されている。また、密封枠3には、容器
内部を真空に排気するための複数の排気管(排気部材)
50が設けられている。
Referring to FIGS. 1 and 2, the panel-type vacuum hermetic container is hermetically sealed at a predetermined interval by a sealing frame 3 between a rear panel (first substrate) 1 and a front panel (second substrate) 2. It is connected to. Further, a plurality of exhaust pipes (exhaust members) for exhausting the inside of the container to a vacuum are provided in the sealing frame 3.
50 are provided.

【0029】図2に示すように、両パネル1, 2は、密
封枠3を介して低融点ガラスを主成分とするフリットガ
ラスを用いたシール部14で接合され、容器内部は 排
気管50を介して高真空に排気された後、排気管50の
端部をチップオフする事により、高真空に保持されたま
ま封着されている。
As shown in FIG. 2, both panels 1 and 2 are joined via a sealing frame 3 to a sealing portion 14 using frit glass mainly composed of low melting point glass, and an exhaust pipe 50 is provided inside the container. After being evacuated to a high vacuum through, the end of the exhaust pipe 50 is chipped off to seal while being kept at a high vacuum.

【0030】ここで、前面パネル2は透光性と絶縁性を
有し、この前面パネル2の内面には、例えばITO(Ind
ium Tin Oxide)電極等の透光性のアノード電極(透明電
極)5が所定のパターンで配設されている。また、アノ
ード電極5上には蛍光体5aの層が被着されている。な
お、蛍光体5a層のチャージアップを防ぐ為のメタルバ
ック層が積層形成されている構成の場合には、透明電極
5が不要となる場合もある。一方、前面パネル2と対向
する絶縁性の背面パネル1の内面には、電子源としての
電界放出型エミッタアレイ(後述)が形成されたカソー
ド基板4が搭載されている。
Here, the front panel 2 has translucency and insulating properties. For example, an ITO (Ind
A light-transmissive anode electrode (transparent electrode) 5 such as an ium tin oxide (electrode) is provided in a predetermined pattern. On the anode electrode 5, a layer of a phosphor 5a is applied. In the case of a configuration in which a metal back layer for preventing charge-up of the phosphor 5a layer is formed, the transparent electrode 5 may not be necessary. On the other hand, a cathode substrate 4 on which a field emission type emitter array (described later) as an electron source is formed is mounted on the inner surface of the insulating back panel 1 facing the front panel 2.

【0031】図1および図2に示すように、カソード基
板4からの配線は、ワイヤボンディングにより、背面パ
ネル上1に形成された引き出し電極40と結線されてい
る(図示せず)。さらに、引き出し電極40は、シール
部14を横断して密封枠3の外部に引き出され、外部か
らカソード基板4を駆動出来る様になっている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the wiring from the cathode substrate 4 is connected to the extraction electrode 40 formed on the back panel 1 by wire bonding (not shown). Further, the extraction electrode 40 is drawn out of the sealing frame 3 across the seal portion 14 so that the cathode substrate 4 can be driven from the outside.

【0032】図1および図3に示すように、上記密封枠
3内は、複数の第1板状部材6によって複数の室Rに区
画されている。このうち、パネル中央付近のもっとも撓
みやすい部分に設けられた第1板状部材6には、さらに
部分的に、これと直行する方向の複数の第2板状部材7
が固定され、支持体Sを形成している。なお、これらの
第1板状部材6および第2板状部材7は、前面パネル2
のブラックマトリックス(図示せず)が形成された領域
に重なる位置において、背面パネル1および前面パネル
2に対して垂直に配置されている。
As shown in FIGS. 1 and 3, the inside of the sealing frame 3 is divided into a plurality of chambers R by a plurality of first plate-like members 6. Among these, the first plate-shaped member 6 provided in the most flexible part near the center of the panel further partially includes a plurality of second plate-shaped members 7 in a direction perpendicular to the first plate-shaped member 6.
Are fixed to form the support S. The first plate member 6 and the second plate member 7 are connected to the front panel 2.
Are vertically arranged with respect to the rear panel 1 and the front panel 2 at a position overlapping the region where the black matrix (not shown) is formed.

【0033】ここで、図4および図5に示すように、密
封枠3の第1板状部材6に直行する両壁面には、それぞ
れ対応する位置に深さ0. 5mm、幅50μmの溝18が
形成されている。そして、幅40μm高さ2mmの第1板
状部材6の端部を、この溝18に沿って挿入する事で、
第1板状部材6を密封枠3に固定している。また、密封
枠3の同じく第1板状部材6に直行する両壁面には、複
数の排気管挿入札3aが開けられ、第1板状部材6で仕
切られた各室Rにそれぞれ排気管50が設けられている
(図1および図3参照)。
Here, as shown in FIGS. 4 and 5, on both wall surfaces of the sealing frame 3 perpendicular to the first plate-like member 6, grooves 18 having a depth of 0.5 mm and a width of 50 μm are provided at corresponding positions. Are formed. Then, by inserting the end of the first plate-shaped member 6 having a width of 40 μm and a height of 2 mm along the groove 18,
The first plate member 6 is fixed to the sealing frame 3. Further, a plurality of exhaust pipe insertion tags 3a are opened on both wall surfaces of the sealing frame 3 which are also perpendicular to the first plate member 6, and exhaust pipes 50 are respectively provided in the respective chambers R partitioned by the first plate member 6. (See FIGS. 1 and 3).

【0034】次に、図5乃至図8を用いて本実施形態の
製造工程を説明する。まず、図5において、厚さ3mm
のガラス板を幅2. 1mmに切断したものを用意し、そ
の内の2枚に所望の位置に超音波加工で1. 2m φの排
気管挿入孔3aを複数個開ける。この排気管挿入孔3a
に外径1. 2mmφで長さ15mmのガラス管を挿入
し、フリットガラスの未焼成ぺーストを塗布し、450
℃で焼成して排気管用ガラス管50を固定する。
Next, the manufacturing process of this embodiment will be described with reference to FIGS. First, in FIG.
A glass plate cut to a width of 2.1 mm is prepared, and a plurality of 1.2 mφ exhaust pipe insertion holes 3a are opened in two of them at desired positions by ultrasonic processing. This exhaust pipe insertion hole 3a
A glass tube having an outer diameter of 1.2 mmφ and a length of 15 mm is inserted into the tube, and an unfired paste of frit glass is applied to the tube.
The glass tube 50 for an exhaust pipe is fixed by firing at ℃.

【0035】次に、上記ガラス板の排気管50を形成し
た面と反対の面に、超音波加工により深さ0. 5m m、
幅50μmの溝18を複数本形成する。これらのガラス
板を一対、溝18が互いに向き合う方向に対向させて並
べ、直行する方向に他の一対のガラス板を配置し、端部
を溶接して、対向する2辺に溝18と排気管50が形成
された密封枠3を形成する。
Next, the surface of the glass plate opposite to the surface on which the exhaust pipe 50 was formed was formed to a depth of 0.5 mm by ultrasonic processing.
A plurality of grooves 18 having a width of 50 μm are formed. A pair of these glass plates are arranged so as to face each other in a direction in which the grooves 18 face each other, another pair of glass plates are arranged in a direction perpendicular to the grooves, and the ends are welded, and the grooves 18 and the exhaust pipe are provided on two opposite sides. The sealing frame 3 in which 50 is formed is formed.

【0036】次に、予め引き出し電極40を形成した上
記背面パネル1に上記カソード基板4を搭載し、カソー
ド基板4端部の各配線と、背面パネル1上の引き出し電
極40を18μm φのAu ワイヤでワイヤボンディング
して結線する(図8参照)。次に、密封枠3の下部にフ
リットガラスの未焼成ぺースト14を塗布し、背面パネ
ル1に位置合わせして搭載し、120℃で仮固定する
(図8参照)。
Next, the cathode substrate 4 is mounted on the rear panel 1 on which the extraction electrode 40 has been formed in advance, and each wiring at the end of the cathode substrate 4 and the extraction electrode 40 on the rear panel 1 are connected to an 18 μm φ Au wire. (See FIG. 8). Next, an unfired paste 14 of frit glass is applied to the lower portion of the sealing frame 3 and mounted on the back panel 1 while being positioned and temporarily fixed at 120 ° C. (see FIG. 8).

【0037】次に、図6において、密封枠3に、幅40
μm高さ2mmの雲母からなる第1板状部材6を、密封
枠3の対向する2辺に刻まれた上記溝18(図5参照)
にそって挿入する。密封枠3の中央付近に対応した上記
支持体Sを構成する第1板状部材6には、さらに部分的
に、幅40μm高さ2mmの雲母からなる第2板状部材
7が、第1板状部材6に直行する位置に固定されてい
る。この場合、第1、第2板状部材6, 7は、図7に示
すように、互いに高さ方向の中央位置まで切り込み6
a, 7aを入れておき、これらの切り込み6a, 6b同
士を対応させてはめ込む事によって固定している。
Next, in FIG.
The first plate-like member 6 made of mica having a height of 2 mm and made of mica is provided with the above-mentioned groove 18 cut on two opposite sides of the sealing frame 3 (see FIG. 5).
Insert along. The first plate member 6 constituting the support S corresponding to the vicinity of the center of the sealing frame 3 further partially includes a second plate member 7 made of mica having a width of 40 μm and a height of 2 mm. It is fixed at a position perpendicular to the shape member 6. In this case, as shown in FIG. 7, the first and second plate-like members 6, 7 are cut into each other to a central position in the height direction.
a, 7a are inserted, and these cuts 6a, 6b are fixed by correspondingly fitting each other.

【0038】このようにして、密封枠3に板状部材6,
7を挿入した後、図8に示すように、密封枠3の前面パ
ネル2側にフリットガラスの未焼成ぺースト14を塗布
し、予め上記アノード電極5と蛍光体5aを形成してお
いた前面パネル2を位置合わせして重ね、120℃でぺ
ーストを仮乾燥させた後、410℃でフリットガラスを
焼成し、両パネル1,2と密封枠3の固定を行う(図2
参照)。この時、必要に応じて板状部材6, 7の前端面
に一部フリットガラスの未焼成ぺーストを付着させ、前
面パネル2と部分的に接着させてもよい。
In this way, the plate-like members 6,
8, the unfired paste 14 of frit glass is applied on the front panel 2 side of the sealing frame 3 as shown in FIG. 8, and the anode electrode 5 and the phosphor 5a are formed beforehand. After the panels 2 are aligned and stacked, the paste is temporarily dried at 120 ° C., and the frit glass is baked at 410 ° C. to fix the panels 1 and 2 and the sealing frame 3 (FIG. 2).
reference). At this time, if necessary, an unfired paste of frit glass may be partially adhered to the front end surfaces of the plate members 6 and 7 to partially adhere to the front panel 2.

【0039】次に、各排気管50をそれぞれ外部の排気
系に接続し、各排気管50を介して容器内部を10-7
orr (約1. 3×10-5Pa)台に真空に排気し、各排
気管50の先端をチップオフして、図1および図2に示
すような真空気密容器が完成する。なお、本実施形態の
場合、第1、第2板状部材6, 7の高さは2mm、厚さ
は40μmで、アスペクト比(厚みに対する高さの比)
は50であった。
Next, each exhaust pipe 50 is connected to an external exhaust system, and the inside of the container is kept at 10 -7 T through each exhaust pipe 50.
The chamber is evacuated to an orr (approximately 1.3 × 10 −5 Pa) stage and the tip of each exhaust pipe 50 is chipped off to complete a vacuum-tight container as shown in FIGS. In the case of the present embodiment, the height of the first and second plate-like members 6 and 7 is 2 mm, the thickness is 40 μm, and the aspect ratio (the ratio of the height to the thickness).
Was 50.

【0040】次に、このような構成よりなる本実施形態
の作用効果について説明する。本実施形態によれば、背
面パネル1および前面パネル2の中央部に対応する支持
体Sは、その第1、第2板状部材6, 7が、両パネル
1, 2に対して略垂直に且つ互いに略直交して配置され
ているので、両パネル1, 2の面積が大きい場合でも、
支持体Sによって両パネル1, 2間を十分な強度で支持
することが可能となる。
Next, the operation and effect of this embodiment having the above configuration will be described. According to the present embodiment, the first and second plate-like members 6, 7 of the support S corresponding to the central portions of the rear panel 1 and the front panel 2 are substantially perpendicular to the panels 1, 2. And since they are arranged substantially orthogonal to each other, even when the area of both panels 1 and 2 is large,
The support S can support the panels 1 and 2 with sufficient strength.

【0041】また、各第1板状部材6が密封枠3に対し
て固定されているので、両パネル1,2からに加わる荷
重の一部を密封枠3で支持する構造になっている為、全
体としての両パネル1, 2間の支持強度をバランス良く
高めることができる。
Since each first plate member 6 is fixed to the sealing frame 3, a part of the load applied from both panels 1 and 2 is supported by the sealing frame 3. The support strength between the panels 1 and 2 as a whole can be increased in a well-balanced manner.

【0042】従って、前面パネル2側の非表示領域であ
る上記ブラックマトリックスに対応した微細な厚みの第
1、第2板状部材6, 7でも、十分な強度で両パネル
1, 2間を支える事が可能になる。このため、耐圧性が
高く、両パネル1, 2間の間隔を精度よく保持できるよ
うな、大面積のパネル型真空気密容器を提供し、これに
よって、十分な表示エリアを確保出来るとともに、輝度
のばらつきもなく、耐圧性能に優れた大面積の電界放出
型ディスプレイの実現が可能になる。
Therefore, even the first and second plate-like members 6, 7 having a fine thickness corresponding to the black matrix, which is a non-display area on the front panel 2 side, support the panels 1, 2 with sufficient strength. Things become possible. For this reason, a large-area panel-type vacuum hermetic container having high pressure resistance and capable of accurately maintaining the interval between the panels 1 and 2 is provided, whereby a sufficient display area can be secured and the luminance can be improved. It is possible to realize a large-area field-emission display excellent in withstand voltage performance without variation.

【0043】また、上記のような第1、第2板状部材
6, 7の構成によって、これらの第1、第2板状部材
6, 7に、上記のようにアスペクト比の大きいものを用
いても、第1基板と第2基板との間の十分な支持強度を
得ることができる。このため、支持体とアノード電極4
(上記ブラックマトリックス以外の部分)との干渉を避
けながら、両パネル1, 2間の間隔を大きく取って、高
電界型の構造に対応することが可能となる。
Also, due to the structure of the first and second plate-like members 6, 7 as described above, the first and second plate-like members 6, 7 having a large aspect ratio as described above are used. However, sufficient supporting strength between the first substrate and the second substrate can be obtained. For this reason, the support and the anode 4
The distance between the panels 1 and 2 is increased while avoiding interference with the portions (other than the black matrix), so that it is possible to cope with a high electric field type structure.

【0044】さらに、第1板状部材6は密封枠3の溝1
8に挿入され、第2板状部材7も予め第1板状部材6に
固定支持されている為、第1、第2板状体6, 7の取り
付けと固定が簡単である。また、第1板状部材6の配置
は、密封枠3の溝18の位置を変えるだけなので、カソ
ード基板4の上記エミッタアレイの配置に対応して、容
易に設計の変更が出来る [第2の実施形態]次に、図9乃至図15を参照して、
本発明によるパネル型真空気密容器の第2の実施形態に
ついて説明する。本実施形態は、図9乃至図12に示す
ように、密閉枠3内を主室R′と排気室Eとに通気可能
に区画する隔壁15と、前記排気室E内に配設されたゲ
ッター材11とを更に用いた点で上記第1の実施形態と
異なり、その他の構成は図1乃至図8に示す上記第1の
実施形態と略同様である。
Further, the first plate-like member 6 is provided with the groove 1 of the sealing frame 3.
8, the second plate member 7 is also fixed and supported by the first plate member 6 in advance, so that the first and second plate members 6, 7 can be easily attached and fixed. In addition, since the arrangement of the first plate member 6 merely changes the position of the groove 18 of the sealing frame 3, the design can be easily changed corresponding to the arrangement of the emitter array on the cathode substrate 4 [Second Embodiment] Embodiment] Next, referring to FIG. 9 to FIG.
A second embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described. As shown in FIGS. 9 to 12, this embodiment includes a partition 15 that divides the inside of the closed frame 3 into a main chamber R ′ and an exhaust chamber E so as to allow ventilation, and a getter disposed in the exhaust chamber E. The third embodiment is different from the first embodiment in that a material 11 is further used, and the other configuration is substantially the same as the first embodiment shown in FIGS. 1 to 8.

【0045】具体的には、図9乃至図12に示すよう
に、密封枠3内は、複数の排気口5aを有する隔壁15
によって、上記カソード基板4に対応する主室R′と、
この主室R′の外側に設けられる排気室Eとに通気可能
に区画されている。そして、主室R′の内部は、上記第
1の実施形態における密封枠3内と同様、複数の支持体
Sと第1板状部材6とによって、更に複数の室Rに区画
されている(図11参照)。
Specifically, as shown in FIGS. 9 to 12, the inside of the sealing frame 3 is provided with a partition 15 having a plurality of exhaust ports 5a.
Thereby, a main chamber R 'corresponding to the cathode substrate 4 is provided,
It is partitioned so as to be able to ventilate with the exhaust chamber E provided outside the main chamber R '. The interior of the main chamber R 'is further divided into a plurality of chambers R by a plurality of supports S and a first plate-like member 6 as in the sealing frame 3 in the first embodiment (see FIG. 1). See FIG. 11).

【0046】図9および図12に示すように、上記隔壁
15には、主室R′内の各室Rに対応した排気孔15a
が設けられている。また、図11および図12に示すよ
うに、排気室E内には、排気管50を介して外部からの
通電により活性化する事が可能な様に、例えばBaゲッ
ターからなる棒状ゲッッター材11が設けられている。
なお、排気管50を介する容器内の排気後には、棒状ゲ
ッター材11を残すように、排気管50の端部がチップ
オフされる。
As shown in FIGS. 9 and 12, the partition 15 has an exhaust hole 15a corresponding to each chamber R in the main chamber R '.
Is provided. As shown in FIGS. 11 and 12, a rod-shaped getter material 11 made of, for example, a Ba getter is provided in the exhaust chamber E so that the getter material 11 can be activated by an external power supply through the exhaust pipe 50. Is provided.
After evacuation of the container through the exhaust pipe 50, the end of the exhaust pipe 50 is chipped off so as to leave the rod-shaped getter material 11.

【0047】次に、図13乃至図15を用いて本実施形
態の製造工程を説明する。まず、密封枠3用に、厚さ5
mmのガラス板を幅3. 1mmに切断したものを用意
し、その内の1枚に所望の位置に超音波加工で2. 2m
mφの排気管挿入孔3aを複数個開ける。排気管挿入札
9に外径2. 2mmφで長さ15mmのガラス管を挿入
し、フリットガラスの未焼成ぺーストを塗布し、450
℃で焼成して排気管用ガラス管5を固定する。
Next, the manufacturing process of this embodiment will be described with reference to FIGS. First, for sealing frame 3, thickness 5
A glass plate cut to a width of 3.1 mm was prepared, and one of the plates was ultrasonically processed to a desired position in an area of 2.2 m.
A plurality of mφ exhaust pipe insertion holes 3a are opened. A glass tube having an outer diameter of 2.2 mmφ and a length of 15 mm is inserted into the exhaust pipe insertion tag 9, and an unfired paste of frit glass is applied, and 450 mm is applied.
The glass tube 5 for an exhaust pipe is fixed by firing at ℃.

【0048】次に、上記隔壁15用に、ガラス板の所望
の位置に超音波加工で2. 2mmφの排気孔15aを複
数個開け、一方の面に、超音波加工により深さ1mm、
幅80μmの溝18を複数本形成する(図13参照)。
Next, a plurality of 2.2 mmφ exhaust holes 15a are opened at desired positions on the glass plate for the partition walls 15 by ultrasonic processing, and one of the surfaces has a depth of 1 mm by ultrasonic processing.
A plurality of grooves 18 having a width of 80 μm are formed (see FIG. 13).

【0049】また、密封枠3用の他のガラス板の一方の
面にも、超音波加工により深さ1mm、幅80μmの溝
18を複数本形成する。密封枠3用のガラス板のうち、
溝18のみを形成したガラス板と、排気管50を形成し
たガラス板を、溝18側と、排気管50の反対の面が互
いに向き合う方向に対向させて並べ、直行する方向に一
対のガラス板を配置し、端部を溶接する。
A plurality of grooves 18 having a depth of 1 mm and a width of 80 μm are formed on one surface of another glass plate for the sealing frame 3 by ultrasonic processing. Of the glass plates for the sealing frame 3,
A glass plate in which only the groove 18 is formed and a glass plate in which the exhaust pipe 50 is formed are arranged so that the groove 18 side and the opposite surface of the exhaust pipe 50 face each other, and a pair of glass plates are arranged in a direction perpendicular to the glass plate. Place and weld the ends.

【0050】さらに、排気孔15aと溝18を形成した
隔壁15を、図14(a) において、密封枠3の排気管5
0を形成した辺と並行にかつ、その溝18が、密封枠3
のもう一辺の溝18と向き合うように取り付けて溶接し
た後、排気管50に棒状ゲッター材11を挿入する。
Further, the partition wall 15 having the exhaust hole 15a and the groove 18 formed thereon is connected to the exhaust pipe 5 of the sealing frame 3 in FIG.
0, and the groove 18 is formed in the sealing frame 3
Then, the rod-shaped getter member 11 is inserted into the exhaust pipe 50 after being attached so as to face the groove 18 on the other side.

【0051】次に、予め引き出し電極40を形成した背
面パネル1にカソード基板4を搭載し、カソード基板4
端部の各配線と、背面パネル1上の引き出し電極40を
ワイヤボンディングで結線する(図10参照)。次に、
密封枠3の下部にフリットガラスの未焼成ぺーストを塗
布し、背面パネルに位置合わせして搭載し、120℃で
仮固定する(図10参照)。
Next, the cathode substrate 4 is mounted on the back panel 1 on which the extraction electrode 40 has been previously formed.
Each wiring at the end and the lead electrode 40 on the rear panel 1 are connected by wire bonding (see FIG. 10). next,
An unfired paste of frit glass is applied to the lower portion of the sealing frame 3 and is mounted on the rear panel while being positioned and temporarily fixed at 120 ° C. (see FIG. 10).

【0052】一方、第1、第2板状部材6, 7用に、厚
さ70μmのステンレス板を幅3mmの短冊状に切断
し、図7に示したような切り込み6a, 7aを入れてお
く。次に、これらのステンレス板の表面に液相成長法で
二酸化珪素膜をコーティングし、絶縁処理を行う。
On the other hand, a 70 μm-thick stainless steel plate is cut into a strip having a width of 3 mm for the first and second plate-like members 6 and 7, and cuts 6a and 7a as shown in FIG. . Next, a silicon dioxide film is coated on the surface of these stainless steel plates by a liquid phase growth method, and insulation treatment is performed.

【0053】次に、図14(b) および図15において、
密封枠3の主室R′側に、幅70μm高さ3mmの二酸
化珪素膜をコーティングしたステンレス板からなる第1
板状部材6を、密封枠3の1辺と隔壁15に刻まれた溝
18に沿って挿入する。主室R′の中央付近に対応する
第1板状部材6には、さらに部分的に、幅70μm高さ
3mmの二酸化珪素膜をコーティングしたステンレス板
からなる第2板状部材7が、第1板状部材6に直行する
位置に固定される。
Next, in FIG. 14 (b) and FIG.
A first stainless steel plate coated with a silicon dioxide film having a width of 70 μm and a height of 3 mm on the main chamber R ′ side of the sealing frame 3.
The plate member 6 is inserted along one side of the sealing frame 3 and the groove 18 formed in the partition wall 15. On the first plate member 6 corresponding to the vicinity of the center of the main chamber R ', a second plate member 7 made of a stainless steel plate coated with a silicon dioxide film having a width of 70 μm and a height of 3 mm is further partially provided. It is fixed at a position perpendicular to the plate member 6.

【0054】その後、上記第1の実施形態の場合と同様
にして、密封枠3と前面パネル2との固定を行う。次
に、各排気管50をそれぞれ外部の排気系に接続し、各
排気管50を介して容器内部を排気しながら上記棒状ゲ
ッッター材11に通電してゲッッター材11の活性化を
行い、10-7Torr 台まで排気した後、各排気管50の
先端をチップオフして、図9および図10に示すような
真空気密容器が完成する。なお、本実施形態の場合、第
1、第2板状部材6,7の高さは3mm、厚さは70μ
mで、アスペクト比は43であった。
Thereafter, the sealing frame 3 and the front panel 2 are fixed in the same manner as in the first embodiment. Next, each exhaust pipe 50 connected to an external exhaust system respectively performs activation of Gettta member 11 by energizing the rodlike Gettta member 11 while evacuating the interior of the vessel through the exhaust pipes 50, 10 - After exhausting to 7 Torr, the tip of each exhaust pipe 50 is chipped off, and a vacuum-tight container as shown in FIGS. 9 and 10 is completed. In the case of this embodiment, the height of the first and second plate-like members 6 and 7 is 3 mm, and the thickness is 70 μm.
m and the aspect ratio was 43.

【0055】次に、このような構成よりなる本実施形態
の作用効果について説明する。本実施形態によれば、上
記第1の実施形態と同様の作用効果を奏すると共に、支
持体Sおよび第1板状体106によって複数の室Rに区
画された主室R′からの排気を一旦、排気室Eに集めて
から、排気管50によって外部へ排気することにより、
真空気密容器からの排気効率を高めることができる。
Next, the operation and effect of this embodiment having the above configuration will be described. According to the present embodiment, the same operation and effect as those of the first embodiment can be obtained, and the exhaust from the main chamber R ′ divided into the plurality of chambers R by the support body S and the first plate-like body 106 is temporarily stopped. , After being collected in the exhaust chamber E, and exhausted to the outside by the exhaust pipe 50,
Efficiency of evacuation from the vacuum-tight container can be increased.

【0056】また、上記排気室Eの内部にゲッター材1
1を配設しているので、真空気密容器からの排気後にゲ
ッター材11を加熱することにより、真空気密容器内の
真空度を高めることができる。なお、ゲッッター材11
は、排気管50のチップオフ後も、必要に応じて適宜通
電し、活性化する事により、容器内部の高真空の保持が
可能となる。
The getter material 1 is provided inside the exhaust chamber E.
1 is provided, the degree of vacuum in the vacuum hermetic container can be increased by heating the getter material 11 after evacuation from the vacuum hermetic container. The getter material 11
After the tip of the exhaust pipe 50 is turned off, the electric current is appropriately supplied as necessary to activate the exhaust pipe 50, so that a high vacuum inside the container can be maintained.

【0057】[第3の実施形態]次に、図16および図
17を参照して、本発明によるパネル型真空気密容器の
第3の実施形態について説明する。本実施形態は、図1
6および図17に示すように、排気管51を背面パネル
1側に形成し、この排気管51を介して挿入したヒータ
用電極12によって、排気室E内に設けたヒータ10に
装着したゲッッター材11を、外部からの通電により活
性化出来る様にした点で上記第2の実施形態と異なり、
その他の構成は図9乃至図12に示す上記第2の実施形
態と略同様である。
[Third Embodiment] Next, a third embodiment of a panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIGS. In the present embodiment, FIG.
As shown in FIG. 6 and FIG. 17, an exhaust pipe 51 is formed on the rear panel 1 side, and the getter material attached to the heater 10 provided in the exhaust chamber E by the heater electrode 12 inserted through the exhaust pipe 51. 11 is different from the second embodiment in that it can be activated by applying an electric current from outside.
Other configurations are substantially the same as those of the second embodiment shown in FIGS.

【0058】具体的には、図16において、背面パネル
1の排気室Eに対応する位置に10mmφの排気管挿入
孔を開け、フリットガラスにより外径10mmφの排気
管51用ガラス管を挿入し、排気室E内にゲッッター材
11を装着したヒータ10を設け、排気管51を介し
て、ヒータ用電極12を挿入している。
Specifically, in FIG. 16, a 10 mmφ exhaust pipe insertion hole is opened at a position corresponding to the exhaust chamber E of the rear panel 1, and a glass tube for the exhaust pipe 51 having an outer diameter of 10 mmφ is inserted by frit glass. A heater 10 provided with a getter material 11 is provided in an exhaust chamber E, and a heater electrode 12 is inserted through an exhaust pipe 51.

【0059】また、図17に示すように、隔壁15に設
けられた排気孔15bは、より排気効率を高める形状と
して、隔壁15の下側形成された矩形の切り込みの形状
を有している。本実施形態では、ゲッター材11とし
て、蒸発型のものを用いているが、ヒータ10は上記排
気孔15bより上部に設けられており、蒸発したゲッッ
ター材11が、カソード基板4に対応する主室R′内を
汚染する事のない構造となっている。
As shown in FIG. 17, the exhaust hole 15b provided in the partition wall 15 has a rectangular notch formed below the partition wall 15 so as to enhance the exhaust efficiency. In the present embodiment, an evaporable type is used as the getter material 11, but the heater 10 is provided above the exhaust hole 15b, and the evaporated getter material 11 is provided in the main chamber corresponding to the cathode substrate 4. The structure does not contaminate the inside of R '.

【0060】なお、本実施形態では、ゲッッター材11
として蒸発型のものを用いたが、固体ゲッターをヒータ
10に装着し、排気時のみならず、排気管51のチップ
オフ後も適宜通電し、活性化する事により、容器内部の
高真空の保持を得る事が出来るようにしてもよい。
In this embodiment, the getter material 11 is used.
A solid getter is mounted on the heater 10 and a current is applied appropriately after the tip of the exhaust pipe 51 is turned off, not only at the time of evacuation, but also by activation to maintain a high vacuum inside the container. May be obtained.

【0061】また、本実施形態において、図18に示す
ように、上記ヒータ10,棒状ゲッター材11およびヒ
ータ用電極12に代えて、排気管51内に固体ゲッッタ
ー材13を装着し、排気管51の外部から高周波コイル
をあて、ゲッター材13の活性化が出来る様にしてもよ
い。
In this embodiment, as shown in FIG. 18, a solid getter material 13 is mounted in an exhaust pipe 51 instead of the heater 10, the rod-shaped getter material 11 and the heater electrode 12, and the exhaust pipe 51 is provided. A high-frequency coil may be applied from outside to activate the getter material 13.

【0062】[第4の実施形態]次に、図19を参照し
て、本発明によるパネル型真空気密容器の第4の実施形
態について説明する。本実施形態は、図19に示すよう
に、一対の隔壁15によって、密閉枠3内を主室R′と
2つの排気室Eとに通気可能に区画すると共に、各排気
室E内にそれぞれヒータ10に装着されたゲッター材1
1を配設した点で上記第2の実施形態と異なり、その他
の構成は図9乃至図15に示す上記第2の実施形態と略
同様である。
[Fourth Embodiment] Next, with reference to FIG. 19, a fourth embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described. In this embodiment, as shown in FIG. 19, the inside of the closed frame 3 is partitioned into a main chamber R ′ and two exhaust chambers E by a pair of partition walls 15 so as to allow ventilation, and a heater is provided in each exhaust chamber E. Getter material 1 attached to 10
The second embodiment differs from the above-described second embodiment in that the first embodiment is disposed, and the other configuration is substantially the same as the second embodiment shown in FIGS. 9 to 15.

【0063】具体的には、図19に示すように、主室
R′の両側にそれぞれ排気室Eが設けられ、両側の排気
管50を介してヒータ用電極12を挿入し、各排気室E
内に設けたヒータ10に装着したゲッター材11を、外
部からの通電により活性化出来る様にし、更なる排気効
率の向上を図っている。なお、各隔壁15は、下部に適
宜、上記第3の実施形態で説明したような矩形の切り込
み状の排気孔15b(図17参照)を入れたガラス板か
らなっている。
More specifically, as shown in FIG. 19, exhaust chambers E are provided on both sides of the main chamber R ', and the heater electrodes 12 are inserted through the exhaust pipes 50 on both sides.
The getter material 11 attached to the heater 10 provided therein can be activated by applying an electric current from the outside, thereby further improving the exhaust efficiency. Each partition 15 is made of a glass plate having a rectangular cutout exhaust hole 15b (see FIG. 17) as described in the third embodiment as appropriate.

【0064】[第5の実施形態]次に、図20を参照し
て、本発明によるパネル型真空気密容器の第5の実施形
態について説明する。本実施形態は、図20に示すよう
に、枠状の隔壁15′によって、密封枠3内を主室R′
と、この主室R′を取り囲む排気室E1とに通気可能に
区画すると共に、排気室E1内にヒータ10に装着され
たゲッター材11を配設した点で上記第2の実施形態と
異なり、その他の構成は図9乃至図15に示す上記第2
の実施形態と略同様である。
[Fifth Embodiment] Next, a fifth embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIG. In the present embodiment, as shown in FIG. 20, a main chamber R 'is formed inside the sealed frame 3 by a frame-shaped partition wall 15'.
And an exhaust chamber E1 surrounding the main chamber R ', and is different from the second embodiment in that a getter material 11 attached to a heater 10 is disposed in the exhaust chamber E1. Other configurations are the same as those of the second embodiment shown in FIGS.
This is substantially the same as the embodiment.

【0065】具体的には、図20に示すように、密封枠
3の1辺に複数の排気管50が形成され、密封枠3内の
隔壁15′で囲まれた主室R′の内部に、第1、第2板
状部材6, 7を有する複数の支持体S, S1が設けられ
ている。
More specifically, as shown in FIG. 20, a plurality of exhaust pipes 50 are formed on one side of the sealing frame 3, and the inside of a main chamber R 'surrounded by a partition 15' in the sealing frame 3. , A plurality of supports S, S1 having first and second plate-like members 6, 7 are provided.

【0066】隔壁15′は、下部に適宜、上記第3の実
施形態で説明したような矩形の切り込み状の排気孔15
b(図17参照)を入れたガラス板からなっている。隔
壁15′の4辺のうち、対向する2辺に第1板状部材6
を挿入する溝を形成し、この2辺に直行する方向に溝の
無い2辺を溶接し、4辺で囲まれた枠状の隔壁15′を
形成している。
The partition wall 15 'is provided at its lower portion with a rectangular cutout exhaust hole 15 as described in the third embodiment.
b (see FIG. 17). Of the four sides of the partition wall 15 ′, the first plate-like member 6
Is formed, and two sides having no groove are welded in a direction perpendicular to the two sides to form a frame-shaped partition wall 15 'surrounded by four sides.

【0067】密封枠3は、1辺が排気管挿入孔と排気管
50を設けたガラス板で、他の3辺が通常のガラス板か
らなり、排気管50を介してヒータ用電極12を挿入
し、排気室E1内に設けたヒータ10に装着したゲッタ
ー材11を、外部からの通電により活性化出来る様にし
ている。
The sealing frame 3 is a glass plate provided with an exhaust pipe insertion hole and an exhaust pipe 50 on one side, and a normal glass plate on the other three sides. The heater electrode 12 is inserted through the exhaust pipe 50. Then, the getter material 11 attached to the heater 10 provided in the exhaust chamber E1 can be activated by an external electric current.

【0068】本実施形態では、枠状の隔壁15′に適宜
所望の位置で排気孔15bを設けることにより、排気効
率を向上させ、大面積のパネルでも製造工程を短縮する
ことが可能になる。また、排気管50を形成したのは密
封枠3の1辺のみであったが、より排気時間の短縮を計
る為、その他の辺にも排気管50を設けても良い。
In the present embodiment, the exhaust efficiency is improved by appropriately providing the exhaust holes 15b at desired positions in the frame-shaped partition wall 15 ', and the manufacturing process can be shortened even for a panel having a large area. Although the exhaust pipe 50 is formed only on one side of the sealing frame 3, the exhaust pipe 50 may be provided on other sides to further reduce the exhaust time.

【0069】なお、以上の実施形態では、高アスペクト
比を持つ第1、第2板状部材6,7として、雲母の薄片
や絶縁処理したステンレス板を用いたが、それ以外に、
例えば、Si基板を研磨し、100μm以下の板とし、所
望の幅に切断して用いてもよい。その他、例えば、感光
性ガラスをエッチングする方法や、ドライフィルムをパ
ターニングする方法で、第1板状部材6に直行した第2
板状部材7の形状に相当する型を成形し、この型に無機
のセメント材を埋め込み、セメント材を硬化させた後、
型から取り出す事でも高アスペクト比の板状部材6,7
が得られる。また、板状部材6,7として、無機材以外
でも、例えば有機樹脂材料を用いて形成した後、ガス放
出を低減する為、二酸化珪素層をコーティングして用い
ても同様の効果が得られる。
In the above embodiment, the first and second plate members 6 and 7 having a high aspect ratio are made of mica flakes or insulated stainless steel plates.
For example, a Si substrate may be polished to a plate of 100 μm or less, and cut into a desired width for use. In addition, for example, by a method of etching a photosensitive glass or a method of patterning a dry film, the second
After molding a mold corresponding to the shape of the plate member 7, embedding an inorganic cement material in the mold, and curing the cement material,
High aspect ratio plate-shaped members 6, 7 even when removed from mold
Is obtained. Similar effects can be obtained by forming the plate-like members 6 and 7 other than inorganic materials, for example, using an organic resin material and then coating and using a silicon dioxide layer to reduce gas emission.

【0070】[第6の実施形態]次に、図21および図
22を参照して、本発明によるパネル型真空気密容器の
第6の実施形態について説明する。本実施形態は、図2
1および図22に示すように、上記支持体Sに代えて、
第1、第2板状体16, 17が交互に凹凸状に組み合わ
された形状の支持体S2を用いた点で上記第1の実施形
態と異なり、その他の構成は図1および図2に示す上記
第1の実施形態と略同様である。
[Sixth Embodiment] Next, a panel-type vacuum airtight container according to a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 21 and 22. In the present embodiment, FIG.
1 and FIG. 22, instead of the support S,
The first and second plate-like bodies 16 and 17 are different from the first embodiment in that a support S2 having a shape in which the first and second plate-like bodies 16 and 17 are alternately combined in an uneven shape is used, and other configurations are shown in FIGS. 1 and 2. This is substantially the same as the first embodiment.

【0071】具体的には、図21および図22に示すよ
うに、支持体S1を構成する第1、第2板状体16, 1
7は、互いの側端縁から直角方向に延びて、凹凸状をな
している。この場合、支持体S1は、Fe-Ni を主成分
とするインバー合金の厚さ40μmの板を幅2mmの短冊
状に切断した後、直角に複数回折り曲げる事によって形
成されている。
Specifically, as shown in FIGS. 21 and 22, the first and second plate-like members 16, 1 constituting the support S1 are formed.
Numerals 7 extend at right angles from the side edges of each other, and have an uneven shape. In this case, the support S1 is formed by cutting a plate of Invar alloy containing Fe-Ni as a main component and having a thickness of 40 μm into a strip having a width of 2 mm, and then bending a plurality of right angles.

【0072】ここで、インバー合金板の表面は、黒化処
理によって絶縁処理されている。また、インバー合金は
低熱膨張率を有する合金であるが、両パネル1, 2間の
シール部14のフリットガラス焼成時に熱履歴で変形す
るおそれがあるため、いずれかのパネル1, 2またはカ
ソード基板4と部分的にフリットガラスで接着しておい
てもよい。なお、本実施形態の場合、第1、第2板状部
材16,17の高さは2mm、厚さは40μmで、アス
ペクト比は50であった。
Here, the surface of the Invar alloy plate is insulated by blackening. The invar alloy is an alloy having a low coefficient of thermal expansion. However, since the seal portion 14 between the panels 1 and 2 may be deformed due to heat history when frit glass is fired, any one of the panels 1 and 2 or the cathode substrate may be deformed. 4 may be partially adhered with frit glass. In the case of the present embodiment, the height of the first and second plate-like members 16 and 17 was 2 mm, the thickness was 40 μm, and the aspect ratio was 50.

【0073】なお、以上の実施形態において、支持体
S, S1, S2に第2板状体7, 17を設ける範囲を、
カソード基板4の中点を含む面積比20〜80%の範囲
とすることが、支持体S, S1, S2による支持強度を
効果的に確保する上で好ましい。
In the above embodiment, the range in which the second plate-like bodies 7, 17 are provided on the supports S, S1, S2 is as follows.
The area ratio including the midpoint of the cathode substrate 4 is preferably in the range of 20 to 80% in order to effectively secure the support strength of the supports S, S1, and S2.

【0074】[第7の実施形態]次に、図23乃至図3
1を参照して、本発明によるパネル型真空気密容器の第
7の実施形態について説明する。本実施形態は、図23
乃至図26に示すように、上記支持体Sに代えて、第
1、第2板状部材26, 27によって通気可能に囲まれ
た複数の室R1を区画形成する格子状の支持体S3を用
いた点で上記第1の実施形態と異なり、その他の構成は
図1乃至図4に示す上記第1の実施形態と略同様であ
る。
[Seventh Embodiment] Next, FIGS.
With reference to FIG. 1, a seventh embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described. In the present embodiment, FIG.
As shown in FIG. 26 to FIG. 26, in place of the support S, a lattice-like support S3 that defines a plurality of chambers R1 that are surrounded by the first and second plate-like members 26 and 27 so as to be permeable is used. In this point, the second embodiment is different from the first embodiment in other respects, and other configurations are substantially the same as those in the first embodiment shown in FIGS.

【0075】具体的には、図23乃至図26に示すよう
に、本実施形態の支持体S3は、複数の第1板状部材2
6と、これらの第1板状部材26と直交する方向に設け
られ第1板状部材26より高さの低い複数の第2板状部
材27とを備えている。このうち第1板状部材26は、
アノード電極5とカソード基板4の両方に接して両パネ
ル1, 2間を連結し、第2板状部材27は、前面パネル
2と離間した構造を有している。
Specifically, as shown in FIGS. 23 to 26, the support S3 of the present embodiment comprises a plurality of first plate members 2
6 and a plurality of second plate-like members 27 provided in a direction orthogonal to the first plate-like members 26 and having a lower height than the first plate-like members 26. Among these, the first plate-like member 26 is
The second plate-like member 27 has a structure separated from the front panel 2 by contacting both the panels 1 and 2 by contacting both the anode electrode 5 and the cathode substrate 4.

【0076】また、各第1板状部材26の所望の領域
に、金属のメタライズ層からなる導電性パターン8が形
成されており、この導電性パターン8の一部はアノード
電極5と電気的に接続されている。
A conductive pattern 8 made of a metal metallized layer is formed in a desired region of each first plate-like member 26, and a part of the conductive pattern 8 is electrically connected to the anode 5. It is connected.

【0077】次に、図27乃至図31を用いて本実施形
態の製造工程を説明する。まず、本実施形態の支持体S
3に使用するガラスのグリーンシート(以下グリーンシ
ートと略す)の製法について説明する。ホウケイ酸鉛ガ
ラスを主成分とするガラスフリット粉末に、ポリビニー
ルブチラール、アクリル酸エステルの重合体、メタクリ
ル酸エステルの重合体、アクリル酸エステルとメタクリ
ル酸エステルとの共重合体などの有機系合成樹脂を結合
剤として0. 2〜30体積%、アセトン、トルエン、ブ
チルアルコールなどの有機溶剤を3〜50体積%添加し
混練しスラリー化する。
Next, the manufacturing process of this embodiment will be described with reference to FIGS. First, the support S of the present embodiment
A method for producing a green sheet of glass (hereinafter abbreviated as green sheet) used in No. 3 will be described. Organic synthetic resins such as polyvinyl butyral, acrylic acid ester polymer, methacrylic acid ester polymer, and copolymer of acrylic acid ester and methacrylic acid ester on glass frit powder mainly composed of lead borosilicate glass Is used as a binder, and 0.2 to 30% by volume of an organic solvent such as acetone, toluene and butyl alcohol is added to 3 to 50% by volume, and the mixture is kneaded to form a slurry.

【0078】この際に分散剤を0. 01〜3体積%添加
してもよい。分散剤は界面活性剤であればよく、これが
前記した結合剤に合成時に反応・付与されているもので
もよい。また、グリーンシートに柔軟性を付与するため
に可塑剤としてエステル類を添加してもよい。本発明で
はフタル酸エステルを1体積%添加した。このスラリー
から、ドクターブレード法や、カレンダーロール法など
の成形装置により厚さ50μmのグリーンシートを得
る。
At this time, a dispersant may be added in an amount of 0.01 to 3% by volume. The dispersing agent may be a surfactant, and may be one which has been reacted or imparted to the above-mentioned binder at the time of synthesis. Further, esters may be added as a plasticizer to impart flexibility to the green sheet. In the present invention, 1% by volume of a phthalic acid ester was added. From the slurry, a green sheet having a thickness of 50 μm is obtained by a forming apparatus such as a doctor blade method or a calender roll method.

【0079】次に、図27において、第1板状部材26
として、上記のグリーンシート上に金属を主成分とする
メタライズ層からなる導電性パターン8を形成する。本
実施形態では、Ag −Pdを主体とするぺーストをグリー
ンシート上に印刷して幅100μmの導電性パターン8
を形成し、空気中120℃にて乾燥させる。導電性パタ
ーン8の印刷厚さは20μmであった。乾燥後、パンチ
ングにより50μm径のパンチング孔を連続形成して切
り込み26aを形成し、さらに、幅2. 1mmの間隔で
グリーンシートをカッティングする。また、図28にお
いて、第2板状部材27として、幅1. 25mmの間隔
でグリーンシートをカッティングする。これらグリーン
シート26, 27を大気中にて、室温から500℃まで
1000℃/H以下で昇温し、500℃で20分間保持
し、さらに500℃から650℃まで400℃/Hで昇
温し、650℃にて20分間焼成する。この熱処理工程
において、結合剤や残留有機溶剤、分散剤は熱分解・酸
化し消失し、ガラスとメタライズの焼結が同時に行われ
る。焼成後の板状部材26, 27の厚みは42μmで、
切り込み26aの厚さは40μmであった。
Next, in FIG. 27, the first plate-like member 26
Then, a conductive pattern 8 made of a metallized layer containing a metal as a main component is formed on the green sheet. In this embodiment, a paste mainly composed of Ag-Pd is printed on a green sheet to form a conductive pattern 8 having a width of 100 μm.
And dried at 120 ° C. in air. The printing thickness of the conductive pattern 8 was 20 μm. After drying, a punching hole having a diameter of 50 μm is continuously formed by punching to form a cut 26a, and the green sheet is cut at an interval of 2.1 mm in width. In FIG. 28, green sheets are cut as the second plate-like members 27 at an interval of 1.25 mm in width. These green sheets 26 and 27 are heated in the air from room temperature to 500 ° C. at 1000 ° C./H or lower, kept at 500 ° C. for 20 minutes, and further heated from 500 ° C. to 650 ° C. at 400 ° C./H. At 650 ° C. for 20 minutes. In this heat treatment step, the binder, the residual organic solvent, and the dispersant are thermally decomposed and oxidized and disappear, and sintering of the glass and the metallization is performed simultaneously. The thickness of the plate members 26 and 27 after firing is 42 μm,
The thickness of the cut 26a was 40 μm.

【0080】焼成後、図29に示す第1板状体26の切
り込み26aに第2板状体27を挿入し、図30に示す
ように、支持体S3を格子状に組み上げる。この後、4
80℃で20分保持する事で第1、第2板状体26, 2
7の接合部を部分的に融着し、格子状支持体S3の強度
を向上させる工程を加えてもよい。
After firing, the second plate 27 is inserted into the notch 26a of the first plate 26 shown in FIG. 29, and the support S3 is assembled in a lattice as shown in FIG. After this, 4
By holding at 80 ° C. for 20 minutes, the first and second plate-like bodies 26, 2
A step of partially fusing the joint of No. 7 to improve the strength of the lattice-shaped support S3 may be added.

【0081】次に図31に従って、真空気密容器の製造
工程を説明する。まず、上記製造方法に従って形成した
格子状支持体S3を、ウレタン系接着層120を介して
厚さ2mmのガラス板からなる支持板122に搭載する
(図31(a) )。次に、格子状支持体S3の導電性パタ
ー8に対応する部分にディスペンサで導電性接着剤12
4を塗布し(図31(b) )、仮乾燥した後、アノード電
極5を形成した前面パネル2の上記ブラックマトリック
ス上に、支持体S3の格子パターンが重なるように位置
合わせして、支持体S3を前面パネル2側に搭載する
(図31(c) )。次に、100℃の乾燥炉を通してウレ
タン系接着層120を融かし、支持板122を剥離する
(図31(d) )。
Next, the manufacturing process of the vacuum-tight container will be described with reference to FIG. First, the lattice-shaped support S3 formed according to the above manufacturing method is mounted on a support plate 122 made of a glass plate having a thickness of 2 mm via a urethane-based adhesive layer 120 (FIG. 31A). Next, a conductive adhesive 12 is applied to a portion of the lattice-shaped support S3 corresponding to the conductive pattern 8 with a dispenser.
4 is applied (FIG. 31 (b)) and preliminarily dried, and is positioned on the black matrix of the front panel 2 on which the anode electrode 5 is formed so that the grid pattern of the support S3 is overlapped. S3 is mounted on the front panel 2 side (FIG. 31 (c)). Next, the urethane-based adhesive layer 120 is melted through a drying oven at 100 ° C., and the support plate 122 is peeled off (FIG. 31D).

【0082】次に、予め幅2. 1mmに切断した厚さ2
mmのガラス板を4枚組み合わせ、それぞれの端部を45
0℃融点のフリットガラスで接着して形成した密封枠3
を用意する。密封枠3には、対向した2辺に超音波加工
で1. 2mmφの排気管挿入孔3aを複数個開け、外径
1. 2mmφで長さ15mmのガラス管を挿入し、450
℃融点のフリットガラスを焼成して排気管50を固定し
ており(図26参照)、密封枠3の両面には、410℃
融点のフリットガラスを塗布後、脱脂工程を経ている。
Next, the thickness 2 previously cut to a width of 2.1 mm
Combine four glass plates of 45 mm
Sealed frame 3 bonded with frit glass having a melting point of 0 ° C.
Prepare A plurality of 1.2 mmφ exhaust pipe insertion holes 3a are opened in the sealed frame 3 on two opposing sides by ultrasonic processing, and a glass tube having an outer diameter of 1.2 mmφ and a length of 15 mm is inserted.
The exhaust pipe 50 is fixed by firing frit glass having a melting point of 400 ° C. (see FIG. 26).
After applying the frit glass having the melting point, a degreasing process is performed.

【0083】この密封枠3を、先の格子状支持体S3と
同様に支持板122に仮搭載し、位置合わせして前面パ
ネル2に搭載する。搭載後、格子状支持体S3には、後
工程でのカソード基板4との固定の為に、所望の位置に
フリットガラスからなる固定用の絶縁性接着剤14が塗
布されている(図31(e) )。
The sealing frame 3 is temporarily mounted on the support plate 122 in the same manner as the lattice-shaped support S3, and is positioned and mounted on the front panel 2. After the mounting, the grid-like support S3 is coated with a fixing insulating adhesive 14 made of frit glass at a desired position for fixing to the cathode substrate 4 in a later step (FIG. 31 ( e)).

【0084】次に、格子状支持体S3および密封枠3を
搭載した前面パネル2を、背面パネル1に位置合わせし
て張り合わせ、窒素雰囲気中430℃でシール部12と
固定用の絶縁性接着剤19のフリットガラスを焼成し、
真空気密容器をを形成する。焼成後、排気管50から還
元性ガスを吹き込み、カソード基板4のエミッタ電極を
還元させる工程を挿入しても良い。
Next, the front panel 2 on which the lattice-shaped support S3 and the sealing frame 3 are mounted is aligned and adhered to the rear panel 1, and the sealing section 12 and the insulating adhesive for fixing are fixed at 430 ° C. in a nitrogen atmosphere. Bake 19 frit glass,
Form a vacuum tight container. After the firing, a step of blowing a reducing gas from the exhaust pipe 50 to reduce the emitter electrode of the cathode substrate 4 may be inserted.

【0085】これらの工程の後、排気管50を介して外
部の排気装置に接続し、容器内部を10-7Torr 台に真
空に排気し、排気管50の先端をチップオフして内部が
高真空に保持された、図24に示すような真空気密容器
が完成する。
After these steps, the vessel is connected to an external exhaust device via an exhaust pipe 50, the inside of the container is evacuated to a vacuum of 10 −7 Torr, the tip of the exhaust pipe 50 is chipped off, and the interior becomes high. A vacuum-tight container as shown in FIG. 24, which is kept in a vacuum, is completed.

【0086】本実施形態の場合、第1板状部材6の高さ
は2mm、厚さは40μmで、アスペクト比は50であ
った。また、第2板状部材7の高さは1. 2mm、厚さ
は40μmで、アスペクト比は30であった。
In the case of this embodiment, the height of the first plate member 6 was 2 mm, the thickness was 40 μm, and the aspect ratio was 50. The height of the second plate-like member 7 was 1.2 mm, the thickness was 40 μm, and the aspect ratio was 30.

【0087】また、本実施形態では、ホウケイ酸鉛ガラ
スを主成分とするフリットガラス粉末を用いたが、その
他、ホウケイ酸バリウムガラス、ホウケイ酸バリウム・
鉛ガラス、ホウケイ酸アルミニウムガラスなどのガラス
フリット粉末を原料としても良い。これらの焼成は、脱
脂工程として300〜800℃、本焼成として500℃
から1200℃の範囲の焼成工程で所望のスペーサが得
られる。また、グリーンシートとして、50μmの膜厚
をそのまま使用したが、例えば30μmのグリーンシー
トを形成して、希望する厚さまで積層してもよい。
In this embodiment, the frit glass powder containing lead borosilicate glass as a main component is used. However, barium borosilicate glass, barium borosilicate.
Glass frit powder such as lead glass or aluminum borosilicate glass may be used as a raw material. These firings are performed at 300 to 800 ° C. as a degreasing step and at 500 ° C. as main firing.
The desired spacer can be obtained in a firing step in the range of 1 to 1200 ° C. In addition, although the film thickness of 50 μm is used as it is as the green sheet, for example, a green sheet of 30 μm may be formed and laminated to a desired thickness.

【0088】次に、このような構成よりなる本実施形態
の作用効果について説明する。本実施形態によれば、上
記第1の実施形態と同様の作用効果を奏すると共に、支
持体S3が、密閉枠3内において、第1板状部材16お
よび第2板状部材27によって囲まれた複数の室R1を
区画形成しているため、支持体S3に加わる圧力を各室
R1を区画する第1板状部材26および第2板状部材2
7に分散することができるので、支持体S3による両パ
ネル1, 2間の支持強度を更に高めることができる。
Next, the operation and effect of this embodiment having the above configuration will be described. According to the present embodiment, the same operation and effect as those of the first embodiment are obtained, and the support S3 is surrounded by the first plate-like member 16 and the second plate-like member 27 in the closed frame 3. Since the plurality of chambers R1 are defined, the first plate-like member 26 and the second plate-like member 2 that partition the respective chambers R1 with the pressure applied to the support S3 are applied.
7, the support strength between the panels 1 and 2 by the support S3 can be further increased.

【0089】また、支持体S3によって区画された複数
の室R1は、第1板状部材26および第2板状部材27
によって通気可能に囲まれているので、両パネル1, 2
を密閉枠3によって気密に連結した後で容器内の排気を
行うことが可能となる。このため、容器内の排気行程を
簡略化することができる。
The plurality of chambers R1 partitioned by the support S3 are provided with the first plate member 26 and the second plate member 27.
Panels 1 and 2
After airtightly connected by the closed frame 3, the inside of the container can be evacuated. For this reason, the exhaust stroke in the container can be simplified.

【0090】さらに、支持体S3の第1板状部材26
に、アノード電極5と電気的に接触する導電性パターン
8を形成したことにより、支持体S3の帯電を防いで、
カソード基板4からの電子放出効率の低下を抑制するこ
とができる。
Further, the first plate-like member 26 of the support S3
In addition, the formation of the conductive pattern 8 that is in electrical contact with the anode electrode 5 prevents the support S3 from being charged,
A decrease in the efficiency of emitting electrons from the cathode substrate 4 can be suppressed.

【0091】[第8の実施形態]次に、図32乃至図3
4を参照して、本発明によるパネル型真空気密容器の第
8の実施形態について説明する。本実施形態は、図32
乃至図34に示すように、図9乃至図12に示す上記第
2の実施形態の支持体Sに代えて、図23乃至図26に
示す上記第7の実施形態の支持体S3を用いたものであ
り、その他の構成は図9乃至図12に示す上記第2の実
施形態と同様である。
[Eighth Embodiment] Next, FIGS.
Referring to FIG. 4, an eighth embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described. In the present embodiment, FIG.
As shown in FIG. 34 to FIG. 34, the support S3 of the seventh embodiment shown in FIG. 23 to FIG. 26 is used instead of the support S of the second embodiment shown in FIG. 9 to FIG. The other configuration is the same as that of the second embodiment shown in FIGS. 9 to 12.

【0092】本実施形態においては、焼成後の第1、第
2板状体26, 27の厚みは70μmであり、密封枠3
として厚さ3mmのガラス板を幅3. 1mmに切断した
ものを用いている。また、支持体S3、密封枠3および
両パネル1, 2の接合行程等は上記第7の実施形態と略
同様である。本実施形態の場合、第1板状部材6の高さ
は3mm、厚さは70μmで、アスペクト比は43であ
った。また、第2板状部材7の高さは2mm、厚さは7
0μmで、アスペクト比は29であった。
In the present embodiment, the thickness of the first and second plate-like bodies 26 and 27 after firing is 70 μm,
A glass plate having a thickness of 3 mm cut into a width of 3.1 mm is used. The joining process of the support S3, the sealing frame 3 and the panels 1 and 2 is substantially the same as that of the seventh embodiment. In the case of the present embodiment, the height of the first plate member 6 was 3 mm, the thickness was 70 μm, and the aspect ratio was 43. The height of the second plate-like member 7 is 2 mm, and the thickness thereof is 7 mm.
At 0 μm, the aspect ratio was 29.

【0093】なお、本実施形態の隔壁15における排気
孔15aは2. 2m mφの孔であつたが、排気効率を向
上させる為、例えば図17に示すような矩形切り欠き状
の排気孔15bを用いてもよい。
Although the exhaust hole 15a in the partition wall 15 of the present embodiment is a hole of 2.2 mmφ, in order to improve the exhaust efficiency, for example, a rectangular notched exhaust hole 15b as shown in FIG. May be used.

【0094】[第9の実施形態]次に、図35乃至図4
0を参照して、本発明によるパネル型真空気密容器の第
9の実施形態について説明する。本実施形態は、図35
乃至図37に示すように、上記支持体S3に代えて、カ
ソード電極4におけるエミッタ形成領域の中央部のみに
対応する格子状支持体S4を用いた点で上記第8の実施
形態と異なり、その他の構成は図32乃至図34に示す
上記第8の実施形態と略同様である。
[Ninth Embodiment] Next, FIGS.
A ninth embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIG. In the present embodiment, FIG.
As shown in FIG. 37 to FIG. 37, the third embodiment differs from the eighth embodiment in that a lattice-shaped support S4 corresponding to only the central portion of the emitter forming region in the cathode electrode 4 is used instead of the support S3. Is substantially the same as that of the eighth embodiment shown in FIGS. 32 to 34.

【0095】ここで、図38および図39を用いて本実
施形態の製造工程を説明する。まず、上記第7の実施形
態の製造工程と同様に、グリーンシートを焼成し、第
1、第2板状体36, 37からなる格子状支持体S4を
形成する(図35参照)。焼成後の第1、第2板状体3
6, 37の厚みは70μmであった。この格子状支持体
S4を、図38において、ウレタン系接着層131を片
面に塗布した支持フィルム130に搭載する。
Here, the manufacturing process of this embodiment will be described with reference to FIGS. 38 and 39. First, similarly to the manufacturing process of the seventh embodiment, the green sheet is fired to form the grid-like support S4 including the first and second plate-like bodies 36 and 37 (see FIG. 35). First and second plate-like bodies 3 after firing
The thickness of 6, 37 was 70 μm. In FIG. 38, the grid-like support S4 is mounted on a support film 130 on which a urethane-based adhesive layer 131 is applied on one side.

【0096】次に、図39において、格子状支持体S4
の導電性パターン8に対応する部分にディスペンサで導
電性接着132を塗布し、仮乾燥した後、アノード電極
5を形成した前面パネル2に位置合わせして搭載する
(図39(a) )。次に、100℃の乾燥炉を通してウレ
タン系接着層131を融かし、支持フィルム130から
剥離する(図39(b) )。
Next, in FIG. 39, the lattice-shaped support S4
A conductive adhesive 132 is applied to a portion corresponding to the conductive pattern 8 by a dispenser, and after preliminarily dried, it is positioned and mounted on the front panel 2 on which the anode electrode 5 is formed (FIG. 39A). Next, the urethane-based adhesive layer 131 is melted through a drying oven at 100 ° C., and is separated from the support film 130 (FIG. 39B).

【0097】次に、上記第7の実施形態の密封枠3の製
造方法と同様にして、排気管50が取り付けられ隔壁1
5と一体化された密封枠3を用意する。そして、この密
封枠3を、先の格子状支持体S4と同様に支持フィルム
130に仮搭載した後、位置合わせして、前面パネル2
に搭載する(図39(c) )。
Next, in the same manner as in the method of manufacturing the sealed frame 3 according to the seventh embodiment, the exhaust pipe 50 is attached and the partition wall 1 is mounted.
A sealed frame 3 integrated with 5 is prepared. Then, after the sealing frame 3 is temporarily mounted on the support film 130 in the same manner as the lattice-shaped support member S4, the sealing frame 3 is positioned and aligned.
(FIG. 39 (c)).

【0098】次に、カソード基板4を搭載した背面パネ
ル1を、格子状支持体S4および密封枠3を搭載した前
面パネル2に位置合わせして張り合わせ、フリットガラ
ス14を焼成し、真空気密容器を形成する。その後、上
記第2の実施形態の場合と同様、排気管50に棒状ゲッ
ッター材11を挿入した後、排気管50を介して容器内
部を排気しながら棒状ゲッッター材11に通電して活性
化を行い、10-7Torr 台まで排気した後、排気管50
の先端をチップオフし、図37に示すような真空気密容
器が完成する。
Next, the rear panel 1 on which the cathode substrate 4 is mounted is aligned with and bonded to the front panel 2 on which the grid-like support S4 and the sealing frame 3 are mounted, and the frit glass 14 is fired, and the vacuum-tight container is mounted. Form. After that, similarly to the case of the second embodiment, after inserting the rod-shaped getter material 11 into the exhaust pipe 50, the rod-shaped getter material 11 is activated by conducting electricity while exhausting the inside of the container via the exhaust pipe 50. After exhausting to 10 -7 Torr level, exhaust pipe 50
Is chipped off, and a vacuum-tight container as shown in FIG. 37 is completed.

【0099】なお、以上のような製造工程の変形例とし
て、図40に示すように、上記支持フィルム130を介
して格子状支持体S4を背面パネル1側に搭載し(図4
0(a) )、さらに密封枠3を搭載した後、前面パネル2
を張り合わせる(図40(b))ようにしてもよい。
As a modification of the above manufacturing process, as shown in FIG. 40, a lattice-shaped support S4 is mounted on the back panel 1 via the support film 130 (FIG. 4).
0 (a)) and after mounting the sealing frame 3, the front panel 2
(FIG. 40B).

【0100】以上の第7乃至第9の実施形態において、
第1板状部材26, 36のみに導電性バターン8を形成
された支持体S3, S4を用いる場合について説明した
が、図41に示すように、第1板状部材26, 36およ
び第2板状部材27, 37の両方に帯電防止の導電性パ
ターン8および8′が形成された支持体を用いてもよ
い。
In the seventh to ninth embodiments,
The case where the supports S3 and S4 in which the conductive pattern 8 is formed only on the first plate-like members 26 and 36 has been described. However, as shown in FIG. 41, the first plate-like members 26 and 36 and the second plate A support having antistatic conductive patterns 8 and 8 'formed on both of the shape members 27 and 37 may be used.

【0101】[第10の実施形態]次に、図42乃至図
48を参照して、本発明によるパネル型真空気密容器の
第10の実施形態について説明する。本実施形態は、図
42乃至図45に示すように、上記支持体Sに代えて、
第1、第2板状部材46, 47によって囲まれた複数の
室R4を区画形成する一体形の格子状支持体S5を用い
ると共に、上記排気管50を省略した点で上記第1の実
施形態と異なり、その他の構成は図1および図2に示す
上記第1の実施形態と略同様である。
[Tenth Embodiment] Next, a tenth embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIGS. In this embodiment, as shown in FIGS. 42 to 45, instead of the support S,
The first embodiment in that an integrated grid-like support S5 that defines a plurality of chambers R4 surrounded by first and second plate-like members 46 and 47 is used and the exhaust pipe 50 is omitted. Unlike the first embodiment, the other configuration is substantially the same as that of the first embodiment shown in FIGS.

【0102】具体的には、図42乃至図45に示すよう
に、前面パネル2と背面パネル1との間に、一体形の構
造を有する格子状支持体S5が設けられている。この格
子状支持体S5は、ガラス基板を所定のパターンに加工
して形成されており、カソード基板4の電界放出アレイ
の存在しない領域に配置されている。また、図44に示
すように、格子状支持体S5の前面パネル2側の端部は
アノード電極5を介して静電接合で前面パネル2と接合
されており、アノード電極5上に蛍光体5a層が形成さ
れている。
Specifically, as shown in FIGS. 42 to 45, a lattice-like support S5 having an integral structure is provided between the front panel 2 and the back panel 1. The lattice-shaped support S5 is formed by processing a glass substrate into a predetermined pattern, and is arranged in a region of the cathode substrate 4 where no field emission array exists. As shown in FIG. 44, the end of the lattice-shaped support S5 on the front panel 2 side is electrostatically joined to the front panel 2 via the anode electrode 5, and the phosphor 5a is placed on the anode electrode 5. A layer is formed.

【0103】次に、図46乃至図48を用いて本実施形
態の製造工程を説明する。まず、図46において、厚さ
0. 5mmの感光性ガラス板90に格子状支持体S5に対
応したパターン96aを有するマスク96を介して紫外
線を照射する(図46(a) )。紫外線が当たった部分は
結晶化91し、溶剤に溶けやすくなり(図46(a) )、
エッチング処理により、図45に示すような格子状パタ
ーンのガラス基板が支持体S5として形成される(図4
6(b) )。
Next, the manufacturing process of this embodiment will be described with reference to FIGS. First, in FIG. 46, a photosensitive glass plate 90 having a thickness of 0.5 mm is irradiated with ultraviolet rays through a mask 96 having a pattern 96a corresponding to the lattice-shaped support S5 (FIG. 46 (a)). The portion exposed to the ultraviolet rays crystallizes 91 and becomes easily soluble in the solvent (FIG. 46 (a)).
By the etching process, a glass substrate having a lattice pattern as shown in FIG. 45 is formed as the support S5 (FIG. 4).
6 (b)).

【0104】次に、このガラス基板を450℃で熱処理
して溶剤に溶けにくくした後、図47において、予めア
ノード電極5として塗布と焼成でITO薄膜を形成した
前面パネル2に位置合わせする。そして、格子状支持体
S5側に接合用電極184を接触させ、アノード電極5
と接合用電極184との間に電圧Vをかける事で、支持
体S5と前面パネル2とを静電接合で固定する。
Next, this glass substrate is heat-treated at 450 ° C. to make it difficult to dissolve in a solvent. Then, in FIG. 47, the glass substrate is aligned with the front panel 2 on which an ITO thin film has been previously formed by coating and baking as an anode electrode 5. Then, the joining electrode 184 is brought into contact with the lattice-shaped support S5 side, and the anode electrode 5
By applying a voltage V between the support S5 and the bonding electrode 184, the support S5 and the front panel 2 are fixed by electrostatic bonding.

【0105】次に、図48において、厚さ0. 5mmの密
封枠3の一側に鉛酸化物を主成分とする低融点ガラス1
4を塗布し、格子状支持体S5と一体化した前面パネル
2に位置合わせして低融点ガラス14を仮焼成した後、
密封枠3の他側にも低融点ガラス14を塗布、仮焼成す
る。
Next, in FIG. 48, a low-melting glass 1 containing lead oxide as a main component is provided on one side of a sealing frame 3 having a thickness of 0.5 mm.
4 is applied, and the low-melting glass 14 is calcined after being positioned on the front panel 2 integrated with the lattice-shaped support S5.
The low-melting glass 14 is applied to the other side of the sealing frame 3 and pre-baked.

【0106】そして、上記前面パネル2と密封枠3を仮
固定したものと、カソード基板4を搭載した背面パネル
1とを真空槽30に入れ、槽内を10-7Torr 台に排気
する。背面パネル1を設置したヒータ33を介してパネ
ル1を450℃まで昇温した状態で、前面パネル2を位
置合わせし、背面パネル1上に固定して、低融点ガラス
14を焼成し、図42に示すような真空気密容器を得
る。本実施形態の場合、格子状支持体S5の高さは0.
5mm、厚さは50μmで、アスペクト比は10であっ
た。また、格子状支持体S5によって区画された各室R
4は2mm角であった。
Then, the front panel 2 and the sealing frame 3 temporarily fixed and the rear panel 1 on which the cathode substrate 4 is mounted are put in a vacuum chamber 30, and the inside of the chamber is evacuated to the order of 10 -7 Torr. With the temperature of the panel 1 raised to 450 ° C. via the heater 33 on which the rear panel 1 is installed, the front panel 2 is aligned and fixed on the rear panel 1, and the low-melting glass 14 is baked. To obtain a vacuum-tight container as shown in FIG. In the case of the present embodiment, the height of the lattice-shaped support S5 is 0.5.
5 mm, the thickness was 50 μm, and the aspect ratio was 10. In addition, each room R partitioned by the lattice-shaped support S5
4 was 2 mm square.

【0107】次に、このような構成よりなる本実施形態
の作用効果について説明する。本実施形態によれば、上
記第1の実施形態と同様の作用効果を奏すると共に、一
体形の格子状支持体S5を用いることにより、支持体S
5の支持面積を大きくし、支持体S5に加わる圧力を各
室R4を区画する第1、第2板状部材46, 47に分散
することができるので、支持体S5による両パネル1,
2間の支持強度を更に高めることができる。
Next, the operation and effect of this embodiment having the above configuration will be described. According to this embodiment, the same operation and effect as those of the first embodiment can be obtained, and the use of the integral lattice-shaped support S5 enables the support S
5, the pressure applied to the support S5 can be distributed to the first and second plate-like members 46 and 47 that define the respective chambers R4.
The support strength between the two can be further increased.

【0108】また、上述した製造工程から分かるよう
に、所定厚みのガラス板90を用意すれば、支持体S5
を決められた高さに形成するのが容易である。また、感
光性ガラス90からエッチングにより格子状支持体S5
を形成するので、厚さが薄く、高さの高い、いわゆるア
スペクト比の大きい支持体S5でも、面積の大きな支持
体S5を容易に得ることができる。そして、この一体形
の支持体S5を前面パネル2に一括して接合する事によ
り、簡便な製造工程で広い面積に支持体S5を固定した
パネルが得られる。
As can be seen from the above-described manufacturing process, if a glass plate 90 having a predetermined thickness is prepared, the support S5
Can be easily formed at a predetermined height. Further, the lattice-shaped support S5 is etched from the photosensitive glass 90.
Is formed, a support S5 having a large area can be easily obtained even with a support S5 having a small thickness and a high height, that is, a so-called large aspect ratio. Then, by integrally joining the integral support S5 to the front panel 2, a panel in which the support S5 is fixed over a wide area by a simple manufacturing process can be obtained.

【0109】[第11の実施形態]次に、図49乃至図
51を参照して、本発明によるパネル型真空気密容器の
第11の実施形態について説明する。本実施形態は、図
49および図50に示すように、上記格子状支持体S5
に代えて、各室R4を通気可能に区画する格子状支持体
S6を用いると共に、複数の排気管50を備えた点で上
記第10の実施形態と異なり、その他の構成は図42乃
至図44に示す上記第10の実施形態と略同様である。
[Eleventh Embodiment] Next, an eleventh embodiment of a panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIGS. In this embodiment, as shown in FIG. 49 and FIG.
Instead of the tenth embodiment, a lattice-shaped support S6 for partitioning each chamber R4 to allow ventilation is used, and a plurality of exhaust pipes 50 are provided. This is substantially the same as the tenth embodiment shown in FIG.

【0110】具体的には、図49に示すように、真空気
密容器には、内部を真空に排気するための複数の排気管
50が設けられており、排気後、封着されている。ま
た、図49および図50に示すように、支持体S6は上
記第10の実施形態の支持体S5と同様の一体形の格子
状構造体であるが、上部中央に矩形状の切り欠き57a
が形成された第2板状体57を有している。そして、こ
の切り欠き57aの存在によって、各室R4が第1、第
2板状体46, 57によって通気可能に囲まれ、密封枠
3内に連続的な空間を形成して、排気の際に内部の気体
が効率良く流れるようになっている。
More specifically, as shown in FIG. 49, the vacuum-tight container is provided with a plurality of exhaust pipes 50 for evacuating the inside to a vacuum. As shown in FIGS. 49 and 50, the support S6 is an integrated lattice-like structure similar to the support S5 of the tenth embodiment, but has a rectangular cutout 57a at the upper center.
Is formed on the second plate-shaped body 57. Then, due to the presence of the notch 57a, each chamber R4 is surrounded by the first and second plate-shaped bodies 46 and 57 so as to be able to ventilate, and forms a continuous space in the sealing frame 3 so that the air is exhausted. The gas inside flows efficiently.

【0111】次に、図51を用いて本実施形態の製造工
程を説明する。図51において、まず、上記第10の実
施形態の製造工程と同様に、厚さ1mmの感光性ガラス板
を加工して、30μmの板厚と2mm角の室R4を有する
格子状のガラス基板S5′を形成する(図51(a) )。
そして、その上に上記切り欠き57aに対応した開口部
97aを有するパターンのマスク97を介して紫外線を
照射する(図51(a))。
Next, the manufacturing process of this embodiment will be described with reference to FIG. In FIG. 51, first, as in the manufacturing process of the tenth embodiment, a photosensitive glass plate having a thickness of 1 mm is processed to form a lattice-shaped glass substrate S5 having a plate thickness of 30 μm and a chamber R4 of 2 mm square. (FIG. 51A).
Then, ultraviolet rays are irradiated thereon through a mask 97 having a pattern having an opening 97a corresponding to the notch 57a (FIG. 51A).

【0112】これにより、ガラス基板S5′の紫外線が
当たった部分が、幅200μmに渡って結晶化91され
る(図51(b) )。次に、これを上から0. 3mmの深さ
までエッチング処理で除去して、第2板状体に対応する
部分57′に切り欠き57aの形成されたガラス基板S
6′とし(図51(c) )、450℃で熱処理して溶剤に
溶けにくくして上記支持体S6とする(図51(d) )。
As a result, the portion of the glass substrate S5 'irradiated with the ultraviolet rays is crystallized 91 over a width of 200 μm (FIG. 51 (b)). Next, this is removed by etching to a depth of 0.3 mm from above, and the glass substrate S having a cutout 57a formed in a portion 57 'corresponding to the second plate-like body is formed.
6 '(FIG. 51 (c)), and heat-treated at 450 ° C. to make it difficult to dissolve in a solvent to obtain the support S6 (FIG. 51 (d)).

【0113】その後、上記第10の実施形態の製造工程
で述べたように、支持体S6を前面パネル2に位置合わ
せし、支持体S6側に接合用電極184を接触させ、電
界をかけて前面パネル2と静電接合する(図47参
照)。
Thereafter, as described in the manufacturing process of the tenth embodiment, the support S6 is aligned with the front panel 2, the bonding electrode 184 is brought into contact with the support S6, and an electric field is applied to the front surface. It is electrostatically bonded to the panel 2 (see FIG. 47).

【0114】次に、厚さ1mmの密封枠3の一部に孔を開
け、排気管50として0. 8mmφのガラス管を挿入し、
鉛酸化物を主成分とする低融点ガラスを用いて450゜
C で固着する。密封枠3の両面に低融点ガラスを塗布
し、前面パネル2と、カソード基板4を搭載した背面パ
ネル1とを、それぞれ位置合わせした後、400℃で低
融点ガラスを焼成する。その後、排気管50を介して容
器内を10-7Torr 台に排気した後、排気管50を封着
して真空気密容器を得る。本実施形態の場合、格子状支
持体S6の高さは1mm、厚さは30μmで、アスペクト
比は33であった。
Next, a hole was made in a part of the sealing frame 3 having a thickness of 1 mm, and a 0.8 mmφ glass tube was inserted as the exhaust pipe 50.
450 ゜ using low-melting glass mainly composed of lead oxide
Secure with C. A low-melting glass is applied to both sides of the sealing frame 3, and the front panel 2 and the rear panel 1 on which the cathode substrate 4 is mounted are aligned with each other. Thereafter, the inside of the container is evacuated to a level of 10 -7 Torr through the exhaust pipe 50, and then the exhaust pipe 50 is sealed to obtain a vacuum-tight container. In the case of the present embodiment, the height of the lattice-shaped support S6 was 1 mm, the thickness was 30 μm, and the aspect ratio was 33.

【0115】次に、このような構成よりなる本実施形態
の作用効果について説明する。本実施形態によれば、上
記第10の実施形態と同様の作用効果を奏すると共に、
支持体S6によって区画された各室R4は、第2板状部
材57の切り欠き57aによって通気可能となっている
ので、上記のように、両パネル1, 2を密閉枠3によっ
て気密に連結した後で、排気管50から容器内の排気を
行うことが可能となる。このため、上記第10の実施形
態よりも容器内の排気行程を簡略化することができる。
Next, the operation and effect of this embodiment having the above configuration will be described. According to the present embodiment, the same operation and effect as those of the tenth embodiment can be obtained,
Each chamber R4 partitioned by the support member S6 can be ventilated by the cutout 57a of the second plate-shaped member 57, so that both panels 1 and 2 are airtightly connected by the closed frame 3 as described above. Later, the inside of the container can be evacuated from the exhaust pipe 50. Therefore, the exhaust stroke in the container can be simplified as compared with the tenth embodiment.

【0116】[第12の実施形態]次に、図52乃至図
54を参照して、本発明によるパネル型真空気密容器の
第12の実施形態について説明する。本実施形態は、上
記第10の実施形態の支持体S5の製造工程として、図
52乃至図54に示す下記の製造工程を用いたものであ
り、その他の構成は図42乃至図45、並びに図47お
よび図48に示す上記第10の実施形態と同様である。
[Twelfth Embodiment] Next, a twelfth embodiment of a panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIGS. In the present embodiment, the following manufacturing steps shown in FIGS. 52 to 54 are used as the manufacturing steps of the support S5 of the tenth embodiment, and the other structures are shown in FIGS. This is the same as the tenth embodiment shown in FIGS. 47 and 48.

【0117】具体的には、まず図52において、厚さ2
mmで、表面を光学研磨で平坦化されたガラス基板160
を、厚さ50μmの水溶性レジスト樹脂170で挟ん
で、複数枚貼りあわせる(図52(a) )。貼りあわせた
基板を厚み2mmに切り出し(図52(b) )、さらに厚さ
50μmの水溶性レジスト樹脂170で貼りあわせる
(図52(c) )。本実施形態の場合、最終的に形成され
る支持体S5の高さをH、厚さをWとすると、H=2m
m、W=50μmである(図52(b),(c) )。
More specifically, first, in FIG.
mm, the glass substrate 160 whose surface is flattened by optical polishing.
Are sandwiched by a water-soluble resist resin 170 having a thickness of 50 μm, and a plurality of sheets are bonded together (FIG. 52 (a)). The bonded substrate is cut out to a thickness of 2 mm (FIG. 52 (b)), and further bonded with a 50 μm thick water-soluble resist resin 170 (FIG. 52 (c)). In the case of the present embodiment, if the height of the finally formed support S5 is H and the thickness is W, H = 2 m
m, W = 50 μm (FIGS. 52 (b), (c)).

【0118】次に、図53において、上記貼りあわせた
基板を、予めa1電極182を形成した下地基板180
に接着剤を介して搭載した後、水溶性レジスト樹脂17
0を除去することにより、高さ2mmで、2mm角形状のガ
ラス製立方体160が幅50μmの間隙161をおいて
並んだ型Mが形成される。
Next, in FIG. 53, the bonded substrate is replaced with a base substrate 180 on which an a1 electrode 182 has been formed in advance.
After being mounted on the substrate via an adhesive, the water-soluble resist resin 17
By removing 0, a mold M is formed in which glass cubes 160 each having a height of 2 mm and a 2 mm square shape are arranged with a gap 161 having a width of 50 μm.

【0119】次に、図54において、この型Mをニッケ
ルメッキ浴に浸漬し、電界メッキにより立方体160同
士の間隙161をニッケル層で埋めて、支持体S5の形
状のニッケル体S7を作る。このニッケル体S7を型M
から剥離した後、表面を黒化処理して、絶縁処理し、厚
さ50μm 、高さ2mmで2mm角の空間を有した格子状の
支持体S5(図45参照)を得る。
Next, in FIG. 54, the mold M is immersed in a nickel plating bath, and the gap 161 between the cubes 160 is filled with a nickel layer by electrolytic plating to form a nickel body S7 in the shape of the support S5. This nickel body S7 is formed into a mold M
After peeling off, the surface is blackened and insulated to obtain a lattice-shaped support S5 (see FIG. 45) having a thickness of 50 μm, a height of 2 mm and a space of 2 mm square.

【0120】[第13の実施形態]次に、図55を参照
して、本発明によるパネル型真空気密容器の第13の実
施形態について説明する。本実施形態は、上記第10の
実施形態の支持体S5の製造工程として、図55に示す
下記の製造工程を用いたものであり、その他の構成は図
42乃至図45、並びに図47および図48に示す上記
第10の実施形態と同様である。
[Thirteenth Embodiment] Next, a thirteenth embodiment of a panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIG. In the present embodiment, the following manufacturing steps shown in FIG. 55 are used as the manufacturing steps of the support S5 of the tenth embodiment, and other configurations are shown in FIGS. 42 to 45, FIGS. This is the same as the tenth embodiment shown in FIG.

【0121】具体的には、図55において、まず厚さ2
mmの感光性ガラス板90を、接合用電極184と、予め
a1電極182を形成した下地基板180で挟み、電圧
Vをかけて静電接合でa1電極184側と固定する(図
55(a) 〜(b) )。次に、支持体S5の形状に対応した
開口部98aを有するパターンのマスク98を介して紫
外線を照射する(図55(c) )。そして、エッチング処
理により支持体S5の形状に対応した隙間161有する
ガラス基板163を形成し、このガラス基板163を4
50℃で熱処理して溶剤に溶けにくくし、型M1とする
(図55(d) )。
More specifically, in FIG.
The photosensitive glass plate 90 mm is sandwiched between the bonding electrode 184 and the base substrate 180 on which the a1 electrode 182 has been formed in advance, and a voltage V is applied to fix it to the a1 electrode 184 side by electrostatic bonding (FIG. 55 (a)). ~ (B)). Next, ultraviolet rays are irradiated through a mask 98 having a pattern having an opening 98a corresponding to the shape of the support S5 (FIG. 55 (c)). Then, a glass substrate 163 having a gap 161 corresponding to the shape of the support S5 is formed by an etching process.
A heat treatment is performed at 50 ° C. to make the resin hardly soluble in the solvent to obtain a mold M1 (FIG. 55 (d)).

【0122】本実施形態の場合、型M1の隙間は幅50
μm、深さ2mmで、最終的に形成される格子状支持体S
5の高さをH、厚さをWとすると、H=2mm、W=50
μmで、アスペクト比は40である。
In the case of this embodiment, the gap of the mold M1 has a width of 50.
μm, depth 2 mm, and finally formed lattice-shaped support S
Assuming that the height of 5 is H and the thickness is W, H = 2 mm and W = 50
In μm, the aspect ratio is 40.

【0123】次に、上記第12の実施形態の場合と同
様、この型M1をニッケルメッキ浴に浸漬し、電界メッ
キにより間隙161をニッケル層で埋め(図54参
照)、型M1から剥離した後、表面を黒化処理して、絶
縁処理し、厚さ50μm、高さ2mmで2mm角の空間を有
した格子状支持体S5(図45参照)を得る。
Next, as in the case of the twelfth embodiment, the mold M1 is immersed in a nickel plating bath, and the gap 161 is filled with a nickel layer by electrolytic plating (see FIG. 54). Then, the surface is blackened and insulated to obtain a lattice-shaped support S5 (see FIG. 45) having a thickness of 50 μm, a height of 2 mm and a space of 2 mm square.

【0124】[第14の実施形態]次に、図56および
図57を参照して、本発明によるパネル型真空気密容器
の第14の実施形態について説明する。本実施形態は、
上記第10の実施形態の支持体S5に代えて、図56お
よび図57に示すような格子状支持体S8を用いたもの
であり、その他の構成は図42乃至図45、並びに図4
7および図48に示す上記第10の実施形態と同様であ
る。
[Fourteenth Embodiment] Next, a fourteenth embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIGS. 56 and 57. In this embodiment,
Instead of the support S5 of the tenth embodiment, a lattice-like support S8 as shown in FIGS. 56 and 57 is used, and the other configurations are shown in FIGS. 42 to 45 and FIG.
This is similar to the tenth embodiment shown in FIGS. 7 and 48.

【0125】具体的には、図56および図57に示すよ
うに、上記第12および第13の実施形態で用いた型
M, M1に近似した型M2を用いて編み込まれた複数の
繊維F3によって、格子状支持体S8が構成されてい
る。
More specifically, as shown in FIGS. 56 and 57, a plurality of fibers F3 woven using a mold M2 similar to the molds M and M1 used in the twelfth and thirteenth embodiments. And a lattice-shaped support S8.

【0126】この場合、幅50μm、深さ2mmの格子状
の隙間165を有する型M2を形成した後、40μmφ
のガラス繊維F3を隙間165の中に互い違いに組み込
んで行き、繊維状の構造体を得る。繊維F3間は互いに
編み込まれた形状で、荷重が分散され、十分な強度に耐
えうる構造となっている。形成された繊維状の格子状支
持体S8の高さをH、厚さをWとすると、H=2mm、W
=50μmで、アスペクト比は40であった。また、繊
維F3同士の間には細かな隙間がある為、排気の際に効
率よく気体が流れ、排気効率の向上が可能になってい
る。
In this case, after forming a mold M2 having a grid-shaped gap 165 having a width of 50 μm and a depth of 2 mm,
Are alternately incorporated into the gaps 165 to obtain a fibrous structure. The fiber F3 has a structure in which the fibers are woven with each other, the load is dispersed, and the fiber F3 can withstand sufficient strength. Assuming that the height of the formed fibrous lattice-shaped support S8 is H and the thickness is W, H = 2 mm, W
= 50 μm and the aspect ratio was 40. Further, since there is a fine gap between the fibers F3, gas flows efficiently at the time of exhaust, and the exhaust efficiency can be improved.

【0127】[第15の実施形態]次に、図58を参照
して、本発明によるパネル型真空気密容器の第15の実
施形態について説明する。本実施形態は、上記第10の
実施形態の支持体S5に代えて、図58に示すような集
合管状の支持体S9を用いたものであり、その他の構成
は図42乃至図45、並びに図47および図48に示す
上記第10の実施形態と同様である。
[Fifteenth Embodiment] Next, a fifteenth embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIG. In the present embodiment, a collective tubular support S9 as shown in FIG. 58 is used in place of the support S5 of the tenth embodiment, and other configurations are shown in FIGS. This is the same as the tenth embodiment shown in FIGS. 47 and 48.

【0128】具体的には、図58において、複数の中空
パイプTの側面を互いに貼りあわせて、空間を有した支
持体S9が構成されている。この場合、肉厚が40μm
で外径2mmの形状を有するステンレス製の中空パイプT
を複数束ね、予め各パイプT間の外側面に塗布した熱硬
化性接着剤を硬化させて互いに接合する。このパイプT
の束を長さ2mmに切断し、さらに、粘度の低い熱硬化性
樹脂槽に浸漬して、絶縁処理を行う事により、上記支持
体S9が得られる。形成された支持体S9の高さをH、
厚さをWとすると、H=2mm、W=50μmで、アスペ
クト比は40である。
More specifically, in FIG. 58, a side wall of a plurality of hollow pipes T is bonded to each other to form a support S9 having a space. In this case, the thickness is 40 μm
Stainless steel hollow pipe T having a 2 mm outer diameter
Are bundled, and a thermosetting adhesive previously applied to the outer surface between the pipes T is cured and joined to each other. This pipe T
Is cut to a length of 2 mm, and further immersed in a low-viscosity thermosetting resin bath to perform insulation treatment, whereby the support S9 is obtained. The height of the formed support S9 is H,
Assuming that the thickness is W, H = 2 mm, W = 50 μm, and the aspect ratio is 40.

【0129】[第16の実施形態]次に、図59乃至図
62を参照して、本発明によるパネル型真空気密容器の
第16の実施形態について説明する。本実施形態は、図
59乃至図61に示すように、上記一体形の格子状支持
体S5に代えて分離形の格子状支持体S10を用いると
共に、上記排気管50に代えて背面パネル1に設けられ
た排気管51を備えた点で上記第10の実施形態と異な
り、その他の構成は図42乃至図45に示す上記第10
の実施形態と略同様である。
[Sixteenth Embodiment] Next, a sixteenth embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIGS. In the present embodiment, as shown in FIGS. 59 to 61, a separate grid-shaped support S10 is used instead of the integrated grid-shaped support S5, and the rear panel 1 is used instead of the exhaust pipe 50. The tenth embodiment is different from the tenth embodiment in that an exhaust pipe 51 is provided.
This is substantially the same as the embodiment.

【0130】具体的には、図59乃至図61に示すよう
に、真空気密容器の背面パネル1には、容器内部を真空
に排気するための排気管51が設けられており、排気
後、封着されている。また、支持体S10は全体として
略格子状をなしているが、その第1板状体66同士の間
において、第2板状体67が寸断された形状をなしてい
る。、連続的な空間が形成される事により、排気の際に
内部の気体が効率良く流れるようになっている。
More specifically, as shown in FIGS. 59 to 61, an exhaust pipe 51 for evacuating the inside of the container to vacuum is provided on the back panel 1 of the vacuum-tight container. Is being worn. Further, the support S10 has a substantially lattice shape as a whole, but has a shape in which the second plate 67 is cut between the first plates 66. By forming a continuous space, the gas inside flows efficiently at the time of exhaust.

【0131】なお、図61において、支持体S10は、
厚さW=50μm、第2板状体67の側面同士の間隔L
1=2mm、第1板状体66同士の間隔L2=2mm、第2
板状体67の端面同士の隙間間隔L3=0. 6mmの寸法
を有している。
In FIG. 61, the support S10 is
Thickness W = 50 μm, distance L between side surfaces of second plate-shaped body 67
1 = 2 mm, distance L2 between first plate-like bodies 66 = 2 mm, second
The gap L3 between the end faces of the plate 67 is 0.6 mm.

【0132】次に、図62を用いて、本実施形態の支持
体S10の製造工程を説明する。まず、図55に示した
上記第13の実施形態の場合と同様、厚さ2mmの感光性
ガラス板90を、静電接合で、予めa1電極182を形
成した下地基板180に接合し、上記支持体S10の形
状に対応したマスクを介して露光、エッチング工程を経
て、図62に示すような、W=50μm、L1=2mm、
L2=2mm、L3=0. 6mmの形状を有する型M3を形
成する。本実施形態の場合、型の深さは2mmで、最終的
に形成される分離形の格子状支持体S10の高さをH、
厚さをWとすると、H=2mm、W=50μmで、アスペ
クト比は40である。
Next, the manufacturing process of the support S10 of this embodiment will be described with reference to FIG. First, as in the case of the thirteenth embodiment shown in FIG. 55, the photosensitive glass plate 90 having a thickness of 2 mm is joined to the base substrate 180 on which the a1 electrode 182 has been formed in advance by electrostatic bonding. After exposing and etching through a mask corresponding to the shape of the body S10, as shown in FIG. 62, W = 50 μm, L1 = 2 mm,
A mold M3 having a shape of L2 = 2 mm and L3 = 0.6 mm is formed. In the case of this embodiment, the depth of the mold is 2 mm, and the height of the finally formed separated grid-like support S10 is H,
Assuming that the thickness is W, H = 2 mm, W = 50 μm, and the aspect ratio is 40.

【0133】次に、上記第12の実施形態の場合と同
様、この型M3をニッケルメッキ浴に浸漬し、電界メッ
キにより間隙167をニッケル層で埋め(図54参
照)、型M3から剥離した後、表面を黒化処理して、絶
縁処理し、図61に示すような支持体S10を得る。
Next, as in the case of the twelfth embodiment, the mold M3 is immersed in a nickel plating bath, and the gap 167 is filled with a nickel layer by electroplating (see FIG. 54). The surface is blackened and insulated to obtain a support S10 as shown in FIG.

【0134】[第17の実施形態]次に、図63および
図64を参照して、本発明によるパネル型真空気密容器
の第17の実施形態について説明する。本実施形態は、
図63に示すように、上記背面パネル2側に接する部分
の厚さW1が、上記前面パネル1側に接する部分の厚さ
W2以上となった格子状支持体S11を用いる点で上記
第10乃至第16の実施形態と異なり、その他の構成
は、対応する各図に示す上記第10乃至第16の実施形
態と略同様である。
[Seventeenth Embodiment] Next, a seventeenth embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIGS. In this embodiment,
As shown in FIG. 63, the tenth through the tenth through the point that the thickness W1 of the portion in contact with the rear panel 2 side is greater than the thickness W2 of the portion in contact with the front panel 1 side is used. Unlike the sixteenth embodiment, the other configuration is substantially the same as the tenth to sixteenth embodiments shown in the corresponding drawings.

【0135】具体的には、図63に示すように、格子状
支持体S11は、垂直方向の断面において、上記背面パ
ネル2(カソード基板4)側に接する部分の厚さW1
が、上記前面パネル1(アノード電極5)側に接する部
分の厚さW2以上となるような、テーパ形状をなす事に
より、より大きな強度を得ている。
Specifically, as shown in FIG. 63, the lattice-shaped support S11 has a thickness W1 of a portion in contact with the back panel 2 (cathode substrate 4) side in a vertical cross section.
However, greater strength is obtained by forming a tapered shape such that the thickness of the portion in contact with the front panel 1 (anode electrode 5) side is equal to or greater than W2.

【0136】この様な形状を有する格子状支持体S11
の製造行程を、図64を用いて説明する。まず、予めI
TO電極184を形成した下地基板180上に厚さ2mm
のドライフィルムを張り合わせ、マスクを介して露光、
エッチング工程を経て、W3=65μm、W2=30μ
m、L4=2mmの寸法を有するレジストパターン168
を形成する(図64(a) )。
The lattice-shaped support S11 having such a shape
The manufacturing process will be described with reference to FIG. First, I
2 mm thick on the base substrate 180 on which the TO electrode 184 is formed.
Laminated dry film, exposure through a mask,
After the etching process, W3 = 65 μm, W2 = 30 μm
m, L4 = resist pattern 168 having dimensions of 2 mm
Is formed (FIG. 64A).

【0137】このレジスト168付き基板をニッケルメ
ッキ浴に浸漬し、電界メッキにより間隙169をニッケ
ル層200で埋め(図64(b) )、高さ2mmとなるまで
表面を研磨して格子状支持体S11の形状を有するニッ
ケル体を得た後(図64(c))、これをITO電極18
4から剥離する。
The substrate with the resist 168 is immersed in a nickel plating bath, the gap 169 is filled with a nickel layer 200 by electrolytic plating (FIG. 64 (b)), and the surface is polished until the height becomes 2 mm, thereby forming a grid-like support. After obtaining a nickel body having the shape of S11 (FIG. 64 (c)), this was
Peel from 4.

【0138】この後、レジスト168を除去し、ニッケ
ル体表面を黒化処理する事により、図63に示すような
W1=50μm、W2=30μm、L4=2mmの形状を
有する格子状支持体S11を得る。本実施形態の場合、
格子状支持体S11の高さをHとすると、H=2mm、W
2=30μmで、アスペクト比は67である。
Thereafter, the resist 168 is removed, and the surface of the nickel body is blackened to form a lattice-shaped support S11 having a shape of W1 = 50 μm, W2 = 30 μm and L4 = 2 mm as shown in FIG. obtain. In the case of this embodiment,
Assuming that the height of the lattice-shaped support S11 is H, H = 2 mm, W
2 = 30 μm and the aspect ratio is 67.

【0139】ここで、上記第10乃至第17の実施形態
では、格子状支持体S5〜S11の材料として、導電性
材料を用いた場合、黒化処理の様な絶縁処理を行うが、
それ以外の方法として、例えば二酸化珪素の様な絶縁層
を塗布、ディップ方式でコートする事により絶縁処理を
行う方法でも、同様の効果を上げる事が出来る。
Here, in the tenth to seventeenth embodiments, when a conductive material is used as the material of the lattice-like supports S5 to S11, an insulating process such as a blackening process is performed.
As another method, a similar effect can be obtained by a method of performing an insulating treatment by applying an insulating layer such as silicon dioxide and coating by a dipping method.

【0140】また、必要に応じて、一部導電領域を残す
事により、放出される電子ビームの制御用電極として利
用する事も可能である。この場合、上記絶縁処理の際に
予め所望のパターンでレジスト層を形成しておき、絶縁
処理の後にレジストを剥離する事で、容易に導電領域を
有した格子状支持体が得られる。
If necessary, by leaving a part of the conductive region, it can be used as an electrode for controlling the emitted electron beam. In this case, a lattice layer having a conductive region can be easily obtained by forming a resist layer in a desired pattern in advance at the time of the insulation treatment and peeling the resist after the insulation treatment.

【0141】また、型としてレジスト類の様な有機樹脂
材料を用い、この型を例えば硅弗化水素酸を主成分とす
る様な液中に浸漬し、LPD(Liquid Ph ase Deposit
ion:液相沈殿法)で型の溝領域に二酸化珪素層を成長
させた後、レジストを除去して、二酸化珪素からなる格
子状支持体を得る方法もある。この場合は導電性材料で
格子状支持体Sを形成した場合の絶縁処理が不要とな
り、簡便な製造方法となる。
Further, an organic resin material such as a resist is used as a mold, and this mold is immersed in a liquid containing, for example, hydrofluoric acid as a main component to form an LPD (Liquid Phase Deposit).
There is also a method in which a silicon dioxide layer is grown in the groove region of the mold by ion (liquid phase precipitation method), and then the resist is removed to obtain a lattice-shaped support made of silicon dioxide. In this case, the insulating process when the lattice-shaped support S is formed of a conductive material is not required, and a simple manufacturing method is provided.

【0142】さらに、上記第10乃至第17の実施形態
の製造方法を用いて、予め大面積の格子状構造体を得て
おき、必要に応じて所望の領域に切断して格子状支持体
とし、真空容器内に組み込み、製造工程の簡便化を計る
事も可能である。
Further, a large-area lattice-like structure is obtained in advance by using the manufacturing method of the tenth to seventeenth embodiments, and is cut into a desired region as necessary to form a lattice-like support. It can also be incorporated in a vacuum vessel to simplify the manufacturing process.

【0143】[第18の実施形態]次に、図65乃至図
69を参照して、本発明によるパネル型真空気密容器の
第18の実施形態について説明する。本実施形態は、図
65乃至図68に示すように、上記格子状支持体S5に
代えて複数の突起部9を有する格子状支持体S12を用
いると共に、背面パネル1に設けられた排気管51を備
えた点で上記第10の実施形態と異なり、その他の構成
は図42乃至図45に示す上記第10の実施形態と略同
様である。
[Eighteenth Embodiment] Next, an eighteenth embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIGS. In this embodiment, as shown in FIGS. 65 to 68, a grid-like support S12 having a plurality of projections 9 is used instead of the grid-like support S5, and an exhaust pipe 51 provided on the back panel 1 is provided. The fourth embodiment differs from the tenth embodiment in that the third embodiment has the same configuration as that of the tenth embodiment shown in FIGS. 42 to 45.

【0144】具体的には、図65に示すように、真空気
密容器には、内部を真空に排気するための排気管51が
設けられており、排気後、封着されている。また、図6
5および図66に示すように、前面パネル2と背面パネ
ル1の間には、第1、第2板状体76, 77を有する一
体形の格子状支持体S12(図67参照)が、前面パネ
ル2のブラックマトリックスが形成された領域に重なる
様に配置されている。この支持体S12は、ガラス基板
を所定のパターンに加工して形成されている。また、図
65および図68に示すように、支持体S12のカソー
ド基板4側において、支持体S12を構成する第2板状
体77上の所定の位置に、Ag を主成分とする複数の突
起部9が形成されている。そして、支持体S12は、複
数の突起部9を介してカソード基板4上に機械的に固定
されている。この場合、支持体S12によっって区画さ
れた各室R4は、カソード基板4のエミッタアレイが形
成された領域に対応している。
Specifically, as shown in FIG. 65, the vacuum-tight container is provided with an exhaust pipe 51 for evacuating the inside to a vacuum. FIG.
As shown in FIG. 5 and FIG. 66, between the front panel 2 and the back panel 1, an integrated lattice-like support S12 having first and second plate-like bodies 76 and 77 (see FIG. 67) is provided on the front surface. The panel 2 is arranged so as to overlap the region where the black matrix is formed. This support S12 is formed by processing a glass substrate into a predetermined pattern. As shown in FIGS. 65 and 68, a plurality of protrusions mainly composed of Ag are provided at predetermined positions on the second plate 77 constituting the support S12 on the cathode substrate 4 side of the support S12. A part 9 is formed. The support S12 is mechanically fixed on the cathode substrate 4 via the plurality of protrusions 9. In this case, each chamber R4 partitioned by the support S12 corresponds to a region of the cathode substrate 4 where the emitter array is formed.

【0145】次に、図69を用いて本実施形態の製造工
程を説明する。まず、上記第10の実施形態の場合と同
様にして、厚さ0. 5mmの感光性ガラス板からエッチン
グ処理により一体形の格子状ガラス基板S12′を形成
しておく(図46参照)。次に、図69において、下地
基板180にレジスト層94を形成し、このレジスト層
94パターニングして、所定の位置にAg ぺーストを埋
め込む(図69(a) )。
Next, the manufacturing process of this embodiment will be described with reference to FIG. First, in the same manner as in the tenth embodiment, an integral lattice-like glass substrate S12 'is formed from a 0.5 mm-thick photosensitive glass plate by etching (see FIG. 46). Next, in FIG. 69, a resist layer 94 is formed on the base substrate 180, and the resist layer 94 is patterned to embed an Ag paste at a predetermined position (FIG. 69 (a)).

【0146】埋め込んだAg ぺーストを仮乾燥させ、複
数の突起状Ag パターン9を形成した後、レジスト94
を剥離し、下地基板180と格子状ガラス基板S12′
とを位置合わせし、ガラス基板S12′側にAg パター
ンからなる複数の突起部9を転写する(図69(b) )。
転写後、450℃で熱処理して、格子状ガラス基板S1
2′部分を溶剤に溶けにくくすると同時に、Ag ぺース
トの本焼成を行い、複数の突起部9を設けた格子状支持
体S12が得られる(図69(c) )。
The embedded Ag paste is preliminarily dried to form a plurality of protruding Ag patterns 9 and then the resist 94 is formed.
Is peeled off, and the underlying substrate 180 and the lattice-shaped glass substrate S12 'are removed.
And a plurality of projections 9 made of an Ag pattern are transferred to the glass substrate S12 '(FIG. 69 (b)).
After the transfer, it is heat-treated at 450 ° C.
At the same time that the 2 ′ portion is hardly dissolved in the solvent, the Ag paste is fully baked to obtain a lattice-shaped support S12 provided with a plurality of projections 9 (FIG. 69 (c)).

【0147】次に、チップオフする前の排気管51を設
けた背面パネル1上にカソード基板4を搭載し、カソー
ド基板4のエミッタアレイ形成領域に格子状の開口部が
重なる様に支持体S12を位置合わせし、カソード基板
4のエミッタアレイが形成されていない領域の一部に各
突起部9を固定する(図69(d) )。次に、予めアノー
ド電極5と蛍光体5a層を形成した前面パネル2を用意
し、厚さ0. 5mmの密封枠3の両面に低融点ガラス14
を塗布し、密封枠3を介して、前面パネル2と背面パネ
ル1を位置合わせし、仮固定した後、430℃で熱処理
し、低融点ガラス14を焼成して真空気密容器を作成す
る(図69(e) )。
Next, the cathode substrate 4 is mounted on the back panel 1 provided with the exhaust pipe 51 before chip-off, and the support member S12 is arranged such that the lattice-shaped openings overlap the emitter array formation region of the cathode substrate 4. Are aligned, and each projection 9 is fixed to a part of the region of the cathode substrate 4 where the emitter array is not formed (FIG. 69 (d)). Next, a front panel 2 on which an anode electrode 5 and a phosphor 5a layer are formed in advance is prepared, and a low-melting glass 14 is formed on both sides of a sealing frame 3 having a thickness of 0.5 mm.
Is applied, and the front panel 2 and the rear panel 1 are positioned and temporarily fixed via the sealing frame 3, then heat-treated at 430 ° C., and the low-melting glass 14 is fired to form a vacuum-tight container (FIG. 69 (e)).

【0148】次に、排気管51を介して容器内部を10
-7Torr 台に真空に排気し、排気管51の先端をチップ
オフして、図65に示すような真空気密容器が完成す
る。本実施形態の場合、格子状支持体S12の高さは
0. 5mm、厚さは50μmで、アスペクト比は10であ
り、突起部9の高さは60μmであった。また、支持体
S12の格子状空間は2mm角であった。
Next, the inside of the container is evacuated to 10
A vacuum is exhausted to the -7 Torr table, and the tip of the exhaust pipe 51 is chipped off to complete a vacuum-tight container as shown in FIG. In the case of the present embodiment, the height of the lattice-shaped support S12 was 0.5 mm, the thickness was 50 μm, the aspect ratio was 10, and the height of the projection 9 was 60 μm. The lattice space of the support S12 was 2 mm square.

【0149】次に、このような構成よりなる本実施形態
の作用効果について説明する。本実施形態によれば、上
記第10の実施形態と同様の作用効果を奏すると共に、
支持体S12を構成するガラスに厚みばらつきが生じて
も、背面パネル1側に形成した複数の突起部9が変形す
る事で、高さの微少な調整が可能となり、前面パネル2
と背面パネル1との間を一定の間隔で保持する事が可能
となる。
Next, the operation and effect of this embodiment having the above configuration will be described. According to the present embodiment, the same operation and effect as those of the tenth embodiment can be obtained,
Even if the thickness of the glass constituting the support S12 varies, the height of the front panel 2 can be finely adjusted by deforming the plurality of projections 9 formed on the rear panel 1 side.
And the rear panel 1 can be held at a constant interval.

【0150】また、支持体S12の下部に突起部9の高
さ分の間隙が空いている事から、上記のように、両パネ
ル1, 2を密閉枠3によって気密に連結した後で、排気
管51から容器内の排気を行うことが可能となる。この
ため、上記第10の実施形態よりも容器内の排気行程を
簡略化することができる。
Further, since a gap corresponding to the height of the projection 9 is left below the support S12, after the panels 1 and 2 are air-tightly connected by the closed frame 3 as described above, the air is exhausted. It becomes possible to exhaust the inside of the container from the pipe 51. Therefore, the exhaust stroke in the container can be simplified as compared with the tenth embodiment.

【0151】なお、本実施形態において、支持体S12
の背面パネル1側のみに複数の突起部9を設ける場合に
ついて説明したが、図70および図71に示すように、
支持体S12の背面パネル1側と前面パネル2側の両方
に、それぞれ複数の突起部9を設けるようにしてもよ
い。このようにすることで、支持体S12の両パネル
1, 2側に連続的な空間が形成されるため、排気の際に
内部の気体が効率良く流れるようにすることができる。
この場合、上記の製造工程を応用して、予め他の基板に
形成しておいたAg パターンの突起部9を支持体S12
の両側に転写、焼成する事で簡便に製造することが出来
る。
In this embodiment, the support S12
The case where a plurality of protrusions 9 are provided only on the side of the back panel 1 has been described, but as shown in FIGS. 70 and 71,
A plurality of projections 9 may be provided on both the back panel 1 side and the front panel 2 side of the support S12. By doing so, a continuous space is formed on both the panels 1 and 2 side of the support S12, so that the gas inside can flow efficiently at the time of exhaust.
In this case, by applying the above-described manufacturing process, the projection 9 of the Ag pattern previously formed on another substrate can be used as the support S12.
It can be easily manufactured by transferring and baking on both sides.

【0152】[第19の実施形態]次に、図72乃至図
78を参照して、本発明によるパネル型真空気密容器の
第19の実施形態について説明する。本実施形態は、図
72乃至図74に示すように、上記突起部9を有する格
子状支持体S12に代えて、突起部19を有する格子状
支持体S13を用いると共に、背面パネル1に設けられ
た上記排気管51に代えて密封枠3に設けられた排気管
50を備えた点で上記第18の実施形態と異なり、その
他の構成は図65乃至図67に示す上記第18の実施形
態と略同様である。
[Nineteenth Embodiment] Next, a nineteenth embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIGS. In this embodiment, as shown in FIGS. 72 to 74, a lattice-shaped support S13 having a projection 19 is used in place of the lattice-shaped support S12 having the projection 9 and provided on the back panel 1. The present embodiment differs from the eighteenth embodiment in that an exhaust pipe 50 provided in a sealing frame 3 is provided instead of the exhaust pipe 51 described above, and other configurations are the same as those of the eighteenth embodiment shown in FIGS. 65 to 67. It is almost the same.

【0153】具体的には、図72乃至図74に示すよう
に、本実施形態の支持体S13は、上記支持体S12と
同様の第1、第2板状体76, 77で構成された格子状
の構造の周囲4辺部分に、第1、第2板状体76, 77
より厚い第3板状体78が設けられている。また、この
支持体S13のカソード基板4側において、上記第3板
状体78上に複数の突起部19が配列されている。
More specifically, as shown in FIGS. 72 to 74, the support S13 of the present embodiment is a grid composed of the first and second plate-like bodies 76 and 77 similar to the support S12. The first and second plate-like bodies 76 and 77 are provided on the four sides around the
A thicker third plate 78 is provided. On the cathode substrate 4 side of the support S13, a plurality of projections 19 are arranged on the third plate 78.

【0154】図73および図74に示すように、各突起
部19は、第3板状体78上に形成された引き回し配線
190と、この引き回し配線190によってつながれた
2種類の高さh1, h2の第1、第2突起体191, 1
92とを有している。そして、この突起部19の第1、
第2突起体191, 192を、それぞれカソード基板4
上の電極端子(図示せず)と、背面パネル1側に形成さ
れた引き出し電極40とに電気的に接続させる事によ
り、背面パネル1上の引き出し電極40を介して、外部
から容器内部のカソード基板4を駆動する事が可能とな
っている。
As shown in FIGS. 73 and 74, each protrusion 19 is provided with a lead wiring 190 formed on the third plate-like body 78, and two kinds of heights h1 and h2 connected by the lead wiring 190. Of the first and second projections 191 and 1
92. The first of the projections 19,
The second protrusions 191 and 192 are respectively connected to the cathode substrate 4.
By electrically connecting the upper electrode terminal (not shown) and the extraction electrode 40 formed on the rear panel 1 side, the cathode inside the container is externally connected via the extraction electrode 40 on the rear panel 1. The substrate 4 can be driven.

【0155】次に、図75乃至図78を用いて、本実施
形態の製造工程を説明する。まず、図75において、厚
さ1. 5mmの感光性ガラス板90の周縁部に予め、金ペ
ーストで上記複数の引き回し配線190を形成してお
く。次に、図76において、上記第10の実施形態の場
合と同様にして、上記感光性ガラス板90からエッチン
グ処理により一体形の格子状ガラス基板S13′を形成
する。
Next, the manufacturing process of this embodiment will be described with reference to FIGS. First, in FIG. 75, a plurality of the lead wires 190 are formed in advance on the periphery of a photosensitive glass plate 90 having a thickness of 1.5 mm using gold paste. Next, in FIG. 76, as in the case of the tenth embodiment, an integral lattice-shaped glass substrate S13 'is formed from the photosensitive glass plate 90 by etching.

【0156】次に、図77において、予めITO層18
4を形成した下地基板180にレジストを塗布してパタ
ーニングした後、Ni メッキ浴に浸漬して、所定のパタ
ーンにNi 金属を析出させ、高さh1=30μmのNi
金属を主成分とする複数の第1突起体191を形成して
おく(図77(a) )。
Next, referring to FIG. 77, the ITO layer 18
After applying a resist to the base substrate 180 on which the substrate 4 is formed and patterning it, the substrate is immersed in a Ni plating bath to precipitate Ni metal in a predetermined pattern, and a Ni having a height h1 = 30 μm is formed.
A plurality of first protrusions 191 mainly composed of metal are formed (FIG. 77A).

【0157】これらの第1突起体191を、格子状ガラ
ス基板S13′に位置合わせし、引き回し配線190上
に転写する(図77(a) 〜(b) )。さらに、同様の工程
で高さh2=60μmのNi 金属を主成分とする第2突
起体192を形成し、格子状ガラス基板S13′の引き
回し配線190のもう一方の端部に転写する(図77
(b) )。これらの工程により、図73および図74に示
すような、複数の突起部19を有する格子状支持体S1
3が得られる。
These first projections 191 are aligned with the lattice-shaped glass substrate S13 ', and are transferred onto the routing wiring 190 (FIGS. 77 (a) and (b)). Further, in the same process, a second projection 192 mainly composed of Ni metal having a height h2 = 60 μm is formed, and is transferred to the other end of the lead-out wiring 190 of the grid glass substrate S13 ′ (FIG. 77).
(b)). By these steps, as shown in FIGS. 73 and 74, the lattice-shaped support S1 having the plurality of projections 19 is provided.
3 is obtained.

【0158】次に、予め金のスパッタ膜で引き出し電極
40を形成した背面パネル1を用意し、カソード基板4
を搭載しておく。次に、図78において、カソード基板
4を搭載した背面パネル1に支持体S13を位置合わせ
し、支持体S13の各突起部19における第1突起体1
91をカソード基板4の電極端子に、同じく第2突起体
192を背面パネル1の引き出し電極40にそれぞれ接
続し、電気的接続を得る。
Next, a back panel 1 on which a lead electrode 40 was formed in advance with a sputtered gold film was prepared.
Is installed. Next, in FIG. 78, the support S13 is aligned with the back panel 1 on which the cathode substrate 4 is mounted, and the first protrusion 1 in each protrusion 19 of the support S13 is formed.
91 is connected to the electrode terminal of the cathode substrate 4, and the second protrusion 192 is connected to the lead electrode 40 of the back panel 1, thereby obtaining an electrical connection.

【0159】その後、排気管50を設けた厚さ1. 5mm
の密封枠3の両面に低融点ガラス14を塗布し、密封枠
3を介して両パネル1, 2を張り合わせて400℃で熱
処理し、低融点ガラス14を焼成して真空気密容器を形
成する。その後、排気管50を介して容器内部を10-7
Torr 台に真空に排気し、排気管50の先端をチップオ
フして図72に示すような真空気密容器が完成する。本
実施形態の場合、格子状支持体S13の高さは1. 5m
m、厚さは50μmで、アスペクト比は30であった。
また、支持体S13の格子状空間は2mm角であった。
Thereafter, a thickness of 1.5 mm provided with the exhaust pipe 50 is provided.
A low-melting glass 14 is applied to both sides of the sealing frame 3, the panels 1 and 2 are adhered to each other via the sealing frame 3, heat-treated at 400 ° C., and the low-melting glass 14 is fired to form a vacuum-tight container. Thereafter, the inside of the container is evacuated to 10 −7 through the exhaust pipe 50.
The chamber is evacuated to a vacuum and the tip of the exhaust pipe 50 is chipped off to complete a vacuum-tight container as shown in FIG. In the case of the present embodiment, the height of the lattice-shaped support S13 is 1.5 m.
m, the thickness was 50 μm, and the aspect ratio was 30.
The lattice space of the support S13 was 2 mm square.

【0160】[第20の実施形態]次に、図79乃至図
86を参照して、本発明によるパネル型真空気密容器の
第20の実施形態について説明する。本実施形態は、図
79乃至図82に示すように、上記格子状支持体S5に
代えて複数の突起部29を有する格子状支持体S14を
用いると共に、上記背面パネル1に代えて、引き出し配
線42等を有する背面パネル1′を備えた点で上記第1
0の実施形態と異なり、その他の構成は図65乃至図6
7に示す上記第10の実施形態と略同様である。
[Twentieth Embodiment] Next, a twentieth embodiment of a panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIGS. In this embodiment, as shown in FIGS. 79 to 82, a grid-like support S14 having a plurality of projections 29 is used instead of the grid-like support S5, and a lead-out wiring is used instead of the rear panel 1. 42 in that it has a back panel 1 'having
0 to FIG. 6 to FIG.
This is substantially the same as the tenth embodiment shown in FIG.

【0161】具体的には、まず図79および図80に示
すように、カソード基板4は、基板24上に、エミッタ
アレイ21と、絶縁層23を介したエミッタライン20
およびゲートライン22とが形成された構造を有してい
る。
Specifically, first, as shown in FIGS. 79 and 80, the cathode substrate 4 comprises an emitter array 21 and an emitter line 20 with an insulating layer 23 interposed therebetween, on a substrate 24.
And a gate line 22 are formed.

【0162】また、図79および図81に示すように、
背面パネル1′の外周部分において、その前面側に複数
の引き出し配線42が形成され、背面側に各引き出し配
線42に対応して接続電極44が形成されている。そし
て、背面パネル1′の内部において、各引き出し配線4
2がヴィアホール43を通して接続電極44に接続さ
れ、外部へ電気信号を取り出せるようになっている。
As shown in FIGS. 79 and 81,
In the outer peripheral portion of the back panel 1 ', a plurality of lead-out lines 42 are formed on the front side, and connection electrodes 44 are formed on the back side corresponding to the respective lead-out lines 42. Then, inside the rear panel 1 ′, each lead-out wiring 4
2 is connected to the connection electrode 44 through the via hole 43 so that an electric signal can be taken out.

【0163】また、図79および図82に示すように、
格子状支持体S14は、上記支持体S12と同様の第
1、第2板状体76, 77で構成された格子状の構造の
周囲4辺部分に、第1、第2板状体76, 77よりやや
厚い第3板状体79が設けられている。また、この支持
体S14のカソード基板4側において、上記第3板状体
79上に複数の突起部29が配列されている。
As shown in FIGS. 79 and 82,
The grid-like support S14 is provided on the four sides of a grid-like structure composed of the first and second plate-like bodies 76 and 77 similar to the support S12, on the first and second plate-like bodies 76 and 77. A third plate 79 slightly thicker than 77 is provided. Further, on the cathode substrate 4 side of the support S14, a plurality of protrusions 29 are arranged on the third plate-like body 79.

【0164】そして、図79に示すように、支持体S1
4の各突起部29を介して、カソード基板4の上記エミ
ッタライン20およびゲートラインの端部と、背面パネ
ル1の引き出し配線42が電気的に接続され、接続電極
44を通して、カソード基板4を外部から駆動する事が
可能となっている。
Then, as shown in FIG. 79, the support S1
The end of the emitter line 20 and the gate line of the cathode substrate 4 and the lead-out wiring 42 of the rear panel 1 are electrically connected through the respective projections 29 of the cathode substrate 4. It is possible to drive from.

【0165】次に、図83乃至図86を用いて、本実施
形態の製造工程を説明する。まず、図63において、予
め下地基板に180に厚さ2. 3mmのドライフィルム9
2を貼り、支持体用パターンマスク96を介して光を照
射し、ドライフィルム92を現像92aし(図83(a)
)、支持体S14本体の形状にパターニングする(図
83(b) )。このドライフィルム92のパターニング部
分に無機のセメント材を埋め込み、このセメント材を1
20℃で硬化させて格子状ガラス基板S14′を形成
し、2mmの厚みとなるまで表面研磨して平坦な表面を得
る(図83(c) )。次に、図84において、上記格子状
ガラス基板S14′の最表面にレジスト層93を形成
し、突起部用パターンマスク99を介して紫外線を照射
してレジスト層93を現像94し(図84(a) )、各突
起部29の形状にパターニングする(図84(b) )。こ
のパターニング部分にAg ぺーストを埋め込み、仮乾燥
させる(図84(c) )。次に、レジスト93およびドラ
イフィルム92を剥離した後、450℃で熱処理して、
格子状ガラス基板S14′部分を溶剤に溶けにくくする
と同時に、Ag ぺーストの本焼成を行い、複数のAg 突
起部29を有する格子状支持体S14が得られる(図8
4(d) )。
Next, the manufacturing process of this embodiment will be described with reference to FIGS. First, in FIG. 63, a dry film 9 having a thickness of 2.3 mm
2 is applied, light is irradiated through a pattern mask 96 for a support, and the dry film 92 is developed 92a (FIG. 83A).
), Patterning into the shape of the support S14 main body (FIG. 83 (b)). An inorganic cement material is embedded in the patterning portion of the dry film 92, and the cement material is
The lattice-shaped glass substrate S14 'is formed by curing at 20 ° C., and the surface is polished to a thickness of 2 mm to obtain a flat surface (FIG. 83 (c)). Next, in FIG. 84, a resist layer 93 is formed on the outermost surface of the lattice-shaped glass substrate S14 ', and the resist layer 93 is developed 94 by irradiating ultraviolet rays through a projection pattern mask 99 (FIG. a)), patterning into the shape of each projection 29 (FIG. 84 (b)). An Ag paste is buried in the patterning portion and is preliminarily dried (FIG. 84 (c)). Next, after the resist 93 and the dry film 92 are peeled off, heat treatment is performed at 450 ° C.
At the same time as making the lattice-shaped glass substrate S14 'hardly soluble in the solvent, the Ag paste is fired to obtain a lattice-shaped support S14 having a plurality of Ag projections 29 (FIG. 8).
4 (d)).

【0166】次に、図85において、カソード基板4を
搭載した背面パネル1に格子状支持体S14を位置合わ
せし、格子状支持体S14の各突起部29を、背面パネ
ル1の引き出し電極42およびカソード基板4のエミッ
タライン20端部に電気的に接続させる。このとき、カ
ソード基板4のゲートライン22に関しても、同様に突
起部29によって、背面パネル1に予め形成したゲート
用引き出し電極および接続電極を介して、外部との電気
的接続を達成する(図示せず)。次に、厚さ2mmの密封
枠3の両面に低融点ガラス14を塗布したものを、背面
パネル1に位置合わせして接合し、低融点ガラス14を
仮焼成する。
Next, in FIG. 85, the lattice-shaped support S14 is positioned on the back panel 1 on which the cathode substrate 4 is mounted, and the respective projections 29 of the lattice-shaped support S14 are connected to the extraction electrodes 42 and the back panel 1. It is electrically connected to the end of the emitter line 20 of the cathode substrate 4. At this time, with respect to the gate line 22 of the cathode substrate 4 as well, an electrical connection with the outside is achieved by the protrusion 29 in the same manner via the gate lead-out electrode and the connection electrode formed on the back panel 1 in advance (shown in the drawing). Zu). Next, the low-melting point glass 14 applied to both sides of the sealing frame 3 having a thickness of 2 mm is aligned with and bonded to the back panel 1, and the low-melting point glass 14 is pre-fired.

【0168】次に、図86において、背面パネル1と密
封枠3を仮固定したものと前面パネル2を真空槽30に
入れ、槽内を10-7Torr 台に排気する。そして、真空
槽30内でステージ31上に固定した背面パネル1に、
前面パネル2を位置合わせし、パネルヒータ32でシー
ル部14近傍を400℃に昇温して、圧力を加えながら
前面パネル2を背面パネル1に接合し、低融点ガラス1
4を焼成して、図79に示すような真空気密容器が完成
する。本実施形態の場合、格子状支持体S14の溝は幅
50μm、深さ2mmで、最終的に、アスペクト比は40
である。また、突起部29の高さは70μmであった。
Next, in FIG. 86, the back panel 1 and the sealing frame 3 temporarily fixed and the front panel 2 are placed in a vacuum chamber 30, and the inside of the chamber is evacuated to the order of 10 -7 Torr. Then, on the back panel 1 fixed on the stage 31 in the vacuum chamber 30,
The front panel 2 is aligned, the temperature of the vicinity of the seal portion 14 is increased to 400 ° C. by the panel heater 32, and the front panel 2 is joined to the rear panel 1 while applying pressure, and the low melting glass 1
4 is fired to complete a vacuum-tight container as shown in FIG. In the case of the present embodiment, the grooves of the lattice-shaped support S14 are 50 μm in width and 2 mm in depth, and finally have an aspect ratio of 40 μm.
It is. The height of the projection 29 was 70 μm.

【0169】[第21の実施形態]次に、図87乃至図
89を参照して、本発明によるパネル型真空気密容器の
第21の実施形態について説明する。本実施形態は、図
87乃至図89に示すように、上記支持体S14に代わ
る格子状支持体S15を用いて複数のカソード基板4同
士を電気的に接続した構造を有する点で上記第20の実
施形態と異なり、その他の構成は図79乃至図82に示
す上記第20の実施形態と略同様である。
[Twenty-First Embodiment] Next, a twenty-first embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIGS. The present embodiment is different from the twentieth embodiment in that it has a structure in which a plurality of cathode substrates 4 are electrically connected to each other using a lattice-shaped support S15 instead of the support S14, as shown in FIGS. Unlike the embodiment, the other configuration is substantially the same as that of the twentieth embodiment shown in FIGS. 79 to 82.

【0170】具体的には、図87および図88に示すよ
うに、本実施形態で用いる支持体S15は、上記支持体
S14のカソード基板4側に、機械的な固定を行うため
の複数の突起部39を追加して、上記両パネル1, 2間
の間隙を一定に保つ為の強度補強を図ったものである。
これらの突起部39は、例えば図88に示すように、第
1、第2板状体76, 77同士の交点部分に設けられ
る。
More specifically, as shown in FIGS. 87 and 88, the support S15 used in the present embodiment has a plurality of protrusions for mechanically fixing the support S14 on the cathode substrate 4 side. A portion 39 is added to strengthen the strength to keep the gap between the panels 1 and 2 constant.
These projections 39 are provided at intersections between the first and second plate-like bodies 76 and 77, for example, as shown in FIG.

【0171】そして、図87に示すように、背面パネル
1上で隣り合うカソード基板4(図88参照)同士の電
気的接続が、支持体S15の突起部29を介して達成さ
れている。より具体的には、隣接するカソード基板4の
エミッタライン20端部同士が突起部29によって電気
的に接続されている。また、各カソード基板4のゲート
ライン22の端部同士も、同様に突起部29によって電
気的に接続されている(図示せず)。
As shown in FIG. 87, the electrical connection between the adjacent cathode substrates 4 (see FIG. 88) on the back panel 1 is achieved via the protrusions 29 of the support S15. More specifically, the ends of the emitter lines 20 of the adjacent cathode substrates 4 are electrically connected by the protrusions 29. The ends of the gate lines 22 of each cathode substrate 4 are also electrically connected to each other by the protrusions 29 (not shown).

【0172】なお、本実施形態の製造は、図84に示し
た様な上記第20の実施形態の応用として、突起部用パ
ターンマスク99を一部改良して、突起部39のパター
ンを加え、突起部29を形成する際に、同時に突起部3
9を形成する。
In the manufacture of the present embodiment, as a modification of the twentieth embodiment shown in FIG. 84, the pattern mask 99 for the projection is partially improved to add the pattern of the projection 39, When forming the projections 29, the projections 3
9 is formed.

【0173】本実施形態によれば、複数のカソード基板
4を並べて大面積のカソードアレイを形成した場合で
も、各カソード基板4間の電気的接続は、格子状支持体
S15の突起部29を介して達成される為、大面関の表
示素子が容易に実現出来る。また、単数のカソード基板
4に対応した格子状支持体を応用できる事から、大面積
化を図る場合でも、低廉価で行う事が可能になる。
According to this embodiment, even when a plurality of cathode substrates 4 are arranged to form a large-area cathode array, the electrical connection between the cathode substrates 4 is made via the projections 29 of the grid-like support S15. Therefore, a display element having a large surface can be easily realized. In addition, since a grid-like support corresponding to a single cathode substrate 4 can be applied, even if the area is to be increased, it can be performed at low cost.

【0174】[第22の実施形態]次に、図90乃至図
93を参照して、本発明によるパネル型真空気密容器の
第22の実施形態について説明する。本実施形態は、図
90乃至図93に示すように、上記支持体S15に代わ
る格子状支持体S16を用いて複数のカソード基板4同
士を電気的に接続した構造を有する点で上記第21の実
施形態と異なり、その他の構成は図87乃至図89に示
す上記第21の実施形態と略同様である。
[Twenty-second Embodiment] Next, a twenty-second embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIGS. This embodiment has a structure in which a plurality of cathode substrates 4 are electrically connected to each other by using a grid-like support S16 instead of the support S15 as shown in FIGS. Unlike the embodiment, the other configuration is substantially the same as that of the twenty-first embodiment shown in FIGS. 87 to 89.

【0175】具体的には、図90および図91に示すよ
うに、複数のカソード基板4を内蔵した真空気密容器
は、両パネル1, 2間に各カソード基板4に共通の格子
状支持体S16を挿入することにより、両パネル1, 2
間の間隙を一定に保つとともに、支持体S16に形成さ
れた複数の突起部49を介して、隣接するカソード基板
4同士の間の電気的接続を達成している。また、隣接す
るカソード基板4は、ガラス繊維F2を間に介在させて
配列され、各カソード基板4間の間隙が一定になる様に
調整され、同時に複数のカソード基板4を配置する場合
の位置合わせが簡単に出来る様になっている。
More specifically, as shown in FIGS. 90 and 91, a vacuum-tight container containing a plurality of cathode substrates 4 is provided between the panels 1 and 2 in a grid-like support S16 common to each cathode substrate 4. By inserting the two panels 1, 2
The gap between them is kept constant, and electrical connection between the adjacent cathode substrates 4 is achieved via the plurality of projections 49 formed on the support S16. The adjacent cathode substrates 4 are arranged with glass fibers F2 interposed therebetween, adjusted so that the gap between the respective cathode substrates 4 is constant, and aligned when a plurality of cathode substrates 4 are arranged at the same time. Can be easily done.

【0176】図92および図93に示すように、格子状
支持体S16は、隣接するカソード基板4同士の間に対
応する部分に、第1、第2板状体76, 77より厚い第
3板状体89を有している。そして、各突起部49は、
格子状支持体S16の第3板状体89上に形成された引
き回し配線490と、この引き回し配線490の両端上
に形成された一対の突起体492とを有している。
As shown in FIG. 92 and FIG. 93, the grid-like support S16 has a third plate thicker than the first and second plate-like members 76 and 77 at a portion corresponding to a space between the adjacent cathode substrates 4. It has a body 89. And each protrusion 49
It has a routing wire 490 formed on the third plate-like body 89 of the lattice-shaped support S16, and a pair of protrusions 492 formed on both ends of the routing wire 490.

【0177】そして、図90に示すように、隣接するカ
ソード基板4のエミッタライン20およびゲートライン
22の端部同士が、各突起部49によって電気的に接続
されている。また、格子状支持体S16において、第2
板状体77の両パネル1, 2側および第3板状体89の
前面パネル2側に、機械的固定と排気孔率を上げる目的
で、複数の突起部59が形成されている。
As shown in FIG. 90, the ends of the emitter line 20 and the gate line 22 of the adjacent cathode substrate 4 are electrically connected to each other by the projections 49. Further, in the lattice-shaped support S16, the second
A plurality of projections 59 are formed on both sides of the panels 1 and 2 of the plate-like body 77 and on the side of the front panel 2 of the third plate-like body 89 for the purpose of mechanical fixing and increasing the exhaust porosity.

【0178】以上の第18乃至第22の実施形態におい
て、格子状支持体S12〜S16として、ガラスを用い
た例を示したが、例えば有機樹脂材料を用いて格子状支
持体S12〜S16を形成した後、ガス放出を低減する
為、二酸化珪素層をコーティングして用いても同様の効
果が得られる。
In the eighteenth to twenty-second embodiments described above, an example was described in which glass was used as the lattice supports S12 to S16. However, for example, the lattice supports S12 to S16 were formed using an organic resin material. After that, the same effect can be obtained by coating and using a silicon dioxide layer in order to reduce outgassing.

【0179】また、上記突起部9〜59の材料として、
銀とニッケルを用いたが、これらの材料以外に、金、銅
等の金属、若しくは鉛、錫、インジウム、銀、ビスマス
およびアンチモンからなるはんだ合金、或いはポリピロ
ールやポリアセチレン等の有機導電性材料のいずれかを
主成分とする突起部9〜59でも同様の効果が得られ
る。
As the material of the projections 9 to 59,
Although silver and nickel were used, in addition to these materials, any of metals such as gold and copper, or solder alloys composed of lead, tin, indium, silver, bismuth and antimony, or organic conductive materials such as polypyrrole and polyacetylene The same effect can be obtained with the projections 9 to 59 mainly composed of the above.

【0180】さらに、これら第18乃至第22の実施形
態の製造方法を用いて、予め大面積の格子状構造体を得
ておき、必要に応じて所望の領域に突起部9〜59を形
成した後、適宜切断して、格子状支持体S12〜S16
として真空容器内に組み込み、製造工程の簡便化を計る
製造方法も可能である。
Further, by using the manufacturing methods of the eighteenth to twenty-second embodiments, a large-area lattice-like structure was obtained in advance, and projections 9 to 59 were formed in desired regions as needed. Thereafter, the substrate is appropriately cut to form a lattice-shaped support S12 to S16.
A manufacturing method for simplifying the manufacturing process by incorporating the device in a vacuum vessel is also possible.

【0181】[第23の実施形態]次に、図94を参照
して、本発明によるパネル型真空気密容器の第23の実
施形態について説明する。本実施形態は、上記支持体S
〜S16の板状体6〜76, 7〜77を、図94に示す
ような複数のガラス繊維Fからなる板状部材60によっ
て構成したものであり、その他の構成は、対応する各図
に示す上記第1乃至第22の実施形態のいずれかと略同
様である。
[Twenty-third Embodiment] Next, with reference to FIG. 94, a twenty-third embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described. In this embodiment, the support S
The plate-like bodies 6 to 76 and 7 to 77 in S16 to S16 are configured by the plate-like member 60 made of a plurality of glass fibers F as shown in FIG. 94, and other configurations are shown in the corresponding drawings. This is substantially the same as any of the first to twenty-second embodiments.

【0182】具体的には、図94に示すように、直径4
0μm、長さ2mmのガラス繊維Fを複数本、繊維軸に
直交する方向に一列に並べ、隣接するガラス繊維Fの側
面同士を接着することにより、厚さ40μmで高さ2m
m(アスペクト比50)の板状部材60が形成されてい
る。すなわち、この板状部材60は、両パネル1, 2に
対して垂直に配置された複数のガラス繊維Fを含む構造
を有している。
More specifically, as shown in FIG.
A plurality of glass fibers F having a thickness of 40 μm and a height of 2 m are arranged by arranging a plurality of glass fibers F having a length of 0 μm and a length of 2 mm in a row in a direction perpendicular to the fiber axis and bonding the side surfaces of the adjacent glass fibers F together.
A plate-like member 60 having m (aspect ratio 50) is formed. That is, the plate-like member 60 has a structure including a plurality of glass fibers F arranged perpendicularly to the panels 1 and 2.

【0183】そして、上記第1乃至第22の実施形態の
いずれかにおいて、上記板状部材60の端部を密封枠3
等に形成された深さ0. 5mm、幅50μm の溝にそっ
て挿入する事で、板状部材6を密封枠3等に固定するこ
とができる。
In any of the first to twenty-second embodiments, the end of the plate-like member 60 is connected to the sealing frame 3.
The plate member 6 can be fixed to the sealing frame 3 or the like by being inserted along a groove having a depth of 0.5 mm and a width of 50 μm.

【0184】本実施形態によれば、ガラス繊維Fは軸線
方向の圧縮強度に特に優れているため、複数のガラス繊
維Fからなる板状部材60によって、上記支持体S〜S
16の板状体6〜76, 7〜77を構成することで、支
持体S〜S16による両パネル1, 2間の支持強度を維
持しつつ、支持体S〜S16を構成する板状体6〜7
6, 7〜77のアスペクト比をより大きくすることがで
きる。
According to the present embodiment, since the glass fibers F are particularly excellent in the compressive strength in the axial direction, the support members S to S are formed by the plate-like member 60 made of a plurality of glass fibers F.
By configuring the sixteen plate members 6 to 76 and 7 to 77, the plate members 6 forming the supports S to S16 are maintained while maintaining the support strength between the panels 1 and 2 by the supports S to S16. ~ 7
The aspect ratio of 6, 7 to 77 can be further increased.

【0185】[第24の実施形態]次に、図95および
図96を参照して、本発明によるパネル型真空気密容器
の第24の実施形態について説明する。本実施形態は、
上記板状部材60に代えて、図95に示すような複数の
ガラス繊維Fをフリットガラスで固めた板状部材61を
用いた点で上記第23の実施形態と異なり、その他の構
成は上記第24の実施形態と同様である。
[Twenty-fourth Embodiment] Next, a twenty-fourth embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIGS. In this embodiment,
In place of the plate member 60, a plate member 61 obtained by fixing a plurality of glass fibers F with frit glass as shown in FIG. 95 is used, which is different from the twenty-third embodiment. This is the same as the twenty-fourth embodiment.

【0186】具体的には、図95に示すように、矩形状
の凹部mを形成した金型M5に40μm径のガラス繊維
Fを凹部mを溝たすように軸方向を揃えて並べ、間隙を
埋めるようにフリットガラスの未焼成ペースト80を深
さ40μmに塗布する。これを120℃で仮乾燥、45
0℃で焼成させた後に金型M5より外し、ガラス繊維F
の軸線に直角に2mm間隔に切断し、図96に示すような
厚さ40μm、高さ2mmの板状部材6を複数形成す
る。
More specifically, as shown in FIG. 95, a glass fiber F having a diameter of 40 μm is arranged in a mold M5 having a rectangular concave portion m so as to be aligned in the axial direction so as to form a groove in the concave portion m. Is applied to a depth of 40 μm so as to fill the gap. This is temporarily dried at 120 ° C., 45
After firing at 0 ° C., the mold is removed from the mold M5 and the glass fiber F
Then, a plurality of plate members 6 each having a thickness of 40 μm and a height of 2 mm as shown in FIG. 96 are formed.

【0187】[第25の実施形態]次に、図97を参照
して、本発明によるパネル型真空気密容器の第25の実
施形態について説明する。本実施形態は、図97に示す
ように、上記ガラス繊維Fに代えて、軟化点の異なる2
つのガラス材料の層f1, f2が同心円筒状に組み合わ
された構造を有するガラス繊維F1を用いた点で上記第
24の実施形態と異なり、その他の構成は図95および
図96に示す上記第24の実施形態と略同様である。
[Twenty-Fifth Embodiment] Next, a twenty-fifth embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIG. In the present embodiment, as shown in FIG. 97, instead of the glass fiber F, two softening points having different softening points are used.
The second embodiment is different from the twenty-fourth embodiment in that a glass fiber F1 having a structure in which two glass material layers f1 and f2 are combined in a concentric cylindrical shape is used. This is substantially the same as the embodiment.

【0188】具体的には、図97示すような、内側の層
(コア部)f1のガラス材料の軟化点が410℃、外側
の層(クラッド部)f2のガラス材料の軟化点が510
℃である40μm径のガラス繊維F1を用いる。このよ
うなガラス繊維F1を、図95に示すような形状の金型
M5の深さ1mmの凹部mを溝たすように軸方向を揃え
て並べ、間隙を埋めるようにフリットガラスの未焼成ペ
ースト80を深さ40μmに塗布する。これを120℃
で仮乾燥、400℃で焼成させた後に金型M5より外
し、ガラス繊維F1の軸線に直角に2mm間隔に切り掻き
を入れて折り、図96に示すような厚さ40μm、高さ
2mmの板状部材62を複数形成する。
Specifically, as shown in FIG. 97, the softening point of the glass material of the inner layer (core portion) f1 is 410 ° C., and the softening point of the glass material of the outer layer (cladding portion) f2 is 510.
A glass fiber F1 having a diameter of 40 μm and a temperature of 40 ° C. is used. Such a glass fiber F1 is aligned in the axial direction so as to form a concave portion m having a depth of 1 mm in a mold M5 having a shape as shown in FIG. 95, and an unfired paste of frit glass so as to fill a gap. 80 to a depth of 40 μm. 120 ° C
After pre-drying and baking at 400 ° C., the mold is removed from the mold M5, and cut and cut at intervals of 2 mm at right angles to the axis of the glass fiber F1, and a plate having a thickness of 40 μm and a height of 2 mm as shown in FIG. A plurality of shaped members 62 are formed.

【0189】このような板状部材62を用いて、上記支
持体を形成し、上記密封枠3に組み込む。この密封枠3
を上記両パネル1, 2とフリットガラスの未焼成ペース
トを介して接合し、120℃で仮固定後、410℃で焼
成して固定する。このとき、支持体S〜S16を構成す
る板状部材62におけるガラス繊維F1のコア部f1の
軟化により、支持体S〜S16と両パネル1, 2との接
着が行われる。
The support is formed by using such a plate-like member 62 and assembled into the sealing frame 3. This sealed frame 3
Are bonded to both panels 1 and 2 via an unfired paste of frit glass, temporarily fixed at 120 ° C., and fired and fixed at 410 ° C. At this time, the cores f1 of the glass fibers F1 in the plate members 62 constituting the supports S to S16 are softened, so that the supports S to S16 and the panels 1 and 2 are bonded.

【0190】次に、このような構成よりなる本実施形態
の作用効果について説明する。本実施形態によれば、上
記第23の実施形態と同様の作用効果を奏すると共に、
ガラス繊維F1のコア部f1の軟化により、支持体S〜
S16と両パネルと1, 2との接着が行われるため、別
途接着材を塗布する必要がなくなる。また、ガラス繊維
F1の内側の層であるコア部f1のみを軟化させてガラ
ス繊維F1を接着するので、接着剤(この場合は、軟化
したガラス材料)の上記カソード基板4やアノード電極
5へのはみ出しを防止することができる。
Next, the operation and effect of this embodiment having the above-described configuration will be described. According to this embodiment, the same operation and effect as those of the twenty-third embodiment can be obtained,
Due to the softening of the core portion f1 of the glass fiber F1, the support S ~
Since S16 and the panels 1 and 2 are bonded, it is not necessary to separately apply an adhesive. Also, since only the core portion f1, which is the inner layer of the glass fiber F1, is softened and the glass fiber F1 is bonded, an adhesive (in this case, a softened glass material) is applied to the cathode substrate 4 and the anode electrode 5. Extrusion can be prevented.

【0191】[第26の実施形態]本実施形態は、図9
7に示すガラス繊維F1において、コア部f1の軟化点
が580℃、クラッド部f2の軟化点が480℃である
ものを用いて、図94に示すような外形の板状部材を形
成するものであり、その他の構成は上記第23の実施形
態と同様である。
[Twenty-sixth Embodiment] The present embodiment is different from the embodiment shown in FIG.
In the glass fiber F1 shown in FIG. 7, a core member f1 having a softening point of 580 ° C. and a clad portion f2 having a softening point of 480 ° C. is used to form a plate member having an outer shape as shown in FIG. 94. The other configuration is the same as that of the twenty-third embodiment.

【0192】この場合、複数の上記ガラス繊維F1を、
図95に示すような金型M5の凹部mを溝たすように軸
方向を揃えて並べ、金型M5全体を500℃に加熱する
ことにより、各ガラス繊維F1のクラッド部f2を軟化
させ、隣接するガラス繊維F1の側面同士を接着するこ
とができる。
In this case, the plurality of glass fibers F1 are
By axially aligning the concave portions m of the mold M5 as shown in FIG. 95 so as to form grooves, and heating the entire mold M5 to 500 ° C., the clad portion f2 of each glass fiber F1 is softened. The side surfaces of the adjacent glass fibers F1 can be bonded to each other.

【0193】[第27の実施形態]次に、図98および
図99を参照して、本発明によるパネル型真空気密容器
の第27の実施形態について説明する。本実施形態は、
図99に示すように、複数のガラス繊維F1が間隔を置
いて配列された状態の簾状部材63による支持体を、
(最終的に)上記両パネル1, 2間に形成する点で上記
第25の実施形態と異なり、その他の構成は図97に示
す上記第25の実施形態と略同様である。
[Twenty-Seventh Embodiment] A twenty-seventh embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described below with reference to FIGS. In this embodiment,
As shown in FIG. 99, a support made of a cord-shaped member 63 in a state where a plurality of glass fibers F1 are arranged at intervals,
(Finally) is different from the above-described twenty-fifth embodiment in that it is formed between the two panels 1 and 2, and the other structure is substantially the same as the twenty-fifth embodiment shown in FIG.

【0194】具体的には、図98に示すように、上記第
25の実施形態と同様のガラス繊維F1(コア部f1の
軟化点が410℃、クラッド部f2の軟化点が510
℃)を、同じく金型M5の凹部m中に軸方向を揃えて、
かつ側面同士が接触しない程度に適宜間隙を開けながら
平行に並べ、間隙を埋めるように、塩化ナトリウム、塩
化カリウムまたは水溶性の炭酸塩粉末を含む接着ペース
ト80を塗布する。これを120℃で仮乾燥してガラス
繊維F1同士を仮接着し、冷却後にガラス繊維F1の軸
線に直角に2mm間隔に切り掻きを入れて折り、厚さ4
0μm高さ2mm板状部材を形成する。
Specifically, as shown in FIG. 98, the same glass fiber F1 (core part f1 has a softening point of 410 ° C. and clad part f2 has a softening point of 510
° C) in the same direction as the axial direction in the concave portion m of the mold M5.
The adhesive paste 80 containing sodium chloride, potassium chloride, or a water-soluble carbonate powder is applied so as to fill the gap so that the sides are not in contact with each other with an appropriate gap. This is temporarily dried at 120 ° C. to temporarily bond the glass fibers F1 to each other. After cooling, the glass fibers F1 are cut at a distance of 2 mm at right angles to the axis of the glass fibers F1 and folded.
A plate member having a height of 0 μm and a height of 2 mm is formed.

【0195】この板状部材を上記密封枠3に組み込み、
この密封枠3を上記前面パネル2とフリットガラスの未
焼成ペーストを介して接合し、120℃で仮固定後、4
10℃で焼成して固定する。このとき、板状部材におけ
るガラス繊維F1のコア部f1の軟化により、板状部材
を構成する個々のガラス繊維F1と前面パネル2との接
着が行われる。
This plate-like member is assembled in the above-mentioned sealing frame 3,
The sealing frame 3 is bonded to the front panel 2 via an unfired paste of frit glass, and temporarily fixed at 120 ° C.
Bake at 10 ° C and fix. At this time, the softening of the core portion f1 of the glass fiber F1 in the plate member causes the individual glass fibers F1 constituting the plate member to be bonded to the front panel 2.

【0196】次に、一体化した前面パネル2および板状
部材を水に浸漬して、板状部材におけるガラス繊維F1
間の接着ペースト80を除去する。このうように、ガラ
ス繊維F1間の接着ペースト80を除去することで、板
状部材を構成していたガラス繊維F1同士の接着が解か
れ、図99に示すように、個々のガラス繊維F1が独立
して前面パネル2上に固定された、簾状部材63の構造
が形成される。
Next, the integrated front panel 2 and the plate-like member are immersed in water, and the glass fibers F1
The adhesive paste 80 between them is removed. In this way, by removing the adhesive paste 80 between the glass fibers F1, the adhesion between the glass fibers F1 constituting the plate-like member is released, and as shown in FIG. 99, the individual glass fibers F1 are separated. The structure of the cord-shaped member 63 independently fixed on the front panel 2 is formed.

【0197】この後、前面パネル2と一体化した密封枠
3の背面パネル1側にフリットガラスの未焼成ペースト
を塗布し、背面パネル1上に前面パネル2と一体化した
密封枠3を位置合わせして搭載し、120℃でぺースト
を仮乾燥させた後、410℃でフリットガラスを焼成
し、背面パネル1と密封枠3との固定を行う。この時、
前面パネル2に接着されたガラス繊維F1のコアf1が
溶融して、ガラス繊維F1と背面パネル1との間も接着
される。
Thereafter, an unfired paste of frit glass is applied to the back panel 1 side of the sealing frame 3 integrated with the front panel 2, and the sealing frame 3 integrated with the front panel 2 is positioned on the back panel 1. After the paste is temporarily dried at 120 ° C., the frit glass is baked at 410 ° C. to fix the back panel 1 and the sealing frame 3. At this time,
The core f1 of the glass fiber F1 bonded to the front panel 2 is melted, and the glass fiber F1 and the rear panel 1 are also bonded.

【0198】次に、このような構成よりなる本実施形態
の作用効果について説明する。本実施形態によれば、上
記第25の実施形態と同様の作用効果を奏すると共に、
最終的にガラス繊維F1の側面同士の接着が無くなるた
め衝撃等に対する柔軟性、すなわち機械的強度がさらに
向上し、またガラス繊維F1間に間隙を有するため排気
効率が向上する。
Next, the operation and effect of this embodiment having the above-described configuration will be described. According to the present embodiment, the same operations and effects as those of the twenty-fifth embodiment can be obtained,
Eventually, the adhesion between the side surfaces of the glass fiber F1 is eliminated, so that the flexibility against impact or the like, that is, the mechanical strength is further improved. Further, since there is a gap between the glass fibers F1, the exhaust efficiency is improved.

【0199】[第28の実施形態]次に、図100およ
び図101を参照して、本発明によるパネル型真空気密
容器の第28の実施形態について説明する。本実施形態
は、図100に示すように、上記ガラス繊維Fを含む板
状部材61(図96参照)を格子状に組み合わせた構成
の支持体S17を一体的に形成するようにしたものであ
る。
[Twenty-eighth Embodiment] Next, a twenty-eighth embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIGS. In the present embodiment, as shown in FIG. 100, a support S17 having a configuration in which the plate-like members 61 containing the glass fibers F (see FIG. 96) are combined in a lattice shape is integrally formed. .

【0200】具体的には、図101において、矩形の凹
部を有する金型M6の底面に40μm径のガラス繊維F
を軸方向に平行に隙間無く敷き詰めた上に、断面が50
mm角の正方形であるような直方体の金属ブロック82
を載置する。この際、ブロック82間に40μm径のガ
ラス繊維Fを1本ずつ挟みながら隙間無く配置し、ブロ
ック82載置後に、ブロック82間の間隙にガラス繊維
Fを縦一列に積層する。各ブロック82の上面までガラ
ス繊維Fを充填した後に、これらのブロック82上面に
ガラス繊維Fを隙間無く並べる。
More specifically, in FIG. 101, a glass fiber F having a diameter of 40 μm is formed on the bottom surface of a mold M6 having a rectangular concave portion.
Are spread in parallel with each other in the axial direction without any gaps.
A rectangular parallelepiped metal block 82 having a square shape of mm square
Is placed. At this time, the glass fibers F having a diameter of 40 μm are arranged between the blocks 82 without any gap therebetween, and after the blocks 82 are placed, the glass fibers F are laminated in a vertical line in the gap between the blocks 82. After filling the glass fibers F up to the upper surface of each block 82, the glass fibers F are arranged on the upper surfaces of these blocks 82 without any gap.

【0201】この操作を繰り返して、図101に示すよ
うにブロック82とガラス繊維Fを順次積層した後に、
ガラス繊維F間に低融点フリットガラスを充填し、12
0℃で乾燥、450℃で焼成する。冷却後、ダイサーを
用いて金属ブロック82ごと2mm間隔にスライスした
後に、金属ブロック82を溶剤で除去もしくは抜き去
り、図100に示すような、高さ2mmで厚さ40μm
(アスペクト比50)の板状部材61からなる格子状支
持体S17を得る。
By repeating this operation and sequentially laminating the block 82 and the glass fiber F as shown in FIG. 101,
Fill low melting point frit glass between glass fibers F,
Dry at 0 ° C and bake at 450 ° C. After cooling, after slicing the metal block 82 with a dicer at intervals of 2 mm, the metal block 82 is removed or removed with a solvent, and the height is 2 mm and the thickness is 40 μm as shown in FIG.
A lattice-like support S17 made of a plate-like member 61 having an aspect ratio of 50 is obtained.

【0202】なお、本実施形態の手法を応用して、上記
第25乃至第27の実施形態のいずれかの板状部材を格
子状に組み合わせた形態の格子状支持体を作ることもで
きる。(但し、上記第27の実施形態に応用する場合
は、最終的に、上記簾状部材63を格子状に組み合わせ
た形態の格子状支持体が得られる。) [第29の実施形態]次に、図102乃至図105を参
照して、本発明によるパネル型真空気密容器の第29の
実施形態について説明する。本実施形態は、図105に
示すように、切り欠き64aを有する板状部材64を形
成する点で上記第24の実施形態と異なり、その他の構
成は図95および図96に示す上記第24の実施形態と
略同様である。
By applying the method of this embodiment, a grid-like support in which the plate-like members of any of the twenty-fifth to twenty-seventh embodiments are combined in a grid-like manner can also be produced. (However, when applied to the above-described twenty-seventh embodiment, a lattice-shaped support body in which the cord-like members 63 are combined in a lattice shape is finally obtained.) [Twenty-ninth Embodiment] Next, A twenty-ninth embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention will be described with reference to FIGS. This embodiment is different from the above-described twenty-fourth embodiment in that a plate-like member 64 having a notch 64a is formed as shown in FIG. 105, and the other structure is the same as that of the twenty-fourth embodiment shown in FIGS. This is substantially the same as the embodiment.

【0203】具体的には、まず、厚さ2mmの金属板上
に通常のPEP(Planar EpitaxialPassivation)工程に
よりレジストパターンを形成後エッチング工程により、
図102に示すような、60μm ×2mmの矩形の突起
m1が一対形成された深さ1mm程度の凹部mを有する
金型M5′を形成する。
Specifically, first, a resist pattern is formed on a metal plate having a thickness of 2 mm by a normal PEP (Planar Epitaxial Passivation) process, and then an etching process is performed.
As shown in FIG. 102, a mold M5 ′ having a concave portion m with a depth of about 1 mm in which a pair of rectangular protrusions m1 of 60 μm × 2 mm is formed.

【0204】次に、図103に示すように、この金型M
5の′凹部mを満たすように40μm径のガラス繊維F
を軸方向を揃えて並べ、間隙を埋めるようにフリットガ
ラスの未焼成ぺースト80を深さ40μmに塗布する。
これを120℃で仮乾燥450℃で焼成させた後に金型
M5′より外すと、図104に示すように、60μm×
2m mの矩形状のスリット64bを有する板64′が得
られる。
Next, as shown in FIG.
5 ′ glass fiber F having a diameter of 40 μm so as to fill the recess m.
Are aligned in the axial direction, and an unfired paste 80 of frit glass is applied to a depth of 40 μm so as to fill the gap.
After calcination at 450 ° C. at 120 ° C. and then removal from the mold M5 ′, as shown in FIG.
A plate 64 'having a rectangular slit 64b of 2 mm is obtained.

【0205】これをスリット64bの長辺を2等分する
位置で、ガラス繊維Fの軸線に直角に2mm間隔に切断
すると、図105に示すような切り欠き64aを有する
厚さ40μm、高さ2mmの板状部材64が多数得られ
る。そして、これらの板状部材64を互いに組み合わせ
て、例えば図100に示すような格子状支持体S17を
形成することができる。
When this is cut at a distance of 2 mm perpendicular to the axis of the glass fiber F at a position where the long side of the slit 64b is bisected, a thickness of 40 μm having a notch 64a as shown in FIG. Many plate-like members 64 are obtained. Then, by combining these plate-like members 64 with each other, for example, a lattice-like support S17 as shown in FIG. 100 can be formed.

【0206】なお、以上の実施形態において、電界放出
ディスプレイ(FED)を構成する真空気密容器の場合
について説明したが、これに限らず、上記透明電極5お
よび蛍光体5a層に代えて、アノード電極層を前面パネ
ル2に形成することにより、電力変換素子を構成するパ
ネル型真空気密容器としてもよい。
In the above embodiment, the case of a vacuum-tight container constituting a field emission display (FED) has been described. However, the present invention is not limited to this, and an anode electrode may be used instead of the transparent electrode 5 and the phosphor 5a layer. By forming a layer on the front panel 2, a panel-type vacuum airtight container constituting a power conversion element may be provided.

【0207】[0207]

【発明の効果】本発明によれば、支持体の第1板状部材
および第2板状部材が、第1基板および第2基板に対し
て略垂直に且つ互いに略直交して配置されているので、
第1基板および第2基板の面積が大きい場合でも、支持
体によって第1基板と第2基板との間を十分な強度で支
持することが可能となる。このため、耐圧性が高く、第
1基板と第2基板との間の間隔を精度よく保持できるよ
うな、大面積のパネル型真空気密容器を提供することが
できる。
According to the present invention, the first plate member and the second plate member of the support are arranged substantially perpendicular to the first substrate and the second substrate and substantially perpendicular to each other. So
Even if the area of the first substrate and the second substrate is large, the support can support the first substrate and the second substrate with sufficient strength. For this reason, it is possible to provide a large-area panel-type vacuum hermetic container having high pressure resistance and capable of accurately maintaining the distance between the first substrate and the second substrate.

【0208】また、上記のような支持体の第1板状部材
および第2板状部材の構成によって、これらの第1板状
部材および第2板状部材にアスペクト比(厚みに対する
高さの比)の大きいものを用いても、第1基板と第2基
板との間の十分な支持強度を得ることができる。このた
め、支持体とアノード電極との干渉を避けながら、第1
基板と第2基板との間の間隔を大きく取って、高電界型
の構造に対応することが可能となる。
Further, the first plate member and the second plate member of the support as described above have an aspect ratio (the ratio of the height to the thickness) of the first plate member and the second plate member. ), A sufficient supporting strength between the first substrate and the second substrate can be obtained. Therefore, while avoiding interference between the support and the anode electrode, the first
By increasing the distance between the substrate and the second substrate, it is possible to cope with a high electric field type structure.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるパネル型真空気密容器の第1の実
施形態を示す破断斜視図。
FIG. 1 is a cutaway perspective view showing a first embodiment of a panel-type vacuum airtight container according to the present invention.

【図2】(a)は、図1に示すパネル型真空気密容器の
縦断面図、(b)は、(a)に直交する方向の縦断面
図。
2A is a longitudinal sectional view of the panel-type vacuum hermetic container shown in FIG. 1, and FIG. 2B is a longitudinal sectional view in a direction orthogonal to FIG.

【図3】図1に示すパネル型真空気密容器の前面パネル
を取り除いて示す平面図。
FIG. 3 is a plan view showing the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 1 with a front panel removed.

【図4】図1に示すパネル型真空気密容器の密封枠およ
び支持体の斜視図。
FIG. 4 is a perspective view of a sealing frame and a support of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG.

【図5】図1に示すパネル型真空気密容器の製造工程を
示す図。
FIG. 5 is a diagram showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG.

【図6】図1に示すパネル型真空気密容器の製造工程を
示す図。
FIG. 6 is a view showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG.

【図7】(a)〜(c)は、図1に示すパネル型真空気
密容器の製造工程を示す図。
7 (a) to 7 (c) are views showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG.

【図8】図1に示すパネル型真空気密容器の製造工程を
示す図。
FIG. 8 is a diagram showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG.

【図9】本発明によるパネル型真空気密容器の第2の実
施形態を示す破断斜視図。
FIG. 9 is a cutaway perspective view showing a second embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention.

【図10】(a)は、図10に示すパネル型真空気密容
器の縦断面図、(b)は、(a)に直交する方向の縦断
面図。
10A is a longitudinal sectional view of the panel-type vacuum hermetic container shown in FIG. 10, and FIG. 10B is a longitudinal sectional view in a direction orthogonal to FIG.

【図11】図10に示すパネル型真空気密容器の前面パ
ネルを取り除いて示す平面図。
11 is a plan view of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 10 with a front panel removed.

【図12】図10に示すパネル型真空気密容器の密封枠
および支持体の斜視図。
FIG. 12 is a perspective view of a sealing frame and a support of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG.

【図13】図10に示すパネル型真空気密容器の製造工
程を示す図。
FIG. 13 is a view showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 10;

【図14】(a)、(b)は、図10に示すパネル型真
空気密容器の製造工程を示す図。
14 (a) and (b) are diagrams showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG.

【図15】図10に示すパネル型真空気密容器の製造工
程を示す図。
FIG. 15 is a view showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 10;

【図16】本発明によるパネル型真空気密容器の第3の
実施形態を示す縦断面図。
FIG. 16 is a longitudinal sectional view showing a third embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention.

【図17】図16に示すパネル型真空気密容器の密封枠
および支持体の斜視図。
17 is a perspective view of a sealing frame and a support of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG.

【図18】図16に示すパネル型真空気密容器の変形例
を示す縦断面図。
FIG. 18 is a longitudinal sectional view showing a modification of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG.

【図19】本発明によるパネル型真空気密容器の第4の
実施形態を前面パネルを取り除いて示す平面図。
FIG. 19 is a plan view showing a fourth embodiment of a panel-type vacuum airtight container according to the present invention, from which a front panel is removed.

【図20】本発明によるパネル型真空気密容器の第5の
実施形態を前面パネルを取り除いて示す平面図。
FIG. 20 is a plan view showing a fifth embodiment of a panel-type vacuum airtight container according to the present invention, from which a front panel is removed.

【図21】本発明によるパネル型真空気密容器の第6の
実施形態を前面パネルを取り除いて示す平面図。
FIG. 21 is a plan view showing a sixth embodiment of a panel-type vacuum airtight container according to the present invention, with a front panel removed.

【図22】図21に示すパネル型真空気密容器の支持体
の破断斜視図。
FIG. 22 is a cutaway perspective view of a support of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 21.

【図23】本発明によるパネル型真空気密容器の第7の
実施形態を示す破断斜視図。
FIG. 23 is a cutaway perspective view showing a seventh embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention.

【図24】(a)は、図23に示すパネル型真空気密容
器の縦断面図、(b)は、(a)に直交する方向の縦断
面図。
24A is a longitudinal sectional view of the panel-type vacuum hermetic container shown in FIG. 23, and FIG. 24B is a longitudinal sectional view in a direction orthogonal to FIG.

【図25】図23に示すパネル型真空気密容器の前面パ
ネルを取り除いて示す平面図。
FIG. 25 is a plan view of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 23 with a front panel removed.

【図26】図23に示すパネル型真空気密容器の密封枠
および支持体の斜視図。
26 is a perspective view of a sealing frame and a support of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG.

【図27】図23に示すパネル型真空気密容器の製造工
程を示す図。
FIG. 27 is a view showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 23;

【図28】図23に示すパネル型真空気密容器の製造工
程を示す図。
FIG. 28 is a view showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 23;

【図29】図23に示すパネル型真空気密容器の製造工
程を示す図。
FIG. 29 is a diagram showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG.

【図30】図23に示すパネル型真空気密容器の製造工
程を示す図。
30 is a view showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 23;

【図31】(a)〜(e)は、図23に示すパネル型真
空気密容器の製造工程を示す図。
FIGS. 31 (a) to 31 (e) are diagrams showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 23.

【図32】本発明によるパネル型真空気密容器の第8の
実施形態を示す破断斜視図。
FIG. 32 is a cutaway perspective view showing an eighth embodiment of a panel-type vacuum airtight container according to the present invention.

【図33】図32に示すパネル型真空気密容器の前面パ
ネルを取り除いて示す平面図。
FIG. 33 is a plan view of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 32 with a front panel removed.

【図34】図32に示すパネル型真空気密容器の要部斜
視図。
FIG. 34 is a perspective view of a main part of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 32;

【図35】本発明によるパネル型真空気密容器の第9の
実施形態を示す破断斜視図。
FIG. 35 is a cutaway perspective view showing a ninth embodiment of a panel-type vacuum airtight container according to the present invention.

【図36】図35に示すパネル型真空気密容器の前面パ
ネルを取り除いて示す平面図。
36 is a plan view showing the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 35 with a front panel removed.

【図37】(a)は、図35に示すパネル型真空気密容
器の縦断面図、(b)は、(a)に直交する方向の縦断
面図。
37 (a) is a longitudinal sectional view of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 35, and FIG. 37 (b) is a longitudinal sectional view in a direction orthogonal to (a).

【図38】図35に示すパネル型真空気密容器の製造工
程を示す図。
FIG. 38 is a view showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 35;

【図39】(a)〜(c)は、図35に示すパネル型真
空気密容器の製造工程を示す図。
FIGS. 39 (a) to 39 (c) are diagrams showing the steps of manufacturing the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 35.

【図40】(a)、(b)は、図35に示すパネル型真
空気密容器の製造工程を示す図。
FIGS. 40 (a) and (b) are diagrams showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 35.

【図41】図35に示すパネル型真空気密容器の変形例
における支持体の斜視図。
FIG. 41 is a perspective view of a support in a modification of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 35;

【図42】本発明によるパネル型真空気密容器の第10
の実施形態を示す縦断面図。
FIG. 42 is a diagram illustrating a panel type vacuum airtight container according to the present invention.
FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing the embodiment.

【図43】図42に示すパネル型真空気密容器の破断平
面図。
43 is a cutaway plan view of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 42.

【図44】図42に示すパネル型真空気密容器の要部縦
断面図。
FIG. 44 is a longitudinal sectional view of a main part of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 42;

【図45】図42に示すパネル型真空気密容器の支持体
の斜視図。
FIG. 45 is a perspective view of a support of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 42;

【図46】(a)、(b)は、図42に示すパネル型真
空気密容器の製造工程を示す図。
46 (a) and (b) are diagrams showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 42.

【図47】図42に示すパネル型真空気密容器の製造工
程を示す図。
FIG. 47 is a view showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 42;

【図48】図42に示すパネル型真空気密容器の製造工
程を示す図。
FIG. 48 is a view showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 42;

【図49】本発明によるパネル型真空気密容器の第11
の実施形態を前面パネルを取り除いて示す平面図。
FIG. 49 is an eleventh embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention.
The top view which removes a front panel and shows the embodiment of FIG.

【図50】図49に示すパネル型真空気密容器の支持体
の斜視図。
50 is a perspective view of a support of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 49.

【図51】(a)〜(d)は、図49に示すパネル型真
空気密容器の製造工程を示す図。
FIGS. 51 (a) to 51 (d) are diagrams showing the steps of manufacturing the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 49.

【図52】(a)〜(c)は、本発明によるパネル型真
空気密容器の第12の実施形態の製造工程を示す図。
FIGS. 52 (a) to 52 (c) are diagrams showing a manufacturing process of a twelfth embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention.

【図53】図52に示すパネル型真空気密容器の製造工
程を示す図(支持体用の型の斜視図)。
FIG. 53 is a view showing a step of producing the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 52 (a perspective view of a mold for a support).

【図54】図52に示すパネル型真空気密容器の製造工
程を示す図。
FIG. 54 is a view showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 52;

【図55】(a)〜(d)は、本発明によるパネル型真
空気密容器の第13の実施形態の製造工程を示す図。
FIGS. 55 (a) to 55 (d) are views showing a manufacturing process of a panel-type vacuum airtight container according to a thirteenth embodiment of the present invention.

【図56】本発明によるパネル型真空気密容器の第14
の実施形態の製造工程を示す図。
FIG. 56 shows a fourteenth panel-type vacuum airtight container according to the present invention.
FIG. 6 is a view showing a manufacturing process of the embodiment.

【図57】図56に示すパネル型真空気密容器の支持体
の斜視図。
57 is a perspective view of a support of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 56.

【図58】本発明によるパネル型真空気密容器の第15
の実施形態を示す支持体の斜視図。
FIG. 58 shows a fifteenth panel-type vacuum airtight container according to the present invention.
The perspective view of the support which shows embodiment of FIG.

【図59】本発明によるパネル型真空気密容器の第16
の実施形態を示す縦断面図。
FIG. 59 shows a sixteenth panel-type vacuum airtight container according to the present invention.
FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing the embodiment.

【図60】図59に示すパネル型真空気密容器の前面パ
ネルを取り除いて示す平面図。
60 is a plan view showing the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 59 with a front panel removed.

【図61】図59に示すパネル型真空気密容器の支持体
の部分平面図。
FIG. 61 is a partial plan view of a support of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 59.

【図62】図59に示すパネル型真空気密容器の支持体
の型を示す斜視図。
FIG. 62 is a perspective view showing a type of a support of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 59.

【図63】本発明によるパネル型真空気密容器の第17
の実施形態を示す支持体の部分縦断面図。
FIG. 63 shows a seventeenth panel-type vacuum airtight container according to the present invention.
FIG. 4 is a partial vertical cross-sectional view of a support showing the embodiment.

【図64】(a)〜(c)は、図63に示すパネル型真
空気密容器の製造工程を示す図。
FIGS. 64 (a) to (c) are diagrams showing the steps of manufacturing the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 63.

【図65】本発明によるパネル型真空気密容器の第18
の実施形態を示す縦断面図。
FIG. 65 is an eighteenth embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention.
FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing the embodiment.

【図66】図65に示すパネル型真空気密容器の破断平
面図。
66 is a cutaway plan view of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 65.

【図67】図65に示すパネル型真空気密容器の支持体
の斜視図。
FIG. 67 is a perspective view of a support of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 65.

【図68】図65に示すパネル型真空気密容器の支持体
の(裏面)斜視図。
FIG. 68 is a (back) perspective view of a support of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 65;

【図69】(a)〜(e)は、図65に示すパネル型真
空気密容器の製造工程を示す図。
FIGS. 69 (a) to (e) are views showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 65.

【図70】図65に示すパネル型真空気密容器の変形例
を示す縦断面図。
70 is a longitudinal sectional view showing a modified example of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 65.

【図71】図70に示すパネル型真空気密容器の支持体
の部分縦断面図。
FIG. 71 is a partial longitudinal sectional view of a support of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 70;

【図72】本発明によるパネル型真空気密容器の第19
の実施形態を示す縦断面図。
FIG. 72 shows a nineteenth embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention.
FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing the embodiment.

【図73】図72に示すパネル型真空気密容器の支持体
の部分平面図。
73 is a partial plan view of the support of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 72.

【図74】図72に示すパネル型真空気密容器の支持体
の部分縦断面図。
74 is a partial longitudinal sectional view of a support of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 72.

【図75】図72に示すパネル型真空気密容器の製造工
程を示す図。
FIG. 75 is a view showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 72;

【図76】図72に示すパネル型真空気密容器の製造工
程を示す図。
FIG. 76 is a view showing a manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 72;

【図77】(a)、(b)は、図72に示すパネル型真
空気密容器の製造工程を示す図。
FIGS. 77 (a) and (b) are diagrams showing the steps of manufacturing the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 72.

【図78】図72に示すパネル型真空気密容器の製造工
程を示す図。
FIG. 78 is a view showing a manufacturing step of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 72;

【図79】本発明によるパネル型真空気密容器の第20
の実施形態を示す縦断面図。
FIG. 79 shows a twentieth embodiment of a panel-type vacuum airtight container according to the present invention.
FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing the embodiment.

【図80】図79に示すパネル型真空気密容器のカソー
ド基板の平面図。
FIG. 80 is a plan view of a cathode substrate of the panel-type vacuum hermetic container shown in FIG. 79;

【図81】図79に示すパネル型真空気密容器の背面パ
ネルの縦断面図。
FIG. 81 is a longitudinal sectional view of a back panel of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 79;

【図82】図79に示すパネル型真空気密容器の支持体
の斜視図。
FIG. 82 is a perspective view of a support of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 79;

【図83】(a)〜(c)は、図79に示すパネル型真
空気密容器の製造工程を示す図。
FIGS. 83 (a) to 83 (c) are views showing the steps of manufacturing the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 79;

【図84】(a)〜(d)は、図79に示すパネル型真
空気密容器の製造工程を示す図。
FIGS. 84 (a) to 84 (d) are diagrams showing the steps of manufacturing the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 79.

【図85】図79に示すパネル型真空気密容器の製造工
程を示す図。
FIG. 85 is a view showing the manufacturing process of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 79;

【図86】図79に示すパネル型真空気密容器の製造工
程を示す図。
86 is a view showing a step of manufacturing the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 79;

【図87】本発明によるパネル型真空気密容器の第21
の実施形態を示す要部縦断面図。
FIG. 87 shows a twenty-first embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention.
The principal part longitudinal cross-sectional view which shows embodiment of FIG.

【図88】図87に示すパネル型真空気密容器のカソー
ド基板の斜視図。
FIG. 88 is a perspective view of a cathode substrate of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 87.

【図89】図87に示すパネル型真空気密容器の支持体
の斜視図。
89 is a perspective view of a support of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 87.

【図90】本発明によるパネル型真空気密容器の第22
の実施形態を示す要部縦断面図。
FIG. 90 is a diagram illustrating a panel-type vacuum airtight container according to the present invention.
The principal part longitudinal cross-sectional view which shows embodiment of FIG.

【図91】図90に示すパネル型真空気密容器のカソー
ド基板の斜視図。
FIG. 91 is a perspective view of a cathode substrate of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 90;

【図92】図90に示すパネル型真空気密容器の支持体
の部分縦断面図。
92 is a partial longitudinal sectional view of a support of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 90.

【図93】図90に示すパネル型真空気密容器の支持体
の部分平面図。
93 is a partial plan view of the support of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 90.

【図94】本発明によるパネル型真空気密容器の第23
の実施形態を示す板状部材の斜視図。
FIG. 94 is a twenty-third embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention.
The perspective view of the plate-shaped member which shows embodiment.

【図95】本発明によるパネル型真空気密容器の第24
の実施形態の製造工程を示す図。
FIG. 95 shows a twenty-fourth panel-type vacuum airtight container according to the present invention.
FIG. 6 is a view showing a manufacturing process of the embodiment.

【図96】図95に示すパネル型真空気密容器の板状部
材の斜視図。
96 is a perspective view of a plate-shaped member of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 95.

【図97】本発明によるパネル型真空気密容器の第25
の実施形態を示す板状部材の斜視図。
FIG. 97 is a diagram showing a twenty-fifth panel-type vacuum airtight container according to the present invention.
The perspective view of the plate-shaped member which shows embodiment.

【図98】本発明によるパネル型真空気密容器の第26
の実施形態の製造工程を示す図。
FIG. 98 shows a twenty-sixth embodiment of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention.
FIG. 6 is a view showing a manufacturing process of the embodiment.

【図99】図98に示すパネル型真空気密容器の板状部
材および前面パネルの部分斜視図。
FIG. 99 is a partial perspective view of a plate-shaped member and a front panel of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 98;

【図100】本発明によるパネル型真空気密容器の第2
7の実施形態を示す支持体の斜視図。
FIG. 100 is a second view of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention.
The perspective view of the support body which shows 7th Embodiment.

【図101】図100に示すパネル型真空気密容器の製
造工程を示す図。
101 is a view showing a step of manufacturing the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 100;

【図102】本発明によるパネル型真空気密容器の第2
8の実施形態の製造工程を示す図(板状部材用の型の斜
視図)。
FIG. 102 is a second view of the panel-type vacuum airtight container according to the present invention.
The figure (the perspective view of the type | mold for plate-shaped members) which shows the manufacturing process of 8th Embodiment.

【図103】図102に示すパネル型真空気密容器の製
造工程を示す図。
103 is a view showing a step of manufacturing the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 102;

【図104】図102に示すパネル型真空気密容器の製
造工程を示す図。
104 is a view showing a step of manufacturing the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 102;

【図105】図102に示すパネル型真空気密容器の板
状部材の立面図。
105 is an elevation view of a plate-shaped member of the panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 102;

【図106】従来のパネル型真空気密容器の例を示す要
部縦断面図。
FIG. 106 is a vertical sectional view of a main part showing an example of a conventional panel-type vacuum airtight container.

【図107】(a)〜(e)は、図106に示す従来の
パネル型真空気密容器の製造工程を示す図。
FIGS. 107 (a) to (e) are views showing the steps of manufacturing the conventional panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 106.

【図108】(a)〜(c)は、図106に示す従来の
パネル型真空気密容器の製造工程を示す図。
FIGS. 108 (a) to (c) are views showing a manufacturing process of the conventional panel-type vacuum airtight container shown in FIG. 106.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 背面パネル(第1基板) 2 前面パネル(第2基板) 3 密封枠 4 カソード基板 5 アノード電極 5a 蛍光体 6, 16, 26, 36, 46, 56, 66, 76 第1
板状部材 7, 17, 27, 37, 47, 57, 67, 77 第2
板状部材 8, 8′ 導電性パターン 9, 19, 29, 39, 49, 59 突起部 15, 15′ 隔壁 50, 51 排気管(排気部材) E, E1 排気室 F, F1 ガラス繊維 f1 コア部(内側の層) f2 クラッド部(外側の層) R, R1〜R4 室 R′ 主室 S, S1 〜S17 支持体
REFERENCE SIGNS LIST 1 back panel (first substrate) 2 front panel (second substrate) 3 sealing frame 4 cathode substrate 5 anode electrode 5 a phosphor 6, 16, 26, 36, 46, 56, 66, 76 first
Plate member 7, 17, 27, 37, 47, 57, 67, 77 Second
Plate member 8, 8 'Conductive pattern 9, 19, 29, 39, 49, 59 Projection 15, 15' Partition 50, 51 Exhaust pipe (exhaust member) E, E1 Exhaust chamber F, F1 Glass fiber f1 Core part (Inner layer) f2 Cladding part (outer layer) R, R1 to R4 chamber R 'Main chamber S, S1 to S17 Support

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石 川 宣 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1 株式会 社東芝研究開発センター内 (72)発明者 中 本 正 幸 神奈川県横浜市磯子区新磯子町33 株式会 社東芝生産技術研究所内 (72)発明者 小 林 等 神奈川県横浜市磯子区新磯子町33 株式会 社東芝生産技術研究所内 (72)発明者 山 田 浩 神奈川県横浜市磯子区新磯子町33 株式会 社東芝生産技術研究所内 (72)発明者 福 田 由 美 神奈川県横浜市磯子区新磯子町33 株式会 社東芝生産技術研究所内 (72)発明者 安 本 恭 章 神奈川県川崎市幸区柳町70番地 株式会社 東芝柳町工場内 Fターム(参考) 5C032 AA01 BB16 BB18 CC10 CD06 5C036 EF01 EF06 EG02 EG05 EG50 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Nobuyoshi Ishikawa 1 Komukai Toshiba-cho, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Toshiba R & D Center (72) Inventor Masayuki Nakamoto Shin Isogo-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 33 Isogo-cho, Toshiba Production Technology Research Laboratories (72) Inventor, etc.Kobayashi et al. 33 Shin-Isoko-cho, Isogo-ku, Yokohama, Kanagawa Prefecture, Japan 33 Toshiba Production Technology Research Laboratories, Inc. 33, Shinisogo-cho, Shin-ku, Tokyo, Japan Toshiba Production Technology Laboratory (72) Inventor Yumi Fukuda 33, Shinisogo-cho, Isogo-ku, Yokohama, Kanagawa, Japan 70 Yanagicho, Kawasaki-shi, Kawasaki-shi F-term in Toshiba Yanagicho factory (reference) 5C032 AA01 BB16 BB18 CC10 CD06 5C036 EF01 EF06 EG02 EG05 EG50

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】片面に電界放出型のカソード基板が設けら
れた第1基板と、 前記第1基板のカソード基板側の面に対向して配置さ
れ、前記第1基板との対向面にアノード電極が設けられ
た第2基板と、 前記第1基板と前記第2基板との間を、所定間隔を置い
て気密に連結する密封枠と、 この密封枠内において、前記第1基板と前記第2基板と
の間に介設される支持体とを備え、 前記支持体は、1又は2以上の第1板状部材および第2
板状部材を有し、これらの第1板状部材および第2板状
部材は、前記第1基板および前記第2基板に対して略垂
直に且つ互いに略直交して配置されている事を特徴とす
るパネル型真空気密容器。
1. A first substrate having a field emission type cathode substrate provided on one surface thereof, and a first substrate disposed opposite to a surface of the first substrate facing the cathode substrate, and an anode electrode provided on a surface facing the first substrate. A sealing substrate for airtightly connecting the first substrate and the second substrate at a predetermined interval, and the first substrate and the second substrate in the sealing frame. A support interposed between the substrate and the substrate, wherein the support comprises one or more first plate-like members and a second
It has a plate-like member, and the first plate-like member and the second plate-like member are arranged substantially perpendicular to the first substrate and the second substrate and substantially perpendicular to each other. Panel type vacuum airtight container.
【請求項2】前記支持体は、前記密閉枠内において、前
記第1板状部材および第2板状部材によって通気可能に
囲まれた複数の室を区画形成している事を特徴とする請
求項1記載のパネル型真空気密容器。
2. The apparatus according to claim 1, wherein the support defines a plurality of chambers in the closed frame that are permeable by the first plate-shaped member and the second plate-shaped member. Item 7. A panel-type vacuum airtight container according to Item 1.
【請求項3】前記密閉枠内を、前記カソード基板に対応
する主室と、この主室の外側に設けられる排気室とに通
気可能に区画する隔壁と、 前記排気室から真空気密容器の外部へ排気するための排
気部材とを更に備えた事を特徴とする請求項2記載のパ
ネル型真空気密容器。
3. A partition which divides the inside of the closed frame into a main chamber corresponding to the cathode substrate and an exhaust chamber provided outside the main chamber so as to be able to ventilate. 3. The panel-type vacuum airtight container according to claim 2, further comprising an exhaust member for exhausting air to the panel.
【請求項4】前記支持体は、前記第1板状部材または前
記第2板状部材と前記第1基板または前記第2基板との
間に介在される複数の突起部を有する事を特徴とする請
求項1乃至3のいずれかに記載のパネル型真空気密容
器。
4. The support member has a plurality of protrusions interposed between the first plate member or the second plate member and the first substrate or the second substrate. The panel-type vacuum airtight container according to any one of claims 1 to 3.
【請求項5】前記支持体の第1板状部材または第2板状
部材は、前記第1基板および前記第2基板に対して略垂
直に配置された複数のガラス繊維を含む構造を有する事
を特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のパネル
型真空気密容器。
5. The first plate-like member or the second plate-like member of the support has a structure including a plurality of glass fibers arranged substantially perpendicular to the first substrate and the second substrate. The panel-type vacuum airtight container according to any one of claims 1 to 4, wherein:
JP10199510A 1998-06-30 1998-06-30 Panel type vacuum sealing container Pending JP2000021335A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10199510A JP2000021335A (en) 1998-06-30 1998-06-30 Panel type vacuum sealing container

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10199510A JP2000021335A (en) 1998-06-30 1998-06-30 Panel type vacuum sealing container

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000021335A true JP2000021335A (en) 2000-01-21

Family

ID=16409026

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10199510A Pending JP2000021335A (en) 1998-06-30 1998-06-30 Panel type vacuum sealing container

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000021335A (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001266778A (en) * 2000-02-15 2001-09-28 Samsung Sdi Co Ltd Spacer structured using cross configuration and flat display element adopting the same
US6611312B2 (en) 2001-01-24 2003-08-26 Hitachi, Ltd. Display device including outer frame with some neighboring wall members that are engaged with each other have oblique surfaces
JP2007523442A (en) * 2003-05-27 2007-08-16 トムソン プラズマ エス アー エス Plasma panel with cement partition walls
US7319286B2 (en) 2002-05-22 2008-01-15 Hitachi Displays, Ltd. Display device
JP2008130376A (en) * 2006-11-21 2008-06-05 Mt Picture Display Co Ltd Vacuum device
JP2008269870A (en) * 2007-04-18 2008-11-06 Toyota Motor Corp Field emission type light-emitting device
US8022000B2 (en) 2006-01-06 2011-09-20 Hitachi Displays Ltd. Display device and production method thereof

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001266778A (en) * 2000-02-15 2001-09-28 Samsung Sdi Co Ltd Spacer structured using cross configuration and flat display element adopting the same
US6611312B2 (en) 2001-01-24 2003-08-26 Hitachi, Ltd. Display device including outer frame with some neighboring wall members that are engaged with each other have oblique surfaces
US7319286B2 (en) 2002-05-22 2008-01-15 Hitachi Displays, Ltd. Display device
JP2007523442A (en) * 2003-05-27 2007-08-16 トムソン プラズマ エス アー エス Plasma panel with cement partition walls
US8022000B2 (en) 2006-01-06 2011-09-20 Hitachi Displays Ltd. Display device and production method thereof
JP2008130376A (en) * 2006-11-21 2008-06-05 Mt Picture Display Co Ltd Vacuum device
JP4538443B2 (en) * 2006-11-21 2010-09-08 パナソニック株式会社 Vacuum equipment
JP2008269870A (en) * 2007-04-18 2008-11-06 Toyota Motor Corp Field emission type light-emitting device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100455681B1 (en) Spacer assembly for flat panel display apparatus, method of manufacturing spacer assembly, method of manufacturing flat panel display apparatus, flat panel display apparatus, and mold used in manufacture of spacer assembly
JP3595336B2 (en) Flat panel device with spacer
JP4372828B2 (en) Flat panel display
JPH1069867A (en) Field emission display device and its manufacture
JPH08241666A (en) Field emission device and its preparation
US5705079A (en) Method for forming spacers in flat panel displays using photo-etching
US6280274B1 (en) Fiber spacers in large area vacuum displays and method for manufacture
KR20010031360A (en) Field emission devices
JP2000021335A (en) Panel type vacuum sealing container
JPH01115033A (en) Gas discharge display device
EP0042003B1 (en) Method for forming a fusible spacer for plasma display panel
US4428764A (en) Method of making fusible spacer for display panel
US6356013B1 (en) Wall assembly and method for attaching walls for flat panel display
WO1998032148A1 (en) Method of manufacturing image display
JP2000285833A (en) Display device
JP2566155B2 (en) Flat panel image display
JP2005235740A (en) Manufacturing method of airtight container, manufacturing method of picture display device, and manufacturing method of tv apparatus
KR100459878B1 (en) The method for manufacturing field emission display spacer
JP2000208031A (en) Sealed panel device and its manufacture
JPH08148101A (en) Container for display device
JP3226245B2 (en) Field emission type electron source array and display element
JP4203186B2 (en) Field emission display panel
JP2871496B2 (en) Manufacturing method of flat fluorescent lamp
JPH01283754A (en) Fluorescent character display panel
JP2006252786A (en) Manufacturing method for image forming device

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20021011