JP2000004578A - Gtoサイリスタのゲートドライブ装置 - Google Patents
Gtoサイリスタのゲートドライブ装置Info
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- H03K17/04—Modifications for accelerating switching
- H03K17/0403—Modifications for accelerating switching in thyristor switches
Landscapes
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- Electronic Switches (AREA)
Abstract
ド間の低インダクタンス化を図ると共に、ゲートドライ
ブ回路を小型化し、信頼性を向上すること。 【解決手段】この発明では、GTO(GCT)サイリス
タ1へのカソード導体2、ゲート導体3、並びに、ター
ンオン及びオフ用の主コンデンサとMOSFETスイッ
チング素子Q11〜Q1i,Q21〜Q2jとの間の正及び負導
体8,9が、広い板状を呈している。導体3と導体8,
9との間には薄い絶縁層が介挿され、導体2と導体8,
9との空間には、主コンデンサとして用いられる多数の
チップ型セラミックコンデンサC11〜C1m,C21〜C2n
が整列配置される。スイッチング素子Q11〜Q1iのゲー
ト電圧は、時定数回路TCにより指数関数的に減少さ
れ、充電電流の平滑には、トランスThfの漏洩インダク
タンスを利用する。
Description
及びゲートを有し、自己消弧可能なラッチングタイプの
パワー半導体、即ち、GTOサイリスタ(Gate Turn-Of
f Thyristor )のゲートドライブ装置に関する。この発
明は、より詳しくいうと、「GCTサイリスタ」(Gate
Commutated Turn-off Thyristor:ゲート転流形ターン
オフサイリスタ)と呼ばれる転流機能が改良されたGT
Oサイリスタのゲートドライブ装置に関する。
に、大容量インバータに使用されるGCTサイリスタを
制御するのに特に好適であるが、このようなインバータ
の外に、パルス制御形電源装置、電力系統関係における
SVC(Static Var Compensator:静止形無効電力補償
装置) やVSC(Voltage Source Converter:電圧源コ
ンバータ) 等の種々の電力変換装置において、高圧乃至
大電流並列接続の形式で使用されるGCTサイリスタを
制御するのに適している。
ブにおいては、一般に、GTOサイリスタをターンオフ
する際に、アノード主電流IA とターンオフゲート電流
IGQの比IA /IGQで表わされるターンオフゲインGo
が“3”〜“5”の間で遮断していた。この場合、従来
のGTOサイリスタは、ターンオフ時の蓄積時間tsが
長いために、素子のばらつきによりターンオフピーク電
圧のばらつき発生が顕著になり、多数のサイリスタを直
/並列接続して動作させることが困難であり、従って、
このようなばらつきのない素子を厳選する必要があっ
た。また、従来のGTOサイリスタは、ターンオフ時の
dv/dtを抑制してターンオフ動作を確実にするため
に、スナバコンデンサCを備えたスナバ回路(通常、抵
抗R、コンデンサC及びダイオードDから成る)が必要
であり、このスナバコンデンサ放電時のスナバ損失が無
視し得ないほど大きいものであった。
題に対して、サイリスタのターンオフ時に、非常に大き
なゲート電流上昇率dig/dt(ig:ゲート電流の瞬時
値)とし、主電流IA をすべてゲート回路に転流させ
て、ターンオフゲインGo(=I A /IGQ)=1でサイ
リスタパワー半導体素子のターンオフを行う方法が考え
出された。このような方法は、例えば、米国特許第5,
237,225号、第5,345,096号及び第5,
493,247号明細書に示されている。そして、この
ようなゲインGo=1でのターンオフを実現するため
に、例えば、「トランジスタ技術」1997年5月号第
372〜373頁に示されるように、従来のGTOサイ
リスタとはゲート電極周りの構造を若干異ならせて素子
ゲートの低インダクタンス化を図る等、種々の改良を施
した大容量のパワー半導体素子が、所謂「GCTサイリ
スタ」として登場した。
サイリスタのゲートドライブの回路及び構造が示されて
おり、図1(a)は、従来型GTOサイリスタTHにつ
いて、回路各部のインダクタンス成分を等価的に表わし
た従来のターンオフ・ゲート回路を示し、図1(b)
は、上述の改良型GTOサイリスタつまりGCTサイリ
スタGTについて、回路各部のインダクタンス成分を等
価的に表わした従来のターンオフ・回路を示し、図1
(c)は、GCTサイリスタGTの従来のゲートドライ
ブ回路(ドライバ)GDを簡略化して示している。ま
た、図2は、GCTサイリスタGTの従来のゲートドラ
イブ装置を上面及び側面から見た実装構造を示し、図
中、G及びKはサイリスタGTのゲート及びカソード電
極を、SPはゲートドライバ支持プレート(カソード電
極Kと同電位)を、LSは、上面にゲート電極Gに接続
される導体が設けられ下面にカソード電極Kに接続され
る導体が設けられた多層基板を、MS及びFSはネジ及
びネジ取付リングを、IBは絶縁ブッシュを、WSはワ
ッシャを、そして、SRは金属製スペースリングをそれ
ぞれ表わす。
GTは、ターンオフゲインGo=1での転流を実現する
ために、サイリスタパッケージGTの外周部にリング状
のゲート電極Gを設ける等、ゲート取出し構造を改良し
たものであり、“Coaxial GTO”(同軸GT
O)とも呼ばれる。そして、このようなゲート電極Gの
採用によって、パワー素子内部のインダクタンスを、例
えば、従来型GTOサイリスタTH〔図1(a)“30n
H(ナノヘンリ)”〕の約10分の1に低減することが
できる〔図1(b)“2nH”〕。また、この外に、ゲ
ートドライバGDとパワー素子GTとを積層プリント基
板LSで接続する等、ゲートリードの改良によって、ゲ
ート回路のトータルインダクタンスを大幅に、例えば、
同軸ケーブルを使用する従来型GTOサイリスタTH
〔図1(a)〕に比べて約100分の1に低減すること
ができ、ゲート電流上昇率dig/dtを非常に大きなも
のにしている〔図1(b)参照〕。
積時間tsは、大幅な低減が達成され、例えば、従来の
GTOサイリスタに比べて約10分の1という値が得ら
れている。従って、GCTサイリスタを用いると、多数
のサイリスタの直/並列接続が非常に容易になる。ま
た、GCTサイリスタでは、従来のGTOサイリスタで
必要とされていたdv/dt抑制用スナバ回路を用いる
ことなく(スナバレス)ターンオフすることもできるの
で、大容量IGBT(Integrated Gate Bipolar Transi
stor)と同様にクランプ回路のみで遮断可能になり、ス
ナバ損失をなくして装置のトータル損失を大幅に低減す
ることができる。さらに、GCTサイリスタは、ゲート
蓄積電荷量が従来のGTOサイリスタの約半分に低減可
能となり、これにより、ゲートドライバの消費電力をも
低減することができる。
造については、図2に示されるように、GTO或いはG
CTパワー半導体素子GTのゲート及びカソード電極
G,Kに接続される積層プリント基板LS上に、ターン
オン電流及びターンオフ電流のゲートへの供給をオン/
オフするためのスイッチング素子Qon,Qoff や、ター
ンオン電流及びターンオフ電流を供給するための電荷を
蓄積するためのコンデンサCon,Coff などの回路要素
が搭載され、例えば、スイッチング素子Qon,Qoff に
は多数のMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Fi
eld Effect Trsnsistor )を使用し、コンデンサCon,
Coff にはアルミニウム電解コンデンサのようなケミカ
ルコンデンサを多数使用している。この場合、これらの
多数の要素を並列に並べるなどの方法で、ゲート回路の
低インダクタンス化を図り、大きなゲート電流上昇率d
ig/dtを得るようにしている。
流の供給に使用されるケミカルコンデンサCon,Coff
は、インダクタンスが大きく、また、低温時には等価直
流抵抗(ESR)も大きいという問題を抱えているの
で、コンデンサ容量を必要以上に増やさねばならない。
つまり、所望のターンオン/オフ機能を達成するには、
容量の大きいコンデンサを、所要の等価直列抵抗値やイ
ンダクタンスが得られるまで、複数個並列に並べる必要
があるが、等価直列抵抗やインダクタンスが大きいケミ
カルコンデンサを使用した場合には、ターンオン/オフ
に必要な電荷量を超えるコンデンサ容量になってしま
う。従って、ゲートドライバGDの実装が大きくなる
上、配線インダクタンスが大きくなり、ゲート回路のイ
ンダクタンスをあまり低下させることができないという
問題点がある。
層の厚みに比例してインダクタンスが増大するが、従来
は、GTOサイリスタ、GCTサイリスタなどのパワー
素子GTとゲート回路とを接続したり、MOSFETや
ケミカルコンデンサ等の回路要素を搭載するのに、図2
のように厚手の積層プリント基板LSを利用していたの
で、インダクタンスを小さくするという面で非常に不利
である。また、これらのGTO、GCTパワー半導体素
子の遮断能力については、スナバレスの場合、ゲート電
流上昇率dig/dtは、「ゲート電圧Vg/ゲート回路
の合計インダクタンスLg」に比例するので、低インダ
クタンス化は所望の性能を確保する上での必要条件であ
るが、このように低インダクタンス化を図れないという
事情によって、ゲート電流上昇率dig/dtをあまり大
きくすることができず、スナバレス時には遮断電流を大
きくすることができないという欠点を呈する。
Oサイリスタをターンオンする際に、ゲート電流上昇率
dig/dtを大きくすることは、ターンオン時のスイッ
チング損失を減らす効果をもたらすと共に、パルス電源
装置などのように急激な立上り電流を得るのに必要とさ
れる技術である。この観点からいうと、従来のターンオ
ン・ゲート回路は、パワー半導体素子のゲート及びカソ
ードに直列に繋がるスイッチング素子とコンデンサの間
に、電流制限及び共振防止用の抵抗が直列に挿入されて
いたので、大きいゲート電流上昇率dig/dtを見込む
ことができず、従って、ハードオンができない或いはタ
ーンオン損失が大きいなどの問題がある。
導体素子の従来のターンオン回路では、図1(c)のタ
ーンオン回路GDonに示されるように、パワー半導体素
子GTをターンオンさせる瞬間に大きな電流をゲート電
極Gに流し込むために、トランスTrの出力をダイオー
ドDa,Dbで整流した後、平滑用インダクタンスLf
や電流制限用の直列抵抗Rsを介して適当な容量の主コ
ンデンサConにターンオン電荷を予め充電させておく。
そして、ターンオン信号ONを入力することによって、
スイッチング用パワーMOSFET素子Qonを適当な時
間だけオンさせ、主コンデンサCに充電された電荷を直
列抵抗Rsを介してパワー素子GTのゲート電極Gに流
し込むのである。
sの大きさがゲートドライブ装置内に実装する上で大き
な制約になるだけではなく、それと同時に、抵抗Rsに
実際上存在する直列インダクタンス成分によってターン
オンゲート電流の立上りを早くすることや、パワー半導
体素子GTのターンオン時のスイッチングロスを減らす
ことができない上、抵抗Rs自体の損失が生じるなどの
欠点を露呈することになる。
fが存在することによって、Lf−Rs−Conの直列回
路が構成されるので、Rs<2(Lf/Con)1/2 の場
合には、インダクタンスLfとゲート電流供給用コンデ
ンサConで共振現象が生じ、素子Qonがオフした後にコ
ンデンサConの端子電圧がトランスTrの出力電圧以上
にオーバシュートしてコンデンサConが過電圧に充電さ
れたり、コンデンサConの充電時間が延びてしまいスイ
ッチング周波数を上げることができない等の欠点があ
る。
な問題点を考慮してなされたもので、GCTサイリスタ
を含むGTOサイリスタ(以下、単に「GTOサイリス
タ」という。)のゲート・カソード間の低インダクタン
ス化を図ると共に、ゲートドライブ回路を小型化し、し
かもその信頼性を向上することができるGTOサイリス
タ用ゲートドライブ装置を提供することを目的とする。
回路のスイッチング素子のゲート制御を改良することに
より、スイッチング素子・コンデンサ間にあった抵抗を
不要にして一層小型化を図ることができ、しかも、ター
ンオン時のゲート電流上昇率dig/dtを大きく増大さ
せることができるGTOサイリスタ用ゲートドライブ装
置を提供することにある。
ン/オフ電流供給用の充電コンデンサをオーバシュート
や電力損失なく高速充電することができ、しかも、充電
のための回路構成を簡単化し、さらに動作の高速化及び
装備の小型化を図ったGTOサイリスタ用ゲートドライ
ブ装置を提供することにある。
と、コンデンサに蓄積した電荷を用いてGTOサイリス
タのターンオン及びターンオフを行うGTOサイリスタ
用ゲートドライブ装置において、GTOサイリスタのカ
ソード及びゲートにそれぞれ接続される第1及び第2の
板状導体、第1の板状導体に一方の電極が接続される複
数個のチップ型コンデンサ、これらのチップ型コンデン
サの他方の電極に接続される第3の板状導体、及び、第
2及び第3の導体間に第1及び第2の主電極が接続され
る複数個のスイッチング素子を具備し、第2及び第3の
板状導体を薄い絶縁層を介して対向させ、第1及び第3
の板状導体が対向する空間内に、一方及び他方の電極が
対向する複数個のチップ型コンデンサを設けることによ
って、課題が解決される。なお、これらのチップ型コン
デンサは、セラミックコンデンサであり、チップの厚さ
方向の非電極面が互いに隣接し合うように整列配置さ
れ、両電極面を第1及び第3の板状導体の表面にそれぞ
れ接続される。
ノード主電流IA とターンオフゲート電流IGQの比であ
るターンオフゲインGo=IA /IGQ=1としてスナバ
レスにした場合、主電流の遮断能力はゲート電流上昇率
dig/dtの大きさで決定され、また、ターンオンの場
合も、ターンオン損失はゲート電流上昇率dig/dtの
大きさで決定される。一方、GTOサイリスタのゲート
・カソード間自体に存在するGTOサイリスタパッケー
ジの内部インダクタンス、ゲートとゲートドライブ回路
との間のインダクタンス及びゲートドライブ回路のイン
ダクタンスを合計したものを合計インダクタンスLgkと
すると、ゲート電流上昇率dig/dtは、GTOサイリ
スタのゲート・カソード間に接続される回路とGTOサ
イリスタ自体のゲート−カソード回路に存在する合計イ
ンダクタンスLgkとの比Vgk/Lgkで決定される。
大きくするには、ゲート電圧Vgkを大きくするか、或い
は、合計インダクタンスLgkを小さくする必要がある。
しかしながら、ゲート電圧Vgkを大きくすると、ゲート
ドライブ回路の構成を複雑化させたり消費電力を増大さ
せることになる。そこで、この発明では、GTOサイリ
スタのゲート・カソード間にスイッチング素子に直列接
続されるコンデンサとして、従来使用されてきたアルミ
ニウム電解コンデンサに代えて、チップ型セラミックコ
ンデンサのような、両電極をチップの両端部に備えるチ
ップ型コンデンサを多数用い、さらに、フレキシブルで
幅広の板状の2枚の導体(第2及び第3の導体)を薄い
絶縁層を介して設け、これらのチップ型コンデンサを、
チップの厚さ方向の非電極面が互いに隣接するように並
置され両導体間にサンドウィッチ状に挟まれた状態で、
両導体に取り付けるようにしている。
コンデンサ等のチップ型コンデンサは等価直流抵抗値及
びインダクタンスが小さく、また、コンデンサの両端子
面に接続される2枚の導体も薄い絶縁層を介して極く狭
い間隔で対向しているためインダクタンスが非常に小さ
いので、GTOサイリスタのゲート・カソード間の回路
インダクタンスは大幅に低下される。従って、合計イン
ダクタンスLgkを大幅に低下させ、非常に大きいゲート
電流上昇率dig/dtを得ることができる。
体板が使用されるが、このような導体板に連接されるセ
ラミックコンデンサ等のチップ型コンデンサは、このよ
うな金属導体に比べると膨張係数が相当小さくしかも脆
いため、ゲートドライブ装置の駆動時には、大きなター
ンオン/オフ電流がこれらの導体に通流して温度上昇が
生じ、壊われ易くなるという事態が憂慮される。しかし
ながら、この発明のコンデンサ及び導体の配置構造によ
ると、導体の熱膨張はコンデンサの隣接する非電極面間
で吸収されるので、導体との熱膨張差によるコンデンサ
の破損を防止することができる。
デンサに蓄積した電荷を用いてGTOサイリスタのター
ンオン及びターンオフを行うGTOサイリスタのゲート
ドライブ装置において、GTOサイリスタのカソードに
接続される第1の導体に一方の電極が接続されたターン
オン用コンデンサ、GTOサイリスタのゲートに接続さ
れる第2の導体とターンオン用コンデンサの他方の電極
に接続される第3の導体との間に、両主電極が接続され
るゲート電極付きのスイッチング素子、GTOサイリス
タのオン期間中に第2の導体を介してGTOサイリスタ
のゲートに一定のゲート保持電流を流す保持電流供給手
段、及び、時定数要素を備えるスイッチング素子用ゲー
ト信号制御回路を具備し、このスイッチング素子用ゲー
ト信号制御回路は、GTOサイリスタのゲート電流がゲ
ート保持電流に達するまで指数関数的に減少するゲート
電圧をスイッチング素子のゲート電極に供給することに
よって、課題が解決される。
ば、ターンオン回路のスイッチング用パワーMOSFE
Tのゲート信号電圧を指数関数的に減少するように制御
することによって、ターンオン回路に抵抗を挿入するこ
となく、ターンオン当初に高いピーク値を有し所望の時
間的変化で減少するターンオン電流をGTOサイリスタ
のゲートに供給し、ターンオン時のゲート電流上昇率d
ig/dtを大きく増大させることができる。
デンサに蓄積した電荷を用いてGTOサイリスタのター
ンオン及びターンオフを行うGTOサイリスタ用ゲート
ドライブ装置において、GTOサイリスタのカソードに
接続される第1の導体に一方の電極が接続されたターン
オン用コンデンサ、GTOサイリスタのゲートに接続さ
れる第2の導体とターンオン用コンデンサの他方の電極
に接続される第3の導体との間に、両主電極が接続され
るゲート電極付きのスイッチング素子、及び、電源絶縁
用のスイッチングトランスを備える絶縁電源のコンデン
サ充電用整流回路を具備し、このスイッチングトランス
を高周波矩形波電圧で駆動し、その整流出力を第1及び
第3の導体を介して直接ターンオン用コンデンサに供給
することによって、課題が解決される。
ては、コンデンサ充電用整流回路のスイッチングトラン
スのリーケージインダクタンス及び高速スイッチング動
作を利用してトランス出力を整流した後、インダクタン
スや抵抗を挿入することなく、直接ターンオン用コンデ
ンサに与えることによって、オーバシュートや電力損失
がなく高速充電することができ、しかも、ターンオン用
ゲート回路の構成を非常に簡略化することができる。
明の好適な実施例を詳述する。先ず、この発明の一実施
例によるGTOサイリスタのゲートドライブ装置の回路
構成を図3に示す。GTOサイリスタ1は、アノード電
極1a、カソード電極1k及びゲート電極1gを備え、
アノード電極1a及びカソード電極1kが電力主回路に
直列に介挿接続され、カソード電極1k及びゲート電極
1gはカソード及びゲート導体2,3を介してゲートド
ライブ回路4に接続される。このゲートドライブ回路4
は、主として、ターンオン回路5、ターンオフ回路6及
び電源回路7で構成され、電源回路7は、導体2の接地
電位0V〔ボルト〕を基準電位として、正及び負の出力
電圧を正及び負導体8,9上にそれぞれ印加する。
して並列接続された複数個(i個;図示の例ではi=
2)のパワーMOSFET素子Q11〜Q1iを備えてお
り、これらのソース電極S11〜S1iはゲート導体3に接
続され、ドレイン電極D11〜D1iは正導体8に接続され
る。カソード導体2と正導体8との間には、ターンオン
電荷を蓄積するためのターンオン用コンデンサとして機
能する複数個(m個)のセラミックコンデンサC11〜C
1mが並列接続されている。また、ゲート導体3には図示
しない保持電流供給回路が接続され、サイリスタ1のオ
ン期間には、この保持電流供給回路から保持電流Ihが
サイリスタゲート電極1gに供給される。
極は、RC時定数回路TCからゲート抵抗R11〜R1iを
介してゲート制御信号を受ける。この時定数回路TC
は、バイアス抵抗Rbを有しターンオン指令信号Sonを
受けるMOSFETスイッチ素子Qt、並びに、この素
子Qtに直列接続される抵抗Rt1〜Rt3及びコンデンサ
Ctを備える抵抗−コンデンサ回路で構成され、正導体
8からダイオードDfとを介して充電される平滑コンデ
ンサCfにより付勢される。
同様に、スイッチング素子として並列接続された複数個
(j個;図示の例ではj=11)のパワーMOSFET
素子Q21〜Q2jを備えており、これらのソース電極S21
〜S2jは負導体9に接続され、ドレインD21〜D2jは導
体3に接続される。また、同じく、カソード導体2と負
導体9との間には、ターンオフ電荷を蓄積するためのタ
ーンオフ用コンデンサとして機能する複数個(n個)の
セラミックコンデンサC21〜C2nが並列接続されてい
る。素子Q11〜Q1iのゲート電極は、ゲート抵抗R21〜
R2j及びバイアス抵抗R5を介してターンオフ指令信号
Soff を受ける。
線に受ける電源絶縁用のスイッチングトランスThf、及
び、この高周波用スイッチングトランスThfの二次巻線
の両端に入力端子が接続されるダイオードD1〜D4か
らなる中間端子付き全波整流回路を備え、この全波整流
回路の正及び負の出力端子はそれぞれ正及び負導体8,
9に接続され、スイッチングトランスThfの二次巻線の
中間端子は、基準電位0Vのカソード導体2に接続され
る。また、スイッチングトランスThfのリーケージ(漏
洩)インダクタンスを高周波矩形波電圧の周波数とマッ
チングさせており、このリーケージインダクタンス及び
高速スイッチング動作を利用することによって、トラン
スThfの出力にインダクタンスや抵抗などの電流制限回
路要素を何ら付加することなく、正及び負導体8,9並
びにカソード導体2を介して適当なピーク電流値の整流
出力をコンデンサC11〜C1m,C21〜C2nに直接供給す
ることができる。
るGTOサイリスタのゲートドライブ装置の実装構造の
上面図が示され、図5(a)には、この実装構造を図4
の下側から見た概略的な側面図が示されている。ゲート
ドライブ回路4を実装するゲートドライブ装置を支持す
るための金属製の支持プレート10は、一方側(図示左
側)にGTOサイリスタ1が載置され、サイリスタ1の
カソード電極1kに接続されこれと同電位にされる。G
TOサイリスタ1は、ゲート電極1gの外周リング部に
設けられた複数個(図示の例では16個)の穴を挿通す
るネジ11及びネジ取付けリング12によりねじ留めさ
れる。このねじ留め部分は、図5(a)の下部左側に拡
大断面図が示されるように、ネジ11・リング12間
に、スプリングワッシャ13、平ワッシャ14、絶縁ブ
ッシュ15、ゲート電極1g、ラミネート板16、金属
製(導電性)スペースリング(カラー)17及び支持プ
レート10を順次挟持して構成される。
極く薄い厚さと所定の幅(図4で上下方向の長さ)と所
定の長さ(図4で左右方向の長さ)とを有する絶縁層1
6iの両面に、第1〜第4導体16a〜16dを接着し
たフレキシブルな板状体であり、これらの導体16a〜
16dは、例えば、数十〜百数十μm程度の厚さをもつ
銅等の金属製薄板で形成され、ラミネート板16上面に
ほぼ全板幅にわたって設けられた第1導体16aは、ゲ
ート導体3を構成する。
ード導体2の一部を構成する第2導体16b、正導体8
を構成し所定の幅を有する第3導体16c、及び、負導
体9を構成し所定の幅を有する第4導体16dが互いに
離隔されて設けられ、第2導体16bは、ラミネート板
16下面左側のサイリスタ(ねじ留め部分)近傍の第1
領域に全板幅にわたって形成される。従って、第1導体
16a(ゲート導体3)は、絶縁ブッシュ14を介して
GTOサイリスタ1のゲート電極1gにネジ11で締め
付けられてゲート電極1gに接続され、第2導体16b
(カソード導体2)は、カラー16を介して支持プレー
ト10にGTOサイリスタ1のカソード電極1kに接続
される。
は、カソード導体2の他部を構成する第5導体18に接
続される。第5導体18は、例えば、数十〜百数十μm
程度の厚さをもつ銅等のフレキシブルな金属製薄板であ
り、支持プレート10上に絶縁層19を介して配設され
る。ラミネート板16下面中央部の第2領域及び第3領
域には、第3及び第4導体16b,16cが他の導体と
互いに離隔して形成され、これらの導体16b,16c
と第5導体18との間には、それぞれ、ターンオン用及
びターンオフ用のチップ型セラミックコンデンサC11〜
C1m,C21〜C2nの両電極が接続される。
置接続状態を説明するための例として、ラミネート板1
6を除いて見た場合のターンオン用コンデンサの一部の
取付状態が斜視図で示されており、図6(a)及び図6
(b)には、それぞれ、図4の切断面A−A’,B−
B’の下方からみたゲートドライブ装置のターンオン及
びターンオフ部の要部縦断面図が拡大されて示されてい
る。
9を介して設けられた第5導体18上には、それぞれ複
数のチップ型セラミックコンデンサC11〜C1m又はC21
〜C2nから成るターンオン/オフ用のコンデンサセット
(図では夫々2列)が、図示のように、チップの厚さ方
向の非電極面が互いに隣接し合うように配列され、対向
する両電極面を上下にして載置される。ターンオン用の
コンデンサセットC11〜C1mは、第3導体16cと第5
導体18とによりサンドウィッチ状に挟まれ、上下の電
極面は、導電性接着剤(半田)を介して夫々対応する導
体16c,18に接続される。また、ターンオフ用のコ
ンデンサセットC21〜C2nは、第4導体16dと第5導
体18とによりサンドウィッチ状に挟まれ、同様に、両
電極面が導体16d,18に接続される。なお、各セラ
ミックコンデンサは、内部に、両電極から非電極面に平
行に交互に対向するように突設された複数の荷電用極板
を備える。
は絶縁層19を介してプリント基板20が設けられ、こ
のプリント基板20上には、MOSFET素子Q11〜Q
1i,Q21〜Q2j、並びに、電源回路7、ターンオン/オ
フ制御用の回路、論理回路等の種々の制御回路(何れも
図示せず;図の更に右側)が搭載されている。このプリ
ント基板20のサイリスタ側端部の上面にラミネート板
16を連設し下面には第5導体18が延在させて、第1
乃至第5導体16a〜16dを、プリント基板20に形
成された導体路を介してこれらの制御回路に接続してい
る。
については、ターンオン用素子Q11〜Q1iのソース電極
S11〜S1i及びターンオフ用素子Q21〜Q2jのドレイン
電極D11〜D1jは、何れも、ゲート導体3を構成する第
1導体16aに接続される。一方、ターンオン用素子Q
11〜Q1iのドレイン電極D11〜D1iは、正導体8を構成
する第3導体16cに接続され、ターンオフ用素子Q21
〜Q2jのソース電極S11〜S1jは、負導体9を構成する
第4導体16dに接続される。
ンダクタンス(ストレイインダクタンス)Lsは、次式
(1)で表わすことができる: Ls〔μH〕 = 1.26×d×l/w ……(1) ここで、d:中間絶縁層の厚さ〔m〕、 l:導体の長さ〔m〕、 w:導体の幅〔m〕。
施例のように、ラミネート板16の中間絶縁層16iの
厚さを、例えば、50μmと極く薄く形成し、導体の幅
についても、ターンオン側で20mm以上、ターンオフ
側で110mm以上とし、また、実効的な長さもほぼ数
十mmとすることができるので、GTOサイリスタ1の
ゲート1g・カソード1k間に直列接続されるコンデン
サ・MOSFET間の配線インダクタンスを、例えばn
H以下というような通常の計測手段では測定不能な低い
値にまで、大幅に低減することが可能になり、ターンオ
ン時やターンオフ時に大きなゲート電流上昇率を得るこ
とができる。
第4及び第5導体16d,18間に例えば3000A
(アンペア)以上という大きなターンオフ電流が流れ温
度が上昇することによって、これらの導体とセラミック
コンデンサとの間に熱膨張差が起っても、セラミックコ
ンデンサの隣接する非電極面間で熱膨張差を吸収するの
で、セラミックコンデンサの破損を未然に防止し、信頼
性を向上することができる。しかも、これらのセラミッ
クコンデンサは、第3及び第4導体16c,16dと第
5導体18との間に整列配置されコンパクトに収容され
るので、ゲートドライブ装置全体の小型化にも大きく寄
与する。
ク電流を流す際、ターンオン回路5内には抵抗がないの
で、大きなゲート電流上昇率とピーク電流が得られる
が、電源回路7の漂遊インダクタンスとターンオン用コ
ンデンサC11〜C1mの容量との間で発振回路が形成さ
れ、動作が不安定になるおそれがある。そこで、この発
明では、図3に示されるように、抵抗Rt1〜Rt3及びコ
ンデンサCtからなるRC時定数回路TCを採用し、M
OSFET素子Q11〜Q1iのゲート・ソース間電圧Vgs
を指数関数的に減少させて、MOSFET素子Q11〜Q
1iのドレイン電流Idを時間的に変化する制御を行って
いる。
Q1iのドレイン電流Id対ゲート・ソース間電圧Vgs特
性の一例(ドレイン・ソース間電圧Vds=5V)が示さ
れ、図7(b)には、時定数回路TCによるゲート・ソ
ース間電圧Vgsの時間的変化の設計例が示されている。
具体的には、図3の回路に対して、次のような設計式が
得られる: Vgs = Vgs1+(Vgs0−Vgs1)exp(−t/τ) ……(2) ここで、 Vgs0=(Vtc−Vgk0)×Rt3/(Rt1+Rt3) …(3) Vgs1=(Vtc−Vgk1)×Rt3/(Rt1+Rt2+Rt3) …(4) τ =CtRt2×(Rt1+Rt3)/(Rt1+Rt2+Rt3) …(5) Vgk0:ターンオン直後のGTOサイリスタ1のゲート
・カソード間電圧 Vgk1:GTOサイリスタ1のゲート電流Igが保持電
流Ihまで低下した時のゲート・カソード間電圧 Vtc :時定数回路TCへの印加電圧。
0.8V、Ct= 0.2μF、Rt1=27Ω、Rt2= 220Ω、
Rt3=51Ωとすると、Vgs0=10V、Vgs1= 3V、τ
=11.5μsとなり、図7(b)に示されるようなMOS
FET素子Q11〜Q1iのゲート電圧変化が得られ、図7
(a)のId対Vgs特性を用いてドレイン電流Idの時
間的変化を求めることができる。
以前に、MOSFETスイッチ素子Qtのゲートに与え
られているターンオン信号Sonをオフにすると、ドレイ
ン電流Idが急減し、回路の漂遊インダクタンスのため
にスパイク電圧が発生するおそれがあるので、ドレイン
電流Idがゼロになってからターンオン信号Sonをオフ
にする必要がある。
に、高周波用スイッチングトランスThfの出力を整流ダ
イオードD1,D2で整流した後、直接、ターンオン用
コンデンサC11〜C1mに供給している。つまり、トラン
スThfのリーケージインダクタンスと高周波矩形波によ
る高速スイッチング作用を利用することによって、従来
これらのコンデンサとの間に介挿していた平滑用インダ
クタンスや電流制限用抵抗を廃止して、コンデンサC11
〜C1mの高速充電を図っている。図8には、その原理が
示されている。
オン回路5間の等価回路を示し、例えば、トランスThf
のリーケージインダクタンスl1=l2= 1.4μH、内
部抵抗r1=r2=0.06Ωであり、コンデンサC11〜C
1mの総合容量は 200μFである。図8(b)は、トラン
スThfの二次側内部起電力Vt1,Vt2の波形を示し、例
えば、この起電力の繰返し周波数frは80kHz、ピー
ク値は±20Vである。また、図8(c)は、例示された
これらの数値条件の下で、コンデンサC11〜C1mを0V
から充電する場合の各ダイオードD1,D2の整流出力
電流i1,i2を示している。
2は、図8(c)に示されるように、ピークが指数関数
的に減少する三角波形となり(立下りはダイオードD
1,D2の逆回復電流による)、トランスThfの外部に
インダクタンスや抵抗素子を挿入しなくても、トランス
Thfの内部起電力Vt1,Vt2、リーケージインダクタン
スl1,l2及びチョッピング周波数frによって、一
定値以下に抑えられる。従って、コンデンサC11〜C1m
は、オーバシュートすることなく、なだらかに指数関数
的に充電される。
FのコンデンサC11〜C1mを使用した場合、GTOサイ
リスタ1のオン動作開始から34μsが経過するまでの回
路各部の実測波形例が示されている。即ち、図9(a)
はMOSFET素子Q11〜Q1iのゲート・ソース間電圧
Vgs及びGTOサイリスタ1のゲート・カソード間電圧
(ゲート電圧)Vgkを、図9(b)はMOSFET素子
Q11〜Q1iのドレイン電流Idを、そして、図9(c)
はターンオン回路5への入力電圧Viを、それぞれ示
す。なお、図9(a)において、波形“Vgs+Vgk”の
電圧値から波形“Vgk”の電圧値を差し引いた値で表わ
される電圧Vgsのピーク値が 8.5V程度になっているの
は、GTOサイリスタ1のオフ状態でのゲート電圧Vgk
=−20Vから立ち上がっているためであり、また、漂遊
インダクタンスによるヒゲがゲート電圧Vgkのピーク点
に発生している。
サイリスタ1を 200μs幅でオン動作させ1300μs幅で
オフ動作させた場合のオン開始から2msが経過するま
での回路各部の実測波形例が示されている。即ち、図1
0(a)は電圧Vgs,Vgkを、図10(b)はMOSF
ET素子Q11〜Q1iのドレイン電流Idを、GTOサイ
リスタ1のゲート電圧Vgkを、図10(c)はターンオ
ン回路入力電圧Viをターンオン回路5への入力電圧
を、そして、図10(d)はターンオン回路5への入力
電流Iiを、それぞれ表わし、所望の制御動作を実現し
ていることが確認された。
と、GCTサイリスタを含む改良型GTOサイリスタの
ターンオン/オフ時にさらに大きいゲート電流上昇率が
得られ、これによって、スナバレスにした場合にもGT
Oサイリスタのターンオフ時の遮断能力を増大し、ター
ンオン時の電力損失を減少し、また、di/dt耐量を
向上し、さらに、高速の制御動作を可能にして多数のG
TOサイリスタを容易に直列並列使用に供することがで
きる。また、ターンオン/オフ用のコンデンサとしてチ
ップ型のセラミックコンデンサを使用し、ターンオン回
路のコンデンサに直列に挿入されていた平滑用インダク
タンスや電流制限用抵抗などの回路素子を用いないよう
にしたこと等によって、ゲートドライブ装置の小型化及
び信頼性向上を図り、消費電力を低減し、スイッチング
周波数を高める等の優れた効果を奏することができる。
型GTOサイリスタTH及び改良型GTOサイリスタ
(GCTサイリスタ)GTについて、回路各部のインダ
クタンス成分を等価的に表わした従来のターンオフ・ゲ
ート回路を示し、図1(c)は、GCTサイリスタGT
の従来のゲートドライブ回路を簡略化して示す。
実装構造を示す。
イブ装置の回路構成を示す。
イブ装置の実装構造の上面図である。
図5(b)は、上記実装構造におけるコンデンサの配置
接続状態を示す斜視図である。
拡大した側断面図であり、図6(b)は、同じく、ター
ンオフ部を拡大した側断面図である。
のドレイン電流対ゲート・ソース間電圧特性の一例を示
し、図7(b)は、時定数回路によるゲート・ソース間
電圧の時間的変化の設計例を示す。
ンオン回路の等価回路を示し、図8(b)は、スイッチ
ングトランスの二次側内部起電力波形を示し、図8
(c)は、各ダイオードの整流出力電流を示す。
ゲート・ソース間電圧及びGTOサイリスタのゲート・
カソード間電圧を例示し、図9(b)はターンオン用ス
イッチング素子のドレイン電流を例示し、図9(c)は
ターンオン回路入力電圧Viを例示するものである。
素子のゲート・ソース間電圧及びGTOサイリスタのゲ
ート・カソード間電圧の実測波形例を示し、図10
(b)はターンオン用スイッチング素子のドレイン電流
Idの実測波形例を示し、図10(c)は、ターンオン
回路入力電圧Viの実測波形例を示し、図10(d)は
ターンオン回路入力電流Iiの実測波形例を示す。
ード導体(零電位)、 3 サイリスタ1のリング状ゲート電極1gに接続され
るゲート導体、 4 ターンオン回路5、ターンオフ回路6及び電源回路
7を備えるゲートドライブ回路、 8,9 正導体及び負導体、 Q11〜Q1i ターンオン・スイッチング用パワーMOS
FET素子、 C11〜C1m ターンオン用チップ型セラミックコンデン
サ、 TC 抵抗Rt1,Rt2,Rt3及びコンデンサCtから成
る時定数回路、 Qt ターンオン信号Sonを受けるMOSFETスイッ
チ、 Q21〜Q2j ターンオフ信号Soff を受けるターンオフ
・スイッチング用パワーMOSFET素子、 C21〜C2n ターンオフ用チップ型セラミックコンデン
サ、 Thf 高周波矩形波電圧を受ける電源絶縁用スイッチン
グトランス、 10 ゲートドライブ装置支持用の金属製支持プレート
(零電位)、 11,12 スプリングワッシャ13、平ワッシャ14
及び絶縁ブッシュ15と共にネジ留め部材となるネジ及
び取付けリング、 16 絶縁層16iの上面に第1導体16aを備え、下
面に第2〜第4導体16b〜16dを備えるフレキシブ
ルなラミネート板、 16a ゲート導体3を構成する第1導体、 16b カソード導体2の一部を構成する第2導体、 16c 正導体8を構成する第3導体、 16d 負導体9を構成する第4導体、 17 金属製(導電性)スペースリング(カラー)、 18 カソード導体2の他部を構成する第5導体、 19 シート状絶縁層、 20 プリント基板20。
Claims (4)
- 【請求項1】コンデンサに蓄積した電荷を用いてGTO
サイリスタのターンオン及びターンオフを行うGTOサ
イリスタのゲートドライブ装置において、GTOサイリ
スタのカソード及びゲートにそれぞれ接続される第1及
び第2の板状導体、第1の板状導体に一方の電極が接続
される複数個のチップ型コンデンサ、これらのチップ型
コンデンサの他方の電極に接続される第3の板状導体、
及び、第2及び第3の導体間に第1及び第2の主電極が
接続される複数個のスイッチング素子を具備し、第2及
び第3の板状導体は薄い絶縁層を介して対向しており、
複数個のチップ型コンデンサは、一方及び他方の電極が
チップの両端部に対向して設けられ、第1及び第3の板
状導体が対向する空間内に設けられることを特徴とする
GTOサイリスタのゲートドライブ装置。 - 【請求項2】複数個のチップ型コンデンサは、セラミッ
クコンデンサであり、チップの厚さ方向の非電極面が互
いに隣接し合うように整列配置され、両電極面が第1及
び第3の板状導体の表面にそれぞれ接続されることを特
徴とする請求項1に記載のGTOサイリスタのゲートド
ライブ装置。 - 【請求項3】コンデンサに蓄積した電荷を用いてGTO
サイリスタのターンオン及びターンオフを行うGTOサ
イリスタのゲートドライブ装置において、GTOサイリ
スタのカソードに接続される第1の導体に一方の電極が
接続されたターンオン用コンデンサ、GTOサイリスタ
のゲートに接続される第2の導体とターンオン用コンデ
ンサの他方の電極に接続される第3の導体との間に、両
主電極が接続されるゲート電極付きのスイッチング素
子、GTOサイリスタのオン期間中に第2の導体を介し
てGTOサイリスタのゲートに一定のゲート保持電流を
流す保持電流供給手段、及び、時定数要素を備えるスイ
ッチング素子用ゲート信号制御回路を具備し、このスイ
ッチング素子用ゲート信号制御回路は、GTOサイリス
タのゲート電流がゲート保持電流に達するまで指数関数
的に減少するゲート電圧をスイッチング素子のゲート電
極に供給することを特徴とするGTOサイリスタのゲー
トドライブ装置。 - 【請求項4】コンデンサに蓄積した電荷を用いてGTO
サイリスタのターンオン及びターンオフを行うGTOサ
イリスタ用ゲートドライブ装置において、GTOサイリ
スタのカソードに接続される第1の導体に一方の電極が
接続されたターンオン用コンデンサ、GTOサイリスタ
のゲートに接続される第2の導体とターンオン用コンデ
ンサの他方の電極に接続される第3の導体との間に、両
主電極が接続されるゲート電極付きのスイッチング素
子、及び、電源絶縁用のスイッチングトランスを備える
絶縁電源のコンデンサ充電用整流回路を具備し、このス
イッチングトランスを高周波矩形波電圧で駆動し、その
整流出力を第1及び第3の導体を介して直接ターンオン
用コンデンサに供給することを特徴とするGTOサイリ
スタのゲートドライブ装置。
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