JPH11204042A - Electrode structure of display panel and formation thereof - Google Patents
Electrode structure of display panel and formation thereofInfo
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- JPH11204042A JPH11204042A JP674398A JP674398A JPH11204042A JP H11204042 A JPH11204042 A JP H11204042A JP 674398 A JP674398 A JP 674398A JP 674398 A JP674398 A JP 674398A JP H11204042 A JPH11204042 A JP H11204042A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はコンピュータの表示
端末や表示装置、或いはテレビ表示等に用いられるガス
放電表示パネル等の表示パネルの電極構造とその電極形
成方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrode structure of a display panel such as a gas discharge display panel used for a display terminal or a display device of a computer or a television display, and a method of forming the electrode.
【０００２】ガス放電を利用した表示パネルとして知ら
れる例えばプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、
一般に表示の輝度及びコントラストの点で優れているこ
とから、ＯＡ機器の表示手段として広く用いられ、近年
ではカラー化によるテレビジョン表示が可能であること
から、大型化が容易な薄型のフルカラーフラットパネル
ディスプレイとして注目されている。そのため、前記フ
ラットパネルとしては大画面、高精細でコントラストの
良い鮮明な高表示品質の画面の実現が要望されている。[0002] For example, a plasma display panel (PDP) known as a display panel using gas discharge is
In general, it is excellent in terms of display brightness and contrast, so it is widely used as a display means of OA equipment. In recent years, since it is possible to display television by colorization, a thin full-color flat panel which is easy to enlarge is easy. It is attracting attention as a display. Therefore, there is a demand for the flat panel to realize a large screen, high definition, a clear, high-contrast screen with good contrast.
【０００３】[0003]
【従来の技術】従来の例えばＡＣ駆動型のガス放電表示
パネルとして、カラー表示用面放電型のプラズマディス
プレイパネル（ＰＤＰ）の基本的な構造としては、図５
の要部分解斜視図に示すようにマトリクス表示の単位発
光領域ＥＵに一対のＸ，Ｙからなる放電電極対（表示電
極）12とアドレス電極Ａとが対向する３電極構造を有し
ている。2. Description of the Related Art As a conventional gas discharge display panel of, for example, an AC drive type, the basic structure of a surface discharge type plasma display panel (PDP) for color display is shown in FIG.
As shown in an exploded perspective view of the main part of FIG. 1, a unit electrode area EU of a matrix display has a three-electrode structure in which a pair of discharge electrodes (display electrodes) 12 composed of a pair of X and Y and an address electrode A face each other.
【０００４】この表示ラインを形成する面放電のための
Ｘ，Ｙからなる放電電極対12は、放電空間24に対して表
示面Ｈ側のガラス基板11上に設けられており、表示光の
遮光を最小限にするためにネサ膜やＩＴＯ（Indium Tin
Oxide) 膜などの透明導電膜からなる透明電極12a 上
に、該透明電極12a よりも細幅でその導電性を補う (低
抵抗化) ための金属膜からなる金属バス電極12b を積層
した構成とされている。A discharge electrode pair 12 composed of X and Y for surface discharge forming the display line is provided on the glass substrate 11 on the display surface H side with respect to the discharge space 24, and shields display light. In order to minimize the nesa film and ITO (Indium Tin
Oxide) A structure in which a metal bus electrode 12b made of a metal film for supplementing the conductivity (lower resistance) with a width smaller than that of the transparent electrode 12a is laminated on a transparent electrode 12a made of a transparent conductive film such as a film. Have been.
【０００５】またその放電電極対12上は壁電荷を利用し
てガス放電を維持するＡＣ駆動のための誘電体層13によ
って放電空間24に対して絶縁状態に被覆されており、該
誘電体層13の表面には更に数千Å程度の厚さのMgＯ膜か
らなる保護膜14が設けられている。The discharge electrode pair 12 is covered with a dielectric layer 13 for AC driving for maintaining a gas discharge using wall charges in an insulating state with respect to the discharge space 24. On the surface of 13, a protective film 14 made of a MgO film having a thickness of about several thousand degrees is further provided.
【０００６】一方、単位発光領域ＥＵを選択的に発光さ
せるためのアドレス電極Ａは、背面側のガラス基板21上
に、前記Ｘ，Ｙからなる放電電極対12と直交するように
一定のピッチで配列され、各アドレス電極Ａの間には所
定高さのストライプ状の隔壁22が設けられ、これによっ
て放電空間24がライン方向 (放電電極対12の長さ方向)
に単位発光領域ＥＵ毎に区画され、かつ放電空間24の間
隔寸法が規定されている。On the other hand, the address electrodes A for selectively emitting light in the unit light emitting region EU are arranged on the glass substrate 21 on the rear side at a constant pitch so as to be orthogonal to the discharge electrode pair 12 composed of X and Y. The stripe-shaped barrier ribs 22 having a predetermined height are provided between the address electrodes A so that the discharge space 24 is formed in the line direction (the length direction of the discharge electrode pair 12).
Are defined for each unit light emitting area EU, and the interval dimension of the discharge space 24 is defined.
【０００７】更に、前記ガラス基板21には、アドレス電
極Ａの上面及び隔壁22の側面を含めた背面側の内面を被
覆するように、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の３原色
の蛍光体23が設けられている。そしてこのような構成の
ＰＤＰ１では各色の蛍光体23は面放電時に放電空間24内
のガス放電より放射される紫外線により励起されて発光
し、Ｒ，Ｇ，Ｂの組合せによるフルカラー表示が可能で
あり、その表示に際して隔壁22により単位発光領域ＥＵ
間のクロストークが防止されている。Further, the glass substrate 21 is coated with R (red), G (green), and B (blue) so as to cover the inner surface on the back side including the upper surface of the address electrode A and the side surface of the partition wall 22. A phosphor 23 of three primary colors is provided. In the PDP 1 having such a configuration, the phosphors 23 of each color are excited by ultraviolet rays radiated from the gas discharge in the discharge space 24 at the time of surface discharge to emit light, and a full-color display by a combination of R, G, and B is possible. In the display, the unit light emitting region EU is formed by the partition 22.
Crosstalk between them is prevented.
【０００８】以上の構成のＰＤＰ１は、上述のように各
ガラス基板11と21に対して個別に所定の構成要素を設け
た後、該ガラス基板11と21とを対向配置してその間隙の
周囲を気密に封止して内部を一旦真空に排気すると共
に、放電ガスを封入する一連の工程によって製造されて
いる。In the PDP 1 having the above structure, predetermined components are individually provided for each of the glass substrates 11 and 21 as described above, and then the glass substrates 11 and 21 are arranged to face each other and the periphery of the gap is provided. And hermetically sealed to evacuate the interior once and at the same time enclose a discharge gas.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記した従
来のＰＤＰ１におけるＸ，Ｙからなる放電電極対（表示
電極）12は、図６の要部斜視図に示すように表示面側の
ガラス基板11の表面に対して透明電極12a と、その透明
電極12a 上にその導電性を補う（低抵抗化）ための細幅
の金属バス電極12b として電気的特性とガラス基板11お
よび誘電体層などとの密着性に優れたクロム(Cr)−銅(C
u)−クロム(Cr)の三層構造の金属膜、または銀(Ag)等の
金属膜をスパッタリング工程、または真空蒸着工程とフ
ォトリソグラフィ工程等により重ねて形成していた。By the way, the discharge electrode pair (display electrode) 12 composed of X and Y in the above-mentioned conventional PDP 1 is provided with a glass substrate 11 on the display surface side as shown in a perspective view of a main part of FIG. The electrical characteristics of the transparent electrode 12a and the glass substrate 11 and the dielectric layer as a narrow metal bus electrode 12b on the transparent electrode 12a to supplement its conductivity (lower resistance) Chromium (Cr) -copper (C
A metal film having a three-layer structure of u) -chromium (Cr) or a metal film such as silver (Ag) is formed by a sputtering process, a vacuum deposition process, and a photolithography process.
【００１０】ところが、該ＰＤＰ１の大画面化、高精細
化に伴って前記放電電極対（表示電極）12の電極長も長
く、電極幅も細線化されるので、そのような放電電極対
12の電気抵抗が大きくなり、その電気抵抗の低抵抗化の
ためには積層する金属バス電極12a を厚くする必要があ
る。However, as the PDP 1 has a larger screen and higher definition, the electrode length of the discharge electrode pair (display electrode) 12 is longer and the electrode width is thinner.
12, the electrical resistance of the metal bus electrode 12a increases, and it is necessary to increase the thickness of the metal bus electrode 12a to be laminated in order to reduce the electrical resistance.
【００１１】しかし、厚い金属バス電極を積層した細く
て長い放電電極パターンの形成が難しく、また金属バス
電極の膜厚増加により放電電極形成後の基板面の凹凸も
大きくなる。この基板面の凹凸の大きさは１０μｍ程度
の一定レベル以下であれば放電パネルの特性上では特に
問題はないが、しかし、その後の基板面に誘電体層13や
保護膜14を形成する際に該基板面と段差の大きい放電電
極対12に対する誘電体層13や保護膜14の被覆性が悪くな
り、それらの工程が煩雑になるという問題が生じる。However, it is difficult to form a thin and long discharge electrode pattern in which thick metal bus electrodes are stacked, and the thickness of the metal bus electrodes increases, so that the unevenness of the substrate surface after the formation of the discharge electrodes becomes large. If the size of the irregularities on the substrate surface is not more than a certain level of about 10 μm, there is no particular problem in the characteristics of the discharge panel. However, when forming the dielectric layer 13 and the protective film 14 on the substrate surface thereafter, The coverage of the dielectric layer 13 and the protective film 14 with respect to the discharge electrode pair 12 having a large difference in level from the substrate surface is deteriorated, resulting in a problem that those steps become complicated.
【００１２】そこで上記した問題点を解決するために、
例えば図７に示すように、前記表示面側のガラス基板11
の内面にフォトエッチング工程により前記各放電電極対
の幅狭の金属バス電極のパターンと厚さに対応する凹部
31を形成し、その各凹部31内にAg等の金属ペーストを用
いたスクリーン印刷法やレジストマスク等を用いたスパ
ッタリング法とリフトオフ法等によってCr−Cu−Crの三
層構造の金属導電材を埋め込んで金属バス電極32b を埋
設する。In order to solve the above-mentioned problems,
For example, as shown in FIG. 7, the glass substrate 11 on the display surface side
A concave portion corresponding to the pattern and thickness of the narrow metal bus electrode of each discharge electrode pair by a photo-etching process on the inner surface of
A metal conductive material having a three-layer structure of Cr-Cu-Cr is formed in each concave portion 31 by a screen printing method using a metal paste such as Ag, a sputtering method using a resist mask, a lift-off method, or the like. The metal bus electrode 32b is buried.
【００１３】その各金属バス電極32b が埋め込まれた基
板面に、スパッタリング法等により酸化錫（SnO2）膜、
またはＩＴＯ (Indium Tin Oxide) 等の透明導電膜を形
成し、該透明導電膜をフォトリソグラフィ工程で前記金
属バス電極32b よりも幅広のストライプ状にパターニン
グして平行に隣接するＸ，Ｙからなる一対の透明電極32
a を所定間隔をもって前記金属バス電極32b と積層して
形成し、放電電極対 (表示電極)33 を構成する。A tin oxide (SnO 2 ) film is formed on the substrate surface in which each metal bus electrode 32b is embedded by a sputtering method or the like.
Alternatively, a transparent conductive film such as ITO (Indium Tin Oxide) is formed, and the transparent conductive film is patterned in a stripe shape wider than the metal bus electrode 32b by a photolithography process, and a pair of X and Y adjacent in parallel is formed. Transparent electrode 32
a are laminated with the metal bus electrode 32b at a predetermined interval to form a discharge electrode pair (display electrode) 33.
【００１４】その後、前記放電電極対33が配列されたガ
ラス基板11上の全表面に、スクリーン印刷法やスパッタ
リング法等により誘電体層及びMgＯからなる保護膜を形
成することによって、前記放電電極対33を細幅にするこ
とで高められる電気抵抗値を低減するための金属バス電
極32b の膜厚を厚くすることができ、しかも前記放電電
極対33が配列された基板表面の凹凸を僅少にした所望の
表示面側のガラス基板11を得る方法が提案されている。Thereafter, a protective layer made of a dielectric layer and MgO is formed on the entire surface of the glass substrate 11 on which the discharge electrode pairs 33 are arranged by a screen printing method, a sputtering method, or the like. By reducing the width of 33, the thickness of the metal bus electrode 32b for reducing the increased electric resistance value can be increased, and the unevenness of the substrate surface on which the discharge electrode pairs 33 are arranged is reduced. A method of obtaining a glass substrate 11 on a desired display surface side has been proposed.
【００１５】しかしながら、上述した従来の何れの電極
構造においても、表示パネルの大画面化に伴う金属バス
電極の細線化による電気抵抗の増加は避けられず、それ
に起因して表示輝度が低下し、表示品質を著しく悪くす
る問題と、特に大型化による金属バス電極の電極長の増
加に比例して電極断線の発生が益々増大するという問題
があった。However, in any of the above-described conventional electrode structures, an increase in the electric resistance due to the thinning of the metal bus electrodes accompanying the enlargement of the screen of the display panel is inevitable, and the display luminance is reduced due to this. There is a problem that display quality is remarkably deteriorated, and that the occurrence of electrode disconnection increases more and more in proportion to an increase in the electrode length of the metal bus electrode particularly due to an increase in size.
【００１６】本発明は上記した従来の問題点に鑑み、少
なくとも表示面側の透明な絶縁性基板の表面に設ける金
属電極と透明電極とからなる放電電極（表示電極）の構
造を改良して、高精細化と長尺化された放電電極を低抵
抗化すると共に、電極断線を低減して、表示パネルの大
画面化と高精細化に対する表示品質の向上を図った新規
な表示パネルの電極構造とその形成方法を提供すること
を目的とするものである。In view of the above-mentioned conventional problems, the present invention has improved the structure of a discharge electrode (display electrode) comprising a metal electrode and a transparent electrode provided on at least the surface of a transparent insulating substrate on the display surface side. A new display panel electrode structure that reduces the resistance of high-definition and long discharge electrodes and reduces electrode disconnection, resulting in a larger display panel and improved display quality for higher definition. And a method for forming the same.
【００１７】[0017]
【課題を解決するための手段】本発明は上記した目的を
達成するため、少なくとも一方の透明な絶縁性基板の表
面に、透明電極と金属電極とからなる放電電極を有する
表示パネルの電極構造であって、前記放電電極は、前記
透明電極よりも細幅で前記絶縁性基板の表面に凹部状に
埋設された第１金属電極と、該第１金属電極上に積層さ
れ、かつ前記第１金属電極と接触する領域に開口部を有
する透明電極と、前記第１金属電極と対向して該透明電
極上に積層された第２金属電極とからなり、前記第１金
属電極と前記第２金属電極とは前記開口部を介して接続
されている構成とする。In order to achieve the above object, the present invention provides an electrode structure of a display panel having a discharge electrode comprising a transparent electrode and a metal electrode on at least one transparent insulating substrate. The discharge electrode has a width smaller than that of the transparent electrode, a first metal electrode buried in a concave shape on the surface of the insulating substrate, and a first metal electrode laminated on the first metal electrode; A transparent electrode having an opening in a region in contact with the electrode, and a second metal electrode opposed to the first metal electrode and laminated on the transparent electrode, wherein the first metal electrode and the second metal electrode Are connected via the opening.
【００１８】また、前記第２金属電極は、前記第１金属
電極と略同一の幅を有し、かつ前記第１金属電極よりも
薄い膜厚で形成されてなる構成とする。このような第１
及び第３の発明の構成によれば、第１金属電極の膜厚を
かなり厚くすることができ、その分、第２金属電極の膜
厚を薄くすることができるので、その後のこれら放電電
極を含む前記絶縁性基板上に被着する誘電体層や保護膜
等の被覆性が良好で、これら表面の凹凸を僅少化するこ
とが可能になる。しかも前記第１、第２の二つの金属電
極により放電電極の抵抗を従来よりも更に低抵抗化する
ことができる。Further, the second metal electrode has substantially the same width as the first metal electrode, and is formed to be thinner than the first metal electrode. Such first
According to the configuration of the third aspect, the thickness of the first metal electrode can be considerably increased, and the thickness of the second metal electrode can be reduced accordingly. The covering properties of the dielectric layer, the protective film, and the like, which are adhered on the insulating substrate, are good, and the irregularities on the surface can be reduced. Moreover, the resistance of the discharge electrode can be further reduced by the first and second two metal electrodes as compared with the conventional case.
【００１９】また、第１、第２金属電極同士を透明電極
に設けた開口部を通して直接接続させた構成としている
ので、該透明電極に対する前記二つの金属電極の密着力
が著しく向上し、本来、該透明電極に対して密着力の弱
い金属電極が剥離するという恐れがなくなると共に、何
れか一方の金属電極、或いは透明電極に断線が生じるよ
うなことがあっても、その放電電極の全体に対する通電
状態を維持することができる。Further, since the first and second metal electrodes are directly connected to each other through an opening provided in the transparent electrode, the adhesion between the two metal electrodes to the transparent electrode is remarkably improved. There is no danger that a metal electrode having a weak adhesion to the transparent electrode will peel off, and even if a disconnection occurs in either one of the metal electrodes or the transparent electrode, the entire discharge electrode is energized. State can be maintained.
【００２０】更に、少なくとも一方の透明な絶縁性基板
の表面に、透明電極と金属電極とからなる放電電極を有
する表示パネルの電極構造であって、前記放電電極は、
前記絶縁性基板の表面に前記透明電極よりも細幅で凹部
状に埋設された下側の第１金属電極と、該第１金属電極
の長手方向に沿って一部が重なるように積層された透明
電極と、該透明電極上から前記第１金属電極上に該透明
電極を挟み込むように対応して積層した上側の第２金属
電極とからなる三層構造とする。Further, the electrode structure of a display panel having a discharge electrode composed of a transparent electrode and a metal electrode on at least one transparent insulating substrate, wherein the discharge electrode comprises:
A lower first metal electrode buried in a concave shape with a width smaller than that of the transparent electrode on the surface of the insulating substrate, and laminated so as to partially overlap with each other along the longitudinal direction of the first metal electrode. It has a three-layer structure including a transparent electrode and an upper second metal electrode which is laminated so as to sandwich the transparent electrode on the first metal electrode from above the transparent electrode.
【００２１】また、前記第２金属電極は、前記第１金属
電極と略同一の幅を有し、かつ前記第１金属電極よりも
薄い膜厚で形成されてなる構成とする。このような第２
及び第３の発明の構成によれば、第１金属電極と第２金
属電極とで前記透明電極の長手方向に沿った一部を挟み
込み、他の各金属電極部分は前記透明電極外で直接接続
させた構成としているので、この構成においても、第１
金属電極の膜厚を厚く、第２金属電極の膜厚を薄くする
ことができ、これら放電電極の配設密度（配設ピッチ）
は第１の発明の構成に多少は劣るが、その後のこれら放
電電極を含む前記絶縁性基板上に被着する誘電体層や保
護膜等の被覆性が良好で、これら表面の凹凸を僅少化す
ることが可能になる。Further, the second metal electrode has substantially the same width as the first metal electrode, and is formed to have a smaller thickness than the first metal electrode. Such a second
According to the configuration of the third aspect, the first metal electrode and the second metal electrode sandwich a part of the transparent electrode along the longitudinal direction, and the other metal electrode portions are directly connected outside the transparent electrode. In this configuration, the first
The thickness of the metal electrode can be increased, and the thickness of the second metal electrode can be reduced.
Is somewhat inferior to the structure of the first invention, but has good coverage of the dielectric layer and the protective film, etc., which are subsequently deposited on the insulating substrate including these discharge electrodes, and reduces the irregularities on these surfaces. It becomes possible to do.
【００２２】しかも該透明電極に対する第１、第２金属
電極の密着力は、該第１、第２金属電極同士の直接接着
する面積が第１の発明の構成よりも大きくより強力とな
るので、本来、透明電極に対する密着力の弱い金属電極
が剥離するという恐れがなくなり、該上下二つの金属電
極によって放電電極の抵抗を従来より効果的に低抵抗化
することができると共に、何れか一方の金属電極、或い
は透明電極に断線が生じることがあっても、その放電電
極の全体に対する通電状態を維持することができる。Further, the adhesion of the first and second metal electrodes to the transparent electrode is larger because the area where the first and second metal electrodes are directly adhered to each other is larger than that of the first aspect of the present invention. Originally, there is no danger that a metal electrode having a weak adhesion to the transparent electrode will peel off, and the upper and lower two metal electrodes can reduce the resistance of the discharge electrode more effectively than before, and at the same time, either one metal Even if a disconnection occurs in the electrode or the transparent electrode, it is possible to maintain a current-carrying state for the entire discharge electrode.
【００２３】更に、上記した表示パネルの放電電極の形
成方法としては、前記絶縁性基板の表面に透明電極より
も幅狭の金属電極に対応する凹部を形成する工程と、該
凹部内に金属導電材を埋め込んで下側の金属電極を形成
する工程と、埋設された下側の金属電極上を含む前記絶
縁性基板の表面に透明導電膜を形成し、該透明導電膜を
パターニングして前記下側の金属電極上に、該下側の金
属電極よりも幅広の透明電極を形成する工程と、前記透
明電極の下側と上側の金属電極と接触する領域に、複数
の開口部を設ける工程と、その透明電極が形成された前
記絶縁性基板の表面に、フォトレジスト膜を形成し、該
フォトレジスト膜を前記下側の金属電極をマスクにして
露光・現像して上側の金属電極に対応する部分が除去さ
れたレジストマスクを形成する工程と、該レジストマス
クを介して前記透明電極上に前記下側の金属電極と対応
する上側の金属電極を形成する工程を用いる。Further, as a method of forming the above-mentioned discharge electrode of the display panel, a step of forming a concave portion corresponding to a metal electrode narrower than the transparent electrode on the surface of the insulating substrate; Burying a material to form a lower metal electrode, forming a transparent conductive film on the surface of the insulating substrate including the buried lower metal electrode, patterning the transparent conductive film, Forming a transparent electrode wider than the lower metal electrode on the side metal electrode, and providing a plurality of openings in a region in contact with the lower and upper metal electrodes of the transparent electrode. Forming a photoresist film on the surface of the insulating substrate on which the transparent electrode is formed, exposing and developing the photoresist film using the lower metal electrode as a mask to correspond to the upper metal electrode; Part of the resist mass removed Forming a, using a step of forming an upper metal electrode corresponding to the lower side of the metal electrode on the transparent electrode through the resist mask.
【００２４】上記した形成工程によれば、前記絶縁性基
板の表面に凹部状に埋め込まれている下側の金属電極上
に、該下側の金属電極よりも幅広の透明電極を形成し、
該透明電極が形成された前記絶縁性基板の表面に、フォ
トレジスト膜を形成し、該フォトレジスト膜を前記下側
の金属電極をマスクにして前記絶縁性基板の裏面側より
露光し、現像するセルフアライメントにより上側の金属
電極形成用のレジストマスクを形成することにより、該
レジストマスクを形成時のフォトマスク及び該フォトマ
スクの位置合わせを必要せず、その工程を削減すること
ができる。According to the above-described forming step, a transparent electrode wider than the lower metal electrode is formed on the lower metal electrode embedded in a concave shape on the surface of the insulating substrate,
A photoresist film is formed on the surface of the insulating substrate on which the transparent electrode is formed, and the photoresist film is exposed and developed from the back surface side of the insulating substrate using the lower metal electrode as a mask. By forming a resist mask for forming an upper metal electrode by self-alignment, a photomask for forming the resist mask and alignment of the photomask are not required, and the number of steps can be reduced.
【００２５】次に形成された前記レジストマスクを介し
て前記透明電極上に前記下側の金属電極と対応する上側
の金属電極を形成することにより、該上側の金属電極を
前記透明電極を介して下側の金属電極と位置精度良く対
応させた状態に容易に形成することが可能となる。Next, by forming an upper metal electrode corresponding to the lower metal electrode on the transparent electrode via the formed resist mask, the upper metal electrode is connected to the lower metal electrode via the transparent electrode. It is possible to easily form a state in which the lower metal electrode and the lower metal electrode correspond to each other with high positional accuracy.
【００２６】[0026]
【発明の実施の形態】以下図面を用いて本発明の実施例
について詳細に説明する。図１は本発明の表示パネルの
電極構造をガス放電表示パネルの電極構造を対象とした
場合の一実施例を示す要部断面斜視図であり、図７と同
等の機能を有する部分には同一符号を付している。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional perspective view showing a main part of an embodiment in which the electrode structure of the display panel of the present invention is applied to the electrode structure of a gas discharge display panel. Signs are attached.
【００２７】本実施例では図示のように、表示面側のガ
ラス基板11の表面に、例えばフォトエッチング工程等に
よって、ストライプ状の一対のＸ放電電極45とＹ放電電
極46からなる放電電極対を透明電極と共に構成する該透
明電極よりも幅狭の金属電極のパターンと厚さに対応す
る凹部31を設け、その各凹部31内に例えば光反射率の比
較的低いクロム(Cr)−銅(Cu)−クロム(Cr)の三層構造の
金属膜からなる第１金属電極41が埋設されている。In this embodiment, as shown in the figure, a pair of discharge electrodes consisting of a pair of stripe-shaped X discharge electrodes 45 and Y discharge electrodes 46 is formed on the surface of the glass substrate 11 on the display surface side by, for example, a photoetching process. A concave portion 31 corresponding to the pattern and thickness of the metal electrode narrower than the transparent electrode to be formed together with the transparent electrode is provided, and in each of the concave portions 31, for example, chromium (Cr) -copper (Cu A first metal electrode 41 made of a metal film having a three-layer structure of) -chromium (Cr) is embedded.
【００２８】その各第１金属電極41上を含むガラス基板
11上には、酸化錫（SnO2）膜、或いはＩＴＯ (Indium T
in Oxide) 等の透明導電膜からなり前記第１金属電極41
よりも幅広の透明電極42が設けられ、しかもその透明電
極42には第１金属電極41と接触する領域に、該第１金属
電極41と前記透明電極42上に設ける第２金属電極43とを
直接接触させる開口部44が穿孔されている。Glass substrate including on each first metal electrode 41
11 is a tin oxide (SnO 2 ) film or ITO (Indium T
in Oxide) and the first metal electrode 41
A wider transparent electrode 42 is provided, and the transparent electrode 42 includes a first metal electrode 41 and a second metal electrode 43 provided on the transparent electrode 42 in a region in contact with the first metal electrode 41. An opening 44 for direct contact is perforated.
【００２９】そしてそのような透明電極42上に前記第１
金属電極41と対応する例えば銀(Ag)膜、或いはクロム(C
r)−銅(Cu)−クロム(Cr)の三層構造の金属膜からなる第
２金属電極43を設けてＸ放電電極45及びＹ放電電極46を
構成する。The first electrode is provided on such a transparent electrode 42.
For example, a silver (Ag) film corresponding to the metal electrode 41, or chromium (C
An X discharge electrode 45 and a Y discharge electrode 46 are formed by providing a second metal electrode 43 made of a metal film having a three-layer structure of r) -copper (Cu) -chromium (Cr).
【００３０】このような実施例の構成によれば、第１金
属電極41の膜厚を前記ガラス基板11上に突出させること
なくかなり厚くすることができ、その分だけ第２金属電
極43の膜厚を薄くすることができるので、その後にこれ
らＸ放電電極45及びＹ放電電極46を含む前記ガラス基板
11上に被着する誘電体層や保護膜等の被覆性が良好で、
これらの表面の凹凸を僅少化することが可能になると共
に、前記透明電極42を挟着された下側の第１金属電極41
と上側の第２金属電極43により、前記Ｘ，Ｙ放電電極4
5, 46の抵抗を従来よりも更に低抵抗化することができ
る。According to the configuration of this embodiment, the thickness of the first metal electrode 41 can be considerably increased without protruding above the glass substrate 11, and the thickness of the second metal electrode 43 can be increased accordingly. Since the thickness can be reduced, the glass substrate including the X discharge electrode 45 and the Y discharge electrode
Good coverage of dielectric layer and protective film to be deposited on 11
These irregularities on the surface can be reduced, and the lower first metal electrode 41 sandwiching the transparent electrode 42 therebetween.
And the upper second metal electrode 43, the X, Y discharge electrodes 4
The resistance of 5, 46 can be further reduced than before.
【００３１】また、前記第１、第２金属電極41、43同士
を透明電極42に設けた複数の開口部44を通して直接的に
密着させているので、該透明電極42に対する密着力が本
来は弱い前記第１、第２金属電極41、43の密着力が大き
く向上し、前記透明電極42に密着している前記第１、第
２金属電極41、43が剥離するという恐れがなくなり、し
かも例え何れか一方の金属電極41か43、或いは透明電極
42に断線が生じることがあっても、その放電電極の全体
への通電状態を維持することが可能となる。Further, since the first and second metal electrodes 41 and 43 are directly adhered to each other through the plurality of openings 44 provided in the transparent electrode 42, the adhesion to the transparent electrode 42 is originally weak. The adhesion between the first and second metal electrodes 41 and 43 is greatly improved, and there is no possibility that the first and second metal electrodes 41 and 43 that are in close contact with the transparent electrode 42 are separated. Either metal electrode 41 or 43 or transparent electrode
Even if the wire 42 is disconnected, it is possible to maintain the state of energization of the entire discharge electrode.
【００３２】次に上記したガス放電表示パネルの電極構
造の形成方法について説明する。図２は及び図３は本発
明表示パネルの電極形成方法をガス放電表示パネルの電
極形成方法を対象とした場合の一実施例を工程順に示す
要部断面図であり、図１と同等の機能を有する部分には
同一符号を付している。Next, a method of forming the electrode structure of the gas discharge display panel will be described. 2 and 3 are cross-sectional views of a main part showing an embodiment in which the electrode forming method of the display panel of the present invention is applied to the electrode forming method of the gas discharge display panel in the order of steps, and have the same functions as those of FIG. Are denoted by the same reference numerals.
【００３３】本実施例では先ず図２(a) に示すように、
表示面側のガラス基板11の表面に、例えば40％含有の弗
化水素酸(HF)：水 (H2O)＝３： 97 のエッチング液を用
いたフォトエッチング工程によって、ストライプ状の一
対のＸ放電電極とＹ放電電極からなる放電電極対を透明
電極とともに構成する該透明電極よりも幅狭の金属電極
のパターンと厚さに対応する例えば２μｍ〜１０μｍ程
度の深さを有する凹部31を形成する。In this embodiment, first, as shown in FIG.
On the surface of the glass substrate 11 on the display surface side, for example, containing 40% hydrofluoric acid (HF): water (H 2 O) = 3: by 97 photo-etching process using an etchant, striped pair A discharge electrode pair consisting of an X discharge electrode and a Y discharge electrode is formed together with a transparent electrode. A concave portion 31 having a depth of, for example, about 2 μm to 10 μm corresponding to the pattern and thickness of a metal electrode narrower than the transparent electrode is formed. I do.
【００３４】次に、その前記凹部31の内部に、例えばレ
ジストマスクを用いたスパッタリング法とリフトオフ法
等により２μｍ〜１０μｍ程度の厚さのクロム(Cr)−銅
(Cu)−クロム(Cr)の三層構造の光反射率が比較的低い金
属膜を充填して下側の第１金属電極41を埋め込んだ状態
に形成する。Next, chromium (Cr) -copper having a thickness of about 2 μm to 10 μm is formed in the recess 31 by, for example, a sputtering method using a resist mask and a lift-off method.
A metal film having a three-layer structure of (Cu) -chromium (Cr) and having a relatively low light reflectance is filled and the lower first metal electrode 41 is buried.
【００３５】次に、図２(b) に示すように、埋設された
前記第１金属電極41を含むガラス基板11上にスパッタリ
ング法、またはスクリーン印刷法等により２０００〜３
０００Åの膜厚の酸化錫（SnO2）膜、またはＩＴＯ (In
dium Tin Oxide) 等の透明導電膜51を形成する。Next, as shown in FIG. 2B, the glass substrate 11 including the buried first metal electrode 41 is formed on the glass substrate 11 by a sputtering method or a screen printing method.
Tin oxide (SnO 2 ) film with a thickness of 2,000 mm or ITO (In
A transparent conductive film 51 such as dium Tin Oxide) is formed.
【００３６】次に、その透明導電膜51上に、透明電極と
開口部を形成するためのレジストマスク52を形成し、該
レジストマスク52を介して前記透明導電膜51を王水、ま
たは塩酸溶液等を用いたエッチング工程によってパター
ニングし、前記レジストマスク52を除去することによ
り、図２(c) に示すように前記した各第１金属電極41上
に、該第１金属電極41よりも幅広の透明電極42と、該透
明電極42の前記第１金属電極41と接触する領域に複数の
開口部44を形成する。Next, a resist mask 52 for forming a transparent electrode and an opening is formed on the transparent conductive film 51, and the transparent conductive film 51 is formed on the transparent conductive film 51 through the resist mask 52 by using aqua regia or hydrochloric acid solution. By performing patterning by an etching process using, for example, and removing the resist mask 52, as shown in FIG. 2C, the first metal electrode 41 is wider than the first metal electrode 41. A plurality of openings are formed in the transparent electrode and a region of the transparent electrode in contact with the first metal electrode.
【００３７】この場合、該開口部44は前記第１金属電極
41と接触する領域に適当な間隔を持って複数個設けてい
る。次に、図３(a) に示すように開口部44を設けた透明
電極42を含むガラス基板11上に、前記第１金属電極41に
対応する第２金属電極を形成するためのレジストマスク
53を形成する。In this case, the opening 44 is provided with the first metal electrode.
A plurality are provided at appropriate intervals in a region in contact with 41. Next, as shown in FIG. 3A, a resist mask for forming a second metal electrode corresponding to the first metal electrode 41 on the glass substrate 11 including the transparent electrode 42 provided with the opening 44.
Form 53.
【００３８】このレジストマスク53の形成方法として
は、先ず、開口部44を設けた透明電極42を含むガラス基
板11上の表面にフォトレジスト膜を塗着し、該フォトレ
ジスト膜を、前記第１金属電極41をマスクにして前記ガ
ラス基板11の裏面側より露光し、現像するセルフアライ
メント法により前記第１金属電極41に対応する第２金属
電極を形成するためのレジストマスク53を形成すること
によって、該レジストマスク形成時のフォトマスク及び
該フォトマスクの位置合わせ等を必要とせず、当該パタ
ーニング工程を簡単にして精度良く行うことが可能とな
る。As a method of forming the resist mask 53, first, a photoresist film is applied to the surface of the glass substrate 11 including the transparent electrode 42 having the opening 44, and the photoresist film is coated with the first film. A resist mask 53 for forming a second metal electrode corresponding to the first metal electrode 41 is formed by a self-alignment method of exposing and developing from the back side of the glass substrate 11 using the metal electrode 41 as a mask. This eliminates the need for a photomask at the time of forming the resist mask and the positioning of the photomask, and enables the patterning process to be performed easily and accurately.
【００３９】次に、図３(b) に示すように前記レジスト
マスク53上に、例えば銀ペーストを用いたスクリーン印
刷法、或いはスパッタリング法等により例えば２〜５μ
ｍの厚さの銀膜、またはクロム(Cr)−銅(Cu)−クロム(C
r)の三層構造等からなる金属膜54を被着した後、前記レ
ジストマスク53を除去すれば該レジストマスク53上の金
属膜も同時に除去されるリフトオフ工程を行うことによ
り、図３(c) に示すように下側の第１金属電極41に対し
て上側の第２金属電極43を前記透明電極42を挟んだ状態
で位置精度よく重畳形成することが可能となる。Next, as shown in FIG. 3 (b), the resist mask 53 is coated on the resist mask 53 by, for example, a screen printing method using a silver paste or a sputtering method, for example, to a thickness of 2 to 5 μm.
m thick silver film, or chrome (Cr) -copper (Cu) -chrome (C
After the metal film 54 having a three-layer structure or the like of r) is applied, if the resist mask 53 is removed, a lift-off process is also performed in which the metal film on the resist mask 53 is also removed at the same time. As shown in (1), the upper second metal electrode 43 can be formed with high positional accuracy on the lower first metal electrode 41 with the transparent electrode 42 interposed therebetween.
【００４０】従って、このように構成された放電電極の
構造では下側の第１金属電極41と上側の第２金属電極43
とが透明電極42に設けた開口部44を通して密着している
ので、該透明電極42に対する前記第１金属電極41と第２
金属電極43との密着力が著しく高められ、前記透明電極
42に密着している前記第１、第２金属電極41、43が剥離
する恐れがなくなり、該放電電極の電気抵抗も従来より
極めて効果的に低抵抗化することが可能となる。Therefore, in the structure of the discharge electrode configured as described above, the lower first metal electrode 41 and the upper second metal electrode 43
Are in close contact with each other through an opening 44 provided in the transparent electrode 42, so that the first metal electrode 41 and the second
The adhesion between the transparent electrode and the metal electrode 43 is significantly increased.
The first and second metal electrodes 41 and 43 which are in close contact with 42 are not likely to be peeled off, and the electric resistance of the discharge electrode can be reduced extremely effectively as compared with the related art.
【００４１】また、何れか一方の金属電極41か43、或い
は透明電極42が部分的に切断されるようなことがあって
も、当該放電電極の全体に対して通電状態を維持するこ
とが可能となる。Even if one of the metal electrodes 41 or 43 or the transparent electrode 42 is partially cut off, it is possible to maintain a current-carrying state for the entire discharge electrode. Becomes
【００４２】なお、下側の第１金属電極41は、前記ガラ
ス基板11の表面に設けた凹部31内に埋設しているので、
その膜厚を前記ガラス基板11上に突出させることなくか
なり厚くすることができ、その分だけ上側の第２金属電
極43の膜厚を薄くすることができるので、その後、これ
らＸ放電電極45及びＹ放電電極46を含む前記ガラス基板
11上に被着する誘電体層や保護膜等の被覆性が良好で、
これらの表面の凹凸を僅少化することができる。Since the lower first metal electrode 41 is embedded in the concave portion 31 provided on the surface of the glass substrate 11,
The film thickness can be considerably increased without protruding above the glass substrate 11, and the film thickness of the upper second metal electrode 43 can be reduced by that much. The glass substrate including the Y discharge electrode 46
Good coverage of dielectric layer and protective film to be deposited on 11
These surface irregularities can be reduced.
【００４３】図４は本発明の表示パネルの電極構造をガ
ス放電表示パネルの電極構造を対象とした場合の他の実
施例を示す要部断面斜視図であり、図１と同等の機能を
有する部分には同一符号を付している。FIG. 4 is a sectional perspective view of a main part showing another embodiment in which the electrode structure of the display panel of the present invention is applied to the electrode structure of a gas discharge display panel, and has the same function as that of FIG. Parts are given the same reference numerals.
【００４４】この図で示す実施例が図１による実施例と
異なる点は、表示面側のガラス基板11の表面に設けた凹
部61、即ち、ストライプ状の一対のＸ放電電極65とＹ放
電電極66からなる放電電極対を透明電極63と共に構成す
る該透明電極63よりも幅狭の金属電極のパターンと厚さ
に対応する例えば２μｍ〜１０μｍ程度の深さを有する
凹部61内に埋設された、例えば光反射率の比較的低いク
ロム(Cr)−銅(Cu)−クロム(Cr)の三層構造の金属膜から
なる第１金属電極62上には、該第１金属電極62の一部に
細幅に重畳して形成された酸化錫（SnO2）膜、或いはＩ
ＴＯ (Indium Tin Oxide) 等の透明導電膜からなる前記
第１金属電極62よりも幅広の透明電極63が設けられてい
る。The embodiment shown in this drawing is different from the embodiment shown in FIG. 1 in that a concave portion 61 provided on the surface of the glass substrate 11 on the display surface side, that is, a pair of stripe-shaped X discharge electrodes 65 and Y discharge electrodes is provided. The discharge electrode pair consisting of 66 is buried in the concave portion 61 having a depth of about 2 μm to 10 μm, for example, corresponding to the pattern and thickness of the metal electrode narrower than the transparent electrode 63 constituting the transparent electrode 63, For example, on a first metal electrode 62 made of a metal film having a three-layer structure of chromium (Cr) -copper (Cu) -chromium (Cr) having a relatively low light reflectance, a part of the first metal electrode 62 Tin oxide (SnO 2 ) film formed to overlap with narrow width, or I
A transparent electrode 63 wider than the first metal electrode 62 made of a transparent conductive film such as TO (Indium Tin Oxide) is provided.
【００４５】また、その透明電極63上には、前記第１金
属電極62と同様な幅形状で、膜厚が例えば２〜５μｍの
銀(Ag)膜、或いはクロム(Cr)−銅(Cu)−クロム(Cr)の三
層構造の金属膜からなる第２金属電極64が、該透明電極
63の一部に細幅に重畳し、かつその他の部分が前記透明
電極63を挟むように前記透明電極63外で前記第１金属電
極62上に直接接触させた接続状態に設けたことである。On the transparent electrode 63, a silver (Ag) film having a width similar to that of the first metal electrode 62 and a thickness of, for example, 2 to 5 μm, or chromium (Cr) -copper (Cu) is used. A second metal electrode 64 made of a metal film having a three-layer structure of chromium (Cr)
63 is provided in a connected state in which the transparent electrode 63 is sandwiched between the transparent electrode 63 and the first metal electrode 62 directly outside the transparent electrode 63 so as to sandwich the transparent electrode 63 therebetween. .
【００４６】このような実施例の構成によっても、ガラ
ス基板11の表面に設けた凹部61内に埋設された第１金属
電極62と第２金属電極64とで透明電極63の長手方向に沿
った一部を鋏んだ状態で、かつ該第１金属電極62と第２
金属電極64との他の部分は前記透明電極63外で直接接続
させているので、図１による実施例と同様に下側の第１
金属電極62の膜厚を厚く、上側の第２金属電極64の膜厚
を薄く設けることができ、これらのＸ放電電極65とＹ放
電電極66の配設ピッチは、図１による実施例の構成より
前記第１、第２金属電極62, 64を透明電極63の表裏面外
へずらして設けた分だけ多少荒くなるが、その後の前記
Ｘ放電電極65とＹ放電電極66を含む前記ガラス基板11上
に被着する誘電体層や保護膜の被覆性が良好でこれら基
板表面の凹凸を僅少化することができる。According to the structure of this embodiment, the first metal electrode 62 and the second metal electrode 64 embedded in the concave portion 61 provided on the surface of the glass substrate 11 extend along the longitudinal direction of the transparent electrode 63. With the first metal electrode 62 and the second metal electrode 62
Since the other part with the metal electrode 64 is directly connected outside the transparent electrode 63, the lower first electrode is similar to the embodiment shown in FIG.
The thickness of the metal electrode 62 can be increased and the thickness of the upper second metal electrode 64 can be reduced. The arrangement pitch of the X discharge electrode 65 and the Y discharge electrode 66 is the same as that of the embodiment shown in FIG. Although the first and second metal electrodes 62 and 64 are shifted slightly outside the front and back surfaces of the transparent electrode 63, the glass substrate 11 including the X discharge electrode 65 and the Y discharge electrode 66 becomes slightly rougher. The coverability of the dielectric layer and the protective film to be deposited thereon is good, and the irregularities on the substrate surface can be reduced.
【００４７】しかも、前記透明電極63に対する第１、第
２金属電極62, 64の密着力が、その第１、第２金属電極
62, 64同士の直接的な接着面積の増加に比例して図１に
よる実施例の構成の場合よりも強力になるので、前記透
明電極63に対して本来密着力の弱い第１、第２金属電極
62, 64が剥離するという恐れがなくなり、上下二つの第
１、第２金属電極62, 64によって前記Ｘ放電電極65及び
Ｙ放電電極66の抵抗を、従来よりも効果的に低抵抗化で
きると共に、前記第１、第２金属電極62, 64の何れか一
方、或いは透明電極63に断線が生じるようなことがあっ
ても、それらのＸ放電電極65及びＹ放電電極66の全体に
対する通電状態を十分に維持することが可能となる。Further, the adhesion of the first and second metal electrodes 62 and 64 to the transparent electrode 63 is increased by the first and second metal electrodes.
The first and second metals, which are originally weaker in adhesion to the transparent electrode 63, are stronger than the structure of the embodiment shown in FIG. electrode
There is no fear that the first and second metal electrodes 62 and 64 will separate the resistance of the X discharge electrode 65 and the Y discharge electrode 66 more effectively than before. Even if a disconnection occurs in one of the first and second metal electrodes 62 and 64 or in the transparent electrode 63, the energized state of the entire X discharge electrode 65 and Y discharge electrode 66 is changed. It is possible to maintain it sufficiently.
【００４８】なお、以上の実施例ではガス放電表示パネ
ルの表示面側のガラス基板11に対して設ける電極構造及
び形成方法について説明しているが、本発明はこの例に
限らず、例えば背面側のガラス基板等に設ける電極構造
及び形成方法にも同様に用いることができる。In the above embodiments, the electrode structure and the formation method provided on the glass substrate 11 on the display surface side of the gas discharge display panel are described. However, the present invention is not limited to this example. Can be similarly used for an electrode structure and a forming method provided on a glass substrate or the like.
【００４９】更に、本実施例ではカラー表示用の面放電
型のプラズマディスプレイを対象としたガス放電表示パ
ネルに適用した場合の例について説明しているが、本発
明はそのようなカラー表示用の面放電型のガス放電表示
パネルに限定されるものではなく、例えばモノクロ表示
用の面放電型のガス放電表示パネルや金属電極と透明電
極とからなる構造の放電電極 (表示電極) を採用してい
る各種の表示パネル等にも適用することができる。Further, in this embodiment, an example is described in which the present invention is applied to a gas discharge display panel intended for a surface discharge type plasma display for color display, but the present invention relates to such a color display. It is not limited to the surface discharge type gas discharge display panel.For example, a surface discharge type gas discharge display panel for monochrome display or a discharge electrode (display electrode) having a structure including a metal electrode and a transparent electrode is adopted. It can be applied to various display panels.
【００５０】[0050]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の表示パネルの電極構造及び形成方法によれば、透明な
絶縁性基板 (ガラス基板) の表面に設ける放電電極とし
て、該絶縁性基板の表面に透明電極よりも細幅で凹部状
に埋設された下側の第１金属電極と上側の第２金属電極
とで透明電極を挟み込み、しかも該第１金属電極と該第
２金属電極とは透明電極に設けた開口部等により互いに
部分的に接続された三層構成の電極構造とすることによ
って、例え前記第１金属電極と第２金属電極の何れか一
方、或いは透明電極が断線してもその三層構成の放電電
極の全体に対する通電状態を十分に維持することが可能
となる。As is clear from the above description, according to the electrode structure and the formation method of the display panel of the present invention, the insulating substrate is used as a discharge electrode provided on the surface of a transparent insulating substrate (glass substrate). A transparent electrode is sandwiched between a lower first metal electrode and an upper second metal electrode embedded in a concave shape with a width smaller than that of the transparent electrode on the surface of the first metal electrode, and the first metal electrode, the second metal electrode, Has a three-layered electrode structure partially connected to each other by an opening or the like provided in the transparent electrode, for example, when one of the first metal electrode and the second metal electrode or the transparent electrode is disconnected. However, it is possible to sufficiently maintain a current-carrying state for the entire three-layered discharge electrode.
【００５１】また、下側の第１金属電極を前記ガラス基
板の表面に設けた凹部内に埋設しているので、その膜厚
を前記ガラス基板上に突出させることなくかなり厚く設
けることができ、その分だけ上側の第２金属電極の膜厚
を薄くすることができるので、形成されたＸ放電電極及
びＹ放電電極を含む前記ガラス基板上に、その後被着す
る誘電体層や保護膜等の被覆性が良好で、これらの表面
の凹凸を僅少化することができると共に、前記上下二つ
の第１、第２金属電極の組合せにより、構成される放電
電極を従来よりも効果的に低抵抗化することが可能とな
る。Further, since the lower first metal electrode is buried in the concave portion provided on the surface of the glass substrate, the film thickness can be considerably increased without protruding above the glass substrate. Since the film thickness of the upper second metal electrode can be reduced by that amount, a dielectric layer, a protective film, and the like to be subsequently adhered on the glass substrate including the formed X discharge electrode and Y discharge electrode. It has good coverage and can reduce these irregularities on the surface. In addition, the combination of the two upper and lower first and second metal electrodes effectively lowers the resistance of the discharge electrode formed more than before. It is possible to do.
【００５２】更に、透明電極を挟んで設けた上下の第
１、第２金属電極同士を部分的に直接接続させた構成と
しているので、該透明電極に対する前記第１、第２金属
電極の密着力を大幅に向上させることができ、前記透明
電極に対して本来密着力の弱い第１、第２金属電極が剥
離するという恐れも解消されるという副次的な効果も得
られる等、表示パネルの大型化、高精細化に対して表示
品質の良好なガス放電表示パネルを容易に得ることが可
能となり、実用上優れた効果を奏する。Furthermore, since the upper and lower first and second metal electrodes provided so as to sandwich the transparent electrode are partially directly connected to each other, the adhesion of the first and second metal electrodes to the transparent electrode is improved. Can be greatly improved, and the secondary effect of eliminating the risk that the first and second metal electrodes, which originally have weak adhesion to the transparent electrode, peel off can be obtained. It is possible to easily obtain a gas discharge display panel having a good display quality with respect to an increase in size and an increase in definition, and a practically excellent effect is obtained.
【図１】 本発明の表示パネルの電極構造をガス放電表
示パネルの電極構造を対象とした場合の一実施例を示す
要部断面斜視図である。FIG. 1 is a cross-sectional perspective view of a main part showing an embodiment in a case where an electrode structure of a display panel of the present invention is applied to an electrode structure of a gas discharge display panel.
【図２】 本発明の表示パネルの電極形成方法をガス放
電表示パネルの電極形成方法を対象とした場合の一実施
例を工程順に示す要部断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of a main part showing an embodiment in which the electrode forming method of the display panel of the present invention is applied to the electrode forming method of the gas discharge display panel in the order of steps.
【図３】 本発明の表示パネルの電極形成方法をガス放
電表示パネルの電極形成方法を対象とした場合の一実施
例を図２に引き続いて工程順に示す要部断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of a main part showing an embodiment in a case where the electrode forming method of the display panel of the present invention is directed to the electrode forming method of the gas discharge display panel, following FIG.
【図４】 本発明の表示パネルの電極構造をガス放電表
示パネルの電極構造を対象とした場合の他の実施例を示
す要部断面斜視図である。FIG. 4 is a cross-sectional perspective view of a main part showing another embodiment in which the electrode structure of the display panel of the present invention is applied to the electrode structure of a gas discharge display panel.
【図５】 ガス放電表示パネルの一例を示す要部分解斜
視図である。FIG. 5 is an exploded perspective view of an essential part showing an example of a gas discharge display panel.
【図６】 従来の表示パネルの電極構造の一例を示す要
部斜視図である。FIG. 6 is a perspective view of a main part showing an example of an electrode structure of a conventional display panel.
【図７】 従来の表示パネルの電極構造の他の例を示す
要部斜視図である。FIG. 7 is a perspective view of a main part showing another example of an electrode structure of a conventional display panel.
１１ ガラス基板 ３１，６１ 凹部 ４１，６２ 第１金属電極 ４２，６３ 透明電極 ４３，６４ 第２金属電極 ４４ 開口部 ４５，６５ Ｘ放電電極 ４６，６６ Ｙ放電電極 ５１ 透明導電膜 ５２，５３ レジストマスク ５４ 金属膜 11 Glass substrate 31, 61 Depression 41, 62 First metal electrode 42, 63 Transparent electrode 43, 64 Second metal electrode 44 Opening 45, 65 X discharge electrode 46, 66 Y discharge electrode 51 Transparent conductive film 52, 53 Resist mask 54 metal film
Claims (4)
面に、透明電極と金属電極とからなる放電電極を有する
表示パネルの電極構造であって、 前記放電電極は、前記透明電極よりも細幅で前記絶縁性
基板の表面に凹部状に埋設された第１金属電極と、該第
１金属電極上に積層され、かつ前記第１金属電極と接触
する領域に開口部を有する透明電極と、前記第１金属電
極と対向して該透明電極上に積層された第２金属電極と
からなり、前記第１金属電極と前記第２金属電極とは前
記開口部を介して接続されていることを特徴とする表示
パネルの電極構造。1. An electrode structure of a display panel having a discharge electrode composed of a transparent electrode and a metal electrode on at least one transparent insulating substrate, wherein the discharge electrode has a narrower width than the transparent electrode. A first metal electrode buried in a concave shape on the surface of the insulating substrate, a transparent electrode laminated on the first metal electrode, and having an opening in a region in contact with the first metal electrode; A second metal electrode is provided on the transparent electrode so as to face the first metal electrode, and the first metal electrode and the second metal electrode are connected through the opening. And the electrode structure of the display panel.
面に、透明電極と金属電極とからなる放電電極を有する
表示パネルの電極構造であって、 前記放電電極は、前記絶縁性基板の表面に前記透明電極
よりも細幅で凹部状に埋設された第１金属電極と、該第
１金属電極の長手方向に沿って一部が重なるように積層
された透明電極と、該透明電極上から前記第１金属電極
上に該透明電極を挟み込むように対応して積層された第
２金属電極とからなる三層構造であることを特徴とする
表示パネルの電極構造。2. An electrode structure of a display panel having a discharge electrode composed of a transparent electrode and a metal electrode on at least one transparent insulating substrate, wherein the discharge electrode is disposed on a surface of the insulating substrate. A first metal electrode buried in a concave shape with a width smaller than that of the transparent electrode, a transparent electrode laminated so as to partially overlap along the longitudinal direction of the first metal electrode, and An electrode structure for a display panel, comprising a three-layer structure including a second metal electrode laminated so as to sandwich the transparent electrode on the first metal electrode.
と略同一の幅を有し、かつ前記第１金属電極よりも薄い
膜厚で形成されてなることを特徴とする請求項１または
２に記載の表示パネルの電極構造。3. The device according to claim 1, wherein the second metal electrode has substantially the same width as the first metal electrode, and is formed with a smaller thickness than the first metal electrode. 3. The electrode structure of the display panel according to 2.
電極とを積層した放電電極を形成する表示パネルの電極
形成方法であって、 前記絶縁性基板の表面に透明電極よりも幅狭の金属電極
に対応する凹部を形成する工程と、 該凹部内に金属導電材を埋め込んで下側の金属電極を形
成する工程と、 埋設された下側の金属電極上を含む前記絶縁性基板の表
面に透明導電膜を形成し、該透明導電膜をパターニング
して前記下側の金属電極上に、該下側の金属電極よりも
幅広の透明電極を形成する工程と、 前記透明電極が形成された前記絶縁性基板の表面に、フ
ォトレジスト膜を形成し、該フォトレジスト膜を前記下
側の金属電極をマスクにして露光・現像して上側の金属
電極に対応する部分が除去されたレジストマスクを形成
する工程と、 該レジストマスクを介して前記透明電極上に前記下側の
金属電極と対応する上側の金属電極を形成する工程とを
含むことを特徴とする表示パネルの電極形成方法。4. An electrode forming method for a display panel, comprising forming a discharge electrode in which a transparent electrode and a metal electrode are laminated on a transparent insulating substrate, wherein the surface of the insulating substrate is narrower than the transparent electrode. Forming a recess corresponding to the metal electrode, forming a lower metal electrode by embedding a metal conductive material in the recess, and forming the lower metal electrode on the insulated substrate including the embedded lower metal electrode. Forming a transparent conductive film on the surface, patterning the transparent conductive film, and forming a transparent electrode wider than the lower metal electrode on the lower metal electrode; and forming the transparent electrode. Forming a photoresist film on the surface of the insulating substrate, exposing and developing the photoresist film using the lower metal electrode as a mask, and removing a portion corresponding to the upper metal electrode. Forming a resist; Electrode forming method of a display panel, characterized in that via a mask and forming an upper metal electrode corresponding to the lower side of the metal electrode on the transparent electrode.
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