JP2000011896A - Gas-discharge type display device and its manufacture - Google Patents

Gas-discharge type display device and its manufacture

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JP2000011896A
JP2000011896A JP17702898A JP17702898A JP2000011896A JP 2000011896 A JP2000011896 A JP 2000011896A JP 17702898 A JP17702898 A JP 17702898A JP 17702898 A JP17702898 A JP 17702898A JP 2000011896 A JP2000011896 A JP 2000011896A
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thin film
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metal
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JP17702898A
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Michifumi Kawai
通文 河合
Ryohei Sato
了平 佐藤
Masahito Ijuin
正仁 伊集院
Masashi Nishikame
正志 西亀
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve particularly optical characteristics such as bright field contrast and the migration life by providing a first electrode consisting of a first substrate and a transparent electrode, first metal thin film and second metal thin film successively laminated thereon. SOLUTION: A bus electrode comprises a front substrate 400 and a transparent electrode 600, first metal thin film electrode 701, and second metal thin film electrode 702 laminated thereon. Cr is laminated in (100-2000)×10-10 m for the first metal thin film electrode 701, Cu is laminated in 1-3 μm for the second metal thin film electrode 702, and Cr is laminated in (1000-2000)×10-10 m for the top layer. The upper layer Cr is laser machined, the Cr pattern is resisted to etch the lower layer Cu, and the Cu pattern is further resisted to etch the bottom layer Cr. In the etching of the bottom layer Cr, the top layer Cr is extinguished to form a prescribed pattern.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ガス放電型表示装
置にかかわり、特に3電極面放電構造のAC型ガス放電
型表示装置の構造に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas discharge type display device, and more particularly to a structure of an AC type gas discharge type display device having a three-electrode surface discharge structure.

【0002】[0002]

【従来の技術】プラズマディスプレイなどのガス放電型
表示装置は、自己発光により表示を行うため、視野角が
広く、表示が見やすい。また、薄型のものが作製できる
ことや大画面を実現できるなどの特徴を持っており、情
報端末機器の表示装置や高品位テレビジョン受像器への
応用が始まっている。プラズマディスプレイは直流駆動
型と交流駆動型に大別される。このうち、交流駆動型の
プラズマディスプレイは、電極を覆っている誘電体層の
メモリー作用、保護層の形成などにより、輝度の高い表
示と実用に耐える寿命が得られるようになった。この結
果、プラズマディスプレイは多用途の表示装置として実
用化されている。
2. Description of the Related Art A gas discharge type display device such as a plasma display performs display by self-emission, so that the display angle is wide and the display is easy to see. In addition, it has features such as being able to produce a thin type and realizing a large screen, and has begun to be applied to display devices of information terminal equipment and high-definition television receivers. Plasma displays are roughly classified into a DC drive type and an AC drive type. Among them, the AC-driven plasma display has been able to obtain a display with high luminance and a serviceable life for practical use due to the memory function of the dielectric layer covering the electrodes and the formation of the protective layer. As a result, the plasma display has been put to practical use as a versatile display device.

【0003】図1は、実用化されたプラズマディスプレ
イパネルの構造を示す斜視図である。この図では、見易
くするため、前面基板100を背面基板200と放電空間領域
300より離して図示している。
FIG. 1 is a perspective view showing the structure of a plasma display panel that has been put into practical use. In this figure, for the sake of clarity, the front substrate 100 and the rear substrate 200 are connected to the discharge space area.
It is shown away from 300.

【0004】前面基板100は、前面ガラス基板400上にIT
O(Indium Tin Oxide)や酸化スズ(SnO2)などの透明
電極材料からなる表示電極(透明電極)600と低抵抗材
料からなるバス電極700、透明な絶縁材料からなる誘電
体層800、酸化マグネシウム(MgO)などの材料からなる
保護層900が形成された構造となっている。
[0004] The front substrate 100 has an IT glass
A display electrode (transparent electrode) 600 made of a transparent electrode material such as O (Indium Tin Oxide) or tin oxide (SnO2), a bus electrode 700 made of a low-resistance material, a dielectric layer 800 made of a transparent insulating material, magnesium oxide ( It has a structure in which a protective layer 900 made of a material such as MgO) is formed.

【0005】背面基板200は、背面ガラス基板500上にア
ドレス電極1000と隔壁1100、蛍光体層1200が形成された
構造となっている。
The rear substrate 200 has a structure in which an address electrode 1000, a partition 1100, and a phosphor layer 1200 are formed on a rear glass substrate 500.

【0006】そして、前面基板100と背面基板200を表示
電極600とアドレス電極1000がほぼ直交するように張り
合わせることにより、放電空間領域300が前面基板100と
背面基板200の間に形成されている。
The front substrate 100 and the rear substrate 200 are bonded so that the display electrodes 600 and the address electrodes 1000 are substantially orthogonal to each other, so that a discharge space region 300 is formed between the front substrate 100 and the rear substrate 200. .

【0007】このガス放電型表示装置では、前面基板10
0に設けた1対の表示電極600のうちの片方と背面基板200
に設けたアドレス電極1000との間に電圧を印加すること
によりアドレス放電を発生させ誘電体のメモリ作用によ
り所定の放電セルに電荷を蓄積させた後、前面基板100
に設けた1対の表示電極600の間に交流電圧を印加するこ
とにより電荷の蓄積された放電セルに主放電を発生させ
る。この主放電で発生する紫外線により各々の放電セル
に塗り分けられた赤、緑、および青の蛍光体1200を発光
させ表示を行っている。
In this gas discharge type display device, the front substrate 10
0 and one of the pair of display electrodes 600 provided on
An address discharge is generated by applying a voltage to the address electrode 1000 provided on the substrate, and charges are accumulated in predetermined discharge cells by a memory function of the dielectric.
By applying an AC voltage between the pair of display electrodes 600 provided in the above, a main discharge is generated in the discharge cells in which the charges are accumulated. The red, green, and blue phosphors 1200 that are separately applied to the respective discharge cells are illuminated by ultraviolet rays generated by the main discharge, and display is performed.

【0008】このようなガス放電型表示装置の従来例
は、たとえば、フラットパネルディスプレイ1996(日経
マイクロデバイス編、1995年)の第208頁から215頁に記
載されている。
A conventional example of such a gas discharge type display device is described in, for example, pages 208 to 215 of a flat panel display 1996 (edited by Nikkei Microdevices, 1995).

【0009】なお、バス電極やアドレス電極材料として
は、Cr/Cu/CrやCr/Al/Crの積層薄膜配線や厚膜Ag焼結体
配線が一般的である。
Incidentally, as a material of the bus electrode and the address electrode, a laminated thin-film wiring of Cr / Cu / Cr or Cr / Al / Cr and a thick-film Ag sintered body wiring are generally used.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】バス電極に、厚膜Ag焼
結体配線を用いた場合は製造コストは比較的安価である
が、焼結体の緻密度があげられず放電セル内の発光光の
漏れがあること、およびパネル外光反射効果も弱いため
特に明視野コントラストがあがらないこと及び特に高精
細パネルでは、配線間距離が短いためマイグレーション
の寿命が短い難点がある。また、バス電極にCr/Cu/Crや
Cr/Al/Crの積層薄膜配線を用いた場合は、明視野コント
ラスト及び、マイグレーション寿命の点では優れている
が、フォト・エッチング工程を多用する必要があるため
工程が長く、またガラスマスクやレジストなどのコスト
がかさむため低コスト化が図れない大きな難点がある。
When a thick-film Ag sintered body wiring is used for the bus electrode, the production cost is relatively low, but the denseness of the sintered body is not increased and the light emission in the discharge cell is not increased. There is a problem in that there is light leakage, the bright-field contrast is not particularly improved due to a weak light reflection effect outside the panel, and especially in a high-definition panel, the life of migration is short due to a short distance between wirings. In addition, Cr / Cu / Cr or
When Cr / Al / Cr multilayer thin film wiring is used, it is excellent in terms of bright field contrast and migration life. However, there is a major drawback in that cost cannot be reduced due to high costs.

【0011】本発明はの第1の目的は、特に明視野コン
トラストなどの光学的特性及びマイグレーション寿命を
満足した、安価なガス放電型表示装置を提供することに
ある。
A first object of the present invention is to provide an inexpensive gas discharge type display device which satisfies optical characteristics such as bright-field contrast and migration life.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明は、複数の第1の
電極を有する第1の基板と、該第1の電極と交差するよう
に配置された複数の第2の電極と放電空間を仕切る隔壁
とを有する第2の基板とを備えたガス放電型表示装置で
あって、該第1の電極は、該第1の基板上に基板面から透
明電極、第1の金属薄膜、第2の金属薄膜の順に積層され
て構成されているものである。
According to the present invention, there is provided a first substrate having a plurality of first electrodes, a plurality of second electrodes arranged to intersect the first electrodes, and a discharge space. A second substrate having a partition wall and a second substrate, wherein the first electrode is a transparent electrode, a first metal thin film, a second metal thin film on the first substrate from the substrate surface. Are laminated in the order of the metal thin films described above.

【0013】また、複数の第1の電極を有する第1の基板
と、該第1の電極と交差するように配置された複数の第2
の電極と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板と
を備えたガス放電型表示装置であって、該第1の電極
は、該第1の基板上に基板面から透明電極、第1の金属薄
膜、第2の金属厚膜の順に積層されて構成されているも
のである。
Further, a first substrate having a plurality of first electrodes and a plurality of second substrates arranged so as to intersect with the first electrodes are provided.
A gas discharge type display device comprising: a second substrate having a first electrode and a partition partitioning a discharge space, wherein the first electrode is a transparent electrode on the first substrate from the substrate surface, And a second metal thick film in this order.

【0014】また、複数の第1の電極を有する第1の基板
と、該第1の電極と交差するように配置された複数の第2
の電極と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板と
を備えたガス放電型表示装置であって、該第1の電極
は、該第1の基板上に基板面から第1の金属薄膜、透明電
極、第2の金属厚膜の順に積層されて構成されているも
のである。
Further, a first substrate having a plurality of first electrodes and a plurality of second substrates arranged so as to intersect the first electrodes are provided.
A gas discharge type display device comprising: a first electrode and a second substrate having a partition partitioning a discharge space, wherein the first electrode is a first metal thin film on the first substrate from a substrate surface. , A transparent electrode, and a second thick metal film in this order.

【0015】また、複数の第1の電極を有する第1の基板
と、該第1の電極と交差するように配置された複数の第2
の電極と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板と
を備えたガス放電型表示装置であって、該第2の電極
は、該第2の基板上に基板面から第1の金属薄膜、第2の
金属薄膜の順に積層されて構成されていることを特徴と
するガス放電型表示装置。
Further, a first substrate having a plurality of first electrodes and a plurality of second substrates arranged to intersect the first electrodes are provided.
A gas discharge type display device comprising: a first electrode and a second substrate having a partition partitioning a discharge space, wherein the second electrode is provided on the second substrate from a substrate surface by a first metal thin film. And a second metal thin film laminated in this order.

【0016】また、前記誘電体で被覆されている領域の
外で、該第2の金属厚膜電極幅が該第1の金属薄膜電極幅
よりも小さくなっているものである。
Further, the width of the second metal thick film electrode is smaller than the width of the first metal thin film electrode outside the region covered with the dielectric.

【0017】また、前記誘電体で被覆されている領域の
外の配線が該第1の金属薄膜電極のみであるものであ
る。
Further, the wiring outside the region covered with the dielectric is only the first metal thin film electrode.

【0018】また、複数の第1の電極を有する第1の基板
と、該第1の電極と交差するように配置された複数の第2
の電極と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板と
を備えたガス放電型表示装置の製造方法であって、該第
1の電極のうち透明電極以外の電極の形成方法が、該第
1の基板上に第1の金属薄膜、第2の金属薄膜、第1の金
属薄膜の順に積層成膜する工程と、該積層膜の最上層の
第1の金属薄膜をレーザーによりパターニングする工程
と、該最上層の第1の金属パターンをレジストとして第
2の金属薄膜をエッチングする工程と、該第2の金属パタ
ーンをレジストとして最下層の第1の金属薄膜をエッチ
ングする工程よりなるものである。
Further, a first substrate having a plurality of first electrodes and a plurality of second substrates arranged so as to intersect the first electrodes are provided.
A method for manufacturing a gas discharge display device comprising: a first electrode and a second substrate having a partition partitioning a discharge space, wherein the method of forming an electrode other than a transparent electrode in the first electrode comprises:
A step of laminating a first metal thin film, a second metal thin film, and a first metal thin film in this order on one substrate; and a step of patterning the first metal thin film of the uppermost layer of the laminated film by laser. Using the uppermost first metal pattern as a resist,
And a step of etching the lowermost first metal thin film using the second metal pattern as a resist.

【0019】また、複数の第1の電極を有する第1の基板
と、該第1の電極と交差するように配置された複数の第2
の電極と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板と
を備えたガス放電型表示装置の製造方法であって、該第
1の電極のうち透明電極以外の電極の形成方法が、該第
1の基板上に第1の金属薄膜、第2の金属薄膜、第1の金
属薄膜の順に積層成膜する工程と、該積層膜の最上層の
第1の金属薄膜をレーザーによりパターニングする工程
と、該最上層の第1の金属パターンをレジストとして第
2の金属薄膜をエッチングする工程と、該最下層の第1の
金属薄膜をレーザーによりパターニングする工程よりな
るものである。
Further, a first substrate having a plurality of first electrodes and a plurality of second substrates arranged so as to intersect with the first electrodes are provided.
A method for manufacturing a gas discharge display device comprising: a first electrode and a second substrate having a partition partitioning a discharge space, wherein the method of forming an electrode other than a transparent electrode in the first electrode comprises:
A step of laminating a first metal thin film, a second metal thin film, and a first metal thin film in this order on one substrate; and a step of patterning the first metal thin film of the uppermost layer of the laminated film by laser. Using the uppermost first metal pattern as a resist,
2) a step of etching the metal thin film and a step of patterning the lowermost first metal thin film by laser.

【0020】また、複数の第1の電極を有する第1の基板
と、該第1の電極と交差するように配置された複数の第2
の電極と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板と
を備えたガス放電型表示装置の製造方法であって、該第
1の電極のうち透明電極以外の電極の形成方法が、該第
1の基板上に第1の金属薄膜を成膜する工程と、該第1の
金属薄膜をレーザーによりパターニングする工程と、該
透明電極パターンおよび第1の金属パターンを有する該
第1の基板上に第2の感光性金属ペーストを全面印刷・乾
燥する工程と、該第2の金属印刷膜を露光機もしくはレ
ーザーによりパターン露光する工程と、露光された該第
2の金属印刷膜を現像する工程と、現像された該第2の
金属パターンを焼成する工程よりなるものである。
Further, a first substrate having a plurality of first electrodes and a plurality of second substrates arranged so as to intersect the first electrodes are provided.
A method for manufacturing a gas discharge display device comprising: a first electrode and a second substrate having a partition partitioning a discharge space, wherein the method of forming an electrode other than a transparent electrode in the first electrode comprises:
A step of forming a first metal thin film on one substrate, a step of patterning the first metal thin film by a laser, and a step of forming the first metal thin film on the first substrate having the transparent electrode pattern and the first metal pattern. A step of printing and drying the entire surface of the second photosensitive metal paste, a step of pattern-exposing the second metal printed film by an exposure machine or a laser, and a step of developing the exposed second metal printed film. And baking the developed second metal pattern.

【0021】また、複数の第1の電極を有する第1の基板
と、該第1の電極と交差するように配置された複数の第2
の電極と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板と
を備えたガス放電型表示装置の製造方法であって、該第
1の電極のうち透明電極以外の電極の形成方法が、該第
1の基板上に第1の金属薄膜を成膜する工程と、該第1の
金属薄膜をレーザーによりパターニングする工程と、該
透明電極パターンおよび第1の金属パターンを有する該
第1の基板上に第2の金属ペーストをパターン印刷・乾燥
する工程と、該第2の金属パターンを焼成する工程より
なるものである。
Further, a first substrate having a plurality of first electrodes and a plurality of second substrates arranged so as to intersect the first electrodes are provided.
A method for manufacturing a gas discharge display device comprising: a first electrode and a second substrate having a partition partitioning a discharge space, wherein the method of forming an electrode other than a transparent electrode in the first electrode comprises:
A step of forming a first metal thin film on one substrate, a step of patterning the first metal thin film by a laser, and a step of forming the first metal thin film on the first substrate having the transparent electrode pattern and the first metal pattern. It comprises a step of pattern printing and drying the second metal paste and a step of firing the second metal pattern.

【0022】また、複数の第1の電極を有する第1の基板
と、該第1の電極と交差するように配置された複数の第2
の電極と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板と
を備えたガス放電型表示装置の製造方法であって、該第
1の電極の形成方法が、該第1の基板上に第1の金属薄膜
を成膜する工程と、該第1の金属薄膜をレーザーにより
パターニングする工程と、該第1の金属薄膜パターンを
有する該第1の基板上に透明電極膜を成膜する工程と、
該透明電極をレーザーによりパターニングする工程と、
該第1の金属薄膜パターンと透明電極パターンを有する
第1の基板に第2の感光性金属ペーストを全面印刷・乾
燥する工程と、該第2の金属印刷膜を露光機もしくはレ
ーザーによりパターン露光する工程と、露光された該第
2の金属印刷膜を現像する工程と、現像された該第2の
金属パターンを焼成する工程よりなるものである。
A first substrate having a plurality of first electrodes and a plurality of second substrates arranged to intersect with the first electrodes are provided.
A method for manufacturing a gas discharge display device comprising: a first substrate having a first electrode and a second substrate having a partition partitioning a discharge space, wherein the first electrode is formed on the first substrate by a first method. Forming a metal thin film, patterning the first metal thin film with a laser, and forming a transparent electrode film on the first substrate having the first metal thin film pattern,
Patterning the transparent electrode with a laser,
A step of printing and drying a second photosensitive metal paste on the entire surface of the first substrate having the first metal thin film pattern and the transparent electrode pattern, and pattern-exposing the second metal print film with an exposing machine or laser. And a step of developing the exposed second metal print film, and a step of firing the developed second metal pattern.

【0023】また、複数の第1の電極を有する第1の基板
と、該第1の電極と交差するように配置された複数の第2
の電極と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板と
を備えたガス放電型表示装置の製造方法であって、該第
1の電極の形成方法が、該第1の基板上に第1の金属薄膜
を成膜する工程と、該第1の金属薄膜をレーザーにより
パターニングする工程と、該第1の金属薄膜パターンを
有する該第1の基板上に透明電極膜を成膜する工程と、
該第1の金属薄膜パターンと透明電極パターンを有する
第1の基板に第2の金属ペーストをパターン印刷・乾燥
する工程と、該透明電極をレーザーによりパターニング
する工程と、該第2の金属パターンを焼成する工程より
なるものである。
Also, a first substrate having a plurality of first electrodes and a plurality of second substrates arranged so as to intersect the first electrodes are provided.
A method for manufacturing a gas discharge display device comprising: a first substrate having a first electrode and a second substrate having a partition partitioning a discharge space, wherein the first electrode is formed on the first substrate by a first method. Forming a metal thin film, patterning the first metal thin film with a laser, and forming a transparent electrode film on the first substrate having the first metal thin film pattern,
A step of pattern printing and drying a second metal paste on a first substrate having the first metal thin film pattern and the transparent electrode pattern; a step of patterning the transparent electrode by a laser; It consists of a firing step.

【0024】また、複数の第1の電極を有する第1の基板
と、該第1の電極と交差するように配置された複数の第2
の電極と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板と
を備えたガス放電型表示装置の製造方法であって、該第
1の電極の形成方法が、該第1の基板上に第1の金属薄膜
を成膜する工程と、該第1の金属薄膜をレーザーにより
パターニングする工程と、該第1の金属薄膜パターンを
有する該第1の基板上に透明電極膜を成膜する工程と、
該第1の金属薄膜パターンと透明電極パターンを有する
第1の基板に第2の感光性金属ペーストを全面印刷・乾
燥する工程と、該第2の金属印刷膜を露光機もしくはレ
ーザーによりパターン露光する工程と、露光された該第
2の金属印刷膜を現像する工程と、該透明電極をレーザ
ーによりパターニングする工程と、現像された該第2の
金属パターンを焼成する工程よりなるものである。
Further, a first substrate having a plurality of first electrodes and a plurality of second substrates arranged so as to intersect the first electrodes are provided.
A method for manufacturing a gas discharge display device comprising: a first substrate having a first electrode and a second substrate having a partition partitioning a discharge space, wherein the first electrode is formed on the first substrate by a first method. Forming a metal thin film, patterning the first metal thin film with a laser, and forming a transparent electrode film on the first substrate having the first metal thin film pattern,
A step of printing and drying a second photosensitive metal paste on the entire surface of the first substrate having the first metal thin film pattern and the transparent electrode pattern, and pattern-exposing the second metal print film with an exposing machine or laser. A step of developing the exposed second metal print film, a step of patterning the transparent electrode with a laser, and a step of firing the developed second metal pattern.

【0025】また、複数の第1の電極を有する第1の基板
と、該第1の電極と交差するように配置された複数の第2
の電極と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板と
を備えたガス放電型表示装置の製造方法であって、該第
1の電極の形成方法が、該第1の基板上に第1の金属薄膜
を成膜する工程と、該第1の金属薄膜をレーザーにより
パターニングする工程と、該第1の金属薄膜パターンを
有する該第1の基板上に透明電極膜を成膜する工程と、
該第1の金属薄膜パターンと透明電極ハ゜ターンを有する第
1の基板に第2の金属ペーストをパターン印刷・乾燥す
る工程と、該第2の金属パターンを焼成する工程と、該
透明電極をレーザーによりパターニングする工程よりな
るものである。
Further, a first substrate having a plurality of first electrodes and a plurality of second substrates arranged so as to intersect the first electrodes are provided.
A method for manufacturing a gas discharge display device comprising: a first substrate having a first electrode and a second substrate having a partition partitioning a discharge space, wherein the first electrode is formed on the first substrate by a first method. Forming a metal thin film, patterning the first metal thin film with a laser, and forming a transparent electrode film on the first substrate having the first metal thin film pattern,
A step of pattern printing and drying a second metal paste on the first substrate having the first metal thin film pattern and the transparent electrode pattern; a step of firing the second metal pattern; It comprises a step of patterning.

【0026】また、複数の第1の電極を有する第1の基板
と、該第1の電極と交差するように配置された複数の第2
の電極と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板と
を備えたガス放電型表示装置の製造方法であって、該第
2の電極の形成方法が、該第2の基板上に第1の金属薄
膜、第2の金属薄膜、第1の金属薄膜の順に積層成膜す
る工程と、該積層膜の最上層の第1の金属薄膜をレーザ
ーによりパターニングする工程と、該最上層の第1の金
属パターンをレジストとして第2の金属薄膜をエッチン
グする工程と、該第2の金属パターンをレジストとして
第1の金属薄膜をエッチングする工程よりなるものであ
る。
Also, a first substrate having a plurality of first electrodes and a plurality of second substrates arranged so as to intersect with the first electrodes are provided.
A method for manufacturing a gas discharge type display device, comprising: a first electrode and a second substrate having a partition partitioning a discharge space, wherein the second electrode is formed on the second substrate by a first method. Stacking a metal thin film, a second metal thin film, and a first metal thin film in this order; patterning a first metal thin film of the uppermost layer of the stacked film with a laser; Etching the second metal thin film using the metal pattern as a resist, and etching the first metal thin film using the second metal pattern as a resist.

【0027】また、複数の第1の電極を有する第1の基板
と、該第1の電極と交差するように配置された複数の第2
の電極と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板と
を備えたガス放電型表示装置の製造方法であって、該第
2の電極の形成方法が、該第2の基板上に第1の金属薄
膜、第2の金属薄膜、第1の金属薄膜の順に積層成膜す
る工程と、該積層膜の最上層の第1の金属薄膜をレーザ
ーによりパターニングする工程と、該最上層の第1の金
属パターンをレジストとして第2の金属薄膜をエッチン
グする工程と、該第1の金属薄膜をレーザーによりパタ
ーニングする工程よりなるものである。
Further, a first substrate having a plurality of first electrodes and a plurality of second substrates arranged so as to intersect with the first electrodes are provided.
A method for manufacturing a gas discharge type display device, comprising: a first electrode and a second substrate having a partition partitioning a discharge space, wherein the second electrode is formed on the second substrate by a first method. Stacking a metal thin film, a second metal thin film, and a first metal thin film in this order; patterning a first metal thin film of the uppermost layer of the stacked film with a laser; Etching the second metal thin film using the metal pattern as a resist, and patterning the first metal thin film by laser.

【0028】より具体的には、薄膜配線の場合、最上層
の薄膜金属をレーザー加工し、そのパターンをレジスト
形成の代わりにすることで、第2層目の薄膜の直接エッ
チングを行い、さらに第2層目の薄膜配線をレジストに
し第3層目の薄膜のエッチングを行うことでフォト工程
のない安価な配線形成法が得られる。また、その第3層
目の薄膜のエッチングの代わりにレーザー加工を用いる
ことも可能である。本発明の結果として選られる薄膜配
線の構造としては、前面板では、複数の第1の電極を有
する第1の基板と、該第1の電極と交差するように配置さ
れた複数の第2の電極と放電空間を仕切る隔壁とを有す
る第2の基板とを備えたガス放電型表示装置であって、
該第1の電極は、該第1の基板上に基板面から透明電極、
第1の金属薄膜、第2の金属薄膜、第3の金属薄膜の順に
積層されて構成されるか該第1の基板上に基板面から透
明電極、第1の金属薄膜、第2の金属薄膜の順に積層され
て構成されるものである。また、背面板では、複数の第
1の電極を有する第1の基板と、該第1の電極と交差する
ように配置された複数の第2の電極と放電空間を仕切る
隔壁とを有する第2の基板とを備えたガス放電型表示装
置であって、該第2の電極は、該第2の基板上に基板面
から、第1の金属薄膜、第2の金属薄膜、第3の金属薄膜
の順に積層されて構成されるか該第2の基板上に基板面
から第1の金属薄膜、第2の金属薄膜の順に積層されて構
成されるものである。
More specifically, in the case of thin-film wiring, the second-layer thin film is directly etched by subjecting the uppermost thin-film metal to laser processing and using the pattern instead of forming a resist. By using the second layer of thin film wiring as a resist and etching the third layer of thin film, an inexpensive wiring forming method without a photo step can be obtained. Also, laser processing can be used instead of etching the third layer thin film. As a structure of the thin film wiring selected as a result of the present invention, in the front plate, a first substrate having a plurality of first electrodes, and a plurality of second substrates arranged to intersect with the first electrodes. A gas discharge type display device comprising an electrode and a second substrate having a partition partitioning a discharge space,
The first electrode is a transparent electrode on the first substrate from the substrate surface,
A first metal thin film, a second metal thin film, and a third metal thin film laminated in this order, or a transparent electrode, a first metal thin film, and a second metal thin film on the first substrate from the substrate surface Are stacked in this order. In addition, on the back plate,
A gas discharge type including a first substrate having one electrode, and a second substrate having a plurality of second electrodes disposed so as to intersect with the first electrode and a partition partitioning a discharge space. The display device, wherein the second electrode is formed by sequentially stacking a first metal thin film, a second metal thin film, and a third metal thin film on the second substrate from a substrate surface. The first metal thin film and the second metal thin film are laminated on the second substrate in this order from the substrate surface.

【0029】また、厚膜電極を用いた場合には、光学的
特性の良い薄膜との混成膜とし、複数の第1の電極を有
する第1の基板と、該第1の電極と交差するように配置さ
れた複数の第2の電極と放電空間を仕切る隔壁とを有す
る第2の基板とを備えたガス放電型表示装置であって、
該第1の電極は、該第1の基板上に基板面から透明電極、
第1の金属薄膜、第2の金属厚膜の順に積層されて構成さ
れるものである。さらに、マイグレーションの問題に対
しては、特に問題となる誘電体形成領域外において厚膜
の配線幅を薄膜配線幅より狭くするか、薄膜配線のみと
することで解決できるものである。
When a thick-film electrode is used, a mixed film with a thin film having good optical characteristics is formed so as to intersect the first substrate having a plurality of first electrodes and the first electrode. A gas discharge type display device comprising: a second substrate having a plurality of second electrodes and a partition partitioning a discharge space disposed in the display,
The first electrode is a transparent electrode on the first substrate from the substrate surface,
It is formed by laminating a first metal thin film and a second metal thick film in this order. Further, the problem of migration can be solved by making the wiring width of the thick film narrower than the thin film wiring width or by using only the thin film wiring outside the dielectric forming region, which is a particular problem.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明を詳細
に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0031】図2〜7に本発明の一実施例を示す。FIGS. 2 to 7 show one embodiment of the present invention.

【0032】図2は、バス電極に2種類の金属薄膜を使
用した例である。第1の金属薄膜にはCrを100A〜2000A、
第2の金属薄膜にはCu薄膜を1um〜3umさらに最上層にC
rを1000A〜2000A積層成膜し、上層Crをレーザー加工
し、このCrパターンをレジストにして下層Cuをエッチン
グし、さらにこのCuパターンをレジストにして最下層Cr
をエッチングしたものであり、最下層Crエッチングの際
に最上層Crが消滅して本図3のようなパターンが形成で
きる。これは、第2の金属にAlを使用した場合にも同様
の結果が得られる。最下層のCrをレーザー加工した場合
には、従来のCr/Cu/CrもしくはCr/Al/Crのバス電極が得
られる。
FIG. 2 shows an example in which two types of metal thin films are used for the bus electrodes. Cr is 100A to 2000A for the first metal thin film,
For the second metal thin film, a Cu thin film of 1 to 3 μm and C
1000A ~ 2000A laminated film, laser processing the upper layer Cr, etching the lower layer Cu using this Cr pattern as a resist, and further using the Cu pattern as a resist to form the lowermost layer Cr
The uppermost layer disappears when the lowermost layer is etched, and a pattern as shown in FIG. 3 can be formed. The same result is obtained when Al is used as the second metal. When the lowermost layer of Cr is laser-processed, a conventional Cr / Cu / Cr or Cr / Al / Cr bus electrode is obtained.

【0033】図7に、従来技術による薄膜バス電極の形
成プロセスフローを示す。これに対し本発明の薄膜バス
電極の形成プロセスフローを図8,9に示す。従来プロ
セスでは最低でも14工程かかるのに対し、本発明は5工
程と激減できるのに加え、有機レジスト窓の副資材も不
要で、非常に安価なプロセスとなる。
FIG. 7 shows a process flow for forming a thin-film bus electrode according to the prior art. On the other hand, FIGS. 8 and 9 show a process flow of forming the thin film bus electrode of the present invention. In contrast to the conventional process, which takes at least 14 steps, the present invention can reduce the number of steps dramatically to 5 steps, and does not require any auxiliary material for the organic resist window, resulting in a very inexpensive process.

【0034】図3,4は、バス電極に金属薄膜と厚膜金
属を使用した例である。第1の金属薄膜には、Crを100A
〜2000A、第2の金属厚膜には、Agを2um以上形成した例
である。密着性も良く、光学的特性にも優れたバス電極
が形成できた。Ag電極の形成方法は25インチXGAおよびS
XGAなどの高精細パネルには感光性Agペーストを用いて
フォト加工を用い、VGAなどの配線密度の低いパネルに
はパターン印刷を用いても形成が可能であった。本発明
の厚膜プロセスフローを図10〜13に示す。いずれも5工
程から7工程と短くコストも安い。
FIGS. 3 and 4 show examples in which a metal thin film and a thick metal are used for the bus electrode. Cr is 100A for the first metal thin film
This is an example in which Ag is formed to 2 μm or more on the second metal thick film. A bus electrode having good adhesion and excellent optical characteristics was formed. Ag electrode formation method is 25 inch XGA and S
High-definition panels such as XGA could be formed by photo-processing using a photosensitive Ag paste, and panels with low wiring density, such as VGA, could be formed by pattern printing. The thick film process flow of the present invention is shown in FIGS. In each case, the cost is low, from 5 to 7 steps.

【0035】端子部のマイグレーション対策としては、
図14、図15に示すように誘電体形成領域外を薄膜に対し
厚膜を細らせるもしくは薄膜のみにすることで大幅な長
寿命化が図れた。また、薄膜金属にはTi、厚膜金属には
Ni、Al、Auなども用いることが出来た。
As a countermeasure against migration of the terminal portion,
As shown in FIGS. 14 and 15, by extending the thickness of the thin film outside the dielectric formation region with respect to the thin film or by using only the thin film, the life was greatly extended. Also, Ti for thin-film metals, and for thick-film metals
Ni, Al, Au, etc. could also be used.

【0036】本発明の薄膜配線を背面板に適用した例を
図5、図6に示す。背面板の配線に適用しても安価な薄
膜配線が形成できた。
FIGS. 5 and 6 show examples in which the thin film wiring of the present invention is applied to a back plate. Inexpensive thin film wiring could be formed even when applied to the wiring of the back plate.

【0037】[0037]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
非常に安価な薄膜バス電極および薄膜アドレス配線が供
給できる。また、光学的特性に優れマイグレーション寿
命も確保できる厚膜バス配線も供給可能となる。
As described above, according to the present invention,
Very inexpensive thin film bus electrodes and thin film address wiring can be supplied. In addition, it is possible to supply a thick-film bus wiring which has excellent optical characteristics and can secure a migration life.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来のAC型ガス放電表示装置の斜視図FIG. 1 is a perspective view of a conventional AC type gas discharge display device.

【図2】本発明の実施の1形態であるAC型ガス放電表示
装置の前面板の断面図
FIG. 2 is a cross-sectional view of a front plate of an AC type gas discharge display device according to one embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施の1形態であるAC型ガス放電表示
装置の前面板の断面図
FIG. 3 is a cross-sectional view of a front plate of an AC type gas discharge display device according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施の1形態であるAC型ガス放電表示
装置の前面板の断面図
FIG. 4 is a cross-sectional view of a front plate of an AC type gas discharge display device according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施の1形態であるAC型ガス放電表示
装置の背面板の断面図
FIG. 5 is a cross-sectional view of a back plate of the AC type gas discharge display device according to one embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施の1形態であるAC型ガス放電表示
装置の背面板の断面図
FIG. 6 is a sectional view of a back plate of the AC type gas discharge display device according to the embodiment of the present invention;

【図7】従来のAC型ガス放電表示装置の薄膜配線形成プ
ロセスフロー
FIG. 7 is a process flow of forming a thin film wiring of a conventional AC type gas discharge display device.

【図8】本発明の実施の1形態であるAC型ガス放電表示
装置の配線形成プロセスフロー
FIG. 8 is a wiring forming process flow of the AC type gas discharge display device according to one embodiment of the present invention;

【図9】本発明の実施の1形態であるAC型ガス放電表示
装置の配線形成プロセスフロー
FIG. 9 is a wiring forming process flow of an AC type gas discharge display device according to an embodiment of the present invention.

【図10】本発明の実施の1形態であるAC型ガス放電表
示装置の配線形成プロセスフロー
FIG. 10 is a wiring forming process flow of the AC type gas discharge display device according to one embodiment of the present invention;

【図11】本発明の実施の1形態であるAC型ガス放電表
示装置の配線形成プロセスフロー
FIG. 11 is a wiring forming process flow of an AC type gas discharge display device according to an embodiment of the present invention;

【図12】本発明の実施の1形態であるAC型ガス放電表
示装置の配線形成プロセスフロー
FIG. 12 is a wiring forming process flow of the AC type gas discharge display device according to one embodiment of the present invention;

【図13】本発明の実施の1形態であるAC型ガス放電表
示装置の配線形成プロセスフロー
FIG. 13 is a wiring forming process flow of an AC type gas discharge display device according to an embodiment of the present invention.

【図14】本発明の実施の1形態である厚膜・薄膜混成
配線における誘電体形成外領域の構成平面図
FIG. 14 is a configuration plan view of a region outside a dielectric material formation in a thick-film / thin-film hybrid wiring according to an embodiment of the present invention;

【図15】本発明の実施の1形態である厚膜・薄膜混成
配線における誘電体形成外領域の構成平面図
FIG. 15 is a plan view of a configuration of a region outside a dielectric in a thick-film / thin-film hybrid wiring according to an embodiment of the present invention;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100…前面基板、200…背面基板、300…放電空間、400…
前面ガラス基板、500…背面ガラス基板 600…表示電極(透明電極)、700…バス電極、701…第1
の金属薄膜電極、702…第2の金属薄膜電極 703…第3の金属薄膜電極、704…第2の金属厚膜電極、
800…透明誘電体、900…保護層(MgOなど) 1000…アドレス電極、1001…第1の金属薄膜電極、1002
…第2の金属薄膜電極 1003…第3の金属薄膜電極、1004…第2の金属厚膜電
極、1100…隔壁、1200…蛍光体、1300…誘電体
100 ... front substrate, 200 ... rear substrate, 300 ... discharge space, 400 ...
Front glass substrate, 500… Back glass substrate 600… Display electrode (transparent electrode), 700… Bus electrode, 701… First
702: a second metal thin film electrode 703: a third metal thin film electrode, 704: a second metal thick film electrode,
800: transparent dielectric, 900: protective layer (MgO, etc.) 1000: address electrode, 1001: first metal thin film electrode, 1002
... second metal thin film electrode 1003 ... third metal thin film electrode, 1004 ... second metal thick film electrode, 1100 ... partition, 1200 ... phosphor, 1300 ... dielectric

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊集院 正仁 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式 会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 西亀 正志 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式 会社日立製作所生産技術研究所内 Fターム(参考) 5C027 AA01 AA02 5C040 DD01 DD03  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Masahito Ijuin 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside of Hitachi, Ltd. F term in Hitachi, Ltd. Production Technology Laboratory (reference) 5C027 AA01 AA02 5C040 DD01 DD03

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数の第1の電極を有する第1の基板と、該
第1の電極と交差するように配置された複数の第2の電極
と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板とを備え
たガス放電型表示装置であって、 該第1の電極は、該第1の基板上に基板面から透明電極、
第1の金属薄膜、第2の金属薄膜の順に積層されて構成さ
れていることを特徴とするガス放電型表示装置。
A first substrate having a plurality of first electrodes; and a second partition having a plurality of second electrodes arranged to intersect the first electrodes and a partition partitioning a discharge space. A gas discharge type display device comprising a substrate, wherein the first electrode is a transparent electrode on the first substrate from a substrate surface,
A gas discharge type display device comprising a first metal thin film and a second metal thin film laminated in this order.
【請求項2】複数の第1の電極を有する第1の基板と、該
第1の電極と交差するように配置された複数の第2の電極
と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板とを備え
たガス放電型表示装置であって、 該第1の電極は、該第1の基板上に基板面から透明電極、
第1の金属薄膜、第2の金属厚膜の順に積層されて構成さ
れていることを特徴とするガス放電型表示装置。
2. A second substrate comprising: a first substrate having a plurality of first electrodes; and a plurality of second electrodes arranged to intersect the first electrodes and a partition partitioning a discharge space. A gas discharge type display device comprising a substrate, wherein the first electrode is a transparent electrode on the first substrate from a substrate surface,
A gas discharge display device comprising a first metal thin film and a second metal thick film laminated in this order.
【請求項3】複数の第1の電極を有する第1の基板と、該
第1の電極と交差するように配置された複数の第2の電極
と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板とを備え
たガス放電型表示装置であって、 該第1の電極は、該第1の基板上に基板面から第1の金属
薄膜、透明電極、第2の金属厚膜の順に積層されて構成
されていることを特徴とするガス放電型表示装置。
3. A second substrate, comprising: a first substrate having a plurality of first electrodes; and a plurality of second electrodes disposed so as to intersect the first electrodes and a partition partitioning a discharge space. A gas discharge type display device comprising a substrate, wherein the first electrode is laminated on the first substrate in the order of a first metal thin film, a transparent electrode, and a second metal thick film from a substrate surface. A gas discharge type display device characterized by comprising:
【請求項4】複数の第1の電極を有する第1の基板と、該
第1の電極と交差するように配置された複数の第2の電極
と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板とを備え
たガス放電型表示装置であって、 該第2の電極は、該第2の基板上に基板面から第1の金
属薄膜、第2の金属薄膜の順に積層されて構成されてい
ることを特徴とするガス放電型表示装置。
4. A second substrate comprising: a first substrate having a plurality of first electrodes; and a plurality of second electrodes arranged to intersect the first electrodes and a partition partitioning a discharge space. A gas discharge type display device comprising: a substrate; wherein the second electrode is formed by stacking a first metal thin film and a second metal thin film on the second substrate in this order from a substrate surface. A gas discharge type display device.
【請求項5】請求項2、3記載のガス放電型表示装置で
あって、 該誘電体で被覆されている領域の外で、該第2の金属厚
膜電極幅が該第1の金属薄膜電極幅よりも小さくなって
いることを特徴とするガス放電型表示装置。
5. The gas discharge display device according to claim 2, wherein the second metal thick film electrode width is equal to the first metal thin film outside a region covered with the dielectric. A gas discharge type display device characterized in that the width is smaller than an electrode width.
【請求項6】請求項2、3記載のガス放電型表示装置で
あって、 該誘電体で被覆されている領域の外の配線が該第1の金
属薄膜電極のみであることを特徴とするガス放電型表示
装置。
6. The gas discharge type display device according to claim 2, wherein a wiring outside a region covered with said dielectric is only said first metal thin film electrode. Gas discharge type display device.
【請求項7】複数の第1の電極を有する第1の基板と、該
第1の電極と交差するように配置された複数の第2の電極
と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板とを備え
たガス放電型表示装置の製造方法であって、 該第1の電極のうち透明電極以外の電極の形成方法が、
該第1の基板上に第1の金属薄膜、第2の金属薄膜、第1
の金属薄膜の順に積層成膜する工程と、該積層膜の最上
層の第1の金属薄膜をレーザーによりパターニングする
工程と、該最上層の第1の金属パターンをレジストとし
て第2の金属薄膜をエッチングする工程と、該第2の金属
パターンをレジストとして最下層の第1の金属薄膜をエ
ッチングする工程よりなることを特徴とするガス放電型
表示装置の製造方法。
7. A second substrate comprising: a first substrate having a plurality of first electrodes; and a plurality of second electrodes disposed to intersect the first electrodes and a partition partitioning a discharge space. A method for manufacturing a gas discharge type display device comprising: a substrate; and a method for forming an electrode other than a transparent electrode among the first electrodes,
A first metal thin film, a second metal thin film, a first metal thin film on the first substrate;
A step of laminating a metal thin film in this order, a step of patterning the first metal thin film of the uppermost layer of the laminated film by laser, and a step of forming a second metal thin film using the first metal pattern of the uppermost layer as a resist. A method for manufacturing a gas discharge display device, comprising: a step of etching; and a step of etching a lowermost first metal thin film using the second metal pattern as a resist.
【請求項8】複数の第1の電極を有する第1の基板と、該
第1の電極と交差するように配置された複数の第2の電極
と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板とを備え
たガス放電型表示装置の製造方法であって、 該第1の電極のうち透明電極以外の電極の形成方法が、
該第1の基板上に第1の金属薄膜、第2の金属薄膜、第1
の金属薄膜の順に積層成膜する工程と、該積層膜の最上
層の第1の金属薄膜をレーザーによりパターニングする
工程と、該最上層の第1の金属パターンをレジストとし
て第2の金属薄膜をエッチングする工程と、該最下層の
第1の金属薄膜をレーザーによりパターニングする工程
よりなることを特徴とするガス放電型表示装置の製造方
法。
8. A second substrate, comprising: a first substrate having a plurality of first electrodes; and a plurality of second electrodes arranged to intersect the first electrodes and a partition partitioning a discharge space. A method for manufacturing a gas discharge type display device comprising: a substrate; and a method for forming an electrode other than a transparent electrode among the first electrodes,
A first metal thin film, a second metal thin film, a first metal thin film on the first substrate;
A step of laminating a metal thin film in this order, a step of patterning the first metal thin film of the uppermost layer of the laminated film by laser, and a step of forming a second metal thin film using the first metal pattern of the uppermost layer as a resist. A method for manufacturing a gas discharge type display device, comprising: a step of etching; and a step of patterning the lowermost first metal thin film with a laser.
【請求項9】複数の第1の電極を有する第1の基板と、該
第1の電極と交差するように配置された複数の第2の電極
と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板とを備え
たガス放電型表示装置の製造方法であって、 該第1の電極のうち透明電極以外の電極の形成方法が、
該第1の基板上に第1の金属薄膜を成膜する工程と、該第
1の金属薄膜をレーザーによりパターニングする工程
と、該透明電極パターンおよび第1の金属パターンを有
する該第1の基板上に第2の感光性金属ペーストを全面印
刷・乾燥する工程と、該第2の金属印刷膜を露光機もし
くはレーザーによりパターン露光する工程と、露光され
た該第2の金属印刷膜を現像する工程と、現像された該
第2の金属パターンを焼成する工程よりなることを特徴
とするガス放電型表示装置の製造方法。
9. A second substrate comprising: a first substrate having a plurality of first electrodes; and a plurality of second electrodes disposed so as to intersect the first electrodes and a partition partitioning a discharge space. A method for manufacturing a gas discharge type display device comprising: a substrate; and a method for forming an electrode other than a transparent electrode among the first electrodes,
A step of forming a first metal thin film on the first substrate, a step of patterning the first metal thin film with a laser, and the first substrate having the transparent electrode pattern and the first metal pattern. A step of printing and drying a second photosensitive metal paste on the entire surface, a step of pattern-exposing the second metal printed film by an exposure machine or a laser, and developing the exposed second metal printed film. And a step of baking the developed second metal pattern.
【請求項10】複数の第1の電極を有する第1の基板と、
該第1の電極と交差するように配置された複数の第2の電
極と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板とを備
えたガス放電型表示装置の製造方法であって、 該第1の電極のうち透明電極以外の電極の形成方法が、
該第1の基板上に第1の金属薄膜を成膜する工程と、該第
1の金属薄膜をレーザーによりパターニングする工程
と、該透明電極パターンおよび第1の金属パターンを有
する該第1の基板上に第2の金属ペーストをパターン印刷
・乾燥する工程と、該第2の金属パターンを焼成する工
程よりなることを特徴とするガス放電型表示装置の製造
方法。
10. A first substrate having a plurality of first electrodes,
A method for manufacturing a gas discharge display device, comprising: a second substrate having a plurality of second electrodes disposed so as to intersect with the first electrodes and a partition partitioning a discharge space; and The method of forming an electrode other than the transparent electrode among the one electrode is as follows:
A step of forming a first metal thin film on the first substrate, a step of patterning the first metal thin film with a laser, and the first substrate having the transparent electrode pattern and the first metal pattern. A method for manufacturing a gas discharge display device, comprising: a step of pattern printing and drying a second metal paste thereon; and a step of firing the second metal pattern.
【請求項11】複数の第1の電極を有する第1の基板と、
該第1の電極と交差するように配置された複数の第2の電
極と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板とを備
えたガス放電型表示装置の製造方法であって、 該第1の電極の形成方法が、該第1の基板上に第1の金属
薄膜を成膜する工程と、該第1の金属薄膜をレーザーに
よりパターニングする工程と、該第1の金属薄膜パター
ンを有する該第1の基板上に透明電極膜を成膜する工程
と、該透明電極をレーザーによりパターニングする工程
と、該第1の金属薄膜パターンと透明電極パターンを有
する第1の基板に第2の感光性金属ペーストを全面印刷
・乾燥する工程と、該第2の金属印刷膜を露光機もしく
はレーザーによりパターン露光する工程と、露光された
該第2の金属印刷膜を現像する工程と、現像された該第
2の金属パターンを焼成する工程よりなることを特徴と
するガス放電型表示装置の製造方法。
11. A first substrate having a plurality of first electrodes,
A method for manufacturing a gas discharge display device, comprising: a second substrate having a plurality of second electrodes disposed so as to intersect with the first electrodes and a partition partitioning a discharge space; and A method of forming one electrode includes a step of forming a first metal thin film on the first substrate, a step of patterning the first metal thin film by a laser, and a step of patterning the first metal thin film. A step of forming a transparent electrode film on the first substrate, a step of patterning the transparent electrode by laser, and a step of forming a second photosensitive film on the first substrate having the first metal thin film pattern and the transparent electrode pattern. A step of printing and drying the entirety of the conductive metal paste, a step of pattern-exposing the second metal print film with an exposure machine or a laser, and a step of developing the exposed second metal print film. A step of firing the second metal pattern Method for manufacturing a gas discharge display device characterized by comprising more.
【請求項12】複数の第1の電極を有する第1の基板と、
該第1の電極と交差するように配置された複数の第2の電
極と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板とを備
えたガス放電型表示装置の製造方法であって、 該第1の電極の形成方法が、該第1の基板上に第1の金属
薄膜を成膜する工程と、該第1の金属薄膜をレーザーに
よりパターニングする工程と、該第1の金属薄膜パター
ンを有する該第1の基板上に透明電極膜を成膜する工程
と、該第1の金属薄膜パターンと透明電極パターンを有
する第1の基板に第2の金属ペーストをパターン印刷・
乾燥する工程と、該透明電極をレーザーによりパターニ
ングする工程と、該第2の金属パターンを焼成する工程
よりなることを特徴とするガス放電型表示装置の製造方
法。
12. A first substrate having a plurality of first electrodes,
A method for manufacturing a gas discharge display device, comprising: a second substrate having a plurality of second electrodes disposed so as to intersect with the first electrodes and a partition partitioning a discharge space; and A method of forming one electrode includes a step of forming a first metal thin film on the first substrate, a step of patterning the first metal thin film by a laser, and a step of patterning the first metal thin film. Forming a transparent electrode film on the first substrate, and pattern printing / printing a second metal paste on the first substrate having the first metal thin film pattern and the transparent electrode pattern.
A method for manufacturing a gas discharge display device, comprising: a step of drying; a step of patterning the transparent electrode with a laser; and a step of firing the second metal pattern.
【請求項13】複数の第1の電極を有する第1の基板と、
該第1の電極と交差するように配置された複数の第2の電
極と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板とを備
えたガス放電型表示装置の製造方法であって、 該第1の電極の形成方法が、該第1の基板上に第1の金属
薄膜を成膜する工程と、該第1の金属薄膜をレーザーに
よりパターニングする工程と、該第1の金属薄膜パター
ンを有する該第1の基板上に透明電極膜を成膜する工程
と、該第1の金属薄膜パターンと透明電極パターンを有
する第1の基板に第2の感光性金属ペーストを全面印刷
・乾燥する工程と、該第2の金属印刷膜を露光機もしく
はレーザーによりパターン露光する工程と、露光された
該第2の金属印刷膜を現像する工程と、該透明電極をレ
ーザーによりパターニングする工程と、現像された該第
2の金属パターンを焼成する工程よりなることを特徴と
するガス放電型表示装置の製造方法。
13. A first substrate having a plurality of first electrodes,
A method for manufacturing a gas discharge display device, comprising: a second substrate having a plurality of second electrodes disposed so as to intersect with the first electrodes and a partition partitioning a discharge space; and A method of forming one electrode includes a step of forming a first metal thin film on the first substrate, a step of patterning the first metal thin film by a laser, and a step of patterning the first metal thin film. Forming a transparent electrode film on the first substrate, and printing and drying a second photosensitive metal paste on the entire surface of the first substrate having the first metal thin film pattern and the transparent electrode pattern. A step of pattern-exposing the second metal print film with an exposure machine or a laser, a step of developing the exposed second metal print film, a step of patterning the transparent electrode with a laser, and A step of firing the second metal pattern Method for manufacturing a gas discharge display device characterized by comprising more.
【請求項14】複数の第1の電極を有する第1の基板と、
該第1の電極と交差するように配置された複数の第2の電
極と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板とを備
えたガス放電型表示装置の製造方法であって、 該第1の電極の形成方法が、該第1の基板上に第1の金属
薄膜を成膜する工程と、該第1の金属薄膜をレーザーに
よりパターニングする工程と、該第1の金属薄膜パター
ンを有する該第1の基板上に透明電極膜を成膜する工程
と、該第1の金属薄膜パターンと透明電極ハ゜ターンを有す
る第1の基板に第2の金属ペーストをパターン印刷・乾
燥する工程と、該第2の金属パターンを焼成する工程
と、該透明電極をレーザーによりパターニングする工程
よりなることを特徴とするガス放電型表示装置の製造方
法。
14. A first substrate having a plurality of first electrodes,
A method for manufacturing a gas discharge display device, comprising: a second substrate having a plurality of second electrodes disposed so as to intersect with the first electrodes and a partition partitioning a discharge space; and A method of forming one electrode includes a step of forming a first metal thin film on the first substrate, a step of patterning the first metal thin film by a laser, and a step of patterning the first metal thin film. Forming a transparent electrode film on the first substrate, printing and drying a second metal paste on a first substrate having the first metal thin film pattern and the transparent electrode pattern, A method for manufacturing a gas discharge display device, comprising: a step of firing a second metal pattern; and a step of patterning the transparent electrode with a laser.
【請求項15】複数の第1の電極を有する第1の基板と、
該第1の電極と交差するように配置された複数の第2の電
極と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板とを備
えたガス放電型表示装置の製造方法であって、 該第2の電極の形成方法が、該第2の基板上に第1の金
属薄膜、第2の金属薄膜、第1の金属薄膜の順に積層成
膜する工程と、該積層膜の最上層の第1の金属薄膜をレ
ーザーによりパターニングする工程と、該最上層の第1
の金属パターンをレジストとして第2の金属薄膜をエッ
チングする工程と、該第2の金属パターンをレジストと
して第1の金属薄膜をエッチングする工程よりなること
を特徴とするガス放電型表示装置の製造方法。
15. A first substrate having a plurality of first electrodes,
A method for manufacturing a gas discharge display device, comprising: a second substrate having a plurality of second electrodes disposed so as to intersect with the first electrodes and a partition partitioning a discharge space; and Forming a first metal thin film, a second metal thin film, and a first metal thin film on the second substrate in this order; Patterning the metal thin film by laser with the first layer of the uppermost layer.
Etching a second metal thin film using the second metal pattern as a resist, and etching the first metal thin film using the second metal pattern as a resist. .
【請求項16】複数の第1の電極を有する第1の基板と、
該第1の電極と交差するように配置された複数の第2の電
極と放電空間を仕切る隔壁とを有する第2の基板とを備
えたガス放電型表示装置の製造方法であって、 該第2の電極の形成方法が、該第2の基板上に第1の金
属薄膜、第2の金属薄膜、第1の金属薄膜の順に積層成
膜する工程と、該積層膜の最上層の第1の金属薄膜をレ
ーザーによりパターニングする工程と、該最上層の第1
の金属パターンをレジストとして第2の金属薄膜をエッ
チングする工程と、該第1の金属薄膜をレーザーにより
パターニングする工程よりなることを特徴とするガス放
電型表示装置の製造方法。
16. A first substrate having a plurality of first electrodes,
A method for manufacturing a gas discharge display device, comprising: a second substrate having a plurality of second electrodes disposed so as to intersect with the first electrodes and a partition partitioning a discharge space; and Forming a first metal thin film, a second metal thin film, and a first metal thin film on the second substrate in this order; Patterning the metal thin film by laser with the first layer of the uppermost layer.
A method of etching a second metal thin film using said metal pattern as a resist, and a step of patterning said first metal thin film with a laser.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006068153A1 (en) * 2004-12-22 2006-06-29 Asahi Glass Co., Ltd. Pattern forming method and electronic circuit manufactured by same
WO2006070648A1 (en) * 2004-12-27 2006-07-06 Asahi Glass Co., Ltd. Pattern forming method and electronic circuit
WO2006070649A1 (en) * 2004-12-27 2006-07-06 Asahi Glass Co., Ltd. Pattern forming method and electronic circuit

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