JP2000012990A - Work board - Google Patents

Work board

Info

Publication number
JP2000012990A
JP2000012990A JP10172613A JP17261398A JP2000012990A JP 2000012990 A JP2000012990 A JP 2000012990A JP 10172613 A JP10172613 A JP 10172613A JP 17261398 A JP17261398 A JP 17261398A JP 2000012990 A JP2000012990 A JP 2000012990A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal frame
work
frame layer
thickness
board
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10172613A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kiyotaka Tsukada
輝代隆 塚田
Masatome Takada
昌留 高田
Takema Adachi
武馬 足立
Hiroyuki Kobayashi
博之 小林
Kenji Chihara
健司 千原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ibiden Co Ltd filed Critical Ibiden Co Ltd
Priority to JP10172613A priority Critical patent/JP2000012990A/en
Publication of JP2000012990A publication Critical patent/JP2000012990A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a work board, which enables a board to be prevented from warping and electronic parts to be precisely, readily mounted on a product portion to be a printed wiring board. SOLUTION: A work board 1 has a wiring pattern 3 and a product portion 4 to be a printed wiring board by pelletizing. A metal frame layer 5 is formed outside the product portion 4 on the periphery of the work board 1, and a thickness F of the metal frame layer 5 is larger than a thickness P of the wiring pattern 3 which is provided at the product portion 4.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【技術分野】本発明は,プリント配線板を形成するため
のワーク基板に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a work board for forming a printed wiring board.

【0002】[0002]

【従来技術】従来,プリント配線板は,ワーク基板に対
して電子部品等を実装した後,これを個片化して製造さ
れる。電子部品を実装する前のワーク基板を次に示す。
上記ワーク基板9は,図8〜図11に示すごとく,配線
パターン3を有するとともに,個片化によりプリント配
線板となるべき製品部4を設けてある。この製品部4
は,上記ワーク基板9の内周部に例えば3ピース形成さ
れており,各製品部4は,ポリイミド等からなる絶縁基
板2と,この絶縁基板2の表面に設けた複数の配線パタ
ーン3とを有する。
2. Description of the Related Art Conventionally, a printed wiring board is manufactured by mounting electronic components and the like on a work board and then separating the electronic components and the like. The work board before mounting the electronic components is shown below.
As shown in FIGS. 8 to 11, the work substrate 9 has a wiring pattern 3 and a product section 4 to be formed into a printed wiring board by singulation. This product part 4
Is formed on the inner peripheral portion of the work substrate 9, for example, in three pieces. Each product part 4 includes an insulating substrate 2 made of polyimide or the like and a plurality of wiring patterns 3 provided on the surface of the insulating substrate 2. Have.

【0003】[0003]

【解決しようとする課題】しかしながら,上記従来のワ
ーク基板においては,次の問題がある。即ち,上記絶縁
基板2と上記配線パターン3との線膨張率の差によっ
て,上記絶縁基板2に熱応力等が働くと,上記ワーク基
板9に反り(図8,図9)が生じる場合がある。そのた
め,上記ワーク基板9の製品部4上に電子部品6(図4
参照)を実装するにあたって,アライメントの読み込み
が困難となり,電子部品を正確な位置に実装することが
困難となる場合がある。特に,プリント配線板の薄型化
に伴って,ワーク基板9の製品部4の板厚Tを200μ
m以下に薄くすると,反りが生じやすくなり,上記の問
題が起きやすい。
However, the conventional work board has the following problems. That is, if thermal stress or the like acts on the insulating substrate 2 due to a difference in the coefficient of linear expansion between the insulating substrate 2 and the wiring pattern 3, the work substrate 9 may be warped (FIGS. 8 and 9). . Therefore, the electronic components 6 (FIG.
), It becomes difficult to read the alignment, and it may be difficult to mount the electronic component at an accurate position. In particular, as the thickness of the printed wiring board is reduced, the thickness T of the product portion 4 of the work substrate 9 is set to 200 μm.
If the thickness is less than m, warpage is likely to occur, and the above problem is likely to occur.

【0004】これを解決するために,上記製品部4より
も外側において,上記ワーク基板9の外周部の四隅に貫
通穴95(図8,図9)を設け,これらに反り防止治具
(図示略)を挿通,押圧して反りを解消することが考え
られる。しかし,この場合には,上記反り防止治具が必
要となる。また,この反り防止治具を上記貫通穴95に
挿通する分だけ,電子部品の実装に手間がかかる。
In order to solve this problem, through holes 95 (FIGS. 8 and 9) are provided at four corners of the outer peripheral portion of the work substrate 9 outside the product portion 4, and a jig for preventing warpage (see FIGS. (Abbreviation) may be inserted and pressed to eliminate the warpage. However, in this case, the warpage prevention jig is required. In addition, it takes time to mount the electronic components by inserting the warp prevention jig into the through hole 95.

【0005】また,上記ワーク基板9の製品部4の板厚
Tを200μm以下の例えば75μmに薄くすると,例
えば,長さ25mmの上記ワーク基板9を片持ち状態に
した場合には,図10に示すごとく,その自重によって
垂下量Hが略12mmと大きくなる。そのため,上記ワ
ーク基板9の搬送をローラ81,82によって行う場合
には,上記ワーク基板9が手前のローラ81から次のロ
ーラ82に届かず,上記ワーク基板9の搬送不良を起こ
す場合がある。
If the thickness T of the product portion 4 of the work substrate 9 is reduced to, for example, 75 μm, which is 200 μm or less, for example, when the work substrate 9 having a length of 25 mm is in a cantilever state, FIG. As shown, the amount of droop H increases to about 12 mm due to its own weight. Therefore, when the transfer of the work substrate 9 is performed by the rollers 81 and 82, the work substrate 9 may not reach the next roller 82 from the preceding roller 81, and a transfer failure of the work substrate 9 may occur.

【0006】これを解決するために,図11に示すごと
く,上記製品部4よりも外側において,上記ワーク基板
9の外周部の表面に,全周囲を囲むように金属製のバッ
クアップ71を貼り付けたり,上記ワーク基板9の外周
縁部に,基板流れ方向に沿ってクリップ状のバックアッ
プ72を装着することが考えられる。しかし,この場合
には,上記バックアップ71,72が上記ワーク基板9
とは別個に必要となる。また,これらの取付けに手間が
かかる。
In order to solve this, as shown in FIG. 11, a metal backup 71 is attached to the outer peripheral surface of the work board 9 outside the product section 4 so as to surround the entire periphery. Alternatively, a clip-shaped backup 72 may be attached to the outer peripheral edge of the work substrate 9 along the substrate flow direction. However, in this case, the backups 71 and 72 are
Is required separately from In addition, it takes time to mount these components.

【0007】本発明は,かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので,基板の反りを防止すると共に,プリント
配線板となるべき製品部に対して電子部品を正確かつ容
易に実装することができるワーク基板を提供しようとす
るものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and it is an object of the present invention to prevent a board from warping and to mount an electronic component accurately and easily on a product portion to be a printed wiring board. It is intended to provide a work substrate that can be used.

【0008】[0008]

【課題の解決手段】請求項1に記載の発明は,プリント
配線板となるべき製品部を設けたワーク基板において,
上記ワーク基板の外周部には,上記製品部よりも外側に
おいて,金属フレーム層が形成されており,かつ上記金
属フレーム層の厚みは,上記製品部に設けた配線パター
ンの厚みよりも大きいことを特徴とするワーク基板にあ
る。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a work board provided with a product portion to be a printed wiring board.
A metal frame layer is formed on an outer peripheral portion of the work substrate outside the product portion, and a thickness of the metal frame layer is larger than a thickness of a wiring pattern provided on the product portion. The feature is the work board.

【0009】本発明において最も注目すべきことは,上
記ワーク基板の外周部には上記金属フレーム層が形成さ
れており,この金属フレーム層の厚みが上記配線パター
ンの厚みよりも大きいことである。
What is most notable in the present invention is that the metal frame layer is formed on the outer periphery of the work substrate, and the thickness of the metal frame layer is larger than the thickness of the wiring pattern.

【0010】次に,本発明の作用につき説明する。本発
明のワーク基板においては,上記ワーク基板の外周部に
は,上記製品部よりも外側において,上記配線パターン
よりも厚い金属フレーム層を形成してある。そのため,
上記金属フレーム層によって剛性を確保できるので,線
膨張率の差によって上記ワーク基板に熱応力等が働いて
も,上記ワーク基板に反りが生じることを防止すること
ができる。それ故,上記ワーク基板の製品部上に電子部
品を実装するにあたって,アライメントの読み込みが容
易となり,電子部品を正確な位置に容易に実装すること
ができる。また,従来例に示した反り防止治具が不要と
なり,電子部品の実装を効率的に行うことができる。
Next, the operation of the present invention will be described. In the work board of the present invention, a metal frame layer thicker than the wiring pattern is formed on the outer periphery of the work board, outside the product section. for that reason,
Since the rigidity can be ensured by the metal frame layer, even if a thermal stress or the like acts on the work board due to a difference in linear expansion coefficient, it is possible to prevent the work board from being warped. Therefore, when mounting the electronic component on the product part of the work board, it is easy to read the alignment, and the electronic component can be easily mounted at an accurate position. Further, the warpage prevention jig shown in the conventional example is not required, and the electronic components can be efficiently mounted.

【0011】また,上記金属フレーム層によって剛性を
確保できるので,上記ワーク基板の自重による垂下量を
低減することができる。そのため,上記ワーク基板の搬
送をローラによって行う場合において,上記ワーク基板
は手前のローラから次のローラまで確実に届くことがで
き,上記ワーク基板の搬送不良を防止することができ
る。
Further, since the rigidity can be secured by the metal frame layer, the amount of droop of the work substrate due to its own weight can be reduced. Therefore, when the work substrate is transported by a roller, the work substrate can reliably reach the next roller from the preceding roller, and the transport failure of the work substrate can be prevented.

【0012】また,上記配線パターンを除くワーク基板
の厚みは,30〜100μmであることが好ましい。こ
の場合には,上記金属フレーム層を設けることによる反
り防止効果を,最も効果的に発揮することができる。
Preferably, the thickness of the work board excluding the wiring pattern is 30 to 100 μm. In this case, the effect of preventing warpage by providing the metal frame layer can be exhibited most effectively.

【0013】次に,請求項2に記載の発明のように,上
記金属フレーム層の厚みが25〜100μmであること
が好ましい。この場合には,上記金属フレーム層の剛性
を充分に確保することができる。また,上記金属フレー
ム層の厚みが25μm未満の場合には,上記金属フレー
ム層の剛性が不充分となるおそれがある。一方,上記金
属フレーム層の厚みが100μmを越える場合には,材
料自体のコストアップ,金属フレーム層形成時のコスト
アップ等の問題が生じるおそれがある。
Next, it is preferable that the metal frame layer has a thickness of 25 to 100 μm. In this case, the rigidity of the metal frame layer can be sufficiently ensured. If the thickness of the metal frame layer is less than 25 μm, the rigidity of the metal frame layer may be insufficient. On the other hand, if the thickness of the metal frame layer exceeds 100 μm, problems such as an increase in the cost of the material itself and an increase in the cost when forming the metal frame layer may occur.

【0014】次に,請求項3に記載の発明のように,上
記金属フレーム層の厚みと上記配線パターンの厚みとの
差が15〜90μmであることが好ましい。この場合に
は,上記金属フレーム層の剛性を充分に確保することが
できる。また,上記金属フレーム層の厚みと上記配線パ
ターンの厚みとの差が15μm未満の場合には,上記金
属フレーム層の剛性が不充分となるおそれがある。一
方,上記金属フレーム層の厚みと上記配線パターンの厚
みとの差が90μmを越える場合には,金属フレーム層
形成時のコストアップ等の問題が生じるおそれがある。
Next, the difference between the thickness of the metal frame layer and the thickness of the wiring pattern is preferably 15 to 90 μm. In this case, the rigidity of the metal frame layer can be sufficiently ensured. If the difference between the thickness of the metal frame layer and the thickness of the wiring pattern is less than 15 μm, the rigidity of the metal frame layer may be insufficient. On the other hand, if the difference between the thickness of the metal frame layer and the thickness of the wiring pattern exceeds 90 μm, a problem such as an increase in cost when forming the metal frame layer may occur.

【0015】例えば,請求項4に記載の発明のように,
上記金属フレーム層は,ワーク基板の片面側に形成され
ていることがあり,また,請求項5に記載の発明のよう
に,上記金属フレーム層は,ワーク基板の両面側に形成
されていることもある。
For example, as in the invention described in claim 4,
The metal frame layer may be formed on one side of the work board, and the metal frame layer may be formed on both sides of the work board. There is also.

【0016】次に,請求項6に記載の発明のように,上
記金属フレーム層は,ワーク基板の外周部の全周囲を囲
むよう形成されていることが好ましい。また,請求項7
に記載の発明のように,上記金属フレーム層は,ワーク
基板の実装時の基板流れ方向に沿って帯状に設けられて
いることが好ましい。これらの場合には,上記ワーク基
板の搬送をローラによって行う場合において,上記ワー
ク基板を手前のローラから次のローラまで,より一層確
実に届けることができ,上記ワーク基板の搬送不良を確
実に防止することができる。
Next, it is preferable that the metal frame layer is formed so as to surround the entire periphery of the outer peripheral portion of the work substrate. Claim 7
As described above, the metal frame layer is preferably provided in a strip shape along the board flow direction when the work board is mounted. In these cases, when the work substrate is transported by a roller, the work substrate can be more reliably delivered from the preceding roller to the next roller, and the transport failure of the work substrate is reliably prevented. can do.

【0017】次に,請求項8に記載の発明のように,上
記金属フレーム層は,金属箔と金属メッキ膜とからなる
ことが好ましい。この場合には,上記配線パターンとと
もにこれと略等しい厚みの上記金属箔を形成した後,こ
の金属箔の表面にメッキ処理を施して上記金属メッキ膜
を形成することによって,上記金属フレーム層を形成す
ることができる。そのため,上記金属メッキ膜の分だ
け,確実に上記金属フレーム層の厚みを上記配線パター
ンの厚みよりも大きくすることができる。
Next, it is preferable that the metal frame layer comprises a metal foil and a metal plating film. In this case, after forming the metal foil having substantially the same thickness as the wiring pattern together with the wiring pattern, the surface of the metal foil is plated to form the metal plating film, thereby forming the metal frame layer. can do. Therefore, the thickness of the metal frame layer can be surely made larger than the thickness of the wiring pattern by the amount of the metal plating film.

【0018】また,上記金属メッキ膜は,例えばCu,
Ni,Au,Agのうち,少なくとも1種類以上からな
ることが好ましい。また,上記金属フレーム層は,エッ
チング及びメッキ処理によって上記ワーク基板に容易に
一体形成することができる(実施形態例1参照)。その
ため,従来例に示したバックアップの取付けが不要とな
り,電子部品の実装を効率的に行うことができる。
The metal plating film is made of, for example, Cu,
It is preferable that at least one of Ni, Au, and Ag is used. Further, the metal frame layer can be easily formed integrally with the work substrate by etching and plating (see Embodiment 1). For this reason, it is not necessary to mount a backup as shown in the conventional example, and electronic components can be mounted efficiently.

【0019】また,上記金属フレーム層は,金属箔だけ
で形成することもできる。この場合には,金属箔の厚み
が片面側と他面側とで異なるワーク基板を用意して,こ
のワーク基板に例えばエッチング処理等を施すことによ
って,薄い方の金属箔から上記配線パターンを形成し,
厚い方の金属箔から上記金属フレーム層を形成すること
ができる。そのため,上記ワーク基板における片面側の
金属箔の厚みと他面側の金属箔の厚みとの差分だけ,確
実に上記金属フレーム層の厚みを上記配線パターンの厚
みよりも大きくすることができる。
Further, the metal frame layer can be formed only of a metal foil. In this case, a work board is prepared in which the thickness of the metal foil is different on one side and the other side, and the wiring pattern is formed from the thinner metal foil by subjecting the work board to, for example, etching. And
The metal frame layer can be formed from a thicker metal foil. Therefore, the thickness of the metal frame layer can be reliably made larger than the thickness of the wiring pattern by the difference between the thickness of the metal foil on one side and the thickness of the metal foil on the other side of the work substrate.

【0020】また,上記金属フレーム層は,例えばエッ
チング処理等によって上記ワーク基板に容易に一体形成
することができる(実施形態例4参照)。そのため,従
来例に示したバックアップの取付けが不要となり,電子
部品の実装を効率的に行うことができる。
Further, the metal frame layer can be easily formed integrally with the work substrate by, for example, etching or the like (see Embodiment 4). For this reason, it is not necessary to mount a backup as shown in the conventional example, and electronic components can be mounted efficiently.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】実施形態例1 本発明の実施形態例にかかるワーク基板について,図1
〜図4を用いて説明する。本例のワーク基板1は,図1
〜図4に示すごとく,配線パターン3を有するとともに
個片化によりプリント配線板となるべき製品部4を設け
てある。上記ワーク基板1の外周部には,上記製品部4
よりも外側において,金属フレーム層5が形成されてお
り,この金属フレーム層5の厚みFは,上記製品部4に
設けた配線パターン3の厚みPよりも大きい。また,上
記金属フレーム層5は,ワーク基板1の片面側におい
て,その外周部の全周囲を囲むよう形成されている。ま
た,上記金属フレーム層5は,金属箔としての銅箔53
と金属メッキ膜55とからなる。また,上記製品部4
は,上記ワーク基板1の内周部に例えば3ピース形成さ
れており,各製品部4は,絶縁基板2と,この絶縁基板
2の表面に設けた複数の配線パターン3とを有する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment 1 FIG. 1 shows a work board according to an embodiment of the present invention.
This will be described with reference to FIG. The work substrate 1 of this example is shown in FIG.
As shown in FIG. 4, a product part 4 having a wiring pattern 3 and being formed into a printed wiring board by singulation is provided. On the outer peripheral portion of the work substrate 1, the product portion 4
The metal frame layer 5 is formed on the outer side, and the thickness F of the metal frame layer 5 is larger than the thickness P of the wiring pattern 3 provided on the product part 4. The metal frame layer 5 is formed on one side of the work substrate 1 so as to surround the entire periphery of the outer peripheral portion. The metal frame layer 5 is made of a copper foil 53 as a metal foil.
And a metal plating film 55. In addition, the above product section 4
Are formed, for example, in three pieces on the inner peripheral portion of the work substrate 1, and each product part 4 has an insulating substrate 2 and a plurality of wiring patterns 3 provided on the surface of the insulating substrate 2.

【0022】次に,上記ワーク基板1の製造方法に従っ
て説明する。まず,ガラスポリイミド,ガラスエポキ
シ,ガラスビスマレイミドトリアジン等からなる絶縁基
板の片面側に銅箔を張り付けた銅張積層板に対して,エ
ッチング等を施すことによって,上記絶縁基板2上の内
周部に,配線パターン3を複数個形成する。また,これ
と共に,上記絶縁基板2上の外周部に,全周囲を囲むよ
うに上記金属箔としての銅箔53を形成する。次いで,
上記銅箔53の表面にメッキ処理を施して,Cu,N
i,Au,Ag等からなる金属メッキ膜55を形成す
る。これにより,上記金属フレーム層5を設けたワーク
基板1を形成する。
Next, a description will be given according to the method of manufacturing the work substrate 1. First, an inner peripheral portion on the insulating substrate 2 is etched by performing etching or the like on a copper-clad laminate having a copper foil adhered to one side of an insulating substrate made of glass polyimide, glass epoxy, glass bismaleimide triazine, or the like. Next, a plurality of wiring patterns 3 are formed. At the same time, a copper foil 53 as the metal foil is formed on the outer peripheral portion of the insulating substrate 2 so as to surround the entire periphery. Then,
A plating process is performed on the surface of the copper foil 53 so that Cu, N
A metal plating film 55 made of i, Au, Ag or the like is formed. Thus, the work substrate 1 provided with the metal frame layer 5 is formed.

【0023】上記金属フレーム層5の厚みFは53μm
である。また,これを形成する銅箔53の厚みMは18
μmであり,金属メッキ膜55の厚みGは35μmであ
る。また,上記配線パターン3の厚みPは上記銅箔53
の厚みMと略等しい。即ち,上記金属フレーム層5の厚
みFは,上記金属メッキ膜55の厚みGである35μm
だけ,上記配線パターン3の厚みPよりも大きい。ま
た,上記金属フレーム層5の幅Lは5mmである。ま
た,上記製品部4の厚みTは75μmであり,薄型であ
る。また,上記配線パターン3を除くワーク基板1の厚
みは57μmである。
The thickness F of the metal frame layer 5 is 53 μm.
It is. The thickness M of the copper foil 53 forming this is 18
μm, and the thickness G of the metal plating film 55 is 35 μm. Also, the thickness P of the wiring pattern 3 is
Is substantially equal to the thickness M. That is, the thickness F of the metal frame layer 5 is 35 μm, which is the thickness G of the metal plating film 55.
Only, it is larger than the thickness P of the wiring pattern 3. The width L of the metal frame layer 5 is 5 mm. The thickness T of the product part 4 is 75 μm, and it is thin. The thickness of the work substrate 1 excluding the wiring pattern 3 is 57 μm.

【0024】そして,上記ワーク基板1を電子部品搭載
装置(図示略)のところまで搬送して,上記ワーク基板
1の各製品部4に対して,それぞれ電子部品6を実装す
る。電子部品6を実装したワーク基板1を図4に示す。
図4中の符号46は,電子部品搭載部である。そして,
上記ワーク基板1の各製品部4を個片化してプリント配
線板を製造する。
Then, the work board 1 is transported to an electronic component mounting device (not shown), and the electronic components 6 are mounted on the respective product parts 4 of the work board 1. FIG. 4 shows the work board 1 on which the electronic components 6 are mounted.
Reference numeral 46 in FIG. 4 denotes an electronic component mounting unit. And
Each product part 4 of the work board 1 is singulated to manufacture a printed wiring board.

【0025】次に,本例の作用につき説明する。本例の
ワーク基板1においては,上記ワーク基板1の外周部に
は,上記製品部4よりも外側において,上記配線パター
ン3よりも厚い金属フレーム層5を形成してある。その
ため,上記金属フレーム層5によって剛性を確保できる
ので,上記絶縁基板2と上記配線パターン3との線膨張
率の差によって,上記絶縁基板2に熱応力等が働いて
も,上記ワーク基板1に反りが生じることを防止するこ
とができる。
Next, the operation of this embodiment will be described. In the work board 1 of this example, a metal frame layer 5 thicker than the wiring pattern 3 is formed on the outer periphery of the work board 1 outside the product section 4. Therefore, the rigidity can be ensured by the metal frame layer 5. Therefore, even if a thermal stress or the like acts on the insulating substrate 2 due to a difference in a linear expansion coefficient between the insulating substrate 2 and the wiring pattern 3, the work substrate 1 is not affected. Warpage can be prevented from occurring.

【0026】それ故,上記ワーク基板1の製品部4上に
電子部品を実装するにあたって,アライメントの読み込
みが容易となり,電子部品を正確な位置に容易に実装す
ることができる。また,従来例に示した反り防止治具
(図示略)が不要となり,電子部品の実装を効率的に行
うことができる。
Therefore, when mounting the electronic components on the product section 4 of the work board 1, it is easy to read the alignment, and the electronic components can be easily mounted at accurate positions. Also, the warpage prevention jig (not shown) shown in the conventional example is not required, and the mounting of the electronic component can be performed efficiently.

【0027】また,上記金属フレーム層5によって剛性
を確保できるので,例えば,長さ25mmの上記ワーク
基板1を片持ち状態にしても,図3に示すごとく,上記
ワーク基板1の自重による垂下量Hを略3mmにまで低
減することができる。そのため,上記ワーク基板1の搬
送をローラ81,82によって行う場合において,上記
ワーク基板1は手前のローラ81から次のローラ82ま
で確実に届くことができ,上記ワーク基板1の搬送不良
を防止することができる。
Further, since the rigidity can be ensured by the metal frame layer 5, even if the work board 1 having a length of 25 mm is in a cantilever state, for example, as shown in FIG. H can be reduced to about 3 mm. Therefore, when the transfer of the work substrate 1 is performed by the rollers 81 and 82, the work substrate 1 can reliably reach from the preceding roller 81 to the next roller 82, and the transfer failure of the work substrate 1 is prevented. be able to.

【0028】また,上記製品部4の厚みTは75μmと
薄型であり,上記配線パターン3を除くワーク基板1の
厚みは57μmである。そのため,上記金属フレーム層
5を設けることによる反り防止効果を,最も効果的に発
揮することができる。
The thickness T of the product part 4 is as thin as 75 μm, and the thickness of the work substrate 1 excluding the wiring pattern 3 is 57 μm. Therefore, the effect of preventing warpage by providing the metal frame layer 5 can be most effectively exerted.

【0029】また,上記金属フレーム層5の厚みFは5
3μmであり,上記金属フレーム層5の厚みFと上記配
線パターン3の厚みPとの差は35μmである。これに
より,上記金属フレーム層5の剛性を充分に確保するこ
とができる。
The thickness F of the metal frame layer 5 is 5
The difference between the thickness F of the metal frame layer 5 and the thickness P of the wiring pattern 3 is 35 μm. Thereby, the rigidity of the metal frame layer 5 can be sufficiently ensured.

【0030】また,上記金属フレーム層5は,ワーク基
板1の外周部の全周囲を囲むよう形成されている(図
2)。これにより,上記ワーク基板1の搬送を,上記の
ごとく,ローラによって行う場合において,図3に示す
ごとく,上記ワーク基板1を基板流れ方向Dに沿って,
手前のローラ81から次のローラ82まで,より一層確
実に届けることができ,上記ワーク基板1の搬送不良を
確実に防止することができる。
The metal frame layer 5 is formed so as to surround the entire periphery of the outer periphery of the work substrate 1 (FIG. 2). Thus, when the work substrate 1 is transported by the rollers as described above, the work substrate 1 is moved along the substrate flow direction D as shown in FIG.
The work can be more reliably delivered from the front roller 81 to the next roller 82, and the transfer failure of the work substrate 1 can be reliably prevented.

【0031】また,上記金属フレーム層5は,上記のご
とく,上記配線パターン3と同じ厚みの銅箔53を形成
した後,この銅箔53の表面に金属メッキ膜55を形成
することによって,金属箔としての銅箔53と金属メッ
キ膜55とから形成されている。そのため,上記金属メ
ッキ膜55の厚みGの分だけ,確実に上記金属フレーム
層5の厚みFを上記配線パターン3の厚みPよりも大き
くすることができる。
As described above, the metal frame layer 5 is formed by forming a copper foil 53 having the same thickness as the wiring pattern 3 and then forming a metal plating film 55 on the surface of the copper foil 53. It is formed from a copper foil 53 as a foil and a metal plating film 55. Therefore, the thickness F of the metal frame layer 5 can be surely made larger than the thickness P of the wiring pattern 3 by the thickness G of the metal plating film 55.

【0032】また,上記金属フレーム層5は,上記のご
とく,エッチング及びメッキ処理によって上記ワーク基
板1に容易に一体形成することができる。そのため,従
来例に示したバックアップ71,72の取付けが不要と
なり,電子部品の実装を効率的に行うことができる。
As described above, the metal frame layer 5 can be easily formed integrally with the work substrate 1 by etching and plating. Therefore, it is not necessary to attach the backups 71 and 72 shown in the conventional example, and it is possible to efficiently mount electronic components.

【0033】実施形態例2 本例のワーク基板12は,図5に示すごとく,上記金属
フレーム層5をワーク基板12の両面側に形成したもの
である。また,ワーク基板12の片面側において,上記
金属フレーム層5の厚みFsは上記配線パターン3の厚
みPsよりも大きい。また,他面側においても,上記金
属フレーム層5の厚みFbは上記配線パターン3の厚み
Pbよりも大きい。また,上記製品部4の厚みTは18
0μmであり,薄型である。その他は,実施形態例1と
同様である。本例においても,実施形態例1と同様の作
用効果を有する。なお,上記金属フレーム層5をワーク
基板12の両面側に形成する場合は,上記ワーク基板1
2の外周部の厚みWは250μm以下が好ましい。
Embodiment 2 As shown in FIG. 5, the work board 12 of this embodiment has the metal frame layer 5 formed on both sides of the work board 12. On one side of the work substrate 12, the thickness Fs of the metal frame layer 5 is larger than the thickness Ps of the wiring pattern 3. Also on the other surface side, the thickness Fb of the metal frame layer 5 is larger than the thickness Pb of the wiring pattern 3. The thickness T of the product part 4 is 18
0 μm and thin. Other configurations are the same as those of the first embodiment. This embodiment also has the same operation and effect as the first embodiment. When the metal frame layer 5 is formed on both sides of the work board 12, the work board 1
Preferably, the thickness W of the outer peripheral portion of No. 2 is 250 μm or less.

【0034】実施形態例3 本例のワーク基板13は,図6に示すごとく,上記金属
フレーム層5をワーク基板12の実装時の基板流れ方向
D(図3参照)に沿って帯状に設けたものである。その
他は,実施形態例1と同様である。本例においても,実
施形態例1と同様の作用効果を有する。
Embodiment 3 In the work board 13 of this embodiment, as shown in FIG. 6, the metal frame layer 5 is provided in a strip shape along the board flow direction D when the work board 12 is mounted (see FIG. 3). Things. Other configurations are the same as those of the first embodiment. This embodiment also has the same operation and effect as the first embodiment.

【0035】実施形態例4 本例のワーク基板14は,図7に示すごとく,上記金属
フレーム層54を金属箔としての銅箔534のみから形
成したものである。上記ワーク基板14においては,片
面側に上記配線パターン3を形成してあり,他面側に上
記金属フレーム54を形成してある。その他は,実施形
態例1と同様である。
Embodiment 4 As shown in FIG. 7, the work board 14 of this embodiment is such that the metal frame layer 54 is formed only of a copper foil 534 as a metal foil. In the work substrate 14, the wiring pattern 3 is formed on one side, and the metal frame 54 is formed on the other side. Other configurations are the same as those of the first embodiment.

【0036】以下に,上記ワーク基板14の製造方法を
示す。まず,絶縁基板の両面側に銅箔を張り付けた銅張
積層板に対して,片面側だけにハーフエッチングを施す
ことによって,銅箔の厚みが片面側と他面側とで異なる
ワーク基板を用意する。即ち,上記ワーク基板14にお
ける片面側の銅箔533の厚みCsを,他面側の銅箔5
34の厚みCbよりも薄くする。
Hereinafter, a method of manufacturing the work substrate 14 will be described. First, a copper-clad laminate with copper foil stuck on both sides of an insulating substrate is subjected to half-etching only on one side to prepare a work board with a different thickness of copper foil on one side and the other side. I do. That is, the thickness Cs of the copper foil 533 on one side of the work board 14 is set to the value of the copper foil 5 on the other side.
34, which is thinner than the thickness Cb.

【0037】次いで,銅箔の薄い上記ワーク基板14の
片面側にエッチング等を施すことによって,上記絶縁基
板2上の内周部に,配線パターン3を複数個形成する。
次いで,上記ワーク基板14を裏返して,銅箔の厚い上
記ワーク基板14の他面側にエッチング等を施すことに
よって,上記絶縁基板2上の外周部に,全周囲を囲むよ
うに上記銅箔534のみからなる金属フレーム層54を
形成する。これにより,上記金属フレーム層54を設け
たワーク基板14を形成する。上記金属フレーム層54
の厚み(Cb)は75μmである。また,上記配線パタ
ーン3の厚み(Cs)は25μmである。また,上記製
品部4の厚みTは130μmであり,薄型である。
Next, a plurality of wiring patterns 3 are formed on the inner peripheral portion of the insulating substrate 2 by etching or the like on one side of the work substrate 14 having a thin copper foil.
Next, the work board 14 is turned over and the other side of the work board 14 having a thick copper foil is subjected to etching or the like, so that the outer periphery of the insulating board 2 is surrounded by the copper foil 534 so as to surround the entire circumference. A metal frame layer 54 consisting of only the metal frame is formed. Thus, the work board 14 provided with the metal frame layer 54 is formed. The metal frame layer 54
Has a thickness (Cb) of 75 μm. The thickness (Cs) of the wiring pattern 3 is 25 μm. The thickness T of the product part 4 is 130 μm, which is thin.

【0038】本例のワーク基板14においては,上記の
ごとく,薄い方の銅箔533から上記配線パターン3を
形成し,厚い方の銅箔534から上記金属フレーム層5
4を形成することができる。そのため,上記ワーク基板
14における片面側の金属箔533の厚みCsと他面側
の金属箔534の厚みCbとの差分だけ,確実に上記金
属フレーム層54の厚み(Cb)を上記配線パターン3
の厚み(Cs)よりも大きくすることができる。
In the work board 14 of this embodiment, as described above, the wiring pattern 3 is formed from the thinner copper foil 533, and the metal frame layer 5 is formed from the thicker copper foil 534.
4 can be formed. Therefore, the thickness (Cb) of the metal frame layer 54 can be reliably changed by the difference between the thickness Cs of the metal foil 533 on one side of the work substrate 14 and the thickness Cb of the metal foil 534 on the other side.
Thickness (Cs).

【0039】また,上記金属フレーム層54は,上記の
ごとく,エッチング処理等によって上記ワーク基板14
に容易に一体形成することができる。そのため,従来例
に示したバックアップ71,72の取付けが不要とな
り,電子部品の実装を効率的に行うことができる。その
他,本例においても,実施形態例1と同様の作用効果を
有する。
As described above, the metal frame layer 54 is formed on the work substrate 14 by etching or the like.
Can be easily formed integrally. Therefore, it is not necessary to attach the backups 71 and 72 shown in the conventional example, and it is possible to efficiently mount electronic components. In addition, this embodiment also has the same operation and effect as the first embodiment.

【0040】なお,上記ワーク基板14の片面側にエッ
チング等を施す際に,上記絶縁基板2上の外周部に,全
周囲を囲むように上記銅箔535を残しておき,この表
面にメッキ処理を施して金属メッキ膜555を形成する
こともできる。
When etching or the like is performed on one side of the work substrate 14, the copper foil 535 is left around the entire periphery of the insulating substrate 2 so as to surround the entire periphery, and the surface is plated. To form the metal plating film 555.

【0041】[0041]

【発明の効果】上述のごとく,本発明によれば,基板の
反りを防止すると共に,プリント配線板となるべき製品
部に対して電子部品を正確かつ容易に実装することがで
きるワーク基板を提供することができる。
As described above, according to the present invention, there is provided a work board capable of preventing warpage of a board and mounting electronic components accurately and easily on a product portion to be a printed wiring board. can do.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施形態例1における,ワーク基板の断面図。FIG. 1 is a sectional view of a work substrate according to a first embodiment.

【図2】実施形態例1における,ワーク基板の模式図。FIG. 2 is a schematic view of a work board according to the first embodiment.

【図3】実施形態例1における,搬送時のワーク基板の
説明図。
FIG. 3 is an explanatory view of a work substrate during transfer according to the first embodiment.

【図4】実施形態例1における,ワーク基板の斜視図。FIG. 4 is a perspective view of a work board according to the first embodiment.

【図5】実施形態例2における,金属フレーム層を両面
側に形成したワーク基板の断面図。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a work substrate according to a second embodiment in which metal frame layers are formed on both sides.

【図6】実施形態例3における,金属フレーム層を帯状
に設けたワーク基板の模式図。
FIG. 6 is a schematic view of a work substrate according to a third embodiment in which a metal frame layer is provided in a strip shape.

【図7】実施形態例4における,銅箔のみから形成され
たワーク基板の断面図。
FIG. 7 is a cross-sectional view of a work board formed of only a copper foil in a fourth embodiment.

【図8】従来例における,ワーク基板の模式図。FIG. 8 is a schematic view of a work substrate in a conventional example.

【図9】従来例における,ワーク基板の断面図。FIG. 9 is a sectional view of a work substrate in a conventional example.

【図10】従来例における,搬送時のワーク基板の説明
図。
FIG. 10 is an explanatory view of a work substrate during transfer in a conventional example.

【図11】従来例における,バックアップの説明図。FIG. 11 is an explanatory diagram of a backup in a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1...ワーク基板, 2...絶縁基板, 3...配線パターン, 4...製品部, 5...金属フレーム層, 53...銅箔(金属箔), 55...金属メッキ膜, 1. . . Work board, 2. . . 2. insulating substrate; . . Wiring pattern, 4. . . Product Department, 5. . . Metal frame layer, 53. . . 55. copper foil (metal foil); . . Metal plating film,

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 足立 武馬 岐阜県大垣市河間町3丁目200番地 イビ デン株式会社河間工場内 (72)発明者 小林 博之 岐阜県大垣市河間町3丁目200番地 イビ デン株式会社河間工場内 (72)発明者 千原 健司 岐阜県大垣市河間町3丁目200番地 イビ デン株式会社河間工場内 Fターム(参考) 5E338 AA01 AA02 AA16 BB31 BB61 BB72 BB75 CC01 CD11 EE24 EE26 EE32  ──────────────────────────────────────────────────の Continuing from the front page (72) Inventor Takema Adachi 3-200, Kawamacho, Ogaki-shi, Gifu Ibi Inside the Kawama Plant (72) Inventor Hiroyuki Kobayashi 3-200, Kawamacho, Ogaki-shi, Gifu Ibi Inside the Kawama Plant of Den Co., Ltd. (72) Inventor Kenji Chihara 3-200, Kawamacho, Ogaki City, Gifu Prefecture IBIden Co., Ltd. Kawama Plant F-term (reference) 5E338 AA01 AA02 AA16 BB31 BB61 BB72 BB75 CC01 CD11 EE24 EE26 EE32

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プリント配線板となるべき製品部を設け
たワーク基板において,上記ワーク基板の外周部には,
上記製品部よりも外側において,金属フレーム層が形成
されており,かつ上記金属フレーム層の厚みは,上記製
品部に設けた配線パターンの厚みよりも大きいことを特
徴とするワーク基板。
In a work board provided with a product part to be a printed wiring board, an outer peripheral portion of the work board is provided on a work board.
A work board, wherein a metal frame layer is formed outside the product part, and the thickness of the metal frame layer is larger than the thickness of a wiring pattern provided on the product part.
【請求項2】 請求項1において,上記金属フレーム層
の厚みが25〜100μmであることを特徴とするワー
ク基板。
2. The work substrate according to claim 1, wherein said metal frame layer has a thickness of 25 to 100 μm.
【請求項3】 請求項1又は2において,上記金属フレ
ーム層の厚みと上記配線パターンの厚みとの差が15〜
90μmであることを特徴とするワーク基板。
3. The method according to claim 1, wherein the difference between the thickness of the metal frame layer and the thickness of the wiring pattern is 15 to 15.
A work substrate having a thickness of 90 μm.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれか一項において,
上記金属フレーム層は,ワーク基板の片面側に形成され
ていることを特徴とするワーク基板。
4. The method according to claim 1, wherein:
A work board, wherein the metal frame layer is formed on one side of the work board.
【請求項5】 請求項1〜3のいずれか一項において,
上記金属フレーム層は,ワーク基板の両面側に形成され
ていることを特徴とするワーク基板。
5. The method according to claim 1, wherein:
A work board, wherein the metal frame layer is formed on both sides of the work board.
【請求項6】 請求項1〜5のいずれか一項において,
上記金属フレーム層は,ワーク基板の外周部の全周囲を
囲むよう形成されていることを特徴とするワーク基板。
6. The method according to claim 1, wherein:
The work board, wherein the metal frame layer is formed so as to surround the entire periphery of the outer periphery of the work board.
【請求項7】 請求項1〜5のいずれか一項において,
上記金属フレーム層は,ワーク基板の実装時の基板流れ
方向に沿って帯状に設けられていることを特徴とするワ
ーク基板。
7. The method according to claim 1, wherein:
A work board, wherein the metal frame layer is provided in a strip shape along the board flow direction when the work board is mounted.
【請求項8】 請求項1〜7のいずれか一項において,
上記金属フレーム層は,金属箔と金属メッキ膜とからな
ることを特徴とするワーク基板。
8. The method according to claim 1, wherein:
The work board according to claim 1, wherein the metal frame layer comprises a metal foil and a metal plating film.
JP10172613A 1998-06-19 1998-06-19 Work board Pending JP2000012990A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10172613A JP2000012990A (en) 1998-06-19 1998-06-19 Work board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10172613A JP2000012990A (en) 1998-06-19 1998-06-19 Work board

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000012990A true JP2000012990A (en) 2000-01-14

Family

ID=15945132

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10172613A Pending JP2000012990A (en) 1998-06-19 1998-06-19 Work board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000012990A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008193065A (en) * 2007-02-07 2008-08-21 Samsung Electro Mech Co Ltd Method of manufacturing printed circuit board
JP2008235550A (en) * 2007-03-20 2008-10-02 Mitsubishi Electric Corp Printed wire board, its manufacturing method, and electronic device using the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008193065A (en) * 2007-02-07 2008-08-21 Samsung Electro Mech Co Ltd Method of manufacturing printed circuit board
JP2008235550A (en) * 2007-03-20 2008-10-02 Mitsubishi Electric Corp Printed wire board, its manufacturing method, and electronic device using the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007142188A (en) Multilayer printed-circuit board and manufacturing method therefor
CA2073211A1 (en) Method of manufacturing a rigid-flex printed wiring board
KR20060045208A (en) Printed circuit for semi-conductor package and method for manufacturing the same
US4945029A (en) Process for the manufacture of multi-layer circuits with dynamic flexing regions and the flexible circuits made therefrom
JP2000012990A (en) Work board
EP1475831A2 (en) Method of producing TAB tape carrier
JP2875796B2 (en) Jig for surface treatment of printed circuit board
US4882000A (en) Method of manufacturing printed circuit boards
JP2010056373A (en) Method of manufacturing printed circuit board, and printed circuit board
JP2003152289A (en) Printed wiring board and multi-layer printed wiring board
JP2004158725A (en) Film-carrier tape for mounting electronic component
JP4663183B2 (en) Method for preventing warpage of TAB tape carrier and TAB tape carrier
KR20050090341A (en) A manufacturing method of flexible printed circuit board(fpcb) and structure of raw material therefore
JPH0974252A (en) Flexible rigid printed-wiring board and manufacture thereof
JPH06216493A (en) Printed-wiring board and manufacture thereof
JP2003203951A (en) Film tape carrier
WO1999061253A1 (en) Plate for screen printing and method for manufacturing the same
JP2813138B2 (en) Manufacturing method of film substrate
JPH09172041A (en) Tape for tab, tab tape using it, and tab tape manufacturing method
CN115551235A (en) Deformation-preventing machining method for rigid-flex combined plate
JP2000332062A (en) Manufacture of tab thin-film tape carrier
JP2002111142A (en) Structure of printed circuit board
JP2006156856A (en) Cof tape and its manufacturing method
JP2958421B2 (en) TAB tape manufacturing method
JP2001332667A (en) Mounting electronic component and its manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050525

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071016

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071113

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080108

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080527

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20081007