JP2000002853A - 偏向走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 大きく構成を変更せずに感光体表面に結像す
るレーザ光の光量を容易に変更可能とし、異なる画像形
成装置に有利に実施することができる偏向走査装置を提
供する。 【解決手段】 主方向に複数の反射面５ａ〜５ｆが等角
度間隔をあけて形成される回転多面鏡５に、光源１から
発せられる光を照射して、回転多面鏡５の回転によって
各反射面５ａ〜５ｆの反射光を偏向して走査し、感光体
ドラム１１の表面上に結像する偏向走査装置において、
回転多面鏡５の各反射面５ａ〜５ｆを、少なくとも２種
類以上の反射率を有する反射面の組合せによって構成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザビームプリ
ンタおよびレーザファクシミリなどの画像形成装置に好
適に実施することができる偏向走査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のレーザビームプリンタおよびレー
ザファクシミリなどの画像形成装置に用いられる偏向走
査装置は、半導体レーザなどの光源から発せられたレー
ザ光を、コリメータレンズ、スリットおよびシリンドリ
カルレンズを経て複数の反射面を有する回転多面鏡に照
射し、この回転多面鏡の回転によって偏向走査されたレ
ーザ光を、球面レンズおよびトーリックレンズを含む結
像レンズ系を経て、予め帯電した感光体ドラムの表面上
に結像させるように構成されている。感光体ドラムの表
面上に結像したレーザ光は、回転多面鏡の回転による主
走査および回転体ドラムの回転による副走査によって、
感光体ドラムの表面上に静電潜像を形成する。

【０００３】一方、このような偏向走査装置を搭載する
レーザビームプリンタおよびレーザファクシミリなどの
画像形成装置は、そのプロセススピード、書込み解像度
および感光体の感度などの仕様によって、感光体の表面
におけるレーザ光の必要光量が異なるため、搭載する画
像形成装置毎に偏向走査装置の光源である半導体レーザ
のレーザ発振素子のチップ面の光量を変えることによっ
て、その出力レベルを変更したり、あるいは出力の異な
る半導体レーザに交換したり、さらには開口数の異なる
コリメータレンズに交換し、これによってレーザ光のカ
ップリング効率を変化させて、感光体に到達するレーザ
光の光量を調節している。

【０００４】また他の従来の技術では、たとえば特開平
６−５１２２３号公報に示されるように、結像レンズ系
と感光体ドラムとの間に設置される折返しミラーの反射
率を変えることによって、感光体に到達するレーザ光の
光量を調節している。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の技
術では、前述のように、出力の異なる半導体レーザに交
換すると、付随する駆動回路をも変更しなければなら
ず、また半導体レーザを交換せずにチップ面の光量を変
えると、出力が不安定となる上に半導体レーザの寿命も
短くなる。さらに開口数の異なるコリメータレンズを用
いると、感光体上の点像の直径、すなわちスポットサイ
ズが変化して、画質が変わるため、これを防ぐための対
策が必要となる。また上記の特開平６−５１２２３号公
報に示される従来の技術では、反射率の異なる折返しミ
ラーに交換するために、画像形成装置の製造工程上で前
記反射率の異なる折返しミラーを備えた各偏向走査装置
の部品管理が必要であり、生産性が低下してしまうとい
う問題がある。

【０００６】本発明の目的は、半導体レーザの出力およ
びコリメータレンズの開口数を変更することなく、また
折返しミラーなどの偏向走査装置を構成する部品を交換
せずに、感光体表面に結像するレーザ光の光量を容易に
変更可能とし、仕様の異なる画像形成装置を容易に製造
することができるようにした偏向走査装置を提供するこ
とである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の本発明
は、周方向に複数の反射面が等角度間隔をあけて形成さ
れる回転多面鏡に光源から発せられた光を照射し、回転
多面鏡の回転によって各反射面の反射光を偏向して走査
し、感光体の表面上に結像する偏向走査装置において、
回転多面鏡の各反射面は、２種類以上の反射率が異なる
複数の反射面の組合せから成ることを特徴とする偏向走
査装置である。

【０００８】本発明に従えば、光源から発せられた光
は、回転する回転多面鏡の各反射面によって反射されな
がら偏向走査し、感光体の表面上に結像する偏向走査装
置において、前記回転多面鏡は反射率が異なる複数の反
射面を有するので、光源からの光が、たとえばレーザビ
ームプリンタおよびレーザファクシミリなどの画像形成
装置の感光体の感度などの仕様に応じた反射率を有する
反射面に光源からの光が照射されるように回転多面鏡の
回転数および回転位置を制御することによって、感光体
の表面上に結像される静電潜像を得ることができる。こ
れによって上記の従来技術のように、半導体レーザの出
力およびコリメータレンズの開口数を変更することな
く、また折返しミラーなどの偏向走査装置を構成する部
品を変更せずに、感光体の表面上に結像する光の光量を
容易に変更して、種類の異なる画像形成装置の仕様に対
応されることが可能となる。

【０００９】請求項２記載の本発明は、回転多面鏡の回
転位置を検出して、回転位置検出信号を出力する回転位
置検出手段と、回転多面鏡の各反射面によって反射され
る感光体への走査開始位置の光を検出して、走査開始信
号を出力する走査開始時期検出手段と、回転位置検出手
段からの回転位置検出信号および走査開始時期検出手段
からの走査開始信号に基づいて、感光体の表面で必要と
される所定の光量に対応する反射率の反射面が選択され
るように、回転多面鏡の回転数および回転位置を制御す
る制御手段とを含むことを特徴とする。

【００１０】本発明に従えば、前記制御手段は回転位置
検出手段からの回転位置検出信号と走査開始位置検出手
段からの走査開始信号とに基づいて、回転多面鏡の回転
数および回転位置を制御するので、感光体の表面で必要
とされる所定の光量に対応する反射率の反射面が走査タ
イミングに同期して選択され、常に画像形成装置に要求
される仕様を満足し得る光量で感光体の表面上に結像す
ることができる。

【００１１】請求項３記載の本発明は、回転多面鏡の各
反射面は、交互に反射率が異なることを特徴とする。

【００１２】本発明に従えば、前記回転多面鏡の各反射
面は交互に反射率が異なるので、たとえば各反射面のう
ち奇数面と偶数面との反射率を相互に異ならせて前記交
互に反射率が異なる反射面を有する回転多面鏡を実現
し、上記のように画像形成装置の仕様に応じた光量で感
光体の表面上に結像することができる。

【００１３】請求項４記載の本発明は、回転多面鏡の各
反射面は、反射率が等しい全ての反射面のうち予め定め
る反射面に、反射率変更層を積重することによって、反
射率が異なる反射面が形成されることを特徴とする。

【００１４】本発明に従えば、全ての反射面の反射率が
等しい回転多面鏡を用いて、予め定める反射面に所望の
異なる反射率が達成されるように反射率変更層が積重し
て形成される。これによって複数の反射率を有する回転
多面鏡を、たとえば既存の回転多面鏡を用いて容易かつ
安価に実現することが可能となる。

【００１５】請求項５記載の本発明は、前記反射率変更
層は、反射率が異なる反射シートを貼付けることによっ
て形成されることを特徴とする。

【００１６】本発明に従えば、請求項４記載の構成にお
いて、前記反射率を変える反射率変更層は反射シールを
貼付けることによって形成されるので、全ての反射面が
１種類の反射率で構成される既存の回転多面鏡を複数の
反射率を有する回転多面鏡に変更することができ、本発
明の実施をより容易化することができる。

【００１７】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施の一形態の
偏向走査装置の基本的構成を示す斜視図である。本実施
形態の偏向走査装置は、レーザ光を発生する半導体レー
ザ光源１と、この半導体レーザ光源１から発せられた点
光源光を平行光に変換するコリメータレンズ２と、コリ
メータレンズ２によって平行光に変換されたレーザ光の
ビーム径を決定するスリット３と、スリット３を通過し
たレーザ光の散乱部分を除去して線状の円形ビームを形
成するシリンドリカルレンズ４と、線状のレーザ光を偏
向走査する回転多面鏡５と、回転多面鏡５をたとえば６
０００〜２００００ｒｐｍの回転数で高速回転するモー
タ６と、このモータ６によって高速回転する回転多面鏡
５によって等角速度で偏向走査されるレーザ光を等線速
度へ変換する球面レンズ７およびトーリックレンズ８
と、偏向走査の開始基準位置に配置され、回転多面鏡５
によって反射される走査開始位置のレーザ光を検出して
走査開始信号を出力する走査開始時期検出手段である走
査開始検出器９と、トーリックレンズ８から偏向走査の
開始基準位置に向けて出射されたレーザ光を前記走査開
始検出器９へ導くセンサミラー１０と、偏向走査される
レーザ光が軸線方向に等速直線運動して照射される直円
筒状の受光面を有する感光体ドラム１１と、前記偏向走
査されるレーザ光を感光体ドラム１１へ導く折返しミラ
ー１２とを有する。

【００１８】前記モータ６はブラシレスＤＣモータが用
いられ、好ましくはホール素子を用いたホールモータが
用いられ、より好ましくは３相バイポーラ式ホールモー
タが用いられる。また走査開始時期検出手段である前記
走査開始検出器９は、フォトダイオードによって実現さ
れる。さらに前記センサミラー１０は、高反射ミラーが
用いられ、走査方向Ａ上流側の予め定める偏向走査開始
基準位置に配置される。前記感光体ドラム１１は、レー
ザ光の波長に応じた感度を有するたとえばＣｄＳから成
る光導電層を感光層として有し、前記受光面を形成して
いる。この感光層の受光面にレーザ光が偏向走査によっ
て照射されることによって、静電潜像を形成し、図示し
ない現像装置によって静電潜像にトナーを電気的に付着
させ、顕像化することができる。このような感光体ドラ
ム１１の表面は、図示しないコロナ放電器によって実現
される帯電装置によって一様な蓄積電荷を有するように
帯電され、レーザ光が照射された部位だけが除電され、
上記の静電潜像が形成される。

【００１９】図２は、回転多面鏡５付近を拡大して示す
斜視図である。前述の回転多面鏡５は、少なくとも２種
類以上の異なる反射率を有する複数の鏡面５ａ〜５ｆを
有し、この回転多面鏡５の直上には回転多面鏡５の回転
位置を検出して回転位置検出信号を出力する回転位置検
出手段である回転位置検出器１３が設けられる。この回
転位置検出器１３は、たとえばフォトインタラプタによ
って実現される。

【００２０】半導体レーザ光源１から発せられたレーザ
光は、先ずコリメータレンズ２によって平行光に変換さ
れる。この平行光に変換されたレーザ光は、感光体ドラ
ム１１の受光面上で所定のビーム径となるようにスリッ
ト３を通過し、シリンドリカルレンズ４によって線状の
円形ビームに形状変換される。前記スリット３およびシ
リンドリカルレンズ４を通過したレーザ光は、その光路
上に存在する回転多面鏡５によって偏向走査される。回
転多面鏡５によって偏向走査されるレーザ光は、球面レ
ンズ７およびトーリックレンズ８を経て折返しミラー１
２によって反射され、感光体ドラム１１の表面に結像
し、この回転多面鏡５の矢符Ｂ方向への回転による主走
査および感光体ドラム１１の矢符Ｃ方向の回転による副
走査によって、感光体ドラム１１の表面上に静電潜像が
形成される。

【００２１】回転多面鏡５は、モータ６によって高速で
回転され、シリンドリカルレンズ４から回転多面鏡５に
向けて照射された線状のレーザ光を各反射面５ａ〜５ｆ
によって偏向走査する。前記球面レンズ７およびトーリ
ックレンズ８は結像レンズ系１４を構成し、この結像レ
ンズ系１４は回転多面鏡５によって等角速度で偏向走査
されたレーザ光を感光体ドラム１１の表面上において等
線速度運動で走査するレーザ光に変換する。

【００２２】図３は、モータ６の制御手段１５の構成を
示すブロック図である。制御手段１５は、駆動制御回路
１６とクロック発生器１７とを有し、クロック発生器１
７から出力されるクロック周波数を変化させることによ
って、モータの回転数を変化させることができる。回転
多面鏡５によって偏向走査され、かつ結像レンズ系１４
によって修正されたレーザ光の一部は、センサミラー１
０によって反射されて走査開始検出器９によって受光さ
れる。このレーザ光の一部を受光した走査開始検出器９
は、走査開始信号を出力する。また回転位置検出器１３
は、回転多面鏡５の上部の回転方向に交互に反射率が異
なる三角形の６つの反射面１８ａ〜１８ｆが形成され
る。回転位置検出器１３は、これらの反射面１８ａ〜１
８ｆの反射率の変化を検出することによって、回転多面
鏡５の回転位置を示す回転位置検出信号を出力する。

【００２３】図４は、走査開始検出器９の走査開始信号
と回転位置検出器１３の回転位置信号とを一例として示
すタイミングチャートである。回転位置検出器１３の回
転位置信号は、回転多面鏡５の回転位置によってそのレ
ベルが変化する。ここでは、回転多面鏡５の各反射面５
ａ〜５ｆのうち反射面５ａ，５ｃ，５ｅの回転位置検出
器１３の直下を通過して検知された場合にハイレベルと
なり、各反射面５ｂ，５ｄ，５ｆを検知した場合にロー
レベルの回転位置信号を出力するものとする。また走査
開始検出器９の走査開始信号は、レーザ光を入射したと
きにローレベルを出力し、レーザ光を受光しない状態で
はハイレベルの走査開始信号を出力するものとする。こ
の走査開始検出器９から出力される走査開始信号が有効
である時点での、回転位置検出器１３から出力される回
転位置信号の信号レベルを検知することによって、回転
多面鏡５の有効反射面を選択的に制御することができ
る。

【００２４】回転多面鏡５は、少なくとも２種類以上の
異なる反射率を有する複数の反射面５ａ〜５ｆから成
り、レーザ光を反射することによって、その強度を反射
率に応じて減衰させる。したがって、製造時の仕様に応
じて反射率の等しい反射面同士を有効反射面として用い
ることによって、感光体ドラム１１に照射されるレーザ
光の光量を変えることができる。すなわち、偏向走査装
置を搭載するレーザビームプリンタおよびレーザファク
シミリなどの画像形成装置のプロセススピード、書込み
解像度および感光体の感度などのプロセススペックとも
呼ばれる製造仕様に基づいて感光体ドラム１１の表面で
必要なレーザ光の光量を算出し、回転多面鏡５の各反射
面５ａ〜５ｆによって減衰することなく感光体ドラム１
１の表面に到達するレーザ光の光量との比から各反射面
５ａ〜５ｆの反射率を算出し、算出された少なくとも２
種類以上の反射率を有する各反射面５ａ〜５ｆで構成さ
れる回転多面鏡５を製造して偏向走査装置に組付けるこ
とによって、希望する仕様に応じた偏向走査装置を実現
することができる。

【００２５】さらに、この偏向走査装置を搭載する画像
形成装置の仕様に合わせて回転多面鏡５の有効反射面を
前記制御手段１５による制御によって、感光体ドラム１
１の表面に結像するレーザ光の光量を容易に変更するこ
とができる。

【００２６】このような回転多面鏡５を用いることによ
って、半導体レーザ光源１、折返しミラー１２および結
像レンズ系１４などの部品を交換することなしに仕様の
異なる画像形成装置を製造するにあたって、上記の各部
品の種類が異ならない単一種類の偏向走査装置によって
対処することができる。特に、レーザ光の光量を１．５
倍以上変化させる場合には、半導体レーザ光源の出力を
変更したり、異なる出力を有する半導体レーザ光源に交
換したり、さらに結像レンズ系の開口数を変化させる従
来の技術に比べて、格段に容易にかつ高精度でレーザ光
の光量を所定値に調整することが可能となる。また上記
回転多面鏡５の少なくとも２種類以上の反射率の異なる
反射面５ａ〜５ｆを同時に使用することによって、感光
体ドラム１１の表面上に少なくとも２種類以上の階調を
有する静電潜像を形成することも可能である。

【００２７】本実施形態では、より具体的な構成を説明
するために、プロセススピード、すなわち感光体ドラム
１１の回転スピードが同一で書込み解像度の異なる２つ
の画像形成装置であるレーザファクシミリとレーザビー
ムプリンタとに本発明に従う偏向走査装置を用いた場合
について説明する。

【００２８】レーザビームプリンタの書込み解像度を３
００ｄｐｉ（ドット／インチ）、レーザファクシミリの
書込み解像度を２００ｄｐｉとする。各画像形成装置
は、書込み解像度以外の仕様であるプロセススピード、
感光体ドラムの感度などが同一であるとすると、各画像
形成装置の書込み解像度が異なるために、感光体ドラム
１１の表面上におけるレーザ光の必要光量とモータ６の
回転数との比率は、それぞれ２：３と３：２となる。

【００２９】そこで、回転多面鏡５の各反射面５ａ〜５
ｆの反射率を一方の有効反射面を構成する各反射面５
ａ，５ｃ，５ｅは光学反射率９９％、また他方の有効反
射面を構成する各反射面５ｂ，５ｄ，５ｆは光学反射率
６６％として製造し、偏向走査装置に組付けておく。こ
の偏向走査装置をレーザビームプリンタに搭載するとき
には、回転多面鏡５の各反射面５ａ〜５ｆのうち各反射
面５ｂ，５ｄ，５ｆの３面を、またレーザファクシミリ
装置に搭載するときには各反射面５ａ，５ｃ，５ｅの３
面を有効反射面として用いることによって、感光体ドラ
ム１１の表面におけるレーザ光の光量の比を２：３とす
ることができる。またモータ６は、制御手段１５の駆動
制御回路１６に供給するクロック周波数を変更すること
によって、回転数の比率を３：２とすることができる。

【００３０】このようにして同一の偏向走査装置を解像
度の異なる２つの画像形成装置に搭載することが可能と
なる。

【００３１】次に、画像形成装置に搭載される回転多面
鏡５の全ての反射面５ａ〜５ｆを同時に使用して多階調
表現を行う場合について説明する。前述の２種類の異な
る反射率を有する回転の全ての反射面５ａ〜５ｆを同時
に用いることによって、感光体ドラム１１の表面上に異
なる強度の静電潜像を形成することが可能である。図５
は、その際に感光体ドラム１１の表面上に形成される静
電潜像の点像を模式的に表した図である。回転多面鏡５
の各反射面５ａ〜５ｆのうち反射面５ａ，５ｃ，５ｅで
反射されたレーザ光によって感光体ドラム１１の表面上
に結像された点像をＰ２とし、各鏡面５ｂ，５ｄ，５ｆ
によって反射されたレーザ光が感光体ドラム１１の表面
上に結像した点像をＰ１とし、レーザ光を照射しない状
態における感光体ドラム１１の表面上の点像をＰ０とす
る。反射率の大きい反射面で反射して結像された点像Ｐ
２の強度は、反射率の小さい反射面で反射して結像され
た点像Ｐ１の強度よりも大きく、また反射率の小さい反
射面によって反射して結像された点像Ｐ１の強度は、レ
ーザ光を照射しない状態における点像Ｐ０の強度よりも
大きい。この強度の大小関係を示すと、 Ｐ０ ＜ Ｐ１ ＜ Ｐ２ となる。これらの点像Ｐ０，Ｐ１，Ｐ２の全てを画像形
成に使用すると、多階調表現は、この実施の形態では３
階調の表現が可能となる。このようにして回転多面鏡５
の全ての反射面５ａ〜５ｆを同時に使用して多階調表示
を行うことができる。

【００３２】このように本実施の形態では、半導体レー
ザ光源１からのレーザ光が、たとえばレーザビームプリ
ンタおよびレーザファクシミリなどの画像形成装置の感
光体ドラム１１の感度などの仕様に応じた反射率を有す
る反射面５ａ〜５ｆに照射されるように、前記回転多面
鏡５の回転数および回転位置を制御することによって、
感光体ドラム１１の表面上に前記仕様に応じた静電潜像
を形成することができる。これによって上記の従来技術
のように半導体レーザの出力およびコリメータレンズの
開口数を変更することなく、また折返しミラーなどの偏
向走査装置を構成する部品を変更せずに、感光体ドラム
１１の表面上に結像するレーザ光の光量を容易に変更
し、種類の異なる仕様の画像形成装置を容易に実現し
て、前記仕様に応じた高品位画像を得ることができる。

【００３３】本発明の実施の他の形態として、前記回転
多面鏡５の反射率が等しい全ての反射面５ａ〜５ｆのう
ち予め定める反射面５ａ，５ｃ，５ｅにたとえばポリビ
フェニルアルコール（略称ＰＶＡ）またはポリ塩化ビニ
リデンなどの等方屈折しかつ透光性を有する物質から成
る高分子膜を溶媒に溶かして、たとえばスピンコート法
によって反射率変更層を積重して形成し、残余の反射面
５ｂ，５ｄ，５ｆとは反射率が異なる反射面を形成する
ようにしてもよい。

【００３４】このような構成によれば、すべての反射面
５ａ〜５ｆの反射率が等しい既存の回転多面鏡を用いて
容易かつ安価に複数の反射率を有する回転多面鏡を実現
することができる。このような反射率は、２種類だけで
なく、それ以上の異なる種類の反射率を有する反射面を
予め定める回転位置毎に組合せて形成するようにしても
よい。

【００３５】本発明の実施のさらに他の形態として、前
記反射率変更層を元の反射面５ｂ，５ｄ，５ｆの反射率
とは異なる反射率を有する反射シート、たとえば接着剤
によって貼付けることによって形成するようにしてもよ
い。

【００３６】このような構成によれば、全ての反射面が
１種類の反射率によって構成される既存の回転多面鏡を
用いて、複数の反射率を有する回転多面鏡に容易に変更
することができ、希望する反射率を有する回転多面鏡を
希望に応じて容易かつ迅速に製造することができ、本発
明を既存の回転多面鏡に対して広範囲に実施して、希望
する階調性を有する画像形成装置を容易に安価なコスト
で実現することが可能となる。

【００３７】

【発明の効果】請求項１記載の本発明によれば、光源か
ら発せられた光は、回転する回転多面鏡の各反射面によ
って反射されながら偏向走査し、感光体の表面上に結像
する偏向走査装置において、前記回転多面鏡は反射率が
異なる複数の反射面を有するので、光源からの光が、た
とえばレーザビームプリンタおよびレーザファクシミリ
などの画像形成装置の感光体の感度などの仕様に応じた
反射率を有する反射面に照射されるように、回転多面鏡
の回転数および回転位置を制御することによって、感光
体の表面上に結像される静電潜像を得ることができる。
これによって上記の従来技術のように、半導体レーザの
出力およびコリメータレンズの開口数を変更することな
く、また折返しミラーなどの偏向走査装置を構成する部
品を変更せずに、感光体の表面上に結像する光の光量を
容易に変更して、種類の異なる画像形成装置の仕様に対
応させることが可能となる。

【００３８】請求項２記載の本発明によれば、前記制御
手段は回転位置検出手段からの回転位置検出信号と走査
開始位置検出手段からの走査開始信号とに基づいて、回
転多面鏡の回転数および回転位置を制御するので、感光
体の表面で必要とされる所定の光量に対応する反射率の
反射面が走査タイミングに同期して選択され、常に画像
形成装置に要求される仕様を満足し得る光量で感光体の
表面上に結像することができる。

【００３９】請求項３記載の本発明によれば、前記回転
多面鏡の各反射面は交互に反射率が異なるので、たとえ
ば各反射面のうち奇数面と偶数面との反射率を相互に異
ならせて前記交互に反射率が異なる反射面を有する回転
多面鏡を実現し、上記のように画像形成装置の仕様に応
じた光量で感光体の表面上に結像することができる。

【００４０】請求項４記載の本発明によれば、全ての反
射面の反射率が等しい回転多面鏡を用いて、予め定める
反射面に所望の異なる反射率が達成されるように反射率
変更層が積重して形成される。これによって複数の反射
率を有する回転多面鏡を、たとえば既存の回転多面鏡を
用いて容易かつ安価に実現することが可能となる。

【００４１】請求項５記載の本発明によれば、請求項４
記載の構成において、前記反射率を変える反射率変更層
は反射シールを貼付けることによって形成されるので、
全ての反射面が１種類の反射率で構成される既存の回転
多面鏡を複数の反射率を有する回転多面鏡に変更するこ
とができ、本発明の実施をより容易化することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の一形態の偏向走査装置の基本的
構成を示す斜視図である。

【図２】回転多面鏡５付近を拡大して示す斜視図であ
る。

【図３】モータ６の制御手段１５の構成を示すブロック
図である。

【図４】走査開始検出器の走査開始信号と回転位置検出
器１３の回転位置信号とを１例として示すタイミングチ
ャートである。

【図５】感光体ドラム１１の表面上に結像された強度の
異なる複数の点像Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３を示す図である。

【符号の説明】

１ 半導体レーザ光源 ２ コリメータレンズ ３ スリット ４ シリンドリカルレンズ ５ 回転多面鏡 ５ａ〜５ｆ 反射面 ６ モータ ７ 球面レンズ ８ トーリックレンズ ９ 走査開始検出器 １０ センサミラー １１ 感光体ドラム １２ 折返しミラー １３ 回転位置検出器 １４ 結像レンズ系 １５ 制御手段 １６ 駆動制御回路 １７ クロック発生器

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小倉 淳二 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 Ｆターム(参考） 2H045 AA03 AA53 AA62 CB33 5C072 AA03 BA02 BA05 CA06 HA02 HA13 HB04 HB08 HB11 HB15 XA05

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 周方向に複数の反射面が等角度間隔をあ
   けて形成される回転多面鏡に光源から発せられた光を照
   射し、回転多面鏡の回転によって各反射面の反射光を偏
   向して走査し、感光体の表面上に結像する偏向走査装置
   において、 回転多面鏡の各反射面は、２種類以上の反射率が異なる
   複数の反射面の組合せから成ることを特徴とする偏向走
   査装置。
2. 【請求項２】 回転多面鏡の回転位置を検出して、回転
   位置検出信号を出力する回転位置検出手段と、 回転多面鏡の各反射面によって反射される感光体への走
   査開始位置の光を検出して、走査開始信号を出力する走
   査開始時期検出手段と、 回転位置検出手段からの回転位置検出信号および走査開
   始時期検出手段からの走査開始信号に基づいて、感光体
   の表面で必要とされる所定の光量に対応する反射率の反
   射面が選択されるように、回転多面鏡の回転数および回
   転位置を制御する制御手段とを含むことを特徴とする請
   求項１記載の偏向走査装置。
3. 【請求項３】 回転多面鏡の各反射面は、交互に反射率
   が異なることを特徴とする請求項１または２記載の偏向
   走査装置。
4. 【請求項４】 回転多面鏡の各反射面は、反射率が等し
   い全ての反射面のうち予め定める反射面に、反射率変更
   層を積重することによって、反射率が異なる反射面が形
   成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記
   載の偏向走査装置。
5. 【請求項５】 前記反射率変更層は、反射率が異なる反
   射シートを貼付けることによって形成されることを特徴
   とする請求項４記載の偏向走査装置。