JP2000007689A - ホスフィン類の製造法 - Google Patents
ホスフィン類の製造法Info
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ホスフィン類を高収率で安全かつ簡便に製造
する方法を提供する。 【解決手段】 式(1)のハロゲン化ホスフィン類に、ア
ミンおよび水素化触媒の存在下、水素を作用させること
により、式(2)のホスフィン類を製造する。 【化１】 〔式中、R1及びR2それぞれアリール基、アルキル基、シ
クロアルキル基、アリールオキシ基、アルコキシ基、シ
クロアルキルオキシ基、アリールアミノ基、ジアリール
アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、シ
クロアルキルアミノ基又はジシクロアルキルアミノ基を
表し、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｙは酸素原子又は硫黄
原子を表し、ｋ、ｍおよびｎはそれぞれ０又は１を表
す。〕
する方法を提供する。 【解決手段】 式(1)のハロゲン化ホスフィン類に、ア
ミンおよび水素化触媒の存在下、水素を作用させること
により、式(2)のホスフィン類を製造する。 【化１】 〔式中、R1及びR2それぞれアリール基、アルキル基、シ
クロアルキル基、アリールオキシ基、アルコキシ基、シ
クロアルキルオキシ基、アリールアミノ基、ジアリール
アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、シ
クロアルキルアミノ基又はジシクロアルキルアミノ基を
表し、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｙは酸素原子又は硫黄
原子を表し、ｋ、ｍおよびｎはそれぞれ０又は１を表
す。〕
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、遷移金属触媒を利
用したカップリング反応に使用されるホスフィン配位子
の原料等として有用なホスフィン類の製造法に関する。
用したカップリング反応に使用されるホスフィン配位子
の原料等として有用なホスフィン類の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ジフェニルホスフィンは、従来、クロロ
ジフェニルホスフィンを水素化アルミニウムリチウムで
還元するか（アンゲバンテ・ケミー（Ａｎｇｅｗａｎｄ
ｔｅＣｈｅｍｉｅ），６８，７９１（１９５６））、ク
ロロジフェニルホスフィンあるいはトリフェニルホスフ
ィンから調製されたアルカリ金属ジフェニルホスファイ
ドに水を作用させて製造されていた（ケミッシェ・ベリ
ヒテ（Ｃｈｅｍｉｓｃｈｅ Ｂｅｒｉｃｈｔｅ），９
２，２０８８（１９５９）、オルガニック・シンセセス
（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ），Ｃｏｌｌ．
Ｖｏｌ．６，ｐ．５６９（１９８８））。またジシクロ
ヘキシルホスフィンは、上記のジフェニルホスフィンと
同様の方法の他に、シクロヘキセンへのホスフィンガス
の付加反応によっても製造されていた（DE２７０３８０
２）。従って、危険な禁水性物質である水素化アルミニ
ウムリチウム、金属ナトリウム、金属リチウム等、ある
いは猛毒のホスフィンガスを使用するため、工業的な規
模での製造は困難であった上に、収率も高くはなかっ
た。
ジフェニルホスフィンを水素化アルミニウムリチウムで
還元するか（アンゲバンテ・ケミー（Ａｎｇｅｗａｎｄ
ｔｅＣｈｅｍｉｅ），６８，７９１（１９５６））、ク
ロロジフェニルホスフィンあるいはトリフェニルホスフ
ィンから調製されたアルカリ金属ジフェニルホスファイ
ドに水を作用させて製造されていた（ケミッシェ・ベリ
ヒテ（Ｃｈｅｍｉｓｃｈｅ Ｂｅｒｉｃｈｔｅ），９
２，２０８８（１９５９）、オルガニック・シンセセス
（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ），Ｃｏｌｌ．
Ｖｏｌ．６，ｐ．５６９（１９８８））。またジシクロ
ヘキシルホスフィンは、上記のジフェニルホスフィンと
同様の方法の他に、シクロヘキセンへのホスフィンガス
の付加反応によっても製造されていた（DE２７０３８０
２）。従って、危険な禁水性物質である水素化アルミニ
ウムリチウム、金属ナトリウム、金属リチウム等、ある
いは猛毒のホスフィンガスを使用するため、工業的な規
模での製造は困難であった上に、収率も高くはなかっ
た。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】すなわち、本発明の目
的は、上記問題点を解決することであり、危険な禁水性
物質を使用しないホスフィン類の簡便で実用的な製造法
を提供することである。
的は、上記問題点を解決することであり、危険な禁水性
物質を使用しないホスフィン類の簡便で実用的な製造法
を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決すべく鋭意検討した結果、アミンおよび水素化触媒
存在下、ハロゲン化ホスフィン類に水素を作用させるこ
とにより、ホスフィン類が高収率で簡便に得られること
を見出し、本発明を完成するに至った。
解決すべく鋭意検討した結果、アミンおよび水素化触媒
存在下、ハロゲン化ホスフィン類に水素を作用させるこ
とにより、ホスフィン類が高収率で簡便に得られること
を見出し、本発明を完成するに至った。
【０００５】すなわち、本発明の構成を下記に示す。 （１） アミンおよび水素化触媒の存在下、下記一般式
（１）
（１）
【０００６】
【化３】
【０００７】〔式（１）中、Ｒ1およびＲ2は同じでも異
なってもよく、それぞれアリール基、アルキル基、シク
ロアルキル基、アリールオキシ基、アルコキシ基、シク
ロアルキルオキシ基、アリールアミノ基、ジアリールア
ミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、シク
ロアルキルアミノ基又はジシクロアルキルアミノ基を表
し、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｙは酸素原子又は硫黄原
子を表し、ｋ、ｍおよびｎはそれぞれ０又は１を表
す。〕で示されるハロゲン化ホスフィン類に、水素を作
用させることを特徴とする下記一般式（２）
なってもよく、それぞれアリール基、アルキル基、シク
ロアルキル基、アリールオキシ基、アルコキシ基、シク
ロアルキルオキシ基、アリールアミノ基、ジアリールア
ミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、シク
ロアルキルアミノ基又はジシクロアルキルアミノ基を表
し、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｙは酸素原子又は硫黄原
子を表し、ｋ、ｍおよびｎはそれぞれ０又は１を表
す。〕で示されるハロゲン化ホスフィン類に、水素を作
用させることを特徴とする下記一般式（２）
【０００８】
【化４】
【０００９】〔式（２）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｙ、ｋ、ｍおよ
びｎは上記と同義である。〕で示されるホスフィン類の
製造法
びｎは上記と同義である。〕で示されるホスフィン類の
製造法
【００１０】（２） 水素化触媒が、パラジウム触媒で
あることを特徴とする前記（１）に記載のホスフィン類
の製造法
あることを特徴とする前記（１）に記載のホスフィン類
の製造法
【００１１】（３） パラジウム触媒が、パラジウム／
活性炭、パラジウム黒、パラジウム／硫酸バリウム、パ
ラジウム／炭酸ストロンチウム、パラジウム／炭酸カル
シウム、パラジウム／炭酸カルシウム−二酢酸鉛、パラ
ジウム／硫酸バリウム−キノリン、パラジウム／アルミ
ナ、およびパラジウムスポンジからなる群から選ばれた
少なくとも１種であることを特徴とする前記（２）に記
載のホスフィン類の製造法
活性炭、パラジウム黒、パラジウム／硫酸バリウム、パ
ラジウム／炭酸ストロンチウム、パラジウム／炭酸カル
シウム、パラジウム／炭酸カルシウム−二酢酸鉛、パラ
ジウム／硫酸バリウム−キノリン、パラジウム／アルミ
ナ、およびパラジウムスポンジからなる群から選ばれた
少なくとも１種であることを特徴とする前記（２）に記
載のホスフィン類の製造法
【００１２】（４） 一般式（１）において、Ｒ1およ
びＲ2は同じでも異なってもよく、それぞれアリール
基、アルキル基又はシクロアルキル基を表し、Ｘが塩素
原子を表し、Ｙが酸素原子を表し、ｋが０を表し、ｍお
よびｎがそれぞれ１を表すことを特徴とする前記（１）
ないし前記（３）に記載のホスフィン類の製造法
びＲ2は同じでも異なってもよく、それぞれアリール
基、アルキル基又はシクロアルキル基を表し、Ｘが塩素
原子を表し、Ｙが酸素原子を表し、ｋが０を表し、ｍお
よびｎがそれぞれ１を表すことを特徴とする前記（１）
ないし前記（３）に記載のホスフィン類の製造法
【００１３】（５） 一般式（１）において、Ｒ1およ
びＲ2は同じでも異なってもよく、それぞれアリール
基、アルキル基又はシクロアルキル基を表し、Ｘが塩素
原子を表し、Ｙが酸素原子を表し、ｋ、ｍ及びｎがそれ
ぞれ１を表すことを特徴とする前記（１）ないし前記
（３）に記載のホスフィン類の製造法
びＲ2は同じでも異なってもよく、それぞれアリール
基、アルキル基又はシクロアルキル基を表し、Ｘが塩素
原子を表し、Ｙが酸素原子を表し、ｋ、ｍ及びｎがそれ
ぞれ１を表すことを特徴とする前記（１）ないし前記
（３）に記載のホスフィン類の製造法
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明に用いられる水素化触媒と
して、好ましくは酸化白金、白金／活性炭、白金黒等の
白金触媒、還元ニッケル、ラネーニッケル、白金付ラネ
ーニッケル等のニッケル触媒、ラネーコバルト等のコバ
ルト触媒、還元銅、銅−クロム酸化物等の銅触媒、亜鉛
−クロム酸化物等の亜鉛触媒、酸化ルテニウム、ルテニ
ウム／活性炭等のルテニウム触媒、イリジウム黒等のイ
リジウム触媒、ロジウム／活性炭、ロジウム／アルミ
ナ、ロジウム−酸化白金等のロジウム触媒、酸化レニウ
ム等のレニウム触媒、パラジウム／活性炭、パラジウム
黒、パラジウム／硫酸バリウム、パラジウム／炭酸スト
ロンチウム、パラジウム／炭酸カルシウム、パラジウム
／炭酸カルシウム−二酢酸鉛、パラジウム／硫酸バリウ
ム−キノリン、パラジウム／アルミナ、パラジウムスポ
ンジ、塩化パラジウム、酢酸パラジウム、パラジウムア
セチルアセトナート、ビス（ジベンジリデンアセトン）
パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パ
ラジウム、ジクロロ〔ビス（トリフェニルホスフィ
ン）〕パラジウム、ジクロロ〔ビス（ジフェニルホスフ
ィノ）メタン〕パラジウム、ジクロロ〔１，２−ビス
（ジフェニルホスフィノ）エタン〕パラジウム、ジクロ
ロ〔１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン〕
パラジウム、ジクロロ〔１，４−ビス（ジフェニルホス
フィノ）ブタン〕パラジウム、ジクロロ（１，５−シク
ロオクタジエン）パラジウム、ジクロロビス（ベンゾニ
トリル）パラジウム、ジクロロビス（アセトニトリル）
パラジウム及び酢酸〔ビス（トリフェニルホスフィ
ン）〕パラジウム等のパラジウム触媒が挙げられる。
して、好ましくは酸化白金、白金／活性炭、白金黒等の
白金触媒、還元ニッケル、ラネーニッケル、白金付ラネ
ーニッケル等のニッケル触媒、ラネーコバルト等のコバ
ルト触媒、還元銅、銅−クロム酸化物等の銅触媒、亜鉛
−クロム酸化物等の亜鉛触媒、酸化ルテニウム、ルテニ
ウム／活性炭等のルテニウム触媒、イリジウム黒等のイ
リジウム触媒、ロジウム／活性炭、ロジウム／アルミ
ナ、ロジウム−酸化白金等のロジウム触媒、酸化レニウ
ム等のレニウム触媒、パラジウム／活性炭、パラジウム
黒、パラジウム／硫酸バリウム、パラジウム／炭酸スト
ロンチウム、パラジウム／炭酸カルシウム、パラジウム
／炭酸カルシウム−二酢酸鉛、パラジウム／硫酸バリウ
ム−キノリン、パラジウム／アルミナ、パラジウムスポ
ンジ、塩化パラジウム、酢酸パラジウム、パラジウムア
セチルアセトナート、ビス（ジベンジリデンアセトン）
パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パ
ラジウム、ジクロロ〔ビス（トリフェニルホスフィ
ン）〕パラジウム、ジクロロ〔ビス（ジフェニルホスフ
ィノ）メタン〕パラジウム、ジクロロ〔１，２−ビス
（ジフェニルホスフィノ）エタン〕パラジウム、ジクロ
ロ〔１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン〕
パラジウム、ジクロロ〔１，４−ビス（ジフェニルホス
フィノ）ブタン〕パラジウム、ジクロロ（１，５−シク
ロオクタジエン）パラジウム、ジクロロビス（ベンゾニ
トリル）パラジウム、ジクロロビス（アセトニトリル）
パラジウム及び酢酸〔ビス（トリフェニルホスフィ
ン）〕パラジウム等のパラジウム触媒が挙げられる。
【００１５】ハロゲン化ホスフィン類に対する水素化触
媒の使用量は、好ましくは０．０１重量％ないし５０重
量％、更に好ましくは０．１重量％ないし２０重量％で
ある。
媒の使用量は、好ましくは０．０１重量％ないし５０重
量％、更に好ましくは０．１重量％ないし２０重量％で
ある。
【００１６】水素化触媒は、パラジウム触媒が更に好ま
しい。パラジウム触媒の担体上のパラジウム量は、０．
５重量％ないし３０重量％であることが好ましく、更に
好ましくは５重量％ないし１０重量％である。ハロゲン
化ホスフィン類に対するパラジウム触媒の使用量は、好
ましくは１重量％ないし５０重量％、更に好ましくは５
重量％ないし２０重量％である。
しい。パラジウム触媒の担体上のパラジウム量は、０．
５重量％ないし３０重量％であることが好ましく、更に
好ましくは５重量％ないし１０重量％である。ハロゲン
化ホスフィン類に対するパラジウム触媒の使用量は、好
ましくは１重量％ないし５０重量％、更に好ましくは５
重量％ないし２０重量％である。
【００１７】本発明に用いられる反応溶媒として、好ま
しくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、N−
メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミ
ダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トル
エン、キシレン等が挙げられる。
しくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、N−
メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミ
ダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トル
エン、キシレン等が挙げられる。
【００１８】本発明に用いられるアミンは、アンモニ
ア、第１級アミン、第２級アミン、第３級アミンおよび
芳香族アミンの何れでもよく、またモノアミン、ジアミ
ン、トリアミンの何れでもよく、脂肪族第一アミン、脂
肪族第二アミン、脂肪族第三アミン、脂環式アミン、芳
香族アミン等を挙げることができる。特に好ましくは、
第三アミンであり、脂肪族、脂環式、芳香族のいずれで
もよい。
ア、第１級アミン、第２級アミン、第３級アミンおよび
芳香族アミンの何れでもよく、またモノアミン、ジアミ
ン、トリアミンの何れでもよく、脂肪族第一アミン、脂
肪族第二アミン、脂肪族第三アミン、脂環式アミン、芳
香族アミン等を挙げることができる。特に好ましくは、
第三アミンであり、脂肪族、脂環式、芳香族のいずれで
もよい。
【００１９】アミンとして、具体的には、アンモニア、
メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イ
ソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｓ−ブチルアミ
ン、ｔ−ブチルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジ
ルアミン、アニリン、エチレンジアミン、ジエチルアミ
ン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｓ−ブチルアミン、ジ
−ｔ−ブチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジシクロ
ヘキシルアミン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリ
ン、ジフェニルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−
プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｓ−
ブチルアミン、トリ−ｔ−ブチルアミン、ジイソプロピ
ルエチルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、ジシ
クロヘキシルエチルアミン、ジベンジルアミン、Ｎ−メ
チルピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−
ジエチルアニリン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．
２］オクタン、テトラメチルエチレンジアミン、１，４
−ジメチルピペラジン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メ
チルモルホリン、１−メチル−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．
０］−５−ノネン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．
０］−７−ウンデセン、ピリジン、２，４−ジメチルピ
リジン、２，４，６−トリメチルピリジン、４−ジメチ
ルアミノピリジン、２，６−ジ−ｔ−ブチルピリジン等
を挙げることができる。
メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イ
ソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｓ−ブチルアミ
ン、ｔ−ブチルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジ
ルアミン、アニリン、エチレンジアミン、ジエチルアミ
ン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｓ−ブチルアミン、ジ
−ｔ−ブチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジシクロ
ヘキシルアミン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリ
ン、ジフェニルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−
プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｓ−
ブチルアミン、トリ−ｔ−ブチルアミン、ジイソプロピ
ルエチルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、ジシ
クロヘキシルエチルアミン、ジベンジルアミン、Ｎ−メ
チルピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−
ジエチルアニリン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．
２］オクタン、テトラメチルエチレンジアミン、１，４
−ジメチルピペラジン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メ
チルモルホリン、１−メチル−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．
０］−５−ノネン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．
０］−７−ウンデセン、ピリジン、２，４−ジメチルピ
リジン、２，４，６−トリメチルピリジン、４−ジメチ
ルアミノピリジン、２，６−ジ−ｔ−ブチルピリジン等
を挙げることができる。
【００２０】更に好ましくは第３級アミンであり、トリ
エチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−
ブチルアミン、トリ−ｓ−ブチルアミン、トリ−ｔ−ブ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジメチルシ
クロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルエチルアミン、
トリベンジルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，４
−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、テトラメチ
ルエチレンジアミン、１，４−ジメチルピペラジン、Ｎ
−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホリン、１−メチ
ル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１，５
−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，８
−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、ピ
リジン、２，４−ジメチルピリジン、２，４，６−トリ
メチルピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、２，６
−ジ−ｔ−ブチルピリジン等を好ましく挙げることがで
きる。
エチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−
ブチルアミン、トリ−ｓ−ブチルアミン、トリ−ｔ−ブ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジメチルシ
クロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルエチルアミン、
トリベンジルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，４
−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、テトラメチ
ルエチレンジアミン、１，４−ジメチルピペラジン、Ｎ
−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホリン、１−メチ
ル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１，５
−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，８
−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、ピ
リジン、２，４−ジメチルピリジン、２，４，６−トリ
メチルピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、２，６
−ジ−ｔ−ブチルピリジン等を好ましく挙げることがで
きる。
【００２１】ハロゲン化ホスフィン類に対するアミンの
使用量は、好ましくは、副生するハロゲン化水素、すな
わちハロゲン化ホスフィン類中のハロゲンと等モルない
し１０倍モルであり、更に好ましくは等モルないし２倍
モルである。
使用量は、好ましくは、副生するハロゲン化水素、すな
わちハロゲン化ホスフィン類中のハロゲンと等モルない
し１０倍モルであり、更に好ましくは等モルないし２倍
モルである。
【００２２】本発明に用いられる式（１）で表されるハ
ロゲン化ホスフィン類は、Ｒ1及びＲ2は同じでも異なっ
てもよく、それぞれ炭素数１〜１２のアルキル基、炭素
数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアル
コキシ基、炭素数３〜１２のシクロアルキルオキシ基、
アリール基、アリールオキシ基を表すことが好ましい。
更に好ましくは、Ｒ1及びＲ2は同じでも異なってもよ
く、それぞれ炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６
のシクロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭
素数３〜６のシクロアルキルオキシ基、フェニル基、ト
リル基、キシリル基、ナフチル基、フェノキシ基、トリ
ルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基を表
す。
ロゲン化ホスフィン類は、Ｒ1及びＲ2は同じでも異なっ
てもよく、それぞれ炭素数１〜１２のアルキル基、炭素
数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２のアル
コキシ基、炭素数３〜１２のシクロアルキルオキシ基、
アリール基、アリールオキシ基を表すことが好ましい。
更に好ましくは、Ｒ1及びＲ2は同じでも異なってもよ
く、それぞれ炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６
のシクロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭
素数３〜６のシクロアルキルオキシ基、フェニル基、ト
リル基、キシリル基、ナフチル基、フェノキシ基、トリ
ルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基を表
す。
【００２３】これらの基は、更に置換基を有していても
よく、置換基の具体例としては、アルキル基（例えばメ
チル、エチル、ｔ−ブチル等）、アルコキシ基（例えば
メトキシ、エトキシなど）、ハロゲン原子（例えば塩素
原子、フッ素原子など）、パーフルオロアルキル基（例
えばトリフルオロメチルなど）、アミノ基（例えばジメ
チルアミノ基）等を挙げることができる。
よく、置換基の具体例としては、アルキル基（例えばメ
チル、エチル、ｔ−ブチル等）、アルコキシ基（例えば
メトキシ、エトキシなど）、ハロゲン原子（例えば塩素
原子、フッ素原子など）、パーフルオロアルキル基（例
えばトリフルオロメチルなど）、アミノ基（例えばジメ
チルアミノ基）等を挙げることができる。
【００２４】また、式（１）において、Ｘはハロゲン原
子を表すことが好ましく、Ｙは酸素原子を表すことが好
ましい。
子を表すことが好ましく、Ｙは酸素原子を表すことが好
ましい。
【００２５】本発明に用いられるハロゲン化ホスフィン
類は、好ましくは、クロロジアリールホスフィン、クロ
ロアリールアルキルホスフィン、クロロジアルキルホス
フィン、クロロジシクロアルキルホスフィン、クロロア
リールシクロアルキルホスフィン、クロロアルキルシク
ロアルキルホスフィン、クロロジアリールホスフィンオ
キシド、クロロアリールアルキルホスフィンオキシド、
クロロジアルキルホスフィンオキシド、クロロジシクロ
アルキルホスフィンオキシド、クロロアリールシクロア
ルキルホスフィンオキシド、クロロアルキルシクロアル
キルホスフィンオキシド、アリールジクロロホスフィ
ン、アルキルジクロロホスフィン、シクロアルキルジク
ロロホスフィン、アリールジクロロホスフィンオキシ
ド、アルキルジクロロホスフィンオキシド、シクロアル
キルジクロロホスフィンオキシド、ジアリールホスホロ
クロリダート、ジアルキルホスホロクロリダート、ジシ
クロアルキルホスホロクロリダート、アリールジクロロ
ホスフェート、アルキルジクロロホスフェート、および
シクロアルキルジクロロホスフェート等である。
類は、好ましくは、クロロジアリールホスフィン、クロ
ロアリールアルキルホスフィン、クロロジアルキルホス
フィン、クロロジシクロアルキルホスフィン、クロロア
リールシクロアルキルホスフィン、クロロアルキルシク
ロアルキルホスフィン、クロロジアリールホスフィンオ
キシド、クロロアリールアルキルホスフィンオキシド、
クロロジアルキルホスフィンオキシド、クロロジシクロ
アルキルホスフィンオキシド、クロロアリールシクロア
ルキルホスフィンオキシド、クロロアルキルシクロアル
キルホスフィンオキシド、アリールジクロロホスフィ
ン、アルキルジクロロホスフィン、シクロアルキルジク
ロロホスフィン、アリールジクロロホスフィンオキシ
ド、アルキルジクロロホスフィンオキシド、シクロアル
キルジクロロホスフィンオキシド、ジアリールホスホロ
クロリダート、ジアルキルホスホロクロリダート、ジシ
クロアルキルホスホロクロリダート、アリールジクロロ
ホスフェート、アルキルジクロロホスフェート、および
シクロアルキルジクロロホスフェート等である。
【００２６】具体的には、クロロジフェニルホスフィ
ン、クロロジ（３−メチルフェニル）ホスフィン、クロ
ロジ（４−メチルフェニル）ホスフィン、クロロビス
（２，４−ジメチルフェニル）ホスフィン、クロロビス
（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィン、クロロビス
（２，６−ジメチルフェニル）ホスフィン、クロロビス
（２，４，６−トリメチルフェニル）ホスフィン、クロ
ロビス（３，４，５−トリメチルフェニル）ホスフィ
ン、クロロジ（４−ｔ−ブチルフェニル）ホスフィン、
クロロビス（３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフ
ィン、クロロジ（３−メトキシフェニル）ホスフィン、
クロロジ（４−メトキシフェニル）ホスフィン、クロロ
ビス（２，４−ジメトキシフェニル）ホスフィン、クロ
ロビス（３，５−ジメトキシフェニル）ホスフィン、ク
ロロビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスフィン、
クロロビス（２，４，６−トリメトキシフェニル）ホス
フィン、クロロビス（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）ホスフィン、クロロビス（３，５−ジメチル−４−
メトキシフェニル）ホスフィン、
ン、クロロジ（３−メチルフェニル）ホスフィン、クロ
ロジ（４−メチルフェニル）ホスフィン、クロロビス
（２，４−ジメチルフェニル）ホスフィン、クロロビス
（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィン、クロロビス
（２，６−ジメチルフェニル）ホスフィン、クロロビス
（２，４，６−トリメチルフェニル）ホスフィン、クロ
ロビス（３，４，５−トリメチルフェニル）ホスフィ
ン、クロロジ（４−ｔ−ブチルフェニル）ホスフィン、
クロロビス（３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフ
ィン、クロロジ（３−メトキシフェニル）ホスフィン、
クロロジ（４−メトキシフェニル）ホスフィン、クロロ
ビス（２，４−ジメトキシフェニル）ホスフィン、クロ
ロビス（３，５−ジメトキシフェニル）ホスフィン、ク
ロロビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスフィン、
クロロビス（２，４，６−トリメトキシフェニル）ホス
フィン、クロロビス（３，４，５−トリメトキシフェニ
ル）ホスフィン、クロロビス（３，５−ジメチル−４−
メトキシフェニル）ホスフィン、
【００２７】クロロジ（３−クロロフェニル）ホスフィ
ン、クロロジ（４−クロロフェニル）ホスフィン、クロ
ロビス（２，４−ジクロロフェニル）ホスフィン、クロ
ロビス（３，５−ジクロロフェニル）ホスフィン、クロ
ロビス（２，６−ジクロロフェニル）ホスフィン、クロ
ロビス（２，４，６−トリクロロフェニル）ホスフィ
ン、クロロビス（３，４，５−トリクロロフェニル）ホ
スフィン、クロロジ（３−フルオロフェニル）ホスフィ
ン、クロロジ（４−フルオロフェニル）ホスフィン、ク
ロロビス（２，４−ジフルオロフェニル）ホスフィン、
クロロビス（３，５−ジフルオロフェニル）ホスフィ
ン、クロロビス（２，６−ジフルオロフェニル）ホスフ
ィン、クロロビス（２，４，６−トリフルオロフェニ
ル）ホスフィン、クロロビス（３，４，５−トリフルオ
ロフェニル）ホスフィン、クロロジ（３−トリフルオロ
メチルフェニル）ホスフィン、クロロジ（４−トリフル
オロメチルフェニル）ホスフィン、クロロビス（２，４
−ビストリフルオロメチルフェニル）ホスフィン、クロ
ロビス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ホ
スフィン、クロロビス（２，６−ビストリフルオロメチ
ルフェニル）ホスフィン、クロロビス（２，４，６−ト
リストリフルオロメチルフェニル）ホスフィン、クロロ
ビス（３，４，５−トリストリフルオロメチルフェニ
ル）ホスフィン、
ン、クロロジ（４−クロロフェニル）ホスフィン、クロ
ロビス（２，４−ジクロロフェニル）ホスフィン、クロ
ロビス（３，５−ジクロロフェニル）ホスフィン、クロ
ロビス（２，６−ジクロロフェニル）ホスフィン、クロ
ロビス（２，４，６−トリクロロフェニル）ホスフィ
ン、クロロビス（３，４，５−トリクロロフェニル）ホ
スフィン、クロロジ（３−フルオロフェニル）ホスフィ
ン、クロロジ（４−フルオロフェニル）ホスフィン、ク
ロロビス（２，４−ジフルオロフェニル）ホスフィン、
クロロビス（３，５−ジフルオロフェニル）ホスフィ
ン、クロロビス（２，６−ジフルオロフェニル）ホスフ
ィン、クロロビス（２，４，６−トリフルオロフェニ
ル）ホスフィン、クロロビス（３，４，５−トリフルオ
ロフェニル）ホスフィン、クロロジ（３−トリフルオロ
メチルフェニル）ホスフィン、クロロジ（４−トリフル
オロメチルフェニル）ホスフィン、クロロビス（２，４
−ビストリフルオロメチルフェニル）ホスフィン、クロ
ロビス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ホ
スフィン、クロロビス（２，６−ビストリフルオロメチ
ルフェニル）ホスフィン、クロロビス（２，４，６−ト
リストリフルオロメチルフェニル）ホスフィン、クロロ
ビス（３，４，５−トリストリフルオロメチルフェニ
ル）ホスフィン、
【００２８】クロロジ（３−ジメチルアミノフェニル）
ホスフィン、クロロジ（４−ジメチルアミノフェニル）
ホスフィン、クロロビス（２，４−ビスジメチルアミノ
フェニル）ホスフィン、クロロビス（３，５−ビスジメ
チルアミノフェニル）ホスフィン、クロロビス（２，６
−ビスジメチルアミノフェニル）ホスフィン、クロロビ
ス（２，４，６−トリスジメチルアミノフェニル）ホス
フィン、クロロビス（３，４，５−トリスジメチルアミ
ノフェニル）ホスフィン、クロロジ（３−ビフェニル）
ホスフィン、クロロジ（４−ビフェニル）ホスフィン、
クロロビス（２，４−ジフェニルフェニル）ホスフィ
ン、クロロビス（３，５−ジフェニルフェニル）ホスフ
ィン、クロロビス（２，６−ジフェニルフェニル）ホス
フィン、クロロビス（２，４，６−トリフェニルフェニ
ル）ホスフィン、クロロビス（３，４，５−トリフェニ
ルフェニル）ホスフィン、クロロジ（α−ナフチル）ホ
スフィン、クロロジ（β−ナフチル）ホスフィン、クロ
ロジ（６−メトキシ−α−ナフチル）ホスフィン、クロ
ロジ（６−メトキシ−β−ナフチル）ホスフィン、クロ
ロジ（３，４−メチレンジオキシフェニル）ホスフィ
ン、クロロジメチルホスフィン、クロロジエチルホスフ
ィン、クロロジシクロプロピルホスフィン、クロロジシ
クロペンチルホスフィン、クロロジシクロヘキシルホス
フィン、クロロジシクロオクチルホスフィン、クロロジ
シクロデシルホスフィン、クロロジシクロドデシルホス
フィン、クロロシクロヘキシルフェニルホスフィン、ク
ロロホスホニックジアニリド、ジクロロフェニルホスフ
ィン、ジクロロフェニルホスフィンオキシド、ジエチル
クロロホスフェート、ジフェニルホスホロクロリデー
ト、フェニルジクロロホスフェート、２，２，２−トリ
クロロエチルジクロロホスファイト、オキシ三塩化リ
ン、三塩化リン等が挙げられる。
ホスフィン、クロロジ（４−ジメチルアミノフェニル）
ホスフィン、クロロビス（２，４−ビスジメチルアミノ
フェニル）ホスフィン、クロロビス（３，５−ビスジメ
チルアミノフェニル）ホスフィン、クロロビス（２，６
−ビスジメチルアミノフェニル）ホスフィン、クロロビ
ス（２，４，６−トリスジメチルアミノフェニル）ホス
フィン、クロロビス（３，４，５−トリスジメチルアミ
ノフェニル）ホスフィン、クロロジ（３−ビフェニル）
ホスフィン、クロロジ（４−ビフェニル）ホスフィン、
クロロビス（２，４−ジフェニルフェニル）ホスフィ
ン、クロロビス（３，５−ジフェニルフェニル）ホスフ
ィン、クロロビス（２，６−ジフェニルフェニル）ホス
フィン、クロロビス（２，４，６−トリフェニルフェニ
ル）ホスフィン、クロロビス（３，４，５−トリフェニ
ルフェニル）ホスフィン、クロロジ（α−ナフチル）ホ
スフィン、クロロジ（β−ナフチル）ホスフィン、クロ
ロジ（６−メトキシ−α−ナフチル）ホスフィン、クロ
ロジ（６−メトキシ−β−ナフチル）ホスフィン、クロ
ロジ（３，４−メチレンジオキシフェニル）ホスフィ
ン、クロロジメチルホスフィン、クロロジエチルホスフ
ィン、クロロジシクロプロピルホスフィン、クロロジシ
クロペンチルホスフィン、クロロジシクロヘキシルホス
フィン、クロロジシクロオクチルホスフィン、クロロジ
シクロデシルホスフィン、クロロジシクロドデシルホス
フィン、クロロシクロヘキシルフェニルホスフィン、ク
ロロホスホニックジアニリド、ジクロロフェニルホスフ
ィン、ジクロロフェニルホスフィンオキシド、ジエチル
クロロホスフェート、ジフェニルホスホロクロリデー
ト、フェニルジクロロホスフェート、２，２，２−トリ
クロロエチルジクロロホスファイト、オキシ三塩化リ
ン、三塩化リン等が挙げられる。
【００２９】本発明で得られる一般式（２）で表される
ホスフィン類は、式（１）で好ましいとして述べたと同
様のＲ1、Ｒ2及びＹであることが好ましい。Ｒ1及びＲ2
は更に置換基を有していてもよく、置換基の具体例とし
ては、上記一般式（１）で述べたと同様のものを挙げる
ことができる。
ホスフィン類は、式（１）で好ましいとして述べたと同
様のＲ1、Ｒ2及びＹであることが好ましい。Ｒ1及びＲ2
は更に置換基を有していてもよく、置換基の具体例とし
ては、上記一般式（１）で述べたと同様のものを挙げる
ことができる。
【００３０】好ましくは、ジアリールホスフィン、アリ
ールアルキルホスフィン、ジアルキルホスフィン、ジシ
クロアルキルホスフィン、アリールシクロアルキルホス
フィン、アルキルシクロアルキルホスフィン、ジアリー
ルホスフィンオキシド、アリールアルキルホスフィンオ
キシド、ジアルキルホスフィンオキシド、ジシクロアル
キルホスフィンオキシド、アリールシクロアルキルホス
フィンオキシド、アルキルシクロアルキルホスフィンオ
キシド、アリールホスフィン、アルキルホスフィン、シ
クロアルキルホスフィン、アリールホスフィンオキシ
ド、アルキルホスフィンオキシド、シクロアルキルホス
フィンオキシド、ジアリールホスファイト、ジアルキル
ホスファイト、およびジシクロアルキルホスファイト等
である。
ールアルキルホスフィン、ジアルキルホスフィン、ジシ
クロアルキルホスフィン、アリールシクロアルキルホス
フィン、アルキルシクロアルキルホスフィン、ジアリー
ルホスフィンオキシド、アリールアルキルホスフィンオ
キシド、ジアルキルホスフィンオキシド、ジシクロアル
キルホスフィンオキシド、アリールシクロアルキルホス
フィンオキシド、アルキルシクロアルキルホスフィンオ
キシド、アリールホスフィン、アルキルホスフィン、シ
クロアルキルホスフィン、アリールホスフィンオキシ
ド、アルキルホスフィンオキシド、シクロアルキルホス
フィンオキシド、ジアリールホスファイト、ジアルキル
ホスファイト、およびジシクロアルキルホスファイト等
である。
【００３１】具体的には、ジフェニルホスフィン、ジ
（３−メチルフェニル）ホスフィン、ジ（４−メチルフ
ェニル）ホスフィン、ビス（２，４−ジメチルフェニ
ル）ホスフィン、ビス（３，５−ジメチルフェニル）ホ
スフィン、ビス（２，６−ジメチルフェニル）ホスフィ
ン、ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）ホスフィ
ン、ビス（３，４，５−トリメチルフェニル）ホスフィ
ン、ジ（４−ｔ−ブチルフェニル）ホスフィン、ビス
（３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフィン、ジ
（３−メトキシフェニル）ホスフィン、ジ（４−メトキ
シフェニル）ホスフィン、ビス（２，４−ジメトキシフ
ェニル）ホスフィン、ビス（３，５−ジメトキシフェニ
ル）ホスフィン、ビス（２，６−ジメトキシフェニル）
ホスフィン、ビス（２，４，６−トリメトキシフェニ
ル）ホスフィン、ビス（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）ホスフィン、ビス（３，５−ジメチル−４−メト
キシフェニル）ホスフィン、
（３−メチルフェニル）ホスフィン、ジ（４−メチルフ
ェニル）ホスフィン、ビス（２，４−ジメチルフェニ
ル）ホスフィン、ビス（３，５−ジメチルフェニル）ホ
スフィン、ビス（２，６−ジメチルフェニル）ホスフィ
ン、ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）ホスフィ
ン、ビス（３，４，５−トリメチルフェニル）ホスフィ
ン、ジ（４−ｔ−ブチルフェニル）ホスフィン、ビス
（３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフィン、ジ
（３−メトキシフェニル）ホスフィン、ジ（４−メトキ
シフェニル）ホスフィン、ビス（２，４−ジメトキシフ
ェニル）ホスフィン、ビス（３，５−ジメトキシフェニ
ル）ホスフィン、ビス（２，６−ジメトキシフェニル）
ホスフィン、ビス（２，４，６−トリメトキシフェニ
ル）ホスフィン、ビス（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）ホスフィン、ビス（３，５−ジメチル−４−メト
キシフェニル）ホスフィン、
【００３２】ジ（３−クロロフェニル）ホスフィン、ジ
（４−クロロフェニル）ホスフィン、ビス（２，４−ジ
クロロフェニル）ホスフィン、ビス（３，５−ジクロロ
フェニル）ホスフィン、ビス（２，６−ジクロロフェニ
ル）ホスフィン、ビス（２，４，６−トリクロロフェニ
ル）ホスフィン、ビス（３，４，５−トリクロロフェニ
ル）ホスフィン、ジ（３−フルオロフェニル）ホスフィ
ン、ジ（４−フルオロフェニル）ホスフィン、ビス
（２，４−ジフルオロフェニル）ホスフィン、ビス
（３，５−ジフルオロフェニル）ホスフィン、ビス
（２，６−ジフルオロフェニル）ホスフィン、ビス
（２，４，６−トリフルオロフェニル）ホスフィン、ビ
ス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ホスフィン、
ジ（３−トリフルオロメチルフェニル）ホスフィン、ジ
（４−トリフルオロメチルフェニル）ホスフィン、ビス
（２，４−ビストリフルオロメチルフェニル）ホスフィ
ン、ビス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）
ホスフィン、ビス（２，６−ビストリフルオロメチルフ
ェニル）ホスフィン、ビス（２，４，６−トリストリフ
ルオロメチルフェニル）ホスフィン、ビス（３，４，５
−トリストリフルオロメチルフェニル）ホスフィン、
（４−クロロフェニル）ホスフィン、ビス（２，４−ジ
クロロフェニル）ホスフィン、ビス（３，５−ジクロロ
フェニル）ホスフィン、ビス（２，６−ジクロロフェニ
ル）ホスフィン、ビス（２，４，６−トリクロロフェニ
ル）ホスフィン、ビス（３，４，５−トリクロロフェニ
ル）ホスフィン、ジ（３−フルオロフェニル）ホスフィ
ン、ジ（４−フルオロフェニル）ホスフィン、ビス
（２，４−ジフルオロフェニル）ホスフィン、ビス
（３，５−ジフルオロフェニル）ホスフィン、ビス
（２，６−ジフルオロフェニル）ホスフィン、ビス
（２，４，６−トリフルオロフェニル）ホスフィン、ビ
ス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ホスフィン、
ジ（３−トリフルオロメチルフェニル）ホスフィン、ジ
（４−トリフルオロメチルフェニル）ホスフィン、ビス
（２，４−ビストリフルオロメチルフェニル）ホスフィ
ン、ビス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）
ホスフィン、ビス（２，６−ビストリフルオロメチルフ
ェニル）ホスフィン、ビス（２，４，６−トリストリフ
ルオロメチルフェニル）ホスフィン、ビス（３，４，５
−トリストリフルオロメチルフェニル）ホスフィン、
【００３３】ジ（３−ジメチルアミノフェニル）ホスフ
ィン、ジ（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン、
ビス（２，４−ビスジメチルアミノフェニル）ホスフィ
ン、ビス（３，５−ビスジメチルアミノフェニル）ホス
フィン、ビス（２，６−ビスジメチルアミノフェニル）
ホスフィン、ビス（２，４，６−トリスジメチルアミノ
フェニル）ホスフィン、ビス（３，４，５−トリスジメ
チルアミノフェニル）ホスフィン、ジ（３−ビフェニ
ル）ホスフィン、ジ（４−ビフェニル）ホスフィン、ビ
ス（２，４−ジフェニルフェニル）ホスフィン、ビス
（３，５−ジフェニルフェニル）ホスフィン、ビス
（２，６−ジフェニルフェニル）ホスフィン、ビス
（２，４，６−トリフェニルフェニル）ホスフィン、ビ
ス（３，４，５−トリフェニルフェニル）ホスフィン、
ジ（α−ナフチル）ホスフィン、ジ（β−ナフチル）ホ
スフィン、ジ（６−メトキシ−α−ナフチル）ホスフィ
ン、ジ（６−メトキシ−β−ナフチル）ホスフィン、ジ
（３，４−メチレンジオキシフェニル）ホスフィン、ジ
メチルホスフィン、ジエチルホスフィン、ジシクロプロ
ピルホスフィン、ジシクロペンチルホスフィン、ジシク
ロヘキシルホスフィン、ジシクロオクチルホスフィン、
ジシクロデシルホスフィン、ジシクロドデシルホスフィ
ン、シクロヘキシルフェニルホスフィン、ホスホニック
ジアニリド、フェニルホスフィン、フェニルホスフィン
オキシド、ジエチルホスファイト、ジフェニルホスファ
イト、ホスフィン等が挙げられる。
ィン、ジ（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン、
ビス（２，４−ビスジメチルアミノフェニル）ホスフィ
ン、ビス（３，５−ビスジメチルアミノフェニル）ホス
フィン、ビス（２，６−ビスジメチルアミノフェニル）
ホスフィン、ビス（２，４，６−トリスジメチルアミノ
フェニル）ホスフィン、ビス（３，４，５−トリスジメ
チルアミノフェニル）ホスフィン、ジ（３−ビフェニ
ル）ホスフィン、ジ（４−ビフェニル）ホスフィン、ビ
ス（２，４−ジフェニルフェニル）ホスフィン、ビス
（３，５−ジフェニルフェニル）ホスフィン、ビス
（２，６−ジフェニルフェニル）ホスフィン、ビス
（２，４，６−トリフェニルフェニル）ホスフィン、ビ
ス（３，４，５−トリフェニルフェニル）ホスフィン、
ジ（α−ナフチル）ホスフィン、ジ（β−ナフチル）ホ
スフィン、ジ（６−メトキシ−α−ナフチル）ホスフィ
ン、ジ（６−メトキシ−β−ナフチル）ホスフィン、ジ
（３，４−メチレンジオキシフェニル）ホスフィン、ジ
メチルホスフィン、ジエチルホスフィン、ジシクロプロ
ピルホスフィン、ジシクロペンチルホスフィン、ジシク
ロヘキシルホスフィン、ジシクロオクチルホスフィン、
ジシクロデシルホスフィン、ジシクロドデシルホスフィ
ン、シクロヘキシルフェニルホスフィン、ホスホニック
ジアニリド、フェニルホスフィン、フェニルホスフィン
オキシド、ジエチルホスファイト、ジフェニルホスファ
イト、ホスフィン等が挙げられる。
【００３４】水素の圧力は特に限定されないが、好まし
くは１００ｋＰａないし１０ＭＰａである。水素の導入
方法は限定されず、反応容器内を、水素で置換してもよ
く、反応系内に、連続的に導入してもよい。また窒素等
の不活性ガスとともに導入してもよい。更に、ラネーニ
ッケルなどのように水素化触媒に吸着されている水素も
用いられる。ぎ酸、ぎ酸アンモニウム、亜リン酸ナトリ
ウム、ヒドラジン等のを水素源として使用することも可
能である。
くは１００ｋＰａないし１０ＭＰａである。水素の導入
方法は限定されず、反応容器内を、水素で置換してもよ
く、反応系内に、連続的に導入してもよい。また窒素等
の不活性ガスとともに導入してもよい。更に、ラネーニ
ッケルなどのように水素化触媒に吸着されている水素も
用いられる。ぎ酸、ぎ酸アンモニウム、亜リン酸ナトリ
ウム、ヒドラジン等のを水素源として使用することも可
能である。
【００３５】本発明の反応温度は、好ましくは０℃ない
し１５０℃であり、更に好ましくは２０℃ないし１００
℃である。反応時間は、ハロゲン化ホスフィン類、アミ
ンおよび水素化触媒の種類、量、水素の圧力、反応温
度、および攪拌速度によるが、３０分ないし２４時間で
ある。
し１５０℃であり、更に好ましくは２０℃ないし１００
℃である。反応時間は、ハロゲン化ホスフィン類、アミ
ンおよび水素化触媒の種類、量、水素の圧力、反応温
度、および攪拌速度によるが、３０分ないし２４時間で
ある。
【００３６】本発明における反応操作手順は任意であ
り、溶媒、水素、アミン、水素化触媒およびハロゲン化
ホスフィン類をいかなる順序で添加してもよい。また必
要に応じて、水素化触媒を追加してもよい。
り、溶媒、水素、アミン、水素化触媒およびハロゲン化
ホスフィン類をいかなる順序で添加してもよい。また必
要に応じて、水素化触媒を追加してもよい。
【００３７】本発明の方法を更に具体的に説明すると、
適当な溶媒に、アミン、水素化触媒、およびハロゲン化
ホスフィン類を加え、反応系内を水素置換後、水素が吸
収されなくなるまで攪拌する。水素化触媒が影響を及ぼ
さない反応であれば、生成したホスフィン類を含む反応
混合物をそのまま他の反応に使用することも可能であ
り、必要に応じて反応混合物をろ過し、ホスフィン類を
溶解したろ液を得、この溶液を他の反応に使用すること
も可能であり、またろ液を減圧濃縮し、ホスフィン類を
得、あるいはこれを蒸留精製することもできる。
適当な溶媒に、アミン、水素化触媒、およびハロゲン化
ホスフィン類を加え、反応系内を水素置換後、水素が吸
収されなくなるまで攪拌する。水素化触媒が影響を及ぼ
さない反応であれば、生成したホスフィン類を含む反応
混合物をそのまま他の反応に使用することも可能であ
り、必要に応じて反応混合物をろ過し、ホスフィン類を
溶解したろ液を得、この溶液を他の反応に使用すること
も可能であり、またろ液を減圧濃縮し、ホスフィン類を
得、あるいはこれを蒸留精製することもできる。
【００３８】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説
明するが、本発明はこれにより限定されるものではな
い。
明するが、本発明はこれにより限定されるものではな
い。
【００３９】実施例１ Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ、５％パラジウ
ム／活性炭２００ｍｇ、トリエチルアミン４５８ｍｇ
（４．５３ｍｍｏｌ）に、クロロジフェニルホスフィン
１．００ｇ（４．５３ｍｍｏｌ）を加え、反応容器を減
圧後、水素ガスに置換し、２０℃で１２時間攪拌した。
反応混合物をろ過し、ろ液を減圧濃縮し、ジフェニルホ
スフィン８４０ｍｇ（４．５１ｍｍｏｌ）を得た。
ム／活性炭２００ｍｇ、トリエチルアミン４５８ｍｇ
（４．５３ｍｍｏｌ）に、クロロジフェニルホスフィン
１．００ｇ（４．５３ｍｍｏｌ）を加え、反応容器を減
圧後、水素ガスに置換し、２０℃で１２時間攪拌した。
反応混合物をろ過し、ろ液を減圧濃縮し、ジフェニルホ
スフィン８４０ｍｇ（４．５１ｍｍｏｌ）を得た。
【００４０】実施例２ Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ、５％パラジウ
ム／活性炭２００ｍｇ、１，４−ジアザビシクロ［２．
２．２］オクタン５０８ｍｇ（４．５３ｍｍｏｌ）に、
クロロジフェニルホスフィン１．００ｇ（４．５３ｍｍ
ｏｌ）を加え、反応容器を減圧後、水素ガスに置換し、
１００℃で１時間攪拌した。反応混合物をろ過し、ろ液
を減圧濃縮し、ジフェニルホスフィン８３８ｍｇ（４．
５０ｍｍｏｌ）を得た。
ム／活性炭２００ｍｇ、１，４−ジアザビシクロ［２．
２．２］オクタン５０８ｍｇ（４．５３ｍｍｏｌ）に、
クロロジフェニルホスフィン１．００ｇ（４．５３ｍｍ
ｏｌ）を加え、反応容器を減圧後、水素ガスに置換し、
１００℃で１時間攪拌した。反応混合物をろ過し、ろ液
を減圧濃縮し、ジフェニルホスフィン８３８ｍｇ（４．
５０ｍｍｏｌ）を得た。
【００４１】実施例３ Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ、１０％パラジ
ウム／活性炭２００ｍｇ、１，４−ジアザビシクロ
［２．２．２］オクタン５０８ｍｇ（４．５３ｍｍｏ
ｌ）に、クロロジフェニルホスフィン１．００ｇ（４．
５３ｍｍｏｌ）を加え、反応容器を減圧後、水素ガスに
置換し、２０℃で６時間攪拌した。反応混合物をろ過
し、ろ液を減圧濃縮し、ジフェニルホスフィン８２６ｍ
ｇ（４．４４ｍｍｏｌ）を得た。
ウム／活性炭２００ｍｇ、１，４−ジアザビシクロ
［２．２．２］オクタン５０８ｍｇ（４．５３ｍｍｏ
ｌ）に、クロロジフェニルホスフィン１．００ｇ（４．
５３ｍｍｏｌ）を加え、反応容器を減圧後、水素ガスに
置換し、２０℃で６時間攪拌した。反応混合物をろ過
し、ろ液を減圧濃縮し、ジフェニルホスフィン８２６ｍ
ｇ（４．４４ｍｍｏｌ）を得た。
【００４２】実施例４ Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１０ｍｌ、パラジウム黒
２００ｍｇ、Ｎ−メチルピペリジン４４９ｍｇ（４．５
３ｍｍｏｌ）に、クロロジフェニルホスフィン１．００
ｇ（４．５３ｍｍｏｌ）を加え、反応容器を減圧後、水
素ガスに置換し、１００℃で２時間攪拌した。反応混合
物をろ過し、ろ液を減圧濃縮し、ジフェニルホスフィン
８３３ｍｇ（４．４７ｍｍｏｌ）を得た。
２００ｍｇ、Ｎ−メチルピペリジン４４９ｍｇ（４．５
３ｍｍｏｌ）に、クロロジフェニルホスフィン１．００
ｇ（４．５３ｍｍｏｌ）を加え、反応容器を減圧後、水
素ガスに置換し、１００℃で２時間攪拌した。反応混合
物をろ過し、ろ液を減圧濃縮し、ジフェニルホスフィン
８３３ｍｇ（４．４７ｍｍｏｌ）を得た。
【００４３】実施例５ Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１０ｍｌ、１０％パラジ
ウム／活性炭１ｇ、ｔ−ブチルアミン３３１ｍｇ（４．
５３ｍｍｏｌ）に、クロロジフェニルホスフィン１．０
０ｇ（４．５３ｍｍｏｌ）を加え、反応容器を減圧後、
水素ガスに置換し、２０℃で１２時間攪拌した。反応混
合物をろ過し、ろ液を減圧濃縮し、ジフェニルホスフィ
ン８３６ｍｇ（４．４９ｍｍｏｌ）を得た。
ウム／活性炭１ｇ、ｔ−ブチルアミン３３１ｍｇ（４．
５３ｍｍｏｌ）に、クロロジフェニルホスフィン１．０
０ｇ（４．５３ｍｍｏｌ）を加え、反応容器を減圧後、
水素ガスに置換し、２０℃で１２時間攪拌した。反応混
合物をろ過し、ろ液を減圧濃縮し、ジフェニルホスフィ
ン８３６ｍｇ（４．４９ｍｍｏｌ）を得た。
【００４４】実施例６ Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１０ｍｌ、１０％パラジ
ウム／活性炭１ｇ、ピペリジン３８７ｍｇ（４．５４ｍ
ｍｏｌ）に、クロロジフェニルホスフィン１．００ｇ
（４．５３ｍｍｏｌ）を加え、反応容器を減圧後、水素
ガスに置換し、２０℃で１２時間攪拌した。反応混合物
をろ過し、ろ液を減圧濃縮し、ジフェニルホスフィン８
３１ｍｇ（４．４６ｍｍｏｌ）を得た。
ウム／活性炭１ｇ、ピペリジン３８７ｍｇ（４．５４ｍ
ｍｏｌ）に、クロロジフェニルホスフィン１．００ｇ
（４．５３ｍｍｏｌ）を加え、反応容器を減圧後、水素
ガスに置換し、２０℃で１２時間攪拌した。反応混合物
をろ過し、ろ液を減圧濃縮し、ジフェニルホスフィン８
３１ｍｇ（４．４６ｍｍｏｌ）を得た。
【００４５】
【発明の効果】本発明においては、アミンおよび水素化
触媒の存在下、ハロゲン化ホスフィン類に水素を作用さ
せることにより、ホスフィン類を高収率で簡便に製造す
ることができる。
触媒の存在下、ハロゲン化ホスフィン類に水素を作用さ
せることにより、ホスフィン類を高収率で簡便に製造す
ることができる。
Claims (5)
- 【請求項１】 アミンおよび水素化触媒の存在下、下記
一般式（１） 【化１】 〔式（１）中、Ｒ1およびＲ2は同じでも異なってもよ
く、それぞれアリール基、アルキル基、シクロアルキル
基、アリールオキシ基、アルコキシ基、シクロアルキル
オキシ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ア
ルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、シクロアルキル
アミノ基又はジシクロアルキルアミノ基を表し、Ｘはハ
ロゲン原子を表し、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を表し、
ｋ、ｍおよびｎはそれぞれ０又は１を表す。〕で示され
るハロゲン化ホスフィン類に、水素を作用させることを
特徴とする下記一般式（２） 【化２】 〔式（２）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｙ、ｋ、ｍおよびｎは上記と
同義である。〕で示されるホスフィン類の製造法。 - 【請求項２】 水素化触媒が、パラジウム触媒であるこ
とを特徴とする請求項１に記載のホスフィン類の製造法 - 【請求項３】 パラジウム触媒が、パラジウム／活性
炭、パラジウム黒、パラジウム／硫酸バリウム、パラジ
ウム／炭酸ストロンチウム、パラジウム／炭酸カルシウ
ム、パラジウム／炭酸カルシウム−二酢酸鉛、パラジウ
ム／硫酸バリウム−キノリン、パラジウム／アルミナ、
およびパラジウムスポンジからなる群から選ばれた少な
くとも１種であることを特徴とする請求項２に記載のホ
スフィン類の製造法 - 【請求項４】 一般式（１）において、Ｒ1およびＲ2は
同じでも異なってもよく、それぞれアリール基、アルキ
ル基又はシクロアルキル基を表し、Ｘが塩素原子を表
し、Ｙが酸素原子を表し、ｋが０を表し、ｍおよびｎが
それぞれ１を表すことを特徴とする請求項１〜３のいず
れか１項に記載のホスフィン類の製造法。 - 【請求項５】 一般式（１）において、Ｒ1およびＲ2は
同じでも異なってもよく、それぞれアリール基、アルキ
ル基又はシクロアルキル基を表し、Ｘが塩素原子を表
し、Ｙが酸素原子を表し、ｋ、ｍ及びｎがそれぞれ１を
表すことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記
載のホスフィン類の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17170498A JP3975307B2 (ja) | 1998-06-18 | 1998-06-18 | ホスフィン類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17170498A JP3975307B2 (ja) | 1998-06-18 | 1998-06-18 | ホスフィン類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000007689A true JP2000007689A (ja) | 2000-01-11 |
| JP3975307B2 JP3975307B2 (ja) | 2007-09-12 |
Family
ID=15928140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17170498A Expired - Fee Related JP3975307B2 (ja) | 1998-06-18 | 1998-06-18 | ホスフィン類の製造法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3975307B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003037844A1 (de) * | 2001-10-30 | 2003-05-08 | Covion Organic Semiconductors Gmbh | Verfahren zur herstellung von arylaminen |
| WO2006074983A1 (en) * | 2005-01-17 | 2006-07-20 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Process for preparing acylphosphanes and their oxides and sulphides |
-
1998
- 1998-06-18 JP JP17170498A patent/JP3975307B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003037844A1 (de) * | 2001-10-30 | 2003-05-08 | Covion Organic Semiconductors Gmbh | Verfahren zur herstellung von arylaminen |
| US7250519B2 (en) | 2001-10-30 | 2007-07-31 | Merck Patent Gmbh | Method for the production of arylamines |
| WO2006074983A1 (en) * | 2005-01-17 | 2006-07-20 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Process for preparing acylphosphanes and their oxides and sulphides |
| JP2008526918A (ja) * | 2005-01-17 | 2008-07-24 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | アシルホスファン、並びにこれらの酸化物及び硫化物の製造方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3975307B2 (ja) | 2007-09-12 |
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